JP3615268B2 - 基板位置決め用治具機構 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は基板位置決め用治具機構に係り、さらに詳しくは、前工程から搬入される被処理基板を所定の基準位置へと位置ずれを起こすことなく面高を一定にして定置させ、かつ、処理後の被処理基板を確実に後工程へと搬出することができるようにした基板位置決め用治具機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】
回路基板に必要な電子部品を自動実装する装置や、実装済み回路基板の電気的特性などを自動検査する回路基板検査装置においては、被処理基板に対しその機能に応じた所定の処理を施すに先立ち、被処理基板自体を予め設定されている基準位置に位置ずれを起こすことなく定置させておくことが必要になる。
【０００３】
上記要請に対処するための被処理基板を定置させる手法としては、被処理基板をその下面を基準面として基準位置との対応を図るようにしたいわゆる下面基準方式と、被処理基板を押し上げて被処理基板をその上面を基準面として基準位置との対応を図るようにしたいわゆる上面基準方式とが提案されている。
【０００４】
図３は、上記下面基準方式に依拠した基板位置決め用治具機構の一例を示すものであり、これによれば、被処理基板８を搬送する搬送レール１に予め立設されている位置決めピン２に対し被処理基板８の位置決め用孔１０を挿通させることで被処理基板８を定置させることができるようになっている。なお、図示は省略してあるが、一対の基板載置用レールにそれぞれ位置決め金具を予め固定しておき、これら位置決め金具相互間に被処理基板を定置するようにした下面基準方式もある。
【０００５】
ところで、図３に示す基板位置決め用治具機構による場合には、構造が簡単な点では優れているものの、処理対象となる基板の板厚は必ずしも常に一定であるとは限らないことから、被処理基板８の板厚の如何により被処理面９の面高も変動してしまうことになる。このように、被処理基板８の面高が変動する場合には、基準となる面高との関係で部品実装用の作動腕や基板検査用のプローブが所定位置に正しく到達できるように予め設定してある各種位置情報をその都度、設定し直さなければならなくなる煩雑さがあった。
【０００６】
一方、図４は、上記下面基準方式にみられた不都合を解消すべく提案された前記上面基準方式に依拠した基板位置決め用治具機構の一例を示すものである。
【０００７】
同図によれば、搬送面上に突出するストッパー６にその移動を阻止されて搬送ベルト３上で停止する被処理基板８は、この被処理基板８が有する位置決め用孔１０と対面する位置関係のもとで昇降自在に配設されている各昇降手段４がその頂端に備える位置決めピン５により前記位置決め用孔１０に下方から各別に挿入されて押し上げられるようになっている。
【０００８】
しかも、前記昇降手段４を介して押し上げられる被処理基板８は、その上方に配設されている面高規制部７に当接し、かつ、この面高規制部７に設けられている位置決め孔７ａに前記位置決めピン５が挿入した状態で面高を常に一定させた状態となって基準位置を確保できるようになっている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図４に示す基板位置決め用治具機構によっても、被処理基板８をその面高を常に一定に保持させた状態のもとで基準位置を確保して被処理面９に対し所定の処理を施すことはできる。
【００１０】
しかし、図４に示す基板位置決め用治具機構による場合には、被処理基板８が備える位置決め用孔１０の数だけ昇降手段４を各別に配置する必要があり、各昇降手段４相互に同期がとれていない場合には、位置決め用孔１０に対する前記位置決めピン５の挿入がうまくいかず、被処理基板８が落下してしまうおそれがあった。
【００１１】
さらに、被処理基板８を前記面高規制部７を介して基準位置に位置固定した上で被処理面９に対し電子部品を半田付けするなどして必要な処理を施した後、元の位置へと下降復帰させようとするとき、上記処理工程で残置される半田付けのフラックスや油成分などが被処理基板８と面高規制部７との境界面に入り込み、前記昇降手段４を作動させて被処理基板８を下降させようとしても面高規制部７の側に一瞬ではあるが取り残されて前記位置決めピン５から離脱してしまう結果、搬送ベルト３上の所定位置に正確に復帰させることができなくなり、後工程として用意される基板搬出機構との間の整合がとれなくなる不具合もあった。
【００１２】
本発明は従来技術にみられた上記課題に鑑み、前工程から搬入される被処理基板を所定の基準位置へと位置ずれを起こすことなく面高を一定にして定置させ、かつ、処理後の被処理基板を確実に後工程へと搬出して一連となって形成される搬送ラインを整合性のとれたものにすることができる基板位置決め用治具機構を提供することにその目的がある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成しようとするものであり、その構成上の特徴は、位置決め用孔を有する被処理基板を定位置に位置固定させて昇降する基板昇降手段と、必要な基板処理を行うため前記基板昇降手段により押し上げられる被処理基板を前記位置決め用孔との関係で定まる基準位置にその面高を一定にして位置規制する基準位置規制手段とを少なくとも備え、前工程に配置される基板搬入機構と後工程に配置される基板搬出機構との間で一連の搬送ラインを形成すべく配置される基板位置決め用治具機構において、前記基板昇降手段は、前記基板搬入機構の側から搬入された被処理基板を前記搬送ラインの搬送方向での両側縁部を載置して支持する一対の支腕部を備えて昇降する基板昇降制御部と、前記基板搬入機構から前記基板昇降制御部へと搬入される被処理基板を定置させるべく前記基板搬出機構との間に位置して被処理基板の搬送面への出没を自在に配設されるストッパー部と、前記一対の支腕部に対しその長さ方向での進退を自在にして各別に配設され、かつ、前記一対の支腕部上に定置された前記被処理基板を位置固定すべく吸引して前記基板昇降制御部の昇降に追随する吸引保持部とで形成し、前記基準位置規制手段は、前記基板昇降制御部上に前記吸引保持部により吸引されて位置固定された状態のもとで上昇する被処理基板を搬送ラインの搬送方向での両側縁部に当接して支持するために配設される一対の面高規制腕部に前記位置決め用孔に導入することで被処理基板に基準位置を確保させるための位置決めピンをそれぞれ垂設して形成したことにある。
【００１４】
なお、前記一対の支腕部と前記一対の面高規制腕部とは、請求項２記載のごとく、搬入される被処理基板をそのサイズに応じて支持自在とすべく相互の間隔を拡縮自在に配設するのが望ましい。
【００１５】
【作用】
このため、本発明によれば、搬入された被処理基板は、前記ストッパー部を介して前記基板昇降制御部に定置することができ、しかも、前記吸引保持部に吸引されて位置固定された状態のもとで前記基準位置規制手段へと押し上げてその面高を一定にした状態のもとで基準位置を確保して定置させることができる。
【００１６】
また、基準位置規制手段のもとで基準位置を確保しながら被処理面に対し所定の処理が施された後の被処理基板は、前記吸引保持部に吸引されて位置固定された状態のもとで基板昇降制御部を介して元の位置に復帰させることができる。したがって、処理を終えた被処理基板は、仮りにその処理時に油成分などが前記面高規制腕部との境界面に侵入することがあっても、基準位置規制手段の側に取り残されることなく元の位置に復帰させて、後工程へと確実に搬出して一連となって形成される前記搬送ラインを整合性のとれたものにすることができる。
【００１７】
【実施例】
図１と図２は、本発明の一実施例についての要部構成の概要を示すものであり、このうち、図１はその側面図、図２は搬出側からみた対応正面図をそれぞれ示す。
【００１８】
これらの図によれば、その全体は、位置決め用孔１０を有する被処理基板８を定位置に位置固定させて昇降する基板昇降手段１１と、必要な基板処理を行うため前記基板昇降手段１１により押し上げられる被処理基板８を前記位置決め用孔１０との関係で定まる基準位置にその面高を一定にして位置規制する基準位置規制手段２５とを少なくとも備えて構成されており、前工程に配置される基板搬入機構３５と後工程に配置される基板搬出機構３６との間で一連化された搬送ライン３７を形成している。
【００１９】
このうち、前記基板昇降手段１１は、前記基板搬入機構３５の側から搬入された被処理基板８を載置して昇降制御する基板昇降制御部１２と、前記基板搬入機構３５から搬入される被処理基板８を前記基板昇降制御部１２にて定置させるストッパー部１７と、前記被処理基板８を位置固定すべく吸引して前記基板昇降制御部１２の昇降に追随する吸引保持部２１とで構成されている。
【００２０】
この場合、基板昇降制御部１２は、搬入された被処理基板８を前記搬送ライン３７の搬送方向での両側縁部８ａ，８ａを載置して支持する例えば相互に離間させてレール状に平行配置される一対の支腕部１３，１３と、これら各支腕部１３を各２点にて各別に昇降自在に下支えする作動杆１５を備えた昇降部１４とを備えて形成されている。なお、前記各昇降部１４は、進退する作動杆１５を流体により駆動制御する例えばエアーシリンダなどを好適に用いることができるほか、コイルスプリングを組み込んで昇降制御を可能とした適宜の伸縮装置を用いることもできる。
【００２１】
なお、一対の支腕部１３，１３は、請求項２記載のごとく、搬入される被処理基板８をそのサイズに応じて支持自在とすべく、送りねじを介在させるなどして相互の間隔を拡縮自在に配設しておくのが望ましい。
【００２２】
また、前記ストッパー部１７は、前記基板搬入機構３５から前記基板昇降制御部１２へと搬入される被処理基板８を定置させるべく前記基板搬出機構３６との間に位置して被処理基板８の搬送面への出没が自在となって配設されている。具体的には、図示しない駆動部により被処理基板８の搬送面に対し出没制御される停止板１８を備えて形成されている。なお、この停止板１８は、搬入されてきた被処理基板８に傾きを与えることなく正対して停止させることができるように、被処理基板８の先端面と直交して面として当接し得る適宜の幅を備えたものを用いるのが好ましい。
【００２３】
さらに、前記吸引保持部２１は、前記一対の支腕部１３，１３上に定置された前記被処理基板８を位置固定すべく吸引して前記基板昇降制御部１２の昇降に追随するようにして配設されるものであり、具体的には、例えば吸盤状を呈するなど、空気引き自在な適宜の形状を呈して前記基板昇降制御部１２の側に取り付けられる吸着部２２と、この吸着部２２と図示しない吸引用ポンプとの間に配設されて流体のための流路を形成する可撓ホース２３とで構成されている。
【００２４】
しかも、前記基板昇降制御部１２の側に付設される吸着部２２は、各支腕部１３に対しその長さ方向での進退を自在とすべく、支腕部１３を下支えする支片部１６に設けたガイド孔１６ａを介して移動自在に取り付けられている。つまり、支片部１６は、前記昇降部１４の作動杆１５に直結されて下支えされている。このため、被処理基板８の搬送方向での長さに長短があっても最適位置に吸着部２２を移動させることで、被処理基板８をより確実に位置固定することができる。
【００２５】
一方、前記基準位置規制手段２５は、前記基板昇降制御部１２上に前記吸引保持部２１の吸着部２２に吸引されて位置固定された状態のもとで上昇する被処理基板８を、前記搬送ライン３７の搬送方向での両側縁部８ａ，８ａに当接して水平支持するための一対の面高規制腕部２６，２６に前記位置決め用孔１０に導入されて被処理基板８に基準位置を確保させるための位置決めピン２７をそれぞれ垂設することで形成されている。
【００２６】
この場合、前記一対の面高規制腕部２６，２６は、被処理基板８の両側縁部８ａ，８ａを支持し得る間隔を介在させたレール状となって平行配置されており、これら面高規制腕部２６，２６相互は、その間隔を固定化したものであっても、あるいは、適宜の手段により前記支腕部１３と同様に被処理基板８のサイズに応じて拡縮自在としたものであってもよい。
【００２７】
また、前記位置決めピン２７は、前記面高規制腕部２６に被処理基板８が水平支持された際、前記位置決め用孔１０への導入を容易なものとするために先細り状にして形成しておくのが望ましい。
【００２８】
本発明はこのようにして構成されているので、前記基板搬入機構３５の側から搬入されてきた被処理基板８は、その搬送面上に突出させた前記ストッパー部１７の停止板１８に当接して前記基板昇降制御部１２を構成している一対の支腕部３，１３上に定置させることができる。
【００２９】
このようにして一対の支腕部１３，１３上に定置された前記被処理基板８は、前記吸引保持部２１の吸着部２２に吸引されて位置固定された後、昇降部１４の作動杆１５を作動させて前記基準位置規制手段２５の側へと押し上げられることになる。
【００３０】
前記基板昇降制御部１２を介して押し上げられた前記被処理基板８は、前記基準位置規制手段２５を構成している一対の面高規制腕部２６に両側縁部８ａ，８ａがやがて当接するに至り、その被処理面９の面高を常に一定にした状態のもとで基準位置を確保しながら定置されることになる。
【００３１】
しかも、その際、前記基準位置規制手段２５が備える位置決めピン２７が被処理基板８の前記位置決め用孔１０に各別に導入されるため、前記被処理基板８をより確実に基準位置へと位置規制しながら定置させることができる。
【００３２】
また、定置された前記被処理基板８は、前記基準位置規制手段２５のもとで基準位置を確保され、常に一定の面高を保持している被処理面８ａに対し電子部品を実装したり実装部品の電気的特性を検査するなど、所定の必要な処理が施された後、吸引保持部２１の吸着部２２に吸引されて確実に位置固定された状態のもとで前記基板昇降制御部１２を介して元の位置に復帰させることができる。
【００３３】
したがって、必要な処理を終えた前記被処理基板８は、仮りにその処理時に油成分などが前記面高規制腕部２６との境界面に侵入するなどして面高規制腕部２６の側に密着することがあっても、吸引保持部２１の吸着部２２の吸引力の支援のもとで基準位置規制手段２５の側に取り残されることなく引き剥しながら元の位置に復帰させることができる。
【００３４】
このため、処理後に元の位置に復帰した前記被処理基板８は、後工程として用意されている基板搬出機構３６の側へと確実に送り込み、これを搬出させることができるので、前記基板搬入機構３５との間で一連となって形成される前記搬送ライン３７を整合性のとれたものにして、被処理基板８に対する処理作業の円滑化を実現することができる。
【００３５】
なお、請求項２記載のごとく、前記一対の支腕部１３，１３と前記一対の面高規制腕部２６，２６とを相互の間隔を拡縮自在に配設してある場合には、搬入される被処理基板８のサイズに柔軟に対応させて確実に支持することができる。
【００３６】
【００３７】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、搬入された被処理基板は、前記ストッパー部を介して前記基板昇降制御部に定置することができ、しかも、前記吸引保持部に吸引されて位置固定された状態のもとで前記基準位置規制手段へと押し上げてその面高を一定にした状態のもとで基準位置を確保して定置させることができる。また、前記吸引保持部は、前記一対の支腕部に対しその長さ方向での進退を自在にして配設されているので、被処理基板の搬送方向での長さに長短があっても最適位置に移動させることで、被処理基板をより確実に位置固定することができる。
【００３８】
しかも、その際、前記基準位置規制手段が備える位置決めピンが前記位置決め用孔に各別に導入されるので、前記被処理基板をより確実に基準位置へと位置規制することができる。
【００３９】
また、基準位置規制手段のもとで基準位置を確保しながら被処理面に対し所定の処理が施された後の被処理基板は、前記吸引保持部に吸引されて確実に位置固定された状態のもとで基板昇降制御部を介して元の位置に復帰させることができる。したがって、処理を終えた被処理基板は、仮りにその処理時に油成分などが前記面高規制腕部との境界面に侵入することがあっても、基準位置規制手段の側に取り残されることなく元の位置に復帰させて、後工程へと確実に搬出して一連となって形成される前記搬送ラインを整合性のとれたものにすることができる。
【００４０】
なお、請求項２記載のごとく、前記一対の支腕部と前記一対の面高規制腕部とを相互の間隔を拡縮自在に配設してある場合には、搬入される被処理基板のサイズに対応させながら被処理基板を確実に支持することができる。
【００４１】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例についての要部構成の概要を示す側面図である。
【図２】図１についての対応正面図である。
【図３】従来からある下面基準方式に依拠した基板位置決め用治具機構の一例を示す要部説明図である。
【図４】従来からある上面基準方式に依拠した基板位置決め用治具機構の一例を示す要部説明図である。
【符号の説明】
８ 被処理基板
８ａ 側縁部
９ 被処理面
１０ 位置決め用孔
１１ 基板昇降手段
１２ 基板昇降制御部
１３ 支腕部
１４ 昇降部
１５ 作動杆
１６ 支片部
１６ａ ガイド孔
１７ ストッパー部
１８ 停止板
２１ 吸引保持部
２２ 吸着部
２３ 可撓ホース
２５ 基準位置規制手段
２６ 面高規制腕部
２７ 位置決めピン
３５ 基板搬入機構
３６ 基板搬出機構
３７ 搬送ライン
【産業上の利用分野】
本発明は基板位置決め用治具機構に係り、さらに詳しくは、前工程から搬入される被処理基板を所定の基準位置へと位置ずれを起こすことなく面高を一定にして定置させ、かつ、処理後の被処理基板を確実に後工程へと搬出することができるようにした基板位置決め用治具機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】
回路基板に必要な電子部品を自動実装する装置や、実装済み回路基板の電気的特性などを自動検査する回路基板検査装置においては、被処理基板に対しその機能に応じた所定の処理を施すに先立ち、被処理基板自体を予め設定されている基準位置に位置ずれを起こすことなく定置させておくことが必要になる。
【０００３】
上記要請に対処するための被処理基板を定置させる手法としては、被処理基板をその下面を基準面として基準位置との対応を図るようにしたいわゆる下面基準方式と、被処理基板を押し上げて被処理基板をその上面を基準面として基準位置との対応を図るようにしたいわゆる上面基準方式とが提案されている。
【０００４】
図３は、上記下面基準方式に依拠した基板位置決め用治具機構の一例を示すものであり、これによれば、被処理基板８を搬送する搬送レール１に予め立設されている位置決めピン２に対し被処理基板８の位置決め用孔１０を挿通させることで被処理基板８を定置させることができるようになっている。なお、図示は省略してあるが、一対の基板載置用レールにそれぞれ位置決め金具を予め固定しておき、これら位置決め金具相互間に被処理基板を定置するようにした下面基準方式もある。
【０００５】
ところで、図３に示す基板位置決め用治具機構による場合には、構造が簡単な点では優れているものの、処理対象となる基板の板厚は必ずしも常に一定であるとは限らないことから、被処理基板８の板厚の如何により被処理面９の面高も変動してしまうことになる。このように、被処理基板８の面高が変動する場合には、基準となる面高との関係で部品実装用の作動腕や基板検査用のプローブが所定位置に正しく到達できるように予め設定してある各種位置情報をその都度、設定し直さなければならなくなる煩雑さがあった。
【０００６】
一方、図４は、上記下面基準方式にみられた不都合を解消すべく提案された前記上面基準方式に依拠した基板位置決め用治具機構の一例を示すものである。
【０００７】
同図によれば、搬送面上に突出するストッパー６にその移動を阻止されて搬送ベルト３上で停止する被処理基板８は、この被処理基板８が有する位置決め用孔１０と対面する位置関係のもとで昇降自在に配設されている各昇降手段４がその頂端に備える位置決めピン５により前記位置決め用孔１０に下方から各別に挿入されて押し上げられるようになっている。
【０００８】
しかも、前記昇降手段４を介して押し上げられる被処理基板８は、その上方に配設されている面高規制部７に当接し、かつ、この面高規制部７に設けられている位置決め孔７ａに前記位置決めピン５が挿入した状態で面高を常に一定させた状態となって基準位置を確保できるようになっている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図４に示す基板位置決め用治具機構によっても、被処理基板８をその面高を常に一定に保持させた状態のもとで基準位置を確保して被処理面９に対し所定の処理を施すことはできる。
【００１０】
しかし、図４に示す基板位置決め用治具機構による場合には、被処理基板８が備える位置決め用孔１０の数だけ昇降手段４を各別に配置する必要があり、各昇降手段４相互に同期がとれていない場合には、位置決め用孔１０に対する前記位置決めピン５の挿入がうまくいかず、被処理基板８が落下してしまうおそれがあった。
【００１１】
さらに、被処理基板８を前記面高規制部７を介して基準位置に位置固定した上で被処理面９に対し電子部品を半田付けするなどして必要な処理を施した後、元の位置へと下降復帰させようとするとき、上記処理工程で残置される半田付けのフラックスや油成分などが被処理基板８と面高規制部７との境界面に入り込み、前記昇降手段４を作動させて被処理基板８を下降させようとしても面高規制部７の側に一瞬ではあるが取り残されて前記位置決めピン５から離脱してしまう結果、搬送ベルト３上の所定位置に正確に復帰させることができなくなり、後工程として用意される基板搬出機構との間の整合がとれなくなる不具合もあった。
【００１２】
本発明は従来技術にみられた上記課題に鑑み、前工程から搬入される被処理基板を所定の基準位置へと位置ずれを起こすことなく面高を一定にして定置させ、かつ、処理後の被処理基板を確実に後工程へと搬出して一連となって形成される搬送ラインを整合性のとれたものにすることができる基板位置決め用治具機構を提供することにその目的がある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成しようとするものであり、その構成上の特徴は、位置決め用孔を有する被処理基板を定位置に位置固定させて昇降する基板昇降手段と、必要な基板処理を行うため前記基板昇降手段により押し上げられる被処理基板を前記位置決め用孔との関係で定まる基準位置にその面高を一定にして位置規制する基準位置規制手段とを少なくとも備え、前工程に配置される基板搬入機構と後工程に配置される基板搬出機構との間で一連の搬送ラインを形成すべく配置される基板位置決め用治具機構において、前記基板昇降手段は、前記基板搬入機構の側から搬入された被処理基板を前記搬送ラインの搬送方向での両側縁部を載置して支持する一対の支腕部を備えて昇降する基板昇降制御部と、前記基板搬入機構から前記基板昇降制御部へと搬入される被処理基板を定置させるべく前記基板搬出機構との間に位置して被処理基板の搬送面への出没を自在に配設されるストッパー部と、前記一対の支腕部に対しその長さ方向での進退を自在にして各別に配設され、かつ、前記一対の支腕部上に定置された前記被処理基板を位置固定すべく吸引して前記基板昇降制御部の昇降に追随する吸引保持部とで形成し、前記基準位置規制手段は、前記基板昇降制御部上に前記吸引保持部により吸引されて位置固定された状態のもとで上昇する被処理基板を搬送ラインの搬送方向での両側縁部に当接して支持するために配設される一対の面高規制腕部に前記位置決め用孔に導入することで被処理基板に基準位置を確保させるための位置決めピンをそれぞれ垂設して形成したことにある。
【００１４】
なお、前記一対の支腕部と前記一対の面高規制腕部とは、請求項２記載のごとく、搬入される被処理基板をそのサイズに応じて支持自在とすべく相互の間隔を拡縮自在に配設するのが望ましい。
【００１５】
【作用】
このため、本発明によれば、搬入された被処理基板は、前記ストッパー部を介して前記基板昇降制御部に定置することができ、しかも、前記吸引保持部に吸引されて位置固定された状態のもとで前記基準位置規制手段へと押し上げてその面高を一定にした状態のもとで基準位置を確保して定置させることができる。
【００１６】
また、基準位置規制手段のもとで基準位置を確保しながら被処理面に対し所定の処理が施された後の被処理基板は、前記吸引保持部に吸引されて位置固定された状態のもとで基板昇降制御部を介して元の位置に復帰させることができる。したがって、処理を終えた被処理基板は、仮りにその処理時に油成分などが前記面高規制腕部との境界面に侵入することがあっても、基準位置規制手段の側に取り残されることなく元の位置に復帰させて、後工程へと確実に搬出して一連となって形成される前記搬送ラインを整合性のとれたものにすることができる。
【００１７】
【実施例】
図１と図２は、本発明の一実施例についての要部構成の概要を示すものであり、このうち、図１はその側面図、図２は搬出側からみた対応正面図をそれぞれ示す。
【００１８】
これらの図によれば、その全体は、位置決め用孔１０を有する被処理基板８を定位置に位置固定させて昇降する基板昇降手段１１と、必要な基板処理を行うため前記基板昇降手段１１により押し上げられる被処理基板８を前記位置決め用孔１０との関係で定まる基準位置にその面高を一定にして位置規制する基準位置規制手段２５とを少なくとも備えて構成されており、前工程に配置される基板搬入機構３５と後工程に配置される基板搬出機構３６との間で一連化された搬送ライン３７を形成している。
【００１９】
このうち、前記基板昇降手段１１は、前記基板搬入機構３５の側から搬入された被処理基板８を載置して昇降制御する基板昇降制御部１２と、前記基板搬入機構３５から搬入される被処理基板８を前記基板昇降制御部１２にて定置させるストッパー部１７と、前記被処理基板８を位置固定すべく吸引して前記基板昇降制御部１２の昇降に追随する吸引保持部２１とで構成されている。
【００２０】
この場合、基板昇降制御部１２は、搬入された被処理基板８を前記搬送ライン３７の搬送方向での両側縁部８ａ，８ａを載置して支持する例えば相互に離間させてレール状に平行配置される一対の支腕部１３，１３と、これら各支腕部１３を各２点にて各別に昇降自在に下支えする作動杆１５を備えた昇降部１４とを備えて形成されている。なお、前記各昇降部１４は、進退する作動杆１５を流体により駆動制御する例えばエアーシリンダなどを好適に用いることができるほか、コイルスプリングを組み込んで昇降制御を可能とした適宜の伸縮装置を用いることもできる。
【００２１】
なお、一対の支腕部１３，１３は、請求項２記載のごとく、搬入される被処理基板８をそのサイズに応じて支持自在とすべく、送りねじを介在させるなどして相互の間隔を拡縮自在に配設しておくのが望ましい。
【００２２】
また、前記ストッパー部１７は、前記基板搬入機構３５から前記基板昇降制御部１２へと搬入される被処理基板８を定置させるべく前記基板搬出機構３６との間に位置して被処理基板８の搬送面への出没が自在となって配設されている。具体的には、図示しない駆動部により被処理基板８の搬送面に対し出没制御される停止板１８を備えて形成されている。なお、この停止板１８は、搬入されてきた被処理基板８に傾きを与えることなく正対して停止させることができるように、被処理基板８の先端面と直交して面として当接し得る適宜の幅を備えたものを用いるのが好ましい。
【００２３】
さらに、前記吸引保持部２１は、前記一対の支腕部１３，１３上に定置された前記被処理基板８を位置固定すべく吸引して前記基板昇降制御部１２の昇降に追随するようにして配設されるものであり、具体的には、例えば吸盤状を呈するなど、空気引き自在な適宜の形状を呈して前記基板昇降制御部１２の側に取り付けられる吸着部２２と、この吸着部２２と図示しない吸引用ポンプとの間に配設されて流体のための流路を形成する可撓ホース２３とで構成されている。
【００２４】
しかも、前記基板昇降制御部１２の側に付設される吸着部２２は、各支腕部１３に対しその長さ方向での進退を自在とすべく、支腕部１３を下支えする支片部１６に設けたガイド孔１６ａを介して移動自在に取り付けられている。つまり、支片部１６は、前記昇降部１４の作動杆１５に直結されて下支えされている。このため、被処理基板８の搬送方向での長さに長短があっても最適位置に吸着部２２を移動させることで、被処理基板８をより確実に位置固定することができる。
【００２５】
一方、前記基準位置規制手段２５は、前記基板昇降制御部１２上に前記吸引保持部２１の吸着部２２に吸引されて位置固定された状態のもとで上昇する被処理基板８を、前記搬送ライン３７の搬送方向での両側縁部８ａ，８ａに当接して水平支持するための一対の面高規制腕部２６，２６に前記位置決め用孔１０に導入されて被処理基板８に基準位置を確保させるための位置決めピン２７をそれぞれ垂設することで形成されている。
【００２６】
この場合、前記一対の面高規制腕部２６，２６は、被処理基板８の両側縁部８ａ，８ａを支持し得る間隔を介在させたレール状となって平行配置されており、これら面高規制腕部２６，２６相互は、その間隔を固定化したものであっても、あるいは、適宜の手段により前記支腕部１３と同様に被処理基板８のサイズに応じて拡縮自在としたものであってもよい。
【００２７】
また、前記位置決めピン２７は、前記面高規制腕部２６に被処理基板８が水平支持された際、前記位置決め用孔１０への導入を容易なものとするために先細り状にして形成しておくのが望ましい。
【００２８】
本発明はこのようにして構成されているので、前記基板搬入機構３５の側から搬入されてきた被処理基板８は、その搬送面上に突出させた前記ストッパー部１７の停止板１８に当接して前記基板昇降制御部１２を構成している一対の支腕部３，１３上に定置させることができる。
【００２９】
このようにして一対の支腕部１３，１３上に定置された前記被処理基板８は、前記吸引保持部２１の吸着部２２に吸引されて位置固定された後、昇降部１４の作動杆１５を作動させて前記基準位置規制手段２５の側へと押し上げられることになる。
【００３０】
前記基板昇降制御部１２を介して押し上げられた前記被処理基板８は、前記基準位置規制手段２５を構成している一対の面高規制腕部２６に両側縁部８ａ，８ａがやがて当接するに至り、その被処理面９の面高を常に一定にした状態のもとで基準位置を確保しながら定置されることになる。
【００３１】
しかも、その際、前記基準位置規制手段２５が備える位置決めピン２７が被処理基板８の前記位置決め用孔１０に各別に導入されるため、前記被処理基板８をより確実に基準位置へと位置規制しながら定置させることができる。
【００３２】
また、定置された前記被処理基板８は、前記基準位置規制手段２５のもとで基準位置を確保され、常に一定の面高を保持している被処理面８ａに対し電子部品を実装したり実装部品の電気的特性を検査するなど、所定の必要な処理が施された後、吸引保持部２１の吸着部２２に吸引されて確実に位置固定された状態のもとで前記基板昇降制御部１２を介して元の位置に復帰させることができる。
【００３３】
したがって、必要な処理を終えた前記被処理基板８は、仮りにその処理時に油成分などが前記面高規制腕部２６との境界面に侵入するなどして面高規制腕部２６の側に密着することがあっても、吸引保持部２１の吸着部２２の吸引力の支援のもとで基準位置規制手段２５の側に取り残されることなく引き剥しながら元の位置に復帰させることができる。
【００３４】
このため、処理後に元の位置に復帰した前記被処理基板８は、後工程として用意されている基板搬出機構３６の側へと確実に送り込み、これを搬出させることができるので、前記基板搬入機構３５との間で一連となって形成される前記搬送ライン３７を整合性のとれたものにして、被処理基板８に対する処理作業の円滑化を実現することができる。
【００３５】
なお、請求項２記載のごとく、前記一対の支腕部１３，１３と前記一対の面高規制腕部２６，２６とを相互の間隔を拡縮自在に配設してある場合には、搬入される被処理基板８のサイズに柔軟に対応させて確実に支持することができる。
【００３６】
【００３７】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、搬入された被処理基板は、前記ストッパー部を介して前記基板昇降制御部に定置することができ、しかも、前記吸引保持部に吸引されて位置固定された状態のもとで前記基準位置規制手段へと押し上げてその面高を一定にした状態のもとで基準位置を確保して定置させることができる。また、前記吸引保持部は、前記一対の支腕部に対しその長さ方向での進退を自在にして配設されているので、被処理基板の搬送方向での長さに長短があっても最適位置に移動させることで、被処理基板をより確実に位置固定することができる。
【００３８】
しかも、その際、前記基準位置規制手段が備える位置決めピンが前記位置決め用孔に各別に導入されるので、前記被処理基板をより確実に基準位置へと位置規制することができる。
【００３９】
また、基準位置規制手段のもとで基準位置を確保しながら被処理面に対し所定の処理が施された後の被処理基板は、前記吸引保持部に吸引されて確実に位置固定された状態のもとで基板昇降制御部を介して元の位置に復帰させることができる。したがって、処理を終えた被処理基板は、仮りにその処理時に油成分などが前記面高規制腕部との境界面に侵入することがあっても、基準位置規制手段の側に取り残されることなく元の位置に復帰させて、後工程へと確実に搬出して一連となって形成される前記搬送ラインを整合性のとれたものにすることができる。
【００４０】
なお、請求項２記載のごとく、前記一対の支腕部と前記一対の面高規制腕部とを相互の間隔を拡縮自在に配設してある場合には、搬入される被処理基板のサイズに対応させながら被処理基板を確実に支持することができる。
【００４１】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例についての要部構成の概要を示す側面図である。
【図２】図１についての対応正面図である。
【図３】従来からある下面基準方式に依拠した基板位置決め用治具機構の一例を示す要部説明図である。
【図４】従来からある上面基準方式に依拠した基板位置決め用治具機構の一例を示す要部説明図である。
【符号の説明】
８ 被処理基板
８ａ 側縁部
９ 被処理面
１０ 位置決め用孔
１１ 基板昇降手段
１２ 基板昇降制御部
１３ 支腕部
１４ 昇降部
１５ 作動杆
１６ 支片部
１６ａ ガイド孔
１７ ストッパー部
１８ 停止板
２１ 吸引保持部
２２ 吸着部
２３ 可撓ホース
２５ 基準位置規制手段
２６ 面高規制腕部
２７ 位置決めピン
３５ 基板搬入機構
３６ 基板搬出機構
３７ 搬送ライン
Claims (2)
- 位置決め用孔を有する被処理基板を定位置に位置固定させて昇降する基板昇降手段と、必要な基板処理を行うため前記基板昇降手段により押し上げられる被処理基板を前記位置決め用孔との関係で定まる基準位置にその面高を一定にして位置規制する基準位置規制手段とを少なくとも備え、前工程に配置される基板搬入機構と後工程に配置される基板搬出機構との間で一連の搬送ラインを形成すべく配置される基板位置決め用治具機構において、
前記基板昇降手段は、前記基板搬入機構の側から搬入された被処理基板を前記搬送ラインの搬送方向での両側縁部を載置して支持する一対の支腕部を備えて昇降する基板昇降制御部と、前記基板搬入機構から前記基板昇降制御部へと搬入される被処理基板を定置させるべく前記基板搬出機構との間に位置して被処理基板の搬送面への出没を自在に配設されるストッパー部と、前記一対の支腕部に対しその長さ方向での進退を自在にして各別に配設され、かつ、前記一対の支腕部上に定置された前記被処理基板を位置固定すべく吸引して前記基板昇降制御部の昇降に追随する吸引保持部とで形成し、
前記基準位置規制手段は、前記基板昇降制御部上に前記吸引保持部により吸引されて位置固定された状態のもとで上昇する被処理基板を搬送ラインの搬送方向での両側縁部に当接して支持するために配設される一対の面高規制腕部に前記位置決め用孔に導入することで被処理基板に基準位置を確保させるための位置決めピンをそれぞれ垂設して形成したことを特徴とする基板位置決め用治具機構。 - 前記一対の支腕部と前記一対の面高規制腕部とは、搬入される被処理基板をそのサイズに応じて支持自在とすべく相互の間隔を拡縮自在に配設したことを特徴とする請求項１記載の基板位置決め用治具機構。
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