JP3728293B2 - 一体型横結合伝送線路素子 - Google Patents
一体型横結合伝送線路素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3728293B2 JP3728293B2 JP2002560227A JP2002560227A JP3728293B2 JP 3728293 B2 JP3728293 B2 JP 3728293B2 JP 2002560227 A JP2002560227 A JP 2002560227A JP 2002560227 A JP2002560227 A JP 2002560227A JP 3728293 B2 JP3728293 B2 JP 3728293B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transmission line
- metal layer
- segment
- segments
- line element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P5/00—Coupling devices of the waveguide type
- H01P5/12—Coupling devices having more than two ports
- H01P5/16—Conjugate devices, i.e. devices having at least one port decoupled from one other port
- H01P5/18—Conjugate devices, i.e. devices having at least one port decoupled from one other port consisting of two coupled guides, e.g. directional couplers
- H01P5/184—Conjugate devices, i.e. devices having at least one port decoupled from one other port consisting of two coupled guides, e.g. directional couplers the guides being strip lines or microstrips
- H01P5/187—Broadside coupled lines
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P5/00—Coupling devices of the waveguide type
- H01P5/08—Coupling devices of the waveguide type for linking dissimilar lines or devices
- H01P5/10—Coupling devices of the waveguide type for linking dissimilar lines or devices for coupling balanced with unbalanced lines or devices
Landscapes
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
【0001】
【発明の分野】
この発明はインピーダンス変成素子、とくに一体型横結合伝送線路素子に関する。
【0002】
【発明の背景】
結合型伝送線路素子を構成するのに撚り銅線対を用いることは周知である。それらの伝送線路素子をバラン、すなわち平衡不平衡変成器並びに電流インバータおよび電圧インバータの構成に用いることができる。慣用の伝送線路素子の利用例はProceedings of the IRE誌 Vol.47 pp.1337-1342 (1959年8月)所載の C.L.Ruthroff著「広帯域変成器」に記載してあり、この文献をここに参照してこの明細書に組み入れる。それらの伝送線路素子は通常UHF帯に至る周波数帯で使える構成を備える。
【0003】
RF電力増幅器や高周波用低雑音増幅器などの集積回路にはこの種の伝送線路素子の利用が望ましい。しかし、セルラー電話などのRF装置にこれら慣用の伝送線路素子などのチップ外付け部品を組み入れることは、大きさとコストの面で他のアプローチよりも劣る。また、慣用の結合型伝送線路素子は所望の周波数範囲で用いるには不向きである。
【0004】
【発明の概要】
したがって、上記従来技術の欠点に対処した結合型伝送線路素子が必要になっている。より詳細に述べると、一体化した横結合伝送線路素子が必要になっている。
【0005】
そこで、新規の横結合伝送線路素子を開示する。一つの実施例では、この素子は、内蔵の第1の渦巻状伝送線路と少なくとも一つのブリッジセグメントとを有する第1のメタライズ層を含む。また、この素子は内蔵の第2の渦巻状伝送線路とコネクタセグメントとを有する第2のメタライズ層を含む。これらコネクタセグメントは上記第1および第2の伝送線路の内側領域とそれら第1および第2の伝送線路の外側領域との間の導通経路をそれぞれ形成する。これらコネクタセグメントの一方は第2の伝送線路の内側終端に電気的に接続してある。第2の伝送線路はコネクタとの交差点で空隙を備える。第1および第2のメタライズ層の間には誘電体層を設ける。それら誘電体層には、第2の伝送線路と第1のメタライズ層のブリッジセグメントとの間の電気的接続、および第1の伝送線路の内側終端とコネクタセグメントの他方との間の電気的接続を形成するための複数の孔が設けてある。
【0006】
この発明の利点は集積回路の形で結合型伝送線路素子を実現できることである。この発明のもう一つの利点は、バランすなわち平衡不平衡変成器、電力分割器、コンバイナ、方向性結合器、電流インバータおよび電圧インバータなど多様な回路素子の形成に利用できることである。この発明のさらにもう一つの利点は、従来の非集積結合型伝送線路素子よりも高い信号周波数で使用できることである。
【0007】
【好ましい実施例の詳細な説明】
図1乃至図12を参照することによってこの発明の好ましい実施例およびそれらの利点が最もよく理解されよう。なお、図面を通じて同じ参照数字は同じまたは対応の構成要素を示す。
【0008】
