JP3602264B2 - 洗浄装置及び該装置に装備されるべき流体噴射機構 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイなどとして利用されるガラス基板やシリコンウェハー等の基板について洗浄処理を施す洗浄装置と、該洗浄装置に装備されるべき流体噴射装置とに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、例えばガラス基板の洗浄処理を自動的に行う洗浄装置として、図5に示すものが知られている。但し、当該洗浄装置は、洗浄を終えたガラス基板の乾燥までを行うものである。
【0003】
図示のように、当該洗浄装置には洗浄部1、シャワー部2、エアーブロー部3が並設されており、これらに共通の外槽5を有している。但し、この外槽5の内部空間は、これら各部に関して、隔壁5aによって個別に分けられている。
【0004】
被洗浄物としてのガラス基板7は、コンベア10によって上記洗浄部1、シャワー部2及びエアーブロー部3を順に巡るように水平にかつ等速にて搬送される(矢印Tにて示している)。該コンベア10は、多数のローラ10aと、該ローラ10aを回転せしめる駆動手段(図示せず)とを有している。
【0005】
上記洗浄部1は、洗浄用流体として例えば純水12を貯留し得る貯留槽としての内槽15を備えている。該内槽15内には、ガラス基板7の洗浄を促すために該ガラス基板7と共にその間の純水12を励振させるための振動子17が設けられている。この振動子17は、図示しない発信器から発せられる高周波の交流電圧により作動せしめられる。
【0006】
図6は、上記洗浄部1の詳細を示すものであるが、該図から明らかなように、上記内槽15には、ガラス基板7を搬入出可能な横長のスリット状開口部である基板取入れ口15a及び基板取出し口15bが前後に形成されている。そして、該内槽15の外側であってこれら基板取入れ口15a、基板取出し口15bの近傍には、エアーノズル19が設けられている。これらエアーノズル19は、該基板取入れ口15a、基板取出し口15bに対し斜めに指向しており、図示しない加圧ポンプから供給される圧搾空気を噴射する。この噴射の圧力によって、基板取入れ口15a及び基板取出し口15bからの純水12の流出が抑えられる。
【0007】
なお、図5及び図6で参照符号18にて示すように、純水12は上記内槽15の上縁から常時オーバーフローせしめられており、洗浄によってガラス基板7から除去されて浮揚したパーティクル(particle)は外部に流れ出る。
【0008】
一方、図5に示すように、上記洗浄部1の後段に設けられたシャワー部2は、その具備した複数のノズル21から純水を噴射してガラス基板7の仕上げ洗浄を行い、また、その後段に配置されたエアーブロー部3は具備した複数のノズル23から温風又は常温風をガラス基板7に噴射して乾燥せしめる。
【0009】
上述した構成の洗浄装置においては、ガラス基板7の洗浄、乾燥が下記のように行われる。
【0010】
すなわち、図6に示すように、コンベア10によって搬送されるガラス基板7はまず、外槽5の片側に形成された入り口5bを経て、内槽15内に基盤取入れ口15aから搬入される。内槽15内に入ったガラス基盤7は、貯留されている純水12自体と振動子17から発せられる超音波振動との相乗効果によって洗浄される。
【0011】
上記ガラス基板7は内槽15の基板取出し口15bから搬出され、外槽5の隔壁5aに形成された連絡口5cを通じて次のシャワー部2(図5参照)による仕上げ洗浄に供される。この仕上げ洗浄を終えたガラス基板7は更に搬送され、エアーブロー部3によって乾燥させられ、回収される。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
上記した洗浄装置において、内槽15に付設されたエアーノズル19は、該内槽15内の純水12が基板取入れ口15a及び基板取出し口15bから多量に流出することに起因する該内槽15内の極端な純水量減少による洗浄不能状態を回避するためのものであるが、このエアーノズル19では純水12の流出を充分に抑えることは困難である。
【0013】
すなわち、図6において参照符号25で示すように、内槽15の基板取入れ口15a(又は基板取出し口15b)をガラス基板7が通過しているとき、内槽15内の純水12はこのガラス基板7を伝わることにより流れ出てしまう。
【0014】
また、同じく図6で参照符号27にて示すように、ガラス基板7の搬入出時以外でも、基板取出し口15b(又は基板取り入れ口15a)を通じての純水流出を防止する効果は十分なものとはいえない。
【0015】
上記のことから、純水12の流出を可能な限り防ぐべく、下記のような試行がなされ、又、実際に対策が講じられているが、それぞれに問題を擁している。
【0016】
第1に、上記基板取入れ口15a及び基板取出し口15bを小さくすることが試みられたが、ガラス基板7の曲がり、反り等によって内槽15に対する搬入出が困難になる場合があり、断念された。
【0017】
第2に、図6に示すように、内槽15から流出して外槽5の底部に溜まった純水12をポンプP1 で加圧して再び内槽15内に戻して補うことが行われているが、このような循環のための手段を設けること自体もさりながら、多い流出量に対処するために該ポンプP1 として能力の大きなものを要し、又、循環用の配管30も太くしなければならないなど、洗浄装置全体としての大型化と共にコストの増大を招来している。
【0018】
第3に、上記エアーノズル19に関して、大きいエアー流量を必要とすることから、該エアーノズル19そのものや圧搾空気供給用の加圧ポンプ(図示せず)、配管及びその開閉をなすための電磁弁(いずれも図示せず)も大型化し、この点でも装置が大型且つコスト高になるという不都合がある。
【0019】
本発明は、上記従来技術の欠点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、貯留槽からの洗浄用流体の流出抑制効果が高く、且つ、装置全体として小型化とコスト低減が図り易い洗浄装置を提供すること、また、かかる効果を得るべく洗浄装置に装備されて好適な流体噴射機構を提供することである。
【0020】
また、本発明は、更に他の効果をも奏し得る洗浄装置を提供する。
【0021】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る洗浄装置は、洗浄用流体を貯留し得ると共に被洗浄物を搬入出可能な開口部が前記洗浄用流体の液面より下方に形成された貯留槽と、前記貯留槽の内側且つ前記開口部近傍に設けられて、前記被洗浄物の搬入出方向に対して所定角度を以て且つ貯留槽内側へ向かう方向に加圧流体を噴射する流体噴射機構とを有することを特徴とする。また、本発明に係る前記流体噴射機構は、前記開口部の両側に設けられていることを特徴とする。また、本発明に係る前記流体噴射機構は、前記加圧流体を噴射するノズル部が形成された噴射管と、該ノズル部からの加圧流体の方向を変え且つ平面的に拡散せしめる案内部材とを有することを特徴とする。また、本発明に係る前記ノズル部は前記開口部に沿って複数略等ピッチで設けられ、該ノズル部各々から噴射され前記案内部材を経て拡散された加圧流体が互いに交わるようになされていることを特徴とする。
【0022】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施例としての洗浄装置(流体噴射機構を含む)の要部を添付図面を参照しながら説明する。但し、この洗浄装置は、以下に説明する部分以外は図5及び図6に示した洗浄装置と同様に構成されており、装置全体としての構成及び動作の説明は重複する故に省略し、要部のみの説明に止める。
【0023】
また、以下の説明及び各図において、図5、図6に示した洗浄装置の構成部分と同一又は対応する構成部分については同じ参照符号を付して示している。
【0024】
図1に示すように、この本発明に係る洗浄装置においては、貯留槽としての内槽15の内側に複数の流体噴射機構41が設けられている。これらの流体噴射機構41は、被洗浄物であるガラス基板7の搬入出をなすべく該内槽15に形成された基板取入れ口15a及び基板取出し口15bの近傍に設けられている。詳しくは、これら基板取入れ口15a、基板取出し口15b各々を上下で挟む位置に一対ずつ配設されている。該流体噴射機構41は、ガラス基板7の搬入出方向に対して所定の角度θ(図2参照)を以て且つ該内槽15の内側へ向かう方向に加圧流体である純水を噴射するものである。
【0025】
図2及び図3は上記基板取入れ口15aの付近を示す図であり、図4は該図3に関するB−B矢視を示す図であるが、これらの図から明らかなように、上記流体噴射機構41は、加圧流体として加圧純水12aを噴射するノズル部43aが形成された角パイプノズル43すなわち噴射管と、該ノズル部43aからの加圧純水12aの方向を変え且つ平面的に拡散せしめる案内部材としての方向板45とを有している。
【0026】
上記加圧純水12aの流れは具体的には、まず、図2及び図3で矢印a1 ,a2 にて示すように角パイプノズル43のノズル部43aから鉛直方向に噴射され、これが方向板45に当たって矢印b1 ,b2 で示すように上記の角度θとなるように方向を変えられかつ拡散される。
【0027】
なお、上記方向板45は交換可能であり、交換によって上記の角度θを変更することができる。この角度θは、角パイプノズル43に加圧純水を供給するポンプP2 (図1参照)の能力等に応じて決定される。
【0028】
ここで、このポンプP2 は、図1に示すように配管48を通じて内槽15内の洗浄用純水12を取り入れ、これを加圧し、他の配管49(図3にも示す)、T継手50(図3参照)、エルボ51、継管52乃至54等を通じて上記角パイプノズル43に加圧純水12aとして供給する。つまり、加圧純水12aは内槽15内の洗浄用純水12を循環して使用することとなされているのであり、これにより、純水の使用効率が高まり、経済的である。但し、このような循環方式にしなくともよい。
【0029】
上記構成においては、図2及び図3から明らかなように、角パイプノズル43のノズル部43aより噴射(矢印a1 a2 )されて方向板45で方向変換され且つ拡散(矢印b1 、b2 )された加圧純水12aは、内槽15の基板取入れ口15aにガラス基板7の先端部か挿入されるとこのガラス基板7の上下両面に当たって方向変換され、図2で矢印c1、c2 にて示すように水平に内槽15の内側に向かう。この内槽内側に向かう加圧純水12aの流れによって、該基板取入れ口15aからの洗浄用純水12の流出が有効に抑制される。この流出抑制効果は、内槽15の基板取出し口15bから洗浄後のガラス基板7が搬出される際に関しても同様である。
【0030】
また、上記基板取り入れ口15a及び基板取り出し口15bにガラス基板7が挿通されていない状態、すなわち、ガラス基板7の搬入出が行われていないときには、図2で矢印b1 、b2 にて示す加圧純水12aの流れが合流し、やはり内槽15の内側に向かう流れが生ずる。よって、該基板取入れ口15a、基板取出し口15bからの洗浄用純水12の流出が抑制される。
【0031】
上述した純水流出防止作用について具体的に説明するならば、図2において、内槽15の内側に向かう加圧流水12aの流速をvとし、上記基板取入れ口15a(又は基板取出し口15b)のレベルにおける洗浄用純水12の静圧をPとすれば、該加圧純水12aの動圧γv2 /2g(γ:純水の単位体積の重さ,g:重力加速度)がこの静圧Pと等しいか、又は大とされている。
【0032】
上述の如く、当該洗浄装置では、加圧純水12aの噴射によって基板取入れ口15a、基板取出し口15bからの洗浄用純水12の流出が有効に抑制される。これにより、外槽5の底部には純水12はほとんど溜まらず、溜まった純水を再び内槽15に戻すために設けられるポンプP1 (図1参照)、配管30からなる循環用の手段は極く小型のもので足りるか、又は全く設けなくともよい。
【0033】
また、上記流体噴射機構41自体とこれに加圧純水12aを供給するためのポンプP2 (図1参照)や配管48、49等も小型のもので充分である故に、洗浄装置全体としての小型化及びコストの低減が図り易くなっている。
【0034】
加えて、ガラス基板7が上記基板取入れ口15a、基板取出し口15bを通過する際、加圧純水12aがガラス基板7の表面に勢いよく当たるため、洗浄効果が高まるという効果がえられる。
【0035】
ところで、上記の効果を奏すべく当該洗浄装置に装備された上記流体噴射機構41は、加圧純水12aを噴射するノズル部43aが形成された角パイプノズル43と、該ノズル部43aからの加圧純水12aの方向を変え且つ平面的に拡散せしめる方向板45とを有している。この構成の流体噴射機構41では、加圧純水12aが上記基板取入れ口15a、基板取出し口15bの全域にわたって一層をなして供給される故、洗浄用純水12の漏れが抑えられ、流出防止がより確実となる。
【0036】
また、かかる流体噴射機構41は形鋼や板金のみを使用して製作することができることから構成が比較的簡単であり、製造が容易である。特に、本実施例では、上記ノズル部43aが形成された噴射管として、断面形状が矩形の角パイプが採用されている。このノズル部43aは単にドリル等を使用して形成した丸孔であるが、角パイプを使用すれば、丸パイプ等を用いる場合に比して、該ノズル部すなわち丸孔を複数並設するときに全ての丸孔を同じ向きとし易く、噴射方向が揃えられるなど種々の効果が得られる。但し、このノズル部43aの形状は円形に限定するものではないと共に、単なる孔ではなく、特殊な形状のノズル部としてもよい。例えば、噴射する加圧純水を平面的に拡散させるような特殊ノズル部を用いる。そして、該ノズル部が上記所定の角度θとなるように上記角パイプノズル43自体を傾ける。このようにすれば、方向板45は不要である。
【0037】
なお、図3から明らかなように、上記ノズル部43aは上記基板取入れ口15a(及び基板取出し口15b)に沿って複数等ピッチで設けられ、該ノズル部各々から噴射され前記方向板45を経て拡散された加圧純水12aが互いに交わるようになさている。つまり、洗浄用純水12の流出を抑止すべく内槽15の内側に向かう一層のカーテン状の流れに切れ目が生ぜず、流出抑止が確実となっている。
【0038】
また、本実施例においては、複数の流体噴射機構41が上記基板取入れ部15a、基板取出し部15bを上下で挟むように両側に設けられているがこれらの開口部が水面下の浅い位置にある場合、また、加圧純水の噴射量、噴射圧を大きく設定する場合等、条件によっては該開口部の片側のみに設置することで足りる。
【0039】
更に、本実施例では、ガラス基板7を洗浄対象として扱っているが、本発明はシリコンウェハーやその他の物品の洗浄にも適用可能であることは勿論である。
【0040】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明による洗浄装置においては、被洗浄物の搬入出をなすべく貯留槽に形成された開口部の近傍に、該被洗浄物の搬入出方向に対して所定角度を以て且つ貯留槽内側へ向かう方向に加圧流体を噴射する流体噴射機構が設けられている。
かかる構成によれば、該開口部からの洗浄用流体の流出が有効に抑制されると共に、流出量が多い従来の洗浄装置で貯留量を確保するために必要とされている大型の流体循環用手段が無用であり、又、上記流体噴射機構自体とこれに加圧流体を供給するためのポンプや配管等も小型のもので充分である故に洗浄装置全体としての小型化及びコスト低減が図り易くなっている。
加えて、被洗浄物が上記開口部を通過する際に加圧流体が被洗浄物の表面に勢いよく当たるため、洗浄効果が高まるという効果が得られ、製品の歩留まりが良くなり、装置の信頼性も増す。
また、これらの効果を奏すべく洗浄装置に装備されるべき本発明の流体噴射機構は、加圧流体を噴射するノズル部が形成された噴射管と、該ノズル部からの加圧流体の方向を変え且つ平面的に拡散せしめる案内部材とを有している。この構成では、加圧流体が上記開口部の全域にわたって一層をなして供給される故、洗浄用流体の漏れが抑えられ、流出防止がより確実となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の第1実施例としての洗浄装置の要部の縦断面図である。
【図2】図2は、図1に示した構成の一部の拡大図である。
【図3】図3は、図2に関するA−A矢視図である。
【図4】図4は、図3に関するB−B矢視図である。
【図5】図5は、従来の洗浄装置の縦断面図である。
【図6】図6は、図5に示した洗浄装置の要部を示す図である。
【符号の説明】
1 洗浄部
2 シャワー部
3 エアーブロー部
5 外槽
7 ガラス基盤(被洗浄物)
10 コンベア
12 純水(洗浄用流体)
12a 加圧純水(加圧流体)
15 内槽(貯留槽)
15a (内槽15の)基盤取入れ口
15b (内槽15の)基盤取出し口
17 振動子
41 流体噴射機構
43 角パイプノズル(噴射管)
43a (角パイプノズル43の)ノズル部
45 方向板(案内部材)
Claims (4)
- 洗浄用流体を貯留し得ると共に被洗浄物を搬入出可能な開口部が前記洗浄用流体の液面より下方に形成された貯留槽と、
前記貯留槽の内側且つ前記開口部近傍に設けられて、前記被洗浄物の搬入出方向に対して所定角度を以て且つ貯留槽内側へ向かう方向に加圧流体を噴射する流体噴射機構とを有することを特徴とする洗浄装置。 - 前記流体噴射機構は、前記開口部の両側に設けられていることを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。
- 前記流体噴射機構は、前記加圧流体を噴射するノズル部が形成された噴射管と、該ノズル部からの加圧流体の方向を変え且つ平面的に拡散せしめる案内部材とを有することを特徴とする請求項1及び請求項2のうちいずれか1記載の洗浄装置。
- 前記ノズル部は前記開口部に沿って複数略等ピッチで設けられ、該ノズル部各々から噴射され前記案内部材を経て拡散された加圧流体が互いに交わるようになされていることを特徴とする請求項3記載の洗浄装置。
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