JP3726198B2 - 不飽和モノマーのための阻害剤としての7−置換キノンメチド - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は不飽和モノマーのための阻害剤としての7−置換キノンメチドに関し、より詳しくは組成物および容易に重合し得る不飽和モノマーに有効量の7−アリールキノンメチド化合物を混合することによりモノマー製造工程の間の上記不飽和モノマーの早期重合を低下させる方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ビニル芳香族化合物、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンまたはジビニルベンゼン、またはアクリルモノマー、例えばアクリル酸、メタクリル酸およびそれらのエステルおよびアミド、または不飽和エステル、例えば酢酸ビニルまたは不飽和ポリエステル等のエチレン性不飽和モノマーが高められた温度に晒された時、重合する強い傾向を有することはよく知られている。上記モノマーの製造方法は典型的には蒸留または高められた温度での処理を包含する。
【0003】
蒸留精製法の間のビニル芳香族モノマーの早期重合を防止するために、種々の化合物が重合阻害剤として開示されている。これらは元素の硫黄および工業的使用における様々の成功の程度を有する多種類の有機化学物質を包含する。これらの化合物はとりわけ硝酸化フェノール誘導体、C−およびN−ニトロソ化合物、ニトロキシル誘導体、ジフェニルアミン、ヒドロキシルアミン、キノン、キノンオキシムおよびキノンアルキド誘導体を包含する。
【0004】
アクリルモノマー重合の公知阻害剤はフェノチアジン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、およびメチレンブルーを包含する。アクリルモノマーの重合を全体的には阻害できないフェノチアジンは通常補助添加剤として使用される。最近の特許は可溶性遷移金属塩と組み合わせたフェニレンジアミン(US5221764)を特許請求し、そしてアリールN−ニトロソ化合物(EP0522709A2)はアクリルモノマー安定化において有効である。しかしながら、アクリルモノマーの蒸留の間の該モノマーの安定性を改善する化合物に対する要望が依然としてある。蒸留や精製工程の間、特に空気が存在しない場合、不飽和モノマーの早期重合を有効かつ安全に防止する安定な重合阻害剤系に対する要望がある。
【0005】
米国特許第4003800および4040911号はスチレン精製工程におけるキノンアルキドの使用を開示している。米国特許第4032547号はフェリシアニドにより仲介されるパースルフェート酸化法によるフェノールからキノンメチドの製造を記載している。
【0006】
上記一般式中、基A4 およびA5 はフェニル基および置換フェニル基を包含するが、そのような構造はUS4003800に例示されておらず、また、US4003800中の17種の個々に命名された化合物の中に包含されるどの7−アリールキノンメチド誘導体でもない。17種全ての化合物は置換基を持たないか、または7位にアルキル置換基を持つ。US4003800において個々に命名された化合物は非置換7−メチレン基を有する6種を含むが、それらは熱的にあまりに不安定であり、不飽和モノマーにおける工業的重合阻害剤として実際に使用できないことは明白である。
【0007】
7位で置換されていないキノンメチド、すなわち非置換エキソメチレン基を有する化合物が事実あまりに不安定であり、室温で単離さえもできないことを証明する非常に有力な実験的証拠がある。これらのメチレン誘導体は光の不在下で数日間のみ安定である非常に希薄な10−3ないし10−5モル溶液としてのみ製造され得る(例えばP. Gruenanger in Houben-Weyl, Methoden der Organischen
Chemie, Vol. 7/3B, p. 420参照)。
7−アルキル基を有するキノンメチドもまた、本発明において有効に使用されるべき熱的安定性を欠いている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記従来の技術の問題点を解決するためになされ、不飽和モノマーのための阻害剤としての新規な7−置換キノンメチドの提供を課題とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
驚くべきことに、7−メチレン基に電子吸引基を有するキノンメチドからなる本発明の化合物群は米国特許第4003800、4040911および4032547号に開示されておらず、上記米国特許に開示されているキノンメチドに比べ不飽和モノマーのための重合阻害剤としてより有効であることが見出された。
【0010】
本発明はエチレン性不飽和モノマーの早期重合の阻害剤に関する。
すなわち、本発明は、
(a)エチレン性不飽和モノマーまたはモノマーの混合物、および
(b)次式I:
(式中、
R1 およびR2 は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
R3 は−CN、−COOH、−COOR4 、−COR5 、−OCOR6 、−CONR7 R8 または−PO(OR9 )2 を表し、ここで
R4 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、
R5 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R6 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R7 およびR8 は独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アルキル基;ベンジル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または炭素原子数1ないし4のアルキル基により、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、フェニルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表すか、または−NR7 R8 はモルホリノ基、ピペリジノ基またはピロリジノ基を表し、そして
R9 は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す)で表わされる化合物
からなる安定化されたモノマー組成物に関するものである。
【0011】
炭素原子数1ないし18のアルキル基は線状または分岐しており、そして例えばメチル基、エチル基、n−またはイソプロピル基、n−、第二、イソ−または第三ブチル基、n−、第二、イソ−または第三ペンチル(アミル)基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、第三オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基またはオクタデシル基である。炭素原子数4ないし18のアルキルおよび炭素原子数1ないし4のアルキル基は炭素原子数に応じて上記と同じ意味を有する。第三オクチル基は例えば1,1−ジメチルヘキシル基、2,2−ジメチルヘキシル基、3,3−ジメチルヘキシル基、4,4−ジメチルヘキシル基、5,5−ジメチルヘキシル基、1−エチル−1−メチルペンチル基、2−エチル−2−メチルペンチル基、3−エチル−3−メチルペンチル基、4−エチル−4−メチルペンチル基、1,1−ジエチルブチル基、2,2−ジエチルブチル基、3,3−ジエチルブチル基、1−メチル−1−プロピルブチル基、2−メチル−2−プロピルブチル基、3−メチル−3−プロピルブチル基または1,1−ジプロピルエチル基である。
