JP3731293B2

JP3731293B2 - 光ファイバ・グレーティング及びその製造方法

Info

Publication number: JP3731293B2
Application number: JP15119597A
Authority: JP
Inventors: 真澄伊藤; 麻紀池知; 正榎本
Original assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date: 1996-06-10
Filing date: 1997-06-09
Publication date: 2006-01-05
Anticipated expiration: 2017-06-09
Also published as: JPH1068835A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、光ファイバと該光ファイバのコア領域の長手方向に沿って作り込まれた回折格子とを備えた光ファイバ・グレーティング（光部品）及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、光ファイバ通信技術の進展にともない光通信システムの構成も著しく高度化し、ネットワークの複雑化や信号波長の多重化などが進行している。このような光通信システムでは、光回路素子（光部品）の重要性が増大している。
【０００３】
光回路素子における一般的構成の一例としてファイバ型素子は、小型で挿入損失が小さいことや、伝送路である光ファイバとの接続が容易であること等の利点を有している。そして、このようなファイバ型光部品として、ファイバ型フィルタがある。一方、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ₂）が添加されたガラスに、紫外光を照射照射することにより該照射領域における屈折率が変化することも知られている。
【０００４】
そこで、最近では、このような光誘起による屈折率の変化を利用したファイバ型フィルタとして、光ファイバのコア領域中に回折格子が作り込まれた光ファイバ・グレーティングの研究開発が行われている。なお、この明細書において、光ファイバ・グレーティングとは、所定の屈折率を有するとともにＧｅＯ₂が添加されたコア領域と、該コア領域の外周に設けられかつ該コア領域よりも低い屈折率を有するクラッド領域とからなる光ファイバと、該光ファイバのコア領域中に該コア領域の長手方向に沿って作り込まれた回折格子とを少なくとも備えた光部品である。また、上記回折格子は、紫外線が照射されたコア領域の長手方向に沿って、該コア領域の屈折率が周期的に変化している領域をいう。
【０００５】
すなわち、この光ファイバ・グレーティングは、当該光ファイバ内を伝搬する光のうち特定波長（以下、回折格子の反射波長という）の光成分を反射する一方、残りの光成分（回折格子の反射波長からずれている波長を有する光成分）を透過する機能を有する。なお、回折格子の反射波長は、コア領域中の光誘起による屈折率変化のピッチによって決定される。また、このように紫外線照射により光ファイバ中に回折格子を作り込む製造方法は、生産性に優れているという利点もある。
【０００６】
このような光ファイバ・グレーティングでは、その反射率Ｒが重要な特性となり、この反射率Ｒは、回折格子長（コア領域中の屈折率が該コア領域の長手方向に沿って周期的に変化している領域の長さ）と光誘起による屈折率の変化量に依存する。この関係は、
Ｒ＝ｔａｎｈ²（ＬπΔｎ／λ_R）
ここで、Ｒ：反射率
Ｌ：回折格子長
Δｎ：光誘起による屈折率の変化量
λ_R：ブラッグ波長
で表される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
