JP3732626B2 - 半導体発光素子 - Google Patents
半導体発光素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3732626B2 JP3732626B2 JP22917197A JP22917197A JP3732626B2 JP 3732626 B2 JP3732626 B2 JP 3732626B2 JP 22917197 A JP22917197 A JP 22917197A JP 22917197 A JP22917197 A JP 22917197A JP 3732626 B2 JP3732626 B2 JP 3732626B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- light emitting
- active layer
- lngaalp
- zinc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Led Devices (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体発光素子に関する。より具体的には、本発明は、黄色から緑色の波長帯において高輝度、且つ低コストで製造することができる半導体発光素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体発光素子は、コンパクト且つ低消費電力であり、信頼性に優れるなどの多くの利点を有し、近年では、高い発光輝度が要求される室内外の表示板、鉄道/交通信号、車載用灯具などについても広く応用されつつある。特に、4元化合物半導体であるlnGaAlP系材料を発光層として用いたものは、その組成を調節することにより、赤色から緑色までの幅広い波長帯において発光させることができる。
【0003】
なお、本明細書において「lnGaAlP系化合物半導体」とは、組成式lnx Gay Al1-x-y Pにおける組成比xおよびyを、0≦x≦1、0≦y≦1、但し(x+y)≦1の範囲で変化させたあらゆる組成の半導体を含むものとする。
図7は、従来のlnGaAlP系半導体発光素子の概略構成を表す断面模式図である。すなわち、発光素子100は、n型GaAs基板101の上に、n型GaAsバッファ層102、n型lnAlPクラッド層103、InGaAlP活性層104、p型InAlPクラッド層105、p型GaAlAs電流拡散層106が順次積層され、さらに、p側電極108、およびn側電極109が形成されている。各半導体層101〜106は、例えば、有機金属化学気相成長法(MOCVD法)によりエピタキシャル成長して形成される。
【0004】
同図に示した構成は、いわゆる「ダブルヘテロ型」といわれる構造である。このような「ダブルヘテロ型」発光素子においては、一般にn型クラッド層103とp型クラッド層105との間に、不純物がドーピングされない活性層104が設けられていることが特徴とされている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、図7に示したような従来のlnGaAlP系発光素子においては、発光波長を短くするに従って発光輝度が大きく低下するという問題があった。以下、この問題について詳述する。
【0006】
図8は、従来のlnGaAlP系発光素子の発光波長と発光効率との関係を表すグラフ図である。すなわち、同図の横軸は活性層の発光波長を表し、それぞれの波長に対応する発光色も併せて示されている。同図から、lnGaAlP系発光素子においては、発光波長が短くなるにつれて発光効率が低下し、黄緑色から緑色の波長帯においては、発光効率は、黄色の1/10以下にまで低下することが分かる。
【0007】
このような発光効率の低下の原因は、活性層中に形成される非発光再結合中心である。活性層中にこのような非発光再結合中心が形成される原因は、不純物シリコン(Si)である。すなわち、MOCVD法によりlnGaAlP層を成長する場合に、原料として用いるトリメチル・ガリウム(TMG)、トリメチル・アルミニウム(TMA)、トリメチル・インジウム(TMI)などに含有される不純物シリコンが、lnGaAlP層に混入される。本発明者は、lnGaAlP活性層中に混入される不純物シリコンの量と、発光素子の発光効率との関係を独自に調べた。
【0008】
図9は、この結果を表すグラフ図である。すなわち、同図の横軸は緑色LEDの活性層の不純物シリコン濃度を表し、縦軸はその発光効率を表す。活性層に混入する不純物シリコンの濃度は、1015〜1017cm-3のオーダであり、混入量が増加するに従って、発光効率が顕著に低下することが分かる。
【0009】
発光効率を改善するためには、不純物シリコンの混入を遮断すれば良い。しかし、このような不純物シリコンは結晶成長の原料に含有されているので、その混入を完全に遮断することは容易でないという問題がある。
【0010】
ここで、不純物シリコンは、特にTMAに多く含有されている。従って、活性層のアルミニウム組成を高くするほど、すなわち発光波長を短くするほど、不純物シリコンの混入量が増加し、発光効率が低下するという問題があった。
また、本発明者は、活性層の発光波長と不純物シリコンのエネルギ準位との関係についても独自に調べた。