図1を参照すると、方形渦巻状横結合伝送線路素子10の平面図が示してある。素子10においては、上側伝送線路12が上側メタライズ層の主要部を占める。下側伝送線路14が上記上側メタライズ層の下の下側メタライズ層の主要部を占める。これら上側および下側メタライズ層は誘電体層(図1には示してない)によって分離する。伝送線路12および14は外側終端12aおよび14aをそれぞれ備える。これら外側終端12aおよび14aから内側終端12bおよび14bに向けて渦巻状の線路をそれぞれ形成する。
【0009】
内側終端12bおよび14bにおいて伝送線路12および14はコネクタ16および18に電気的にそれぞれ接続してある。一つの実施例では、コネクタ16および18は下側メタライズ層に設ける。これらコネクタ16および18はそれぞれ内側終端12bおよび14bとそれ以外の接続端子との間を接続するのに用いる。
【0010】
渦巻状素子10のループの各々で伝導線路12および14はコネクタ16および18とクロスオーバーを形成する必要がある。もう一つのメタライズ層を形成することなくこの必要を満たすために伝送線路14のブリッジセグメント14cはクロスオーバー領域20で上側伝送線路12とメタライズ層内スペースを共有する。
【0011】
この素子10の伝送線路を「横結合」と呼ぶ。伝送線路が垂直方向に位置合わせされていて、導体間の伝送線路結合を生じやすくしているからである。同一メタライズ層内の導体ループ相互間で沿端結合など上記以外の効果が観測されるのはもちろんである。しかし、伝送線路12および14の形状のために、伝送線路結合をそれ以外の不都合な効果よりも優勢にすることができる。
【0012】
素子10は方形渦巻状以外の多様な形にすることができる。例えば、クロスオーバー領域20などのクロスオーバー領域を必要としない「曲折」型を用いることもできる。しかし、曲折型は沿縁効果を生じやすく、そのために導体間伝送線路結合が弱められる。
【0013】
図2を参照すると、クロスオーバー領域20の斜視図が示してある。伝送線路12およびブリッジセグメント14cが上側メタライズ層を占め、コネクタ16および18が下側メタライズ層を占める。誘電体層(図示してない)でこれら二つのメタライズ層を互いに分離する。
【0014】
素子10の作成方法を諸工程における素子10の平面図である図3A乃至3Cに示す。図3Aを参照すると、下側メタライズ層22のパターンが示してある。メタライズ層22は、例えばアルミニウム、金、またはそれら以外の導体材料の層で構成できる。メタライズ層22を基板24により堆積させ、慣用の半導体製造技術により伝送線路14並びにコネクタ16および18を形成するように光リソグラフィでパターニングする。基板24はガリウム砒素、シリコンその他の慣用の基板材料で構成する。
【0015】
図3Bを参照すると、誘電体層26をメタライズ層22および基板を覆って堆積してある。誘電体26は、例えば、ビスベンゾチクロブテン(BCB)、シリコンの窒化物または酸化物その他の絶縁体層で構成できる。誘電体層26は慣用技術で堆積できる。慣用のフォトリソグラフィ技術によりバイアホール28をメタライズ層間接続のために図示の位置に形成する。
【0016】
図3Cを参照すると、上側メタライズ層30を誘電体層26の上に形成してある。メタライズ層30は例えばアルミニウム、金、その他の導電材料の層で構成できる。メタライズ層30を誘電体層26上に堆積し、慣用の半導体製造技術により伝送線路12と伝送線路14のブリッジセグメントとを形成するようにフォトリソグラフィにより形状画定する。メタライズ層堆積の期間中にメタライズ層30が誘電体層26のバイアホールを充填し、メタライズ層22への電気的接続を形成する。
【0017】
素子10の寸法は、伝送線路12および14の各々の全体の長さが信号の波長の八分の一とほぼ等しいかそれ以下になるようにするのが好ましい。伝送線路長の下限はデバイス特性によって変わるが、伝送線路結合によってほぼ定まる。一般に、当業者に周知のとおり、接地電位すなわち「共通端子」に対して伝送線路間の所望の「奇数モード」または差動結合が不要な「偶数モード」または「共通モード」信号伝搬よりも優勢になるのが好ましい。
【0018】
一つの実施例では、1GHz乃至5GHzの周波数領域の信号を素子10で伝達する。その実施例では、伝送線路12および14の各々を幅15ミクロン、厚さ5ミクロン、全体の長さ4ミリメートルとする。伝送線路12および14を厚さ1.5ミクロンの誘電体層で分離する。
【0019】
この渦巻状素子10は、銅撚り線対などの慣用の結合型伝送線路を用いて構成する周知の回路デバイスの製造に利用できる。例えば、この渦巻状素子10を、バランすなわち平衡不平衡変成器、並びに電流インバータおよび電圧インバータの製造に利用できる。
【0020】
これら回路デバイスの種々の例を図4乃至図12に示す。これら図面において結合型伝送線路は並列配置のインダクタで表示してある。これらの図において、各伝送線路の外側終端は例えば各図の左側に示し、各伝送線路の内側終端は各図の右側に示してある。各伝送線路の外側終端を図の右側に表示し各伝送線路の内側終端を各図の左側に表示した逆配置の構成も同様に実現可能であることも理解されよう。
【0021】
図4乃至図12において、上側および下側のインダクタは上図の上側伝送線路12および下側伝送線路14をそれぞれ示す。これと逆の配置も可能であることはもちろんである。図1に示したような横結合伝送線路素子を二つ以上備える場合もある。
【0022】
図4乃至図12において、「平衡」または「不平衡」回路素子または導体組を回路デバイス(例えば、変成器またはバラン)の左右両側の各々に接続してある。不平衡素子は、例えば同軸ケーブルで構成し、一つのデバイス端子をそのケーブルの中心導体に接続しもう一つのデバイス端子をそのケーブルの外側遮へい(接地)導体に接続するようにすることもできる。平衡素子は例えば撚り銅線対で構成できる。上記以外の平衡回路素子および不平衡回路素子を利用できることはもちろんである。
【0023】
上述の説明から図4乃至図12の構成は自明であろう。図4を参照すると、上述の基本伝送線路素子が示してある。図5にはバランが示してある。図6には電圧インバータの構成が示してある。図7には電流インバータの構成が示してある。図8にはもう一つのバランの構成が示してある。図9には4:1不平衡変成器が示してある。図10には4:1平衡変成器が示してある。図11には9:1不平衡変成器が示してある。図12はもう一つの9:1不平衡変成器の構成が示してある。これら構成の各々は、渦巻状素子10などの渦巻状素子1個またはそれ以上を用いて製造できる。これら素子の上記以外の変形および組合せは当業者に容易に推考されよう。
【0024】