一般に、紫外光照射による屈折率変化は、コア領域に相当するガラス中に存在するゲルマニウム関連のガラス欠陥に起因することが知られている。しかしながら、発明者らの知見によれば、従来のように酸化ゲルマニウムをコア領域に添加されただけの光ファイバ（ガラス・ファイバ）ではガラス欠陥の数が少ないため、紫外光が照射されても屈折率変化量Δｎが小さく、したがって、上記の式から明らかなように反射率Ｒも小さい。具体的には、紫外光照射によるコア領域の屈折率変化は１０^-5程度であり、反射率は数％と過小である。
【０００８】
一方、回折格子の反射率Ｒを高くするためには、上記の式が示すように回折格子長Ｌを大きくする方法もある。しかしながら、紫外光レーザビームを照射するにあたっては、レーザビームに高い均一性が要求されるため、紫外光照射を行うための光学系が複雑になってしまう。また、ガラス欠陥が少ないと、光誘起による屈折率変化の速度も遅くなる。そのため、、反射率Ｒを高くしようとすると、照射時間が長くなって生産性が低下してしまう。
【０００９】
加えて、特開平７−２４４２１０号公報には、回折格子の反射率Ｒを高くする方法として、紫外光の照射光量に対する光誘起による屈折率変加量を増大させるために、水素を光ファイバのコア領域に添加する技術が開示されている。この方法において、光ファイバへの水素の添加は、高圧の水素加圧処理によって行われるが、光誘起による屈折率の変化を大きくするためには、添加水素濃度が高いことが望ましい。このため、光ファイバへの水素の高濃度添加は、一般に高圧に加圧された水素を含む雰囲気中（以下、水素雰囲気という）に光ファイバを一定期間晒すことにより行われる。
【００１０】
発明者らは、上述の水素添加技術について検討した結果、以下のような課題を発見した。すなわち、従来の水素添加技術により石英系ガラス・ファイバに水素を添加すると、ガラスの表面の劣化に起因して急激に引張り強度が低下するという課題があった。このように表面が劣化したガラスファイバ（光ファイバ）に対し回折格子を作り込んで光ファイバ・グレーティング（光部品）を製造した場合、機械的強度等の低下をきたし信頼性に欠ける。
【００１１】
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたものであり、光ファイバに水素を高圧状態で添加処理しても機械的強度等の低下をきたさない、信頼性の高い構造を備えた光ファイバ・グレーティング及びその製造方法を提供することを目的としている。さらに言及すれば、この発明は、ＧｅＯ₂を含むコア領域及びクラッド領域とを有するガラス・ファイバ（光ファイバ）と該光ファイバの外周に被覆された樹脂とを備えた光ファイバ素線に対し、回折格子を作り込む製造方法及び該製造方法により製造された光ファイバ・グレーティングに関するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る光ファイバ・グレーティングの製造方法は、十分な光励起による屈折率変化を得るため、紫外線を照射する前に水素添加処理を行っており、特に、この製造方法における水素添加処理の対象は、ガラスファイバの外周が樹脂で被覆された光ファイバ素線であることを特徴としている。
【００１３】
具体的に、この発明に係る光ファイバ・グレーティングの製造方法では、まず、所定の屈折率を有するとともに所定量のＧｅＯ₂が添加されたコア領域と、該コア領域の外周に設けられかつ該コア領域よりも低い屈折率を有するクラッドからなる光ファイバと、該光ファイバの外周を被覆する樹脂（樹脂層）とを備えた光ファイバ素線が用意される。そして、当該製造方法は、用意された光ファイバ素線を所定加圧状態の水素雰囲気中（水素ガスが導入された容器内）に所定時間晒すことにより、該光ファイバ素線中に水素を添加する第１工程と、第１工程において水素が添加された光ファイバ素線の樹脂の一部を除去し、光ファイバの所定部位（回折格子が作り込まれる領域）の表面を露出させる第２工程と、そして、第２工程において樹脂が除去されて露出された光ファイバの所定部位に対して紫外線を照射し、該露出された所定領域に位置するコア領域の屈折率を、該コア領域の長手方向に沿って変化させる第３工程とを少なくとも備えている。なお、この発明に係る製造方法により製造された光ファイバ・グレーティングにおいて、回折格子が作り込まれた露出領域（水素添加処理後に樹脂層が取り除かれた領域）には、劣化防止のため再度樹脂が被覆される。
