JP3564913B2 - 気密外囲器用支持部材及び気密外囲器 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、外部からの大気圧に抗して気密外囲器を内面側から支持して変形を防止するための気密外囲器用支持部材及び気密外囲器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
内部が高真空状態に保持される真空容器として、例えば電界放射形陰極を電子源とした電界放射形表示装置（以下、ＦＥＤと言う）が知られている。ＦＥＤは、図５に示すように、アノード導体３１ａと蛍光体層３１ｂからなる表示部３１が内面に形成されたアノード基板３２と、アノード基板３２の表示部３１と対面する内面側に電界放射形陰極３３を備えたカソード基板３４とを、所定間隔をおいて外周部で封止することにより外囲器３５を構成している。
【０００３】
この種のＦＥＤは、細かいドットピッチで表示部３１が形成されるアノード基板３２と、電界放射形陰極３３の形成されるカソード基板３４とがいずれも薄いガラス板からなり、両基板間の間隔も例えば２００μｍと極めて狭く薄型に構成されている。
【０００４】
ところで、この種のＦＥＤは、アノード基板３２とカソード基板３４との間が外周部のみで固定される構造なので、外囲器３５を構成する各基板（アノード基板３２、カソード基板３４）の板厚をある程度厚くして強度を得ている。
【０００５】
しかしながら、ＦＥＤが大形化するに伴って、外圧に耐えるには、外囲器３５を構成する各基板３２，３４の板厚を厚くしなければならず、薄型、軽量のＦＥＤを実現することができない。また、基板３２，３４が変形し、両基板の間隔を一定に保つことができなくなり、表示に悪影響がでる等の問題を有する。このため、図５に示すように、ガラス部材からなるファイバー支柱やビーズ支柱を補強用支柱３６として外囲器３５内の複数箇所に配設し、外部からの大気圧に抗してアノード基板３２とカソード基板３４との間を支持している。
【０００６】
ところで、補強用支柱３６を外囲器３５内に配設するにあたっては、図６に示す専用の治具３７を用いて補強用支柱３６の整列を行っている。治具３７は、基板３２，３４への補強用支柱３６の配設位置に対応して貫通穴３８ａが形成された基台３８と、貫通穴３８ａに挿入された補強用支柱３６を基台３８の下部に密着して配設された多孔質部３９の表面に吸引保持する吸引装置４０とを備えている。
【０００７】
補強用支柱３６を外囲器３５内に配設する場合には、補強用支柱３６をそれぞれ他端面３６ｂ側から貫通穴３８ａに挿入する。この状態で、吸引装置４０を作動させて各補強用支柱３６の他端面３６ｂ側を多孔質部３９を介して吸引保持する。これにより、複数の補強用支柱３６が貫通穴３８ａに挿入された状態で整列される。尚、補強用支柱３６の一端面３６ａには、予め固着材４１が塗布されている。
【０００８】
上記のようにして補強用支柱３６の整列が行われると、固着材４１が塗布された補強用支柱３６の一端面３６ａにアノード基板３２を載置して押え付け、補強用支柱３６の一端面３６ａをアノード基板３２に固着させる。その後、補強用支柱３６が固着されたアノード基板３２を治具３７から取り外し、各補強用支柱３６の他端面３６ｂ及びアノード基板３２の外周部に固着材４２をそれぞれ塗布し、補強用支柱３６の他端面３６ｂをカソード基板３４に固着させるとともに、基板３２，３４間の外周部を固着させる。
【０００９】
このように、治具３７を用いて補強用支柱３６を整列させる場合、補強用支柱３６の一端側を吸引保持しているので、縦横寸法比（径と長さの比）の小さい補強用支柱（例えば径５０μｍ、長さ２００μｍ）を用いれば、補強用支柱３６の一端面３６ａに基板を載置して押え付けたとき、吸引保持される補強用支柱３６の他端面３６ｂを中心とした位置ずれが小さく、少ない誤差での整列が可能である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、高精細表示では補強用支柱の配設領域が制限されるため、使用する補強用支柱の径を小さくする必要があり、その本数も増える。しかも、アノード電圧を上げてＦＥＤを高電圧駆動させる場合には、基板３２，３４間の間隔が大きくなり、これに伴って縦横寸法比の大きな補強用支柱（例えば径５０μｍ、長さ１ｍｍ）３６を基板３２，３４間に配設しなければならない。
【００１１】
このため、従来の構成では、補強用支柱３６の一端面３６ａにアノード基板３２を載置して押え付けたときに、吸引保持される補強用支柱３６の他端面３６ｂを中心とした位置ずれが大きくなり、少ない誤差で補強用支柱３６を整列してＦＥＤを作製することが困難であった。しかも、上記のように補強用支柱３６が大きな位置ずれをもって外囲器３５内に配設され、両基板３２，３４に外部から大気圧が加わると、補強用支柱３６が曲がったり、折れたりする恐れがある。従って、従来の構成では、耐応力、耐座屈特性に欠け、基板３２，３４間を安定して支持することができなかった。
【００１２】
又、補強用支柱３６としてビーズ支柱を用いた場合には、その径が基板３２，３４間を支持する高さとなり、支柱の寸法を大きくすると、支柱全体が大きくなる。このため、電子線を表示面に射突させるときに、支柱自身が影となって表示面の邪魔になり、表示面に対して効率的に電子線を射突させることができない。その結果、支柱による電子線のケラレ等が発生し、高精細な表示を行うには、使用できる支柱の径に制限が生じ、それに伴って印加できるアノード電圧も制限を受け、発光輝度が向上できないという問題があった。
【００１３】
そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、耐応力、耐座屈特性を向上させ、基板間を安定して支持し、外部からの大気圧による変形を防止することができる気密外囲器用支持部材及び気密外囲器を提供することを目的としている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１の発明は、気密外囲器内に収納配設され、前記気密外囲器を内面側から支持する気密外囲器用支持部材において、
所定間隔おきに複数の貫通穴が形成されるとともに、電子を通過させるための貫通窓が形成された板材と、
前記貫通穴のそれぞれに挿入されて軸方向の中央部分が前記貫通穴に固着され、両端部が前記気密外囲器の内面に当接して設けられた補強用支柱とを備えたことを特徴とする。
【００１５】
請求項２の発明は、表示部が内面に形成されたアノード基板と、該アノード基板の表示部と対面する内面側に電子源を備えたカソード基板とが所定間隔をおいて外周部で封止された気密外囲器内に収納配設され、前記気密外囲器を内面側から支持する気密外囲器用支持部材において、
所定間隔おきに複数の貫通穴が形成されるとともに、前記電子源から放出される電子を通過させるための貫通窓が形成された板材と、
前記貫通穴のそれぞれに挿入されて軸方向の中央部分が前記貫通穴に固着され、両端部が前記アノード基板及び前記カソード基板の内面に当接して設けられた補強用支柱とを備えたことを特徴とする。
【００１６】
請求項３の発明は、請求項２の気密外囲器用支持部材において、前記板材が絶縁部材で構成され、該板材の少なくとも一方の面には前記貫通窓を挟むようにして帯状の電極が形成されており、前記貫通窓の両側に位置する電極に電界を与えて前記電子源から放出される電子を集束又は拡散することを特徴とする。
【００１７】
請求項４の発明は、請求項２の気密外囲器用支持部材において、前記板材が金属部材で構成されたことを特徴とする。
【００１８】
請求項５の発明は、請求項１、２または４の気密外囲器用支持部材において、前記支持部材を構成する板材は、少なくとも一部がＺｒを含む合金で構成されるか、または前記板材の表面にＺｒを含む合金が膜状に形成されていることを特徴とする。
【００１９】
請求項６の発明は、アノード導体と蛍光体層による表示部が内面に形成されたアノード基板と、
該アノード基板の表示部と対面する内面側に電界放射形陰極を有し、前記アノード基板と所定間隔をおいて外周部で封止されるカソード基板と、
前記アノード基板と前記カソード基板との間に配設された支持部材とを備えており、
