JP3636228B2 - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、書き込みもしくは消去電位を自動的にトリミングする回路を備えた不揮発性半導体記憶装置に係り、とくにその自動トリミング回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来から知られている不揮発性半導体記憶装置には、PROM(Programmable Read Only Memory)、EPROM(Erasable and Programmable ROM)、EEPROM(Electrically Erasable and Programmable ROM) などがある。例えば、EEPROMなどの電気的に書き込み/消去可能な不揮発性半導体記憶装置においては、書き込みもしくは消去後のメモリセルのしきい値電圧(Vth)分布幅をある一定値以内に抑える必要がある。そのために、ビット毎にベリファイしながら書き込みもしくは消去(書き込み/消去)を行う。メモリセルの書き込み/消去スピードを速くするために可能な限り書き込み/消去電位(これを書き込み電位といい、以下、Vpp電位で表現する)を高く設定すると良い。しかしVpp電位を低く設定したほうがしきい値(Vth)分布幅を小さくし易い。またプロセスのばらつきによりセルの書き込み/消去特性にばらつきが生じる。図8はセルをベリファイしながら書き込み/消去を行う際の各ループ回ごとのベリファイ結果を示す特性図の一例である。この図においてメモリセルのしきい値(Vth)を約0.8Vとすると、ベリファイではこれ以下を不合格(NG)とし、これ以上を合格(OK)とする。この場合は3回のループで書き込み/消去が完了する。
【0003】
このような事情により電気的に書き込み/消去可能な不揮発性半導体記憶装置においてはチップ毎に最適なVpp電位を設定する必要がある。
従来の製品テストにおいて、1回目の工程で書き込み/消去を行い、そのときに書き込み/消去時間、書き込み/消去のループ回数、Vth分布幅を検出する。その検出結果に基づいてデータを作成し、そのデータを用いて外部よりヒューズカットやVppデータセルの書き換えをすることにより、Vpp電位の設定回路の設定電位の変更を行って(Vppトリミングという)、チップ毎での最適なVpp電位の設定を行っていた。そして2回目の工程を新しい設定のもとに行っていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
前述した電気的に書き込み、消去が可能な不揮発性半導体記憶装置の従来の書き込み/消去は、図9に示すブロック図に従って行われる。
通常動作の場合、コマンドレジスタ1から出力された書き込み/消去開始信号WESは、書き込み/消去制御回路3に入力され、この信号に基づいて書き込み/消去が行われる。書き込み/消去が終了すると、書き込み/消去終了信号WEEが出力され、この信号は、ベリファイ回路4に入力される。そして、ベリファイ回路4で書き込み/消去データの検出を行う。ベリファイ回路4では、再書き込み信号RWSが生成される。データ検出の結果がNGであれば、この再書き込み信号RWSに基づいて書き込み/消去制御回路3で再書き込み/再消去が行われる。このときに書き込み/消去時間、書き込み/消去のループ回数、Vpp電位分布幅を検出する。そして、この検出データをもとにVpp電位設定データ5を作成し、このデータとイニシャルVpp電位設定データ7とを比較してVPP電位制御回路6の設定電位の変更を行う。このVPP電位制御回路6によりVppトリミングが行われる。
【0005】
このように従来では、チップ毎での最適なVPP電位の設定、つまりVPPトリミングは、製品テスト工程において書き込み/消去を行い、そのときに書き込み/消去時間、書き込み/消去のループ回数、Vpp分布幅などを検出し、この検出結果に基づいて外部からヒューズカットやVpp電位データセルの書き換えをしてVpp電位の制御回路の設定電位の変更を行っている。書き込み/消去時の最適電位を外部から初期設定するので製品テスト時間が長くなるという問題があった。