【００１４】
この発明に係る製造方法によれば、回折格子が作り込まれる対象として、ガラス・ファイバの外周に樹脂層が設けられた光ファイバ素線が採用され、樹脂層の一部の除去が水素添加後に行われるので、光ファイバ素線を長時間水素雰囲気中に晒してもガラスファイバの表面は空気によって劣化されることがなく、また、光ファイバ自身の機械的強度は保持される。
【００１５】
一方、この発明のように、回折格子が作り込まれる光ファイバの外周に樹脂が被覆された光ファイバ素線に対して水素添加処理を施す場合、ガラスファイバ（光ファイバ）と樹脂との界面に気泡や剥離の生じる可能性がある。当然のことながら、このように気泡や剥離の発生した光ファイバ素線に対し回折格子を作り込んで光ファイバ・グレーティング（光部品）を製造した場合、機械的強度等の低下をきたし信頼性に欠ける。
【００１６】
なお、この明細書において、上記樹脂層と光ファイバ（回折格子を作り込むためにコア領域中にＧｅＯ₂が添加されている）との界面に発生する気泡とは、当該光ファイバ・グレーティングの径方向の厚みが１μｍ〜２０μｍでありかつその最大長が１μｍ〜１０ｍｍの間隙（引張り強度に影響する程度の大きさを有する間隙）であって、微小な間隙を意味する。また、剥離とは、少なくとも１μｍ以上の径方向の厚みを有するとともにその最大長が１０ｍｍから光ファイバ・グレーティング全体に渡って発生するするような大きな間隙である。特に、このような剥離が発生している場合には、係る間隙で散乱光が強くなるため、得られた光ファイバ・グレーティングのうち剥離が発生している部位の表面は、剥離が発生していない部位の表面よりも、より輝いて見える。このため、この明細書において、剥離とは、上記気泡よりも大きな間隙を意味し、上記気泡には含まれない概念である。
【００１７】
そこで、この発明に係る製造方法は、第１工程と第２工程との間に、水素雰囲気の圧力を所定速度で減圧する第４工程をさらに備えることを特徴としている。このように、水素雰囲気の圧力を所定速度で減圧することによって、光ファイバ内に添加された水素は徐々に拡散し気泡等は発生しない。具体的に、発明者らは、減圧速度として、加圧状態から常圧状態へ水素雰囲気中の圧力を低下させる際の最大降圧速度を、１２０ａｔｍ／分以下、好ましくは２〜１０ａｔｍ／分の範囲に設定するのが効果的であることを発見した。なお、加圧状態とは、少なくとも４０〜４００ａｔｍの圧力が加えられている状態を意味し、また、常圧状態とは、１ａｔｍに限定されることはなく、水素が導入された容器の外部気圧と一致する圧力状態も含む。
【００１８】
さらに、この発明に係る製造方法では、上記第１工程における加圧状態における水素雰囲気の圧力を、１００〜３００ａｔｍであり、雰囲気温度は０℃（好ましくは常温）〜１００℃であることが好ましい。このような条件に加圧された水素雰囲気を設定することにより、被覆樹脂に熱的なダメージを与えることなく水素を短時間で効果的に添加できる。
【００１９】
なお、上記光ファイバを被覆する樹脂としては、耐圧性、耐温度性の観点から紫外線硬化型樹脂が好ましい。
【００２０】
以上の製造方法により製造された光ファイバ・グレーティングは、上記回折格子が作り込まれた光ファイバ表面と残った樹脂層とが密着しており、十分な引張り強度を有している。すなわち、得られた光ファイバ・グレーティングは、該光ファイバ表面と樹脂層との界面において、剥離（径方向の厚みが１μｍ以上かつ最大長が１０ｍｍ以上の間隙）及び気泡（径方向の厚みが１μｍ〜２０μｍかつ最大長が１μｍ〜１０ｍｍの間隙）のそれぞれが発生した場合であっても、少なくとも発生した気泡の数は、１ｍの基準長当たり１０００個以下程度に制限されている。したがって、上述のように定義された気泡の発生率が１０００個／ｍ以下に制限された光ファイバ・グレーティングは、気泡と剥離が混在していても、この発明に係る光ファイバ・グレーティングに含まれる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、この発明に係る光ファイバ・グレーティングの製造方法を、図１〜８を用いて説明する。なお、図中、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２２】