【0012】
炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基は例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基またはシクロドデシル基、好ましくはシクロペンチル基およびシクロヘキシル基、特にシクロヘキシル基である。
【0013】
炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基はアルキル部分において線状または分岐しており、そして例えばベンジル基、フェニルエチル基、α−メチルベンジル基、3−フェニルプロピル基、フェニル−2−メチルエチル基、フェニル−1−メチルエチル基、α,α−ジメチルベンジル基、ブチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、オクチルフェニル基またはノニルフェニル基、好ましくはベンジル基、α−メチルベンジル基またはα,α−ジメチルベンジル基、特にα−メチルベンジル基またはα,α−ジメチルベンジル基である。
【0014】
炭素原子数6ないし10のアリール基はフェニル基またはナフチル基、好ましくはフェニル基である。
1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された炭素原子数6ないし10のアリール基は例えば2−、3−、4−、5−、6−、2,6−、2,4−、2,5−または3,5−位で置換されたフェニル基である。アルキル置換基は線状または分岐している。例はトリル基、キシリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ジブチルフェニル基、ジ−第三ブチルフェニル基、フェノール基またはジヒドロキシフェニル基である。
【0015】
炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基はアルキル部分において線状または分岐しており、そして例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基またはブチルアミノ基である。
炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基はアルキル部分において線状または分岐しており、2個の同じか、または異なるアルキル基を有し、そして例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、メチルエチルアミノ基またはメチルブチルアミノ基である。
【0016】
好ましくは、R1 およびR2 は第三ブチル基、第三アミル基、第三オクチル基、シクロヘキシル基、α−メチルベンジル基またはα,α−ジメチルベンジル基である。
最も好ましくは、R1 およびR2 は第三ブチル基、第三アミル基または第三オクチル基である。
【0017】
好ましくはR3 は−CN、−COOH、−COOR4 、−COR5 、−OCOR6 、−CONR7 R8 または−PO(OR9 )2 を表し、ここで
R4 は炭素原子数1ないし8のアルキル基を表し、
R5 はメチル基またはフェニル基を表し、
R6 は炭素原子数1ないし18のアルキル基またはフェニル基を表し、
R7 およびR8 は独立して水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表すか、または−NR7 R8 はモルホリノ基またはピペリジノ基を表し、そして
R9 は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す。
【0018】
最も好ましくは、R3 は−CN、−COOH、−COOR4 、−COR5 、−CONR7 R8 または−PO(OR9 )2 を表し、ここで
R4 は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、
R5 はメチル基またはフェニル基を表し、
R7 およびR8 は独立して水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表すか、または−NR7 R8 はモルホリノ基を表し、そして
R9 は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す。
【0019】
好ましくは、式Iで表される化合物は
(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトニトリル、
(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
(3,5−ジ第三アミル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
メチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
エチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
n−ブチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
2,6−ジ第三ブチル−4−(2−オキソプロピリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン、
ジエチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メタンホスホネート、
(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルアセテート、
(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルピバレート、
(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルベンゾエート、および
N,N−ジエチル−2−(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトアミドである。
【0020】
式Iの範囲内の化合物の各々は以下の公知化合物:
a.(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトニトリル;
b.(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸;
c.メチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセテート;
d.ジエチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メタンホスホネート;
e.(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルアセテート;
f.(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルピバレート;
g.(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルベンゾエート;