図10は、この結果を表すグラフ図である。すなわち、同図の横軸はlnGaAlP活性層の発光波長を表し、縦軸は不純物シリコンのエネルギ準位を表す。ここで、縦軸のエネルギ準位は、lnGaAlPの伝導帯からみた値が示されている。同図から分かるように、活性層の発光波長が短くなるほど、不純物シリコンのエネルギ準位は深くなる。このようにエネルギ準位が深くなると、非発光再結合中心としての作用がより顕著になり、発光素子の発光効率が著しく低下する。つまり、従来のlnGaAlP系発光素子においては、発光波長が短くなるほど、不純物シリコンのエネルギ準位が深くなり、発光効率が低下する。
【0011】
以上説明したように、従来のlnGaAlP系発光素子においては、発光波長が短くなるほど、不純物シリコンの混入量が増加し、しかも、不純物シリコンの非発光再結合中心としての作用が顕著となるために、発光効率が顕著に低下してしまうという問題があった。
【0012】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明は、lnGaAlP系半導体発光素子において、不純物シリコンによる非発光再結合中心の作用を抑制することにより、短波長においても発光効率が高い半導体発光素子を提供することを目的とするものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明の半導体発光素子は、基板と、前記基板上に形成されたlnGaAlP系化合物半導体からなる第1のクラッド層と、前記第1のクラッド層の上に形成されたlnGaAlP系化合物半導体からなる活性層と、前記活性層の上に形成されたlnGaAlP系化合物半導体からなる第2のクラッド層と、を備えた半導体発光素子であって、前記活性層は、非発光再結合中心を形成する不純物元素と、前記非発光再結合中心を不活性化させることにより、励起キャリアの非発光再結合過程による再結合のライフタイムを長くする元素と、を含有してなることを特徴とするものして構成され、非発光再結合中心の作用が抑制されて高い発光効率を得ることができる。
【0014】
ここで、非発光再結合中心を形成する不純物元素としては、シリコンが挙げられ、非発光再結合中心を不活性化させる元素としては、亜鉛を挙げることができる。
【0015】
また、活性層における前記シリコンの含有量は、5×1016cm-3以下で、前記活性層における前記亜鉛の含有量は、5×1016cm-3以上、且つ2×1017cm-3以下とすると、従来の約1.5倍の発光効率を得ることができる。
【0016】
さらに、前記活性層における前記シリコンの含有量は、1×1016cm-3以下であり、前記活性層における前記亜鉛の含有量は、5×1016cm-3以上、且つ2×1017cm-3以下とすると、従来の約3倍の発光効率を得ることができる。
ここで、前記活性層を構成する前記lnGaAlP系化合物半導体の発光波長は、550nm以上で580nm以下とすると、発光効率の改善が顕著となる。
また、前記活性層は、多重量子井戸型構造とすることにより、発光特性をさらに改善することができるようになる。
【0017】
また、前記活性層の層厚は、0.8μm以上、且つ2.0μm以下とすることにより、発光効率を顕著に改善することができる。
【0018】
一方、前記半導体発光素子は電流拡散層と電極とをさらに備え、且つ、前記前記第2のクラッド層と前記電流拡散層との間に前記電極に対応して部分的に形成され、前記電極の下部における電流を抑制する電流ブロック層を設けることにより光の取り出し効率を改善することができる。
【0019】
また、前記基板と前記第1のクラッド層との間に形成された光反射層をさらに備え、前記活性層からの発光を前記第2のクラッド層の方向に反射するようにすることによって光の取り出し効率をさらに改善することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
本発明によれば、lnGaAlP活性層に所定量の亜鉛をドーピングすることにより、不純物シリコンの非発光再結合中心としての作用を抑制し、短波長においても高輝度を有する半導体発光素子を提供することができる。さらに、不純物シリコンの混入量を所定のレベル以下に抑制することにより、発光効率は顕著に改善される。
【0021】
以下に図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本発明による半導体発光素子の断面構造を例示する概略図である。図7に表したような従来の発光素子との主な相違点は、活性層に所定量の亜鉛がドーピングされている点にある。
【0022】
すなわち、本発明による発光素子10は、一例としてダブルヘテロ型の構造を有するものとして構成することができる。そして、n型GaAs基板11(厚さ約250μm)上に、n型GaAsバッファ層(0.5μm)12、n型InAlPクラッド層(0.6μm)13、InGaAlP活性層(1.0μm)14、p型InAlPクラッド層(1.0μm)15、p型GaAlAs電流拡散層16が順次積層された構造を有する。
【0023】
各半導体層12〜16は、例えばMOCVD法によりエピタキシャル成長することができる。MOCVD法による場合の結晶成長温度は、例えば700℃程度とすることができる。また、原料としては、例えば、TMG、TMA、TMIなどの有機金属と、アルシン(AsH3 )、フォスフィン(PH3 )などの水素化ガスとを用いることができる。ここで、n型の半導体層12、13には不純物として、例えばシリコンをドーピングし、p型の半導体層15、16には、不純物として、例えば亜鉛(Zn)をドーピングする。シリコンの原料としては、例えばシラン(SiH4 )を用い、亜鉛の原料としては、例えばジメチル亜鉛(DMZ)を用いることができる。前述した各種の原料ガスは、水素などのキャリアガスと共に、反応炉内に適宜導入され、GaAs基板11上で熱分解を生じて所定の結晶層が成長する。