この発明に係る光ファイバ・グレーティングの製造方法では、まず、光ファイバ素線を用意し、温度を調整しながら水素雰囲気中に該用意された光ファイバ素線を設置した後、該水素雰囲気を高圧に加圧して水素を用意された光ファイバ素線のコアガラスまで圧入する。
【００２３】
具体的には、図１に示されたように、光ファイバ１０の周りが樹脂層１４で被覆された光ファイバ素線１５（図２参照）が設置された圧力容器２０内に、バルブ２１を介して水素（Ｈ₂）ガスが導入される。この際、圧力容器２０内は、ヒータなどの温度調節器２３ａ、２３ｂにより所定温度に設定されている。
【００２４】
光ファイバ素線１５は、図２に示されたように、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ₂）を含むコア領域１２を備えた通常の石英系光ファイバ１０と、該光ファイバ１０の外周を被覆した樹脂層１４で構成されている。また、この光ファイバ１０は、上記コア領域１２と、該コア領域１２よりも低い屈折率を有するクラッド領域１１を備えている。樹脂層１４としてはシリコン樹脂を用いることができるが、耐圧性の大きい紫外線硬化型樹脂がより好ましい。また、水素添加処理は樹脂層１４を備えた光ファイバ素線１５に対して行われるため、０℃（好ましくは常温）以上かつ１００℃以下の水素雰囲気中（容器２０内の雰囲気温度）で行われるのが好ましい。
【００２５】
導入される水素濃度は、水素添加処理の効率を考慮すると高いほど好ましく、爆発防止の観点から７５％以上である必要がある。また、以下に説明される各実施例における容器２０内の水素濃度は９９％以上である。
【００２６】
容器２０内の水素雰囲気の圧力は、２０〜４００ａｔｍである。水素雰囲気の圧力を２０ａｔｍ以上とするのは、雰囲気圧力が２０ａｔｍ未満では水素の添加の効果が実質的に得られないからである。なお、水素添加の効果を十分に得るためには、水素圧力を１００気圧以上とすることがより好ましい。一方、水素雰囲気の圧力を４００ａｔｍ以下とするのは、４００ａｔｍを超えると水素添加の効果が飽和するからである。こうした効果の飽和の傾向は、雰囲気圧力が３００ａｔｍを越えると見られるようになる。したがって、より効果的な雰囲気圧力の範囲は、１００〜３００ａｔｍである。
【００２７】
以上のような水素添加処理のより、光ファイバ素線１５中に水素が添加されると、添加された水素により光ファイバ１０のコア領域１２に添加された酸化ゲルマニウムが還元され易くなり、ＧｅやＳｉと結合している酸素が一部取り除かれる現象が発生する。結合酸素が一部取り除かれたＧｅやＳｉが結合しあえば、酸素欠損型の欠陥が新たに生じることとなり、光ファイバ１０のコア領域１２において通常わずかしか存在しない、酸素欠損型の欠陥が増大する。
【００２８】
以上説明された水素添加処理は、光ファイバ１０が樹脂で被覆された光ファイバ素線１５に対して実施される。これにより、当該光ファイバ１０の表面が直接空気と接触することがなく、光ファイバ１０の表面の劣化が防止できるので、光ファイバ１０の強度を維持することができる。
【００２９】
次に、水素ガスが導入された状態で高圧状態に維持されている加圧容器２０の圧力を常圧（１ａｔｍあるいは容器２０の外部の気圧と一致するまで）まで降下して光ファイバ素線１５を取出す。このように水素添加処理された光ファイバ素線１５は光ファイバ１０の表面と樹脂層１４との界面で気泡や剥離の生じる可能性がある。この原因について考察したところ、光ファイバ素線１５を取出すために容器２０内の圧力を急激に低下させたため、光ファイバ１０と樹脂層１４の中に大量に添加された水素ガスが膨張して生じたものと考えられる。