h.2,6−ジ第三ブチル−4−(2−オキソフェニルエチリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン;および
i.ジイソプロピル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メタンホスホネート
を除いて新規である。
【0021】
本発明の式Iで表される7−置換キノンメチド重合阻害剤の有効量は特定の不飽和モノマーおよび蒸留条件に応じて広範囲にわたって変化し得る。好ましくは本発明の式Iで表されるキノンメチドの合計量は1ppmないし約2000ppmである(早期重合から阻害されるモノマーの重量を基準として)。多くの適用に対し、阻害剤系は5ppmないし1000ppmの範囲で使用される。温度が上昇するにつれ、必要な阻害剤の量は増加する。
【0022】
本発明のもう一つの面は、式Iで表される本発明化合物が次式II:
(式中、
E1 およびE2 は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
E3 は2−、3−または4−ピリジル基、2−または3−チエニル基、2−または3−ピリル基、2−または3−フリル基、炭素原子数6ないし10のアリール基、または1ないし3個の炭素原子数1ないし8のアルキル基により置換された上記アリール基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし8のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし8のアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基、塩素原子または上記置換基の混合物を表す)で表される7−アリールキノンメチドと組合せられる場合に観察される相乗作用である。
式IIで表される化合物は同時継続特許出願第08/422284号に開示されている。
【0023】
本発明の式Iで表される7−置換キノンメチドは、式IIで表される7−アリールキノンメチドと組み合わせた場合にエチレン性不飽和モノマーの早期重合を防止するのに強い相乗作用を示すことが見出された。このように、不飽和モノマー重合の貴重な阻害は上の2種のキノンメチド類の組合せを用いて得られる。
【0024】
従って、本発明のこの面は、
(a)エチレン性不飽和モノマーまたはモノマーの混合物、および
(b)(i)少なくとも1種の次式I:
(式中、
R1 およびR2 は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
R3 は−CN、−COOH、−COOR4 、−COR5 、−OCOR6 、−CONR7 R8 または−PO(OR9 )2 を表し、ここで
R4 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、
R5 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R6 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R7 およびR8 は独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アルキル基;ベンジル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または炭素原子数1ないし4のアルキル基により、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、フェニルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表すか、または−NR7 R8 はモルホリノ基、ピペリジノ基またはピロリジノ基を表し、そして
R9 は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す)で表わされる化合物と、
(ii)少なくとも1種の次式II:
(式中、
E1 およびE2 は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
E3 は2−、3−または4−ピリジル基、2−または3−チエニル基、2−または3−ピリル基、2−または3−フリル基、炭素原子数6ないし10のアリール基、または1ないし3個の炭素原子数1ないし8のアルキル基により置換された上記アリール基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし8のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし8のアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基、塩素原子または上記置換基の混合物を表す)で表される7−アリールキノンメチドとの混合物
からなる安定化されたモノマー組成物を包含する。
【0025】
阻害剤(b)の全量は1ないし2000ppmの範囲である(阻害されるモノマーの重量を基準として)。多くの適用に対し、範囲は5ppmないし1000ppmである。式Iで表される化合物(i)の相対濃度は成分(b)の一緒にした全重量を基準として5ないし95重量%であり、そして式IIで表される化合物(ii)の相対濃度は95ないし5重量%である。このことは、式Iで表される化合物(i)と式IIで表される化合物(ii)の比率が重量%で5:95〜95:5であることを意味する。
【0026】
本発明はさらに、
(i)少なくとも1種の次式I:
(式中、
R1 およびR2 は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
R3 は−CN、−COOH、−COOR4 、−COR5 、−OCOR6 、−CONR7 R8 または−PO(OR9 )2 を表し、ここで
R4 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、
R5 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R6 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R7 およびR8 は独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アルキル基;ベンジル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または炭素原子数1ないし4のアルキル基により、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、フェニルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表すか、または−NR7 R8 はモルホリノ基、ピペリジノ基またはピロリジノ基を表し、そして
R9 は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す)で表わされる化合物、および
(ii)少なくとも1種の次式II:
(式中、
E1 およびE2 は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
