JP3710252B2 - 空気液化分離装置の制御方法 - Google Patents

空気液化分離装置の制御方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、空気液化分離装置の制御方法に関し、詳しくは、精留塔を三塔あるいは四塔使用した三塔式あるいは四塔式の深冷空気分離法による空気液化分離装置によって空気を酸素と窒素とに分離する空気液化分離装置であって、製品酸素の需要が変動する空気液化分離装置に適した制御方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
三塔式あるいは四塔式のプロセスを採用して酸素ガスを製造する空気液化分離装置として、米国特許第4254629号明細書や特開平1−121678号公報に記載された空気液化分離装置が知られている。これらのプロセスは、従来の二塔式空気液化分離装置に比べて製品酸素の製造動力を低減することはできるが、塔及び凝縮蒸発器の数が多くなるため、従来に比べて制御性が低下する。
【0003】
また、これらの装置が複合型ガス化発電(IGCC)や溶融還元製鋼等のシステムで用いられる場合、空気液化分離装置には、大幅な負荷変動と急激な変動への追従とが要求される。この場合、製品酸素量の変動と同時に、製品濃度は一定のレベルに保たれなければならない。製品酸素濃度を保つためには、精留塔内の気液比を一定に保つことが重要であるが、空気液化分離装置の負荷が大きく変動する場合には、精留塔内の気液比が崩れ、製品酸素濃度に影響が出ることが多い。このため、例えば、製品酸素の貯蔵タンクを設け、製品酸素の需要量が増加する場合には不足分をタンクから補充し、逆に、製品酸素の需要量が減少した場合には、生産で余った分をタンクへ貯蔵する方法や、製品酸素量の変動に対して空気分離装置へ導入する原料空気を常に必要量以上とする方法が適用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、製品酸素の貯蔵タンクを設けるものでは、大きなタンクを設置する必要があり、投資コストや設置面積に多くを要する不都合があった。また、装置へ導入する原料空気を常に必要量以上とする方法ではランニングコストが大となる不都合があった。
【0005】
そこで本発明は、製品酸素の貯蔵タンクが不要で、かつ、原料空気を必要量以上に導入しなくても、製品酸素の需要変動に追従できる空気液化分離装置の制御方法を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の空気液化分離装置の制御方法は、高圧塔,中圧塔及び低圧塔からなる三塔式又は高圧塔,中圧塔,第1低圧塔及び第2低圧塔からなる四塔式の空気液化分離装置に原料空気を導入して深冷空気液化分離法により精留分離を行い、前記三塔式空気液化分離装置の低圧塔の下部又は四塔式空気液化分離装置の第1低圧塔の下部から製品酸素を得る空気液化分離装置の制御方法において、前記製品酸素の酸素純度を測定し、該酸素純度に応じて前記原料空気の導入量を調節することを特徴としている。
【0007】
さらに、本発明は、前記製品酸素の需要量が急激に変動するときには、該製品酸素の需要変動量に応じて前記高圧塔底部の液面の設定を変更すること、前記製品酸素の需要量が急激に変動するときには、前記原料空気の導入量を前記製品酸素の需要量の増減に応じて増減させることを特徴としている。
【0008】
また、本発明では、前記三塔式空気液化分離装置の低圧塔の上部又は四塔式空気液化分離装置の第2低圧塔の上部から製品窒素を得るにあたり、該製品窒素中の酸素濃度を測定し、該酸素濃度に応じて製品窒素の流量を調節すること、前記製品窒素の流量を前記原料空気の導入量に比例するように制御すること、さらに、前記中圧塔の頂部の窒素中に含まれる酸素濃度を測定し、該酸素濃度に応じて前記低圧塔又は第2低圧塔の還流液化窒素量を調節すること、前記還流液化窒素量を、前記原料空気の導入量に比例するように制御することを特徴とし、前記各制御を、カスケード制御とフィードフォワード制御とにより構成することを特徴としている。
【0009】
【発明の実施の形態】
まず、図1は、本発明の対象となる四塔式の空気液化分離装置の一例を示すものである。この空気液化分離装置は、高圧塔1,第1低圧塔2及び第1凝縮蒸発器3を一体的に形成した第1複精留塔4と、中圧塔5,第2低圧塔6及び第2凝縮蒸発器7を一体的に形成した第2複精留塔8と、主熱交換器9,膨張タービン10等を主要構成要素としている。
【0010】
圧縮され、水,炭酸ガス等の不純物を除去された第1原料空気は、経路11から原料空気の流量制御弁12を通って主熱交換器9に入り、低温流体により冷却された後、経路13から高圧塔1の下部に導入される。原料空気は、この高圧塔1での精留操作により塔底部の酸素富化液化空気と塔頂部の高純度窒素ガスとに分離する。
【0011】
高圧塔1の塔頂から経路14に抜き出された高純度窒素ガスは、第1低圧塔2の塔底部の第1凝縮蒸発器3で液化されて液化窒素となる。この液化窒素の一部は、弁15で膨張して経路16から中圧塔5の塔頂に導入されて中圧塔5の還流液となり、残りの液化窒素は、経路17により高圧塔1に戻されて高圧塔1の還流液となる。高圧塔1の塔底から経路18に抜き出された酸素富化液化空気は、過冷器19で冷却された後、経路20を経て弁21で膨張した後に第2低圧塔6の中間部に導入される。
【0012】