【0024】
また、活性層14は、lnGaAlPからなる単一層の代わりに、いわゆる多重量子井戸型(MQW)構造としても良い。このようなMQW構造としては、例えば、組成とそれに伴うバンドギャップが互いに異なる2種類のlnGaAlP層、すなわち、lnGaAlP井戸層とlnGaAlP障壁層とを交互に積層させた構造とすることができる。それぞれの組成は、所定の発光波長に応じて適宜決定することができる。また、lnGaAlP井戸層の層厚は5〜15nm程度で、lnGaAlP障壁層の層厚は5〜20nm程度とすることが望ましい。このような井戸層と障壁層の積層数は、10〜30周期とすることが望ましい。活性層14をこのようなMQW構造とすることにより、発光素子の発光特性が改善される。すなわち、発光波長の単色性や発光強度、温度特性などが改善される。
結晶成長工程の後に、p側電極18とn側電極19とをそれぞれ形成し、ダイシング法によって一辺が約300μmの正方形状のチップに切り出して発光素子10が完成する。この発光素子は、例えば、ステムなどの図示しない実装部材に実装し、ワイア・ボンディング、樹脂封止によって直径約5mmのLEDランプに組み立てて、発光輝度や発光波長などを評価することができる。
【0025】
ここで、所定の発光波長を得るためには、活性層14を構成するlnx Gay Al1-x-y P混晶の組成比xおよびyを調節すれば良い。すなわち、組成比x、yを調節することにより、バンドギャップを変化させて、例えば黄色、黄緑色あるいは緑色などの所定の発光波長を得ることができる。
【0026】
本発明においては、lnGaAlP活性層14に亜鉛がドーピングされ、不純物シリコンの悪影響が抑制されている。亜鉛のドーピングは、例えばDMZを用いて行うことができる。また、活性層14を前述したようなMQW構造とした場合には、lnGaAlP井戸層とlnGaAlP障壁層の両方に亜鉛をドーピングすることにより、不純物シリコンの悪影響を効果的に抑制することができる。
【0027】
亜鉛のドーピング量は、lnGaAlP活性層14に含有される不純物シリコンの量に応じて適宜決定することができる。しかし、本発明の独自の検討の結果、後に詳述するように不純物シリコンの混入量が約1×1016以下である場合に、亜鉛をドーピングする効果が特に顕著に表れることが分かった。
【0028】
図2は、本発明による発光素子において、活性層への亜鉛のドーピング量と、発光効率との関係を表すグラフ図である。同図に示した関係は、発光波長が560nmの緑色の領域で発光する発光素子についてのものである。また、同図においては、活性層14に混入された不純物シリコンの量が約1×1016cm-3場合(a)、約5×1016cm-3の場合(b)、および約1×1017cm-3の場合(c)とがそれぞれ示されている。また、同図の(a’)、(b’)および(c’)は、亜鉛をドーピングしない場合のそれぞれのシリコン濃度における発光効率を表す。
【0029】
図2から分かるように、不純物シリコン濃度が1×1017cm-3の場合には、亜鉛をドーピングしても、発光効率は改善されず、逆に2×10cm-3以上の亜鉛をドーピングすると発光効率は低下する傾向がみられる。このような発光効率の低下は、ドーピングされた亜鉛がlnGaAlP活性層14中において、非発光再結合中心を形成するためであると推測される。
【0030】
これに対して、不純物シリコン濃度が5×1016cm-3の場合には、亜鉛のドーピングにより発光効率は改善され、亜鉛を約1×1017cm-3ドーピングした場合に、発光効率は極大値を有し、従来例、すなわち亜鉛をドーピングしない場合に比べて発光効率は、約1.5倍に改善される。
【0031】
さらに、不純物シリコン濃度が1×1016cm-3の場合には、亜鉛のドーピングにより発光効率は顕著に改善され、亜鉛を約1×1017cm-3ドーピングした場合に、発光効率は極大値を有し、従来例、すなわち亜鉛をドーピングしない場合に比べて発光効率は、約3倍に改善される。すなわち、本発明によれば、不純物シリコンの混入量が所定のレベル以下の場合に、亜鉛をドーピングすることにより、顕著な発光効率の向上が得られることが分かった。
【0032】
このように、不純物シリコンの混入量が所定のレベル以下の場合に、亜鉛のドーピングの効果が顕著になる理由は、必ずしも明確ではない。しかし、本発明者の検討によれば、ドーパントである亜鉛とシリコンとが、lnGaAlP活性層中において何らかの相互作用を有する結果として、不純物シリコンの量が多い場合には、亜鉛が非発光再結合中心として作用しやすくなることが推測される。
【0033】
以上説明したように、本発明によれば、不純物シリコンの量が所定量以下である場合に、亜鉛が極めて有効に作用し、発光効率が顕著に改善される。
【0034】
図3は、本発明の発光素子と従来の発光素子とについて、発光波長と発光効率との関係を表すグラフ図である。ここでは、lnGaAlP活性層中に含有される不純物シリコンの量が約1×1016cm-3であり、亜鉛を約1×1017cm-3ドーピングした場合について示した。
【0035】
