JP3690536B2 - 観察方法及び装置、並びに露光方法及び装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、所定の基板に形成された被検物の観察を行うための観察装置に関し、特に透過照明で被検物の観察を行う顕微鏡、半導体素子等を製造するための投影露光装置でマスクの位置検出を行うためのアライメント顕微鏡、又は液晶表示素子製造用のプロキシミティ方式の露光装置でマスクとガラス基板との位置合わせを行うためのアライメント顕微鏡等に使用して好適なものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、所定の基板上に形成された被検物を観察又は検出するために、落射照明又は透過照明でその被検物を照明してその被検物の像を形成する顕微鏡等の観察装置が使用されている。この場合、落射照明と透過照明とは被検物若しくは基板の種類、又はその観察装置の用途により使い分けをしている。例えば、半導体素子等を製造する際に使用される投影露光装置(ステッパー等)で、マスクとしてのレチクルに形成されたアライメントマークの位置検出を行うためのアライメント顕微鏡、又は液晶表示素子製造用の投影露光装置で感光基板としてのガラス基板に形成されたアライメントマークの位置検出を行うためのアライメント顕微鏡には、透過照明系と落射照明系との双方又はその一方が装備されている。一方、半導体ウエハのように可視光に対して不透明な基板に形成されたアライメントマークの検出を行うためのアライメント顕微鏡には、落射照明系のみが装備されている。
【0003】
また、例えば液晶表示素子製造用のプロキシミティ方式の露光装置では、マスクとガラス基板との位置合わせを行う際に、例えばガラス基板上の不透明膜の層の位置合わせを行う場合には落射照明系を用い、ガラス基板上の半透明膜又は透明膜の層(ITO層、カラーフィルタ層、ブラックマトリックス層等)の位置合わせを行う場合には透過照明系を用いるといった切り換えを行う必要がある。そこで、そのようなプロキシミティ方式の露光装置では、落射照明系と透過照明系との両方を有するアライメント顕微鏡が備えられている。
【0004】
図5は、従来の透過照明系、及び落射照明系の両方を備えた顕微鏡を示し、この図5において、不図示の光源からの照明光は、光ファイバ束1A及び1Bによってそれぞれ透過照明系及び落射照明系に分岐される。先ず、透過照明系において、光ファイバ束1Aの射出口2Aから射出された照明光ILAは、第1リレーレンズ3A、視野絞り4、第2リレーレンズ3B、光路折り曲げ用のミラー5、開口絞り6、及びコンデンサレンズ7を介して、光透過性の基板8上の被検物9を透過照明する。被検物9を含む照明領域は、視野絞り4によって制限され、透過照明系の開口数(N.A.)は開口絞り6、又は射出口2Aの発光部(2次光源)の大きさによって制限されている。
【0005】
また、射出口2Aの射出面と被検物9が形成されている面(被検面)とは光学的にフーリエ変換の関係にある、即ちその射出面の発光部(2次光源)の像がコンデンサレンズ7の前側焦点面に形成されて、所謂ケーラー照明となっている。そして、被検物9からの照明光は、第1対物レンズ10、開口絞り11、ハーフミラー12、及び第2対物レンズ13を介して、2次元CCDよりなる撮像素子14の撮像面に被検物9の像を形成する。
【0006】
一方、落射照明系において、光ファイバ束1Bの射出口2Bから射出された照明光ILBは、リレーレンズ15、視野絞り16、及びコンデンサレンズ17を介してハーフミラー12に達し、ハーフミラー12で反射された照明光ILBが開口絞り11、及び第1対物レンズ10を経て基板8上の被検物9を落射照明する。この際の照明領域は、視野絞り16によって制限され、落射照明系の開口数は開口絞り11、又は射出口2Bの発光部(2次光源)の大きさによって制限されている。この落射照明系においても、射出口2Bの射出面と被検面とは光学的にフーリエ変換の関係にあり、ケーラー照明となっている。そして、観察時には、被検物9が光透過性の基板8に形成されている場合には、例えば透過照明系を使用し、被検物9が形成されている基板が不透明である場合には、落射照明系を使用するというように、両照明系を切り換えて使用していた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記の如き従来の技術において、例えば透明基板上に形成されている被検物のみを観察対象とする場合には、透過照明系のみを有する顕微鏡が使用できる。しかしながら、透過照明系はその透明基板を介して結像系と対向するように配置され、且つ光ファイバ束等の光源からコンデンサレンズまでを含む光学系であるため、顕微鏡が全体として大型化するという不都合があった。更に、被検物を挟んで対向して配置される結像系と透過照明系との光軸合わせ等の組立調整にも時間を要していた。