一方、圧縮され、水,炭酸ガス等の不純物を除去された第2原料空気は、経路22から流量制御弁23を通って主熱交換器9に入り、低温流体により冷却された後、経路24から中圧塔5の下部に導入される。導入された第2原料空気は、この中圧塔5での精留操作により塔底部の酸素富化液化空気と塔頂部の高純度窒素ガスとに分離する。
【0013】
中圧塔5の塔頂から抜き出された窒素ガスの一部は、経路25を通って主熱交換器9で加熱された後、中間温度の膨張タービン用窒素ETとなって経路26から膨張タービン10に導入されて膨張し、経路27を経て再び主熱交換器9に導入されて常温になり、経路28,弁29を通ってコールドボックスを出る。このとき、膨張タービン用窒素ETの流量は、弁10a(可変ノズル又はバイパス弁)により調節される。中圧塔5の塔頂から抜き出された高純度窒素ガスの残部は、経路30により、前記第2低圧塔6の塔底部に設けられた第2凝縮蒸発器7で液化して液化窒素となる。この液化窒素の一部は、経路31から前記過冷器19に導入されて冷却された後、経路32を経て弁33で膨張した後に第2低圧塔6の塔頂に導入されて第2低圧塔6の還流液となり、残りの液化窒素は、経路34により中圧塔5に戻されて中圧塔5の還流液となる。中圧塔5の塔底から経路35に抜き出された酸素富化液化空気は、前記過冷器19で冷却された後、経路36を経て弁37で膨張した後に第2低圧塔6の中間部に導入される。
【0014】
第2低圧塔6は、塔底に第2凝縮蒸発器7を備えた精留塔であって、中圧塔5から経路32を経て導入された還流液化窒素及び経路36を経て導入された酸素富化液化空気と、前記及び高圧塔1から経路20を経て導入された酸素富化液化空気とは、この第2低圧塔6での精留操作により塔頂部の製品窒素ガスと塔中間部の廃窒素ガスと塔底部の酸素富化液化空気とに分離する。塔頂部から経路38に抜き出された製品窒素と塔中間部から経路39に抜き出された廃窒素は、前記過冷器19及び主熱交換器9で常温まで加熱された後、製品窒素ガスは経路40及び制御弁41を経て、廃窒素は経路42及び制御弁43を経てそれぞれコールドボックスを出る。
【0015】
第2低圧塔6の塔底からは、酸素濃度が60〜80%程度の酸素富化液化空気が経路44に抜き出され、液ヘッドにより加圧された後、調節弁45を通って第1低圧塔2の塔頂へ導入される。この第1低圧塔2は、塔底に前記第1凝縮蒸発器3を備えた精留塔であって、第2低圧塔6から導入された酸素富化液化空気は、この第1低圧塔2での精留操作により、塔底部の液化酸素及び製品酸素ガスと、塔頂部の酸素富化空気とに分離する。塔頂の酸素富化空気は、経路46に抜き出され、弁47を通って第2低圧塔6の下部に戻されて上昇ガスとなる。塔底の酸素ガスは、経路48に抜き出されて前記主熱交換器9で常温まで加熱された後、経路49から制御弁50を通り、製品酸素ガスとしてコールドボックスを出る。
【0016】
一般的に、このような四塔式の空気液化分離装置においては、第1低圧塔2及び第2低圧塔6は、1.3〜1.6barで、中圧塔5は3.5〜4.5barで、高圧塔1は4.5〜6barで操作されるが、より高い圧力で操作することも可能である。
【0017】
ここで、各種制御を行うための機器として、第1原料空気A1の弁12を制御する流量調節器(FC)51、第2原料空気A2の弁23を制御する流量調節器(FC)52、製品酸素GOの弁50を制御する流量調節器(FC)53、製品窒素GNの弁41を制御する流量調節器(FC)54、経路42の廃窒素RNの圧力を調節することにより第2低圧塔6の塔頂部の圧力を調節する弁43を制御する塔頂圧力調節器(PC)55、第2低圧塔6の還流液化窒素の弁33を制御する流量調節器(FC)56、高圧塔1からの酸素富化液化空気の弁21を制御する液面調節器(LC)57、中圧塔5からの酸素富化液化空気の弁37を制御する液面調節器(LC)58、第2低圧塔6からの酸素富化液化空気の弁45を制御する液面調節器(LC)59、第1低圧塔2から液化酸素を抜き出す経路71の弁72を制御する液面調節器(LC)60、膨張タービン10の弁10aを制御する流量調節器(FC)61及び高圧塔1から中圧塔5への液化窒素の弁15を制御する流量調節器(FC)62がそれぞれ設けられている。
【0018】
製品酸素量を減量するとき、あるいは増量するときには、空気液化分離装置全体の物質バランスを取るため、第1原料空気の流量、第2原料空気の流量、製品窒素の流量、中圧塔5の還流液化窒素の流量、第2低圧塔6の還流液化窒素の流量、膨張タービン用窒素の流量、高圧塔1の液面、中圧塔5の液面及び第2低圧塔6の液面をそれぞれ対応して変動させる。
【0019】
これらの計算は、図2に示すメインコントローラ63で行われ、各制御機器を介して各弁の開度を調節することにより各種制御が行われる。さらに、本発明では、これらの制御に加えて製品酸素の純度、製品窒素中の酸素濃度、中圧塔頂部の窒素ガス中の酸素濃度を測定して上記各制御の補正を行うようにしており、第1低圧塔2から抜き出した製品酸素ガスが流れる経路48には酸素純度調節器(QC)64が、第2低圧塔6の頂部から抜き出した製品窒素ガスが流れる経路40には酸素濃度調節器(QC)65が、中圧塔5の頂部から抜き出した窒素ガスが流れる経路28には同じく酸素濃度調節器(QC)66が、それぞれ設けられている。
【0020】
上記各制御は、各制御内容に応じて図3乃至図5に示す制御構成の中の最適な制御方法により行われる。図3に示す制御は、いわゆる一般的なフィードバック制御であり、設定値Rに応じて調節器Aが制御対象(弁の開度等)Bを制御し、この制御結果の検出値(測定値)Yを演算器Cにフィードバックして誤差eを算出し、調節器Aによる制御対象Bの制御状態を補正するものである。