【００３０】
そこで、水素添加後に光ファイバ素線１５を取出す際、圧力容器２０内の水素雰囲気の圧力を外部気圧まで降下させる速度について検討した。圧力容器２０内の温度は２５℃（常温）、圧力容器２０内の水素雰囲気の圧力は３００ａｔｍとし、加圧容器２０の圧力を外部気圧（概ね１ａｔｍ）まで降下させる速度と光ファイバ１０の表面と樹脂層１４との界面で生じる気泡の数との関係を調べた。その結果、発明者らは図３のグラフに示されたように、減圧速度が毎分１０ａｔｍ以下での気泡の発生率は平均１個／ｍ程度、毎分２ａｔｍ以下で気泡は殆ど発生しないことを確認した。また、図３のグラフから、気泡の発生率を平均１０００個／ｍ以下に抑えるためには、最大減圧速度を１２０ａｔｍ／分以下に設定する必要があることも判る。
【００３１】
こうして水素添加処理を経た長尺の光ファイバ素線１５に回折格子の書込みに先立って、図４に示されたように回折格子が書込まれる部位の樹脂層１４を除去する。樹脂層１４を除去することによって回折格子を書込むための紫外線照射を効率的に行うことができ、樹脂層１４の残された部分は光ファイバ１０の機械的強度（特に、引張り強度）を維持するために、該光ファイバ１０の表面と十分に密着した状態（気泡の発生率が１０００個／ｍ以下）で残されている。
【００３２】
次に、水素添加処理された光ファイバ素線１５の樹脂層１４が除去された領域に紫外光による干渉光が照射される。図５は位相格子法による紫外光による干渉光の照射を説明するための図である。光ファイバ１０の所定領域（光ファイバ素線１５のうち、樹脂層１４が取り除かれた領域）に所定波長の紫外光を照射するので、酸化ゲルマニウムが添加されたコア領域１２における露光領域の屈折率が変化する。現在、このような紫外光照射による屈折率変化のメカニズムは、完全には解明されていない。しかしながら、この光誘起による屈折率変化には光ファイバ１０のコア領域１２に通常わずかに存在しているＧｅに関連した酸素欠損型の欠陥が関与しているものと、一般に推定されている。
【００３３】
上述の水素添加処理により水素が添加された光ファイバ１０のコア領域１２では、通常わずかしか存在しない酸素欠損型の欠陥が増大しているので、紫外光の露光領域における屈折率変化が大きくなる。
【００３４】
屈折率変化を誘発するための紫外線は、光源３０から、位相パターンが所定間隔Λ´で配列された位相格子６０の表面の法線方向に対して角度θで照射される。そのため、コア領域１２の露光領域における干渉縞の間隔Λは、
Λ＝Λ´
となる。したがって、コア領域１２の露光領域には、異なる屈折率を有する領域が干渉縞の間隔Λを周期として光ファイバ１０の軸方向（コア領域１２の長手方向）に配列されるので、回折格子１３が形成されることになる。
【００３５】
周知なブラッグの回折条件に基づいてコア領域１２の屈折率ｎと回折格子１３の周期Λとを用い、この回折格子１３の反射波長（ブラッグ波長λ_R）は、

となる。また、回折格子１３の長さＬと光誘起による屈折率の変化量Δｎとを用い、この回折格子１３の反射率Ｒは、
Ｒ＝ｔａｎｈ²（ＬπΔｎ／λ_R）
となる。したがって、光ファイバ１０のコア領域１２では、回折格子１３が１０^-4〜１０^-3程度の大きい屈折率変化で形成されているので、波長λ_Rの光成分に対する反射率Ｒが１００％近い値に達する。また、紫外光干渉縞はホログラフィック法によっても形成することができる。
【００３６】
こうして製造された光ファイバ・グレーティングは、樹脂層１４が取り除かれた領域（回折格子が作り込まれた領域）の表面が、再度樹脂１４０により被覆される（図６参照）。
【００３７】
図６に示された光ファイバ・グレーティングは、以下のようにして反射率Ｒが測定される。図７は、得られた光ファイバ・グレーティングの反射率測定を行う測定システムの構成を示す図である。
【００３８】
図７に示されたように、この測定システムは光源７０、光ファイバ素線１５及び光スペクトルアナライザ９０を光カプラ８０で光結合して構成されている。
【００３９】
光源７０は、通常発光ダイオード等であり、光ファイバ素線１５に作り込まれた回折格子１３の反射波長λ_Rと一致する波長を有する光成分を含む光を出射する。光カプラ８０は、通常の溶融延伸型ファイバカプラであり、光源７０からの入射光を光ファイバ素線１５に出力するとともに光ファイバ素線１５からの反射光を光スペクトルアナライザ９０に出力する。光スペクトルアナライザ９０は、光ファイバ素線１５からの反射光における波長と光強度との関係を検出する。なお、光ファイバ素線１５の開放端は、マッチングオイル１００中に浸されている。このマッチングオイル１００は、通常の屈折率整合液であり、不要な反射光成分を除去している。
【００４０】
図７の測定システムによれば、光源７０から出射された光は、光カプラ８０を介して光ファイバ素線１５に入射する。光ファイバ素線１５では、コア領域１２に形成されている回折格子１３が特定波長の光成分を反射する。光ファイバ素線１５から出射された光は、光カプラ８０を介して光スペクトルアナライザ９０で受光される。光スペクトルアナライザ９０では、反射光の波長と光強度との関係を示す、光ファイバ素線１５の反射スペクトルが検出される。
【００４１】
なお、水素添加処理が施された光ファイバ素線における、光ファイバと樹脂層との密着の程度は、図８に示された測定システムを用いて、該光ファイバ表面と樹脂層との界面に存在する気泡（剥離は含まず）の数をカウントすることにより測定した。
【００４２】
すなわち、図８の測定システムは、観察容器１１０を挟むように配置された光源（Ｈｅ−Ｎｅレーザ）５００とＣＣＤセンサ４００を備える。測定対象である光ファイバ素線１１３（水素添加処理が既に施されている）の長さは１ｍであって、マッチングオイル１１２が既に充填された観察容器１１０中にセットされる。さらに、この測定システムは、上記光源５００及びＣＣＤセンサ４００を観察容器１１０の長手方向（図中の矢印Ａ、Ｂで示された方向）に沿って、それぞれ移動させるための駆動系３００と、該光源５００、駆動系３００を制御するとともに、ＣＣＤセンサ４００により得られた画像データ（電気信号）を取り込み、当該測定対象１１３中に発生している気泡をカウントする主制御部２００とを備える。なお、主制御部２００は、ＣＣＤセンサ４００から入力された電気信号に基づいて輝度情報を得るための画像処理部２１０を有し、該画像処理部２１０は該ＣＣＤセンサ４００の撮像領域内で輝度が変化している部位（気泡）の個数をカウントするためのカウンタ２２０を有している。
【００４３】
特に、セットされた光ファイバ素線１１３の樹脂層と光ファイバ表面との間に気泡（引張り強度に影響を与える程度の大きさを有する間隙）が存在する場合には、係る間隙が存在する部位で散乱光が強くなる。したがって、ＣＣＤセンサ４００は光源５００から出射され測定対象１１３を透過したレーザビーム（測定対象１１３の像）を受光することにより、主制御部２００の画像処理部２１０は得られたＣＣＤ画像中から輝度の違いを正確に認識することができる。
【００４４】
なお、図３のグラフ中の縦軸は、各減圧条件ごとに、用意された２０本の光ファイバ・グレーティング（１ｍ）中に発生している気泡（カウント対象）の数を、図８の測定システムで測定した平均値である。また、剥離（径方向の厚みが１μｍ以上で最大長が１０ｍｍ以上の間隙）は、図８の測定システムにおけるカウント対象からは除外されている。
【００４５】
【実施例１】
直径１２５μｍの石英系光ファイバの上に紫外線硬化樹脂が被覆された直径２５０μｍ、長さ１００ｍの光ファイバ素線を用意する。そして、係る光ファイバ素線を温度２５℃に保持された圧力容器２０内に入れ、既に容器２０内に導入された水素ガス（濃度９９％以上）の圧力を２４０ａｔｍに維持して状態で、１週間該水素ガス中に放置した。その後、毎分４ａｔｍの減圧速度で水素ガスの圧力が外部気圧まで下げ、圧力容器２０を開放して、水素処理が施された光ファイバ素線を取出した。取出された光ファイバ素線の被覆を除去してガラスファイバ（光ファイバ）についての引張強度試験を行ったところ、４．０ＧＰａであった。
