JP3637528B2 - Clay tile manufacturing method - Google Patents

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Description

【0001】
【発明が属する技術分野】
この発明は、複数枚の瓦素地を加圧成形して乾燥させ、乾燥後の瓦素地を焼成用台車の棚板に水平状態に積み重ねて焼成し、焼成された瓦素地を施釉して釉薬を焼成させる粘土瓦の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
この種の一般的な従来の技術は、広く知られるように瓦素地を加圧成形した後、成形された瓦素地を水平状態で乾燥させ、乾燥された瓦素地に施釉し、施釉された瓦素地を焼成用台車の棚板上に多数立設させ、焼成用台車を焼成炉に送り込み、瓦素地の焼成を行う方法である。
【0003】
この方法における焼成は、焼成用台車の棚板に施釉された瓦素地を垂直方向に立設することができることから、棚板上に多数の瓦素地を載置できるので、台車の有効活用と瓦素地の焼成効率の向上化に寄与する。
【0004】
ところが、焼成処理に先立って水平状態で予め乾燥させることにより瓦素地の変形や亀裂を抑制するようにしているものの、焼成工程では、瓦素地を立設させて焼成するから、焼成時に変形や亀裂が発生し、乾燥における変形や亀裂の抑制を図る意図が無駄になり、いわゆる粘土瓦の生産上の歩留りの減少を回避できないという基本的問題が残存した。
【0005】
瓦素地の変形や亀裂を抑制する焼成方法として、瓦素地の姿勢を水平状態に保って行うことが物理的に好ましい。
【0006】
そこで、瓦素地の姿勢を水平状態に保って焼成を行う方法は、知られているようにいわゆる匣鉢と称するものが採用され、匣鉢に瓦素地を水平状態で詰め込み、瓦素地が詰め込まれた匣鉢を焼成用台車に多数積み重ねることにより焼成が行われた(たとえば、特開平8−187716号公報を参照)。
【0007】
ところが、この焼成方法では比較的消耗の激しい匣鉢を多数用意せざるを得ない面倒さがあり、しかも、匣鉢によって奪われる熱損失を考慮せざるを得なく、瓦素地の焼成に必要な熱エネルギーのほかに匣鉢によって奪われる熱損失分相当の熱エネルギーを加える必要があり、瓦素地1枚当たりに必要な熱エネルギーが増加し、焼成効率が低下するという問題があった。
また、匣鉢を多数積み重ねるため、瓦素地を搭載する焼成用台車のスペースに制約を受け、焼成用台車に搭載される瓦素地の枚数が少なくなる結果、台車の有効活用が抑制されるほか、瓦素地の焼成効率の低下を招くという問題があった。
【0008】
後者の従来例の問題点を解消を示唆する例として特開昭52−63208号公報に記載された陶磁質タイルの製造方法がある。
【0009】
この従来例は、タイル生地のいわゆる裸焼きと称されている焼成方法であり、表面の周縁部に全周縁にわたってクッション部と称されている部分を成形させたタイル生地か、又は前記したクッションの内側に隣接する微小な山形起伏を有するタイル生地を複数設け、第1枚目のタイル生地の表面と第2枚目のタイル生地の裏面とを水平状態に積み重ねることにより、表面のクッション部又はクッション部の内側に隣接する微小な山形形状のみが裏面と接触させて締め焼きする方法である。
【0010】
しかしながら、このタイルの製造方法を粘土瓦の製造方法に直ちに転用することができない事情がある。
その理由は、表面の周縁部に全周縁にわたってクッション部と称されている部分を成形させた粘土瓦用の瓦素地か、又は前記したクッションの内側に隣接する微小な山形起伏を有する粘土瓦用の瓦素地を複数設けることは、粘土瓦としての機能を明らかに損なうからである。
【0011】
つまり、瓦は家屋への雨水の浸入を防ぐために重ねて葺くことが必要であり、そして互いに瓦が重なる部分は、頭、尻、桟、差し込みの周縁にすべて存在する。
【0012】
このため、瓦素地の全周縁に亘ってクッション部を設けることや、クッション部の内側に山形起伏を設けることは、とくに頭および桟の重なり部分の機能の重大な障害となり、タイルの製造方法を粘土瓦の製造方法に適用することは事実上不可能であった。
【0013】
また、釉薬が施された瓦素地の場合、瓦素地を互いに積み重ねて焼成すると、焼成により溶融した釉薬が瓦素地間に浸透し、焼成された瓦素地の冷却とともに冷却された釉薬が瓦に固着し、釉薬により互いに接着された焼成後の瓦を剥がす必要があるほか、瓦素地を剥がす際に瓦が破損するという問題が生じ、生産上の面からも実現は困難であった。
【0014】
一方、従来では焼成前の瓦素地に釉薬を塗布し、施釉された瓦素地を塗布された釉薬と同時に焼成することが一般的であった。
ところが、焼成前の瓦素地は気孔率が高いほか、強制乾燥による瓦素地の水分蒸発に伴い瓦素地の表面に多数の気孔を生じることが多く、このために塗布された釉薬とともに瓦素地を焼成すると、瓦素地の表面に生じた気孔により起因するピンホールが発生するおそれがあり、不良品を生じてしまうという問題があった。
その上、施釉された瓦素地と塗布された釉薬を同時に焼成するので、焼成後の冷却時において、瓦素地と釉薬の熱応力による収縮が異なり、その結果、瓦素地の変形や亀裂を助長するほか、焼成された釉薬にひび割れなどの不具合が発生しがちであった。
【0015】
さらに、従来では気孔率が高い瓦素地に釉薬を塗布するため、気孔率の高い焼成前の瓦素地に吸収される釉薬の量が多くなり、高価な釉薬の無駄を生じるほか、釉薬の量が多くなることから塗布された釉薬の乾燥に時間を要するほか、焼成時に溶融する釉薬が一層多くなりなりがちであり、棚板と瓦素地との固着を招くおそれがあった。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】
この発明が、解決しようとする課題は、成形および乾燥の際に変形や亀裂に抑制するように瓦素地の姿勢を水平状態に折角保ってその処理を行っても、焼成用台車に瓦素地を立設して焼成するため、変形や亀裂が生じる点にある。
【0017】
また、瓦素地の姿勢を水平状態に保って焼成する場合、焼成用台車に瓦素地を立設して焼成する方法と同じ程度に瓦素地の載置数を設定するためには、匣鉢を利用する必要があり、大幅に焼成効率が低下する点などにある。
【0018】
さらに、タイルの焼成方法のように互いに瓦素地を積み重ねて焼成すると、瓦の機能を損うほか、釉薬が互いに瓦素地を接着するように固着し生産上の問題を生じるため、タイルの焼成方法を転用できない点にある。
【0019】
また、焼成前の瓦素地に釉薬を塗布し、瓦素地と瓦素地に塗布された釉薬を同時に焼成するため、熱応力の異なる瓦素地と釉薬が焼成後の冷却時において、収縮に差が発生し、瓦素地の変形や亀裂が生じやすいほか、釉薬にひび割れなどの不具合が発生する点にある。
【0020】
また、焼成前の瓦素地に釉薬を塗布し、施釉された瓦素地を焼成するため、気孔率の高い焼成前の瓦素地に吸収される釉薬の量が多くなり、高価な釉薬の無駄を生じる点、釉薬の量が多くなることから塗布された釉薬の乾燥に時間を要する点、焼成時に溶融する釉薬が一層多くなりがちであり、棚板と瓦素地との固着を招くおそれがある点にある。
【0021】
この発明の目的は、成形、乾燥および焼成の一連の工程において変形や亀裂を防止するとともに、瓦としての機能を損なわないほか、焼成された瓦素地に対する釉薬の固着という生産上の問題を生じることなく、塗布する釉薬の使用量を抑制し、効率的に変形や亀裂のない瓦素地を焼成することのできる粘土瓦の製造方法の提供にある。
【0022】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明の粘土瓦の製造方法は、粘土瓦の瓦素地を加圧成形した後、加圧成形された瓦素地を乾燥させ、乾燥された瓦素地を焼成用台車の棚板に載置させて焼成する粘土瓦の製造方法において、屋根葺き時における粘土瓦の裏面の暴露部に複数の凸部が設けられてなる瓦素地を水平状態で複数枚成形した後、瓦素地を水平状態で乾燥させ、乾燥後の複数枚の瓦素地を互いに同一方向であってかつ水平状態に積み重ねた瓦素地群となし、瓦素地の凸部を介して各瓦素地との間に間隙を形成した上、瓦素地群を棚板に載置した後焼成し、焼成された瓦素地群の瓦素地に対して順次釉薬を塗布し、塗布された瓦素地の釉薬を焼成することを特徴とするものである。
【0023】
ここで、屋根葺き時における粘土瓦の裏面の暴露部とは、粘土瓦を互いに重ねて屋根に葺いたときに重なることなく開放された裏面の部分を意味している(図2および図8)。
【0024】
裏面に形成された凸部とは、点状である場合、連続的または不連続の突条や帯状である場合、あるいは点状と突条の組み合わせの場合を含む。
【0025】
請求項2記載の発明の粘土瓦の製造方法は、請求項1記載の粘土瓦の製造方法において、釉薬が塗布された瓦素地を傾斜状態に保ちつつ、瓦素地の釉薬を焼成することを特徴とするものである。
【0026】
請求項3記載の発明の粘土瓦の製造方法は、請求項1記載の粘土瓦の製造方法において、釉薬が塗布された瓦素地を水平状態に保ちつつ、瓦素地の釉薬を焼成することを特徴とするものである。
【0027】
請求項4記載の発明の粘土瓦の製造方法は、請求項1記載の粘土瓦の製造方法において、釉薬が塗布された瓦素地を自立させた状態を保ちつつ、瓦素地の釉薬を焼成することを特徴とするものである。
【0028】
請求項5記載の発明の粘土瓦の製造方法は、請求項1記載の粘土瓦の製造方法において、焼成された瓦素地に650℃以下で焼成される釉薬を塗布することを特徴するものである。
【0029】
【作用効果】
請求項1記載の発明の粘土瓦の製造方法は、上記の構成であるから、成形から瓦素地の焼成に至る一連の工程において瓦素地を常に統一した水平状態で処理することになるため変形や亀裂が抑制され、歩留まりの向上を図ることができる。
また、瓦素地が焼成されて焼き固められた後に、釉薬を塗布し釉薬のみを焼成するので、釉薬の焼成による瓦素地に対する熱応力は小さく、焼成後の冷却時における瓦素地と釉薬の収縮の差による影響が抑制され、釉薬が塗布された瓦素地に変形や亀裂が生じるおそれはなく、塗布された釉薬に不具合が生じるおそれがない。
さらに、塗布された釉薬を焼成するために必要な熱があればよいので、瓦素地全体を焼成することなく釉薬のみが焼成され、釉薬の焼成を1時間以内にすることができ、無駄な熱エネルギーの消費を抑制することができる。
【0030】
また、屋根葺き時における粘土瓦の裏面の暴露部に設けられた凸部を介して各瓦素地を積み重ね、間隙を有する瓦素地群とした上、焼成用台車に搭載して焼成するので、瓦としての機能を損なうことのない瓦が得られるとともに効率的な瓦素地の焼成が行える。
その上、焼成された瓦素地に釉薬を塗布し、塗布された釉薬を焼成するため、焼成前の瓦素地に比較して気孔率の低い焼成された瓦素地であるため、ピンホールの発生が抑制されるほか、塗布する釉薬の量は抑制され、釉薬の乾燥時間の短縮化が図れるほか、焼成効率の向上、釉薬の固化による瓦素地の接着や瓦の破損を防止することができる。
【0031】
請求項2記載の発明の粘土瓦の製造方法は、上記の構成であるから、請求項1記載の発明の効果を奏することのほか、釉薬が塗布された瓦素地を傾斜状態に保ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成することにより、釉薬が溶融して焼成用台車に付着することがないほか、瓦素地の頭に釉薬が滴状に残留することがない。
【0032】
請求項3記載の発明の粘土瓦の製造方法は、上記の構成であるから、請求項1記載の発明の作用効果を奏することのほか、釉薬が塗布された瓦素地を水平保ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成することにより、釉薬が塗布された焼成後の瓦素地の変形や亀裂が確実に抑制され、一層の歩留まりの向上を図ることができる。
【0033】
請求項4記載の発明の粘土瓦の製造方法は、上記の構成であるから、請求項1記載の発明の作用効果を奏することのほか、釉薬が塗布された瓦素地を自立させた状態を保ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成することにより、姿勢制御部材を必要することなく瓦素地の姿勢を保つことが比較的容易であり、瓦素地に塗布された釉薬の焼成が手軽に行える。
【0034】
請求項5記載の発明の粘土瓦の製造方法は、上記の構成であるから、請求項12、3または4記載の発明の効果を奏することのほか、焼成された瓦素地に650℃以下で焼成される釉薬を塗布することにより、釉薬の焼成に必要な熱エネルギーを抑制することができ、効率的な釉薬の焼成が行えるほか、瓦素地に対する熱応力をより軽減させることができ、釉薬の焼成時に瓦素地の変形や亀裂が生じることはない。
【0035】
【発明の実施の形態】
この発明の実施の形態を図面を参照して以下に説明する。
図1は、この発明に採用されたF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地の裏面斜視図、図2はF形粘土瓦の桟瓦を屋根に葺いたときの裏面の状態を示す斜視図、図3はこの発明の工程を示す工程図、図4は焼成用台車の棚板上に複数枚のF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地を載置させて焼成を行っている状態を示す要部の正面図、図5は焼成用台車の棚板上に複数枚のF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地を載置させて焼成炉内で焼成を行っている状態を示す要部の側面図、図6は焼成されたF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地に塗布された釉薬を焼成する工程を示す側面図である。
図7はこの発明に採用されたJ形粘土瓦の桟瓦の裏面斜視図、図8はJ形粘土瓦の桟瓦を屋根に葺いたときの裏面の状態を示す斜視図、図9は複数枚のJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地を焼成用台車の棚板上に積み重ねて焼成する状態を示す拡大正面図、図10は焼成されたJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地に塗布された釉薬を焼成する工程を示す斜視図、図11はさらに別の実施の形態に係る焼成された瓦素地に塗布された釉薬を焼成する工程を示す斜視図である。
【0036】
この発明の実施の形態に係る粘土瓦の製造方法は、水分を含んだ粘土原料を加圧成形し、未乾燥の瓦素地を得る成形工程、未乾燥の瓦素地を水平状態で乾燥させる乾燥工程、乾燥された瓦素地を焼成用台車に積み重ねて焼成させる焼成工程、焼成された瓦素地に釉薬を塗布する工程、瓦素地に塗布された釉薬を焼成する工程から基本的に構成されている。
【0037】
そこで、この実施の形態においてはF形粘土瓦の桟瓦(日本工業規格5208A、図1を参照)の製造方法についてまず説明する。
【0038】
成形工程においては、上型12aと下型12bからなる成形型12により、F形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wfの成形時に瓦素地Wfの裏面の複数箇所に凸部14を成形できるようにしている(図3を参照)。
【0039】
瓦素地Wfの裏面の複数箇所に凸部14を形成するため下型12bに凸部14の数や形状に対応した凹部12cが設けられていることはいうまでもない。
【0040】
凸部14は瓦素地Wfの裏面に形成されるが、その位置は、粘土瓦を屋根に葺いた際に粘土瓦としての機能を損なわないよう屋根葺き時における粘土瓦の裏面の暴露部13である。
【0041】
F形粘土瓦の桟瓦Wfは頭に垂れ20を備え、尻に引っ掛け部22を備えている。
また桟瓦Wfを屋根に葺いたときに桟瓦Wfの幅方向について互いに重なる部分があるが(F形粘土瓦の桟瓦と桟瓦用の瓦素地の符号は便宜上共通の符号により表してある。以下J形粘土瓦の桟瓦と桟瓦用の瓦素地の符号についても同様に便宜上共通の符号により表してある)、アンダーラップ部21とオーバーラップ部23によるものである(図1および図2を参照)。
【0042】
図1に示されるF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wfの場合では、一定の間隔毎にかつ点状に9個の凸部14が配設されているが、もとより凸部14の個数に制限されるものではない。
【0043】
瓦素地Wfの裏面に成形された凸部14は点状である場合のほか、連続的または不連続の突条の場合、あるいは点状と突条の組み合わせの場合を含む。
【0044】
図面上、省略してあるが、点状の凸部14に代えて瓦素地Wfの頭寄りと尻寄りに2本の突条が一定の間隔を隔てて形成することにより凸部14としてもよい。
【0045】
これらの凸部14は前記したとおり、屋根葺き時における粘土瓦の裏面の暴露部13に設けられることを必須とするが、要すれば、凸部14を備えた瓦素地Wfの裏面を別の瓦素地Wfの表面に水平状態で載置させたときに、その両者間に焼成時の燃焼ガスが流通するよう間隙15の高さを一定に設けることと、互いに水平状態に積み重ねられた多数の瓦素地Wfからなる瓦素地群Mfを焼成用台車26に載置したときに瓦素地Wfの安定性を目的としているものであるから、この目的を達成できるならば、その形状、位置、数は制約されない。
【0046】
もっとも、瓦素地Wfの頭や尻に裏面に向けていわゆる垂れ20や引っ掛け部22と称されるものを設けられることが一般的であるが、これらの垂れ20や引っ掛け部22が存在する場合では、瓦素地Wfを載置した際に垂れ20や引っ掛け部22が障害とならないようにするため、垂れ20や引っ掛け部22の高さに比較して多少高い凸部14を設けることが好ましい。
【0047】
他方、引っ掛け部22に凸部14の機能を持たせるようにするため引っ掛け部22の高さを凹部14の高さに等しくなるように調整し、引っ掛け部22と凸部14と組み合わせることも発明者は予定している。
【0048】
前記した構成による成形型12により水分を含んだ粘土原料を加圧成形して水平状態の瓦素地Wfを得る。
そして、成形された未乾燥の瓦素地Wfを水平状態を保って乾燥工程へ送り込み、乾燥工程において乾燥させる。
【0049】
この場合、この発明の水分を含んだ柔軟性の高い瓦素地Wfを変形や亀裂を抑制して乾燥させるために、瓦素地Wfを乾燥用受具24に水平状態で1枚毎に載置して乾燥を行う。
【0050】
この実施の形態においては、乾燥用受具24の表面は瓦素地Wfの裏面に形成された凸部14に干渉しないように、凸部14が乾燥用受具24に埋没する通孔25が設けられている。
【0051】
このようにして乾燥された瓦素地Wfは水平状態を保って乾燥されているため、乾燥による変形や亀裂が抑制されている。
【0052】
次に、乾燥された複数枚の瓦素地Wfは水平状態を保ちつつ互いに同一方向に積み重ねられて瓦素地群Mfを形成する。
ここに瓦素地群Mfとは、少なくとも二枚の瓦素地Wfを意味している。
【0053】
この実施の形態では、瓦素地Wfを10枚積み重ねることにより瓦素地群Mfの高さを一定の高さに設定することが意図されているが、焼成炉28の天井の高さを考慮した例である。
【0054】
一般的には瓦素地群Mfの高さは焼成用台車26上で瓦素地群Mfが転倒しない程度とすればよい。(意味がわからない)
【0055】
一般的に瓦素地は立設させて焼成することが普通であるから、既存設備の焼成炉28や焼成用台車26の高さは、瓦素地群Mfの高さを瓦素地Wfの長さ程度にすることにより、既存の焼成炉28や焼成用台車26を変更や改造することなく利用できる(意味がわからない)。
【0056】
したがって、この発明の方法に変更しても既存の焼成炉28や焼成用台車26を変更し、また大幅な改造を必要としないため焼成炉28や焼成用台車26の有効活用を図ることができる。
この実施の形態における瓦素地焼成用の焼成炉は、多数の焼成用台車26が連続的に走行する周知のトンネル式のものであるが、バッチ式の焼成炉でもよく焼成炉の方式に制限されない。
【0057】
焼成用台車26は従来から知られているものであり、焼成用台車26上には瓦素地Wfの幅にほぼ対応する棚板30が焼成用台車26の搬送方向に連続して配設されて列を形成し、棚板30の列が焼成用台車26の幅方向に亘って多数列設されている。
【0058】
とくに、焼成炉28の燃焼ガスが瓦素地群Mfの周囲に均等に及ぶように、棚板30の列の間は、一定の間隔を保たれている。
【0059】
そして、瓦素地群Mfは焼成用台車26の棚板30上に載置され、瓦素地群Mfを満載した焼成用台車26は焼成炉28に送り込まれる。
【0060】
焼成炉28に送り込まれた瓦素地群Mfは、先に説明したように瓦素地Wfの間には、焼成時の燃焼ガスが流通するように間隙15が形成されるから、焼成炉28内の燃焼ガスが瓦素地Wfの間にも行き届く。
【0061】
次に焼成された瓦素地Wfの表面に釉薬Gが塗布されるが、瓦素地Wfは焼成用台車26から積み降ろされ、一枚毎に施釉コンベア60のハンガー62により瓦素地Wfの尻を挟持され傾斜状態に保たれつつ施釉ノズル64に向けて搬送される。
【0062】
施釉ノズル64に向けて搬送された瓦素地Wfは、釉薬ノズル64から流れ出る液状の釉薬Gがその表面に塗布される(図3を参照)。
この実施の形態においては瓦素地Wfの姿勢を傾斜状態に保ちつつ釉薬Gを塗布するようにしたが、別のハンガーにより瓦素地Wfを鉛直方向に吊持し釉薬Gを塗布してもよく、また、液状の釉薬Gを瓦素地Wfに流し掛けるほか、釉薬Gを噴霧させて瓦素地Wfに塗布してもよい。
【0063】
焼成された瓦素地Wfに釉薬Gが塗布されるとき、焼成された瓦素地Wfに焼成の余熱が存在すると、塗布された釉薬Gの乾燥が促進され釉薬Gの乾燥時間の短縮化を図ることができる。
釉薬Gは従来から知られたものでよいが、後述する釉薬Gの焼成に必要な熱量を抑制するほか、釉薬Gの焼成による瓦素地の変形や亀裂を抑制するために従来の釉薬より低温(400〜500℃)で焼成される釉薬を用いることが好ましい(たとえば、特開平11−43386号公報、特開平8−165139号公報を参照)。
【0064】
次に、瓦素地Wfに塗布された釉薬Gを焼成する工程について説明する。
釉薬Gが塗布された瓦素地Wfはハンガー62から取り外され、釉薬焼成用の焼成炉66に送り込まれる。
この実施の形態において採用した釉薬焼成用の焼成炉66は、釉薬Gの焼成を図るためのものあり、瓦素地焼成用の焼成炉と同様にトンネル式のもので多数の焼成用台車68を備えている。
【0065】
焼成用台車68には、釉薬Gを塗布された瓦素地Wfの姿勢を傾斜状態に保つための姿勢制御部材70が多数設けられており、姿勢制御部材70は瓦素地Wfの裏面側の一部に当接し、瓦素地Wfを傾斜状態に保つことができるように図られている。
【0066】
この焼成炉66によれば、釉薬Gの焼成時間は一般的には約30分であり、釉薬Gの焼成は焼成用台車68の入口から出口に至る間に完了する。
そして、瓦素地Wfは傾斜状態を保つように焼成用台車68に多数搭載され、焼成用台車68は焼成炉66に順次送込まれ、瓦素地Wfに塗布された釉薬Gが焼成される。
【0067】
この実施の形態においては、焼成用台68車の走行によるトンネル式の焼成炉66を採用したが、炉内に搬送面を形成する多数の搬送用ローラを備え、被焼成物を連続的に焼成するローラーハース式の焼成炉や被焼成物をまとめて炉内に投入し焼成後に被焼成物をまとめて取り出すバッチ式の焼成炉を採用することもできる。
【0068】
したがって、瓦素地Wfの成形、乾燥、焼成までの一連の工程中、瓦素地Wfは常に水平状態の姿勢に保たれるので、各工程において変形や亀裂を最小限に抑制でき、とくに焼成工程では、瓦素地Wfの凸部14を介して各瓦素地Wfとの間に間隙15を備えた瓦素地群Mfとなし、焼成用台車26の棚板30上で瓦素地群Mfを焼成することから、粘土瓦の機能を損なうことなく効率的な瓦素地Wfの焼成を実現できる。
【0069】
その上、焼成された瓦素地Wfに釉薬Gを塗布し、瓦素地Wfの釉薬Gを焼成することにより、焼成後の緻密な状態にある瓦素地Wfの表面に釉薬Gを塗布するので、釉薬Gを焼成しても瓦素地Wfの気孔に起因するピンホールが発生しない奇麗な仕上げができるほか、釉薬Gの消費量が低減される。
【0070】
また、塗布された釉薬Gの乾燥時間の短縮化を図ることができ、とくに焼成後の瓦素地Wfが余熱を有する場合には、釉薬Gの乾燥時間の短縮が著しい。
【0071】
釉薬Gが塗布された瓦素地Wfを傾斜状態に保ちつつ、瓦素地Wfに塗布された釉薬Gを焼成することにより、釉薬Gが溶融して焼成用台車68に付着することがないほか、瓦素地Wfの頭に釉薬Gが滴状に残留することがない。
【0072】
とりわけ、近時普及化が促進されている板状の形態のF形粘土瓦の桟瓦Wfについては、変形や亀裂のおそれが少なくなかったが、この種の形態のF形粘土瓦の桟瓦Wfの製造に対してとくに有利である。
【0073】
次にF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wfに代えてJ形粘土瓦の桟瓦(日本工業規格5208A、図7を参照)の瓦素地Wjの製造方法について発明の実施の形態を説明する。
【0074】
J形粘土瓦の桟瓦の製造工程は、先の説明したF形粘土瓦の桟瓦の製造工程と基本的に同一であるため、大部分の説明を援用し、相違点について原則的に説明する。
【0075】
J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wjは、成形型を用いた加圧成形により得られるが、J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wfの成形時に瓦素地Wfの裏面の複数箇所に凸部44が形成され、凸部44は瓦素地Wjの裏面に形成されるが、その位置は屋根に葺いた際に粘土瓦としての機能を損なわないように、屋根葺き時における粘土瓦の裏面の暴露部53である(図8を参照)。
図8においてハッチングにより表れた部分が裏面の暴露部53である。
【0076】
図7および図8に示されるように、一定の間隔毎にかつ点状に6個の凸部44が配設されている。
【0077】
次に瓦素地Wjを水平状態に保ちつつ乾燥工程へ送り込み、瓦素地Wfと同様に乾燥用受具を用いて水平状態で乾燥する。
【0078】
次に、乾燥された複数枚の瓦素地Wjは水平状態を保ちつつ互いに同一方向に積み重ねられて瓦素地群Mjを形成する。
【0079】
この実施の形態は、瓦素地群Mjの高さを瓦素地Wjを5枚積み重ねた高さとしている。
【0080】
次に、瓦素地群Mjを焼成用台車26の棚板30に積み込むが、棚板30の載置面が平面であることが一般的であることと、J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wjが有する形状により、瓦素地群Mjを棚板30に直ちに載置することが困難である。
【0081】
すなわち、J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wjの形状は桟から差し込みにかけて断面が波状を呈しており、瓦素地Wjの裏面に設けられた凸部44も瓦素地Wjの裏面の形態に対応して設けられており、瓦素地群Mjを平面を形成する棚板30に直接載置すると、瓦素地群Mjが傾斜するなど安定性に欠けるなどのおそれがある。
【0082】
そこで、焼成用台車26の棚板30に瓦素地群Mj中の最下層に位置する瓦素地Mjの姿勢を制御する制御機構を設け、瓦素地群Mjを制御機構を介して支持させることにより焼成することが好ましい。
【0083】
瓦素地Mjの姿勢を制御する制御機構として次の例が予定される。
この実施の形態においては瓦素地群Mj用の支持部材32を棚板30上に載置し、瓦素地群Mj用の支持部材32を介して瓦素地群Mjを棚板30に載置する工夫が図られている。
【0084】
この実施の形態における瓦素地群Mj用の支持部材32は下面が平面を呈しており、また瓦素地Wjの裏面に設けられた凸部44に対応し、瓦素地Wjの裏面に設けられた凸部44を介して瓦素地群Mjを水平状態に支持することができるように瓦素地群Mj用の支持部材32の上面に支持部34が設けられている。
【0085】
この実施の形態の瓦素地群Mj用の支持部材32では、瓦素地Wjに引っ掛け部42が設けられていることから、引っ掛け部42が干渉しないよう凹陥部36が設けられ、さらに瓦素地群Mjの位置ずれ防止のリブ38が設けられている。
【0086】
瓦素地群Mj用の支持部材32を介して瓦素地群Mjを棚板30上に載置させることにより、棚板30上の瓦素地群Mjの安定性を確保することができる。
【0087】
そして、瓦素地群Mjは焼成用台車26に搭載された後、焼成炉に送り込まれて焼成される。
【0088】
次に焼成された瓦素地Wjの表面に釉薬Gが塗布されるが、瓦素地Wfの場合と同様に、瓦素地Wjは焼成用台車26から積み降ろされ、一枚毎に施釉コンベア(図示せず)のハンガー(図示せず)により瓦素地Wjの尻を挟持される。
この実施の形態においては、瓦素地Wjは施釉コンベアのハンガーにより垂直状態に懸吊され施釉ノズル(図示せず)に向けて搬送される。
施釉ノズルに向けて搬送された瓦素地Wjは、釉薬ノズルから流れ出る液状の釉薬Gがその表面に塗布される。
この実施の形態においても液状の釉薬Gを瓦素地Wjに流し掛けるほか、釉薬Gを噴霧させて瓦素地Wjに塗布してもよい。
【0089】
次に、瓦素地Wjに塗布された釉薬Gを焼成する工程について説明する。
釉薬Gを塗布された瓦素地Wjはハンガーから取り外され、釉薬焼成用の焼成炉66に送り込まれる。
この実施の形態において採用した釉薬焼成用の焼成炉66は、先に説明した実施の形態の焼成炉66と同じであり、多数の焼成用台車68を備えている。
焼成用台車68には棚板75が水平に備えられ、釉薬Gを塗布された瓦素地Wjは尻を棚板75に当接させて瓦素地Wjの姿勢を起立状態に保つことができる。
【0090】
また、瓦素地Wjの転倒防止のために棒状の転倒防止部材74が棚板75の端部付近に立設されている(図10を参照)。
そして、焼成炉66に送りこまれた瓦素地Wjの釉薬Gは、焼成用台車68が入口から出口に至る間の約30分間により焼成される。
【0091】
そして、瓦素地Wjは起立状態を保つように焼成用台車68に多数搭載され、焼成用台車68は焼成炉66に順次送込まれ、瓦素地Wjに塗布された釉薬Gが焼成される。
【0092】
このように、瓦素地Wjの成形、乾燥、焼成までの一連の工程中、瓦素地Wjは常に水平状態の姿勢に保たれるので、各工程において変形や亀裂を最小限に抑制でき、とくに焼成においては、瓦素地Wjの凸部44を介して各瓦素地Wjとの間に間隙45を形成する瓦素地群Wjとなし、焼成用台車26の棚板30上に瓦素地群Mj用の支持部材32を介在させ、瓦素地群Mjを瓦素地群Mj用の支持部材32に載置して焼成をすることから、瓦素地Wjの水平状態を安定させることができ、粘土瓦の機能を損なうことなく効率的な瓦素地Wjの焼成を実現できる。
【0093】
その上、焼成された瓦素地Wjに釉薬Gを塗布し、瓦素地Wjの釉薬Gを焼成することにより、焼成後の緻密な状態にある瓦素地Wjの表面に釉薬Gを塗布するので、釉薬Gを焼成しても瓦素地Wjの気孔に起因するピンホールを発生することがなく奇麗な仕上がりとなるほか、釉薬Gの消費量が低減される。
【0094】
また、塗布された釉薬Gの乾燥時間の短縮化を図ることができ、とくに焼成後の瓦素地Wjが余熱を有する場合には、釉薬Gの乾燥時間の短縮が著しい。
【0095】
釉薬Gが塗布された瓦素地Wjを自立させた状態を保ちつつ、瓦素地Wjに塗布された釉薬Gを焼成することにより、姿勢制御部材などを必要することなく瓦素地Wjの姿勢を保つことが比較的容易であり、瓦素地Wjに塗布された釉薬Gの焼成が瓦素地Wjの焼成と同様に手軽に行える。
【0096】
なお、この実施の形態においては、施釉前の瓦素地群Mjの焼成の際に、瓦素地群Mj用の支持部材32を用いたが、棚板30の上面を瓦素地Wjの裏面に設けられた凸部44に対応させて形成し、瓦素地群Mj用の支持部材32と同等の機能を備えさせ、瓦素地群Mj用の支持部材32を使用しない場合を発明者は予定している。
【0097】
姿勢を制御する制御機構の適用例としてJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wjを挙げたが、J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wj以外の粘土瓦の瓦素地についても適用できることはいうまでもない。
【0098】
また、瓦素地Wjの引っ掛け部42の高さを調整して設け、凸部44の機能を有する引っ掛け部42と凸部44とを組み合わせることも発明者は予定している。
【0099】
さらに、瓦素地群Mjの高さを瓦素地Wjの長さ程度にすることも発明者は予定しており、このことから瓦素地Wjを焼成用台車26に立設して焼成する焼成方法からこの発明の方法に変更しても、既存の焼成炉28や焼成用台車26を変更または大幅な改造を必要としないため、焼成炉28や焼成用台車26の有効活用を図ることができる点も瓦素地Wfの場合と相違しない。
【0100】
また、別の実施の形態として予め瓦素地群Mf、Mjを形成してから、焼成用台車26に瓦素地群Mf、Mjを一括して載置させることなく、瓦素地Wf、Mfを一枚毎に焼成用台車26に積み重ねることにより、爾後、瓦素地群Mf、Mjを形成することも発明者は予定している。
【0101】
さらに別の瓦素地Wjに塗布された釉薬Gを焼成する実施の形態について説明する。
瓦素地Wjの成形、乾燥、焼成についての各工程は先に説明したので援用する。
この実施の形態においては、瓦素地に塗布された釉薬を焼成するためにローラハース式の焼成炉76を採用している。
この焼成炉76は入口から出口に至るまで搬送面を形成する多数の搬送ローラ78を備えたものであり、焼成炉76に設けられた搬送ローラ78は回転自在に制御されており、搬送ローラ78上の被搬送物は連続的に炉内を通過できる構造となっている(図11を参照)。
【0102】
被搬送物である瓦素地Wjの炉内での搬送は、板状の匣鉢80を介して行われるが、この匣鉢80は耐火材料からなり、瓦素地Wjを水平状態で支持する工夫がこらされている。
【0103】
匣鉢80の表面には平行な一対の突条82、82と突条82、82の間に形成される溝84が2組設けられおり、これらの溝84に瓦素地Wjの凸部44が略嵌合され、瓦素地Wjが搬送中に桟および差し込み方向に位置ずれしない。
また溝84の長手方向であって、溝84の両端付近には突片86が設けられ、瓦素地Wjが搬送中に頭尻方向へ位置ずれすることを防止している(図11を参照)。
【0104】
そして、1個の匣鉢80に1枚の瓦素地Wjが水平状態に載置され、瓦素地Wjを載置した匣鉢80は順次焼成炉76に送りこまれ、瓦素地Wjに塗布された釉薬が約30分間で焼成される。
【0105】
この実施の形態では、釉薬Gが塗布された瓦素地Wjを水平保ちつつ、瓦素地Wjに塗布された釉薬Gを焼成することにより、釉薬Gが塗布された焼成後の瓦素地Wjの変形や亀裂が確実に抑制され、不良品の発生を防止し一層の歩留まりの向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に採用されたF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wfの裏面斜視図である。
【図2】F形粘土瓦の桟瓦を屋根に葺いたときの裏面の状態を示す斜視図である。
【図3】この発明の工程を示す工程図である。
【図4】焼成用台車の棚板上に複数のF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地を載置させて焼成炉内で焼成を行っている状態を示す要部の正面図である。
【図5】焼成用台車上に複数枚のJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地を載置させて焼成炉内で焼成を行っている状態を示す要部の側面図である。
【図6】焼成されたF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地に塗布された釉薬を焼成する工程を示す側面図である。
【図7】この発明に採用されたJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地の裏面斜視図である。
【図8】J形粘土瓦の桟瓦を屋根に葺いたときの裏面の状態を示す斜視図である。
【図9】複数枚のJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地を焼成用台車に積み重ねて焼成する状態を示す拡大正面図である。
【図10】焼成されたJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地に塗布された釉薬を焼成する工程を示す側面図である。
【図11】さらに別の実施の形態に係る焼成された瓦素地に塗布された釉薬を焼成する工程を示す側面図である。
【符号の説明】
12 成形型
12a 上型
12b 下型
13 暴露部
14 凸部
15 間隙
21 アンダーラップ部
23 オーバーラップ部
22 引っ掛け部
24 乾燥用受具
26 焼成用台車(瓦素地焼成用)
28 焼成炉(瓦素地焼成用)
30 棚板
32 瓦素地群用の支持部材
34 支持部
36 凹陥部
38 リブ
42 引っ掛け部
44 凸部
53 暴露部
60 施釉コンベア
62 ハンガー
64 施釉ノズル
66 焼成炉
68 焼成用台車(釉薬焼成用)
70 姿勢制御部材(釉薬焼成用)
72 棚板
74 転倒防止部材
75 棚板
76 焼成炉(ローラハース式)
78 搬送ローラ
80 匣鉢
82 突条
84 溝
86 突片
Wf F形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地
Wj J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地
Mf F形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地の瓦素地群
Mj J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地の瓦素地群
G 釉薬
[0001]
[Technical field to which the invention belongs]
In this invention, a plurality of tile bases are pressure-molded and dried, the dried tile bases are stacked and fired horizontally on a shelf board of a baking cart, and the fired tile bases are applied with glaze. The present invention relates to a method for producing a fired clay roof tile.
[0002]
[Prior art]
As is well known, this type of general conventional technique is to press-mold a tile base, and then dry the formed tile base in a horizontal state, glaze the dried tile base, In this method, a large number of substrates are erected on a shelf plate of a firing cart, the firing cart is fed into a firing furnace, and the tile substrate is fired.
[0003]
In this method, the tile base applied to the shelf of the baking cart can be erected in the vertical direction, so that a large number of tile substrates can be placed on the shelf. Contributes to improving the firing efficiency of the substrate.
[0004]
However, although it is intended to suppress the deformation and cracks of the tile base material by drying in advance in a horizontal state prior to the firing treatment, in the firing process, the tile base material is erected and fired. As a result, the intention to suppress deformation and cracks during drying was wasted, and the basic problem that a decrease in production yield of so-called clay roofs could not be avoided.
[0005]
As a firing method for suppressing the deformation and cracking of the tile base, it is physically preferable to keep the tile base in a horizontal state.
[0006]
Therefore, as is known, a method of firing while maintaining the horizontal position of the tile base is adopted as a so-called mortar, in which the tile base is stuffed in the horizontal state and the tile base is stuffed. Firing was performed by stacking a large number of pots on a firing cart (see, for example, JP-A-8-187716).
[0007]
However, this firing method has the trouble of having to prepare a large number of relatively depleted mortars, and it is necessary to consider the heat loss taken away by the mortars, which is necessary for the firing of the tile base. In addition to the heat energy, it is necessary to add heat energy corresponding to the heat loss taken away by the mortar, and there is a problem that the heat energy required per tile base increases and the firing efficiency decreases.
In addition, because a large number of mortars are stacked, the space of the firing cart that mounts the tile base is restricted, and as a result of the reduced number of tile bases mounted on the firing cart, the effective use of the cart is suppressed, There has been a problem in that the firing efficiency of the tile base is reduced.
[0008]
An example of suggesting the solution of the problem of the latter conventional example is a method for producing a ceramic tile described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-63208.
[0009]
This conventional example is a firing method referred to as so-called naked baking of tile fabric, and is a tile fabric in which a portion referred to as a cushion portion is formed over the entire peripheral edge of the surface, or the above-described cushion. By providing a plurality of tile fabrics having minute chevron undulations adjacent to the inside, and stacking the surface of the first tile fabric and the back surface of the second tile fabric in a horizontal state, the cushion portion or cushion on the surface This is a method in which only a small chevron shape adjacent to the inside of the part is brought into contact with the back surface and baked.
[0010]
However, there are circumstances in which this tile manufacturing method cannot be immediately converted to a clay tile manufacturing method.
The reason for this is for clay roof tiles for clay tiles in which a part called a cushion part is formed over the entire periphery at the peripheral edge of the surface, or for clay roof tiles having minute mountain-shaped undulations adjacent to the inside of the cushion. This is because the provision of a plurality of tile bases clearly impairs the function of clay tiles.
[0011]
In other words, the tiles need to be stacked in order to prevent rainwater from entering the house, and the portions where the tiles overlap each other are all on the periphery of the head, buttocks, crosspieces, and plugs.
[0012]
For this reason, providing a cushion part over the entire periphery of the tile base and providing a mountain-shaped undulation on the inside of the cushion part is a serious obstacle to the function of the overlapping part of the head and crosspieces in particular. It was practically impossible to apply to the method of manufacturing clay roof tiles.
[0013]
Also, in the case of tile bases with glaze applied, if the tile bases are stacked and fired, the glaze melted by the firing penetrates between the tile bases, and the cooled glaze adheres to the roof tiles as the fired tile base cools. However, it is necessary to peel off the fired roof tiles bonded to each other by the glaze, and the roof tile is damaged when the tile base material is peeled off, which is difficult to realize from the viewpoint of production.
[0014]
On the other hand, conventionally, it has been common to apply a glaze to a tile base before firing and to fire the glazed tile base simultaneously with the applied glaze.
However, the tile base before firing has a high porosity, and many of the pores are formed on the surface of the tile base due to the evaporation of moisture in the tile base due to forced drying. For this reason, the tile base is fired together with the applied glaze. Then, the pinhole resulting from the pore which arose on the surface of a tile substrate may generate | occur | produce, and there existed a problem that a defective product was produced.
In addition, since the glazed tile base and the applied glaze are fired simultaneously, the shrinkage due to the thermal stress of the tile base and the glaze is different during cooling after firing, and as a result promotes deformation and cracking of the tile base. In addition, defects such as cracks tend to occur in the fired glaze.
[0015]
In addition, since glaze is conventionally applied to a tile base with a high porosity, the amount of glaze absorbed into the tile base before firing with a high porosity is increased, resulting in waste of expensive glaze and the amount of glaze being reduced. In addition to the increased amount of time required to dry the applied glaze, the amount of the glaze that melts during firing tends to increase, and there is a risk of causing the shelf board and the roof tile to adhere to each other.
[0016]
[Problems to be solved by the invention]
The problem to be solved by the present invention is that even if the tile base is kept in a horizontal state so as to suppress deformation and cracking during molding and drying, the tile base is placed on the baking cart even when the processing is performed. Since it is erected and fired, it is in a point that deformation and cracks occur.
[0017]
In addition, when firing with the tile substrate in a horizontal position, in order to set the number of tile substrates to the same level as the method of standing and firing the tile substrate on the firing cart, It is necessary to use it, and the firing efficiency is greatly reduced.
[0018]
In addition, when tiles are stacked and fired as in the tile firing method, the tile functions are impaired, and the glaze adheres to the roof and adheres to each other, causing production problems. Cannot be diverted.
[0019]
In addition, glaze is applied to the tile base before firing, and the glaze applied to the tile base and the tile base is fired at the same time, so there is a difference in shrinkage between the tile base and glaze with different thermal stresses when cooled after firing. In addition, deformation and cracking of the tile base material are likely to occur, and defects such as cracks occur in the glaze.
[0020]
In addition, since the glaze is applied to the tile base before firing and the glazed tile base is fired, the amount of the glaze absorbed by the tile base before firing having a high porosity increases, resulting in the waste of expensive glaze. The point is that the amount of glaze increases, so it takes time to dry the applied glaze, the glaze that melts during firing tends to increase, and there is a possibility that the shelf board and the roof tile may be fixed. is there.
[0021]
The object of the present invention is to prevent deformation and cracking in a series of steps of molding, drying and firing, not to impair the function of the roof tile, and to produce a production problem that the glaze adheres to the fired roof tile. In addition, the present invention provides a method for producing a clay roof tile that can suppress the amount of glaze to be applied and can efficiently fire a tile base material without deformation or cracking.
[0022]
[Means for Solving the Problems]
The method for producing a clay roof according to the first aspect of the present invention is the method of press-molding the clay roof tile base, drying the press-molded roof tile, and applying the dried roof tile to the baking cart shelf. In the method of manufacturing clay tiles that are placed and fired, after forming a plurality of tile bases in a horizontal state with a plurality of protrusions on the exposed part of the back of the clay tile when roofing, the tile bases are leveled The tiles are dried in a state, and a plurality of dried tile bodies are stacked in the same direction and in a horizontal state to form a tile base group, and a gap is formed between each tile base through the convex portions of the tile base. In addition, the tile base group is placed on a shelf board and fired, and then the glaze is applied to the tile base of the fired tile base group, and the applied tile base glaze is fired. Is.
[0023]
Here, the exposed part of the back surface of the clay tile at the time of roofing means the part of the back surface opened without overlapping when the clay tiles are piled on each other and applied to the roof (FIGS. 2 and 8). .
[0024]
The convex part formed on the back surface includes a case of a point shape, a case of a continuous or discontinuous ridge or strip shape, or a combination of a point and a ridge.
[0025]
The method for producing a clay roof according to a second aspect of the invention is characterized in that, in the method for producing a clay roof according to the first aspect, the glaze of the tile base is fired while keeping the tile base coated with the glaze in an inclined state. It is what.
[0026]
A method for producing a clay roof according to a third aspect of the invention is characterized in that, in the method for producing a clay roof according to the first aspect, the glaze of the tile base is baked while keeping the tile base coated with the glaze in a horizontal state. It is what.
[0027]
A method for producing a clay roof according to a fourth aspect of the present invention is the method for producing a clay roof according to the first aspect, in which the glaze of the tile base is fired while the tile base coated with the glaze is maintained in a self-supporting state. It is characterized by.
[0028]
The method for producing a clay roof according to claim 5 is characterized in that, in the method for producing a clay roof according to claim 1, a glaze fired at 650 ° C. or lower is applied to the fired roof tile. .
[0029]
[Function and effect]
Since the manufacturing method of the clay roof according to the first aspect of the present invention has the above-described configuration, the tile base is always processed in a unified horizontal state in a series of steps from molding to firing of the base, so that deformation and Cracks are suppressed and the yield can be improved.
In addition, since the tile base is fired and hardened, the glaze is applied and only the glaze is fired, so the thermal stress on the tile base due to the firing of the glaze is small, and the shrinkage of the tile base and the glaze during cooling after firing is small. The influence due to the difference is suppressed, there is no possibility that deformation or cracking will occur in the tile base to which the glaze is applied, and there is no possibility that a problem will occur in the applied glaze.
Furthermore, since it is sufficient if there is heat necessary for firing the applied glaze, only the glaze is fired without firing the entire roof tile, and the glaze can be fired within one hour, which is wasteful heat. Energy consumption can be suppressed.
[0030]
In addition, the tile bases are stacked through the projections provided on the exposed part of the back of the clay tile when roofing to form a tile base group having a gap, and then mounted on the firing carriage for firing. As a result, a roof tile that does not impair the function of the roof can be obtained and the roof tile can be efficiently fired.
In addition, a glaze is applied to the fired tile base, and the applied glaze is fired. In addition to being suppressed, the amount of the glaze to be applied can be suppressed, the drying time of the glaze can be shortened, the firing efficiency can be improved, and the adhesion of the tile base and the damage of the tile due to the solidification of the glaze can be prevented.
[0031]
Since the manufacturing method of the clay roof according to the second aspect of the present invention has the above-described configuration, in addition to the effects of the first aspect of the invention, the tile roof to which the glaze has been applied is kept in an inclined state while By baking the glaze applied to the substrate, the glaze does not melt and adhere to the baking cart, and the glaze does not remain in the form of drops on the head of the tile substrate.
[0032]
Since the method for producing a clay roof according to the third aspect of the present invention has the above-described configuration, in addition to the effects of the first aspect of the invention, the tile base with the glaze applied is kept horizontal while the glaze base coated with the glaze is kept horizontal. By baking the glaze applied to the glaze, deformation and cracking of the tile base after baking with the glaze applied can be reliably suppressed, and the yield can be further improved.
[0033]
Since the manufacturing method of the clay roof of the invention described in claim 4 has the above-described configuration, in addition to the effects of the invention described in claim 1, the tile base coated with glaze is maintained in a self-supporting state. However, by firing the glaze applied to the tile base, it is relatively easy to maintain the attitude of the tile base without the need for a posture control member, and the glaze applied to the tile base can be easily fired. .
[0034]
Since the manufacturing method of the clay roof of the invention described in claim 5 has the above-described configuration, in addition to the effects of the invention of claim 12, 3 or 4, the fired roof tile is fired at 650 ° C. or lower. By applying the glaze, the thermal energy necessary for the glaze firing can be suppressed, the glaze can be efficiently fired, and the thermal stress on the tile substrate can be further reduced, and the glaze firing Sometimes no deformation or cracking of the tile base occurs.
[0035]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a rear perspective view of a tile base for an F-shaped clay roof tile adopted in the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing a state of the rear surface when the F-shaped clay roof tile is placed on a roof. 3 is a process diagram showing the process of the present invention, and FIG. 4 is a main part showing a state where a plurality of F-shaped clay roof tiles are placed on a shelf board of a baking cart and fired. FIG. 5 is a side view of the main part showing a state where a plurality of F-shaped clay roof tiles are placed on a shelf board of a firing cart and fired in a firing furnace. FIG. 6 is a side view showing the step of firing the glaze applied to the tile base for the fired F-shaped clay roof tile.
FIG. 7 is a rear perspective view of a J-shaped clay roof tile adopted in the present invention, FIG. 8 is a perspective view showing a state of the rear surface when the J-shaped clay roof tile is spread on the roof, and FIG. FIG. 10 is an enlarged front view showing a state in which tile bases for J-shaped clay roof tiles are stacked on a shelf board of a baking cart, and FIG. 10 is applied to the tile base for the fired J-shaped clay roof tiles. FIG. 11 is a perspective view showing a step of firing the glaze applied to the fired roof tile according to still another embodiment.
[0036]
The method for producing a clay roof according to the embodiment of the present invention is a molding process in which a clay raw material containing moisture is pressure-molded to obtain an undried roof tile, and a drying process in which the undried roof tile is dried in a horizontal state. Basically, it is composed of a firing step of stacking and drying the dried tile base on a firing cart, a step of applying a glaze to the fired tile base, and a step of firing the glaze applied to the tile base.
[0037]
In this embodiment, therefore, a method for manufacturing a F-shaped clay roof tile (Japanese Industrial Standard 5208A, see FIG. 1) will be described first.
[0038]
In the molding process, the molding die 12 composed of the upper die 12a and the lower die 12b enables the convex portions 14 to be molded at a plurality of positions on the back surface of the tile base Wf when forming the roof base Wf for the F-shaped clay roof tile. (See FIG. 3).
[0039]
Needless to say, the lower mold 12b is provided with concave portions 12c corresponding to the number and shape of the convex portions 14 in order to form the convex portions 14 at a plurality of locations on the back surface of the tile base Wf.
[0040]
The convex portion 14 is formed on the back surface of the tile base Wf, and the position thereof is the exposed portion 13 on the back surface of the clay tile when roofing so as not to impair the function of the clay tile when the clay tile is spread on the roof. is there.
[0041]
The F-shaped clay roof tile Wf has a drooping 20 on the head and a hook 22 on the hip.
In addition, there is a portion that overlaps with each other in the width direction of the roof tile Wf when the roof tile Wf is spread on the roof (the symbols of the F-shaped clay roof tile and the roof tile base material are represented by common symbols for convenience. Similarly, the signs of the clay roof tile and the roof tile base are also represented by a common reference for the sake of convenience), and are due to the underlap portion 21 and the overlap portion 23 (see FIGS. 1 and 2).
[0042]
In the case of the tile base Wf for the F-shaped clay roof tile shown in FIG. 1, nine convex portions 14 are arranged at regular intervals and in the form of dots. It is not limited.
[0043]
The convex portion 14 formed on the back surface of the tile base Wf includes a case of a point or a continuous or discontinuous ridge, or a combination of a dot and a ridge.
[0044]
Although omitted in the drawing, the protrusion 14 may be formed by forming two ridges at a certain interval near the head and the bottom of the tile base Wf instead of the dotted protrusion 14. .
[0045]
As described above, it is essential that these convex portions 14 be provided on the exposed portion 13 on the back surface of the clay tile when roofing. However, if necessary, the rear surface of the tile base Wf having the convex portion 14 is separated from another. When placed on the surface of the tile base Wf in a horizontal state, the gap 15 is provided with a constant height so that the combustion gas at the time of firing flows between them, and a large number of them stacked in a horizontal state with each other. The purpose is to stabilize the tile base Wf when the tile base group Mf made of the tile base Wf is placed on the firing carriage 26. If this purpose can be achieved, the shape, position, and number thereof are Not constrained.
[0046]
Of course, what is called a drooping 20 or a hooking portion 22 is generally provided on the head or buttocks of the tile base Wf toward the back surface, but in the case where these drooping 20 or the hooking portion 22 exists, In order to prevent the drooping 20 and the hooking portion 22 from becoming an obstacle when the roof tile Wf is placed, it is preferable to provide the convex portion 14 slightly higher than the height of the dripping 20 or the hooking portion 22.
[0047]
On the other hand, in order to make the hook portion 22 have the function of the convex portion 14, the height of the hook portion 22 is adjusted to be equal to the height of the concave portion 14, and the hook portion 22 and the convex portion 14 are combined. Are planning.
[0048]
The clay raw material containing moisture is pressure-formed by the molding die 12 having the above-described configuration to obtain a horizontal tile base Wf.
Then, the formed undried tile base Wf is sent to the drying process while maintaining a horizontal state, and is dried in the drying process.
[0049]
In this case, in order to dry the highly flexible roof tile Wf containing moisture of the present invention while suppressing deformation and cracks, the roof tile Wf is placed on the drying receiver 24 in a horizontal state one by one. And dry.
[0050]
In this embodiment, the surface of the drying receiver 24 is provided with a through-hole 25 in which the convex portion 14 is buried in the drying receiver 24 so as not to interfere with the convex portion 14 formed on the back surface of the tile base Wf. It has been.
[0051]
Since the tile base Wf thus dried is dried in a horizontal state, deformation and cracks due to drying are suppressed.
[0052]
Next, the plurality of dried tile bases Wf are stacked in the same direction while maintaining a horizontal state to form a tile base group Mf.
Here, the tile base group Mf means at least two tile bases Wf.
[0053]
In this embodiment, it is intended to set the height of the tile base group Mf to a certain height by stacking ten tile bases Wf, but an example in which the height of the ceiling of the firing furnace 28 is taken into account. It is.
[0054]
In general, the height of the tile base group Mf may be set such that the tile base group Mf does not fall on the firing carriage 26. (I do not understand what it means)
[0055]
In general, since the tile base is usually erected and fired, the height of the firing furnace 28 and the firing carriage 26 of the existing equipment is set to the height of the tile base group Mf and the length of the tile base Wf. Thus, the existing baking furnace 28 and baking cart 26 can be used without changing or remodeling (the meaning is unknown).
[0056]
Therefore, even if it changes to the method of this invention, the existing baking furnace 28 and the baking trolley | bogie 26 are changed, and since significant remodeling is not required, the calcination furnace 28 and the baking trolley | bogie 26 can be used effectively. .
The firing furnace for firing the tile base in this embodiment is a well-known tunnel type in which a large number of firing carts 26 continuously run, but may be a batch-type firing furnace and is not limited to the firing furnace system. .
[0057]
The firing cart 26 is conventionally known, and a shelf plate 30 substantially corresponding to the width of the tile base Wf is continuously arranged on the firing cart 26 in the conveying direction of the firing cart 26. A row is formed, and a number of rows of shelf plates 30 are provided across the width direction of the baking carriage 26.
[0058]
In particular, a certain interval is maintained between the rows of the shelf boards 30 so that the combustion gas of the firing furnace 28 extends evenly around the tile base group Mf.
[0059]
Then, the tile base group Mf is placed on the shelf plate 30 of the firing cart 26, and the firing cart 26 full of the tile base group Mf is fed into the firing furnace 28.