【0021】
また、図4に示す制御は、上記制御に外乱信号Xが加わる場合の一般的なフィードバック制御であり、設定値Rに対して他の原因による制御条件等を外乱信号Xとして演算器C2に入力し、調節器Aからの信号と外乱信号Xとにより制御対象Bの制御を行い、この結果を演算器C1にフィードバックして設定値Rとの誤差eを算出し、調節器Aの設定を補正するようにしている。
【0022】
図5に示す制御は、上述のフィードフォワード制御にカスケード制御を加えた構成の制御である。この場合、あらかじめ設定されている設定値Rが主調節器Amに入力され、この主調節器Amからの信号は、第2制御対象B2を制御するための副調節器Asに伝えられる。副調節器Asは、主調節器Amからの信号に応じて第2制御対象B2を制御するとともに、これらの信号に応じて第1制御対象B1が制御される。同時に、第2制御対象B2の制御結果の検出値Zが第2演算器C2に入力されるとともに、外乱信号Xがメインコントローラ63内のフィードフォワードコントローラEを介して演算器C2に入力される。演算器C2では、主調節器Amからの信号と検出値Z及び外乱信号Xとに応じて誤差e2を発生し、これによって副調節器Asの設定値を補正する。さらに、これらによって制御される最終的な第1制御対象B1の制御結果Yが第1演算器C1にフィードバックされて設定値Rとの誤差e1を算出し、主調節器Amの設定を補正するようにしている。
【0023】
次に、図2に基づいて上述の四塔式空気液化分離装置に対する制御方法の一例を説明する。なお、装置構成は、図1と同様であるから、主要部分にのみ符号を付して装置構成の詳細な説明は省略する。
【0024】
まず、製品酸素量の変動信号は、ユーザーからの要求として入力信号67によりメインコントローラ63に入力される。この製品酸素量の変動信号を受けたメインコントローラ63は、以下の(1)〜(10)に示す基本制御ループの設定値の計算を行う。
【0025】
(1)製品酸素GOの流量制御
製品酸素流量の流量調節器53の設定値は、製品酸素需要の変動量に合わせて弁50によって同じように変動させる。
【0026】
(2)第1原料空気A1の流量制御
第1原料空気の流量調節器51には、メインコントローラ63で下記(1−1)式で演算されたフィードフォワード信号が設定される。弁12によって製品酸素流量を減量すると、弁12によって第1原料空気の流量も減量し、製品酸素流量を増量すると第1原料空気の流量も増量する。
ΔFA1=GFGO (S)ΔFGO (1−1)
【0027】
(3)第2原料空気A2の流量制御
第2原料空気の流量は、第1原料空気の流量に比例させる。したがって、第2原料空気の流量調節器52の設定値は、メインコントローラ63で下記(1−2)式のように演算される。第1原料空気の流量が減量すると、弁23によって第2原料空気の流量も減量し、第1原料空気の流量が増量すると第2原料空気の流量も増量する。
ΔFA2=k1 ΔFA1 (1−2)
【0028】
(4)製品窒素GNの流量制御
製品窒素の流量は、第1原料空気の流量に比例させる。製品窒素の流量調節器54の設定値は、メインコントローラ63で下記(1−3)式のように演算される。第1原料空気の流量が減量すると、弁41によって製品窒素の流量も減量し、第1原料空気の流量が増量すると製品窒素流量も増量する。
ΔFGN=k2 ΔFA1 (1−3)
【0029】
(5)膨張タービン10の流量制御
膨張タービンの流量は、製品酸素の流量に比例させる。膨張タービンの流量調節器61の設定値は、メインコントローラ63で下記(1−4)式のように演算される。製品酸素の流量を減量すると、該膨張タービン10の弁10aによって膨張タービン用の窒素流量も減量し、製品酸素流量を増量すると膨張タービンの流量も増量する。
ΔFET=k3 ΔFGO (1−4)
【0030】
(6)中圧塔5の還流液化窒素の流量制御
経路16から供給される中圧塔5の還流液化窒素の流量は、第1原料空気の流量に比例させる。還流液化窒素の流量調節器62の設定値は、メインコントローラ63で下記(1−5)式のように演算される。第1原料空気が減量すると、弁15によって還流液化窒素の流量も減量し、第1原料空気が増量すると還流液化窒素の流量も増量する。
ΔFLN5 =k4 ΔFA1 (1−5)
【0031】
(7)第2低圧塔6の還流液化窒素の流量制御
経路32から供給される第2低圧塔6の還流液化窒素の流量は、第1原料空気の流量に比例させる。還流液化窒素の流量調節器56の設定値は、メインコントローラ63で下記(1−6)式のように演算される。第1原料空気が減量すると、弁33によって還流液化窒素の流量も減量し、第1原料空気が増量すると還流液化窒素の流量も増量する。
ΔFLN6 =k5 ΔFA1 (1−6)
【0032】
(8)高圧塔1の液面制御
高圧塔1の液面制御調節器57の設定値は、製品酸素の流量に比例させる。高圧塔1の液面調節器57の設定値は、メインコントローラ63で下記(1−7)式のように演算される。製品酸素流量の減量に合わせて経路18,20を介して第2低圧塔6に供給する酸素富化液化空気の流量を弁21によって減量させるために高圧塔1の液面調節器の設定値を上げる。また、製品酸素流量の増量に合わせて第2低圧塔6への酸素富化液化空気の流量を増やすため、高圧塔1の液面調節器の設定値を下げる。
ΔLEVELLP1 =k6 ΔFGO (1−7)