【００４６】
さらに、発明者らは、この光ファイバ（光ファイバ素線の樹脂が除去された領域）のコア領域に回折格子を作り込み、その強度を調べたが、実用上問題のないことを確認した。
【００４７】
（比較例１）
上述の実施例１と同一の手順によって樹脂被覆していないガラスファイバの水素添加処理を行った。圧力容器２０からガラスファイバを取出し、引張強度試験を行ったところ、０．５ＧＰａであった。ガラスファイバが長時間空気中に晒されたためにその表面が劣化し、強度が低下したものと考えられる。
【００４８】
【実施例２】
上述の実施例２で水素が添加された光ファイバ素線を図８の測定システムで調査したところ、どこにも気泡等は見つからなかった。圧力容器２０内の水素ガスの圧力を徐々に降下させたので、ガラスファイバ（光ファイバ）及び被覆樹脂（樹脂層）に含まれていた水素ガスは容器２０内に拡散したものと考えられる。発明者らは、この光ファイバを用いてコア領域中に回折格子を作成し、その強度を調べたが、実用上問題のないことを確認した。また、光ファイバ素線について引張強度試験を行ったところ、ほぼ４．８ＧＰａであった。
【００４９】
【実施例３】
上述の実施例１と同一の光ファイバ素線を用い、かつ同様の手順によってガラスファイバ（光ファイバ）の水素添加処理を行った。ただし、この実施例３では減圧速度を毎分１００ａｔｍとした。圧力容器２０から光ファイバ素線を取出し、図８の測定システムで調査したところ、１ｍ当たり５０〜３００個の気泡が発見された。この光ファイバ素線の引張り強度を調べたところ、ほぼ２．４ＧＰａであった。このことから、減圧速度が１２０ａｔｍ／分以下（少なくとも２〜１００ａｔｍ／分）の条件で、所望の引張り強度が得られることが判る。
【００５０】
（比較例２）
上述の実施例１と同一の光ファイバ素線を用い、かつ同様の手順によってガラスファイバ（光ファイバ）の水素添加処理を行った。ただし、この比較例２では減圧速度を毎分２００ａｔｍとした。圧力容器２０から光ファイバ素線を取出し、図８の測定システムで調査したところ、１ｍ当たり１５００〜２０００個の気泡が発見された。この光ファイバ素線の引張り強度を調べたところ、ほぼ２．０ＧＰａであった。しかしながら、この比較例２のサンプルについて、２４０日間、８５℃の温水に浸して劣化試験を行ったところ、その引張り強度が０．６ＧＰａまで低下することを確認した。なお、当該光ファイバ・グレーティングのようなファイバ型光部品には、０．８ＧＰａ以上の引張り強度が要求される。この引張り強度は経時的な強度劣化も含め、長期に渡って保障されなければならない。
【００５１】
以上の説明からも分るように、この発明に係る製造方法により得られた光ファイバ・グレーティングでは、製造誤差や得られる光ファイバ・グレーティングの実用上支障のない引張り強度等を考慮すると、１ｍの基準長当たりに発生する気泡の数（剥離と気泡が混在している状態を含む）は、１０００個以下（減圧速度は１２０ａｔｍ／分以下）である必要がある。
【００５２】
【発明の効果】
この発明は以上のように、樹脂で被覆された状態の光ファイバ（光ファイバ素線）に対して水素の添加処理を行うので、ガラスファイバが直接空気と接触することがなく、光ファイバの強度（特に、引張り強度）を維持することができる。
【００５３】
また、この発明によれば、光ファイバ素線を高圧状態で一定時間水素添加処理を行った後、外部気圧（例えば常圧）まで徐々に水素ガスの圧力を降下させるので、ガラスファイバおよび被覆樹脂（樹脂層）の中に圧入された水素が急速に膨張することがなく、徐々に外部へ拡散する。したがって、ガラスファイバの表面に気泡が発生したり、あるいは樹脂層との間で剥離を起こすことがない。