【0008】
また、例えばプロキシミティ方式の露光装置では、落射照明系と透過照明系との両方を有するアライメント顕微鏡が使用されているが、この場合には結像系側に落射照明系が付加されているため、更に顕微鏡が大型化して、露光装置側に組み込む際に大きなスペースが必要であるという不都合があった。更に、そのアライメント顕微鏡では、ガラス基板を支持する基板ステージの内部に光ファイバ束等を含む透過照明系が配置されていたが、このように基板ステージの内部で光ファイバ束を引き回すのではステージ機構が複雑化すると共に、基板ステージの位置決め精度にも悪影響を及ぼすという不都合があった。
【0009】
本発明は斯かる点に鑑み、簡単な構成で、被検物を透過照明してその像を形成できる観察方法及び装置を提供することを第1の目的とする。
更に本発明は、簡単な構成で落射照明と透過照明との何れの方式でも被検物を照明してその像を形成できる観察方法及び装置を提供することを第2の目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明による観察装置は、例えば図1及び図2に示すように、光透過性の基板(8)に支持された被検物(9)を照明する照明光学系と、その被検物からの照明光を集光する対物光学系(10)を含み、その被検物の像を形成する結像光学系(10,13)と、を有する観察装置において、その照明光学系は、照明光で対物光学系(10)側から基板(8)上の被検領域外の光束通過領域(23)を照明する第1照明光学系(1C,2C,21,12,10)と、基板(8)に関して対物光学系(10)に対向して配置された反射部材(22a;26)を含み、その被検領域外の光束通過領域(23)を通過した照明光を反射してその被検領域に集光する第2照明光学系(22;24)と、を備えたものである。
【0011】
斯かる本発明によれば、その第1照明光学系は従来の落射照明系のように対物光学系(10)側から、光透過性の基板(8)上を照明するが、この際に被検物(9)を含む所定の被検領域外の光束通過領域(23)を照明する。そして、光束通過領域(23)を通過した照明光が反射部材(22a;26)を含む簡単な構成の第2照明光学系(22;24)で反射されてその被検領域に集光される。その第1照明光学系は従来の落射照明系と同様に調整でき、第2照明光学系(22;24)は光束通過領域(23)からの光束をその被検領域に導くように調整すればよいため、組立調整は容易である。
【0012】
この場合、その第1照明光学系からの照明光は対物光学系(10)を通過してもよいが(明視野照明)、対物光学系(10)の外側を通過して基板(8)に向かってもよい(暗視野照明)。
また、その光透過性の基板(8)上のその被検領域外の光束通過領域(23)の形状は輪帯状であることが望ましい。その輪帯状の光束通過領域(23)を通過した照明光をその第2照明光学系で反射集光することによって、その被検領域が等方的に均一に透過照明される。
【0013】
また、本発明において、基板(8)上のその被検領域は第2照明光学系(22;24)の前側焦点面と実質的に同一の面上に配置される。この際に、その第1照明光学系によって光束通過領域(23)に光源像を形成して臨界照明としておくことによって、その被検領域はほぼ所謂ケーラー照明で照明される。
更に、例えば図3に示すように、所定形状の光源(2Da)を有し、この光源からの照明光で対物光学系(10)側から基板(8)上のその被検領域を落射照明する第3照明光学系(1D,2D,27,21,12,10)を設け、その第1照明光学系の光学部材とその第3照明光学系の光学部材との少なくとも一部(21,10)を共通化することが望ましい。斯かる本発明によれば、その第1照明光学系及び第2照明光学系より透過照明系が構成され、その第3照明光学系が落射照明系となり、落射照明系と透過照明系との一部の光学部材が共通化されている。
次に、本発明による露光装置は、マスク(29)上の転写パターンを基板(30)上に転写する露光装置において、そのマスク及びその基板の位置合わせを行うために、上記の本発明の観察装置を備えるものである。
この場合、その露光装置は、さらにその基板を載置するためのステージと、そのステージ上に設けられて、所定の基準マークが形成された光透過性の基板を有する基準部材とを備え、この基準部材がその被検物とされてもよい。
また、本発明による露光方法は、マスク(29)上の転写パターンを基板(30)上に転写する露光方法において、上記の本発明の観察装置を用いて、そのマスクとその基板との位置合わせを行うものである。