該支持部材は、所定間隔おきに複数の貫通穴が形成されるとともに、前記電界放射形陰極から放出される電子を通過させるための貫通窓が形成された板材と、前記貫通穴のそれぞれに挿入されて軸方向の中央部分が前記貫通穴に固着され、両端部が前記アノード基板及び前記カソード基板の内面に当接して設けられた補強用支柱とを備えたことを特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図１は本発明による気密外囲器をなすＦＥＤの部分側断面図、図２は図１のＦＥＤの外囲器内に収納配設される気密外囲器用支持部材の第１実施の形態を示す部分拡大斜視図である。
【００２１】
気密外囲器をなすＦＥＤの外囲器１は、アノード基板２とカソード基板３とが所定間隔をおいて対面し、例えば軟化温度が４００℃程度の低軟化点ガラスによって両基板２，３の外周部が封着されている。ここで、両基板２，３の間隔は、例えば１ｍｍに設定されている。そして、このＦＥＤは、通常のＦＥＤよりも高い例えば１ｋＶ以上のアノード電圧で駆動される。
【００２２】
アノード基板２は、透光性を有する矩形の絶縁板で構成されている。アノード基板２の内面には、後述する電界放射素子７と対面する位置に蛍光体層５がドット状に被着形成されている。その上面に導電性を有する金属薄膜、例えばＡｌ薄膜等のアノード導体４が形成されている。そして、アノード導体４と蛍光体層５とにより、アノードとしての表示部６を構成している。
【００２３】
カソード基板３はアノード基板２と同形の絶縁板で構成されている。カソード基板３の内面には、表示部６の電子源をなす縦型の電界放射素子７が形成されている。
【００２４】
図１に示すように、電界放射素子７は、カソード基板３の内面に形成されたカソード電極８と、カソード電極８上に形成された酸化シリコン等の絶縁層９と、絶縁層９上に形成されたゲート電極１０と、絶縁層９及びゲート電極１０に形成されたホール１１内においてカソード電極８上に設けられたコーン形状のエミッタ１２を有している。
【００２５】
尚、電界放射素子として、カソード電極８と絶縁層９との間に抵抗層が形成されたものもある。又、電界放射素子７におけるカソード電極８とゲート電極１０とをマトリクス状に配設し、アノード基板２に被着される蛍光体層５を外囲器１内にベタに形成すれば、カソード電極８とゲート電極１０の交差位置に対面する蛍光体層５を選択的に発光させることができる。
【００２６】
図１に示すように、外囲器１内には、アノード基板２とカソード基板３とを内面側から支持して両基板２，３間を一定間隔に保持するための支持部材１５（１５Ａ）が収納配設されている。支持部材１５は、透光性を有するガラス板やセラミック板、金属板等の矩形状の板材１６より構成される。
【００２７】
板材１６には、各蛍光体層５と対面する位置に表示部６の画素に対応した形状（図示の例では矩形状）の貫通窓１７が形成されている。貫通窓１７は、表示部６のパターン形状に応じて、発光表示のための電子の軌道を阻害しないように形成される。具体的には、図２に示すように、矩形状に開口した貫通窓１７が形成されている。
【００２８】
板材１６における貫通窓１７を避けた位置には、テーパ状の支柱位置決め用貫通穴（以下、貫通穴と言う）１８が所定間隔おきに形成されている。図２の例において、貫通穴１８は、各貫通窓１７の短辺に近接した位置に縦横一定間隔Ｌ１，Ｌ２おきに形成されている。各貫通穴１８には、例えばガラスファイバー等の絶縁部材からなる同一長さの補強用支柱１９が挿通されている。各補強用支柱１９は、貫通穴１８への挿通方向である長手方向の中央部分が固着剤２０により貫通穴１８に固着されている。
【００２９】
尚、補強用支柱１９としては、全体が絶縁性を有している必要はなく、少なくとも両端部が絶縁性を有していれば、他の部分を金属部材で形成してもよい。
【００３０】
上記構成による支持部材１５は、各補強用支柱１９の一端面１９ａがアノード基板２の内面側に当接し、かつ他端面１９ｂがカソード基板３の内面側に当接した状態で、外囲器１内に収納配設される。これにより、アノード基板２とカソード基板３とを内面側から支持し、アノード基板２とカソード基板３との間を一定間隔に保持して外部からの大気圧による外囲器１の変形を防止している。