【００５４】
さらに、以上の製造方法により製造された光ファイバ・グレーティングは、気泡及び／又は剥離が存在している場合であっても、所望の強度が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る光ファイバ・グレーティングの製造方法を実施するための加圧装置の概略構造を示す図である。
【図２】光ファイバ素線の構造を示す図である。
【図３】この発明に係る光ファイバ・グレーティングの製造方法における水素添加処理後の減圧速度（ａｔｍ／分）と気泡発生率との関係素示すグラフである。
【図４】この発明に係る光ファイバ・グレーティングの製造方法に用いられる光ファイバ素線（樹脂層の一部が除去されている）を示す図である。
【図５】この発明に係る光ファイバ・グレーティングの製造方法における回折格子の書込み工程（位相格子法）を説明するための図である。
【図６】この発明に係る光ファイバ・グレーティングの製造方法により製造された光ファイバ・グレーティングの構造を示す断面図である。
【図７】光ファイバ・グレーティングの反射率を測定するための測定システムの構成を示す図である。
【図８】光ファイバ・グレーティング中に発生する気泡の数を測定するための測定システムの構成を示す図である。
【符号の説明】
１０・・・光ファイバ、１１・・・クラッド部、１２・・・コア部、１３・・・回折格子、１４・・・樹脂層、１５・・・光ファイバ素線、２０・・・圧力容器、２１、２２・・・バルブ、２３・・・温度調節器、６０・・・位相格子、３０、７０・・・光源、８０・・・光カプラ、９０・・・光スペクトルアナライザ、１００・・・マッチングオイル。

Claims

所定の屈折率を有するコア領域と、該コア領域の外周に設けられかつ該コア領域よりも低い屈折率を有するクラッド領域からなる光ファイバと、該光ファイバの外周を被覆する樹脂とを備えた光ファイバ素線を用意し、該光ファイバ素線を所定加圧状態の水素を含む雰囲気中に所定時間晒すことにより、該光ファイバ素線中に水素を添加する第１工程と、
前記第１工程において水素が添加された光ファイバ素線の前記樹脂の一部を除去し、前記光ファイバの所定部位の表面を露出させる第２工程と、そして、
前記第２工程において樹脂が除去されて露出された光ファイバの所定領域に対して紫外線を照射し、該露出された光ファイバの所定部位におけるコア領域の屈折率を、該コア領域の長手方向に沿って変化させる第３工程とを備えた光ファイバ・グレーティングの製造方法において、
前記第１工程と第２工程との間に設けられた工程であって、前記水素を含む雰囲気の圧力を、１２０ａｔｍ／分以下の最大降圧速度の状態で減圧していく第４工程をさらに備えたことを特徴とする光ファイバ・グレーティングの製造方法。
前記第１工程における加圧状態における前記水素を含む雰囲気の圧力は、１００〜３００ａｔｍであり、雰囲気温度は１００℃以下であることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ・グレーティングの製造方法。
前記第４工程において、前記所定加圧状態の水素を含む雰囲気の圧力を低下させる際の最大降圧速度は、２〜１０ａｔｍ／分であることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ・グレーティングの製造方法。
前記光ファイバの外周を被覆する樹脂は、紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光ファイバ・グレーティングの製造方法。
請求項１記載の製造方法により製造された光ファイバ・グレーティングであって、
前記第２工程において残された樹脂と前記光ファイバの外周面は、１ｍの基準長当たり、該残された樹脂と該光ファイバの外周面との界面に存在する、径方向の厚みが１μｍ〜２０μｍかつその最大長が１μｍ〜１０ｍｍの気泡が１０００個以下となる程度に密着していることを特徴とする光ファイバ・グレーティング。