E3 は2−、3−または4−ピリジル基、2−または3−チエニル基、2−または3−ピリル基、2−または3−フリル基、炭素原子数6ないし10のアリール基、または1ないし3個の炭素原子数1ないし8のアルキル基により置換された上記アリール基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし8のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし8のアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基、塩素原子または上記置換基の混合物を表す)で表される7−アリールキノンメチド
からなる安定剤混合物に関する。
【0027】
炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基および炭素原子数6ないし10のアリール基に対する意味は上記と同様である。
炭素原子数1ないし8のアルキル置換基は線状または分岐している。その例は炭素原子数に応じて上に記載されている。
【0028】
炭素原子数1ないし8のアルコキシ基は線状または分岐しており、そして例えばメトキシ基、エトキシ基、n−またはイソプロポキシ基、n−、第二、イソ−または第三ブトキシ基、n−、第二、イソ−または第三ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基または2−エチルヘキシルオキシ基である。
炭素原子数1ないし8のアルキルチオ基は線状または分岐しており、そして例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−またはイソプロピルチオ基、n−、第二、イソ−または第三ブチルチオ基、n−、第二、イソ−または第三ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基またはオクチルチオ基である。
【0029】
炭素原子数1ないし8のアルキルアミノ基はアルキル部分において線状または分岐しており、そして例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基またはオクチルアミノ基である。
炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基はアルキル部分が線状または分岐しており、2つの同じか、または異なるアルキル基を有し、そして例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジオクチルアミノ基、メチルエチルアミノ基またはメチルブチルアミノ基である。
炭素原子数2ないし8のアルコキシカルボニル基は線状または分岐しており、そして例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−またはイソプロポキシカルボニル基、n−、第二、イソ−または第三ブトキシカルボニル基、n−、第二、イソ−または第三ペントキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基またはヘプチルオキシカルボニル基である。
【0030】
好ましくは、式Iで表される化合物は以下のものである:
(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトニトリル、
(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
(3,5−ジ第三アミル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
メチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
エチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
n−ブチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
2,6−ジ第三ブチル−4−(2−オキソプロピリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン、
ジエチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メタンホスホネート、
(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルアセテート、
(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルピバレート、
(3,5−ジ第三アミル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルベンゾエート、および
N,N−ジエチル−2−(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトアミド。
【0031】
好ましくは、式IIで表される化合物は以下のものである:
2,6−ジ第三ブチル−4−ベンジリデン−シクロヘキサ−2,5−ジエノン、
2,6−ジ第三ブチル−4−(4−ニトロベンジリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン、
2,6−ジ第三ブチル−4−(3−ニトロベンジリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン、
2,6−ジ第三ブチル−4−(4−シアノベンジリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン、
2,6−ジ第三ブチル−4−(4−ジメチルアミノベンジリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン、
2,6−ジ第三アミル−4−ベンジリデン−シクロヘキサ−2,5−ジエノン、
2,6−ジ第三ブチル−4−(4−メトキシベンジリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン、および
2,6−ジ第三ブチル−4−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン。
【0032】
本明細書において使用されるような不飽和モノマーという用語は、あらゆる容易に重合し得るビニル芳香族モノマー、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼンおよびそれらの構造異性体、誘導体および混合物、またはアクリルモノマー、例えばアクリル酸、メタクリル酸またはそれらのエステルおよびアミドおよびそれらの混合物、または不飽和エステル、例えば酢酸ビニルおよび不飽和ポリエステルおよびそれらの混合物を包含する。
【0033】
【発明の実施の形態】
重合阻害剤組成物または安定剤混合物はそれぞれ、あらゆる慣用の方法により保護されるべきモノマー中に導入され得る。それはあらゆる適当な手段により、望ましい適用の箇所(点)からわずかに上流に適当な溶媒中の濃厚溶液として添加され得る。適当な溶媒は、例えばモノマー自身、エチルベンゼンまたはジエチルベンゼンである。さらに、これらの化合物は流入供給部を備えた蒸留系(蒸留トレイン, distillation train)中に別々に注入されても、または阻害剤組成物の有効な分散を与える別々の入口箇所(点)を介して注入されてもよい。阻害剤は処理の間に徐々に消尽されるので、蒸留工程の間、阻害剤を添加することにより蒸留装置内に適当量の阻害剤を維持することが一般に必要である。そのような添加は一般に連続的に行われるか、または阻害剤の濃度が最低の必要レベルより上に維持されるならば、蒸留システム中に阻害剤を断続的に満たすことから構成され得る。