本発明は、このような事情によりなされたものであり、書き込み/消去時の最適電位をチップ内で自動的に設定する不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的にしている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、書き込み/消去手段が行う再書き込み/再消去の回数をカウントして、このカウント数を基に、Vpp電位設定データを作成し、このデータによりVpp電位の制御回路の設定電位を自動的に変更することを特徴とする。
【0007】
すなわち、本発明の不揮発性半導体記憶装置は、メモリセルにデータを書き込む書き込み手段と、前記書き込み手段によって書き込み処理が行われたデータについて検証を行い、書き込みが正しく行われなかった前記データを再書き込みするように前記書き込み手段に指示し、この再書き込みを1ループとして少なくとも1ループは再書き込みする再書き込み手段と、前記再書き込み手段が行う再書き込みのループ回数をカウントするカウント手段と、前記カウント手段がカウントした複数ページの積算ループ回数から1ページあたりの平均ループ回数を抽出して、最適なトリミング情報を計算する制御手段と、前記トリミング情報に基づいて書き込み電圧を変更する書き込み電位制御手段とを具備することを特徴としている。前記再書き込み手段の出力に基づいて駆動される不良ページ検出手段をさらに備え、この不良ページ検出手段は不良ページを検出し、不良でないページの積算ループ回数と不良でないページ数から平均ループ回数を抽出するようにしても良い。
【0008】
また、本発明の不揮発性半導体記憶装置は、メモリセルに書き込まれたデータを消去する消去手段と、前記消去手段によって消去処理が行われたデータについて検証を行い、消去が正しく行われなかった前記データを再消去するように前記消去手段に指示し、この再消去を1ループとして少なくとも1ループは再消去する再消去手段と、前記再消去手段が行う再消去のループ回数をカウントするカウント手段と、前記カウント手段がカウントした複数ページの積算ループ回数から1ページあたりの平均ループ回数を抽出して、最適なトリミング情報を計算する制御手段と、前記トリミング情報に基づいて消去電圧を変更する消去電位制御手段とを具備することを特徴としている。前記再消去手段の出力に基づいて駆動される不良ページ検出手段をさらに備え、この不良ページ検出手段は不良ページを検出し、不良でないページの積算ループ回数と不良でないページ数から平均ループ回数を抽出するようにしても良い。
本発明では、書き込み/消去電位の変更が必要になった場合、セルの書き込み/消去時間、書き込み/消去のループ回数、Vpp電位分布幅を検出する必要がなく、チップ内で自動的に設定電位の変更を行うことができる。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
不揮発性半導体記憶装置には、例えば、ICチップ製造後電圧電流あるいは紫外線などによってデータを記憶したり消去するPROMがある。これらのPROMのうち、特に紫外線などで消去するEPROMや電気的消去型のEEPROMは、記憶したデータを半永久的に保持でき、また、データの消去、書き換えが可能なことから、あらかじめデータの変更が予想されるシステムや他のシステムとのマッチングを考えながらプログラムの構築を行うシステムあるいはプログラムの仕様変更を積極的に盛り込んだシステムのファームウェア等に広く利用されている。図5を参照して一括消去型のEEPROMの1例を説明する。この不揮発性半導体記憶装置は、チップ内部の全メモリデータを一括して消去するものでマイコンなどのプログラムメモリに多く使用される。
【0010】
この不揮発性半導体記憶装置のメモリセルの特徴は、フローティングゲート23と呼ばれるポリシリコンなどの導電層が、コントロールゲート24と半導体基板20のソース/ドレイン領域21、22間のチャンネルとの間に設けられていることである。フローティングゲート23は、電気的に浮遊しており、その周囲は、例えば、シリコン酸化膜などの被覆絶縁膜27によって絶縁されている。したがって、何等かの手段でフローティングゲート23に電荷を注入すれば、その電荷は、半永久的に残る。フローティングゲート23は、半導体基板20のソース/ドレイン領域間のチャネル形成領域上に熱酸化などで形成された厚みが10nm程度のシリコン酸化膜25(第1のゲート絶縁膜)を介して形成される。この第1ゲートのシリコン酸化膜25の上に形成されるフローティングゲート23は、1層目のポリシリコンにより形成される。このフローティングゲート23上にシリコン酸化膜などからなる第2のゲート絶縁膜26を介してコントロールゲート24が形成される。このコントロールゲート24は、2層目のポリシリコンにより形成される。半導体基板20は、その表面をシリコン酸化膜などの絶縁膜30の貫通孔を介して、それぞれソース電極(S)28及びドレイン電極(D)29が絶縁膜30上に形成されている。