この発明およびその利点を上に詳述してきたが、特許請求の範囲の欄の各請求項に記載した発明の真意および範囲を逸脱することなくこの発明に多様な変更、置換および代替が可能であることを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図1】方形渦巻状横結合伝送線路素子の平面図。
【図2】この伝送線路素子のクロスオーバー領域の斜視図。
【図3A】一つの製造工程におけるこの伝送線路素子の平面図。
【図3B】もう一つの製造工程におけるこの伝送線路素子の平面図。
【図3C】さらにもう一つの製造工程におけるこの伝送線路素子の平面図。
【図4】この発明により設計した伝送線路素子の概略図。
【図5】この伝送線路素子を用いたバランの概略的回路図。
【図6】この伝送線路素子を用いた電圧インバータの概略的回路図。
【図7】この伝送線路素子を用いた電流インバータの概略的回路図。
【図8】この伝送線路素子を用いた第2のバランの概略的回路図。
【図9】この伝送線路素子を用いた4:1不平衡変成器の概略的回路図。
【図10】この伝送線路素子を用いた4:1平衡変成器の概略的回路図。
【図11】この伝送線路素子を用いた9:1不平衡変成器の概略的回路図。
【図12】この伝送線路素子を用いたもう一つの9:1不平衡変成器の概略的回路図。
【符号の説明】
10 方形渦巻状横結合伝送線路素子
12 上側伝送線路
14 下側伝送線路
16、18 コネクタ
20 クロスオーバー領域
22、30 メタライズ層
24 基板
26 誘電体層
28 バイアホール
【発明の分野】
この発明はインピーダンス変成素子、とくに一体型横結合伝送線路素子に関する。
【0002】
【発明の背景】
結合型伝送線路素子を構成するのに撚り銅線対を用いることは周知である。それらの伝送線路素子をバラン、すなわち平衡不平衡変成器並びに電流インバータおよび電圧インバータの構成に用いることができる。慣用の伝送線路素子の利用例はProceedings of the IRE誌 Vol.47 pp.1337-1342 (1959年8月)所載の C.L.Ruthroff著「広帯域変成器」に記載してあり、この文献をここに参照してこの明細書に組み入れる。それらの伝送線路素子は通常UHF帯に至る周波数帯で使える構成を備える。
【0003】
RF電力増幅器や高周波用低雑音増幅器などの集積回路にはこの種の伝送線路素子の利用が望ましい。しかし、セルラー電話などのRF装置にこれら慣用の伝送線路素子などのチップ外付け部品を組み入れることは、大きさとコストの面で他のアプローチよりも劣る。また、慣用の結合型伝送線路素子は所望の周波数範囲で用いるには不向きである。
【0004】
【発明の概要】
したがって、上記従来技術の欠点に対処した結合型伝送線路素子が必要になっている。より詳細に述べると、一体化した横結合伝送線路素子が必要になっている。
【0005】
そこで、新規の横結合伝送線路素子を開示する。一つの実施例では、この素子は、内蔵の第1の渦巻状伝送線路と少なくとも一つのブリッジセグメントとを有する第1のメタライズ層を含む。また、この素子は内蔵の第2の渦巻状伝送線路とコネクタセグメントとを有する第2のメタライズ層を含む。これらコネクタセグメントは上記第1および第2の伝送線路の内側領域とそれら第1および第2の伝送線路の外側領域との間の導通経路をそれぞれ形成する。これらコネクタセグメントの一方は第2の伝送線路の内側終端に電気的に接続してある。第2の伝送線路はコネクタとの交差点で空隙を備える。第1および第2のメタライズ層の間には誘電体層を設ける。それら誘電体層には、第2の伝送線路と第1のメタライズ層のブリッジセグメントとの間の電気的接続、および第1の伝送線路の内側終端とコネクタセグメントの他方との間の電気的接続を形成するための複数の孔が設けてある。
【0006】
この発明の利点は集積回路の形で結合型伝送線路素子を実現できることである。この発明のもう一つの利点は、バランすなわち平衡不平衡変成器、電力分割器、コンバイナ、方向性結合器、電流インバータおよび電圧インバータなど多様な回路素子の形成に利用できることである。この発明のさらにもう一つの利点は、従来の非集積結合型伝送線路素子よりも高い信号周波数で使用できることである。
【0007】
【好ましい実施例の詳細な説明】
図1乃至図12を参照することによってこの発明の好ましい実施例およびそれらの利点が最もよく理解されよう。なお、図面を通じて同じ参照数字は同じまたは対応の構成要素を示す。
【0008】
図1を参照すると、方形渦巻状横結合伝送線路素子10の平面図が示してある。素子10においては、上側伝送線路12が上側メタライズ層の主要部を占める。下側伝送線路14が上記上側メタライズ層の下の下側メタライズ層の主要部を占める。これら上側および下側メタライズ層は誘電体層(図1には示してない)によって分離する。伝送線路12および14は外側終端12aおよび14aをそれぞれ備える。これら外側終端12aおよび14aから内側終端12bおよび14bに向けて渦巻状の線路をそれぞれ形成する。
【0009】
内側終端12bおよび14bにおいて伝送線路12および14はコネクタ16および18に電気的にそれぞれ接続してある。一つの実施例では、コネクタ16および18は下側メタライズ層に設ける。これらコネクタ16および18はそれぞれ内側終端12bおよび14bとそれ以外の接続端子との間を接続するのに用いる。
【0010】
渦巻状素子10のループの各々で伝導線路12および14はコネクタ16および18とクロスオーバーを形成する必要がある。もう一つのメタライズ層を形成することなくこの必要を満たすために伝送線路14のブリッジセグメント14cはクロスオーバー領域20で上側伝送線路12とメタライズ層内スペースを共有する。
【0011】
この素子10の伝送線路を「横結合」と呼ぶ。伝送線路が垂直方向に位置合わせされていて、導体間の伝送線路結合を生じやすくしているからである。同一メタライズ層内の導体ループ相互間で沿端結合など上記以外の効果が観測されるのはもちろんである。しかし、伝送線路12および14の形状のために、伝送線路結合をそれ以外の不都合な効果よりも優勢にすることができる。
【0012】
素子10は方形渦巻状以外の多様な形にすることができる。例えば、クロスオーバー領域20などのクロスオーバー領域を必要としない「曲折」型を用いることもできる。しかし、曲折型は沿縁効果を生じやすく、そのために導体間伝送線路結合が弱められる。
【0013】