本発明の重合阻害性組成物はまた、蒸留カラムのリボイラー領域の保護にも十分適している。
【0034】
【実施例】
以下の実施例は説明の目的のためのみのものであり、そしていかなる場合においても本発明を限定するものではない。
実施例において、スチレンは代表的なビニル芳香族モノマーとして使用され、そして混合物アクリル酸−オクチルアクリレートはアクリレートモノマーのための試験モノマーとして機能する。
【0035】
実施例1:(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトニトリル
この化合物はV. V. Ershov等, Izv. Akad. Nauk. SSSR, Ser. Khim. (5), 928
(1966) の方法によるか、または以下のように製造され得る。
(A)(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−(ピペリジン−1−イル)アセトニトリル
3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデヒドヘミハイドレート48.6g(0.2モル)およびヘプタン150mlをディーン−スターク−トラップを用いて30分間共沸により乾燥させる。混合物を次に約80℃まで冷却する。ピペリジン21.75ml(0.22モル)を添加し、そして還流をディーン−スターク−トラップ上で1時間続ける。濃い黄色溶液を80℃まで冷却し、そしてアセトンシアノヒドリン21ml(0.23モル)を10分かけて滴下して添加する。混合物を次に80℃でさらに1時間攪拌し、次いで真空下蒸発させる。油状残渣をエタノール200mlおよび水30ml中に溶解し、そして攪拌しながら0℃まで冷却する。生成物を濾過により除去し、80%冷エタノール120mlで洗浄し、そして真空下で乾燥させると、中間生成物55.7gが110−111℃で融解する黄色結晶(柱状)として得られる。
1H−NMR(300MHz,CDCl3 ):1.46s(2xt−Bu),1.40−1.55m(CH2 ),1.55−1.70m(2xCH2 ),2.40−2.60m(2xCH2 ),4.74s(CH),5.28s(OH),7.31s(2ArH)。
【0036】
(B)(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトニトリル
実施例1Aで製造した中間体55.7g(0.17モル)をトルエン100ml中に溶解する。無水酢酸19g(0.186モル)を添加し、そして混合物を1時間還流する。赤色溶液を次に室温まで冷却し、水、5%炭酸水素ナトリウムそして再び水で洗浄し、そして真空下で蒸発させる。固体残渣をヘキサン100mlから再結晶させると、表題化合物34.5gが110−111℃で融解する橙色結晶(柱状)として得られる。
1H−NMR(300MHz,CDCl3 ):1.29s(t−Bu),1.32s(t−Bu),5.76s(CH),6.86d(1ArH,J=2.5Hz),7.33d(1ArH,J=2.5Hz)。
【0037】
実施例2:(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸
この化合物はV. V. Ershov等の方法によるか、または以下のように製造され得る。
(A)(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−クロロ酢酸
2,6−ジ第三ブチルフェノール309.5g(1.5モル)および50%水性グリオキシル酸266.5g(1.8モル)を氷酢酸1400ml中に溶解させる。次いで、ガス状塩化水素200g(5.5モル)を温度10−25℃に維持するために氷浴中で攪拌および冷却しながら上記溶液中に2.5時間かけて導入する。混合物を次に室温で一晩攪拌し、10℃まで冷却し、固体をブフナー漏斗上での濾過により単離し、そして水1000mlで洗浄する。淡黄色で依然として水分を含む固体である中間生成物の重量は約565gである。
【0038】
(B)(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸
水酸化ナトリウム12g(0.3モル)と酢酸17ml(0.3モル)から製造した水75ml中の酢酸ナトリウムの冷却(0℃)溶液に、実施例2Aで製造した依然として水分を含む中間体72gおよびトルエン50mlを添加する。均一な混合物を次いで激しく3時間攪拌すると、温度はその間に室温まで上昇する。次いで混合物を0℃まで再び冷却し、そして濾過する。濾過固体を水、次にヘキサンで洗浄し、そして乾燥させると、表題化合物37gが148−150℃で融解する橙色結晶として得られる。
1H−NMR(300MHz,CDCl3 ):1.31s(t−Bu),1.32s(t−Bu),6.18s(CH),6.82d(1ArH,J=2.5Hz),8.25d(1ArH,J=2.5Hz)。
【0039】
実施例3:(3,5−ジ第三アミル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸
2,6−ジ第三アミルフェノール15.0g(0.064モル)および50%水性グリオキシル酸11.4g(0.077モル)を酢酸100ml中に溶解させる。次に、溶液を15−25℃で塩化水素ガスでもって飽和させ、そして室温でさらに1時間攪拌する。混合物を次に氷−水400ml中に注ぎ、そして酢酸エチル200mlで抽出する。酢酸エチル相を水で数回洗浄し、無水の硫酸ナトリウム上で乾燥させ、そして真空下で蒸発させる。油状残渣を次にシリカゲル上酢酸エチル:ヘキサン(1:20→1:3)でもってクロマトグラフィーを行う。純粋な画分をヘキサンから再結晶させると、表題化合物6.5gが109−110℃で融解する橙色結晶(針状)として得られる。
1H−NMR(300MHz,CDCl3 ):0.65t(CH3 ,J=7.5Hz),0.67t(CH3 ,J=7.5Hz),1.23s(CH3 ),1.26s(CH3 ),1.810q(CH2 ,J=7.5Hz),1.812q(CH2 ,J=7.5Hz),6.17s(CH),6.77d(1ArH,J=2Hz),8.21d(1ArH,J=2Hz)。
【0040】
実施例4:メチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
この化合物はF. R. Hewgill 等, Aust. J. Chem. 30, 2565 (1977)の方法または以下のように製造され得る。
(A)メチル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メトキシアセテート
乾燥(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−クロロ酢酸(実施例2Aで製造され、そして70℃/70mmHgで乾燥された)117.5g(0.393モル)をメタノール250ml中に溶解し、そしてその溶液を還流下に加熱する。5−10分後、白色固体沈澱物を形成し始める。懸濁液をさらに3時間加熱し、0℃で冷却し、そして濾過する。固体を冷メタノール100mlで洗浄し、そして乾燥させると表題化合物109gが132−133℃で融解する白色結晶として得られる。
1H−NMR(300MHz,CDCl3 ):1.44s(2xt−Bu),3.41s(CH3 O),3.75s(CH3 O),4.69s(CH),5.28s(OH),7.21(2ArH)。