【0011】
コントロールゲート24には、電子注入ゲートとして用いられるデータ書き込み用電極となるゲート電極(G)が接続されている。
この様な構成のメモリセルにデータを書き込むには、フローティングゲート23に電子を注入すればよい。その手順は次のように行われる。まずコントロールゲート24に接続したゲート電極Gに12.5V程度の高電圧を印加し、同時にビット線に接続しているドレイン電極29にも8V程度の高電圧を加える。このようにバイアスすると、ドレイン近傍のピンチオフ領域で加速された電子の一部がホットエレクトロンとなり、これがフローティングゲート23に捕獲される。捕獲される電子の飽和量は、フローティングゲート23に電位で決定される。フローティングゲート23に電子が捕獲されると、コントロールゲート24で制御されるトランジスタのしきい値電圧Vthが上昇し、このしきい値電圧の変化分ΔVthの有無をデータの1,0のレベルに対応させる。
【0012】
メモリセルからの読み出しは、ゲート電極Gに5V程度の電圧を加え同時にドレイン電極29にも約2Vを加える。このようにバイアスすると、ホットエレクトロンは、5Vという低電圧のためにフローティングゲート23に入り込むことはなく、フローティングゲート23に電子が注入されてないトランジスタはオンし、読み出し電流が流れる。
データの消去は、フローティングゲート23内の電子を引き抜くことで行う。例えば、ゲート電極Gに0V、ソース電極28に11〜13V程度の高電圧を印加する。このときフローティングゲート23とソース電極28間の電位差によって第1のゲート絶縁膜25にかかる電界が強まるといわゆるトンネル電流によって電子はソース側に引き抜かれる。
次に、図6のEEPROMの回路構成図を参照してその各動作を説明する。前述した図5に示すメモリセルは、フローティングゲートから電子が放出された状態を消去と定義するタイプのEEPROMに適用されるが、ここでは、フローティングゲートに電子が注入された状態を消去と定義するタイプのEEPROMのメモリセルを参照する。
【0013】
このEEPROMのセルアレイは各メモリセルがマトリックス状に配置され、ロウデコーダ(行選択)とカラムデコーダ(列選択)により任意のアドレスのメモリセルがアクセスされる。
(1)消去動作(電子注入)
セルアレイ内の鎖線に囲まれた領域Aのメモリセル(セル00)は、図7に示すように実際は8個のメモリセル(8ビット分)から成っている。この8個のメモリトランジスタのコントロールゲートは共通に接続され、トランジスタG00を介してセレクト信号C0 に繋がっている。ロウデコーダの出力RA0 は横に並んだ全てのトランジスタのゲートに入力しているが、トランジスタG00を介したセレクト信号C0 は横に8個分しか供給されていない。つまり、セル10のセレクトゲートにはセル00と同じようにRA0 が与えられているが、セル10のメモリトランジスタのコントロールゲートにはセル00と違って、トランジスタG10を介してセレクト信号C1 が与えられている。これは消去動作のとき余分なメモリセルに高電圧をかけないようにするためである。
【0014】
ここで領域Aのセル000を消去する場合を説明する。まず、ロウデコーダ入力A0 、A1 を“0”とし、RA0 を高電圧の20Vにする。他のロウデコーダの出力RA1 、RA2 及びRA3 は0Vとする。更にカラムデコーダ入力A2 、A3 を共に“0”として、CA0 を20Vに、他のCA1 、CA2 、CA3 は0Vにする。このようにするとカラム選択トランジスタQ0 とG00はオンとなり、消去用電圧信号α(=20V)がセル000から007のコントロールゲートに供給される。
一方、ビットラインB00はデータカラム選択用トランジスタTr 0 を介してβの電位となる。βを0Vにするとセル000の各端子は消去(電子注入)状態になる。つまりセレクトゲート、コントロールゲートに20V、ドレイン電極に0Vがかかることになる。このときメモリトランジスタのソース電極(□で表示)は0Vにしておく。この状態でB00からB07の任意のビットラインを“0”とすれば、そのビットのセルの消去(電子注入)ができることになる。
隣接するセル10(8個ある)のコントロールゲートはRA0 =20VのためG10がオンするがカラム選択トランジスタQ1 はオフしているため8個のメモリトランジスタのコントロールゲートは高電圧とはならない。従って誤って隣のセルを消去(電子注入)することがなく、消去時の信頼性は高い。
【0015】
(2)書き込み動作(電子放出)
次に、セル000に書き込む場合の動作を説明する。アドレス入力A0 、A1 を“0”に、さらにA2 、A3 も“0”とするのは消去動作と同様である。この状態でα=0V、β=20Vとする。こうすることによりQ0 、G00を介してコントロールゲートには0Vが、Tr 0 を介してB00には20Vが供給される。セル000のセレクトゲートにはRA0 =20Vが与えられているため書き込みモードとなり、フローティングゲートから電子が放出される。このときメモリトランジスタのソース電極は5Vとしておく。このようにして書き込み(電子放出)が行われる。
【0016】
セル000に書き込む(電子放出)ためビットラインB00は20Vになるが、この影響が例えばすぐ上のセル01に及ぶと誤動作を招くことになる。つまりビットラインに高電圧(20V)が加わるためセル01が電子放出すると誤動作となる。それを防止するためセレクトトランジスタがセルに付加されており、RA1 が0Vであると、このトランジスタがオフし、高電圧の影響を受けないようになっている。EEPROMがEPROMと違って、1セルが2個のトランジスタから成っているのは、書き込み時に非選択セルに高電圧を印加させない機能を持たせる他に、読み出し時に非選択セルのデータがビットラインに出力されないようにするためである。
【0017】
次に、図1を参照して第1の実施の形態を説明する。図1は、例えば、16MのNAND型EEPROMなどの不揮発性半導体記憶装置の書き込みもしくは消去(書き込み/消去)を説明するブロック図である。このような電気的に書き込み/消去可能な不揮発性半導体装置においては書き込み/消去時間や書き込み/消去後のベリファイ動作まで自動化されている場合が多い。通常動作の場合コマンドレジスタより書き込み/消去開始信号を書き込み/消去制御回路にて受け、書き込み/消去が終了すると、ベリファイ回路でデータの検出を行う。データ検出の結果NGであればベリファイ回路により再書き込みを行うが、本発明の特徴はこの再書き込み信号を用いて自動Vppトリミングを行うことにある。
【0018】
コマンドレジスタ1から出力された書き込み/消去開始信号WESは、書き込み/消去制御回路3に入力され、この信号に基づいてアドレス信号ADDで選択されたメモリセルの書き込み/消去が行われる。書き込み/消去が終了すると、書き込み/消去終了信号WEEが書き込み/消去制御回路3から出力され、この信号は、ベリファイ回路4に入力される。そして、ベリファイ回路4で書き込み/消去データの検出を行う。ベリファイ回路4では再書き込み信号RWが生成される。データ検出の結果がNG(書き込まれていなかったもしくは消去されていなかった)であれば、この再書き込み信号RWに基づいて書き込み/消去制御回路3において再書き込み/再消去が行われる。
【0019】
この実施の形態ではVpp電位の変更可能なステップ数にトリミングデータとして使用するページ数を乗じた分の2進カウンタ8を用意する。そして、この2進カウンタ8にトリミングデータとして使用するページの書き込みを行い、再書き込み信号RWを用いて2進カウンタ8を進める。2進カウンタ8でカウントされた値からトリミングデータとして使用したページ数分を表わす下位ビットを除外すると、上位ビットが1ページ当たりの平均ループ回数となる。図2は、2進カウンタ8のビットを示すブロック図である。上位ビットは、1ページ当たりの平均ループ回数を表わし、下位ビットは、トリミングデータとして使用したページ数を表わす。従って、前記平均ループ回数を2進カウンタから求めるには前記ページ数を知らなければならない。
この実施の形態では予め書き込み/消去を行うページ数は決められているので下位ビットのカウント数はそれに応じて除外すれば良い。
【0020】
2進カウンタ8の上位ビットに示された平均ループ回数を検出データとし、この検出データをVPP電位設定データ書き込み制御回路9に送り、このデータを基にVpp電位設定データを書き換える。そして、図1のラインAに示すように、この書き換えられたVpp電位設定データをVPP電位制御回路6へ送ることにより、このデータとイニシャルVpp電位設定データ7とを比較してVPP電位制御回路6の設定電位の変更を行う。そして、このVPP電位制御回路6によってVppトリミングが行われる。Vpp電位設定データ書き込み制御回路9でVpp電位設定データを書き換えることによりVpp電位は最適化され、外部から書き込み時間、ループ回数を検出することなくVppトリミングが可能になる。
また、書き換えられたVpp電位設定データは、図1のラインBで示すように、Vpp電位設定データ記憶部14に記憶させ、必要に応じてVpp電位制御回路6へ送ることもできる。Vpp電位設定データ記憶部には、メモリセルなどを用いることができる。
以下2ページをトリミングのサンプリング対象として、各ページがループ4回で終了した場合のカウンタ動作を説明する。まず各ページの書き込み動作の始めにカウンタを1つ進める。これは書き込み動作が1回で終了した場合にカウンタがカウントアップしないのに対して、書き込み動作は1回とカウントすることに対応するためである。カウンタとして6ビット用意し、サンプリング対象が2ページとしているため、カウンタの下位1ビットをページ数を表すビットに割り当てる。11図に示すように、サンプリングスタート時には、カウンタは000001からスタートし、1ページ目のサンプリングが終了するループ4回目には、カウンタは000100を示す。次に2ページめをサンプリングするためカウンタが1つ進み、このときカウンタは000101を示す。次に2ページめのサンプリングが開始され、2ページめの書き込みが終了するループ4回目には、カウンタは001000を示すようになる。最下位1ビットがページ数を表すため、カウンタが示す値を下位へ1ビットシフト演算を行い、その結果の00100が2ページの平均ループ回数を示す。
Vpp電位設定データ書き込み制御回路9は、このサンプリングされた平均ループ回数を不揮発性的に記憶しておくため、内部の不揮発性記憶部分であるVpp電位設定記憶部5に対して書き込み動作を行う。このためD/Sの最初にこの書き込み動作が行われる。そしてこのVpp電位設定記憶部5のループ回数のデータと、イニシャルVpp電位設定データ7に記憶されているVpp電位及び所定のループ回数の値が比較され、最適なVpp電位がVpp電位制御回路6によって設定される。
ループ回数が所定の5回より短くなると書き込み後の同一ワード線に接続されたメモリセルのしきい値分布が広くなり、読みだし動作に問題が生じる。また所定の5回より長くなると、メモリセルのメモリセルのしきい値分布は所定の分布幅より小さくならずに、無駄な書き込みループ回数が存在し、書き込み時間が長くなる問題が生じる。このため、ループ回数が所定の5回となるよう、スタートのVppを調整するようなアルゴリズムが取り入れられる。
たとえば、イニシャルでの書き込み電圧が17vからスタートし、0.5vステップでループ5回で終了するように設定されていたと仮定する。サンプリング動作の結果、カウンタに記憶された平均ループ回数が4回を示した場合、書き込み制御回路9は、4回の値をVpp電位設定記憶部5に記憶する。この4回の値がVpp電位制御回路6へ送られ、イニシャル設定ループ回数5回及びイニシャルVpp設定電位の17vと比較される。所望のループ回数は5回であるから、4回−5回の(−1)回が比較結果として得られ、その結果Vppはイニシャルの17vより1ステップ(0.5v)低い16.5vから書き込みがスタートするようVppトリミング動作が自動的に行われる。
前述の実施例は2進カウンタやVpp電位設定データ書き込み制御回路をEEPROM記憶装置と同じチップ上に形成した場合について説明している。しかしながら、これらの制御回路の機能を別チップ上に構成し、この別チップとEEPROM記憶装置を1つのモジュールとして形成することも可能である。この場合複数のEEPROM記憶装置に対して、制御回路を1チップとして構成する場合に、シリコン面積を有効に使用することができる。
【0021】
次に、図3を参照して第2の実施の形態を説明する。
図3は、16MのNAND型EEPROMなどの不揮発性半導体記憶装置の書き込み/消去を説明するブロック図である。この実施の形態では、予め書き込み/消去を行うページ数がわからない場合に適している。
コマンドレジスタ1から出力された書き込み/消去開始信号WESは書き込み/消去制御回路3に入力され、この信号に基づいて書き込み/消去が行われる。書き込み/消去が終了すると、書き込み/消去終了信号WEEが書き込み/消去制御回路3から出力され、この信号は、ベリファイ回路4に入力される。そしてベリファイ回路4で書き込み/消去データの検出を行う。ベリファイ回路4では再書き込み信号RWが生成される。データ検出の結果がNGであれば、この再書き込み信号RWに基づいて書き込み/消去制御回路3において再書き込み/再消去が行われる。この再書き込み信号は自動Vppトリミングに用いられる。
【0022】
Vpp電位の変更可能なステップ数にトリミングデータとして使用するページ数を乗じた分の2進カウンタ8を用意する。そして、この2進カウンタ8にトリミングデータとして使用するページの書き込みを行い、再書き込み信号RWを用いて2進カウンタ8を進める。2進カウンタ8でカウントされた値からトリミングデータとして使用したページ数分を表わす下位ビットを除外すると、上位ビットが1ページ当たりの平均ループ回数となる。すなわち、上位ビットは、1ページ当たりの平均ループ回数を表わし、下位ビットは、トリミングデータとして使用したページ数を表わす。従って前記平均ループ回数を2進カウンタから求めるには前記ページ数を知らなければならない。
この実施の形態では予め書き込み/消去を行うページ数が決められていないので、下位ビットのカウント数を求めてページ数を検知してから2進カウンタ8のカウント数をはそれに応じて除外すれば良い。
【0023】
この実施の形態はページ数をカウントするためにページカウント10を用いることに特徴がある。まずベリファイ回路4から1ページ終了信号PEを生成させる。1ページ終了信号PEは、ページカウンタ10に入力され、ページ数がカウントされる。そして、このページカウンタ10の出力が前記Vpp電位設定データ書き込み制御回路9に入力され、そこで2進カウンタ8でカウントされたカウント数からページ数を差し引いて1ページ当たりの平均ループ回数を得る。
このように得られた平均ループ回数を検出データとし、この検出データをもとにVPP電位設定データ書き込み制御回路9においてVpp電位設定データを書き換える。次に図3のラインAに示すようにこのデータをVPP電位制御回路6へ送ることにより、このデータとイニシャルVpp電位設定データ7とを比較してVPP電位制御回路6の設定電位の変更を行う。そして、このVPP電位制御回路6によってVppトリミングが行われる。Vpp電位設定データ書き込み制御回路9でVpp電位設定データを書き換えることによりVpp電位は最適化され、外部で書き込み時間、ループ回数を検出すること無くVppトリミングが可能になる。
この実施の形態では、書き込み/消去の全ページ数が分からない場合でも容易に1ページ当たりの平均ループ数が検出することができる。
また、書き換えられたVpp電位設定データは、図3のラインBで示すように、Vpp電位設定データ記憶部14に記憶させ、必要に応じてVpp電位制御回路6へ送ることもできる。Vpp電位設定データ記憶部にはメモリセルを用いることができる。
【0024】
次に、図4を参照して第3の実施の形態を説明する。
図4は、16MのNAND型EEPROMなどの不揮発性半導体記憶装置の書き込み/消去を説明するブロック図である。この実施の形態は第2の実施の形態と同じ様に予め書き込みもしくは消去を行うページ数がわからない場合に適している。
コマンドレジスタ1から出力された書き込み/消去の開始を指示する書き込み/消去開始信号WESは、書き込み/消去制御回路3に入力され、この信号に基づいて書き込み/消去が行われる。書き込み/消去が終了すると、書き込み/消去終了信号WEEが書き込み/消去制御回路3から出力され、この信号は、ベリファイ回路4に入力される。そしてベリファイ回路4で書き込み/消去データの検出を行う。ベリファイ回路4では再書き込み信号RWが生成される。データ検出の結果がNGであれば、この再書き込み信号RWに基づいて書き込み/消去制御回路3において再書き込み/再消去が行われる。この再書き込み信号は、自動Vppトリミングに用いられる。そして、データ検出の結果がOKの場合は、次に進む。
【0025】
Vpp電位の変更可能なステップ数にトリミングデータとして使用するページ数を乗じた分の2進カウンタ8を用意する。そして、この2進カウンタ8にトリミングデータとして使用するページの書き込みを行い、再書き込み信号RWを用いて2進カウンタ8を進める。2進カウンタ8でカウントされた値からトリミングデータとして使用したページ数分を表わす下位ビットを除外すると、上位ビットが1ページ当たりの平均ループ回数となる。すなわち、上位ビットは、1ページ当たりの平均ループ回数を表わし、下位ビットは、トリミングデータとして使用したページ数を表わす。
この実施の形態では予め書き込み/消去を行うページ数が決められていないので、下位ビットのカウント数を求めてページ数を検知してから2進カウンタ8のカウント数はそれに応じて除外すれば良い。このページ数をカウントするためにはページカウント10を用いる。
この実施の形態は、ページ数をカウントする際に不良ページを除外し、そのために、不良ページ検出回路、不良ページカウンタ及び不良ページデカウント回路を用いることを特徴としている。
【0026】
トリミングデータ量(即ちページ数)が少ない場合は不良ぺージが含まれているとループが最大となるため第2の実施の形態のようにトリミングを行うとトリミングデータの誤差が大きくなるので不良ページを除外する必要が出てくる。
不良ページの書き込みを行った場合は、ベリファイ回路より不良信号を取り出して不良ページをカウントする。まず、所定のページがベリファイ回路4でデータ検出の結果がOKの場合、ベリファイ回路4の出力は、不良ページ検出回路11に入力され、不良ページか否か判断される。不良ページでない場合は、1ページ終了信号PEが出力され、ページカウンタ10でカウントされる。このページカウンタ10は、不良ページ検出回路11を経た1ページ終了信号によりページをカウントするので、そのカウント数には不良ページが含まれない。不良ページの場合は、不良ページ数カウンタ12で不良ページ数がカウントされる。
【0027】
ページカウンタ10が所定の回数をカウントした後、2進カウンタ8の不良ページ回数を含んだ累積ループ回数から不良ページデカウント回路13で不良ページ数に最大ループ回数を乗じた値をデカウントする。デカウントされたデータの上位ビットが1ページ当たりの平均ループ回数となり、このデータがVpp電位設定データになる。Vpp電位設定データは、Vpp電位設定データ書き込み制御回路9に送られ、ここででVpp電位設定データを書き換える。
図4のラインAに示されるように、このデータをVPP電位制御回路6へ送ることにより、このデータとイニシャルVpp電位設定データ7とを比較してVPP電位制御回路6の設定電位の変更を行う。そしてこのVPP電位制御回路6によってVppトリミングが行われる。Vpp電位設定データ書き込み制御回路9でVpp電位設定データを書き換えることによりVpp電位は最適化され、外部で書き込み時間、ループ回数を検出すること無くVppトリミングが可能になる。この実施の形態では、書き込み/消去の全ページ数が分からない場合でも容易に1ページ当たりの平均ループ数が検出することができる。このことにより、トリミングのデータ量が少なく、その中に不良ページを含んでいた場合でも誤差の小さい自動Vppトリミングが可能となる。
【0028】
本発明は、前述の実施の形態において説明したEEPROMに限らず、PROMやEPROMなどの不揮発性半導体記憶装置にも適用することができる。
また、書き換えられたVpp電位設定データは、図4のラインBで示すように、Vpp電位設定データ記憶部14に記憶させ、必要に応じてVpp電位制御回路6へ送ることもできる。Vpp電位設定データ記憶部にはメモリセルを用いることができる。
本発明において書き込み手段がメモリセルにデータを書き込むにはVpp電圧のパルス波形の違いによって幾つかの方式が用いられる。16MNAND型EEPROMでは、倍々方式とステップアップ方式を用いる。▲1▼倍々方式は、Vpp電圧は一定にし、パルス幅は、ループ回を重ねる毎に前の倍の幅にすることに特徴がある。この場合ループ1回目のパルス幅を10μsecにし、2回目以降を倍々に増やしていく。トリミングは前記Vpp電圧に対して行う(図10(a))。▲2▼ステップアップ方式は、パルス幅を一定にし、書き込みをループ回を重ねる毎に高くすることに特徴がある。この場合パルス幅は、各ループ回とも25μsecとし、ループ1回目の書き込みを18Vにし、2回目以降を1Vづつ高くしていく。トリミングは、ループ1回目のスタート電圧の18Vに対して行う(図10(b))。
この他にも、例えば、4MNOR型EEPROMでは、▲3▼等倍方式で書き込みが行われる(図10(c))。この方式はパルス幅とVpp電圧を常に一定にしておく。
【0029】
【発明の効果】