これは、下記(1−7a)式のような演算により、経路18,20を流れる酸素富化液化空気の流量制御に変えることもできる。
ΔFLAIR1 =kΔFGO (1−7a)
【0033】
(9)中圧塔5の液面制御
中圧塔5の液面調節器58の設定値は、製品酸素の流量に比例させる。中圧塔5の液面調節器58の設定値は、メインコントローラ63で下記(1−8)式のように演算される。製品酸素流量の減量に合わせて経路35,36を介して第2低圧塔6に供給する酸素富化液化空気の流量を弁37によって減量させるため、中圧塔5の液面調節器58の設定値を上げる。また、製品酸素流量の増量に合わせて第2低圧塔6への酸素富化液化空気の流量を増やすため、中圧塔5の液面調節器の設定値を下げる。
ΔLEVELLP5 =k7 ΔFGO (1−8)
これは、下記(1−8a)式により、経路35,36を流れる酸素富化液化空気の流量制御に変えてもできる。
ΔFLAIR2 =kΔFGO (1−8a)
【0034】
(10)第2低圧塔6の液面制御
第2低圧塔6の液面調節器59の設定値は、第1原料空気の流量に比例させる。第2低圧塔6の液面調節器59の設定値は、メインコントローラ63で下記(1−9)式のように演算される。製品酸素流量の減量に合わせて経路44から第1低圧塔2に供給する酸素富化液化空気の流量を弁45によって減量させるため、第2低圧塔6の液面調節器59の設定値を上げる。また、製品酸素流量の増量に合わせて第1低圧塔2への酸素富化液化空気の流量を増やすため、第2低圧塔6の液面調節器59の設定値を下げる。
ΔLEVELLP6 =k8 ΔFGO (1−9)
これは、下記(1−9a)式により、経路44を流れる酸素富化液化空気の流量制御に変えることもできる。
ΔFLAIR3 =kΔFGO (1−9a)
【0035】
なお、上記各式において、
FGO (S):フィードフォワード伝達関数
ΔFA1:第1原料空気の流量の設定値の変化値
ΔFA2:第2原料空気の流量の設定値の変化値
ΔFGO:製品酸素の流量の設定値
ΔFGN:製品窒素の流量の設定値の変化値
ΔFET:膨張タービンの流量の設定値の変化値
ΔFLN5 :中圧塔5の還流液化窒素の流量の設定値の変化値
ΔFLN6 :第2低圧塔6の還流液化窒素の流量の設定値の変化値
ΔFLAIR1 :経路20を流れる酸素富化液化空気の流量の設定値の変化値
ΔFLAIR2 :経路36を流れる酸素富化液化空気の流量の設定値の変化値
ΔFLAIR3 :経路44を流れる酸素富化液化空気の流量の設定値の変化値
ΔLEVELLP1 :高圧塔1の液面の設定値の変化値
ΔLEVELLP5 :中圧塔5の液面の設定値の変化値
ΔLEVELLP6 :第2低圧塔6の液面の設定値の変化値
である。また、k1 ,k2 ,k3 ,k4 ,k5 ,k6 ,k,k7 ,k,k8 ,kは、それぞれの係数である。
【0036】
本発明では、これらの基本制御に加えて、以下の三つの濃度制御ループを設定している。なお、括弧内は図5に対応する名称あるいは符号である。
【0037】
(11)製品酸素GOの濃度制御
第1低圧塔2の塔底の酸素ガスの純度又は塔底から経路48に抜き出した製品酸素の純度を測定し(検出値Y)、演算器(C1)で純度設定値(R)との誤差(e1)を算出し、これに基づいて酸素純度調節器(主調節器Am)64の設定値を変更する。この酸素純度調節器64で得られた信号と、メインコントローラ(フィードフォワードコントローラE)63で得られた信号(外乱信号Xに基づく信号)と、第1原料空気の流量(検出値Z)とによって加算器(演算器C2)68で誤差(e2)が算出され、これによって第1原料空気の流量調節器(副調節器As)51の設定値が変更される。この第1原料空気の流量調節器51で得られた信号によって第1原料空気の原料空気制御弁(第2制御対象B2)12の開度が制御され、第1原料空気の流量が調節される。さらに、これらの制御結果による製品酸素純度の変動は、酸素純度調節器64にフィードバックされる。
【0038】
(12)製品窒素GN中の酸素濃度
製品窒素中の酸素濃度を酸素濃度調節器65で測定し、濃度設定値との誤差を酸素濃度調節器(主調節器)65で演算する。酸素濃度調節器65で得られた信号とメインコントローラ63で得られた信号とを加算器69で加算し、得られた信号を製品窒素の流量調節器54(副調節器)の設定値とする。流量調節器54で製品窒素の流量を測定し、設定値との誤差を流量調節器54で演算する。流量調節器47で得られた信号を製品窒素の流量調節弁41に渡す。
【0039】
(13)中圧塔5の塔頂のガス窒素中の酸素濃度制御(膨張タービン用窒素ET中の酸素濃度制御)
中圧塔5の塔頂のガス窒素中の酸素濃度を酸素濃度調節器66で測定し、濃度設定値との誤差を酸素濃度調節器(主調節器)66で演算する。酸素濃度調節器66で得られた信号とメインコントローラ63で得られた信号とを加算器70で加算し、得られた信号を経路32を流れる還流液化窒素の流量調節器(副調節器)56の設定値とする。流量調節器56で経路32を流れる還流液化窒素の流量を測定し、設定値との誤差を流量調節器56で演算する。流量調節器56で得られた信号を還流液化窒素の流量を調節する弁33に渡す。
【0040】
上述のように構成した制御システムを、ダイナミックシミュレータを用いて検討した。まず、図6に示すように、製品酸素の流量を100%から58%の範囲で毎分6%のスピードで変動させた。そして、前記(11)〜(13)に示した濃度制御ループを採用した場合と、採用しない場合とにおいて、製品酸素の純度の変動を図7に、製品窒素中の酸素濃度の変動を図8に、中圧塔塔頂の窒素中の酸素濃度の変動を図9にそれぞれ示す。