【0041】
(B)メチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸、
実施例4Aで製造した中間体61.6g(0.2モル)および乾燥させたフルキャット22B(登録商標,FULCAT 22B)触媒5.0gをn−オクタン100ml中、ディーン−スターク液体分離器上で加熱する。メタノールの蒸発が約1時間後に停止する。触媒を次に未だ温かい間に濾過により除去し、そして濾液を攪拌しながら0℃まで冷却する。懸濁液を濾過すると、表題化合物43gが87−89℃で融解する橙色結晶として得られる。
1H−NMR(500MHz,CDCl3 ):1.28s(t−Bu),1.31s(t−Bu),3.81s(CH3 O),6.15s(1H),6.78d(1ArH,J=2Hz),8.30(1ArH,J=2Hz)。
【0042】
実施例5:エチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸
酢酸200ml中の2,6−ジ第三ブチルフェノール41.2g(0.2モル)、50%水性グリオキシル酸35.4g(0.24モル)および塩化水素44gから実施例2Aに記載されたように、依然として水分を含む(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)クロロ酢酸65gを製造する。この酸を無水エタノール200ml中に溶解し、そして一晩放置する。溶液を次いで真空下で蒸発させ、p−トルエンスルホン酸1.0g、次に無水エタノールをさらに200ml添加する。次に混合物を3時間加熱し、そしてエタノールを次に蒸発させる。残渣を次に180℃まで温度が徐々に上昇する浴を用いて0.1mmHgの真空下に攪拌する。表題化合物は約140−160℃で粘性の橙色液体として27gの収量で蒸留する。
1H−NMR(300MHz,CDCl3 ):1.28s(t−Bu),1.32s(t−Bu),1.33q(CH3 ,J=6.9Hz),4.27q(CH2 ,J=6.9Hz),6.15s(1H),6.79d(1ArH,J=2.2Hz),8.29d(1ArH,J=2.2Hz)。
【0043】
実施例6:n−ブチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸
酢酸200ml中の2,6−ジ第三ブチルフェノール41.2g(0.2モル)、50%水性グリオキシル酸35.4g(0.24モル)および塩化水素54gから実施例2Aに記載されたように、依然として水分を含む(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)クロロ酢酸68gを製造する。この酸を無水n−ブタノール200ml中に溶解し、そして3日間放置する。トルエン25mlを次に添加し、そして混合物をディーン−スターク−トラップ上で3時間加熱する。溶媒を次に真空下で蒸発させると粗製n−ブチル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−n−ブトキシアセテート72.4gが淡黄色粘性油状物として得られる。この中間体エステル40.5g(0.1モル)および乾燥させたフルキャット22B(登録商標,FULCAT 22B)触媒1.0gを200℃まで温度が徐々に上昇する浴を用いて0.1mmHgの真空下に攪拌する。表題化合物は約150−170℃で粘性の橙色液体として24gの収量で蒸留する。
1H−NMR(300MHz,CDCl3 ):0.96t(CH3 ,J=7.5Hz),1.27s(t−Bu),1.30s(t−Bu),1.38−1.48m(CH2 ),1.62−1.74m(CH2 ),4.21(CH2 ,J=6.5Hz),6.16s(1H),6.79d(1ArH,J=2.5Hz),8.29d(1ArH,J=2.5Hz)。
【0044】
実施例7:2,6−ジ第三ブチル−4−(2−オキソプロピリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン
2,6−ジ第三ブチルフェノール4.12g(0.02モル)および40%水性ピルビン酸アルデヒド4.0g(0.022モル)を酢酸20ml中に溶解する。溶液を次に15−25℃で塩化水素ガスでもって飽和させ、そして室温でさらに2時間攪拌する。混合物を次いでトルエン200mlで希釈し、水で数回洗浄し、無水の硫酸ナトリウム上で乾燥させ、そして真空下に蒸発させる。油状残渣を次にシリカゲル上、トルエンを用いてクロマトグラフィーを行う。純粋な画分をメタノールから3回再結晶させると、表題化合物0.15gが70−72℃で融解する橙色結晶(針状)として得られる。
1H−NMR(300MHz,CDCl3 ):1.42s(t−Bu),1.44s(t−Bu),1.85s(CH3 ),5.65s(CH),6.48dd(1ArH,J=2.3Hz,J’=0.5Hz),8.56dd(1ArH,J=2.3Hz,J’=0.5Hz)。
【0045】
実施例8:ジエチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メタンホスホネート
この化合物はH. Gross等, Phosphorous, Sulfur and Silicon, 47, 7 (1990) の方法に従って製造される。
【0046】
実施例9:(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルアセテート
この化合物はK. Ley, Angew. Chem., 70, 74 (1958) の方法に従って製造される。
【0047】
実施例10:(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルピバレート
この化合物はEP391644A2に記載の方法に従って製造される。
【0048】
実施例11:(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルベンゾエート
この化合物はK. Ley, Angew. Chem., 70, 74 (1958) の方法に従って製造される。
【0049】
実施例12:N,N−ジエチル−2−(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトアミド
(A)N,N−ジエチル−2−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アセトアミド
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)酢酸7.92g(0.03モル)をヘプタン40mlおよびジクロロメタン20ml中、塩化チオニル4mlおよびN,N−ジメチルホルムアミド4滴と共に一晩攪拌する。さらにヘプタン90mlを添加し、次に溶媒90mlおよび過剰量の塩化チオニルを留去する。残留溶液を室温まで冷却し、次いでジエチルアミン7.5ml(0.072モル)を滴下して添加する。混合物を1時間攪拌し、次いで水、5%塩酸および再び水で洗浄する。溶媒を真空下に蒸発させ、次に残渣をアセトニトリルから2回結晶化すると、中間体生成物6.5gが111−113℃で融解する無色結晶(針状)として得られる。
1H−NMR(300MHz,CDCl3 ):1.09t(CH3 ,J=7.4Hz),1.15t(CH3 ,J=7.4Hz),1.43s(2xt−Bu),3.32q(CH2 ,J=7.4Hz),3.40q(CH2 ,J=7.4Hz),3.62s(CH2 ),5.11s(OH),7.03s(2ArH)。