本発明によれば、活性層の発光波長が約550〜590nmの範囲、すなわち緑色から黄色の範囲において、従来よりも発光効率が改善されていることが分かる。また、発光波長が約550〜580nm、すなわち緑色から黄緑色の範囲において、発光効率の改善が顕著であり、さらに、発光波長が約550〜570nm、すなわち緑色の範囲において特に発光効率の改善が顕著であることが分かる。これは、図8に関して前述したように、lnGaAlP層においては発光波長が短くなるほど不純物シリコンによる非発光再結合中心の影響が顕著になることと対応していると考えられる。すなわち、lnGaAlP層のバンドギャップが大きくなるほど、不純物シリコンが非発光再結合中心として作用する傾向が顕著となり、本発明により亜鉛をドーピングすることによる発光効率の改善の顕著にみられるようになる。以上説明したように、本発明によれば、緑色などの短波長の発光素子において、特に顕著な効果を得ることができる。
【0036】
本発明者はさらに、本発明による亜鉛ドーピングの作用効果についてキャリアのライフタイムの観点から検討を行った。
図4は、lnGaAlP活性層におけるフォトルミネッセンス(PL)励起キャリア密度と、キャリアのライフタイムとの関係を表すグラフ図である。ここで用いたlnGaAlP層は、発光波長が約560nmの組成を有するものである。ここで、「PL励起キャリア密度」とは、光を照射することにより励起されたlnGaAlP活性層中のキャリアの密度をいう。また、ここで測定された「ライフタイム」は、励起されたキャリアが非発光結合過程により再結合する場合のライフタイムと、発光再結合過程により再結合する場合のライフタイムとを合わせたものである。ここで、励起キャリアの特性として、キャリア密度が低い場合、すなわち、同図の右側の領域においては、非発光再結合によるライフタイムが主要成分となり、キャリア密度が高い場合、すなわち同図の左側の領域におけるライフタイムは、発光再結合によるライフタイムが主要成分となる。
【0037】
同図から、本発明によるlnGaAlP層は、キャリア密度が低い領域におけるライフタイムが従来のものよりも長いことがわかる。つまり、本発明によるlnGaAlP層においては、励起キャリアが非発光再結合するまでのライフタイムが長く、非発光再結合が抑制されていることが分かった。つまり、本発明においては、亜鉛をドーピングしたことによって、非発光再結合中心が不活性化されていることが分かった。
【0038】
これに対して、励起キャリア密度が高くなると、本発明においても従来例においてもライフタイムが短くなり、励起キャリア濃度が1×1017cm-3以上においては、ほぼ同一のライフタイムを有することが分かる。すなわち、発光再結合のライフタイムは、本発明においても従来例においても概略同一であり、亜鉛をドーピングしても、発光再結合が生じにくくなることはないことが分かる。
【0039】
以上説明したように、本発明によれば、lnGaAlP活性層に亜鉛をドーピングすることにより、不純物シリコンに起因する非発光再結合を不活性化し、発光効率を改善することができる。さらに、本発明のこの効果は、不純物シリコンの混入量が1×1017cm-3以下、望ましくは5×1016cm-3以下、さらに望ましくは1×1016cm-3以下である場合に、顕著となり、発光効率を従来の約2倍程度に改善することができる。
【0040】
不純物シリコンの混入量を制御するためには、結晶成長の原料を選定したり、結晶成長条件を調節する方法を採ることができる。本発明者の検討によれば、MOCVD法においては、TMAやTMIが特に不純物シリコンを多く含有する傾向がみられた。従って、特に、これらの原料について純物シリコンの含有量をモニタし、原料を選別することによって、lnGaAlP層に混入される不純物シリコンの量を制御することができる。
【0041】
また、結晶成長条件を調節することによっても不純物シリコンの混入量を制御することができる。例えば、結晶成長時の温度や、III族原料とV族元素ガスとの流量比、あるいはキャリアガスとの流量比などの種々のパラメータ調節することによって、lnGaAlP層に混入される不純物シリコンの量を制御することが可能である。
【0042】
ここで、本発明による非発光再結合中心の抑制効果は、発光波長が短波長になるほど顕著となる。すなわち、図3に示したように、本発明によれば、緑色などの短波長領域において、従来よりも大幅に発光効率が改善された高い発光輝度を有する発光素子を提供することができる。
【0043】
さらに、本発明者は、活性層14の層厚と発光効率との関係について調べた。その結果、活性層14の層厚には最適範囲が存在し、層厚が0.8〜2.0μmの場合に最も高い発光効率が得られることが分かった。このような最適範囲が存在する理由は、活性層14の層厚がこれよりも薄いと十分な発光量が得られず、逆に層厚がこれよりも厚いと注入キャリアの拡散長よりも厚くなり、ダブルヘテロ構造による閉じこめ効果が低下するからであると考えられる。このように、活性層14の層厚を最適化することにより、さらに高輝度の発光素子を提供することができるようになる。
【0044】
次に、本発明による第2の発光素子について説明する。
図5は、本発明による第2の半導体発光素子の断面構造を例示する概略図である。図1に表した発光素子との相違点は、p型クラッド層55と電流拡散層56との間に電流ブロック層57が設けられている点である。すなわち、本発明による発光素子50は、n型GaAs基板51(厚さ約250μm)上に、n型GaAsバッファ層(0.5μm)52、n型InAlPクラッド層(0.6μm)53、InGaAlP活性層(1.0μm)54、p型InAlPクラッド層(1.0μm)55、電流ブロック層57、p型GaAlAs電流拡散層56が順次積層された構造を有する。電流ブロック層57は、例えば、絶縁性を有する材料や、n型半導体により構成され、p側電極58の直下部にのみ設けられている。さらに、p側電極58とn側電極59とがそれぞれ形成されている。