【0041】
この結果から、前記濃度制御ループを採用しない場合は、製品酸素純度が89.5%まで下がり、製品窒素中の酸素濃度及び中圧塔塔頂の窒素中の酸素濃度は、それぞれ約3800ppm、約4500ppmまで上がるのに対し、上記三つの濃度制御系を採用した場合は、、製品酸素純度の変動が±1%以内に抑えられ、製品窒素中の酸素濃度及び中圧塔塔頂の窒素中の酸素濃度は1ppm以下に抑えられていることがわかる。
【0042】
すなわち、製品酸素の需要変動に対して製品酸素の純度変動を小さくでき、製品酸素流量の大幅な増減及び急激な増減に対応することができる。また、製品酸素流量の増減に応じて原料空気の流量も増減させるので、製品酸素流量が減少したときには原料空気の流量も減少させるので、ランニングコストも低減できる。さらに、貯蔵タンクを設置する必要がないため、投資コストや設置面積の問題も解消できる。しかも、窒素を製品として採取する場合でも、製品窒素の純度の変動幅を小さくすることができる。
【0043】
図10は、本発明を三塔式の空気液化分離装置に適用した一例を示す系統図である。この空気液化分離装置は、高圧塔101,低圧塔102及び第1凝縮蒸発器103を一体的に形成した複精留塔104と、第2凝縮蒸発器105を備えた中圧塔106と、主熱交換器107,膨張タービン108等を主要構成要素としている。
【0044】
圧縮され、水,炭酸ガス等の不純物を除去された第1原料空気A1は、経路111から流量制御弁112を通って主熱交換器107に入り、低温流体により冷却された後、経路113から高圧塔101の下部に導入される。原料空気は、この高圧塔101での精留操作により塔底部の酸素富化液化空気と塔頂部の高純度窒素ガスとに分離する。
【0045】
高圧塔101の塔頂から経路114に抜き出された高純度窒素ガスは、低圧塔102の塔底部の第1凝縮蒸発器103で液化されて液化窒素となる。この液化窒素の一部は、弁115で膨張して経路116から中圧塔106の塔頂へ導入されて中圧塔106の還流液となり、残りの液化窒素は、経路117により高圧塔101に戻されて高圧塔1の還流液となる。高圧塔101の塔底から経路118に抜き出された酸素富化液化空気の一部は、制御弁119で膨張して中圧塔106の中間段へ導入され、残りの酸素富化液化空気は、経路120に分岐し、過冷器121で冷却された後、弁122で膨張して経路123から低圧塔102の中間段に導入される。
【0046】
また、水,炭酸ガス等の不純物を除去された第2原料空気A2は、経路124から制御弁125を通って主熱交換器107に入り、低温流体により冷却され、経路126を経て中圧塔106の塔底部に導入される。この原料空気は、中圧塔106で精留されて塔底部の酸素富化液化空気と塔頂部の高純度窒素ガスとに分離する。中圧塔106の塔頂から経路127を経て経路128に抜き出された膨張タービン用窒素ETは、主熱交換器107で加熱された後、膨張タービン108で膨張し、再び主熱交換器107に入って常温になり、経路129,弁130を通ってコールドボックスを出る。中圧塔106の塔頂から経路127に抜き出された高純度窒素ガスの残部は経路131により第2凝縮蒸発器105に導入され、液化して液化窒素となる。液化窒素の一部は、経路132に分岐して過冷器121で冷却された後、弁133で膨張して経路134を経て低圧塔102の塔頂へ導入され、低圧塔102の還流液化窒素となる。残りの液化窒素は、経路135により中圧塔106の塔頂に戻されて中圧塔106の還流液となる。
【0047】
中圧塔106の塔底から経路136に抜き出された酸素富化液化空気は、過冷器121で冷却された後、弁137で膨張して経路138から第2凝縮蒸発器105に導入される。第2凝縮蒸発器105で高純度窒素ガスと熱交換した後、蒸発した酸素富化空気は、経路139を通って弁140で膨張した後、未蒸発の酸素富化液化空気の一部は、経路141を通って弁142で膨張した後、それぞれ低圧塔102の前記経路123より下の段に導入される。
【0048】
低圧塔102は、塔底に第1凝縮蒸発器103を備えた精留塔であって、中圧塔106から経路134を経て導入された還流液化窒素と、経路139からの酸素富化空気と、経路141からの酸素富化液化空気と、高圧塔101から経路123を経て導入された酸素富化液化空気とが、ここでの精留操作によって塔頂部の製品窒素と、塔中上部の廃窒素と、塔底部の酸素ガス及び液化酸素とに分離される。塔頂部の製品窒素GNは、経路143に抜き出され、過冷器121及び主熱交換器107で常温まで加熱された後、弁144,経路145を経てコールドボックスを出る。また、塔中上部から経路146に抜き出された廃窒素RNは、過冷器121及び主熱交換器107で常温まで加熱された後、弁147,経路148を経てコールドボックスを出る。
【0049】
低圧塔102の底部からは、経路149,弁150を介して液化酸素の一部が抜き出されている。また、第1凝縮蒸発器103で蒸発した酸素ガスの一部は、製品酸素ガスGOとして経路151に抜き出され、主熱交換器107で常温まで加熱された後、弁152,経路153を経てコールドボックスを出る。
【0050】
一般的に、低圧塔102は1.3〜1.6barで、中圧塔106は3.5〜4.5bar、高圧塔101は4.5〜6.0barで操作されるが、より高い圧力で操作することも可能である。
【0051】
各種制御を行うための機器としては、第1原料空気A1の弁112を制御する流量調節器(FC)161、第2原料空気A2の弁125を制御する流量調節器(FC)162、製品酸素GOの弁152を制御する流量調節器(FC)163、製品窒素GNの弁144を制御する流量調節器(FC)164、廃窒素RNの弁147を制御する圧力調節器(PC)165、低圧塔102への還流液化窒素の弁133を制御する流量調節器(FC)166、高圧塔101からの酸素富化液化空気の弁122を制御する高圧塔101の液面調節器(LC)167、高圧塔101からの酸素富化液化空気の弁119を制御する中圧塔106の液面調節器(LC)168、低圧塔102の底部から抜き出す液化酸素の弁150を制御する低圧塔102の液面調節器(LC)169、膨張タービン108の弁108aを制御する流量調節器(FC)170、高圧塔101から中圧塔106への液化窒素の弁115を制御する流量調節器(FC)171、第2凝縮蒸発器105からの酸素富化空気の弁140を制御する圧力調節器(PC)172、第2凝縮蒸発器105に導入される酸素富化液化空気の弁137を制御する第2凝縮蒸発器105の液面調節器(LC)173、経路151の製品酸素ガスGOの純度により前記流量調節器161を介して弁112を制御する純度調節器(QC)174、経路143の製品窒素ガスGNの酸素濃度により前記流量調節器164を介して弁144を制御する酸素濃度調節器(QC)175、中圧塔106から抜き出された後に経路129を流れる膨張タービン用窒素ETの酸素濃度により前記流量調節器166を介して弁133を制御する酸素濃度調節器(QC)176が設けられており、これらの全体的な制御は、メインコントローラ177により行われる。
【0052】
製品酸素量を減らすとき、あるいは増やすとき、装置全体の物質バランスを取るため、第1原料空気の流量、第2原料空気の流量、製品窒素の流量、中圧塔106の還流液化窒素の流量、低圧塔102の還流液化窒素の流量、膨張タービン用窒素の流量、高圧塔101の液面及び中圧塔106の液面をそれぞれ対応して変動させる。
【0053】
製品酸素量の変動信号は、入力信号178としてメインコントローラ177に入力され、メインコントローラ177では、以下の制御ループの設定値が計算される。
【0054】
(1)製品酸素GOの流量制御
製品酸素流量の流量調節器163の設定値は、製品酸素需要の変動量と同じ変動をさせる。
【0055】
(2)第1原料空気A1の流量制御
第1原料空気の流量調節器161には、メインコントローラ177で下記(2−1)式で演算されたフィードフォワード信号が設定される。製品酸素流量を減量すると第1原料空気の流量も減量する。同じく、製品酸素流量を増量すると第1原料空気の流量も増量する。
ΔFA1=GFGO (S)ΔFGO (2−1)
【0056】
(3)第2原料空気A2の流量制御
第2原料空気の流量は、第1原料空気の流量に比例させる。第2原料空気の流量調節器162の設定値はメインコントローラ177で下記(2−2)式のように演算される。第1原料空気の流量を減量すると第2原料空気の流量も減量する。同じく第1原料空気の流量を増量すると第2原料空気の流量も増量する。
ΔFA2=k1 ΔFA1 (2−2)
【0057】
(4)製品窒素GNの流量制御
製品窒素の流量は、第1原料空気の流量に比例させる。製品窒素の流量調節器164の設定値はメインコントローラ177で下記(2−3)式のように演算される。第1原料空気の流量を減量すると製品窒素の流量も減量する。同じく、第1原料空気の流量を増量すると製品窒素の流量も増量する。
ΔFGN=k2 ΔFA1 (2−3)
【0058】
(5)膨張タービン108の流量制御
膨張タービンの流量は、製品酸素の流量に比例させる。膨張タービン108の流量調節器170の設定値はメインコントローラ177で下記(2−4)式のように演算される。製品酸素の流量を減量すると膨張タービン用窒素流量も減量する。同じく、製品酸素流量を増量すると、膨張タービン流量も増量する。
ΔFET=k3 ΔFGO (2−4)
【0059】
(6)中圧塔106の還流液化窒素の流量制御
経路116からの還流液化窒素の流量は、第1原料空気の流量に比例させる。還流液化窒素の流量調節器171の設定値はメインコントローラ177で下記(2−5)式のように演算される。第1原料空気の流量を減量すると還流液化窒素の流量も減量する。同じく、第1原料空気の流量を増量すると還流液化窒素の流量も増量する。
ΔFLN106 =k4 ΔFA1 (2−5)
【0060】
(7)低圧塔102の還流液化窒素の流量制御
経路134の還流液化窒素の流量は、第1原料空気の流量に比例させる。還流液化窒素の流量調節器166の設定値は、メインコントローラ177で下記(2−6)式のように演算される。第1原料空気の流量を減量すると還流液化窒素の流量も減量する。同じく、第1原料空気の流量を増量すると還流液化窒素の流量も増量する。
ΔFLN102 =k5 ΔFA1 (2−6)
【0061】
(8) 高圧塔101の液面制御
高圧塔101の液面制御調節器167の設定値は、製品酸素の流量に比例させる。高圧塔101の液面調節器167の設定値は、メインコントローラ177で下記(2−7)式のように演算される。製品酸素流量の減量に合わせて低圧塔102への酸素富化液化空気の流量を減量させるため、高圧塔101の液面調節器167の設定値を上げる。同じく、製品酸素流量の増量に合わせて低圧塔102への酸素富化液化空気の流量を増やすため、高圧塔101の液面調節器167の設定値を下げる。
ΔLEVELLP1 =k6 ΔFGO (2−7)
これは、下記(2−7a)式のような演算により、経路123を流れる液化空気の流量制御に変えることもできる。
ΔFLAIR1 =kΔFGO (2−7a)
【0062】
(9)中圧塔106の液面制御
中圧塔106の液面制御調節器168の設定値は、製品酸素の流量に比例させる。中圧塔106の液面調節器168の設定値は、メインコントローラ177で下記(2−8)式のように演算される。製品酸素の流量の減量に合わせて低圧塔102への酸素富化液化空気の流量を減量させるため、中圧塔106の液面調節器168の設定値を下げる。同じく、製品酸素の流量の増量に合わせて低圧塔102への酸素富化液化空気の流量を増やすため、中圧塔106の液面調節器168の設定値を上げる。
ΔLEVELLP106 =k7 ΔFGO (2−8)
これは、下記(2−8a)式により、経路136を流れる酸素富化液化空気の流量制御に変えてもできる。
ΔFLAIR2 =kΔFGO (2−8a)
【0063】
なお、上記各式において、
FGO (S):フィードフォワード伝達関数
ΔFA1:第1原料空気の流量の設定値の変化値
ΔFA2:第2原料空気の流量の設定値の変化値
ΔFGO:製品酸素の流量の設定値
ΔFGN:製品窒素の流量の設定値の変化値
ΔFET:膨張タービンの流量の設定値の変化値
ΔFLN106 :中圧塔106の還流液化窒素の流量の設定値の変化値
ΔFLN102 :低圧塔102の還流液化窒素の流量の設定値の変化値
ΔFLAIR1 :経路123を流れる酸素富化液化空気の流量の設定値の変化値
ΔFLAIR2 :経路136を流れる酸素富化液化空気の流量の設定値の変化値
ΔLEVELLP101 :高圧塔101の液面の設定値の変化値
ΔLEVELLP106 :中圧塔106の液面の設定値の変化値
である。また、k1 ,k2 ,k3 ,k4 ,k5 ,k6 ,k,k7 ,kは、それぞれの係数である。
【0064】
これらは、基本的な制御であり、これ以外に以下の三つの濃度制御ループを備えている。
(10)製品酸素の濃度制御
低圧塔10の底部又は塔底から抜き出した製品酸素の純度を測定し、純度設定値との誤差を濃度調節器174で演算する。濃度調節器174で得られた信号とメインコントローラ177で得られた信号とを加算器179で加算し、加算器179で得られた信号を第1原料空気の流量調節器161の設定値とする。第1原料空気の流量を測定し、設定値との誤差を第1原料空気の流量調節器161で演算する。第1原料空気の流量調節器161で得られた信号を第1原料空気の流量制御弁112に渡す。
【0065】
(11)中圧塔106の塔頂の窒素ガス中の酸素濃度制御(膨張タービン用窒素中の酸素濃度制御)
中圧塔106の塔頂の窒素ガス中の酸素濃度を測定し、濃度設定値との誤差を濃度調節器176で演算する。濃度調節器176で得られた信号とメインコントローラ177で得られた信号とを加算器180で加算し、得られた信号を低圧塔102の還流液化窒素の流量調節器166の設定値とする。還流液化窒素の流量を測定し、設定値との誤差を還流液化窒素の流量調節器166で演算する。還流液化窒素の流量調節器166で得られた信号を還流液化窒素の流量制御弁133に渡す。
【0066】
(12)製品窒素中の酸素濃度
製品窒素中の酸素濃度を測定し、濃度設定値との誤差を濃度調節器175で演算する。濃度調節器175で得られた信号とメインコントローラ177で得られた信号とを加算器181で加算し、得られた信号を製品窒素の流量調節器164の設定値とする。製品窒素の流量を測定し、設定値との誤差を製品窒素の流量調節器164で演算する。製品窒素の流量調節器164で得られた信号を製品窒素の流量制御弁144に渡す。
【0067】
前記同様に、ダイナミックシミュレータを用いてこれらの制御システムの検討を行った。製品酸素流量を図11に示すように100%から58%の範囲で毎分6%のスピードで変動させた。濃度制御を採用しない場合と濃度制御を採用した場合の製品酸素純度の変動を図12に、製品窒素中の酸素濃度の変動を図13に、中圧塔塔頂の窒素ガス中の酸素濃度の変動を図14に示す。濃度制御を採用しない場合、製品酸素純度は約86%まで下がり、製品窒素中の酸素濃度及び中圧塔塔頂窒素中の酸素濃度はそれぞれ約12000ppm、約13500ppmまで上がる。一方、前記三つの濃度制御系を採用した場合は、製品酸素の純度変動は±1%以内に抑えられ、製品窒素中の酸素濃度及び下部塔塔頂窒素中の酸素濃度は、1ppm以下に抑えられている。
【0068】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の制御方法は、基本制御ループをベースとして三つの濃度制御ループを加えたので、製品酸素流量の大幅な増減量や急激な増減量にも自動的に追従することができ、製品酸素純度、製品窒素濃度の変動を許容範囲内に抑えることができる。したがって、製品酸素流量の大幅な増減量が可能で、かつ、製品酸素流量の急激な増減量も可能である。さらに、製品酸素の増減量と同時に原料空気流量も増減させるので、原料空気流量を減量しても製品濃度が一定に保たれ、ランニングコスト下げることができる。しかも、貯蔵タンクが不要になるため、投資コストを下げることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 四塔式の空気液化分離装置の一例を示す系統図である。
【図2】 本発明の制御系を示す系統図である。
【図3】 フィードバック制御のブロック図である。