【0050】
(B)N,N−ジエチル−2−(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトアミド
N,N−ジエチル−2−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アセトアミド4.80g(0.015モル)をジクロロメタン60ml中に溶解させる。この溶液に水120ml中のカリウムヘキサシアノフェレート(III)15g(0.046モル)および水酸化カリウム6.0g(0.11モル)を添加し、そして混合物を窒素雰囲気下に室温で1時間攪拌する。有機相を分離し、水で洗浄し、そして真空下蒸発させる。固体残渣をアセトニトリルから再結晶化すると、表題化合物3.6gが109−110℃で融解する黄色結晶(針状)として得られる。
1H−NMR(300MHz,CDCl3 ):1.21t(CH3 ,J=7.4Hz),1.22t(CH3 ,J=7.4Hz),1.28s(t−Bu),1.29s(t−Bu),3.39q(CH2 ,J=7.4Hz),3.51q(CH2 ,J=7.4Hz),6.49s(CH),6.83d(1ArH,J=2.5Hz),7.55d(1ArH,J=2.5Hz)。
【0051】
実施例13:スチレンモノマーの阻害
(A)一連の7−置換キノンメチド
1N水酸化ナトリウム、水での洗浄、そして減圧下での蒸留により市販の規格のスチレンから第三ブチルカテコール貯蔵安定剤を除去する。温度計、冷却器、ゴム隔膜およびマグネチックスターラーバーを備えた300mlの3つ口フラスコに精製スチレン100gおよび供試阻害剤20.0mgまたは阻害剤混合物20mgを入れ、阻害剤を全体で200ppm有するスチレンを得る。5回の連続排気および窒素の注入、次いでスチレン溶液への純粋窒素の15分間噴射により無酸素雰囲気を確立する。容器を次に機械的に攪拌し、そして120℃に温度制御された油浴中に浸漬し、そして45分間加熱する。形成されるポリスチレンを屈折率測定により次に決定し、公知濃度のスチレン溶液中の真正の(既知の)ポリスチレンでもって計算する。何も阻害剤を添加しない場合、6.2%ポリスチレンが形成される。形成されるポリマーの量が多い程、供試阻害剤化合物の有効性が低い。阻害剤でもって得られるポリマーレベルが下の表にまとめられている。
【0052】
【0053】
これらの7−置換キノンメチドの各々はスチレンモノマーのための重合阻害剤として非常に有効である。
【0054】
(B)酸素の影響
スチレンポリマー形成に関する酸素の影響が実施例1のシアノ化合物を用いて明らかにされる。0.66%の酸素の存在下で、約45分後形成されるポリマーは検出されない。これは純粋な窒素下で見出されたものと同じ結果である。
【0055】
(C)7−アリールキノンメチドとの相乗作用
本発明に係る、7−アリールキノンメチドと7−置換キノンメチドとのブレンドは同一の全阻害剤濃度でのいずれかの各成分自身のものに比べ、形成されたポリマー量の低下に相当に有効であることが見出される。この相乗効果は2,6−ジ第三ブチル−4−ベンジリデン−シクロ−2,5−ジエノン(化合物C)と(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトニトリル(実施例1の化合物)との混合物に対して下の表に示されている。
【0056】
【0057】
実施例14:アクリレートの阻害
アクリレートモノマーのためのラジカル重合阻害剤を試験するためのスクリーニング試験はアクリル酸とアクリル酸オクチルとの低分子量カルボン酸溶媒中の3:1混合物のラジカル誘導重合を包含する。フリーラジカルは60℃でのアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)の熱分解により生成される。重合の度合いは溶液の粘度を周期的に測定し、そして初期の粘度と比較することにより決定さる。粘度が4倍に増加したものは不適当であると見なす。粘度の顕著な変化が観察されるまでの時間を測定することにより誘導期間が決定される。誘導期間がより長い程、供試阻害剤化合物がより有効であることを示す。特記しなければ、全ての試薬および溶媒は入手したままで使用する。AIBN(メタノールから再結晶化)および試験すべき阻害剤添加剤(それぞれアクリレートに対して2%および400ppm)を含有するプロピオン酸(0.1g/ml)中のアクリレート〔アクリル酸:アクリル酸オクチル=3:1(重量比)〕の溶液を調製する。キャノン−フェンスク(Canon-Fenske)粘度計に試験溶液10mlを添加し、窒素(>99.995%)または酸素ガス混合物(窒素中に酸素6500ppm)のいずれかを5分間注入し、60℃油浴中で加熱する。さらに5分間の気体の注入後、デザイン・サイエンティフィック自動粘度計を用いて降下時間(drop time)を自動的に測定する(10分間隔,各測定前に1分間ガス注入)。結果を下の表にまとめて示す。
【0058】
【0059】
【0060】
上の表に示された結果から、本発明の化合物が窒素ガスまたは酸素ガスのいずれの下でも非常に有効なアクリレートモノマー阻害剤であることが明らかである。
Claims (4)
- (a)エチレン性不飽和モノマーまたはモノマーの混合物、および
(b)次式I:
R1およびR2は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
R3は−CN、−COOH、−COOR4、−COR5、−OCOR6、−CONR7R8または−PO(OR9)2を表し、ここで
R4は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、
R5は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R6は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R7およびR8は独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アルキル基;ベンジル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または炭素原子数1ないし4のアルキル基により、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、フェニルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表すか、または−NR7R8はモルホリノ基、ピペリジノ基またはピロリジノ基を表し、そして
R9は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す)で表わされる化合物
からなる安定化されたモノマー組成物。 - (a)エチレン性不飽和モノマーまたはモノマーの混合物、および
(b)(i)少なくとも1種の次式I:
R1およびR2は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
R3は−CN、−COOH、−COOR4、−COR5、−OCOR6、−CONR7R8または−PO(OR9)2を表し、ここで
R4は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、
R5は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R6は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R7およびR8は独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アルキル基;ベンジル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または炭素原子数1ないし4のアルキル基により、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、フェニルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表すか、または−NR7R8はモルホリノ基、ピペリジノ基またはピロリジノ基を表し、そして
R9は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す)で表わされる化合物と、
(ii)少なくとも1種の次式II:
E1およびE2は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
E3は2−、3−または4−ピリジル基、2−または3−チエニル基、2−または3−ピリル基、2−または3−フリル基、炭素原子数6ないし10のアリール基、または1ないし3個の炭素原子数1ないし8のアルキル基により置換された上記アリール基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし8のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし8のアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基、塩素原子または上記置換基の混合物を表す)で表される7−アリールキノンメチドとの混合物
からなる安定化されたモノマー組成物。 - (i)少なくとも1種の次式I:
R1およびR2は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
R3は−CN、−COOH、−COOR4、−COR5、−OCOR6、−CONR7R8または−PO(OR9)2を表し、ここで
R4は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、
R5は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R6は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R7およびR8は独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アルキル基;ベンジル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または炭素原子数1ないし4のアルキル基により、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、フェニルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表すか、または−NR7R8はモルホリノ基、ピペリジノ基またはピロリジノ基を表し、そして
R9は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す)で表わされる化合物、および
(ii)少なくとも1種の次式II:
E1およびE2は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
E3は2−、3−または4−ピリジル基、2−または3−チエニル基、2−または3−ピリル基、2−または3−フリル基、炭素原子数6ないし10のアリール基、または1ないし3個の炭素原子数1ないし8のアルキル基により置換された上記アリール基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし8のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし8のアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基、塩素原子または上記置換基の混合物を表す)で表される7−アリールキノンメチド
からなる安定剤混合物。 - 次式I:
R1およびR2は独立して炭素原子数4ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基または炭素原子数7ないし15のフェニルアルキル基を表し、そして
R3は−CN、−COOH、−COOR4、−COR5、−OCOR6、−CONR7R8または−PO(OR9)2を表し、ここで
R4は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、
R5は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R6は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または1もしくは2個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表し、
R7およびR8は独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アルキル基;ベンジル基、炭素原子数6ないし10のアリール基または炭素原子数1ないし4のアルキル基により、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基により、炭素原子数2ないし8のジアルキルアミノ基により、フェニルアミノ基により、またはヒドロキシル基により置換された上記アリール基を表すか、または−NR7R8はモルホリノ基、ピペリジノ基またはピロリジノ基を表し、そして
R9は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表すが、以下の化合物:
a.(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセトニトリル;
b.(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)酢酸;
c.メチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)アセテート;
d.ジエチル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メタンホスホネート;
e.(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルアセテート;
f.(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルピバレート;
g.(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メチルベンゾエート;
h.2,6−ジ第三ブチル−4−(2−オキソフェニルエチリデン)−シクロヘキサ−2,5−ジエノン;および
i.ジイソプロピル(3,5−ジ第三ブチル−4−オキソシクロヘキサ−2,5−ジエニリデン)メタンホスホネート
を除外する)で表わされる化合物。
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