【0045】
各半導体層52〜57は、例えばMOCVD法によりエピタキシャル成長することができ、その成長温度や原料などは、図1に関して前述したものと同様とすることができる。
【0046】
ここで、本実施形態においても、lnGaAlP活性層54に亜鉛がドーピングされ、不純物シリコンに起因する非発光再結合中心が不活性化されている。亜鉛のドーピングは、例えばDMZを用いて行うことができる。また、亜鉛のドーピング量は、lnGaAlP活性層54に含有される不純物シリコンの量に応じて適宜決定することができる。しかし前述したように、不純物シリコンの混入量を1×1017cm-3以下、望ましくは5×1016cm-3以下、さらに望ましくは1×1016cm-3以下に抑制することによって、亜鉛ドーピングの効果が顕著となり、発光効率を従来の約2倍以上に改善することができる。
【0047】
また、本実施形態においては、電流ブロック層57が設けられているために、p側電極58の下部において流れる電流を制限することができ、外部に取り出すことができない電極下部での発光を抑制して、光の取り出し効率を改善することができる。
【0048】
なお、本実施形態においても、活性層54は、lnGaAlPからなる単一層の代わりに、MQW構造としても良い。すなわち、lnGaAlP井戸層とlnGaAlP障壁層とを交互に積層させた構造とすることができる。それぞれの組成は、所定の発光波長に応じて適宜決定することができる。また、lnGaAlP井戸層の層厚は5〜15nm程度で、lnGaAlP障壁層の層厚は5〜20nm程度とすることが望ましい。このような井戸層と障壁層の積層数は、10〜30周期とすることが望ましい。活性層54をこのようなMQW構造とすることにより、発光素子の発光特性が改善される。すなわち、発光波長の単色性や発光強度、温度特性などが改善される。さらに、これらの井戸層と障壁層とにそれぞれ亜鉛を所定量ドーピングすることによって、前述したように不純物シリコンを不活性化して発光特性をさらに改善することができる。
【0049】
次に、本発明による第3の発光素子について説明する。
図6は、本発明による第3の半導体発光素子の断面構造を例示する概略図である。図1に表した発光素子との相違点は、p型クラッド層65と電流拡散層66との間に電流ブロック層67が設けられ、さらに、バッファ層62とn型クラッド層63との間に光反射層70が設けられている点である。すなわち、本発明による発光素子60は、n型GaAs基板61(厚さ約250μm)上に、n型GaAsバッファ層(0.5μm)62、n型InAlPクラッド層(0.6μm)63、InGaAlP活性層(1.0μm)64、p型InAlPクラッド層(1.0μm)65、電流ブロック層67、p型GaAlAs電流拡散層66が順次積層された構造を有する。
【0050】
電流ブロック層67は、例えば、絶縁性を有する材料や、n型半導体により構成され、p側電極58の直下部にのみ設けられている。また、光反射層70は、光屈折率が異なる2種類の材料からなる層を交互に積層した、いわゆるブラッグ反射層とすることができる。各層の層厚は、活性層の発光波長λを、各層の屈折率をnとした時に、λ/(4n)とすることが望ましい。例えば、n型InGaAlP層とn型GaAs層とを交互に積層することにより形成することができる。また、n型InAlP層とn型GaAs層とを交互に積層して形成しても良い。
【0051】
本実施形態においても、lnGaAlP活性層64に亜鉛がドーピングされ、不純物シリコンに起因する非発光再結合中心が不活性化されている。亜鉛のドーピングは、例えばDMZを用いて行うことができる。また、亜鉛のドーピング量は、lnGaAlP活性層64に含有される不純物シリコンの量に応じて適宜決定することができる。しかし前述したように、不純物シリコンの混入量を1×1017cm-3以下、望ましくは5×1016cm-3以下、さらに望ましくは1×1016cm-3以下に抑制することによって、亜鉛ドーピングの効果が顕著となり、発光効率を従来の約2倍以上に改善することができる。
【0052】
また、本実施形態においては、電流ブロック層67が設けられているために、p側電極58の下部において流れる電流を制限することができ、外部に取り出すことができない電極下部での発光を抑制して、光の取り出し効率を改善することができる。
【0053】
さらに、本実施形態においては、光反射層70が設けられているために、活性層64からの発光が、図中の上方に向けて反射され、光の取り出し効率をさらに改善することができる。この結果として、従来よりもさらに高輝度の発光素子を提供することができる。
【0054】
なお、本実施形態においても、活性層64は、lnGaAlPからなる単一層の代わりに、MQW構造としても良い。すなわち、lnGaAlP井戸層とlnGaAlP障壁層とを交互に積層させた構造とすることができる。それぞれの組成は、所定の発光波長に応じて適宜決定することができる。また、lnGaAlP井戸層の層厚は5〜15nm程度で、lnGaAlP障壁層の層厚は5〜20nm程度とすることが望ましい。このような井戸層と障壁層の積層数は、10〜30周期とすることが望ましい。活性層64をこのようなMQW構造とすることにより、発光素子の発光特性が改善される。すなわち、発光波長の単色性や発光強度、温度特性などが改善される。さらに、これらの井戸層と障壁層とにそれぞれ亜鉛を所定量ドーピングすることによって、前述したように不純物シリコンを不活性化して発光特性をさらに改善することができる。
【0055】