不揮発性半導体記憶装置において、書き込みもしくは消去電位の変更が必要になった場合、不揮発性半導体記憶装置によりセルの書き込みもしくは消去時間、書き込みもしくは消去のループ回数、Vpp電位分布幅を検出する必要がなくなるので製品テスト工程時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の不揮発性半導体記憶装置の書き込み/消去を説明するブロック図。
【図2】図1の2進カウンタのビット表示を表わすブロック図。
【図3】本発明の第2の実施の形態の不揮発性半導体記憶装置の書き込み/消去を説明するブロック図。
【図4】本発明の第3の実施の形態の不揮発性半導体記憶装置の書き込み/消去を説明するブロック図。
【図5】本発明の不揮発性半導体記憶装置のメモリセルの断面図。
【図6】本発明の不揮発性半導体記憶装置の回路構成図。
【図7】図6の領域Aを拡大した回路構成図。
【図8】書き込み/消去を行う際の各ループごとのベリファイ結果を示す特性図。
【図9】従来の不揮発性半導体記憶装置の書き込み/消去を説明するブロック図。
【図10】本発明の書き込み方式を説明するタイミングチャート図。
【図11】本発明のカウンタ動作を説明するブロック図。
【符号の説明】
1・・・コマンドレジスタ、 2・・・アドレスレジスタ、
3・・・書き込み/消去制御回路、 4・・・ベリファイ回路、
5・・・Vpp電位設定記憶部、 6・・・Vpp電位制御回路、
7・・・イニシャルVpp電位設定データ、 8・・・2進カウンタ、
9・・・Vpp電位設定データ書き込み制御回路、
10・・・ページカウンタ、 11・・・不良ページ検出回路、
12・・・不良ページカウンタ、 13・・・不良ページデカウント回路、
14・・・Vpp電位設定記憶部、 20・・・半導体基板、
21・・・ソース領域、 22・・・ドレイン領域、
23・・・フローティングゲート、 24・・・コントロールゲート、
25・・・第1のゲート絶縁膜、 26・・・第2のゲート絶縁膜、
27、30・・・絶縁膜、 28・・・ソース電極、
29・・・ドレイン電極。
Claims (4)
- メモリセルにデータを書き込む書き込み手段と、
前記書き込み手段によって書き込み処理が行われたデータについて検証を行い、書き込みが正しく行われなかった前記データを再書き込みするように前記書き込み手段に指示し、この再書き込みを1ループとして少なくとも1ループは再書き込みする再書き込み手段と、
前記再書き込み手段が行う再書き込みのループ回数をカウントするカウント手段と、
前記カウント手段がカウントした複数ページの積算ループ回数から1ページあたりの平均ループ回数を抽出して、最適なトリミング情報を計算する制御手段と、
前記トリミング情報に基づいて書き込み電圧を変更する書き込み電位制御手段とを具備することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記再書き込み手段の出力に基づいて駆動される不良ページ検出手段をさらに備え、この不良ページ検出手段は不良ページを検出し、不良でないページの積算ループ回数と不良でないページ数から平均ループ回数を抽出することを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。
- メモリセルに書き込まれたデータを消去する消去手段と、
前記消去手段によって消去処理が行われたデータについて検証を行い、消去が正しく行われなかった前記データを再消去するように前記消去手段に指示し、この再消去を1ループとして少なくとも1ループは再消去する再消去手段と、
前記再消去手段が行う再消去のループ回数をカウントするカウント手段と、
前記カウント手段がカウントした複数ページの積算ループ回数から1ページあたりの平均ループ回数を抽出して、最適なトリミング情報を計算する制御手段と、
前記トリミング情報に基づいて消去電圧を変更する消去電位制御手段とを具備することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記再消去手段の出力に基づいて駆動される不良ページ検出手段をさらに備え、この不良ページ検出手段は不良ページを検出し、不良でないページの積算ループ回数と不良でないページ数から平均ループ回数を抽出することを特徴とする請求項3に記載の不揮発性半導体記憶装置。
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