【図4】 外乱信号を加えたフィードバック制御のブロック図である。
【図5】 フィードフォワード制御にカスケード制御を加えたブロック図である。
【図6】 製品酸素の流量の変動を示す図である。
【図7】 製品酸素の純度の変動を示す図である。
【図8】 製品窒素中の酸素濃度の変動を示す図である。
【図9】 中圧塔塔頂の窒素中の酸素濃度の変動を示す図である。
【図10】 本発明を三塔式の空気液化分離装置に適用した一例を示す系統図である。
【図11】 製品酸素の流量の変動を示す図である。
【図12】 製品酸素の純度の変動を示す図である。
【図13】 製品窒素中の酸素濃度の変動を示す図である。
【図14】 中圧塔塔頂の窒素中の酸素濃度の変動を示す図である。
【符号の説明】
1…高圧塔、2…第1低圧塔、3…第1凝縮蒸発器、4…第1複精留塔、5…中圧塔、6…第2低圧塔、7…第2凝縮蒸発器、8…第2複精留塔、9…主熱交換器、10…膨張タービン、12…流量制御弁、19…過冷器、23…流量制御弁、51…第1原料空気A1の流量調節器(FC)、52…第2原料空気A2の流量調節器(FC)、53…製品酸素GOの流量調節器(FC)、54…製品窒素GNの流量調節器(FC)、55…第2低圧塔の塔頂圧力調節器(PC)、56…第2低圧塔の還流液化窒素の流量調節器(FC)、57…高圧塔の液面調節器(LC)、58…中圧塔5の液面調節器(LC)、59…第2低圧塔の液面調節器(LC)、60…第1低圧塔の液面調節器(LC)、61…膨張タービンの流量調節器(FC)61、62…高圧塔から中圧塔への液化窒素の流量調節器(FC)、63…メインコントローラ、64…酸素純度調節器(QC)、65…製品窒素の酸素濃度調節器(QC)、66…中圧塔頂部の窒素ガスの酸素濃度調節器(QC)、68,69,70…加算器、101…高圧塔、102…低圧塔、103…第1凝縮蒸発器、104…複精留塔、105…第2凝縮蒸発器、106…中圧塔、107…主熱交換器、108…膨張タービン、161…第1原料空気の流量調節器(FC)、162…第2原料空気の流量調節器(FC)、163…製品酸素の流量調節器(FC)、164…製品窒素の流量調節器(FC)、165…廃窒素の圧力調節器(PC)、166…低圧塔への還流液化窒素の流量調節器(FC)、167…高圧塔の液面調節器(LC)、168…中圧塔の液面調節器(LC)、169…低圧塔の液面調節器(LC)、170…膨張タービンの流量調節器(FC)、171…高圧塔から中圧塔への液化窒素の流量調節器(FC)、172…第2凝縮蒸発器の圧力調節器(PC)、173…第2凝縮蒸発器の液面調節器(LC)、174…製品酸素ガスの純度調節器(QC)、175…製品窒素ガスの酸素濃度調節器(QC)、176…中圧塔から抜き出した膨張タービン用窒素の酸素濃度調節器(QC)、177…メインコントローラ

Claims (10)

  1. 高圧塔,中圧塔及び低圧塔からなる三塔式又は高圧塔,中圧塔,第1低圧塔及び第2低圧塔からなる四塔式の空気液化分離装置に原料空気を導入して深冷空気液化分離法により精留分離を行い、前記三塔式空気液化分離装置の低圧塔の下部又は四塔式空気液化分離装置の第1低圧塔の下部から製品酸素を得る空気液化分離装置の制御方法において、前記製品酸素の酸素純度を測定し、該酸素純度に応じて前記原料空気の導入量を調節することを特徴とする空気液化分離装置の制御方法。
  2. 前記酸素純度に応じて原料空気導入量を調節する制御は、カスケード制御とフィードフォワード制御とにより構成することを特徴とする請求項1記載の空気液化分離装置の制御方法。
  3. 前記製品酸素の需要量が急激に変動するときには、該製品酸素の需要変動量に応じて前記高圧塔底部の液面の設定を変更することを特徴とする請求項1記載の空気液化分離装置の制御方法。
  4. 前記製品酸素の需要量が急激に変動するときには、前記原料空気の導入量を、前記製品酸素の需要量の増減に応じて増減させることを特徴とする請求項1記載の空気液化分離装置の制御方法。
  5. 前記三塔式空気液化分離装置の低圧塔の上部又は四塔式空気液化分離装置の第2低圧塔の上部から製品窒素を得るにあたり、該製品窒素中の酸素濃度を測定し、該酸素濃度に応じて製品窒素の流量を調節することを特徴とする請求項1記載の空気液化分離装置の制御方法。
  6. 前記酸素濃度に応じて製品窒素の流量を調節する制御は、カスケード制御とフィードフォワード制御とにより構成することを特徴とする請求項5記載の空気液化分離装置の制御方法。
  7. 前記製品窒素の流量を、前記原料空気の導入量に比例するように制御することを特徴とする請求項5記載の空気液化分離装置の制御方法。
  8. 前記三塔式空気液化分離装置の低圧塔の上部又は四塔式空気液化分離装置の第2低圧塔の上部から製品窒素を得るにあたり、前記中圧塔の頂部の窒素中に含まれる酸素濃度を測定し、該酸素濃度に応じて前記三塔式空気液化分離装置の低圧塔又は四塔式空気液化分離装置の第2低圧塔の還流液化窒素量を調節することを特徴とする請求項1記載の空気液化分離装置の制御方法。
  9. 前記酸素濃度に応じて還流液化窒素量を調節する制御は、カスケード制御とフィードフォワード制御とにより構成することを特徴とする請求項8記載の空気液化分離装置の制御方法。
  10. 前記還流液化窒素量を、前記原料空気の導入量に比例するように制御することを特徴とする請求項8記載の空気液化分離装置の制御方法。
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