以上、具体例を参照しつつ本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものでははない。
【0056】
例えば、非発光再結合中心として作用する元素は、前述したシリコンに限定されない。本発明は、その他のIV族元素、VI族元素や、遷移金属元素などに起因する種々の非発光再結合中心に対しても同様に適用することができる。
【0057】
また、これらの非発光再結合中心を不活性化するドーパントとしては、例示した亜鉛に限定されない。例えば、この他のII族元素であるマグネシウム(Mg)、ベリリウム(Be)、カドミウム(Cd)などの元素をドーピングしても、同様に非発光再結合中心を不活性化することができる。
【0058】
また、各半導体層の結晶成長法としては、前述したMOCVD法の他に、ハイドライド化学気相成長法(HCVD)、化学ビーム・エピタキシャル法(CBE)、液相成長法(LPE)などを用いることもきる。
【0059】
また、その導電型についても図示した構成に限定されず、p型とn型とが反転した構造であっても良い。
【0060】
さらに、ダブルヘテロ型構造に限定されず、例えば、ヘテロ接合をひとつだけ有する、いわゆるシングルヘテロ型構造や、クラッド層が多重量子井戸型構造を有するいわゆる多重量子障壁(MQB)型のような発光素子についても本発明を適用することができる。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々に変形して実施することが可能である。
【0061】
【発明の効果】
本発明は、以上に説明した形態で実施され、以下に説明する効果を奏する。
【0062】
まず、本発明によれば、lnGaAlP活性層に亜鉛をドーピングすることによって、非発光再結合中心による励起キャリアの非発光再結合過程による再結合のライフタイムを長くすることができる。その結果として、非発光再結合中心を不活性化させて非発光再結合中心の作用を抑制し、発光効率を改善することができる。
【0063】
また、本発明によれば、不純物シリコン濃度が5×1016cm-3の場合には、亜鉛のドーピングにより発光効率は改善され、亜鉛を約1×1017cm-3ドーピングした場合に、発光効率は極大値を有し、従来例、すなわち亜鉛をドーピングしない場合に比べて発光効率は、約1.5倍に改善される。
【0064】
さらに、本発明によれば、不純物シリコン濃度が1×1016cm-3の場合には、亜鉛のドーピングにより発光効率は顕著に改善され、亜鉛を約1×1017cm-3ドーピングした場合に、発光効率は極大値を有し、従来例、すなわち亜鉛をドーピングしない場合に比べて発光効率は、約3倍に改善される。すなわち、本発明によれば、不純物シリコンの混入量が所定のレベル以下の場合に、亜鉛をドーピングすることにより、顕著な発光効率の向上が得られる。
【0065】
また、本発明によれば、活性層の発光波長が約550〜590nmの範囲、すなわち緑色から黄色の範囲において、従来よりも発光効率を改善することができる。また、発光波長が約550〜580nm、すなわち緑色から黄緑色の範囲において、発光効率の改善が顕著であり、さらに、発光波長が約550〜570nm、すなわち緑色の範囲において特に発光効率の改善が顕著である。
【0066】
すなわち、本発明によれば、lnGaAlP層のバンドギャップが大きくなるほど、不純物シリコンが非発光再結合中心として作用する傾向が顕著となり、本発明により亜鉛をドーピングすることによる発光効率の改善の顕著にみられるようになる。以上説明したように、本発明による非発光再結合中心の抑制効果は、発光波長が短波長になるほど顕著となる。すなわち、本発明によれば、緑色などの短波長領域において、従来よりも大幅に発光効率が改善された高い発光輝度を有する発光素子を提供することができる。
【0067】
また、本発明によれば、電流ブロック層を設けることにより、p側電極の下部において流れる電流を制限することができ、外部に取り出すことができない電極下部での発光を抑制して、光の取り出し効率を改善することができる。
【0068】
さらに、本発明によれば、光反射層を設けることによって、活性層からの発光が、図中の上方に向けて反射され、光の取り出し効率をさらに改善することができる。この結果として、従来よりもさらに高輝度の発光素子を提供することができる。
【0069】
以上説明したように、本発明によれば、特に短波長領域において、高い発光効率を有するlnGaAlP系発光素子を提供することができるようになり、産業上のメリットは多大である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体発光素子の断面構造を例示する概略図である。
【図2】本発明による発光素子において、活性層への亜鉛のドーピング量と、発光効率との関係を表すグラフ図である。
【図3】本発明の発光素子と従来の発光素子とについて、発光波長と発光効率との関係を表すグラフ図である。
【図4】lnGaAlP活性層におけるフォトルミネッセンス(PL)励起キャリア密度と、ライフタイムとの関係を表すグラフ図である。
【図5】本発明による第2の半導体発光素子の断面構造を例示する概略図である。
【図6】本発明による第3の半導体発光素子の断面構造を例示する概略図である。
【図7】従来のlnGaAlP系半導体発光素子の概略構成を表す断面模式図である。
【図8】従来のlnGaAlP系発光素子の発光波長と発光効率との関係を表すグラフ図である。
【図9】活性層の不純物シリコン濃度と発光効率との関係を表すグラフ図である。すなわち、同図の横軸は緑色LEDの活性層の不純物シリコン濃度を表し、縦軸はその発光効率を表す。
【図10】活性層の発光波長と不純物シリコンのエネルギ準位との関係を表すグラフ図である。すなわち、同図の横軸はlnGaAlP活性層の発光波長を表し、縦軸は不純物シリコンのエネルギ準位を表す。
【符号の説明】
10、50、60、100 半導体発光素子
11、51、61、101 基板
12、52、62、102 バッファ層
13、53、63、103 クラッド層
14、54、64、104 活性層
15、55、65、105 バッファ層
16、56、66、106 電流拡散層
18、58、68、108 p側電極
19、59、69、109 n側電極
57、67 電流ブロック層
70 光反射層
Claims (6)
- 基板と、前記基板上に形成されたInGaAlP系化合物半導体からなる第1のクラッド層と、前記第1のクラッド層の上に形成されたInGaAlP系化合物半導体からなる活性層と、前記活性層の上に形成されたInGaAlP系化合物半導体からなる第2のクラッド層と、を備えた半導体発光素子であって、
前記活性層は、
シリコンと、亜鉛と、を含有してなり、
前記活性層における前記シリコンの含有量は、5×1016cm−3以下であり、
前記活性層における前記亜鉛の含有量は、5×1016cm−3以上、且つ2×1017cm−3以下であることを特徴とする半導体発光素子。 - 前記活性層における前記シリコンの含有量は、1×1016cm−3以下であることを特徴とする請求項1記載の半導体発光素子。
- 前記活性層を構成する前記InGaAlP系化合物半導体の発光波長は、550nm以上で580nm以下であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の半導体発光素子。
- 前記活性層は、多重量子井戸構造を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
- 前記半導体発光素子は、
前記第2のクラッド層の上に形成された電流拡散層と、
前記電流拡散層の上に部分的に形成された電極と、をさらに備え、
且つ、
前記第2のクラッド層と前記電流拡散層との間に前記電極に対応して部分的に形成され、前記電極の下部における電流を抑制する電流ブロック層が設けられたものとして構成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の半導体発光素子。 - 前記半導体発光素子は、
前記基板と前記第1のクラッド層との間に形成された光反射層をさらに備え、
前記活性層からの発光を前記第2のクラッド層の方向に反射するものとして構成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22917197A JP3732626B2 (ja) | 1997-08-26 | 1997-08-26 | 半導体発光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22917197A JP3732626B2 (ja) | 1997-08-26 | 1997-08-26 | 半導体発光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1168154A JPH1168154A (ja) | 1999-03-09 |
JP3732626B2 true JP3732626B2 (ja) | 2006-01-05 |
Family
ID=16887909
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22917197A Expired - Lifetime JP3732626B2 (ja) | 1997-08-26 | 1997-08-26 | 半導体発光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3732626B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8164106B2 (en) | 2007-02-05 | 2012-04-24 | Showa Denko K.K. | AIGaInP light emitting diode |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE60332140D1 (de) * | 2002-09-20 | 2010-05-27 | Sony Corp | Halbleiterlaserbauelement und dessen herstellungsverfahren |
JP5190411B2 (ja) * | 2009-05-14 | 2013-04-24 | スタンレー電気株式会社 | 半導体発光装置及び半導体発光装置の製造方法 |
JP2010206220A (ja) * | 2010-06-09 | 2010-09-16 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | エピタキシャルウェーハ |
JP5383745B2 (ja) * | 2011-05-31 | 2014-01-08 | 三菱重工業株式会社 | 電源装置 |
JP2013171948A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 発光素子、エピタキシャルウエハおよびその製造方法 |
-
1997
- 1997-08-26 JP JP22917197A patent/JP3732626B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8164106B2 (en) | 2007-02-05 | 2012-04-24 | Showa Denko K.K. | AIGaInP light emitting diode |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1168154A (ja) | 1999-03-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Koike et al. | Development of high efficiency GaN-based multiquantum-well light-emitting diodes and their applications | |
US8389975B2 (en) | Group III nitride semiconductor light-emitting device | |
JP3763667B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
US5793061A (en) | Group-III nitride based light emitter | |
JP4116260B2 (ja) | 半導体発光装置 | |
US10559718B2 (en) | Light-emitting device having plural recesses in layers | |
KR101611412B1 (ko) | 발광 소자 | |
US20050067627A1 (en) | High efficiency multi-active layer tunnel regenerated white light emitting diode | |
US20090108276A1 (en) | High Efficiency Dilute Nitride Light Emitting Diodes | |
US7528417B2 (en) | Light-emitting diode device and production method thereof | |
US8164106B2 (en) | AIGaInP light emitting diode | |
JP6222684B2 (ja) | 赤色発光半導体素子とその製造方法 | |
JPH05167101A (ja) | 半導体発光素子 | |
GB2323210A (en) | Light emitting device | |
JP3732626B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
JP3458007B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
JP3981218B2 (ja) | 発光素子用エピタキシャルウエハおよび発光素子 | |
WO2011101929A1 (ja) | 半導体発光装置及びその製造方法 | |
JP2001237456A (ja) | 発光素子 | |
US8421056B2 (en) | Light-emitting device epitaxial wafer and light-emitting device | |
JP3763303B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
JP2003332619A (ja) | 半導体発光素子 | |
US20230170437A1 (en) | Semiconductor epitaxial structure and method for manufacturing the same, and led | |
JP2950316B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子及びその製造方法 | |
JPH10144961A (ja) | 半導体発光素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050830 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051013 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081021 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091021 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101021 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111021 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111021 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121021 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131021 Year of fee payment: 8 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |