JPH10267544A - Continuous heat treating furnace - Google Patents

Continuous heat treating furnace

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JPH10267544A
JPH10267544A JP9069474A JP6947497A JPH10267544A JP H10267544 A JPH10267544 A JP H10267544A JP 9069474 A JP9069474 A JP 9069474A JP 6947497 A JP6947497 A JP 6947497A JP H10267544 A JPH10267544 A JP H10267544A
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JP
Japan
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gas
heat treatment
gas supply
furnace
work
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JP9069474A
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Japanese (ja)
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Hideo Ito
英雄 伊藤
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a continuous heat treating furnace for preventing adherence of volatile substance generated from a work to the ceiling or sidewall of a furnace body. SOLUTION: The continuous heat treating furnace 1 comprises a furnace body 2 having a heat treating space 3, a heater 4 for heating work 14 in the body 2, a gas supply tube 6 for supplying gas to the space 3 of the body 2, and a conveying roller 10 for passing the work 14 from an inlet of the body 2 to an outlet via the space 3. In this case, the tube 6 has a first gas tube 6a for supplying the gas along a ceiling 2a of the space 3 of the body 2 or surface of a sidewall 2b, and a second gas supply tube 6b for supplying the gas to the space 3 over the work 14 and supplying the gas at a lower speed than the gas supplying speed of the tube 6a.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】本発明は連続式熱処理炉に関
する。
[0001] The present invention relates to a continuous heat treatment furnace.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、セラミック電子部品を製造す
る工程において、セラミック材料を成形した被熱処理物
(以下、ワークとする)を加熱処理する、より具体的に
は焼成するために、熱処理炉が用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a process of manufacturing a ceramic electronic component, a heat treatment furnace (hereinafter, referred to as a work) formed of a ceramic material has been provided with a heat treatment furnace for heat treatment, more specifically, firing. Used.

【0003】このような熱処理炉としては、図5に示す
ような連続式熱処理炉20がある。この連続式熱処理炉
20は、炉本体21を備え、この炉本体21は天井部2
1aと炉壁部21bと炉床部21cとからなる熱処理空
間22を有しており、この熱処理空間22の前後には、
搬入口21dと搬出口21eが設けられている。また、
熱処理空間22は、ワーク26内のバインダー成分を加
熱分散させる脱脂ゾーン22aと、ワーク26の本焼成
を行う焼成ゾーン22bと、焼成したワーク26を冷却
する冷却ゾーン22cとから構成されている。さらに、
熱処理空間22の中には、ワーク26を加熱するヒータ
(加熱手段)23が配置されている。さらにまた、この
熱処理炉20は、ワークを搬入口21dから搬入し、搬
出口21eから搬出する搬出ローラ(搬送手段)24を
備えている。また、熱処理炉20は、炉内の雰囲気ガス
を供給するガス供給管(ガス供給手段)25を備えてい
る。
As such a heat treatment furnace, there is a continuous heat treatment furnace 20 as shown in FIG. The continuous heat treatment furnace 20 includes a furnace body 21, and the furnace body 21
1a, a furnace wall portion 21b, and a hearth portion 21c.
A carry-in port 21d and a carry-out port 21e are provided. Also,
The heat treatment space 22 includes a degreasing zone 22a for heating and dispersing a binder component in the work 26, a firing zone 22b for performing the main firing of the work 26, and a cooling zone 22c for cooling the fired work 26. further,
In the heat treatment space 22, a heater (heating means) 23 for heating the work 26 is arranged. Furthermore, the heat treatment furnace 20 is provided with a carry-out roller (transporting means) 24 for carrying in the work from the carry-in port 21d and carrying out the work from the carry-out port 21e. Further, the heat treatment furnace 20 includes a gas supply pipe (gas supply means) 25 for supplying an atmosphere gas in the furnace.

【0004】ワーク26の加熱処理工程について説明す
ると、ワーク26は、搬送ローラ24上に並べられる台
車27上に載置され、搬送ローラ24によってガス供給
管25により雰囲気ガスが充填された熱処理ゾーン22
内に搬送される。熱処理ゾーン22内においては、脱脂
ゾーン22aでワーク26に含まれているバインダー成
分を加熱分散させ、次の焼成ゾーン22bでワーク26
を焼結させるために焼成が行われる。さらに、ワーク2
6は、冷却ゾーン22cで所定の温度まで冷却して搬出
される。
[0004] The heat treatment step of the work 26 will be described. The work 26 is placed on a carriage 27 arranged on a transport roller 24, and the heat treatment zone 22 is filled with an atmosphere gas by a gas supply pipe 25 by the transport roller 24.
Conveyed inside. In the heat treatment zone 22, the binder component contained in the workpiece 26 is heated and dispersed in the degreasing zone 22a, and the workpiece 26 is dispersed in the next firing zone 22b.
Is fired for sintering. Work 2
6 is cooled to a predetermined temperature in the cooling zone 22c and carried out.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
連続式熱処理炉20には、以下のような問題点があっ
た。熱処理中に炉本体21内に揮発したワーク26に含
まれる揮発成分、例えばセラミック成分の中で蒸気圧の
低いPbO、Bi23などが、再結晶化して天井部21
aや側壁部21b等に付着してそのまま堆積物28とな
る。そのまま再結晶化した揮発成分の堆積が進むと、堆
積物28が自重に耐えかねて天井部21aや炉壁部21
b等から剥離したり、また結露する物質であれば滴とな
ってワーク26上に落下し、ワーク26の特性低下につ
ながっていた。
However, the conventional continuous heat treatment furnace 20 has the following problems. Volatile components contained in the work 26 volatilized in the furnace body 21 during the heat treatment, for example, PbO, Bi 2 O 3 having a low vapor pressure among the ceramic components are recrystallized to form the ceiling portion 21.
a and adhere to the side wall 21b and the like to form the deposit 28 as it is. When the deposition of the recrystallized volatile components proceeds as it is, the deposit 28 cannot withstand its own weight, and the ceiling portion 21a and the furnace wall portion 21 do not.
In the case of a substance that peels off from b or the like or that forms dew, it drops as drops on the work 26, leading to a deterioration in the properties of the work 26.

【0006】本発明の目的は、ワークから発生した揮発
物質が炉本体の天井部や側壁部等に付着することを防止
できる連続式熱処理炉を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a continuous heat treatment furnace that can prevent volatile substances generated from a work from adhering to a ceiling portion, a side wall portion, and the like of a furnace body.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記のような
目的に鑑みてなされたものである。第1の発明にかかる
連続式熱処理炉は、熱処理空間を有する炉本体と、前記
炉本体内にある被熱処理物を加熱する加熱手段と、前記
炉本体の熱処理空間へガスを供給するガス供給手段と、
前記被熱処理物を炉本体の入口から熱処理空間を経て出
口へ通過させる搬送手段とを備えてなる連続式熱処理炉
であって、前記ガス供給手段は、前記炉本体の熱処理空
間の天井部または側壁部の表面に沿ってガスを供給する
第1ガス供給手段と、前記被熱処理物に向けてガスを熱
処理空間に供給するとともに、前記第1ガス供給手段の
ガス供給速度よりも遅い速度でガスを供給する第2ガス
供給手段とからなることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned objects. A continuous heat treatment furnace according to a first aspect of the present invention includes a furnace body having a heat treatment space, heating means for heating an object to be heat-treated in the furnace body, and gas supply means for supplying gas to the heat treatment space of the furnace body. When,
Conveying means for passing the object to be heat-treated from the inlet of the furnace body through the heat-treating space to the outlet through the heat-treating space, wherein the gas supply means is a ceiling or side wall of the heat-treating space of the furnace body First gas supply means for supplying gas along the surface of the portion, and gas supplied to the heat treatment space toward the heat treatment target, and gas supplied at a speed lower than the gas supply speed of the first gas supply means. And a second gas supply means for supplying.

【0008】また、第2の発明にかかる連続式熱処理炉
は、前記炉本体の熱処理空間の天井部は、熱処理空間の
一方の側壁部から他方の側壁部に向かって傾斜している
ことが好ましい。
In the continuous heat treatment furnace according to the second invention, it is preferable that a ceiling of the heat treatment space of the furnace body is inclined from one side wall of the heat treatment space to the other side wall. .

【0009】また、第3の発明にかかる連続式熱処理炉
においては、前記ガス供給手段からのガス供給方向に沿
った前記炉本体の熱処理空間の天井部または炉壁部にガ
ス排出手段を設けることが好ましい。
In a continuous heat treatment furnace according to a third aspect of the present invention, a gas discharge means is provided on a ceiling or a furnace wall of a heat treatment space of the furnace main body along a gas supply direction from the gas supply means. Is preferred.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。本発明の連続式熱処理炉は、第1の発明の
ような構成にすることにより、ワークの周囲の雰囲気を
変化させることなく、ワークから発生した揮発物質が炉
本体の天井部や側壁部等に付着することを防止できる。
Embodiments of the present invention will be described below. The continuous heat treatment furnace of the present invention is configured as in the first invention, so that volatile substances generated from the work are deposited on the ceiling and side walls of the furnace body without changing the atmosphere around the work. Adherence can be prevented.

【0011】すなわち、ワークや搬送手段近傍には上記
第2ガス供給手段からガスが供給され、炉本体の天井部
や側壁部には上記第1ガス供給手段から第2ガス供給手
段よりも速い速度でガスが供給されるため、第1ガス供
給手段から供給されたガスの速い流れによって、炉本体
の天井部や側壁部近傍にはその表面に沿ってガスの流動
層が形成され、ワークから揮発した揮発物質が再結晶化
して炉本体の天井部や炉壁部近傍に浮遊したとしても、
炉本体の天井部や側壁部に近づくことを妨げることがで
きる。その結果、炉本体の天井部や側壁部に再結晶化し
た揮発物質が付着することを防止することができる。
That is, the gas is supplied from the second gas supply means to the vicinity of the work and the transfer means, and the gas is supplied from the first gas supply means to the ceiling or the side wall of the furnace body at a higher speed than the second gas supply means. The gas is supplied by the first gas supply means, and due to the rapid flow of the gas supplied from the first gas supply means, a fluidized bed of gas is formed along the surface near the ceiling and side walls of the furnace main body and volatilized from the work. Even if the volatile substances recrystallized and floated near the furnace ceiling or furnace wall,
This can prevent the furnace from approaching the ceiling and side walls. As a result, it is possible to prevent the recrystallized volatile substance from adhering to the ceiling and side walls of the furnace body.

【0012】また、第1ガス供給手段の個数および第2
ガス供給手段の個数は特に限定するものではないが、ガ
ス供給方向の関係からそれぞれが概ね同じ方向を向い
て、同じ方向にガスを供給していることが好ましい。ま
た、第1ガス供給手段は、所望のガス供給速度が得られ
るように、ガスの供給圧を変化させることができるもの
であることが好ましい。
Further, the number of the first gas supply means and the second
Although the number of the gas supply means is not particularly limited, it is preferable that each of the gas supply means faces the same direction and supplies the gas in the same direction from the relation of the gas supply direction. In addition, it is preferable that the first gas supply means can change the gas supply pressure so that a desired gas supply speed can be obtained.

【0013】また、本発明の連続式熱処理炉において
は、第2の発明のような構成にすれば、第1ガス供給手
段によるガスの表面流動効果と炉本体内の上昇気流効果
とが相互に作用し、炉本体天井部のガス流動層の流れを
よりスムーズなものとすることができる。
In the continuous heat treatment furnace according to the second aspect of the present invention, the surface flow effect of the gas by the first gas supply means and the upward air flow effect in the furnace body are mutually reciprocated. By acting, the flow of the gas fluidized bed at the furnace body ceiling can be made smoother.

【0014】また、本発明の連続式熱処理炉における第
3の発明のような構成の場合には、ガス供給手段から供
給されるガスを効率よく排出することができるため、ガ
スの流動層が淀みなくスムーズに形成されるとともに、
ガス流動層中に浮遊している揮発物質をも同時に排出す
ることができる。また、ガス排出手段の形状は特に限定
するものではない。例えば、炉本体内にガス排出管を設
けてもよいし、炉本体の天井部の一部にガス排出のため
の排出口を設けてもよい。
Further, in the case of the configuration of the third invention in the continuous heat treatment furnace of the present invention, since the gas supplied from the gas supply means can be efficiently discharged, the fluidized bed of the gas becomes stagnant. It is formed smoothly without
Volatile substances floating in the gas fluidized bed can be simultaneously discharged. Further, the shape of the gas discharging means is not particularly limited. For example, a gas discharge pipe may be provided in the furnace main body, or a discharge port for gas discharge may be provided in a part of the ceiling of the furnace main body.

【0015】ここで、本発明の連続式熱処理炉の加熱手
段は、特に限定するものではないが、安価で信頼性が高
いという理由から金属パネルヒータを用いることが好ま
しい。
Here, the heating means of the continuous heat treatment furnace of the present invention is not particularly limited, but it is preferable to use a metal panel heater because of its low cost and high reliability.

【0016】また、上記搬送手段は、特に限定はしない
が、搬送ローラであることがより好ましい。
The transport means is not particularly limited, but is preferably a transport roller.

【0017】次に、本発明を実施例に基づき説明する
が、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではな
い。
Next, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited to only these examples.

【0018】[0018]

【実施例】本発明の実施例である連続式熱処理炉につい
てそれぞれ説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A continuous heat treatment furnace according to an embodiment of the present invention will be described.

【0019】(実施例1)図1は本発明の実施例1にか
かる熱処理炉の概略断面図、図2は第1供給管付近の一
部切り欠き断面図を示す。
Example 1 FIG. 1 is a schematic sectional view of a heat treatment furnace according to Example 1 of the present invention, and FIG. 2 is a partially cutaway sectional view near a first supply pipe.

【0020】実施例1の連続式熱処理炉1は次のような
構成になっている。すなわち、炉本体2と、ヒータ4
(加熱手段)と、ガス供給管6(ガス供給手段)と、搬
送ローラ10(搬送手段)と、ガス排出口8a(ガス排
出手段)とを備え、ガス供給管6は、第1ガス供給管6
a(第1ガス供給手段)と、第2ガス供給管6b(第2
ガス供給手段)とからなる。
The continuous heat treatment furnace 1 of the first embodiment has the following configuration. That is, the furnace body 2 and the heater 4
(Heating means), a gas supply pipe 6 (gas supply means), a conveyance roller 10 (conveyance means), and a gas discharge port 8a (gas discharge means), and the gas supply pipe 6 is a first gas supply pipe. 6
a (first gas supply means) and a second gas supply pipe 6b (second gas supply means).
Gas supply means).

【0021】さらに詳しく説明すると、炉本体2は、内
部に断熱ボード(図示しない)を有しており、水平方向
にワーク14を移送させることができる熱処理ゾーン3
(熱処理空間)を有している。また、炉本体2は、熱処
理ゾーン3の上面にあたる天井部2aと、熱処理ゾーン
3の側面にあたる炉壁部2b(図1では奥側のみ図示)
と、熱処理ゾーン3の下面にあたる炉底部2cとからな
り、形状は熱処理ゾーン3に沿ったトンネル形状であ
る。また、炉本体2は、一方にワーク14を取り入れる
搬入口2dを有し、他方にワーク14を取り出す搬出口
2eを有している。
More specifically, the furnace body 2 has a heat insulating board (not shown) inside, and a heat treatment zone 3 in which the work 14 can be transferred in the horizontal direction.
(Heat treatment space). Further, the furnace body 2 includes a ceiling portion 2a corresponding to an upper surface of the heat treatment zone 3 and a furnace wall portion 2b corresponding to a side surface of the heat treatment zone 3 (only the back side is illustrated in FIG. 1).
And a furnace bottom 2c corresponding to the lower surface of the heat treatment zone 3, and has a tunnel shape along the heat treatment zone 3. The furnace body 2 has a carry-in port 2d for taking in the work 14 on one side, and a carry-out port 2e for taking out the work 14 on the other side.

【0022】また、熱処理ゾーン3は、ワーク14内の
バインダー成分を加熱分散させる脱脂ゾーン3aと、本
焼成を行う焼成ゾーン3bと、所定の温度までワーク1
4の冷却を行う冷却ゾーン3cとからなる。
The heat treatment zone 3 includes a degreasing zone 3a for heating and dispersing the binder component in the work 14, a baking zone 3b for performing the main baking, and a work 1 to a predetermined temperature.
And a cooling zone 3 c for cooling the cooling zone 4.

【0023】ヒータ4は、安価で信頼性が高く、メンテ
ナンスが容易であるという理由から、金属パネルヒータ
を用いる。また、ヒータ4は、熱処理ゾーン3を取り囲
むように天井部2aおよび炉壁部2bの内部に埋め込ま
れるように設けられており、脱脂ゾーン3aには脱脂用
ヒータ4aが設けられ、焼成ゾーン3bには焼成用ヒー
タ4bがそれぞれ設けられている。
As the heater 4, a metal panel heater is used because it is inexpensive, has high reliability, and is easy to maintain. The heater 4 is provided so as to be embedded in the ceiling portion 2a and the furnace wall portion 2b so as to surround the heat treatment zone 3, and the degreasing zone 3a is provided with a degreasing heater 4a. Are provided with firing heaters 4b, respectively.

【0024】ガス供給管6は、炉内へ雰囲気ガスを供給
するためのもので、炉本体2の天井部2aに沿って雰囲
気ガスを供給する第1ガス供給管6aと、第1ガス供給
管よりも遅い速度でガスをワーク14に供給する第2ガ
ス供給管6bとからなる。また、ガス供給管6は、それ
ぞれ雰囲気ガスの供給スピードを調節するために、ガス
供給圧を変化できる機能を有している。
The gas supply pipe 6 is for supplying an atmosphere gas into the furnace, and includes a first gas supply pipe 6a for supplying the atmosphere gas along the ceiling 2a of the furnace body 2, and a first gas supply pipe. And a second gas supply pipe 6b for supplying gas to the work 14 at a lower speed. The gas supply pipes 6 each have a function of changing the gas supply pressure in order to adjust the supply speed of the atmospheric gas.

【0025】ガス供給管6のうち、第1ガス供給管6a
は、ワーク14から揮発した揮発物質を炉本体2の天井
部2aに接近させないためのもので、雰囲気ガスの供給
速度は第2ガス供給管6bのものよりも速くする。具体
的には、第1ガス供給管6aの雰囲気ガスの供給速度は
5〜10m/sである。また、第1ガス供給管6aは、
揮発物質が再結晶化しやすい温度域の天井部2aに設け
られている。ここで、揮発物質が再結晶化しやすい温度
域というのは、揮発物質がバインダーである場合は40
0℃以下であり、Pbの場合は800℃以下である。つ
まり、第1ガス供給手段6aは、昇温過程である脱脂ゾ
ーンと降温過程である冷却ゾーンとのそれぞれにおい
て、200℃〜400℃になる箇所と600℃〜800
℃になる箇所の4箇所(図1では2箇所のみ図示)に設
けられている。また、図2に示すように、第1ガス供給
管6aは、熱処理ゾーン3の長手方向に直交する方向に
設け、その側面のうち、熱処理ゾーン3の長手方向に平
行な一方向に雰囲気ガスを供給できるように供給孔6a
1を設けたものを使用する。
The first gas supply pipe 6a of the gas supply pipes 6
Is for preventing the volatile substances volatilized from the work 14 from approaching to the ceiling 2a of the furnace main body 2, and the supply speed of the atmospheric gas is made faster than that of the second gas supply pipe 6b. Specifically, the supply speed of the atmospheric gas in the first gas supply pipe 6a is 5 to 10 m / s. Also, the first gas supply pipe 6a is
It is provided on the ceiling portion 2a in a temperature range in which volatile substances easily recrystallize. Here, the temperature range in which the volatile substance easily recrystallizes is 40 when the volatile substance is a binder.
0 ° C. or less, and 800 ° C. or less for Pb. In other words, the first gas supply means 6a has a portion where the temperature becomes 200 ° C. to 400 ° C. and a portion where the temperature becomes 200 ° C. to 400 ° C.
It is provided in four places (only two places are shown in FIG. 1) where the temperature reaches ° C. As shown in FIG. 2, the first gas supply pipe 6 a is provided in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the heat treatment zone 3, and the atmosphere gas is supplied to one side of the first gas supply pipe 6 a in a direction parallel to the longitudinal direction of the heat treatment zone 3. Supply holes 6a so that they can be supplied
Use the one provided with 1.

【0026】ガス供給管6のうち、第2ガス供給管6b
は、ワーク14に雰囲気ガスを供給するためのもので、
炉本体2の熱処理ゾーン3すべてにわたる炉壁部2bに
設けられている。第2ガス供給管6bは、第1ガス供給
管6aと異なり、ワーク14への雰囲気ガスの充分な供
給が目的であるため、第1ガス供給管6aの供給スピー
ドに比べ遅くする。具体的には、第2ガス供給管6bの
雰囲気ガスの供給速度は0.1〜1m/sである。ま
た、第2ガス供給管6bは、炉壁部2bに沿って設けら
れ、その側面には、供給孔6a1が設けられており、そ
こから雰囲気ガスをワーク14に供給する。このとき、
第2ガス供給管6aを設ける高さは、ワーク14が搬送
される高さとほぼ同じである。
Of the gas supply pipes 6, the second gas supply pipe 6b
Is for supplying an atmosphere gas to the work 14.
It is provided on the furnace wall portion 2b over the entire heat treatment zone 3 of the furnace main body 2. Unlike the first gas supply pipe 6a, the second gas supply pipe 6b is intended to sufficiently supply the atmospheric gas to the work 14, and therefore is slower than the supply speed of the first gas supply pipe 6a. Specifically, the supply rate of the atmospheric gas in the second gas supply pipe 6b is 0.1 to 1 m / s. The second gas supply pipe 6b is provided along the furnace wall 2b, and a supply hole 6a1 is provided on a side surface of the second gas supply pipe 6b. At this time,
The height at which the second gas supply pipe 6a is provided is substantially the same as the height at which the work 14 is transported.

【0027】ここで、第1ガス供給管6aと第2ガス供
給管6bとのガス供給速度の比は、少なくとも3:1で
あることが必要である。
Here, the ratio of the gas supply rates of the first gas supply pipe 6a and the second gas supply pipe 6b needs to be at least 3: 1.

【0028】ガス排出口8は、炉本体2内の燃焼後のガ
スを排出するためと、炉本体2内のガスの流動層をスム
ーズにするためのもので、炉本体2の天井部2aに設け
られている。このとき、ガス排出口8aは、第1ガス供
給管6aから供給される雰囲気ガスを効率よく取り入れ
ることができるように第1ガス供給管6a側に傾いたガ
ス排出補助板8a1とともに設けられる。また、ガス排
出口8aは、第1ガス供給管6aからのガス流の下流位
置に設けられている。
The gas outlet 8 is for discharging the burned gas in the furnace main body 2 and for smoothing the fluidized bed of the gas in the furnace main body 2. Is provided. At this time, the gas discharge port 8a is provided with a gas discharge auxiliary plate 8a1 inclined toward the first gas supply pipe 6a so that the atmospheric gas supplied from the first gas supply pipe 6a can be efficiently taken in. The gas outlet 8a is provided at a downstream position of the gas flow from the first gas supply pipe 6a.

【0029】搬送ローラ10は、熱処理ゾーン3内にお
いてワーク14を移動させるためのもので、炉本体2の
炉底部2cに設けられており、アルミナ、ムライト質か
らなるものを使用する。
The transport roller 10 is for moving the work 14 in the heat treatment zone 3 and is provided on the furnace bottom 2c of the furnace body 2 and is made of alumina or mullite.

【0030】また、ワーク14を搬送する際は、一定数
のワーク14を台車12に載置して搬送する。この台車
は、セラミックファイバーを材質とし、台車本体12a
と、支柱12bと、載置台12cとからなる。
When the work 14 is carried, a fixed number of the work 14 are placed on the carriage 12 and carried. This cart is made of ceramic fiber and has a cart body 12a.
And a support 12b and a mounting table 12c.

【0031】(実施例2)図3は本発明の実施例2にか
かる連続式熱処理炉の概略断面図、図4は第1供給管お
よびガス排出管付近の一部切り欠き断面図を示す。
(Embodiment 2) FIG. 3 is a schematic sectional view of a continuous heat treatment furnace according to Embodiment 2 of the present invention, and FIG. 4 is a partially cutaway sectional view of the vicinity of a first supply pipe and a gas discharge pipe.

【0032】実施例2の連続式熱処理炉1は次のような
構成になっている。すなわち、炉本体2と、ヒータ4
(加熱手段)と、ガス供給管6(ガス供給手段)と、搬
送ローラ10(搬送手段)と、ガス排出管8b(ガス排
出手段)とを備え、ガス供給管6は、第1ガス供給管6
a(第1ガス供給手段)と、第2ガス供給管6b(第2
ガス供給手段)とからなる。
The continuous heat treatment furnace 1 of the second embodiment has the following configuration. That is, the furnace body 2 and the heater 4
(Heating means), a gas supply pipe 6 (gas supply means), a conveying roller 10 (conveyance means), and a gas discharge pipe 8b (gas discharge means), and the gas supply pipe 6 is a first gas supply pipe. 6
a (first gas supply means) and a second gas supply pipe 6b (second gas supply means).
Gas supply means).

【0033】また、炉本体2の天井部2aは、熱処理ゾ
ーン3の一方の側壁部から他方の側壁部に向かって傾斜
している。
The ceiling 2a of the furnace body 2 is inclined from one side wall of the heat treatment zone 3 to the other side wall.

【0034】また、図4に示すように、第1ガス供給手
段6aは、炉本体2の傾斜している天井部2aの低い位
置に設けられている。また、第1ガス供給管6aは、熱
処理ゾーン3の長手方向に平行な方向に設けられ、か
つ、第1ガス供給管6aの供給孔6a1は天井部2aの
傾斜面に沿って雰囲気ガスを供給できるように設けられ
ている。
As shown in FIG. 4, the first gas supply means 6a is provided at a low position on the inclined ceiling portion 2a of the furnace main body 2. The first gas supply pipe 6a is provided in a direction parallel to the longitudinal direction of the heat treatment zone 3, and the supply hole 6a1 of the first gas supply pipe 6a supplies the atmosphere gas along the inclined surface of the ceiling 2a. It is provided to be able to.

【0035】ガス排出管8bは、排出孔8b1を有する
ものを使用する。また、ガス排出管8bは、炉本体2の
傾斜している天井部2aの高い位置に設けられており、
排出孔8b1は、第1ガス供給管6aの供給孔6a1と向
かい合うように設けられている。
The gas discharge pipe 8b has a discharge hole 8b1. Further, the gas discharge pipe 8b is provided at a high position of the inclined ceiling portion 2a of the furnace main body 2,
The discharge hole 8b1 is provided so as to face the supply hole 6a1 of the first gas supply pipe 6a.

【0036】このほかの構成は、実施例1と同様であ
り、同じ符号で示して詳細な説明は省略する。
Other configurations are the same as those of the first embodiment, and are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明の連続式熱処理炉を用いれば、ワ
ークから発生した揮発物質が炉本体の天井部や側壁部等
に付着することを防止できる。
According to the continuous heat treatment furnace of the present invention, it is possible to prevent the volatile substances generated from the work from adhering to the ceiling and side walls of the furnace body.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1である連続式熱処理炉の概略
断面図。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a continuous heat treatment furnace that is Embodiment 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施例1のうち第1ガス供給管付近を
示す一部切り欠き断面図。
FIG. 2 is a partially cutaway sectional view showing the vicinity of a first gas supply pipe in the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例2である連続式熱処理炉の概略
断面図。
FIG. 3 is a schematic sectional view of a continuous heat treatment furnace that is Embodiment 2 of the present invention.

【図4】本発明の実施例2のうち第1ガス供給管および
ガス排出管付近を示す一部切り欠き断面図。
FIG. 4 is a partially cutaway sectional view showing the vicinity of a first gas supply pipe and a gas discharge pipe in a second embodiment of the present invention.

【図5】従来の熱処理炉の概略断面図。FIG. 5 is a schematic sectional view of a conventional heat treatment furnace.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 連続式熱処理炉 2 炉本体 2a 天井部 2b 側壁部 3 熱処理ゾーン(熱処理空間) 4 ヒータ(加熱手段) 6 ガス供給管(ガス供給手段) 6a 第1ガス供給管(第1ガス供給手
段) 6b 第2ガス供給管(第2ガス供給手
段) 8a、8b ガス排出手段 10 搬送ローラ(搬送手段) 14 ワーク(被熱処理物)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Continuous heat treatment furnace 2 Furnace main body 2a Ceiling part 2b Side wall part 3 Heat treatment zone (heat treatment space) 4 Heater (heating means) 6 Gas supply pipe (gas supply means) 6a 1st gas supply pipe (first gas supply means) 6b Second gas supply pipe (second gas supply means) 8a, 8b Gas discharge means 10 Conveyance roller (conveyance means) 14 Work (object to be heat-treated)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱処理空間を有する炉本体と、前記炉本
体内にある被熱処理物を加熱する加熱手段と、前記炉本
体の熱処理空間へガスを供給するガス供給手段と、前記
被熱処理物を炉本体の入口から熱処理空間を経て出口へ
通過させる搬送手段とを備えてなる連続式熱処理炉であ
って、 前記ガス供給手段は、前記炉本体の熱処理空間の天井部
または側壁部の表面に沿ってガスを供給する第1ガス供
給手段と、 前記被熱処理物に向けてガスを熱処理空間に供給すると
ともに、前記第1ガス供給手段のガス供給速度よりも遅
い速度でガスを供給する第2ガス供給手段とからなるこ
とを特徴とする連続式熱処理炉。
1. A furnace body having a heat treatment space, heating means for heating an object to be heat-treated in the furnace body, gas supply means for supplying gas to a heat treatment space in the furnace body, and A transfer means for passing the gas from the inlet of the furnace body through the heat treatment space to the outlet through the heat treatment space, wherein the gas supply means extends along a surface of a ceiling or a side wall of the heat treatment space of the furnace body. First gas supply means for supplying a gas to the object to be heat-treated, and second gas for supplying a gas at a lower speed than the gas supply speed of the first gas supply means A continuous heat treatment furnace comprising supply means.
【請求項2】 前記炉本体の熱処理空間の天井部は、前
記熱処理空間の一方の側壁部から他方の側壁部に向かっ
て傾斜していることを特徴とする請求項1に記載の連続
式熱処理炉。
2. The continuous heat treatment according to claim 1, wherein a ceiling of the heat treatment space of the furnace body is inclined from one side wall to the other side wall of the heat treatment space. Furnace.
【請求項3】 前記ガス供給手段からのガス供給方向に
沿った前記炉本体の熱処理空間の天井部または炉壁部に
ガス排出手段を設けることを特徴とする請求項1または
請求項2に記載の連続式熱処理炉。
3. The gas discharging means according to claim 1, wherein a gas discharging means is provided on a ceiling portion or a furnace wall portion of the heat treatment space of the furnace main body along a gas supply direction from the gas supplying means. Continuous heat treatment furnace.
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