また、本発明による観察方法は、光透過性の基板(8)に支持された被検物(9)を対物光学系(10)を介して照明し、かつその対物光学系によりその被検物の像を形成する観察方法において、その対物光学系側からの照明光でその基板上の被検領域外の光束通過領域(23)を照明する第1工程と、その被検領域外の光束通過領域を通過した照明光を反射してその被検領域に集光する第2工程と、所定形状の光源からの照明光でその対物光学系側からその基板上のその被検領域を落射照明する第3工程とを備え、その第1工程及びその第3工程で少なくとも一部(21,10)が共通した光学部材を介して照明するものである。
この発明によれば、その対物光学系側からの照明光は、その基板上の被検領域外の光束通過領域(23)を通過し、この通過した照明光が、反射されてその被検領域を透過照明する。
また、その被検領域外の光束通過領域を通過した照明光を反射した後にその被検領域を照明する透過照明と、その落射照明とを切り換える切り換え工程を備えることが望ましい。
また、その第2工程では、その被検領域外の光束通過領域を通過した照明光を反射してその被検領域に集光する反射部材であってその基板に関してその対物光学系に対向して配置された反射部材が用いられ、この反射部材からの反射光の0次光がその対物光学系に入射しないようにすることが望ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による観察装置の第1の実施の形態につき図1を参照して説明する。本例は透過照明で被検物の観察を行う顕微鏡に本発明を適用したものであり、図1において図5に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。
【0015】
図1(a)は、本例の顕微鏡を示し、この図1(a)において、不図示の光源からの照明光を光ファイバ束1C及び射出口2Cを介して所定の位置に導く。光ファイバ束1Cは、多数の光ファイバをランダムに束ねたものであり、射出口2Cの射出面HCでの発光部を2次光源とみなすことができる。図1(b)に示すように、その射出口2Cの発光部2Caは輪帯状である。なお、被検物によっては、その発光部2Caを例えば矩形の枠状等としてもよい。
【0016】
その輪帯状の発光部から射出された照明光ILCは、光軸AX2に沿ってリレーレンズ21を経てハーフミラー12に至り、ハーフミラー12で反射された照明光ILCは、光軸AX1に沿って開口絞り11、及び第1対物レンズ10を介して光透過性の基板8の表面の被検物9の周囲の輪帯状の光束通過領域23を落射照明する。この場合、照明光ILCの射出面HCと、基板8の被検面(ここでは表面)HPとは共役であり、被検物9の周囲の光束通過領域23は、射出面HCに形成されている輪帯状の発光部(2次光源)2Caの共役像となっている。即ち、光束通過領域23は照明光ILCによって臨界照明されている。
【0017】
本例では、基板8を挟んで第1対物レンズ10と対向するように、反射型コンデンサレンズ22が配置されている。この反射型コンデンサレンズ22は、基板8側に凸面を向けた正の屈折力を有する平凸レンズからなり、基板8と反対側の平面部を反射面22aとしたものである。また、反射型コンデンサレンズ22の前側焦点面と後側焦点面とは一致し、その前側焦点面が被検面HP上にくるように反射型コンデンサレンズ22の位置が設定されている。
【0018】
そして、被検面HP上の輪帯状の光束通過領域23から基板8を透過した照明光ILCは、反射型コンデンサレンズ22によって集光されつつ反射面22aで反射された後、更に反射型コンデンサレンズ22で集光されて基板8を透過して、被検面HP上の光束通過領域23の内側の円形の被検領域(観察視野)を均一な照度分布で照明する。この場合、被検面HPは反射型コンデンサレンズ22の前側焦点面で且つ後側焦点面でもあるため、その観察視野は輪帯状の光束通過領域23と光学的にフーリエ変換の関係にあり、所謂輪帯のケーラー照明が行われている。
【0019】
その観察視野内にある被検物9からの照明光ILCは、光軸AX1に沿って第1対物レンズ10、開口絞り11、ハーフミラー12、及び第2対物レンズ13を介して撮像素子14の撮像面に被検物9の像を形成する。そして、撮像素子14からの撮像信号を不図示の信号処理装置で画像処理することによって、被検物9の観察、又は位置検出が行われる。
【0020】
このように本例によれば、光ファイバ束1C、射出口2C、リレーレンズ21、ハーフミラー12、及び第1対物レンズ10よりなる第1照明光学系で本来の観察視野(被検領域)の周囲の光束通過領域23を落射照明し、その光束通過領域23を通過した照明光を、反射型コンデンサレンズ22よりなる第2照明光学系で反射集光してその観察視野を透過照明している。従って、従来の透過照明系を備えた顕微鏡と比べて、顕微鏡の構成が簡略化され、且つ反射型コンデンサレンズ22の調整は光束通過領域23を通過した照明光を所望の観察視野に向けるようにするだけでよいため、光学系の組立調整も容易である。また、基板8に関して第1対物レンズ10と対向する側の構成が反射型コンデンサレンズ22のみで簡略であり、更に光ファイバ束等を含まないため、特に露光装置や検査装置等の各種機器への組み込みが極めて容易となっている。