[0060]
In the tile base group Mf sent to the firing furnace 28, the gap 15 is formed between the tile bases Wf so that the combustion gas during firing flows as described above. Combustion gas also reaches between the tile bases Wf.
[0061]
Next, glaze G is applied to the surface of the fired tile base Wf, and the tile base Wf is unloaded from the firing cart 26, and the bottom of the tile base Wf is sandwiched by the hangers 62 of the glazing conveyor 60 one by one. Then, it is conveyed toward the glazing nozzle 64 while being kept in an inclined state.
[0062]
The tile base Wf conveyed toward the glazing nozzle 64 is coated with a liquid glaze G flowing out from the glaze nozzle 64 (see FIG. 3).
In this embodiment, the glaze G is applied while maintaining the attitude of the tile base Wf in an inclined state. However, the glaze G may be applied by hanging the tile base Wf in the vertical direction with another hanger. In addition to pouring the liquid glaze G on the tile base Wf, the glaze G may be sprayed and applied to the tile base Wf.
[0063]
When glaze G is applied to the fired roof tile Wf, if there is residual heat of firing on the fired roof tile Wf, drying of the applied glaze G is promoted and the drying time of the glaze G is shortened. Can do.
The glaze G may be a conventionally known glaze, but in addition to suppressing the amount of heat necessary for firing the glaze G, which will be described later, in order to suppress deformation and cracking of the tile base due to the firing of the glaze G, It is preferable to use a glaze fired at 400 to 500 ° C. (see, for example, JP-A Nos. 11-43386 and 8-165139).
[0064]
Next, the process of baking the glaze G applied to the tile base Wf will be described.
The tile base Wf coated with the glaze G is removed from the hanger 62 and sent to the firing furnace 66 for glaze firing.
The firing furnace 66 for firing glaze employed in this embodiment is for firing the glaze G, and is a tunnel-type firing furnace 68 as well as the firing furnace for firing the tile base. ing.
[0065]
The firing cart 68 is provided with a large number of posture control members 70 for keeping the posture of the tile base Wf coated with the glaze G in an inclined state. The posture control member 70 is a part of the back side of the tile base Wf. The roof tile Wf can be kept in an inclined state.
[0066]
According to this firing furnace 66, the firing time of the glaze G is generally about 30 minutes, and the firing of the glaze G is completed from the entrance to the exit of the firing cart 68.
A large number of tile bases Wf are mounted on the firing cart 68 so as to maintain an inclined state, and the firing carts 68 are sequentially fed into the firing furnace 66, and the glaze G applied to the tile base Wf is fired.
[0067]
In this embodiment, the tunnel-type firing furnace 66 by traveling of the firing carriage 68 is adopted, but it is provided with a number of transport rollers for forming a transport surface in the furnace, and the object to be fired is continuously fired. It is also possible to employ a roller-type firing furnace or a batch-type firing furnace in which a fired article and a fired article are put into the furnace and taken out together after firing.
[0068]
Therefore, the tile base Wf is always kept in a horizontal posture during a series of steps from forming, drying, and firing the tile base Wf, so that deformation and cracks can be minimized in each step. The tile base group Mf is provided with a gap 15 between each tile base Wf via the projections 14 of the tile base Wf, and the tile base group Mf is fired on the shelf 30 of the firing carriage 26. In addition, efficient firing of the tile base Wf can be realized without impairing the function of the clay roof tile.
[0069]
Moreover, the glaze G is applied to the surface of the tile base Wf in a dense state after firing by applying the glaze G to the fired tile base Wf and firing the glaze G of the tile base Wf. In addition to a beautiful finish that does not generate pinholes due to the pores of the tile substrate Wf even if G is fired, the amount of glaze G consumed is reduced.
[0070]
Further, the drying time of the applied glaze G can be shortened. In particular, when the tile base Wf after baking has residual heat, the drying time of the glaze G is remarkably shortened.
[0071]
By firing the glaze G applied to the tile base Wf while keeping the tile base Wf coated with the glaze G in an inclined state, the glaze G does not melt and adhere to the firing cart 68. No glaze G remains on the head of the substrate Wf.
[0072]
In particular, the plate-shaped F-shaped clay roof tile Wf, which has recently been popularized, has a high risk of deformation and cracking. However, this type of F-shaped clay roof tile Wf Particularly advantageous for production.
[0073]
Next, an embodiment of the invention will be described with respect to a method for manufacturing a tile base Wj of a J-type clay tile (see Japanese Industrial Standard 5208A, FIG. 7) instead of the F-type clay roof tile base Wf.
[0074]
Since the manufacturing process of the J-shaped clay roof tile is basically the same as the manufacturing process of the F-shaped clay roof tile described above, most of the description is used and the difference will be described in principle.
[0075]
The tile base Wj for the J-shaped clay roof tile is obtained by pressure molding using a molding die, but protrudes at a plurality of positions on the back surface of the tile base Wf when the tile base Wf for the J-shaped clay roof tile is formed. A portion 44 is formed, and the convex portion 44 is formed on the back surface of the tile base Wj, but the position of the back surface of the clay roof tile when roofing is not damaged so that the function as a clay roof tile is not impaired when the roof is hit. It is the exposure part 53 (refer FIG. 8).
In FIG. 8, the exposed portion is the exposed portion 53 on the back surface.
[0076]
As shown in FIG. 7 and FIG. 8, six convex portions 44 are arranged at regular intervals and in a dot shape.
[0077]
Next, the tile base Wj is sent to the drying process while being kept in a horizontal state, and is dried in a horizontal state using a drying receiver in the same manner as the tile base Wf.
[0078]
Next, the plurality of dried tile bases Wj are stacked in the same direction while maintaining a horizontal state to form a tile base group Mj.
[0079]
In this embodiment, the height of the tile base group Mj is set to a height in which five tile bases Wj are stacked.
[0080]
Next, the tile base group Mj is loaded onto the shelf board 30 of the firing carriage 26. The mounting surface of the shelf board 30 is generally flat, and the tile base for the J-shaped clay roof tiles. Due to the shape of Wj, it is difficult to immediately place the tile base group Mj on the shelf board 30.
[0081]
That is, the shape of the roof base Wj for the J-shaped clay roof tiles has a wavy cross section from the rail to the insertion, and the convex portion 44 provided on the back surface of the roof tile Wj also corresponds to the shape of the back surface of the roof tile Wj. If the tile base group Mj is directly placed on the shelf plate 30 that forms a flat surface, the tile base group Mj may be inclined and lack of stability.
[0082]
Therefore, a control mechanism for controlling the attitude of the tile base material Mj located in the lowermost layer in the tile base material group Mj is provided on the shelf board 30 of the firing carriage 26, and the tile base material group Mj is supported through the control mechanism for firing. It is preferable to do.
[0083]
The following example is planned as a control mechanism for controlling the attitude of the tile base Mj.
In this embodiment, the support member 32 for the tile base group Mj is placed on the shelf board 30 and the tile base group Mj is placed on the shelf board 30 via the support member 32 for the tile base group Mj. Is planned.
[0084]
The support member 32 for the tile base group Mj in this embodiment has a flat bottom surface, and corresponds to the convex portion 44 provided on the back surface of the tile base material Wj, and is provided on the back surface of the tile base material Wj. A support portion 34 is provided on the upper surface of the support member 32 for the tile base group Mj so that the tile base group Mj can be horizontally supported via the portion 44.
[0085]
In the support member 32 for the tile base material group Mj of this embodiment, since the hook portion 42 is provided on the tile base material Wj, a concave portion 36 is provided so that the hook portion 42 does not interfere, and the tile base material group Mj. A rib 38 for preventing the positional deviation is provided.
[0086]
By placing the tile base group Mj on the shelf board 30 via the support member 32 for the tile base group Mj, the stability of the tile base group Mj on the shelf board 30 can be ensured.
[0087]
The tile base group Mj is mounted on the firing carriage 26 and then sent to the firing furnace and fired.
[0088]
Next, glaze G is applied to the surface of the fired tile base Wj. As in the case of the tile base Wf, the tile base Wj is loaded and unloaded from the firing carriage 26 and glazed conveyors (not shown). The bottom of the tile base Wj is held by a hanger (not shown).
In this embodiment, the tile base Wj is suspended in a vertical state by a hanger of a glazing conveyor and conveyed toward a glazing nozzle (not shown).
The tile base Wj conveyed toward the glazing nozzle is coated with a liquid glaze G flowing out from the glaze nozzle.
In this embodiment, in addition to pouring the liquid glaze G onto the tile base Wj, the glaze G may be sprayed and applied to the tile base Wj.
[0089]
Next, the process of baking the glaze G applied to the tile base Wj will be described.
The tile base Wj coated with the glaze G is removed from the hanger and fed into the firing furnace 66 for glaze firing.
The firing furnace 66 for glaze firing employed in this embodiment is the same as the firing furnace 66 of the embodiment described above, and includes a number of firing carts 68.
The baking cart 68 is provided with a shelf plate 75 horizontally, and the tile base material Wj coated with the glaze G can keep the posture of the tile base material Wj in an upright state by contacting the bottom with the shelf plate 75.
[0090]
Further, in order to prevent the tile base Wj from falling, a rod-shaped tipping prevention member 74 is erected near the end of the shelf board 75 (see FIG. 10).
The glaze G of the tile base Wj sent to the firing furnace 66 is fired for about 30 minutes from the firing cart 68 to the exit.
[0091]
A large number of roof tiles Wj are mounted on the firing cart 68 so as to maintain an upright state. The firing carts 68 are sequentially fed to the firing furnace 66, and the glaze G applied to the roof tile Wj is fired.
[0092]
In this way, the tile substrate Wj is always maintained in a horizontal posture during the series of steps from molding, drying and firing of the tile substrate Wj, so that deformation and cracks can be minimized in each step, particularly firing. In this example, a tile base group Wj that forms a gap 45 between each tile base Wj via the convex portions 44 of the tile base Wj is provided, and the support for the tile base group Mj is provided on the shelf board 30 of the baking carriage 26. Since the member 32 is interposed and the tile base group Mj is placed on the support member 32 for the tile base group Mj and fired, the horizontal state of the tile base Wj can be stabilized and the function of the clay tile is impaired. Efficient firing of the tile base Wj can be realized without any problem.
[0093]
Moreover, the glaze G is applied to the surface of the tile base Wj in a dense state after firing by applying the glaze G to the fired tile base Wj and firing the glaze G of the tile base Wj. Even if G is fired, pinholes caused by the pores of the tile substrate Wj are not generated and the finish is beautiful, and the consumption of the glaze G is reduced.
[0094]
In addition, the drying time of the applied glaze G can be shortened, and in particular, when the tile base Wj after baking has residual heat, the drying time of the glaze G is remarkably shortened.
[0095]
Maintaining the attitude of the tile base Wj without the need for an attitude control member by firing the glaze G applied to the tile base Wj while keeping the tile base Wj coated with the glaze G self-supporting. Is relatively easy, and the glaze G applied to the tile base Wj can be easily fired in the same manner as the tile base Wj.
[0096]
In this embodiment, the support member 32 for the tile base group Mj is used when firing the tile base group Mj before glazing, but the upper surface of the shelf board 30 is provided on the back surface of the tile base base Wj. The inventor plans a case where the protrusions 44 are formed so as to correspond to the convex portions 44, have the same function as the support member 32 for the tile base group Mj, and the support member 32 for the tile base group Mj is not used.
[0097]
As an application example of the control mechanism for controlling the attitude, the tile base Wj for the J-shaped clay roof tile was mentioned. However, it can be applied to the tile base of the clay tile other than the tile base Wj for the J-shaped clay roof tile. Not too long.
[0098]
The inventor also plans to adjust the height of the hook portion 42 of the tile base Wj and combine the hook portion 42 having the function of the convex portion 44 with the convex portion 44.
[0099]
Furthermore, the inventor is also planning to make the height of the tile base group Mj approximately equal to the length of the tile base Wj. From this, the firing method of standing and firing the tile base Wj on the firing carriage 26 is considered. Even if it changes to the method of this invention, since the existing baking furnace 28 and the baking trolley | bogie 26 are not changed or a large remodeling is not required, the point which can aim at the effective utilization of the baking furnace 28 or the baking trolley | bogie 26 is also possible. It is not different from the case of the tile base Wf.
[0100]
Further, as another embodiment, the tile base groups Mf and Mj are formed in advance, and then the tile base groups Wf and Mf are made one by one without placing the tile base groups Mf and Mj on the baking cart 26 in a lump. The inventor also plans to form the tile base groups Mf and Mj after stacking by stacking on the firing cart 26 every time.
[0101]
Further, an embodiment in which the glaze G applied to another tile base Wj is fired will be described.
Since each process about shaping | molding, drying, and baking of the tile base Wj was demonstrated previously, it uses.
In this embodiment, a roller hearth type firing furnace 76 is employed to fire the glaze applied to the tile base.
The firing furnace 76 includes a large number of transport rollers 78 that form a transport surface from the entrance to the exit. The transport rollers 78 provided in the firing furnace 76 are controlled to be freely rotatable. The upper transfer object has a structure capable of continuously passing through the furnace (see FIG. 11).
[0102]
The tile base Wj, which is the object to be transported, is transported in the furnace through a plate-shaped pot 80. The pot 80 is made of a refractory material and is designed to support the tile base Wj in a horizontal state. It has been broken.
[0103]
Two sets of grooves 84 formed between a pair of parallel protrusions 82, 82 and protrusions 82, 82 are provided on the surface of the mortar 80, and the protrusions 44 of the tile base material Wj are formed in these grooves 84. The tile base Wj is substantially fitted and is not displaced in the crosspiece and insertion direction during conveyance.
In addition, protrusions 86 are provided in the longitudinal direction of the groove 84 and in the vicinity of both ends of the groove 84 to prevent the tile base Wj from being displaced in the head edge direction during conveyance (see FIG. 11). .
[0104]
Then, one tile base Wj is placed horizontally in one pot 80, and the pot 80 on which the tile base Wj is placed is sequentially sent to the firing furnace 76, and the glaze applied to the tile base Wj. Is fired in about 30 minutes.
[0105]
In this embodiment, by keeping the tile base Wj coated with the glaze G horizontal and firing the glaze G applied to the tile base Wj, the deformation of the tile base Wj after firing applied with the glaze G Cracks are reliably suppressed, the occurrence of defective products can be prevented, and the yield can be further improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a rear perspective view of an F-type clay roof tile base Wf employed in the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing a state of a back surface when a F-shaped clay roof tile is placed on a roof.
FIG. 3 is a process diagram showing a process of the present invention.
FIG. 4 is a front view of a main part showing a state where a plurality of F-type clay roof tiles are placed on a shelf board of a firing cart and fired in a firing furnace.
FIG. 5 is a side view of an essential part showing a state in which a plurality of J-shaped clay roof tile bases are placed on a firing carriage and fired in a firing furnace.
FIG. 6 is a side view showing a step of firing glaze applied to a tile base for a fired F-shaped clay roof tile.
FIG. 7 is a rear perspective view of a tile base material for a J-shaped clay roof tile employed in the present invention.
FIG. 8 is a perspective view showing a state of the back surface when a J-shaped clay roof tile is placed on the roof.
FIG. 9 is an enlarged front view showing a state in which a plurality of J-shaped clay roof tiles for a roof tile are stacked on a baking cart and fired.
FIG. 10 is a side view showing a step of firing glaze applied to a tile base material for a fired J-shaped clay roof tile.
FIG. 11 is a side view showing a step of firing glaze applied to a fired tile base according to still another embodiment.
[Explanation of symbols]
12 Mold
12a Upper mold
12b Lower mold
13 Exposed areas
14 Convex
15 gap
21 Underlap
23 Overlap part
22 Hook
24 Drying receptacle
26 Firing carts (for firing tiles)
28 Firing furnace (for tiled body firing)
30 shelves
32 Supporting member for tile group
34 Supporting part
36 Recess
38 Ribs
42 Hook
44 Convex
53 Exposed areas
60 Glazing conveyor
62 Hanger
64 Glazing nozzle
66 Firing furnace
68 Firing cart (for glaze firing)
70 Attitude control member (for glaze firing)
72 shelves
74 Fall prevention member
75 shelves
76 Firing furnace (roller hearth type)
78 Conveyance roller
80 mortar
82
84 groove
86
Tile base for Wf F-shaped clay roof tiles
Wj J-type clay roof tiles
Mf F-type clay roof tiles for roof tiles
Mj J-type clay roof tiles for roof tiles
G glaze

Claims (5)

粘土瓦の瓦素地を加圧成形した後、加圧成形された瓦素地を乾燥させ、乾燥された瓦素地を焼成用台車の棚板に載置させて焼成する粘土瓦の製造方法において、
屋根葺き時における粘土瓦の裏面の暴露部に複数の凸部が設けられてなる瓦素地を水平状態で複数枚成形した後、瓦素地を水平状態で乾燥させ、
乾燥後の複数枚の瓦素地を互いに同一方向であってかつ水平状態に積み重ねた瓦素地群となし、瓦素地の凸部を介して各瓦素地との間に間隙を形成した上、素地群を棚板に載置した後焼成し、
焼成された瓦素地群の瓦素地に対して順次釉薬を塗布し、塗布された瓦素地の釉薬を焼成することを特徴とする粘土瓦の製造方法。
In the method for producing clay roof tiles, after pressing the clay roof tile base material, the press-molded roof tile base is dried, and the dried roof tile base is placed on the shelf of the baking cart, and fired.
After forming a plurality of tile bases in a horizontal state with a plurality of protrusions on the exposed part of the back of the clay tile when roofing, the tile base is dried in a horizontal state,
A plurality of dried tile bases are stacked in the same direction and in a horizontal state, and a tile base group is formed, and gaps are formed between the tile bases via the convex portions of the tile base, and the base group. Baked after placing on the shelf,
A method for producing a clay roof tile, characterized in that a glaze is sequentially applied to the tile base of the fired tile base group and the glaze of the applied tile base is fired.
釉薬が塗布された瓦素地を傾斜状態に保ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成することを特徴とする請求項1記載の粘土瓦の製造方法。2. The method for producing a clay roof tile according to claim 1, wherein the glaze applied to the tile base is baked while maintaining the tile base applied with the glaze in an inclined state. 釉薬が塗布された瓦素地を水平状態に保ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成することを請求項1記載の粘土瓦の製造方法。The method for producing a clay roof tile according to claim 1, wherein the glaze applied to the tile base is baked while keeping the tile base applied with the glaze in a horizontal state. 釉薬が塗布された瓦素地を自立させた状態を保ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成することを特徴とする請求項1記載の粘土瓦の製造方法。2. The method for producing a clay roof tile according to claim 1, wherein the glaze applied to the tile base is baked while the tile base applied with the glaze is maintained in a self-supporting state. 焼成された瓦素地に650℃以下で焼成される釉薬を塗布することを特徴する請求項1、2、3または4記載の粘土瓦の製造方法。The method for producing a clay roof tile according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein a glaze fired at 650 ° C or less is applied to the fired roof tile base.
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