図2を参照すると、クロスオーバー領域20の斜視図が示してある。伝送線路12およびブリッジセグメント14cが上側メタライズ層を占め、コネクタ16および18が下側メタライズ層を占める。誘電体層(図示してない)でこれら二つのメタライズ層を互いに分離する。
【0014】
素子10の作成方法を諸工程における素子10の平面図である図3A乃至3Cに示す。図3Aを参照すると、下側メタライズ層22のパターンが示してある。メタライズ層22は、例えばアルミニウム、金、またはそれら以外の導体材料の層で構成できる。メタライズ層22を基板24により堆積させ、慣用の半導体製造技術により伝送線路14並びにコネクタ16および18を形成するように光リソグラフィでパターニングする。基板24はガリウム砒素、シリコンその他の慣用の基板材料で構成する。
【0015】
図3Bを参照すると、誘電体層26をメタライズ層22および基板を覆って堆積してある。誘電体26は、例えば、ビスベンゾチクロブテン(BCB)、シリコンの窒化物または酸化物その他の絶縁体層で構成できる。誘電体層26は慣用技術で堆積できる。慣用のフォトリソグラフィ技術によりバイアホール28をメタライズ層間接続のために図示の位置に形成する。
【0016】
図3Cを参照すると、上側メタライズ層30を誘電体層26の上に形成してある。メタライズ層30は例えばアルミニウム、金、その他の導電材料の層で構成できる。メタライズ層30を誘電体層26上に堆積し、慣用の半導体製造技術により伝送線路12と伝送線路14のブリッジセグメントとを形成するようにフォトリソグラフィにより形状画定する。メタライズ層堆積の期間中にメタライズ層30が誘電体層26のバイアホールを充填し、メタライズ層22への電気的接続を形成する。
【0017】
素子10の寸法は、伝送線路12および14の各々の全体の長さが信号の波長の八分の一とほぼ等しいかそれ以下になるようにするのが好ましい。伝送線路長の下限はデバイス特性によって変わるが、伝送線路結合によってほぼ定まる。一般に、当業者に周知のとおり、接地電位すなわち「共通端子」に対して伝送線路間の所望の「奇数モード」または差動結合が不要な「偶数モード」または「共通モード」信号伝搬よりも優勢になるのが好ましい。
【0018】
一つの実施例では、1GHz乃至5GHzの周波数領域の信号を素子10で伝達する。その実施例では、伝送線路12および14の各々を幅15ミクロン、厚さ5ミクロン、全体の長さ4ミリメートルとする。伝送線路12および14を厚さ1.5ミクロンの誘電体層で分離する。
【0019】
この渦巻状素子10は、銅撚り線対などの慣用の結合型伝送線路を用いて構成する周知の回路デバイスの製造に利用できる。例えば、この渦巻状素子10を、バランすなわち平衡不平衡変成器、並びに電流インバータおよび電圧インバータの製造に利用できる。
【0020】
これら回路デバイスの種々の例を図4乃至図12に示す。これら図面において結合型伝送線路は並列配置のインダクタで表示してある。これらの図において、各伝送線路の外側終端は例えば各図の左側に示し、各伝送線路の内側終端は各図の右側に示してある。各伝送線路の外側終端を図の右側に表示し各伝送線路の内側終端を各図の左側に表示した逆配置の構成も同様に実現可能であることも理解されよう。
【0021】
図4乃至図12において、上側および下側のインダクタは上図の上側伝送線路12および下側伝送線路14をそれぞれ示す。これと逆の配置も可能であることはもちろんである。図1に示したような横結合伝送線路素子を二つ以上備える場合もある。
【0022】
図4乃至図12において、「平衡」または「不平衡」回路素子または導体組を回路デバイス(例えば、変成器またはバラン)の左右両側の各々に接続してある。不平衡素子は、例えば同軸ケーブルで構成し、一つのデバイス端子をそのケーブルの中心導体に接続しもう一つのデバイス端子をそのケーブルの外側遮へい(接地)導体に接続するようにすることもできる。平衡素子は例えば撚り銅線対で構成できる。上記以外の平衡回路素子および不平衡回路素子を利用できることはもちろんである。
【0023】
上述の説明から図4乃至図12の構成は自明であろう。図4を参照すると、上述の基本伝送線路素子が示してある。図5にはバランが示してある。図6には電圧インバータの構成が示してある。図7には電流インバータの構成が示してある。図8にはもう一つのバランの構成が示してある。図9には4:1不平衡変成器が示してある。図10には4:1平衡変成器が示してある。図11には9:1不平衡変成器が示してある。図12はもう一つの9:1不平衡変成器の構成が示してある。これら構成の各々は、渦巻状素子10などの渦巻状素子1個またはそれ以上を用いて製造できる。これら素子の上記以外の変形および組合せは当業者に容易に推考されよう。
【0024】
この発明およびその利点を上に詳述してきたが、特許請求の範囲の欄の各請求項に記載した発明の真意および範囲を逸脱することなくこの発明に多様な変更、置換および代替が可能であることを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図1】方形渦巻状横結合伝送線路素子の平面図。
【図2】この伝送線路素子のクロスオーバー領域の斜視図。
【図3A】一つの製造工程におけるこの伝送線路素子の平面図。
【図3B】もう一つの製造工程におけるこの伝送線路素子の平面図。
【図3C】さらにもう一つの製造工程におけるこの伝送線路素子の平面図。
【図4】この発明により設計した伝送線路素子の概略図。
【図5】この伝送線路素子を用いたバランの概略的回路図。
【図6】この伝送線路素子を用いた電圧インバータの概略的回路図。
【図7】この伝送線路素子を用いた電流インバータの概略的回路図。
【図8】この伝送線路素子を用いた第2のバランの概略的回路図。
【図9】この伝送線路素子を用いた4:1不平衡変成器の概略的回路図。
【図10】この伝送線路素子を用いた4:1平衡変成器の概略的回路図。
【図11】この伝送線路素子を用いた9:1不平衡変成器の概略的回路図。
【図12】この伝送線路素子を用いたもう一つの9:1不平衡変成器の概略的回路図。
【符号の説明】
10 方形渦巻状横結合伝送線路素子
12 上側伝送線路
14 下側伝送線路
16、18 コネクタ
20 クロスオーバー領域
22、30 メタライズ層
24 基板
26 誘電体層
28 バイアホール
Claims (13)
- 第1の金属層に区画され内側終端から外側に向かって複数のセグメントおよび渦巻き部分を有する第1の導電性伝送線路と、
前記第1の金属層を覆って形成した誘電体と、
第2の金属層に区画され、前記誘電体を覆って形成され、内側終端から外側に向かって渦巻き部分を形成するとともに、前記第1の伝送線路を覆って配置してある第2の導電性伝送線路と、