【0021】
なお、図1の例では構成を最も簡略化するために、照明光ILCの射出面HCの共役面(光束通過領域23)と被検面HPと反射型コンデンサレンズ22の前側焦点面とは同一面上になるように構成され、更に被検面HPと反射型コンデンサレンズ22の後側焦点面とが同一になるように構成されている。しかしながら、単に透過照明のみで被検物9を照明すればよい場合には、第1対物レンズ10側から基板8に向かう照明光ILCが被検物9を含む所望の観察視野(被検領域)を照明しないように設定すればよい。また、その観察視野を単に均一な照度分布で照明したい場合には、照明光ILCの射出面HCの像(光源像)を反射型コンデンサレンズ22の前側焦点面にほぼ一致させてほぼケーラー照明とするだけでよい。
【0022】
また、図1の例では射出口2Cの射出面HCの発光部(光ファイバ束の断面形状)を輪帯状としていたが、その発光部を円形として絞り等によって輪帯状、又は矩形の枠状等に2次光源を制限してもよい。前者の場合には射出面HCの光ファイバ束の断面形状によって照明系の開口数(N.A.)が制限され、後者の場合には絞り等によって照明系の開口数が制限される。更に、図1の例では明視野照明となっているが、射出口2Cの外径を大きくしたり、又は反射型コンデンサレンズ22の焦点距離を短くして、反射型コンデンサレンズ22からの照明光ILCの0次光が第1対物レンズ10に入射しないようにして、実質的に暗視野照明としてもよい。
【0023】
次に、上述の第1の実施の形態の変形例につき図2を参照して説明する。この変形例は図1の第2照明光学系としての反射型コンデンサレンズ22を2つの部材に分けたものであり、この図2において図1に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。
図2は本変形例の構成を示し、この図2において、基板8を挟んで第1対物レンズ10と対向するように反射集光光学系24が配置され、この反射集光光学系24は、基板8に近い側から順に正の屈折力を有するコンデンサレンズ25、及び入射する光束をランダムに散乱する粗い反射面を有する反射型拡散板26から構成されている。そして、反射型拡散板26の粗い反射面がコンデンサレンズ25の前側焦点面に位置し、基板8上で被検物9が形成された被検面HPがコンデンサレンズ25の後側焦点面となるように、コンデンサレンズ25及び反射型拡散板26が位置決めされている。その他の構成は図1の例と同様である。
【0024】
図2において、光ファイバ束1Cの射出口2Cから射出された照明光ILCは、リレーレンズ21等を介して被検面HP上の被検物9の周囲の輪帯状の光束通過領域23を臨界照明する。そして、光束通過領域23から基板8を透過した照明光ILCは、コンデンサレンズ25により反射型拡散板26の反射面に集光され、反射型拡散板26の反射面の照射領域は、光ファイバをランダムに束ねた光ファイバ束と同様に疑似的な光源像となる。その反射面の照射領域で拡散された照明光ILCは、コンデンサレンズ25によって集光されて再び基板8を透過して、被検物9を含む被検領域(観察視野)を透過照明する。この場合、被検面HPはコンデンサレンズ25によって反射型拡散板26の表面(疑似的な光源像のある平面)と光学的にフーリエ変換の関係にあるため、疑似的なケーラー照明が行われ、その観察視野での照度分布の均一性は良好である。
【0025】
また、本変形例においても、光ファイバ束1Cの射出口2Cの発光部(2次光源)の外径(若しくは絞りを使用する場合にはその絞りの開口部の大きさ)、又は反射型拡散板26の反射面の大きさによって照明系の開口数を制限できる。更に、反射型拡散板26の反射面の直前に絞り等を配置して、この絞り等によって照明系の開口数を制限するようにしてもよい。
【0026】
次に、本発明の第2の実施の形態につき図3を参照して説明する。本例は、第1の実施の形態に対して更に落射照明系を付加したものであり、この図3において図1に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。
図3(a)は本例の顕微鏡を示し、この図3(a)において、不図示の光源からの照明光は、光ファイバ1C及び1Dを介してそれぞれ射出口2C及び2Dに導かれている。図3(b)に示すように、一方の射出口2Cの発光部(2次光源)2Caの形状は輪帯状であり、図3(c)に示すように、他方の射出口2Dの発光部(2次光源)2Daの形状は円形である。そして、一方の射出口2Cから射出された照明光ILCは、視野合成プリズム28に入射する。視野合成プリズム28は、2つの射出口2C及び2Dからの照明光の光量損失を小さくするために、2つの直角プリズムを斜辺部で貼り合わせてその接合面の輪帯状の外縁部28aを反射面として、円形の中央部28bを透過面としたものである。しかしながら、視野合成プリズム28の代わりに、ハーフミラーやハーフプリズムを使用しても構わない。
【0027】
その照明光ILCは、視野合成プリズム28の接合面の外縁部28aで反射された後、光軸AX2に沿ってリレーレンズ21を経てハーフミラー12に至り、ハーフミラー12で反射された照明光ILCは、開口絞り11、及び第1対物レンズ10を介して、基板8の被検面HP上の被検物9の周囲の輪帯状の光束通過領域23に光源像を形成する。そして、光束通過領域23から基板8を透過した照明光ILCは、反射型コンデンサレンズ22によって反射及び集光された後、再び基板8を透過して、被検面HP上の光束通過領域23の内側の円形の被検領域(観察視野)をケーラ照明によって照明する。
【0028】
他方の射出口2Dから射出された照明光ILDは、リレーレンズ27を経て視野合成プリズム28の接合面の円形の中央部28bを透過した後、光軸AX2に沿ってリレーレンズ21を経てハーフミラー12に至り、ハーフミラー12で反射された照明光ILDは、開口絞り11、及び第1対物レンズ10を介して基板8の被検面HP上の被検物9を含む円形の被検領域(観察視野)を均一な照度分布で落射照明する。即ち、射出口2Dの射出面HDと被検面HPとは光学的にフーリエ変換の関係にあり、照明光ILDによって通常のケーラー照明による落射照明が行われる。それ以外の構成は図1の例と同様であり、被検物9の像が撮像素子14の撮像面に形成される。
【0029】
このように本例では、光ファイバ束1C、射出口2C、リレーレンズ21、ハーフミラー12、及び第1対物レンズ10よりなる第1照明光学系と、反射型コンデンサレンズ22よりなる第2照明光学系によって透過照明系が構成され、光ファイバ束1D、射出口2D、リレーレンズ27、リレーレンズ21、ハーフミラー12、及び第1対物レンズ10よりなる第3照明光学系によって落射照明系が構成されている。そして、透過照明系と落射照明系とで、リレーレンズ21、ハーフミラー12、及び第1対物レンズ10が共通化され、2つの照明光を合成するために1つの視野合成プリズム28が使用されているため、従来のように透過照明系と落射照明系とが完全に独立に構成されている場合と比べて、全体の光学系の構成が簡略化されている。しかも、基板8を挟んで第1対物レンズ10と対向する側に光ファイバ束等の光源を必要としないため、特に露光装置等への組み込みが容易となっている。
【0030】
ここで、本例の顕微鏡における透過照明と落射照明との切り換えについて説明する。例えば、透明な基板8の代わりに、被検面が金属膜等の光反射性の膜で覆われている基板が使用されている場合には、透過照明及び落射照明の両照明系で同時にその基板を照明しても良い。このようにしても、透過照明系によって照明される光束通過領域23は観察視野外となるため、撮像素子14では射出口2Dを含む落射照明系のみで照明された被検物の像が観察されることになる。
【0031】
一方、図3(a)に示すように、光透過性の基板8が使用されている場合に、透過照明及び落射照明の両照明系で同時に基板8を照明すると、撮像素子14では透過照明にて照明された被検物9の像と、落射照明にて照明された被検物9の像とが重なって観察されることになる。しかも、落射照明系から照射された照明光ILDの内で、被検物9の周囲を通って基板8を透過した照明光が、反射型コンデンサレンズ22により反射されて再び被検物9を照明することにもなる。このように反射型コンデンサレンズ22で反射された照明光ILDのもとで、射出口2Dの射出面HDと被検面HPとは共役であるため、その被検物9を含む観察視野に射出口2Dにおける光ファイバ束の繊維による照度むらが引き起こされる。そのため、光透過性の基板8上の被検物9の観察を正確に行うためには、第1の方法として、光源から視野合成プリズム28の間でシャッタ等で照明光ILDを遮光するか、又は照明光ILDを減光して実質的に透過照明系からの照明光ILCのみで被検物9を照明すれば良い。
【0032】
また、第2の方法として、透過照明系の照明光ILCを遮光又は減光すると共に、基板8と反射型コンデンサレンズ22との間に設けた開閉自在のシャッタを閉じて、実質的に落射照明系からで、且つ第1対物レンズ10側からの照明光ILDのみで被検物9を照明するようにしても良い。このように透過照明系と落射照明系との切り換え手段(シャッタ等)や照度調整手段等を設けることによって、本例のような光学部材の一部が共通化された透過照明系及び落射照明系を用途に応じて使い分けることができる。
【0033】
次に、本発明の第3の実施の形態につき図4を参照して説明する。本例は、図3に示した第2の実施の形態における落射照明系を輪帯照明とした顕微鏡を、液晶表示素子製造用のプロキシミティ方式の露光装置のアライメント顕微鏡に適用したものであり、この図4において、図3に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。
【0034】
図4(a)は本例のアライメント顕微鏡を示し、この図4(a)において、転写用パターンが形成されたガラス基板よりなるマスク29と、フォトレジストが塗布されたガラス基板30とが所定の隙間を保って不図示のステージ系に保持されている。露光時には、露光光のもとでマスク29の下面(パターン形成面)のパターンがガラス基板30の上面に転写されるが、その前にマスク29の下面のアライメントマーク31等とガラス基板30の上面のアライメントマーク32等との位置合わせを行う必要がある。その位置合わせ用として、マスク29及び基板30を挟むように本例のアライメント顕微鏡が配置されている。
【0035】
図4(a)において、透過照明時には、一方の光ファイバ束1Cの射出口2Cの輪帯状の発光部2Ca(図4(b)参照)から射出された照明光ILCは、ハーフプリズム33で反射された後、リレーレンズ21、ハーフミラー12を経た後、光軸AX1に沿って開口絞り11、及び第1対物レンズ10を介してマスク29とガラス基板30との間で、光軸AX1の周囲の輪帯状の光束通過領域に光源像を形成する。この場合、予め光軸AX1の近傍にマスク29上のアライメントマーク31とガラス基板30上のアライメントマーク32とが大まかに位置決めされている。そして、マスク29及びガラス基板30を透過した照明光ILCは、反射型コンデンサレンズ22で反射集光された後、再びガラス基板30を透過してアライメントマーク32及び31を含む被検領域(観察視野)を輪帯のケーラー照明方式で透過照明する。
【0036】
また、落射照明時には、他方の光ファイバ束1Eの射出口2Eの輪帯状の発光部(2次光源)2Ea(図4(c)参照)から射出された照明光ILEは、リレーレンズ27、視野絞り34を経てハーフプリズム33を透過した後、リレーレンズ21、ハーフミラー12、開口絞り11、及び第1対物レンズ10を介してマスク29のアライメントマーク31、及びガラス基板30のアライメントマーク32を含む被検領域を落射照明する。この際に、射出口2Eの射出面はリレーレンズ27及び21によって、開口絞り11の配置面と共役となっており、且つ開口絞り11の配置面は第1対物レンズ10の前側焦点面と一致しているため、その落射照明は輪帯のケーラー照明となっている。この結果、落射照明された照明光ILEの内でガラス基板30を透過した光束は、反射型コンデンサレンズ22によって反射された後、その被検領域(観察視野)の外側を通るようになり、その観察視野内で照度むらが生ずることがない。
【0037】
それ以外の構成は図3の例と同様であり、対物レンズ10及び13によるアライメントマーク31,32の像が撮像素子14上に形成される。そして、撮像素子14からの撮像信号を画像処理することによってアライメントマーク31と32との位置ずれ量が検出され、この位置ずれ量を所定の許容範囲に収めるようにマスク29又はガラス基板30の位置が調整される。
【0038】
このように本例によれば、透過照明、及び落射照明共に輪帯のケーラー照明を行うことによって、透過照明、又は落射照明の何れを用いた場合でも照度むらを生ずることなく、均一にアライメントマーク29,30を照明することができる。そのため、例えば射出口2C及び2Eの直前に設けたシャッタによって、透過照明と落射照明とを切り換えた場合には、それぞれ撮像素子14上に良好な観察像を得ることができる。また、光ファイバ束1C及び1Eに供給する照明光の光量を調整する機構を設け、透過照明と落射照明とを同時に行った状態で、その光量調整機構を介して照明光ILC及びILEの照度を調節することによって撮像素子14上に最良な観察像を得ることもできる。
【0039】
なお、本発明の観察装置は、例えば半導体素子、液晶表示素子等を製造する場合に使用され、投影光学系を介してレチクルのパターン像をウエハ又はガラスプレート等の上に転写する投影露光装置(ステッパー等)のアライメント系としても使用できる。即ち、このような投影露光装置では、ウエハ等が載置されるウエハステージ上に光透過性の基板よりなり所定の基準マークが形成された基準部材が固定され、この基準部材の底部に光ファイバ束等を含む透過照明系を備えたものがある。そして、その透過照明系でその基準マークを照明し、この基準マークの投影光学系による像をレチクル上のアライメントマークを介して受光することによって、その基準マークに対するアライメントマークの位置ずれ量が検出される。この場合、本発明を適用してその基準部材の底部に例えば図1の反射型コンデンサレンズ22を配置することによって、ウエハステージ側の構成を簡略化できる。
【0040】
このように、本発明は上述の実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。
【0041】
【発明の効果】
本発明によれば、第1照明光学系によって対物光学系側から基板上の被検領域外の光束通過領域を照明し、第2照明光学系によってその光束通過領域を通過した照明光を反射してその被検領域に集光するか、又は対物光学系側からの照明光で基板上の被検領域外の光束通過領域を照明する第1工程と、その被検領域外の光束通過領域を通過した照明光を反射してその被検領域に集光する第2工程と、を備えているため、従来の透過照明系を使用する場合と比べて簡単な構成で透過照明を行うことができる。且つ、その第2照明光学系はその光束通過領域を通過した照明光をその被検領域に向ければよいだけであるため、組立調整が容易である利点がある。また、本発明の観察装置はその基板に対してその対物光学系と対向するその第2照明光学系側の構成が簡略であり、且つその第2照明光学系には光ファイバ等の光源を備える必要がないため、露光装置や検査装置等に容易に組み込むことができる。
【0042】
この場合、その基板上のその被検領域外の光束通過領域の形状が輪帯状であるときには、その被検領域を等方的に均一な照度分布で照明できる。
また、その基板上の被検領域がその第2照明光学系の前側焦点面と実質的に同一の面上に配置された場合には、特にその第1照明光学系でその光束通過領域を臨界照明しておくことによって、ほぼケーラー照明が実現されて、光源(2次光源)の輝度分布のむらの影響が軽減される。この際に、その光束通過領域の形状が輪帯状であると、輪帯のケーラー照明となる。
【0043】
更に、所定形状の光源からの照明光でその対物光学系側からその基板上の被検領域を落射照明する第3照明光学系を設け、その第1照明光学系の光学部材とその第3照明光学系の光学部材との少なくとも一部を共通化した場合には、その第1照明光学系及び本発明の第2照明光学系より透過照明系が構成され、その第3照明光学系が落射照明系となり、落射照明系と透過照明系との一部の光学部材が共通化されたことになる。従って、簡単な構成で落射照明と透過照明との何れの方式でも被検物を照明してその像を形成できる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明による観察装置の第1の実施の形態を示す一部を切り欠いた構成図、(b)は図1(a)中の射出口2Cを示す正面図である。
【図2】その第1の実施の形態の変形例を示す一部を切り欠いた構成図である。
【図3】(a)は本発明の第2の実施の形態を示す一部を切り欠いた構成図、(b)は図3(a)中の射出口2Cを示す正面図、(c)は図3(a)中の射出口2Dを示す正面図である。
【図4】(a)は本発明の第3の実施の形態を示す一部を切り欠いた構成図、(b)は図4(a)中の射出口2Cを示す正面図、(c)は図4(a)中の射出口2Eを示す正面図である。
【図5】従来の透過照明系及び落射照明系を備えた観察装置の一例を示す一部を切り欠いた構成図である。
【符号の説明】
1C,1D,1E 光ファイバ束
2C,2D,2E 射出口
8 基板
9 被検物
10 第1対物レンズ
11 開口絞り
13 第2対物レンズ
14 撮像素子
21 リレーレンズ
22 反射型コンデンサレンズ
23 光束通過領域
25 コンデンサレンズ
26 反射型拡散板
28 視野合成プリズム
Claims (25)
- 光透過性の基板に支持された被検物を照明する照明光学系と、前記被検物からの照明光を集光する対物光学系を含み、前記被検物の像を形成する結像光学系と、を有する観察装置において、
前記照明光学系は、
照明光で前記対物光学系側から前記基板上の被検領域外の光束通過領域を照明する第1照明光学系と;
前記基板に関して前記対物光学系に対向して配置された反射部材を含み、前記被検領域外の光束通過領域を通過した照明光を反射して前記被検領域に集光する第2照明光学系と;を備え、
前記基板上の前記被検領域は前記第2照明光学系の前側焦点面と実質的に同一の面上に配置されたことを特徴とする観察装置。 - 請求項1記載の観察装置であって、
前記基板上の前記被検領域外の光束通過領域の形状は輪帯状であることを特徴とする観察装置。 - 請求項1又は2記載の観察装置であって、
所定形状の光源からの照明光で前記対物光学系側から前記基板上の前記被検領域を落射照明する第3照明光学系を設け、
前記第1照明光学系の光学部材と前記第3照明光学系の光学部材との少なくとも一部を共通化したことを特徴とする観察装置。 - 請求項3記載の観察装置であって、
前記第3照明光学系は前記基板上の前記被検領域をケーラー照明することを特徴とする観察装置。 - 請求項3又は4記載の観察装置であって、
前記第2照明光学系及び前記第3照明光学系の双方を用いて前記基板上の前記被検領域を照明することを特徴とする観察装置。 - 請求項3〜5の何れか一項記載の観察装置であって、
前記光源からの照明光を遮光するか、又は前記光源からの照明光を減光する照度調整手段を備えることを特徴とする観察装置。 - 請求項6記載の観察装置であって、
前記第2照明光学系及び前記第3照明光学系は前記照度調整手段をそれぞれ備えることを特徴とする観察装置。 - 請求項3〜7の何れか一項記載の観察装置であって、
前記被検領域外の光束通過領域を通過した照明光を反射した後に前記被検領域を照明する透過照明と、前記落射照明とを切り換える切り換え手段を備えることを特徴とする観察装置。 - 請求項8記載の観察装置であって、
前記切り換え手段は、前記基板と前記反射部材との間に設けられたシャッタを備えることを特徴とする観察装置。 - 請求項8記載の観察装置であって、
前記切り換え手段は、前記第1照明光学系及び前記第3照明光学系にそれぞれ設けられたシャッタを備えることを特徴とする観察装置。 - 請求項1〜10の何れか一項記載の観察装置であって、
前記第2照明光学系は前記基板上の前記被検領域をケーラー照明することを特徴とする観察装置。 - 請求項1〜11の何れか一項記載の観察装置であって、
前記第2照明光学系はレンズを備えることを特徴とする観察装置。 - 請求項1〜12の何れか一項記載の観察装置であって、
前記反射部材は反射型拡散板を備えることを特徴とする観察装置。 - マスク上の転写パターンを基板上に転写する露光装置において、
前記マスク及び前記基板の位置合わせを行うために、請求項1〜13の何れか一項記載の観察装置を備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項14記載の露光装置であって、
前記マスク上の前記転写パターンの像を前記基板上に形成する投影光学系をさらに備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項15記載の露光装置であって、
前記基板を載置するためのステージと;
前記ステージ上に設けられて、所定の基準マークが形成された光透過性の基板を有する基準部材と;
を備え、
該基準部材を前記被検物とすることを特徴とする露光装置。 - マスク上の転写パターンを基板上に転写する露光方法において、
請求項1〜13の何れか一項記載の観察装置を用いて、前記マスクと前記基板との位置合わせを行うことを特徴とする露光方法。 - 光透過性の基板に支持された被検物を対物光学系を介して照明し、かつ前記対物光学系により前記被検物の像を形成する観察方法において、
前記対物光学系側からの照明光で前記基板上の被検領域外の光束通過領域を照明する第1工程と;
前記被検領域外の光束通過領域を通過した照明光を反射して前記被検領域に集光する第2工程と;
所定形状の光源からの照明光で前記対物光学系側から前記基板上の前記被検領域を落射照明する第3工程と;を備え、
前記第1工程及び前記第3工程で少なくとも一部が共通した光学部材を介して照明することを特徴とする観察方法。 - 請求項18記載の観察方法であって、
前記基板上の前記被検領域外の光束通過領域の形状は輪帯状であることを特徴とする観察方法。 - 請求項18又は19記載の観察方法であって、
前記第3工程では、前記基板上の前記被検領域をケーラー照明することを特徴とする観察方法。 - 請求項18、19、又は20記載の観察方法であって、
前記被検領域外の光束通過領域を通過した照明光を反射した後に前記被検領域を照明する透過照明と、前記落射照明とを切り換える切り換え工程を備えることを特徴とする観察方法。 - 請求項21記載の観察方法であって、
前記第1工程では、前記対物光学系側からの照明光で前記基板上の被検領域外の光束通過領域のみを照明することを特徴とする観察方法。 - 請求項18〜22の何れか一項記載の観察方法であって、
前記第2工程では、前記被検領域外の光束通過領域を通過した照明光を反射して前記被検領域に集光する反射部材であって前記基板に関して前記対物光学系に対向して配置された反射部材が用いられ、該反射部材からの反射光の0次光が前記対物光学系に入射しないようにすることを特徴とする観察方法。 - 請求項18〜23の何れか一項記載の観察方法であって、
前記照明光を遮光又は減光する工程を備えることを特徴とする観察方法。 - 請求項18〜24の何れか一項記載の観察方法であって、
前記第2工程では、前記基板上の前記被検領域をケーラー照明することを特徴とする観察方法。
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