JP3620610B2 - 薄板ガラスの熱処理用治具 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は薄板ガラスの熱処理用治具に関し、詳しくは、液晶ディスプレイパネル等に使用される薄板ガラスを熱処理する際に、前記薄板ガラスを水平に載置した状態で熱処理炉に導入される板状の熱処理用治具に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、液晶ディスプレイパネル等には、厚さ１ｍｍ程度の薄板ガラスが使用される。この種の薄板ガラスの製造では、ガラス成形した後、図４に示すようにセッターと称される熱処理用治具１上に薄板ガラス２を水平に載置した状態で熱処理炉に導入して熱処理を行なっている。この熱処理用治具１として、従来は、一般にアルミナセラミックス製のものが使用されている。前述した熱処理は以下のようにして行なわれる。
【０００３】
即ち、成形後の薄板ガラスを熱処理用治具上に水平に載置した状態で熱処理炉に導入する。この熱処理炉では、熱処理用治具上に載置された前記薄板ガラスが、ガラスの歪み点以上の所定の処理温度まで加熱昇温され、一定時間保持されて徐冷された後、熱処理炉から排出される。この熱処理によって薄板ガラスは歪みが除去される。
【０００４】
その後、前記熱処理炉から排出された熱処理用治具上の薄板ガラスを熱処理用治具から分離する。この薄板ガラスの熱処理用治具からの分離は、一般に薄板ガラスを真空吸着する吸着パッドを具備した取り出し装置によって行なわれる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前述した従来の熱処理用治具は、熱膨張係数が約７１×１０−７／℃のアルミナセラミックスからなるため、膨張・収縮が大きく、その結果、反りが発生して平坦度が損なわれる。また、この治具はアルミナのセラミックス微粉末よりなる焼結体であるため、内部に多数の気孔（ボイド）が存在し、熱処理により熱処理用治具が昇温された際に、気孔に内在していた不純物質がガスとして発生し、薄板ガラスを汚染する。
【０００６】
更に、熱処理後、薄板ガラスは熱処理用治具に密着した状態となっているため、迅速に分離することが困難であり、取り出し装置により無理に分離させると、薄板ガラスに過度な応力がかかり破損することがある。
【０００７】
本発明は上記問題点に鑑みて提案されたもので、その目的とするところは、反りが生じず平坦度を長く確保することができると共に、熱処理用治具に密着している薄板ガラスの分離を容易に且つ迅速に行なえるようにした薄板ガラスの熱処理用治具を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための技術的手段として、本発明は、薄板ガラスが水平に載置された状態で熱処理炉に導入される板状の熱処理用治具において、熱膨張係数が１５×１０−７／℃以下の結晶化ガラスからなり、かつ、薄板ガラスとの接触面に通じる通気孔が設けられていることを特徴とする。
【０００９】
【作用】
本発明の熱処理用治具では、熱膨張係数が１５×１０−７／℃以下の低膨張の結晶化ガラスからなるので、熱処理炉の使用温度下で熱膨張及び収縮が少ないため反りが生じず長期間に亘って平坦度を確保できる。また、結晶化ガラスであって、アルミナセラミックス焼結体のように内部に多数の気孔（ボイド）が存在しないので、熱処理の昇温時に不純物ガスが発生することもないため、薄板ガラスの表面を汚染しない。更に、薄板ガラスとの接触面に通じる通気孔を有するので、熱処理後、熱処理用治具に密着状態にある薄板ガラスを分離する際に、通気孔から空気が速やかに侵入して薄板ガラスを熱処理用治具から容易に分離できる。
【００１０】
【実施例】
本発明の実施例を、図１乃至図３に示して説明する。
【００１１】
本発明に係る熱処理用治具１１は、主成分として、ＳｉＯ２ ，Ａｌ２ Ｏ３ ，Ｌｉ２ Ｏ，Ｐ２ Ｏ５ ，ＴｉＯ２ ，ＺｒＯ２ 、及びアルカリ金属酸化物を含有する板状ガラスを加熱して結晶化処理することによって得られた結晶化ガラスからなっており、熱膨張係数が１５×１０−７／℃以下である。この結晶化ガラスは、低熱膨張係数を有しているため、後述する熱処理により高温状態に晒されても高い平坦度を維持することができるものである。尚、この結晶化ガラス（日本電気硝子株式会社製：ネオセラムＮ−０，Ｎ−１１）は、低熱膨張係数等の熱的特性のみではなく、機械的特性、化学的特性においても優れている。
【００１２】
この熱処理用治具１１は、その上に載置される薄板ガラス１２より若干大き目の矩形状を有し、例えば、厚さ３ｍｍ程度の板状体であって、図１に示す実施例では、その四隅部のそれぞれに、薄板ガラス１２との接触面に通じて空気を導入する通気孔である微小な貫通穴１３が形成してある。この貫通穴１３は、各隅部で対角線上に二つずつ並んで形成され、更に、二つの対角線の交差点である中央に一つの貫通穴１３が形成されている。
【００１３】
上記熱処理用治具を使用した薄板ガラスの熱処理は、以下のようにして行なわれる。
【００１４】
まず、熱処理治具の上面に薄板ガラスを載置した状態で熱処理炉に導入する。この時、薄板ガラスは熱処理用治具上でその四隅部及び中央部の貫通穴の上方開口部を塞いだ状態となる。薄板ガラスを載せた熱処理用治具は、耐熱鋼網からなる搬送コンベア（図示せず）により熱処理炉内を移送され、熱処理炉内で、薄板ガラスはガラスの歪み点以上の徐冷点付近の所定の処理温度まで加熱昇温される。このようにして熱処理用治具上の薄板ガラスを前記の温度に一定時間保持して歪みを除去した後、熱処理炉から排出する。この熱処理中、本発明の熱処理用治具は、反りが生じず高い平坦度を維持し、しかも、熱処理用治具の内部に多数の気孔（ボイド）が存在しないので、不純物ガスが発生することもない。
【００１５】
その後、熱処理炉から排出された熱処理用治具上に密着している薄板ガラスを熱処理用治具から分離する。
【００１６】
即ち、図２（ａ）に示すように熱処理用治具１１上の薄板ガラス１２の四隅部に取り出し装置の吸着パッド１４ａ〜１４ｄを押し当てて真空吸着し、薄板ガラス１２を持ち上げて、熱処理用治具１１から分離する。この時、同図（ｂ）に示すように薄板ガラス１２の吸着パッド１４ａが位置する部位の直下に、下方開口部を開放した貫通穴１３が存在するので、その貫通穴１３から薄板ガラス１２と熱処理用治具１１との間に空気が流入して、その結果、吸着パッド１４ａに吸着された薄板ガラス１２を熱処理用治具１１から容易に離すことが可能となる。図示しない他の三隅部についても同様に、吸着パッド１４ｂ，１４ｃ，１４ｄで真空吸着して薄板ガラス１２を熱処理用治具１１から容易に分離できる。
【００１７】
尚、上記実施例の場合、貫通穴１３を対角線に沿って四隅部に二つずつ配置したものであるが、この貫通穴１３の位置、その個数及び形状は上記実施例に限らず適宜設定し得る。また、通気孔として貫通穴に限らず、図３（ａ）（ｂ）に示すような凹溝１５にしてもよい。本発明では、貫通穴、凹溝に限定されることなく、熱処理用治具の薄板ガラスとの接触面に通じる通気孔を設けるものであればよい。
【００１８】
【発明の効果】
本発明の熱処理用治具は、熱膨張係数が１５×１０−７／℃以下の結晶化ガラスからなっているので、熱膨張及び収縮が少ないため、熱処理用に供した場合に反りが生じず高い平坦度を確保でき、また、内部に気孔がないので不純物ガスが発生せず、薄板ガラスを汚染することがない。更に、薄板ガラスとの接触面に通じる通気孔を有するので、熱処理用治具から薄板ガラスを容易かつ迅速に分離することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明の熱処理用治具の一実施例を示す平面図、（ｂ）は（ａ）の要部拡大断面図
【図２】（ａ）は本発明の熱処理用治具上の薄板ガラスを吸着パッドで分離する状態を示す斜視図、（ｂ）は（ａ）の要部拡大断面図
【図３】（ａ）は本発明に係る熱処理用治具の他の実施例を示す平面図、（ｂ）は（ａ）の要部拡大断面図
【図４】従来の熱処理用治具上に薄板ガラスを載置した状態を示す斜視図
【符号の説明】
１１ 熱処理用治具
１２ 薄板ガラス
１３ 通気孔（貫通穴）
１４ａ〜１４ｄ 吸着パッド
１５ 通気孔（凹溝）
【産業上の利用分野】
本発明は薄板ガラスの熱処理用治具に関し、詳しくは、液晶ディスプレイパネル等に使用される薄板ガラスを熱処理する際に、前記薄板ガラスを水平に載置した状態で熱処理炉に導入される板状の熱処理用治具に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、液晶ディスプレイパネル等には、厚さ１ｍｍ程度の薄板ガラスが使用される。この種の薄板ガラスの製造では、ガラス成形した後、図４に示すようにセッターと称される熱処理用治具１上に薄板ガラス２を水平に載置した状態で熱処理炉に導入して熱処理を行なっている。この熱処理用治具１として、従来は、一般にアルミナセラミックス製のものが使用されている。前述した熱処理は以下のようにして行なわれる。
【０００３】
即ち、成形後の薄板ガラスを熱処理用治具上に水平に載置した状態で熱処理炉に導入する。この熱処理炉では、熱処理用治具上に載置された前記薄板ガラスが、ガラスの歪み点以上の所定の処理温度まで加熱昇温され、一定時間保持されて徐冷された後、熱処理炉から排出される。この熱処理によって薄板ガラスは歪みが除去される。
【０００４】
その後、前記熱処理炉から排出された熱処理用治具上の薄板ガラスを熱処理用治具から分離する。この薄板ガラスの熱処理用治具からの分離は、一般に薄板ガラスを真空吸着する吸着パッドを具備した取り出し装置によって行なわれる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前述した従来の熱処理用治具は、熱膨張係数が約７１×１０−７／℃のアルミナセラミックスからなるため、膨張・収縮が大きく、その結果、反りが発生して平坦度が損なわれる。また、この治具はアルミナのセラミックス微粉末よりなる焼結体であるため、内部に多数の気孔（ボイド）が存在し、熱処理により熱処理用治具が昇温された際に、気孔に内在していた不純物質がガスとして発生し、薄板ガラスを汚染する。
【０００６】
更に、熱処理後、薄板ガラスは熱処理用治具に密着した状態となっているため、迅速に分離することが困難であり、取り出し装置により無理に分離させると、薄板ガラスに過度な応力がかかり破損することがある。
【０００７】
本発明は上記問題点に鑑みて提案されたもので、その目的とするところは、反りが生じず平坦度を長く確保することができると共に、熱処理用治具に密着している薄板ガラスの分離を容易に且つ迅速に行なえるようにした薄板ガラスの熱処理用治具を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための技術的手段として、本発明は、薄板ガラスが水平に載置された状態で熱処理炉に導入される板状の熱処理用治具において、熱膨張係数が１５×１０−７／℃以下の結晶化ガラスからなり、かつ、薄板ガラスとの接触面に通じる通気孔が設けられていることを特徴とする。
【０００９】
【作用】
本発明の熱処理用治具では、熱膨張係数が１５×１０−７／℃以下の低膨張の結晶化ガラスからなるので、熱処理炉の使用温度下で熱膨張及び収縮が少ないため反りが生じず長期間に亘って平坦度を確保できる。また、結晶化ガラスであって、アルミナセラミックス焼結体のように内部に多数の気孔（ボイド）が存在しないので、熱処理の昇温時に不純物ガスが発生することもないため、薄板ガラスの表面を汚染しない。更に、薄板ガラスとの接触面に通じる通気孔を有するので、熱処理後、熱処理用治具に密着状態にある薄板ガラスを分離する際に、通気孔から空気が速やかに侵入して薄板ガラスを熱処理用治具から容易に分離できる。
【００１０】
【実施例】
本発明の実施例を、図１乃至図３に示して説明する。
【００１１】
本発明に係る熱処理用治具１１は、主成分として、ＳｉＯ２ ，Ａｌ２ Ｏ３ ，Ｌｉ２ Ｏ，Ｐ２ Ｏ５ ，ＴｉＯ２ ，ＺｒＯ２ 、及びアルカリ金属酸化物を含有する板状ガラスを加熱して結晶化処理することによって得られた結晶化ガラスからなっており、熱膨張係数が１５×１０−７／℃以下である。この結晶化ガラスは、低熱膨張係数を有しているため、後述する熱処理により高温状態に晒されても高い平坦度を維持することができるものである。尚、この結晶化ガラス（日本電気硝子株式会社製：ネオセラムＮ−０，Ｎ−１１）は、低熱膨張係数等の熱的特性のみではなく、機械的特性、化学的特性においても優れている。
【００１２】
この熱処理用治具１１は、その上に載置される薄板ガラス１２より若干大き目の矩形状を有し、例えば、厚さ３ｍｍ程度の板状体であって、図１に示す実施例では、その四隅部のそれぞれに、薄板ガラス１２との接触面に通じて空気を導入する通気孔である微小な貫通穴１３が形成してある。この貫通穴１３は、各隅部で対角線上に二つずつ並んで形成され、更に、二つの対角線の交差点である中央に一つの貫通穴１３が形成されている。
【００１３】
上記熱処理用治具を使用した薄板ガラスの熱処理は、以下のようにして行なわれる。
【００１４】
まず、熱処理治具の上面に薄板ガラスを載置した状態で熱処理炉に導入する。この時、薄板ガラスは熱処理用治具上でその四隅部及び中央部の貫通穴の上方開口部を塞いだ状態となる。薄板ガラスを載せた熱処理用治具は、耐熱鋼網からなる搬送コンベア（図示せず）により熱処理炉内を移送され、熱処理炉内で、薄板ガラスはガラスの歪み点以上の徐冷点付近の所定の処理温度まで加熱昇温される。このようにして熱処理用治具上の薄板ガラスを前記の温度に一定時間保持して歪みを除去した後、熱処理炉から排出する。この熱処理中、本発明の熱処理用治具は、反りが生じず高い平坦度を維持し、しかも、熱処理用治具の内部に多数の気孔（ボイド）が存在しないので、不純物ガスが発生することもない。
【００１５】
その後、熱処理炉から排出された熱処理用治具上に密着している薄板ガラスを熱処理用治具から分離する。
【００１６】
即ち、図２（ａ）に示すように熱処理用治具１１上の薄板ガラス１２の四隅部に取り出し装置の吸着パッド１４ａ〜１４ｄを押し当てて真空吸着し、薄板ガラス１２を持ち上げて、熱処理用治具１１から分離する。この時、同図（ｂ）に示すように薄板ガラス１２の吸着パッド１４ａが位置する部位の直下に、下方開口部を開放した貫通穴１３が存在するので、その貫通穴１３から薄板ガラス１２と熱処理用治具１１との間に空気が流入して、その結果、吸着パッド１４ａに吸着された薄板ガラス１２を熱処理用治具１１から容易に離すことが可能となる。図示しない他の三隅部についても同様に、吸着パッド１４ｂ，１４ｃ，１４ｄで真空吸着して薄板ガラス１２を熱処理用治具１１から容易に分離できる。
【００１７】
尚、上記実施例の場合、貫通穴１３を対角線に沿って四隅部に二つずつ配置したものであるが、この貫通穴１３の位置、その個数及び形状は上記実施例に限らず適宜設定し得る。また、通気孔として貫通穴に限らず、図３（ａ）（ｂ）に示すような凹溝１５にしてもよい。本発明では、貫通穴、凹溝に限定されることなく、熱処理用治具の薄板ガラスとの接触面に通じる通気孔を設けるものであればよい。
【００１８】
【発明の効果】
本発明の熱処理用治具は、熱膨張係数が１５×１０−７／℃以下の結晶化ガラスからなっているので、熱膨張及び収縮が少ないため、熱処理用に供した場合に反りが生じず高い平坦度を確保でき、また、内部に気孔がないので不純物ガスが発生せず、薄板ガラスを汚染することがない。更に、薄板ガラスとの接触面に通じる通気孔を有するので、熱処理用治具から薄板ガラスを容易かつ迅速に分離することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明の熱処理用治具の一実施例を示す平面図、（ｂ）は（ａ）の要部拡大断面図
【図２】（ａ）は本発明の熱処理用治具上の薄板ガラスを吸着パッドで分離する状態を示す斜視図、（ｂ）は（ａ）の要部拡大断面図
【図３】（ａ）は本発明に係る熱処理用治具の他の実施例を示す平面図、（ｂ）は（ａ）の要部拡大断面図
【図４】従来の熱処理用治具上に薄板ガラスを載置した状態を示す斜視図
【符号の説明】
１１ 熱処理用治具
１２ 薄板ガラス
１３ 通気孔（貫通穴）
１４ａ〜１４ｄ 吸着パッド
１５ 通気孔（凹溝）
Claims (1)
- 薄板ガラスが水平に載置された状態で熱処理炉に導入される板状の熱処理用治具において、熱膨張係数が１５×１０−７／℃以下の結晶化ガラスからなり、かつ、薄板ガラスとの接触面に通じる通気孔が設けられていることを特徴とする薄板ガラスの熱処理用治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16840495A JP3620610B2 (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | 薄板ガラスの熱処理用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16840495A JP3620610B2 (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | 薄板ガラスの熱処理用治具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0920527A JPH0920527A (ja) | 1997-01-21 |
| JP3620610B2 true JP3620610B2 (ja) | 2005-02-16 |
Family
ID=15867501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16840495A Expired - Fee Related JP3620610B2 (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | 薄板ガラスの熱処理用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3620610B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002114537A (ja) * | 2000-10-04 | 2002-04-16 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス基板熱処理用セッター |
| KR100895370B1 (ko) | 2001-05-30 | 2009-04-29 | 파나소닉 주식회사 | 가스방전 표시패널의 제조방법, 지지대 |
| JP2009298697A (ja) * | 2009-08-12 | 2009-12-24 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス基板熱処理用セッター |
| JP2016088769A (ja) * | 2014-10-30 | 2016-05-23 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の熱処理方法およびガラス基板の製造方法 |
| CN115116486A (zh) * | 2018-03-30 | 2022-09-27 | Hoya株式会社 | 退火处理用板材、退火处理用板材的制造方法以及基板的制造方法 |
-
1995
- 1995-07-04 JP JP16840495A patent/JP3620610B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0920527A (ja) | 1997-01-21 |
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