前記第2の金属層に区画され、前記第1の伝送線路の第1および第2のセグメントの間の電気的接続を形成するブリッジセグメントと、
前記第1の金属層に区画され、前記第1の伝送線路の前記内側終端から前記ブリッジセグメントの下で前記第1の伝送線路の前記第1および第2のセグメントの間で延びる第1のコネクタセグメントと
を含む伝送線路素子。 - 前記第1の金属層に区画され、前記第2の伝送線路の前記内側終端に電気的に接続され、前記ブリッジセグメントの下で前記第1の伝送線路の前記第1および第2のセグメントの間で延びる第2のコネクタセグメントをさらに含む請求項1記載の伝送線路素子。
- 前記第2のコネクタセグメントと前記第1の伝送線路の外側終端との間の電気的接続をさらに含む請求項2記載の伝送線路素子。
- 前記第1のコネクタセグメントと前記第2の伝送線路の外側終端との間の電気的接続をさらに含む請求項1記載の伝送線路素子。
- 前記第1の伝送線路が外側終端を含み、前記第2の伝送線路が外側終端を含み、前記内側終端または外側終端の少なくとも一方を接地電位に接続した請求項1記載の伝送線路素子。
- 前記第2の伝送線路の長さが前記伝送線路素子の受ける信号の波長の八分の一にほぼ等しいかそれよりも小さい請求項1記載の伝送線路素子。
- 前記第1の伝送線路および前記第2の伝送線路の各々が、前記線路素子が電気回路の中で平衡不平衡変成器、電圧インバータ、電流インバータまたは変成器として機能するように電気的に接続されている請求項1記載の伝送線路素子。
- 伝送線路素子を形成する方法であって、
内側終端から外側に向かって複数のセグメントおよび渦巻状部分を有する第1の導電性伝送線路を第1の金属層に形成する過程と、
前記第1の金属層を覆って誘電体を形成する過程と、
第2の金属層に前記誘電体を覆って第2の導電性伝送線路、すなわち内側終端から外側に渦巻状部分を有し前記第1の伝送線を覆って配置される第2の導電性伝送線路を区画する過程と、
前記第2の金属層にブリッジセグメント、すなわち前記第1の伝送線路の第1および第2のセグメントの間の電気的接続を構成するブリッジセグメントを区画する過程と、
前記第1の金属層に第1のコネクタセグメント、すなわち前記第1の伝送線路の前記内側終端から前記ブリッジセグメントの下を前記第1の伝送線路の前記第1および第2のセグメントの間で延びる第1のコネクタセグメントを区画する過程と
を含む方法。 - 前記第1の金属層に第2のコネクタセグメント、すなわち前記ブリッジセグメントの下を前記第1の伝送線路の前記第1および第2のセグメントの間で延びる第2のコネクタセグメントを区画する過程と、
前記第2のコネクタセグメントを前記第2の伝送線路の前記内側終端に電気的に接続する過程と
をさらに含む請求項8記載の方法。 - 前記第2のコネクタセグメントと前記第1の伝送線路の外側終端との間に電気的接続を形成する過程をさらに含む請求項9記載の方法。
- 前記第1のコネクタセグメントと前記第2の伝送線路の外側終端との間に電気的接続を形成する過程をさらに含む請求項8記載の方法。
- 前記伝送線路素子が電気回路の中で平衡不平衡変成器、電圧インバータ、電流インバータまたは変成器として機能するように前記第1の伝送線路および前記第2の伝送線路を接続する過程をさらに含む請求項8記載の方法。
- 前記伝送線路素子の受ける信号の波長の八分の一にほぼ等しいかそれよりも小さい長さに前記第2の伝送線路を形成する過程をさらに含む請求項8記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/768,865 US6407647B1 (en) | 2001-01-23 | 2001-01-23 | Integrated broadside coupled transmission line element |
PCT/US2002/001529 WO2002060002A1 (en) | 2001-01-23 | 2002-01-16 | Integrated broadside coupled transmission line element |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004518363A JP2004518363A (ja) | 2004-06-17 |
JP2004518363A5 JP2004518363A5 (ja) | 2005-02-03 |
JP3728293B2 true JP3728293B2 (ja) | 2005-12-21 |
Family
ID=25083713
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002560227A Expired - Fee Related JP3728293B2 (ja) | 2001-01-23 | 2002-01-16 | 一体型横結合伝送線路素子 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6407647B1 (ja) |
EP (1) | EP1354371A1 (ja) |
JP (1) | JP3728293B2 (ja) |
KR (1) | KR100562966B1 (ja) |
CN (1) | CN1455968A (ja) |
CA (1) | CA2403046A1 (ja) |
IL (1) | IL151718A0 (ja) |
TW (1) | TW513825B (ja) |
WO (1) | WO2002060002A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10911016B2 (en) | 2019-01-08 | 2021-02-02 | Analog Devices, Inc. | Wideband balun |
US11101227B2 (en) | 2019-07-17 | 2021-08-24 | Analog Devices International Unlimited Company | Coupled line structures for wideband applications |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6937128B2 (en) * | 2002-02-12 | 2005-08-30 | Broadcom Corp. | On-chip inductor having a square geometry and high Q factor and method of manufacture thereof |
US6806558B2 (en) * | 2002-04-11 | 2004-10-19 | Triquint Semiconductor, Inc. | Integrated segmented and interdigitated broadside- and edge-coupled transmission lines |
US7132906B2 (en) * | 2003-06-25 | 2006-11-07 | Werlatone, Inc. | Coupler having an uncoupled section |
US7190240B2 (en) * | 2003-06-25 | 2007-03-13 | Werlatone, Inc. | Multi-section coupler assembly |
GB0321658D0 (en) * | 2003-09-16 | 2003-10-15 | South Bank Univ Entpr Ltd | Bifilar transformer |
DE10348722B4 (de) * | 2003-10-16 | 2013-02-07 | Epcos Ag | Elektrisches Anpassungsnetzwerk mit einer Transformationsleitung |
US7245192B2 (en) * | 2003-12-08 | 2007-07-17 | Werlatone, Inc. | Coupler with edge and broadside coupled sections |
US6972639B2 (en) | 2003-12-08 | 2005-12-06 | Werlatone, Inc. | Bi-level coupler |
JP2005341118A (ja) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Hitachi Communication Technologies Ltd | フィルタ回路、論理ic、マルチチップモジュール、フィルタ搭載型コネクタ、伝送装置及び伝送システム |
US20060055495A1 (en) * | 2004-09-15 | 2006-03-16 | Rategh Hamid R | Planar transformer |
US7646261B2 (en) * | 2005-09-09 | 2010-01-12 | Anaren, Inc. | Vertical inter-digital coupler |
US7724484B2 (en) * | 2006-12-29 | 2010-05-25 | Cobham Defense Electronic Systems Corporation | Ultra broadband 10-W CW integrated limiter |
CN101765893B (zh) * | 2007-07-30 | 2012-10-10 | 株式会社村田制作所 | 片状线圈元器件 |
US7714679B2 (en) * | 2008-01-29 | 2010-05-11 | Hittite Microwave Corporation | Spiral coupler |
FR2932079B1 (fr) | 2008-06-06 | 2010-07-30 | Michel Bercovy | Prothese totale de genou |
US8138857B2 (en) * | 2008-06-24 | 2012-03-20 | International Business Machines Corporation | Structure, structure and method for providing an on-chip variable delay transmission line with fixed characteristic impedance |
US7898340B2 (en) * | 2008-10-24 | 2011-03-01 | Raytheon Company | Method and system for amplifying a signal using a transformer matched transistor |
US8093959B1 (en) | 2009-03-16 | 2012-01-10 | Triquint Semiconductor, Inc. | Compact, low loss, multilayer balun |
US8179137B2 (en) * | 2009-03-31 | 2012-05-15 | General Electric Company | Magnetic resonance compatible multichannel stripline balun |
US8988852B2 (en) * | 2009-11-17 | 2015-03-24 | Marvell World Trade Ltd. | Ground shield capacitor |
JP5518210B2 (ja) | 2009-12-15 | 2014-06-11 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 結合器および増幅器機構 |
US8659126B2 (en) * | 2011-12-07 | 2014-02-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Integrated circuit ground shielding structure |
US8610247B2 (en) | 2011-12-30 | 2013-12-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Structure and method for a transformer with magnetic features |
US20130222060A1 (en) * | 2012-02-27 | 2013-08-29 | Qualcomm Incorporated | Mutually coupled matching network |
US9035715B2 (en) * | 2012-10-25 | 2015-05-19 | Anaren, Inc. | Compact broadband impedance transformer |
US9166270B2 (en) * | 2012-11-21 | 2015-10-20 | Texas Instruments Incorporated | Balun with integrated decoupling as ground shield |
WO2014169247A1 (en) * | 2013-04-12 | 2014-10-16 | Rfaxis, Inc. | Miniature radio frequency directional coupler for cellular applications |
US8988161B2 (en) | 2013-06-20 | 2015-03-24 | Triquint Semiconductor, Inc. | Transformer for monolithic microwave integrated circuits |
CN103337682B (zh) * | 2013-07-24 | 2015-03-25 | 东南大学 | 一种宽带、低损耗、高平衡度的片上巴伦 |
US10042805B2 (en) | 2016-01-21 | 2018-08-07 | Northrop Grumman Systems Corporation | Tunable bus-mediated coupling between remote qubits |
US10074792B1 (en) | 2017-03-10 | 2018-09-11 | Northrop Grumman Systems Corporation | ZZZ coupler for superconducting qubits |
US10366340B2 (en) | 2017-07-12 | 2019-07-30 | Northrop Grumman Systems Corporation | System and method for qubit readout |
US11108380B2 (en) | 2018-01-11 | 2021-08-31 | Northrop Grumman Systems Corporation | Capacitively-driven tunable coupling |
US10749096B2 (en) | 2018-02-01 | 2020-08-18 | Northrop Grumman Systems Corporation | Controlling a state of a qubit assembly via tunable coupling |
US10540603B2 (en) | 2018-06-19 | 2020-01-21 | Northrop Grumman Systems Corporation | Reconfigurable quantum routing |
US10852366B2 (en) | 2018-06-26 | 2020-12-01 | Northrop Grumman Systems Corporation | Magnetic flux source system |
US10886049B2 (en) | 2018-11-30 | 2021-01-05 | Northrop Grumman Systems Corporation | Coiled coupled-line hybrid coupler |
RU2717386C1 (ru) * | 2019-05-27 | 2020-03-23 | Акционерное общество "Микроволновые системы" | Спиральный сверхширокополосный микрополосковый квадратурный направленный ответвитель |
CN113224492B (zh) * | 2021-04-19 | 2021-12-28 | 中国电子科技集团公司第二十九研究所 | 一种基于互感耦合的超宽带功分器芯片 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0371157B1 (de) * | 1988-11-28 | 1994-03-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Leitungstransformator |
US4999597A (en) * | 1990-02-16 | 1991-03-12 | Motorola, Inc. | Bifilar planar inductor |
US5200718A (en) * | 1990-10-23 | 1993-04-06 | Smk Co., Ltd. | Balun transformer with common mode coil |
JP2941484B2 (ja) * | 1991-05-31 | 1999-08-25 | 株式会社東芝 | 平面トランス |
JP2773617B2 (ja) * | 1993-12-17 | 1998-07-09 | 株式会社村田製作所 | バルントランス |
US5852866A (en) * | 1996-04-04 | 1998-12-29 | Robert Bosch Gmbh | Process for producing microcoils and microtransformers |
US5793272A (en) * | 1996-08-23 | 1998-08-11 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit toroidal inductor |
US5969590A (en) * | 1997-08-05 | 1999-10-19 | Applied Micro Circuits Corporation | Integrated circuit transformer with inductor-substrate isolation |
US6097273A (en) * | 1999-08-04 | 2000-08-01 | Lucent Technologies Inc. | Thin-film monolithic coupled spiral balun transformer |
-
2001
- 2001-01-23 US US09/768,865 patent/US6407647B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-01-16 CA CA002403046A patent/CA2403046A1/en not_active Abandoned
- 2002-01-16 WO PCT/US2002/001529 patent/WO2002060002A1/en not_active Application Discontinuation
- 2002-01-16 JP JP2002560227A patent/JP3728293B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-01-16 TW TW091100629A patent/TW513825B/zh active
- 2002-01-16 EP EP02720818A patent/EP1354371A1/en not_active Withdrawn
- 2002-01-16 KR KR1020027012394A patent/KR100562966B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-01-16 IL IL15171802A patent/IL151718A0/xx unknown
- 2002-01-16 CN CN02800127A patent/CN1455968A/zh active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10911016B2 (en) | 2019-01-08 | 2021-02-02 | Analog Devices, Inc. | Wideband balun |
US11381216B2 (en) | 2019-01-08 | 2022-07-05 | Analog Devices, Inc. | Wideband balun |
US11101227B2 (en) | 2019-07-17 | 2021-08-24 | Analog Devices International Unlimited Company | Coupled line structures for wideband applications |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004518363A (ja) | 2004-06-17 |
CN1455968A (zh) | 2003-11-12 |
IL151718A0 (en) | 2003-04-10 |
KR100562966B1 (ko) | 2006-03-22 |
US6407647B1 (en) | 2002-06-18 |
KR20020095191A (ko) | 2002-12-20 |
TW513825B (en) | 2002-12-11 |
WO2002060002A1 (en) | 2002-08-01 |
CA2403046A1 (en) | 2002-08-01 |
EP1354371A1 (en) | 2003-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3728293B2 (ja) | 一体型横結合伝送線路素子 | |
US6882240B2 (en) | Integrated segmented and interdigitated broadside- and edge-coupled transmission lines | |
US6188306B1 (en) | On-chip transformers | |
US7511591B2 (en) | Setting of the impedance ratio of a balun | |
US4882553A (en) | Microwave balun | |
KR101156347B1 (ko) | 양-레벨 커플러 | |
JP3120985B2 (ja) | 線路変成器 | |
JP2003087008A (ja) | 積層型誘電体フィルタ | |
US8063729B2 (en) | Mode-switching transformer | |
JPS59148405A (ja) | 平衡不平衡変換器 | |
US3506932A (en) | Quadrature hybrid coupler | |
US7671704B2 (en) | LC resonant circuit | |
US6437658B1 (en) | Three-level semiconductor balun and method for creating the same | |
CN110970560B (zh) | 芯片内建电感结构 | |
CN101065879B (zh) | 无源部件 | |
US6509810B2 (en) | Filter, duplexer, and communication device | |
JP2018531560A (ja) | フィルタリング装置およびフィルタ | |
JP2018531560A6 (ja) | フィルタリング装置およびフィルタ | |
JP2000151223A (ja) | 半導体装置 | |
JPH08508615A (ja) | 低容量多層伝送線装置を用いる電気回路 | |
JP2000357774A (ja) | 複数本導線線路、インダクタ素子及びモノリシックマイクロ波集積回路 | |
JP2004172284A (ja) | 平面型バルントランス | |
WO2021081728A1 (zh) | 一种半导体器件及其制造方法 | |
TW202220280A (zh) | 整合式循環器系統 | |
JP5326880B2 (ja) | 薄膜バラン |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050729 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050922 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050930 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |