JP2001009815A - Manufacture of clay tile - Google Patents

Manufacture of clay tile

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JP2001009815A
JP2001009815A JP11181750A JP18175099A JP2001009815A JP 2001009815 A JP2001009815 A JP 2001009815A JP 11181750 A JP11181750 A JP 11181750A JP 18175099 A JP18175099 A JP 18175099A JP 2001009815 A JP2001009815 A JP 2001009815A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a deformation and cracks from being generated in molding, drying and baking processes by molding a plurality of unglazed tiles in a horizontal position, then drying the unglazed tiles to be piled up into a unglazed tile group, each having a gap formed with the other after drying and disposing the unglazed tile group on a shelf plate to be baked and sequentially glazed. SOLUTION: When the clay tile is manufactured, a projecting part 14 is formed at a plurality of spots on the second surface of a unglazed tile Wf using a molding die 12 comprising a top force 12a and a bottom force 12b. Then the unglazed tile Wf which is molded but is undried, is fed to a drying process while the unglazed tile Wf is retained horizontally and is disposed on a receiver 24 for drying to be dried. Next, the dried unglazed tile Wf are piled up into a unglazed tile group Mf, which is, in turn, placed on the shelf plate 30 of a truck for baking, and this truck is sent into a baking surface. Further, the baked unglazed tile Wf is conveyed in such a state that it is held by the hanger 62 of a glazing conveyor 60, and a glaze G is applied to the surface of the unglazed tile Wf using a glazing nozzle 64 to be baked in a baking process.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】この発明は、複数枚の瓦素地
を加圧成形して乾燥させ、乾燥後の瓦素地を焼成用台車
の棚板に水平状態に積み重ねて焼成し、焼成された瓦素
地を施釉して釉薬を焼成させる粘土瓦の製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fired tile which is formed by pressing a plurality of tiles, drying the dried tiles, stacking the dried tiles horizontally on a shelf of a firing cart, and firing. The present invention relates to a method for manufacturing a clay tile in which a base is glazed and a glaze is fired.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の一般的な従来の技術は、広く知
られるように瓦素地を加圧成形した後、成形された瓦素
地を水平状態で乾燥させ、乾燥された瓦素地に施釉し、
施釉された瓦素地を焼成用台車の棚板上に多数立設さ
せ、焼成用台車を焼成炉に送り込み、瓦素地の焼成を行
う方法である。
2. Description of the Related Art As is generally known, this kind of conventional technique is to form a tile under pressure, then dry the formed tile in a horizontal state, and apply a glaze to the dried tile. ,
In this method, a large number of glazed tile bodies are erected on the shelf plate of a firing cart, and the firing cart is sent to a firing furnace to fire the tile base.

【0003】この方法における焼成は、焼成用台車の棚
板に施釉された瓦素地を垂直方向に立設することができ
ることから、棚板上に多数の瓦素地を載置できるので、
台車の有効活用と瓦素地の焼成効率の向上化に寄与す
る。
[0003] In the firing in this method, a tiled material glazed on a shelf plate of a firing cart can be erected vertically, so that a large number of tiled materials can be placed on the shelf plate.
It contributes to the effective use of the bogie and the improvement of the firing efficiency of the tile.

【0004】ところが、焼成処理に先立って水平状態で
予め乾燥させることにより瓦素地の変形や亀裂を抑制す
るようにしているものの、焼成工程では、瓦素地を立設
させて焼成するから、焼成時に変形や亀裂が発生し、乾
燥における変形や亀裂の抑制を図る意図が無駄になり、
いわゆる粘土瓦の生産上の歩留りの減少を回避できない
という基本的問題が残存した。
[0004] However, although the tiles are deformed and cracked by being dried in a horizontal state prior to the firing treatment, the tiles are erected and fired in the firing step because the tiles are erected and fired. Deformation and cracks occur, and the intention of suppressing deformation and cracks in drying becomes useless,
The basic problem remains that a reduction in the production yield of so-called clay tile cannot be avoided.

【0005】瓦素地の変形や亀裂を抑制する焼成方法と
して、瓦素地の姿勢を水平状態に保って行うことが物理
的に好ましい。
[0005] As a firing method for suppressing deformation and cracking of the tile body, it is physically preferable to carry out the firing while maintaining the posture of the tile body in a horizontal state.

【0006】そこで、瓦素地の姿勢を水平状態に保って
焼成を行う方法は、知られているようにいわゆる匣鉢と
称するものが採用され、匣鉢に瓦素地を水平状態で詰め
込み、瓦素地が詰め込まれた匣鉢を焼成用台車に多数積
み重ねることにより焼成が行われた(たとえば、特開平
8−187716号公報を参照)。
[0006] Therefore, as a known method, firing is performed while maintaining the orientation of the tile foundation in a horizontal state, and a so-called sagger is employed. The firing was performed by stacking a large number of saggers packed in a trolley for firing (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-187716).

【0007】ところが、この焼成方法では比較的消耗の
激しい匣鉢を多数用意せざるを得ない面倒さがあり、し
かも、匣鉢によって奪われる熱損失を考慮せざるを得な
く、瓦素地の焼成に必要な熱エネルギーのほかに匣鉢に
よって奪われる熱損失分相当の熱エネルギーを加える必
要があり、瓦素地1枚当たりに必要な熱エネルギーが増
加し、焼成効率が低下するという問題があった。また、
匣鉢を多数積み重ねるため、瓦素地を搭載する焼成用台
車のスペースに制約を受け、焼成用台車に搭載される瓦
素地の枚数が少なくなる結果、台車の有効活用が抑制さ
れるほか、瓦素地の焼成効率の低下を招くという問題が
あった。
However, in this firing method, it is necessary to prepare a large number of saggers with relatively high consumption, and furthermore, it is necessary to take into consideration the heat loss taken by the saggers. It is necessary to add heat energy equivalent to the heat loss taken away by the sagger in addition to the heat energy required for the tiles, and the heat energy required per tiled tile increases, and the firing efficiency decreases. . Also,
Since a large number of saggers are stacked, the space for the firing cart on which the tile is mounted is limited, and the number of tiles mounted on the firing cart is reduced. There is a problem in that the firing efficiency of the steel is reduced.

【0008】後者の従来例の問題点を解消を示唆する例
として特開昭52−63208号公報に記載された陶磁
質タイルの製造方法がある。
As an example suggesting that the latter problem is solved, there is a method for manufacturing a ceramic tile described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-63208.

【0009】この従来例は、タイル生地のいわゆる裸焼
きと称されている焼成方法であり、表面の周縁部に全周
縁にわたってクッション部と称されている部分を成形さ
せたタイル生地か、又は前記したクッションの内側に隣
接する微小な山形起伏を有するタイル生地を複数設け、
第1枚目のタイル生地の表面と第2枚目のタイル生地の
裏面とを水平状態に積み重ねることにより、表面のクッ
ション部又はクッション部の内側に隣接する微小な山形
形状のみが裏面と接触させて締め焼きする方法である。
This conventional example is a firing method called so-called bare baking of a tile material, in which a tile material in which a portion called a cushion portion is formed over the entire peripheral edge of the surface, or Provide a plurality of tile fabrics having minute mountain undulations adjacent to the inside of the cushion,
By horizontally stacking the front surface of the first tile fabric and the back surface of the second tile fabric, only the cushion portion on the front surface or the minute chevron shape adjacent to the inside of the cushion portion is brought into contact with the back surface. It is a method of grilling.

【0010】しかしながら、このタイルの製造方法を粘
土瓦の製造方法に直ちに転用することができない事情が
ある。その理由は、表面の周縁部に全周縁にわたってク
ッション部と称されている部分を成形させた粘土瓦用の
瓦素地か、又は前記したクッションの内側に隣接する微
小な山形起伏を有する粘土瓦用の瓦素地を複数設けるこ
とは、粘土瓦としての機能を明らかに損なうからであ
る。
[0010] However, there are circumstances in which this method for producing a tile cannot be immediately diverted to a method for producing a clay tile. The reason for this is that the tile surface for a clay tile has a portion called a cushion portion formed over the entire periphery at the peripheral portion of the surface, or for a clay tile having minute mountain-shaped undulations adjacent to the inside of the cushion described above. This is because the provision of a plurality of tiles of the above clearly impairs the function as a clay tile.

【0011】つまり、瓦は家屋への雨水の浸入を防ぐた
めに重ねて葺くことが必要であり、そして互いに瓦が重
なる部分は、頭、尻、桟、差し込みの周縁にすべて存在
する。
That is, the roof tiles need to be overlaid in order to prevent rainwater from entering the house, and the portions where the roof tiles overlap each other are all present on the periphery of the head, buttocks, crosspiece, and insertion.

【0012】このため、瓦素地の全周縁に亘ってクッシ
ョン部を設けることや、クッション部の内側に山形起伏
を設けることは、とくに頭および桟の重なり部分の機能
の重大な障害となり、タイルの製造方法を粘土瓦の製造
方法に適用することは事実上不可能であった。
For this reason, providing a cushion portion over the entire peripheral edge of the tile substrate or providing a mountain-shaped undulation inside the cushion portion particularly seriously impairs the function of the overlapping portion of the head and the crosspiece, and It was virtually impossible to apply the manufacturing method to the method of manufacturing clay tile.

【0013】また、釉薬が施された瓦素地の場合、瓦素
地を互いに積み重ねて焼成すると、焼成により溶融した
釉薬が瓦素地間に浸透し、焼成された瓦素地の冷却とと
もに冷却された釉薬が瓦に固着し、釉薬により互いに接
着された焼成後の瓦を剥がす必要があるほか、瓦素地を
剥がす際に瓦が破損するという問題が生じ、生産上の面
からも実現は困難であった。
[0013] In the case of tiled tiles provided with glaze, when tiled tiles are stacked and fired, the glaze melted by firing penetrates between tiled tiles, and the cooled glaze is cooled and cooled. In addition to the need to peel off the fired tiles that are fixed to the tiles and adhered to each other with glaze, there is a problem that the tiles may be damaged when the tile base material is peeled off, and it has been difficult to realize this from the viewpoint of production.

【0014】一方、従来では焼成前の瓦素地に釉薬を塗
布し、施釉された瓦素地を塗布された釉薬と同時に焼成
することが一般的であった。ところが、焼成前の瓦素地
は気孔率が高いほか、強制乾燥による瓦素地の水分蒸発
に伴い瓦素地の表面に多数の気孔を生じることが多く、
このために塗布された釉薬とともに瓦素地を焼成する
と、瓦素地の表面に生じた気孔により起因するピンホー
ルが発生するおそれがあり、不良品を生じてしまうとい
う問題があった。その上、施釉された瓦素地と塗布され
た釉薬を同時に焼成するので、焼成後の冷却時におい
て、瓦素地と釉薬の熱応力による収縮が異なり、その結
果、瓦素地の変形や亀裂を助長するほか、焼成された釉
薬にひび割れなどの不具合が発生しがちであった。
On the other hand, conventionally, it has been common practice to apply a glaze to the tile material before firing and fire the glazed tile material simultaneously with the applied glaze. However, in addition to the high porosity of the tile before firing, many pores are often generated on the surface of the tile with the evaporation of moisture from the tile by forced drying.
For this reason, if the tile is fired together with the applied glaze, pinholes may be generated due to pores formed on the surface of the tile, and there is a problem that defective products are generated. In addition, since the glazed tile and the applied glaze are fired at the same time, during cooling after firing, the shrinkage due to the thermal stress of the tile and the glaze is different, thereby promoting deformation and cracking of the tile. In addition, defects such as cracks tend to occur in the fired glaze.

【0015】さらに、従来では気孔率が高い瓦素地に釉
薬を塗布するため、気孔率の高い焼成前の瓦素地に吸収
される釉薬の量が多くなり、高価な釉薬の無駄を生じる
ほか、釉薬の量が多くなることから塗布された釉薬の乾
燥に時間を要するほか、焼成時に溶融する釉薬が一層多
くなりなりがちであり、棚板と瓦素地との固着を招くお
それがあった。
Furthermore, conventionally, since glaze is applied to tiles having a high porosity, the amount of glaze absorbed by the tiles having a high porosity before firing is increased, which results in waste of expensive glazes and glazes. Because the amount of glazing increases, it takes time to dry the applied glaze, and the amount of the glaze that melts during firing tends to increase, which may lead to sticking between the shelf and the tile substrate.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】この発明が、解決しよ
うとする課題は、成形および乾燥の際に変形や亀裂に抑
制するように瓦素地の姿勢を水平状態に折角保ってその
処理を行っても、焼成用台車に瓦素地を立設して焼成す
るため、変形や亀裂が生じる点にある。
The problem to be solved by the present invention is to perform the processing while maintaining the orientation of the tile in a horizontal state so as to suppress deformation and cracks during molding and drying. In addition, since the tiles are erected on the firing cart and fired, deformation and cracks are generated.

【0017】また、瓦素地の姿勢を水平状態に保って焼
成する場合、焼成用台車に瓦素地を立設して焼成する方
法と同じ程度に瓦素地の載置数を設定するためには、匣
鉢を利用する必要があり、大幅に焼成効率が低下する点
などにある。
Further, in the case of firing while maintaining the orientation of the tile substrate in a horizontal state, in order to set the number of tile substrates to be set to the same degree as the method of erecting the tile substrate on a firing cart and firing. It is necessary to use a sagger, and the firing efficiency is greatly reduced.

【0018】さらに、タイルの焼成方法のように互いに
瓦素地を積み重ねて焼成すると、瓦の機能を損うほか、
釉薬が互いに瓦素地を接着するように固着し生産上の問
題を生じるため、タイルの焼成方法を転用できない点に
ある。
Further, if tile tiles are stacked and fired in a manner similar to the tile firing method, the function of the tile is impaired.
Since the glaze adheres to each other so that the tiles adhere to each other, causing a problem in production, the method of firing tiles cannot be diverted.

【0019】また、焼成前の瓦素地に釉薬を塗布し、瓦
素地と瓦素地に塗布された釉薬を同時に焼成するため、
熱応力の異なる瓦素地と釉薬が焼成後の冷却時におい
て、収縮に差が発生し、瓦素地の変形や亀裂が生じやす
いほか、釉薬にひび割れなどの不具合が発生する点にあ
る。
Further, in order to apply a glaze to the tile before firing and to simultaneously fire the glaze applied to the tile and the tile,
The difference is that shrinkage occurs when the glaze and the glaze with different thermal stresses are cooled after firing, which tends to cause deformation and cracking of the glaze and also causes the glaze to have problems such as cracks.

【0020】また、焼成前の瓦素地に釉薬を塗布し、施
釉された瓦素地を焼成するため、気孔率の高い焼成前の
瓦素地に吸収される釉薬の量が多くなり、高価な釉薬の
無駄を生じる点、釉薬の量が多くなることから塗布され
た釉薬の乾燥に時間を要する点、焼成時に溶融する釉薬
が一層多くなりがちであり、棚板と瓦素地との固着を招
くおそれがある点にある。
In addition, since glaze is applied to the tile before firing and the tile is glazed and fired, the amount of glaze absorbed by the tile with high porosity before firing is increased, and expensive glaze is used. This is wasteful, the amount of glaze increases, it takes time to dry the applied glaze, and the amount of glaze that melts during firing tends to increase, which may lead to sticking between the shelf board and the tile base. At one point.

【0021】この発明の目的は、成形、乾燥および焼成
の一連の工程において変形や亀裂を防止するとともに、
瓦としての機能を損なわないほか、焼成された瓦素地に
対する釉薬の固着という生産上の問題を生じることな
く、塗布する釉薬の使用量を抑制し、効率的に変形や亀
裂のない瓦素地を焼成することのできる粘土瓦の製造方
法の提供にある。
An object of the present invention is to prevent deformation and cracks in a series of steps of forming, drying and firing,
In addition to not impairing the function as a tile, and reducing the amount of glaze to be applied without causing the production problem of sticking the glaze to the fired tile, the fired tile without deformation and cracks is efficiently fired. The present invention provides a method of manufacturing a clay tile that can be used.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明の粘
土瓦の製造方法は、粘土瓦の瓦素地を加圧成形した後、
加圧成形された瓦素地を乾燥させ、乾燥された瓦素地を
焼成用台車の棚板に載置させて焼成する粘土瓦の製造方
法において、屋根葺き時における粘土瓦の裏面の暴露部
に複数の凸部が設けられてなる瓦素地を水平状態で複数
枚成形した後、瓦素地を水平状態で乾燥させ、乾燥後の
複数枚の瓦素地を互いに同一方向であってかつ水平状態
に積み重ねた瓦素地群となし、瓦素地の凸部を介して各
瓦素地との間に間隙を形成した上、瓦素地群を棚板に載
置した後焼成し、焼成された瓦素地群の瓦素地に対して
順次釉薬を塗布し、塗布された瓦素地の釉薬を焼成する
ことを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a clay tile, comprising:
In a method of manufacturing a clay tile in which the pressure-formed tile base is dried and the dried tile base is placed on a shelf of a firing cart and fired, a plurality of exposed portions on the back surface of the clay tile when roofing are provided. After forming a plurality of tiles in a horizontal state, the tiles provided with the protrusions are dried in a horizontal state, and the plurality of tiles after drying are stacked in the same direction and in a horizontal state. A tile body group is formed, and a gap is formed between each tile body through a convex portion of the tile body, and the tile body group is placed on a shelf plate and fired. The method is characterized in that glaze is sequentially applied to the tiles, and the applied glaze of the tile is fired.

【0023】ここで、屋根葺き時における粘土瓦の裏面
の暴露部とは、粘土瓦を互いに重ねて屋根に葺いたとき
に重なることなく開放された裏面の部分を意味している
(図2および図8)。
Here, the exposed portion of the back surface of the clay tile at the time of roofing means a portion of the back surface which is opened without overlapping when the clay tiles are piled on each other and roofed (see FIG. 2 and FIG. 2). (FIG. 8).

【0024】裏面に形成された凸部とは、点状である場
合、連続的または不連続の突条や帯状である場合、ある
いは点状と突条の組み合わせの場合を含む。
The convex portion formed on the back surface includes a point-like shape, a continuous or discontinuous ridge or band shape, or a combination of a point-like shape and a ridge shape.

【0025】請求項2記載の発明の粘土瓦の製造方法
は、請求項1記載の粘土瓦の製造方法において、釉薬が
塗布された瓦素地を傾斜状態に保ちつつ、瓦素地の釉薬
を焼成することを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a clay tile according to the first aspect, wherein the glaze of the tile is baked while keeping the tile applied with the glaze in an inclined state. It is characterized by the following.

【0026】請求項3記載の発明の粘土瓦の製造方法
は、請求項1記載の粘土瓦の製造方法において、釉薬が
塗布された瓦素地を水平状態に保ちつつ、瓦素地の釉薬
を焼成することを特徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a clay tile according to the first aspect, wherein the glaze of the tile is baked while keeping the tile applied with the glaze horizontal. It is characterized by the following.

【0027】請求項4記載の発明の粘土瓦の製造方法
は、請求項1記載の粘土瓦の製造方法において、釉薬が
塗布された瓦素地を自立させた状態を保ちつつ、瓦素地
の釉薬を焼成することを特徴とするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a clay tile according to the first aspect, the glaze on the tile is applied while maintaining the tile applied with the glaze in an independent state. It is characterized by firing.

【0028】請求項5記載の発明の粘土瓦の製造方法
は、請求項1記載の粘土瓦の製造方法において、焼成さ
れた瓦素地に650℃以下で焼成される釉薬を塗布する
ことを特徴するものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a clay tile according to the first aspect, wherein a glaze fired at 650 ° C. or less is applied to the fired tile. Things.

【0029】[0029]

【作用効果】請求項1記載の発明の粘土瓦の製造方法
は、上記の構成であるから、成形から瓦素地の焼成に至
る一連の工程において瓦素地を常に統一した水平状態で
処理することになるため変形や亀裂が抑制され、歩留ま
りの向上を図ることができる。また、瓦素地が焼成され
て焼き固められた後に、釉薬を塗布し釉薬のみを焼成す
るので、釉薬の焼成による瓦素地に対する熱応力は小さ
く、焼成後の冷却時における瓦素地と釉薬の収縮の差に
よる影響が抑制され、釉薬が塗布された瓦素地に変形や
亀裂が生じるおそれはなく、塗布された釉薬に不具合が
生じるおそれがない。さらに、塗布された釉薬を焼成す
るために必要な熱があればよいので、瓦素地全体を焼成
することなく釉薬のみが焼成され、釉薬の焼成を1時間
以内にすることができ、無駄な熱エネルギーの消費を抑
制することができる。
According to the first aspect of the present invention, the method for manufacturing a clay tile has the above-described structure, and thus the tile is always processed in a uniform horizontal state in a series of steps from molding to firing of the tile. Therefore, deformation and cracks are suppressed, and the yield can be improved. In addition, after the tile is fired and hardened, the glaze is applied and only the glaze is fired, so the thermal stress on the tile by the firing of the glaze is small, and the shrinkage of the tile and the glaze during cooling after firing is reduced. The influence of the difference is suppressed, and there is no possibility that deformation or cracks will occur in the tile material coated with the glaze, and there is no possibility that a problem occurs in the applied glaze. Furthermore, since it is only necessary to provide the heat necessary for firing the applied glaze, only the glaze is fired without firing the entire tile material, and the firing of the glaze can be performed within one hour, resulting in wasteful heat. Energy consumption can be suppressed.

【0030】また、屋根葺き時における粘土瓦の裏面の
暴露部に設けられた凸部を介して各瓦素地を積み重ね、
間隙を有する瓦素地群とした上、焼成用台車に搭載して
焼成するので、瓦としての機能を損なうことのない瓦が
得られるとともに効率的な瓦素地の焼成が行える。その
上、焼成された瓦素地に釉薬を塗布し、塗布された釉薬
を焼成するため、焼成前の瓦素地に比較して気孔率の低
い焼成された瓦素地であるため、ピンホールの発生が抑
制されるほか、塗布する釉薬の量は抑制され、釉薬の乾
燥時間の短縮化が図れるほか、焼成効率の向上、釉薬の
固化による瓦素地の接着や瓦の破損を防止することがで
きる。
In addition, the respective tile bases are stacked via a convex portion provided on an exposed portion on the back surface of the clay tile at the time of roofing,
Since a tile group having a gap is formed and then fired while mounted on a firing cart, a tile without impairing the function as a tile can be obtained, and the tile body can be efficiently fired. In addition, glaze is applied to the fired tile, and the applied glaze is fired.Therefore, pinholes are generated because the fired tile has a lower porosity than the tile before firing. In addition to suppressing the amount of glaze to be applied, the amount of glaze to be applied is also reduced, so that the drying time of the glaze can be shortened, the firing efficiency can be improved, and the adhesion of the tile substrate due to solidification of the glaze and the breakage of the tile can be prevented.

【0031】請求項2記載の発明の粘土瓦の製造方法
は、上記の構成であるから、請求項1記載の発明の効果
を奏することのほか、釉薬が塗布された瓦素地を傾斜状
態に保ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成すること
により、釉薬が溶融して焼成用台車に付着することがな
いほか、瓦素地の頭に釉薬が滴状に残留することがな
い。
The method for manufacturing a clay roof tile according to the second aspect of the present invention has the above-described structure. In addition to the effect of the first aspect, the tile material coated with the glaze is kept in an inclined state. In addition, by firing the glaze applied to the tile body, the glaze does not melt and adhere to the firing cart, and the glaze does not remain in the form of drops on the head of the tile body.

【0032】請求項3記載の発明の粘土瓦の製造方法
は、上記の構成であるから、請求項1記載の発明の作用
効果を奏することのほか、釉薬が塗布された瓦素地を水
平保ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成することに
より、釉薬が塗布された焼成後の瓦素地の変形や亀裂が
確実に抑制され、一層の歩留まりの向上を図ることがで
きる。
The method for manufacturing a clay roof tile according to the third aspect of the present invention has the above-described structure, so that in addition to the effects of the first aspect of the present invention, the tile roof coated with the glaze is kept horizontal. By firing the glaze applied to the tile base, deformation and cracking of the tile base after firing with the glaze applied can be reliably suppressed, and the yield can be further improved.

【0033】請求項4記載の発明の粘土瓦の製造方法
は、上記の構成であるから、請求項1記載の発明の作用
効果を奏することのほか、釉薬が塗布された瓦素地を自
立させた状態を保ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼
成することにより、姿勢制御部材を必要することなく瓦
素地の姿勢を保つことが比較的容易であり、瓦素地に塗
布された釉薬の焼成が手軽に行える。
Since the method for manufacturing a clay tile according to the fourth aspect of the present invention has the above-described structure, in addition to the functions and effects of the first aspect of the invention, the tile body coated with the glaze is made independent. By firing the glaze applied to the tiles while maintaining the state, it is relatively easy to maintain the attitude of the tiles without the need for an attitude control member. Easy to do.

【0034】請求項5記載の発明の粘土瓦の製造方法
は、上記の構成であるから、請求項12、3または4記
載の発明の効果を奏することのほか、焼成された瓦素地
に650℃以下で焼成される釉薬を塗布することによ
り、釉薬の焼成に必要な熱エネルギーを抑制することが
でき、効率的な釉薬の焼成が行えるほか、瓦素地に対す
る熱応力をより軽減させることができ、釉薬の焼成時に
瓦素地の変形や亀裂が生じることはない。
The method for manufacturing a clay roof tile according to the fifth aspect of the present invention has the above-described structure. By applying the glaze that is fired below, the thermal energy required for firing the glaze can be suppressed, efficient firing of the glaze can be performed, and thermal stress on the tile substrate can be further reduced, There is no deformation or cracking of the tile during firing of the glaze.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図面を参
照して以下に説明する。図1は、この発明に採用された
F形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地の裏面斜視図、図2はF形
粘土瓦の桟瓦を屋根に葺いたときの裏面の状態を示す斜
視図、図3はこの発明の工程を示す工程図、図4は焼成
用台車の棚板上に複数枚のF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地
を載置させて焼成を行っている状態を示す要部の正面
図、図5は焼成用台車の棚板上に複数枚のF形粘土瓦の
桟瓦用の瓦素地を載置させて焼成炉内で焼成を行ってい
る状態を示す要部の側面図、図6は焼成されたF形粘土
瓦の桟瓦用の瓦素地に塗布された釉薬を焼成する工程を
示す側面図である。図7はこの発明に採用されたJ形粘
土瓦の桟瓦の裏面斜視図、図8はJ形粘土瓦の桟瓦を屋
根に葺いたときの裏面の状態を示す斜視図、図9は複数
枚のJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地を焼成用台車の棚板上
に積み重ねて焼成する状態を示す拡大正面図、図10は
焼成されたJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地に塗布された釉
薬を焼成する工程を示す斜視図、図11はさらに別の実
施の形態に係る焼成された瓦素地に塗布された釉薬を焼
成する工程を示す斜視図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of the back surface of the tile body for the tiles of the F-type clay tile employed in the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing the state of the back surface when the tile tiles of the F-type clay tile are laid on the roof. 3 is a process diagram showing the process of the present invention, and FIG. 4 is a main portion showing a state in which a plurality of F-type clay tiles are placed on a shelf plate of a baking cart for firing, and firing is performed. FIG. 5 is a side view of a main portion showing a state in which a plurality of F-type clay tiles are placed on a shelf plate of a trolley for firing, and firing is performed in a firing furnace. FIG. 6 is a side view showing a step of firing the glaze applied to the tile base material for the fired F-type clay tile for the cross tile. FIG. 7 is a perspective view of the back surface of the J-shaped clay tile used in the present invention, FIG. 8 is a perspective view showing the state of the back surface when the J-shaped clay tile is laid on the roof, and FIG. FIG. 10 is an enlarged front view showing a state in which tile bodies for J-shaped clay tiles for tiles are stacked on a shelf plate of a trolley for firing and fired, and FIG. 10 is applied to tile tiles for fired J-type clay tiles for tiles. FIG. 11 is a perspective view showing a step of firing a glaze, and FIG. 11 is a perspective view showing a step of firing a glaze applied to a fired tile material according to still another embodiment.

【0036】この発明の実施の形態に係る粘土瓦の製造
方法は、水分を含んだ粘土原料を加圧成形し、未乾燥の
瓦素地を得る成形工程、未乾燥の瓦素地を水平状態で乾
燥させる乾燥工程、乾燥された瓦素地を焼成用台車に積
み重ねて焼成させる焼成工程、焼成された瓦素地に釉薬
を塗布する工程、瓦素地に塗布された釉薬を焼成する工
程から基本的に構成されている。
In the method for manufacturing a clay tile according to the embodiment of the present invention, a molding step of molding a clay material containing water under pressure to obtain an undried tile is dried, and the undried tile is dried in a horizontal state. It basically consists of a drying process for drying, a firing process for stacking the dried tiles on a firing cart and firing, a process for applying glaze to the fired tiles, and a process for firing the glaze applied to the tiles. ing.

【0037】そこで、この実施の形態においてはF形粘
土瓦の桟瓦(日本工業規格5208A、図1を参照)の
製造方法についてまず説明する。
Therefore, in this embodiment, a method of manufacturing an F-type clay tile (Japanese Industrial Standard 5208A, see FIG. 1) will be described first.

【0038】成形工程においては、上型12aと下型1
2bからなる成形型12により、F形粘土瓦の桟瓦用の
瓦素地Wfの成形時に瓦素地Wfの裏面の複数箇所に凸
部14を成形できるようにしている(図3を参照)。
In the molding step, the upper mold 12a and the lower mold 1
The molding die 12 made of 2b allows the projections 14 to be formed at a plurality of locations on the back surface of the tile body Wf at the time of forming the tile body Wf for the cross tile of the F-type clay tile (see FIG. 3).

【0039】瓦素地Wfの裏面の複数箇所に凸部14を
形成するため下型12bに凸部14の数や形状に対応し
た凹部12cが設けられていることはいうまでもない。
Needless to say, the lower mold 12b is provided with concave portions 12c corresponding to the number and shape of the convex portions 14 in order to form the convex portions 14 at a plurality of positions on the back surface of the tile body Wf.

【0040】凸部14は瓦素地Wfの裏面に形成される
が、その位置は、粘土瓦を屋根に葺いた際に粘土瓦とし
ての機能を損なわないよう屋根葺き時における粘土瓦の
裏面の暴露部13である。
The convex portion 14 is formed on the back surface of the tile base Wf. The position of the protrusion 14 is determined by exposing the back surface of the clay tile at the time of roofing so as not to impair the function as the clay tile when the clay tile is laid on the roof. The part 13.

【0041】F形粘土瓦の桟瓦Wfは頭に垂れ20を備
え、尻に引っ掛け部22を備えている。また桟瓦Wfを
屋根に葺いたときに桟瓦Wfの幅方向について互いに重
なる部分があるが(F形粘土瓦の桟瓦と桟瓦用の瓦素地
の符号は便宜上共通の符号により表してある。以下J形
粘土瓦の桟瓦と桟瓦用の瓦素地の符号についても同様に
便宜上共通の符号により表してある)、アンダーラップ
部21とオーバーラップ部23によるものである(図1
および図2を参照)。
The roof tile Wf of the F-type clay tile has a hanging portion 20 on its head and a hook 22 on its buttocks. When the roof tile Wf is laid on the roof, there are portions overlapping each other in the width direction of the roof tile Wf. (The reference numbers of the roof tiles for the F-type clay tile and the roof tile for the roof tile are represented by common symbols for convenience. Similarly, the reference numerals of the clay tiles and the tile base for the tiles are also represented by common reference numerals for convenience), and are based on the underlap portion 21 and the overlap portion 23 (FIG. 1).
And FIG. 2).

【0042】図1に示されるF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素
地Wfの場合では、一定の間隔毎にかつ点状に9個の凸
部14が配設されているが、もとより凸部14の個数に
制限されるものではない。
In the case of the tile body Wf for the cross tile of the F-type clay tile shown in FIG. 1, nine protrusions 14 are arranged at regular intervals and in a dotted manner. Is not limited.

【0043】瓦素地Wfの裏面に成形された凸部14は
点状である場合のほか、連続的または不連続の突条の場
合、あるいは点状と突条の組み合わせの場合を含む。
The projections 14 formed on the back surface of the tile body Wf include not only a point-like shape but also continuous or discontinuous ridges, or a combination of point-like and ridges.

【0044】図面上、省略してあるが、点状の凸部14
に代えて瓦素地Wfの頭寄りと尻寄りに2本の突条が一
定の間隔を隔てて形成することにより凸部14としても
よい。
Although omitted in the drawing, the point-like projections 14
Alternatively, the protrusions 14 may be formed by forming two ridges at a fixed interval near the head and bottom of the tile body Wf.

【0045】これらの凸部14は前記したとおり、屋根
葺き時における粘土瓦の裏面の暴露部13に設けられる
ことを必須とするが、要すれば、凸部14を備えた瓦素
地Wfの裏面を別の瓦素地Wfの表面に水平状態で載置
させたときに、その両者間に焼成時の燃焼ガスが流通す
るよう間隙15の高さを一定に設けることと、互いに水
平状態に積み重ねられた多数の瓦素地Wfからなる瓦素
地群Mfを焼成用台車26に載置したときに瓦素地Wf
の安定性を目的としているものであるから、この目的を
達成できるならば、その形状、位置、数は制約されな
い。
As described above, these protrusions 14 are required to be provided on the exposed portion 13 on the back surface of the clay tile at the time of roofing, but if necessary, the back surface of the tile substrate Wf having the protrusions 14 may be provided. Is placed horizontally on the surface of another tile body Wf, the height of the gap 15 is provided so as to allow the combustion gas during firing to flow between the two, and When the group of tiles Mf including a large number of tiles Wf is placed on the firing cart 26, the tiles Wf
Since the object of the invention is to achieve the stability, the shape, position and number of the object are not limited as long as this object can be achieved.

【0046】もっとも、瓦素地Wfの頭や尻に裏面に向
けていわゆる垂れ20や引っ掛け部22と称されるもの
を設けられることが一般的であるが、これらの垂れ20
や引っ掛け部22が存在する場合では、瓦素地Wfを載
置した際に垂れ20や引っ掛け部22が障害とならない
ようにするため、垂れ20や引っ掛け部22の高さに比
較して多少高い凸部14を設けることが好ましい。
Of course, what is called a hanging portion 20 or a hook portion 22 is generally provided on the head or the butt of the tile base Wf toward the back surface.
In the case where the hook portion 22 exists, the protrusion 20 or the hook portion 22 is slightly higher than the height of the hanging portion 20 or the hook portion 22 so that the hanging portion 20 or the hook portion 22 does not become an obstacle when the tile substrate Wf is placed. It is preferable to provide the part 14.

【0047】他方、引っ掛け部22に凸部14の機能を
持たせるようにするため引っ掛け部22の高さを凹部1
4の高さに等しくなるように調整し、引っ掛け部22と
凸部14と組み合わせることも発明者は予定している。
On the other hand, in order to make the hook portion 22 have the function of the convex portion 14, the height of the hook portion 22 is set to the concave portion 1.
The inventor also plans to adjust the height so as to be equal to the height of No. 4 and combine the hook portion 22 and the convex portion 14.

【0048】前記した構成による成形型12により水分
を含んだ粘土原料を加圧成形して水平状態の瓦素地Wf
を得る。そして、成形された未乾燥の瓦素地Wfを水平
状態を保って乾燥工程へ送り込み、乾燥工程において乾
燥させる。
The clay raw material containing water is pressure-formed by the forming die 12 having the above-described configuration, and the tile material Wf in a horizontal state is formed.
Get. Then, the formed undried roof tile Wf is sent to the drying step while keeping the horizontal state, and dried in the drying step.

【0049】この場合、この発明の水分を含んだ柔軟性
の高い瓦素地Wfを変形や亀裂を抑制して乾燥させるた
めに、瓦素地Wfを乾燥用受具24に水平状態で1枚毎
に載置して乾燥を行う。
In this case, in order to dry the moisture-containing tile Wf of the present invention with high flexibility while suppressing deformation and cracks, the tile Wf is placed horizontally on the drying receiver 24 one by one. Place and dry.

【0050】この実施の形態においては、乾燥用受具2
4の表面は瓦素地Wfの裏面に形成された凸部14に干
渉しないように、凸部14が乾燥用受具24に埋没する
通孔25が設けられている。
In this embodiment, the drying receiver 2
The front surface 4 is provided with a through hole 25 in which the convex portion 14 is buried in the drying receiver 24 so as not to interfere with the convex portion 14 formed on the back surface of the tile body Wf.

【0051】このようにして乾燥された瓦素地Wfは水
平状態を保って乾燥されているため、乾燥による変形や
亀裂が抑制されている。
The tile body Wf thus dried is dried while keeping the horizontal state, so that deformation and cracks due to drying are suppressed.

【0052】次に、乾燥された複数枚の瓦素地Wfは水
平状態を保ちつつ互いに同一方向に積み重ねられて瓦素
地群Mfを形成する。ここに瓦素地群Mfとは、少なく
とも二枚の瓦素地Wfを意味している。
Next, the plurality of dried tiles Wf are stacked in the same direction while maintaining a horizontal state to form a tile group Mf. Here, the tile body group Mf means at least two tile bodies Wf.

【0053】この実施の形態では、瓦素地Wfを10枚
積み重ねることにより瓦素地群Mfの高さを一定の高さ
に設定することが意図されているが、焼成炉28の天井
の高さを考慮した例である。
In this embodiment, the height of the tile group Mf is set to be constant by stacking ten tiles Wf, but the height of the ceiling of the firing furnace 28 is reduced. This is an example that takes into account.

【0054】一般的には瓦素地群Mfの高さは焼成用台
車26上で瓦素地群Mfが転倒しない程度とすればよ
い。(意味がわからない)
In general, the height of the tile body group Mf may be such that the tile body group Mf does not fall on the firing cart 26. (I do not understand what it means)

【0055】一般的に瓦素地は立設させて焼成すること
が普通であるから、既存設備の焼成炉28や焼成用台車
26の高さは、瓦素地群Mfの高さを瓦素地Wfの長さ
程度にすることにより、既存の焼成炉28や焼成用台車
26を変更や改造することなく利用できる(意味がわか
らない)。
Generally, it is usual that the tile body is erected and fired. Therefore, the height of the firing furnace 28 and the baking cart 26 of the existing equipment is determined by the height of the tile group Mf and the height of the tile body Wf. By setting the length to about the length, the existing firing furnace 28 and the baking cart 26 can be used without being changed or modified (the meaning is not understood).

【0056】したがって、この発明の方法に変更しても
既存の焼成炉28や焼成用台車26を変更し、また大幅
な改造を必要としないため焼成炉28や焼成用台車26
の有効活用を図ることができる。この実施の形態におけ
る瓦素地焼成用の焼成炉は、多数の焼成用台車26が連
続的に走行する周知のトンネル式のものであるが、バッ
チ式の焼成炉でもよく焼成炉の方式に制限されない。
Therefore, even if the method of the present invention is changed, the existing sintering furnace 28 and sintering cart 26 are changed, and no significant modification is required.
Can be effectively utilized. The firing furnace for firing the tile body in this embodiment is a well-known tunnel type in which a large number of firing carts 26 run continuously, but may be a batch type firing furnace and is not limited to the firing furnace type. .

【0057】焼成用台車26は従来から知られているも
のであり、焼成用台車26上には瓦素地Wfの幅にほぼ
対応する棚板30が焼成用台車26の搬送方向に連続し
て配設されて列を形成し、棚板30の列が焼成用台車2
6の幅方向に亘って多数列設されている。
The baking cart 26 is conventionally known, and a shelf plate 30 substantially corresponding to the width of the tile base Wf is continuously arranged on the baking cart 26 in the conveying direction of the baking cart 26. To form a row, and the row of shelves 30 is
6 are arranged in a row in the width direction.

【0058】とくに、焼成炉28の燃焼ガスが瓦素地群
Mfの周囲に均等に及ぶように、棚板30の列の間は、
一定の間隔を保たれている。
In particular, between the rows of the shelves 30, so that the combustion gas of the firing furnace 28 evenly spreads around the tile group Mf.
They are kept at regular intervals.

【0059】そして、瓦素地群Mfは焼成用台車26の
棚板30上に載置され、瓦素地群Mfを満載した焼成用
台車26は焼成炉28に送り込まれる。
Then, the tile group Mf is placed on the shelf 30 of the firing cart 26, and the firing cart 26 full of the tile group Mf is sent to the firing furnace 28.

【0060】焼成炉28に送り込まれた瓦素地群Mf
は、先に説明したように瓦素地Wfの間には、焼成時の
燃焼ガスが流通するように間隙15が形成されるから、
焼成炉28内の燃焼ガスが瓦素地Wfの間にも行き届
く。
The tile group Mf sent to the firing furnace 28
As described above, since the gap 15 is formed between the tile bodies Wf so that the combustion gas at the time of firing flows,
The combustion gas in the firing furnace 28 reaches between the tiles Wf.

【0061】次に焼成された瓦素地Wfの表面に釉薬G
が塗布されるが、瓦素地Wfは焼成用台車26から積み
降ろされ、一枚毎に施釉コンベア60のハンガー62に
より瓦素地Wfの尻を挟持され傾斜状態に保たれつつ施
釉ノズル64に向けて搬送される。
Next, a glaze G is applied to the surface of the fired tile body Wf.
Is applied to the tile base Wf, and the tile base Wf is unloaded from the baking cart 26, and the tail end of the tile base Wf is held by the hanger 62 of the glaze conveyor 60 one by one toward the glaze nozzle 64 while being kept in an inclined state. Conveyed.

【0062】施釉ノズル64に向けて搬送された瓦素地
Wfは、釉薬ノズル64から流れ出る液状の釉薬Gがそ
の表面に塗布される(図3を参照)。この実施の形態に
おいては瓦素地Wfの姿勢を傾斜状態に保ちつつ釉薬G
を塗布するようにしたが、別のハンガーにより瓦素地W
fを鉛直方向に吊持し釉薬Gを塗布してもよく、また、
液状の釉薬Gを瓦素地Wfに流し掛けるほか、釉薬Gを
噴霧させて瓦素地Wfに塗布してもよい。
The tiles Wf conveyed toward the glazing nozzle 64 are coated with a liquid glaze G flowing out of the glaze nozzle 64 on the surface thereof (see FIG. 3). In this embodiment, the glaze G is kept while the posture of the tile body Wf is kept in an inclined state.
Was applied, but the tile substrate W was separated by another hanger.
f may be suspended vertically and glaze G may be applied.
In addition to pouring the liquid glaze G on the tile base Wf, the glaze G may be sprayed and applied to the tile base Wf.

【0063】焼成された瓦素地Wfに釉薬Gが塗布され
るとき、焼成された瓦素地Wfに焼成の余熱が存在する
と、塗布された釉薬Gの乾燥が促進され釉薬Gの乾燥時
間の短縮化を図ることができる。釉薬Gは従来から知ら
れたものでよいが、後述する釉薬Gの焼成に必要な熱量
を抑制するほか、釉薬Gの焼成による瓦素地の変形や亀
裂を抑制するために従来の釉薬より低温(400〜50
0℃)で焼成される釉薬を用いることが好ましい(たと
えば、特開平11−43386号公報、特開平8−16
5139号公報を参照)。
When the glaze G is applied to the fired tile base Wf, if there is residual heat of firing in the fired tile base Wf, drying of the applied glaze G is promoted and the drying time of the glaze G is shortened. Can be achieved. The glaze G may be a conventionally known glaze. However, in addition to suppressing the amount of heat required for firing the glaze G described later, the glaze G has a lower temperature than the conventional glaze in order to suppress deformation and cracking of the tile substrate due to the firing of the glaze G. 400-50
It is preferable to use a glaze fired at 0 ° C. (for example, JP-A-11-43386, JP-A-8-16).
No. 5139).

【0064】次に、瓦素地Wfに塗布された釉薬Gを焼
成する工程について説明する。釉薬Gが塗布された瓦素
地Wfはハンガー62から取り外され、釉薬焼成用の焼
成炉66に送り込まれる。この実施の形態において採用
した釉薬焼成用の焼成炉66は、釉薬Gの焼成を図るた
めのものあり、瓦素地焼成用の焼成炉と同様にトンネル
式のもので多数の焼成用台車68を備えている。
Next, the step of firing the glaze G applied to the tile body Wf will be described. The tile body Wf to which the glaze G has been applied is removed from the hanger 62 and sent to a firing furnace 66 for firing the glaze. The firing furnace 66 for firing the glaze employed in this embodiment is for firing the glaze G, and is a tunnel-type firing furnace similar to the firing furnace for firing tile tiles, and includes a large number of firing carts 68. ing.

【0065】焼成用台車68には、釉薬Gを塗布された
瓦素地Wfの姿勢を傾斜状態に保つための姿勢制御部材
70が多数設けられており、姿勢制御部材70は瓦素地
Wfの裏面側の一部に当接し、瓦素地Wfを傾斜状態に
保つことができるように図られている。
The baking cart 68 is provided with a number of posture control members 70 for maintaining the posture of the tile body Wf coated with the glaze G in an inclined state, and the posture control member 70 is provided on the back side of the tile body Wf. , So that the tile body Wf can be maintained in an inclined state.

【0066】この焼成炉66によれば、釉薬Gの焼成時
間は一般的には約30分であり、釉薬Gの焼成は焼成用
台車68の入口から出口に至る間に完了する。そして、
瓦素地Wfは傾斜状態を保つように焼成用台車68に多
数搭載され、焼成用台車68は焼成炉66に順次送込ま
れ、瓦素地Wfに塗布された釉薬Gが焼成される。
According to this firing furnace 66, the firing time of the glaze G is generally about 30 minutes, and the firing of the glaze G is completed during the period from the entrance to the exit of the firing cart 68. And
A large number of the tiles Wf are mounted on a firing cart 68 so as to maintain an inclined state, and the firing carts 68 are sequentially sent to a firing furnace 66 to fire the glaze G applied to the tiles Wf.

【0067】この実施の形態においては、焼成用台68
車の走行によるトンネル式の焼成炉66を採用したが、
炉内に搬送面を形成する多数の搬送用ローラを備え、被
焼成物を連続的に焼成するローラーハース式の焼成炉や
被焼成物をまとめて炉内に投入し焼成後に被焼成物をま
とめて取り出すバッチ式の焼成炉を採用することもでき
る。
In this embodiment, the firing table 68 is used.
A tunnel-type firing furnace 66 was adopted by driving a car.
Equipped with a number of transfer rollers that form a transfer surface in the furnace, a roller hearth type baking furnace that continuously bake the objects to be fired, and the objects to be fired are put together into the furnace, and the objects to be fired are collected after firing. It is also possible to employ a batch-type firing furnace for taking out by taking out.

【0068】したがって、瓦素地Wfの成形、乾燥、焼
成までの一連の工程中、瓦素地Wfは常に水平状態の姿
勢に保たれるので、各工程において変形や亀裂を最小限
に抑制でき、とくに焼成工程では、瓦素地Wfの凸部1
4を介して各瓦素地Wfとの間に間隙15を備えた瓦素
地群Mfとなし、焼成用台車26の棚板30上で瓦素地
群Mfを焼成することから、粘土瓦の機能を損なうこと
なく効率的な瓦素地Wfの焼成を実現できる。
Accordingly, during a series of steps from forming, drying and firing of the tile Wf, the tile Wf is always kept in a horizontal state, so that deformation and cracks can be suppressed to a minimum in each step. In the firing step, the protrusions 1 of the tile body Wf
A tile group Mf having a gap 15 between each tile substrate Wf and the tile substrate Wf is provided, and the tile group Mf is fired on the shelf board 30 of the firing cart 26, thereby impairing the function of the clay tile. Thus, efficient firing of the tile body Wf can be realized without the need.

【0069】その上、焼成された瓦素地Wfに釉薬Gを
塗布し、瓦素地Wfの釉薬Gを焼成することにより、焼
成後の緻密な状態にある瓦素地Wfの表面に釉薬Gを塗
布するので、釉薬Gを焼成しても瓦素地Wfの気孔に起
因するピンホールが発生しない奇麗な仕上げができるほ
か、釉薬Gの消費量が低減される。
Further, the glaze G is applied to the fired tile Wf and the glaze G of the tile Wf is fired, so that the glaze G is applied to the surface of the tile Wf in a dense state after firing. Therefore, even if the glaze G is fired, a beautiful finish in which pinholes do not occur due to the pores of the tile body Wf can be achieved, and the consumption of the glaze G can be reduced.

【0070】また、塗布された釉薬Gの乾燥時間の短縮
化を図ることができ、とくに焼成後の瓦素地Wfが余熱
を有する場合には、釉薬Gの乾燥時間の短縮が著しい。
In addition, the drying time of the applied glaze G can be shortened. In particular, when the tile material Wf after firing has residual heat, the drying time of the glaze G is remarkably reduced.

【0071】釉薬Gが塗布された瓦素地Wfを傾斜状態
に保ちつつ、瓦素地Wfに塗布された釉薬Gを焼成する
ことにより、釉薬Gが溶融して焼成用台車68に付着す
ることがないほか、瓦素地Wfの頭に釉薬Gが滴状に残
留することがない。
By firing the glaze G applied to the tile Wf while keeping the tile Wf coated with the glaze G in an inclined state, the glaze G does not melt and adhere to the firing carriage 68. In addition, the glaze G does not remain in the form of drops on the head of the tile body Wf.

【0072】とりわけ、近時普及化が促進されている板
状の形態のF形粘土瓦の桟瓦Wfについては、変形や亀
裂のおそれが少なくなかったが、この種の形態のF形粘
土瓦の桟瓦Wfの製造に対してとくに有利である。
In particular, with regard to the cross tile Ff of the F-type clay roof tile in the form of a plate which has been promoted in recent years, the risk of deformation and cracking is not small, but the F-type clay roof tile of this type is not. This is particularly advantageous for the manufacture of the crosspiece Wf.

【0073】次にF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wfに代
えてJ形粘土瓦の桟瓦(日本工業規格5208A、図7
を参照)の瓦素地Wjの製造方法について発明の実施の
形態を説明する。
Next, a J-shaped clay roof tile (Japanese Industrial Standard 5208A, FIG. 7) is used instead of the F-type clay roof tile roof tile base material Wf.
An embodiment of the present invention will be described with respect to a method of manufacturing the tile body Wj).

【0074】J形粘土瓦の桟瓦の製造工程は、先の説明
したF形粘土瓦の桟瓦の製造工程と基本的に同一である
ため、大部分の説明を援用し、相違点について原則的に
説明する。
Since the manufacturing process of the J-shaped clay tile is basically the same as that of the F-shaped clay tile described above, most of the explanation is referred to and the differences are basically described. explain.

【0075】J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wjは、成形
型を用いた加圧成形により得られるが、J形粘土瓦の桟
瓦用の瓦素地Wfの成形時に瓦素地Wfの裏面の複数箇
所に凸部44が形成され、凸部44は瓦素地Wjの裏面
に形成されるが、その位置は屋根に葺いた際に粘土瓦と
しての機能を損なわないように、屋根葺き時における粘
土瓦の裏面の暴露部53である(図8を参照)。図8に
おいてハッチングにより表れた部分が裏面の暴露部53
である。
The tile body Wj for the tile of the J-type clay tile can be obtained by pressure molding using a molding die. When the tile body Wf for the tile of the J-type clay tile is formed, a plurality of the back surfaces of the tile body Wf are formed. A convex portion 44 is formed at a location, and the convex portion 44 is formed on the back surface of the tile body Wj. The position of the convex portion 44 is such that the clay tile when roofing is used so as not to impair the function as a clay tile when roofed. (See FIG. 8). In FIG. 8, the hatched portion is the exposed portion 53 on the back surface.
It is.

【0076】図7および図8に示されるように、一定の
間隔毎にかつ点状に6個の凸部44が配設されている。
As shown in FIGS. 7 and 8, six convex portions 44 are arranged at regular intervals and in a dotted manner.

【0077】次に瓦素地Wjを水平状態に保ちつつ乾燥
工程へ送り込み、瓦素地Wfと同様に乾燥用受具を用い
て水平状態で乾燥する。
Next, the tile body Wj is sent to a drying step while being kept in a horizontal state, and is dried in a horizontal state using a drying receiver similarly to the tile body Wf.

【0078】次に、乾燥された複数枚の瓦素地Wjは水
平状態を保ちつつ互いに同一方向に積み重ねられて瓦素
地群Mjを形成する。
Next, the plurality of dried tiles Wj are stacked in the same direction while maintaining a horizontal state to form a tile group Mj.

【0079】この実施の形態は、瓦素地群Mjの高さを
瓦素地Wjを5枚積み重ねた高さとしている。
In this embodiment, the height of the tile body group Mj is set to the height of five tile bodies Wj stacked.

【0080】次に、瓦素地群Mjを焼成用台車26の棚
板30に積み込むが、棚板30の載置面が平面であるこ
とが一般的であることと、J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地
Wjが有する形状により、瓦素地群Mjを棚板30に直
ちに載置することが困難である。
Next, the tile body group Mj is loaded on the shelf plate 30 of the firing cart 26. It is common that the mounting surface of the shelf plate 30 is flat, and Due to the shape of the tile body Wj, it is difficult to immediately place the tile group Mj on the shelf board 30.

【0081】すなわち、J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地W
jの形状は桟から差し込みにかけて断面が波状を呈して
おり、瓦素地Wjの裏面に設けられた凸部44も瓦素地
Wjの裏面の形態に対応して設けられており、瓦素地群
Mjを平面を形成する棚板30に直接載置すると、瓦素
地群Mjが傾斜するなど安定性に欠けるなどのおそれが
ある。
That is, the tile body W for the cross tile of the J-shaped clay tile
The shape of j has a wavy cross section from the crosspiece to the insertion, and the convex portion 44 provided on the back surface of the tile body Wj is also provided corresponding to the form of the back surface of the tile body Wj. If the tile group Mj is placed directly on the shelf plate 30 that forms a flat surface, the tile group Mj may be inclined or lack stability.

【0082】そこで、焼成用台車26の棚板30に瓦素
地群Mj中の最下層に位置する瓦素地Mjの姿勢を制御
する制御機構を設け、瓦素地群Mjを制御機構を介して
支持させることにより焼成することが好ましい。
Therefore, a control mechanism for controlling the attitude of the tile body Mj located at the lowest layer in the tile group Mj is provided on the shelf 30 of the firing cart 26, and the tile group Mj is supported via the control mechanism. It is preferable to perform firing.

【0083】瓦素地Mjの姿勢を制御する制御機構とし
て次の例が予定される。この実施の形態においては瓦素
地群Mj用の支持部材32を棚板30上に載置し、瓦素
地群Mj用の支持部材32を介して瓦素地群Mjを棚板
30に載置する工夫が図られている。
The following example is scheduled as a control mechanism for controlling the attitude of the tile Mj. In this embodiment, the support member 32 for the tile body group Mj is placed on the shelf board 30, and the tile body group Mj is placed on the shelf board 30 via the support member 32 for the tile body group Mj. Is planned.

【0084】この実施の形態における瓦素地群Mj用の
支持部材32は下面が平面を呈しており、また瓦素地W
jの裏面に設けられた凸部44に対応し、瓦素地Wjの
裏面に設けられた凸部44を介して瓦素地群Mjを水平
状態に支持することができるように瓦素地群Mj用の支
持部材32の上面に支持部34が設けられている。
The support member 32 for the tile group Mj in this embodiment has a flat bottom surface, and
j, corresponding to the convex portions 44 provided on the back surface of the tile body Wj, so that the tile group Mj can be supported in a horizontal state through the convex portions 44 provided on the back surface of the tile substrate Wj. The support part 34 is provided on the upper surface of the support member 32.

【0085】この実施の形態の瓦素地群Mj用の支持部
材32では、瓦素地Wjに引っ掛け部42が設けられて
いることから、引っ掛け部42が干渉しないよう凹陥部
36が設けられ、さらに瓦素地群Mjの位置ずれ防止の
リブ38が設けられている。
In the support member 32 for the tile body group Mj of this embodiment, since the hook part 42 is provided on the tile body Wj, the concave part 36 is provided so that the hook part 42 does not interfere with the tile member Wj. A rib 38 for preventing displacement of the base group Mj is provided.

【0086】瓦素地群Mj用の支持部材32を介して瓦
素地群Mjを棚板30上に載置させることにより、棚板
30上の瓦素地群Mjの安定性を確保することができ
る。
By placing the tile body group Mj on the shelf plate 30 via the support member 32 for the tile body group Mj, the stability of the tile body group Mj on the shelf plate 30 can be ensured.

【0087】そして、瓦素地群Mjは焼成用台車26に
搭載された後、焼成炉に送り込まれて焼成される。
Then, the tile body group Mj is mounted on a baking cart 26 and then sent to a baking furnace for baking.

【0088】次に焼成された瓦素地Wjの表面に釉薬G
が塗布されるが、瓦素地Wfの場合と同様に、瓦素地W
jは焼成用台車26から積み降ろされ、一枚毎に施釉コ
ンベア(図示せず)のハンガー(図示せず)により瓦素
地Wjの尻を挟持される。この実施の形態においては、
瓦素地Wjは施釉コンベアのハンガーにより垂直状態に
懸吊され施釉ノズル(図示せず)に向けて搬送される。
施釉ノズルに向けて搬送された瓦素地Wjは、釉薬ノズ
ルから流れ出る液状の釉薬Gがその表面に塗布される。
この実施の形態においても液状の釉薬Gを瓦素地Wjに
流し掛けるほか、釉薬Gを噴霧させて瓦素地Wjに塗布
してもよい。
Next, glaze G is applied to the surface of fired tile body Wj.
Is applied, but as in the case of the tile body Wf,
j is unloaded from the firing cart 26, and the butt of the tile base Wj is sandwiched by a hanger (not shown) of a glazed conveyor (not shown) for each sheet. In this embodiment,
The tile ground Wj is suspended vertically by a hanger of a glazing conveyor and is conveyed toward a glazing nozzle (not shown).
On the tile body Wj conveyed toward the glazing nozzle, a liquid glaze G flowing out of the glaze nozzle is applied to the surface thereof.
Also in this embodiment, in addition to pouring the liquid glaze G onto the tile body Wj, the glaze G may be sprayed and applied to the tile base Wj.

【0089】次に、瓦素地Wjに塗布された釉薬Gを焼
成する工程について説明する。釉薬Gを塗布された瓦素
地Wjはハンガーから取り外され、釉薬焼成用の焼成炉
66に送り込まれる。この実施の形態において採用した
釉薬焼成用の焼成炉66は、先に説明した実施の形態の
焼成炉66と同じであり、多数の焼成用台車68を備え
ている。焼成用台車68には棚板75が水平に備えら
れ、釉薬Gを塗布された瓦素地Wjは尻を棚板75に当
接させて瓦素地Wjの姿勢を起立状態に保つことができ
る。
Next, the step of firing the glaze G applied to the tile body Wj will be described. The tile body Wj to which the glaze G has been applied is removed from the hanger and sent to the firing furnace 66 for firing the glaze. The firing furnace 66 for firing the glaze employed in this embodiment is the same as the firing furnace 66 of the above-described embodiment, and includes a large number of firing carts 68. The baking cart 68 is provided with a shelf 75 horizontally, and the tile base Wj coated with the glaze G can keep the posture of the tile base Wj in an upright state by abutting the buttocks on the shelf 75.

【0090】また、瓦素地Wjの転倒防止のために棒状
の転倒防止部材74が棚板75の端部付近に立設されて
いる(図10を参照)。そして、焼成炉66に送りこま
れた瓦素地Wjの釉薬Gは、焼成用台車68が入口から
出口に至る間の約30分間により焼成される。
Further, in order to prevent the tile body Wj from falling over, a bar-shaped fall prevention member 74 is erected near the end of the shelf 75 (see FIG. 10). Then, the glaze G of the tile body Wj sent to the firing furnace 66 is fired for about 30 minutes while the firing cart 68 moves from the entrance to the exit.

【0091】そして、瓦素地Wjは起立状態を保つよう
に焼成用台車68に多数搭載され、焼成用台車68は焼
成炉66に順次送込まれ、瓦素地Wjに塗布された釉薬
Gが焼成される。
Then, a large number of the tiles Wj are mounted on a firing cart 68 so as to maintain the standing state, and the firing carts 68 are sequentially sent to a firing furnace 66, and the glaze G applied to the tiles Wj is fired. You.

【0092】このように、瓦素地Wjの成形、乾燥、焼
成までの一連の工程中、瓦素地Wjは常に水平状態の姿
勢に保たれるので、各工程において変形や亀裂を最小限
に抑制でき、とくに焼成においては、瓦素地Wjの凸部
44を介して各瓦素地Wjとの間に間隙45を形成する
瓦素地群Wjとなし、焼成用台車26の棚板30上に瓦
素地群Mj用の支持部材32を介在させ、瓦素地群Mj
を瓦素地群Mj用の支持部材32に載置して焼成をする
ことから、瓦素地Wjの水平状態を安定させることがで
き、粘土瓦の機能を損なうことなく効率的な瓦素地Wj
の焼成を実現できる。
As described above, during a series of steps from forming, drying, and firing of the tile substrate Wj, the tile substrate Wj is always kept in a horizontal state, so that deformation and cracks can be suppressed to a minimum in each step. In particular, in firing, there is no tile group Wj that forms a gap 45 between each tile substrate Wj via the convex portion 44 of the tile substrate Wj, and the tile group Mj is placed on the shelf board 30 of the firing cart 26. Tiles Mj with support members 32 for
Is placed on the support member 32 for the tile body group Mj and is fired, so that the horizontal state of the tile body Wj can be stabilized, and the efficient tile body Wj without impairing the function of the clay tile.
Can be realized.

【0093】その上、焼成された瓦素地Wjに釉薬Gを
塗布し、瓦素地Wjの釉薬Gを焼成することにより、焼
成後の緻密な状態にある瓦素地Wjの表面に釉薬Gを塗
布するので、釉薬Gを焼成しても瓦素地Wjの気孔に起
因するピンホールを発生することがなく奇麗な仕上がり
となるほか、釉薬Gの消費量が低減される。
Further, the glaze G is applied to the fired tile Wj and the glaze G of the tile Wj is fired, so that the glaze G is applied to the surface of the tile Wj in a dense state after firing. Therefore, even if the glaze G is fired, pinholes due to the pores of the tile body Wj are not generated, and a beautiful finish is obtained, and the consumption of the glaze G is reduced.

【0094】また、塗布された釉薬Gの乾燥時間の短縮
化を図ることができ、とくに焼成後の瓦素地Wjが余熱
を有する場合には、釉薬Gの乾燥時間の短縮が著しい。
Further, the drying time of the applied glaze G can be shortened. In particular, when the tile material Wj after firing has residual heat, the drying time of the glaze G is remarkably reduced.

【0095】釉薬Gが塗布された瓦素地Wjを自立させ
た状態を保ちつつ、瓦素地Wjに塗布された釉薬Gを焼
成することにより、姿勢制御部材などを必要することな
く瓦素地Wjの姿勢を保つことが比較的容易であり、瓦
素地Wjに塗布された釉薬Gの焼成が瓦素地Wjの焼成
と同様に手軽に行える。
By firing the glaze G applied to the tile base Wj while maintaining the tile base Wj to which the glaze G has been applied, the posture of the tile base Wj can be achieved without the need for an attitude control member or the like. Is relatively easy to maintain, and the baking of the glaze G applied to the tile body Wj can be easily performed in the same manner as the baking of the tile body Wj.

【0096】なお、この実施の形態においては、施釉前
の瓦素地群Mjの焼成の際に、瓦素地群Mj用の支持部
材32を用いたが、棚板30の上面を瓦素地Wjの裏面
に設けられた凸部44に対応させて形成し、瓦素地群M
j用の支持部材32と同等の機能を備えさせ、瓦素地群
Mj用の支持部材32を使用しない場合を発明者は予定
している。
In this embodiment, the support member 32 for the tile body group Mj is used when firing the tile body group Mj before glazing, but the upper surface of the shelf plate 30 is attached to the back surface of the tile body Wj. Are formed corresponding to the convex portions 44 provided in the
The inventor intends to provide a function equivalent to that of the support member 32 for j and not to use the support member 32 for the tile group Mj.

【0097】姿勢を制御する制御機構の適用例としてJ
形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地Wjを挙げたが、J形粘土瓦
の桟瓦用の瓦素地Wj以外の粘土瓦の瓦素地についても
適用できることはいうまでもない。
As an application example of the control mechanism for controlling the posture, J
Although the tile body Wj for the cross tile of the J-shaped clay tile has been described, it goes without saying that the present invention can be applied to a tile body of clay tile other than the tile body Wj for the J-type clay tile.

【0098】また、瓦素地Wjの引っ掛け部42の高さ
を調整して設け、凸部44の機能を有する引っ掛け部4
2と凸部44とを組み合わせることも発明者は予定して
いる。
Further, the height of the hook portion 42 of the tile substrate Wj is adjusted to provide the hook portion 4 having the function of the convex portion 44.
The inventor also plans to combine 2 and the convex portion 44.

【0099】さらに、瓦素地群Mjの高さを瓦素地Wj
の長さ程度にすることも発明者は予定しており、このこ
とから瓦素地Wjを焼成用台車26に立設して焼成する
焼成方法からこの発明の方法に変更しても、既存の焼成
炉28や焼成用台車26を変更または大幅な改造を必要
としないため、焼成炉28や焼成用台車26の有効活用
を図ることができる点も瓦素地Wfの場合と相違しな
い。
Further, the height of the tile body group Mj is changed to the tile body Wj.
The inventor also plans to reduce the length to about the length. Therefore, even if the firing method in which the tile substrate Wj is erected on the firing carriage 26 and fired is changed to the method of the present invention, the existing firing Since the furnace 28 and the trolley 26 are not required to be changed or significantly modified, the sintering furnace 28 and the trolley 26 can be effectively used, which is no different from the case of the tile base Wf.

【0100】また、別の実施の形態として予め瓦素地群
Mf、Mjを形成してから、焼成用台車26に瓦素地群
Mf、Mjを一括して載置させることなく、瓦素地W
f、Mfを一枚毎に焼成用台車26に積み重ねることに
より、爾後、瓦素地群Mf、Mjを形成することも発明
者は予定している。
Further, as another embodiment, after the tile body groups Mf, Mj are formed in advance, the tile body groups Wf, Mj are not placed on the firing cart 26 at once, and the tile body W
The inventor also plans to form the tile body groups Mf and Mj by stacking f and Mf one by one on the firing cart 26 and thereafter.

【0101】さらに別の瓦素地Wjに塗布された釉薬G
を焼成する実施の形態について説明する。瓦素地Wjの
成形、乾燥、焼成についての各工程は先に説明したので
援用する。この実施の形態においては、瓦素地に塗布さ
れた釉薬を焼成するためにローラハース式の焼成炉76
を採用している。この焼成炉76は入口から出口に至る
まで搬送面を形成する多数の搬送ローラ78を備えたも
のであり、焼成炉76に設けられた搬送ローラ78は回
転自在に制御されており、搬送ローラ78上の被搬送物
は連続的に炉内を通過できる構造となっている(図11
を参照)。
Glaze G applied to still another tile body Wj
An embodiment of baking will be described. The steps for forming, drying, and firing the tile body Wj are described above, and thus are used. In this embodiment, a roller hearth type firing furnace 76 is used for firing the glaze applied to the tile substrate.
Is adopted. The firing furnace 76 includes a number of transport rollers 78 that form a transport surface from the inlet to the outlet. The transport rollers 78 provided in the firing furnace 76 are rotatably controlled. The upper conveyed object has a structure capable of continuously passing through the furnace (FIG. 11).
See).

【0102】被搬送物である瓦素地Wjの炉内での搬送
は、板状の匣鉢80を介して行われるが、この匣鉢80
は耐火材料からなり、瓦素地Wjを水平状態で支持する
工夫がこらされている。
The tile substrate Wj to be transferred is transferred through the plate-shaped sagger 80 in the furnace.
Is made of a refractory material, and is devised to support the tile body Wj in a horizontal state.

【0103】匣鉢80の表面には平行な一対の突条8
2、82と突条82、82の間に形成される溝84が2
組設けられおり、これらの溝84に瓦素地Wjの凸部4
4が略嵌合され、瓦素地Wjが搬送中に桟および差し込
み方向に位置ずれしない。また溝84の長手方向であっ
て、溝84の両端付近には突片86が設けられ、瓦素地
Wjが搬送中に頭尻方向へ位置ずれすることを防止して
いる(図11を参照)。
The surface of the sagger 80 has a pair of parallel ridges 8
The groove 84 formed between the ridges 82 and 82 is
The grooves 84 are provided with the protrusions 4 of the tile body Wj.
4 are substantially fitted, and the tile body Wj is not displaced in the crosspiece and the insertion direction during transportation. Protrusions 86 are provided in the longitudinal direction of the groove 84 and near both ends of the groove 84 to prevent the tile body Wj from being displaced in the direction of the head and tail during transportation (see FIG. 11). .

【0104】そして、1個の匣鉢80に1枚の瓦素地W
jが水平状態に載置され、瓦素地Wjを載置した匣鉢8
0は順次焼成炉76に送りこまれ、瓦素地Wjに塗布さ
れた釉薬が約30分間で焼成される。
One sagger 80 and one tile W
j is placed in a horizontal state, and the sagger 8 on which the tile body Wj is placed
0 are sequentially sent to the firing furnace 76, and the glaze applied to the tile body Wj is fired in about 30 minutes.

【0105】この実施の形態では、釉薬Gが塗布された
瓦素地Wjを水平保ちつつ、瓦素地Wjに塗布された釉
薬Gを焼成することにより、釉薬Gが塗布された焼成後
の瓦素地Wjの変形や亀裂が確実に抑制され、不良品の
発生を防止し一層の歩留まりの向上を図ることができ
る。
In this embodiment, the glaze G applied to the tile Wj is fired while the tile Wj to which the glaze G is applied is kept horizontal, so that the fired tile Wj to which the glaze G has been applied is fired. Deformation and cracks are reliably suppressed, the occurrence of defective products can be prevented, and the yield can be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に採用されたF形粘土瓦の桟瓦用の瓦
素地Wfの裏面斜視図である。
FIG. 1 is a rear perspective view of a tile body Wf for a cross tile of an F-type clay tile employed in the present invention.

【図2】F形粘土瓦の桟瓦を屋根に葺いたときの裏面の
状態を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a state of a back surface when a roof tile of an F-shaped clay tile is laid on a roof.

【図3】この発明の工程を示す工程図である。FIG. 3 is a process chart showing the process of the present invention.

【図4】焼成用台車の棚板上に複数のF形粘土瓦の桟瓦
用の瓦素地を載置させて焼成炉内で焼成を行っている状
態を示す要部の正面図である。
FIG. 4 is a front view of a main part showing a state in which a plurality of F-type clay tiles for tile roof tiles are placed on a shelf plate of a firing cart and firing is performed in a firing furnace.

【図5】焼成用台車上に複数枚のJ形粘土瓦の桟瓦用の
瓦素地を載置させて焼成炉内で焼成を行っている状態を
示す要部の側面図である。
FIG. 5 is a side view of a main part showing a state in which a plurality of J-type clay tile tile roof tiles are placed on a firing cart and firing is performed in a firing furnace.

【図6】焼成されたF形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地に塗布
された釉薬を焼成する工程を示す側面図である。
FIG. 6 is a side view showing a step of firing a glaze applied to a tile body for a fired F-type clay tile for a cross tile;

【図7】この発明に採用されたJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦
素地の裏面斜視図である。
FIG. 7 is a rear perspective view of a tile body for a cross tile of a J-shaped clay tile employed in the present invention.

【図8】J形粘土瓦の桟瓦を屋根に葺いたときの裏面の
状態を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a state of a back surface when a J-shaped clay tile is laid on a roof.

【図9】複数枚のJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地を焼成用
台車に積み重ねて焼成する状態を示す拡大正面図であ
る。
FIG. 9 is an enlarged front view showing a state in which a plurality of J-type clay tile tile roof tiles are stacked on a firing cart and fired.

【図10】焼成されたJ形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地に塗
布された釉薬を焼成する工程を示す側面図である。
FIG. 10 is a side view showing a step of firing a glaze applied to a tile body for a fired J-shaped clay tile for a cross tile.

【図11】さらに別の実施の形態に係る焼成された瓦素
地に塗布された釉薬を焼成する工程を示す側面図であ
る。
FIG. 11 is a side view showing a step of firing a glaze applied to a fired tile body according to still another embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 成形型 12a 上型 12b 下型 13 暴露部 14 凸部 15 間隙 21 アンダーラップ部 23 オーバーラップ部 22 引っ掛け部 24 乾燥用受具 26 焼成用台車(瓦素地焼成用) 28 焼成炉(瓦素地焼成用) 30 棚板 32 瓦素地群用の支持部材 34 支持部 36 凹陥部 38 リブ 42 引っ掛け部 44 凸部 53 暴露部 60 施釉コンベア 62 ハンガー 64 施釉ノズル 66 焼成炉 68 焼成用台車(釉薬焼成用) 70 姿勢制御部材(釉薬焼成用) 72 棚板 74 転倒防止部材 75 棚板 76 焼成炉(ローラハース式) 78 搬送ローラ 80 匣鉢 82 突条 84 溝 86 突片 Wf F形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地 Wj J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地 Mf F形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地の瓦素地群 Mj J形粘土瓦の桟瓦用の瓦素地の瓦素地群 G 釉薬 REFERENCE SIGNS LIST 12 Mold 12 a Upper die 12 b Lower die 13 Exposed part 14 Convex part 15 Gap 21 Underlap part 23 Overlap part 22 Hook part 24 Drying receiver 26 Baking cart (for tile firing) 28 Firing furnace (tile firing) 30) Shelf plate 32 Support member for tile group 34 Support part 36 Depressed part 38 Rib 42 Hook part 44 Convex part 53 Exposed part 60 Glazing conveyor 62 Hanger 64 Glazing nozzle 66 Firing furnace 68 Firing cart (for firing glaze) 70 Posture control member (for glaze firing) 72 Shelf 74 Fall-over prevention member 75 Shelf 76 Firing furnace (roller hearth type) 78 Conveying roller 80 Sagger 82 Ridge 84 Groove 86 Protrusion Wf Roof tile for F-type clay tile Substrate Wj Roof tile for J-type clay tile tile Mf Froof tile for tile tile for F-type clay tile Mj Roof tile for tile of tile MJ J-type clay tile Tile matrix group G glaze

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 粘土瓦の瓦素地を加圧成形した後、加圧
成形された瓦素地を乾燥させ、乾燥された瓦素地を焼成
用台車の棚板に載置させて焼成する粘土瓦の製造方法に
おいて、 屋根葺き時における粘土瓦の裏面の暴露部に複数の凸部
が設けられてなる瓦素地を水平状態で複数枚成形した
後、瓦素地を水平状態で乾燥させ、 乾燥後の複数枚の瓦素地を互いに同一方向であってかつ
水平状態に積み重ねた瓦素地群となし、瓦素地の凸部を
介して各瓦素地との間に間隙を形成した上、素地群を棚
板に載置した後焼成し、 焼成された瓦素地群の瓦素地に対して順次釉薬を塗布
し、塗布された瓦素地の釉薬を焼成することを特徴とす
る粘土瓦の製造方法。
After the clay tile of the clay tile is pressure-formed, the pressure-formed tile is dried, and the dried tile is placed on a shelf plate of a firing cart to fire the clay tile. In the manufacturing method, after forming a plurality of tiles having a plurality of convex portions on the exposed portion of the back surface of the clay tile at the time of roofing, the tiles are dried in a horizontal state, and the tiles are dried in a horizontal state. A tile group is formed by stacking the tiles in the same direction and in a horizontal state, and a gap is formed between the tiles via the protrusions of the tile, and the group is placed on a shelf board. A method of manufacturing a clay tile, comprising: placing and firing the tiles of a group of fired tiles, applying a glaze to the tiles of the fired tiles, and firing the applied glaze of the tiles.
【請求項2】 釉薬が塗布された瓦素地を傾斜状態に保
ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成することを特徴
とする請求項1記載の粘土瓦の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the glaze applied to the tile is fired while the tile applied with the glaze is kept in an inclined state.
【請求項3】 釉薬が塗布された瓦素地を水平状態に保
ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成することを請求
項1記載の粘土瓦の製造方法。
3. The method for producing a clay tile according to claim 1, wherein the glaze applied to the tile is fired while the tile applied with the glaze is kept horizontal.
【請求項4】 釉薬が塗布された瓦素地を自立させた状
態を保ちつつ、瓦素地に塗布された釉薬を焼成すること
を特徴とする請求項1記載の粘土瓦の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the glaze applied to the tile is fired while maintaining the tile applied with the glaze in an independent state.
【請求項5】 焼成された瓦素地に650℃以下で焼成
される釉薬を塗布することを特徴する請求項1、2、3
または4記載の粘土瓦の製造方法。
5. The fired tile material is coated with a glaze fired at 650 ° C. or less.
Or the method for producing a clay tile according to 4.
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