【００３１】
そして、上記のように構成されたＦＥＤでは、電界放射素子７から電子が放出されると、この電子が支持部材１５の貫通窓１７を通過して蛍光体層５に射突し、蛍光体層５が励起発光する。このときの発光は透光性のアノード基板２を介して観察される。
【００３２】
次に、ＦＥＤの外囲器１内に収納配設される支持部材１５の作製方法を、図３（ａ）〜（ｅ）に基づいて説明する。
【００３３】
支持部材１５を作製するにあたっては、図３（ｂ）に示すような専用の治具２１が用いられる。治具２１は、支持部材１５の板材１６に形成された各貫通穴１８に対応する部分のみに貫通穴１８より大径に貫通した開口部２２が形成された基台２３と、貫通穴１８に挿入されて開口部２２に臨んだ補強用支柱１９を基台２３の下部に密着して配設された板状の多孔質部２４の表面２４ａに吸引保持する吸引装置２５とを備えて構成される。
【００３４】
そして、支持部材１５を作製する場合には、図３（ａ）に示すように、まず、矩形状の板材１６に対し、補強用支柱１９を位置決めするための貫通穴１８と、表示部６の画素に対応した貫通窓１７とをエッチング法にて形成する。
【００３５】
次に、図３（ｂ）に示すように、板材１６の各貫通穴１８が開口部２２上に位置するように、板材１６を治具２１の基台２３の表面２３ａに密着させてセットし、各貫通穴１８に補強用支柱１９を挿入する。各補強用支柱１９は、端面（他端面１９ｂ）が開口部２２に臨み多孔質部２４の表面２４ａに当接するまで挿入される。この状態で、吸引装置２５を作動させ、図３（ｃ）に示すように、各補強用支柱１９の他端面１９ｂを多孔質部２４の表面２４ａに吸引保持する。
【００３６】
尚、基台２３の高さは、補強用支柱１９を貫通穴１８に挿入したときに、補強用支柱１９の中央部分が貫通穴１８に位置するように設定されている。これにより、板材１６に対する各補強用支柱１９の高さ方向の位置関係を規定している。そして、複数の補強用支柱１９は、個々に対応する貫通穴１８に挿入され、各補強用支柱１９の中央部分が貫通穴１８に位置した状態で一枚の板材１６に整列される。その際、板材１６の貫通窓１７は、基台２３によって覆われるため、吸引装置２５を作動させたときに、この貫通窓１７に補強用支柱１９が吸引されることはない。
【００３７】
次に、各補強用支柱１９を板材１６の貫通穴１８に固定するべく、図３（ｃ）に示すように、貫通穴１８と補強用支柱１９との接触部に対し、ディスペンサーにより固着剤２０を塗布する。その際、吸引装置２５の吸引力を低下させ、貫通穴１８からの固着剤２０の吸い込みを防止する。尚、固着材２０としては、例えば感光性アクリル樹脂に低軟化点ガラスを混入させてペースト状にした材料等が考えられる。
【００３８】
次に、図３（ｄ）に示すように、固着材２０のペースト塗布まで完了した板材１６に対して紫外線を照射し、固着剤２０を硬化させる。その後、吸引装置２５による吸引を解き、板材１６を治具２１から取り外す。これにより、図３（ｅ）に示すように、一枚の板材１６に対して複数の補強用支柱１９が固着された支持部材１５が完成する。
【００３９】
尚、上記固着剤２０の硬化後、従来の技術と同様に、各補強用支柱１９の一端面１９ａに固着剤を塗布してアノード基板２に固着させ、その後、各補強用支柱１９の他端面１９ｂ及びアノード基板２の外周部に固着材をそれぞれ塗布し、補強用支柱１９の他端面１９ｂをカソード基板３に固着させるとともに、基板２，３間の外周部を固着させて外囲器１を組み立てるようにしてもよい。
【００４０】
次に、図４は本発明による気密外囲器用支持部材の第２実施の形態を示す部分拡大平面図である。尚、第１実施の形態の支持部材と同一の構成要素には同一番号を付し、その説明を省略する。
【００４１】
この第２実施の形態による支持部材１５（１５Ｂ）は、板材１６がガラス板、セラミック板等の絶縁板で構成される。そして、板材１６には、例えばアルミニウム等の導電性金属からなる電極２６が形成されている。具体的には、図４に示すように、板材１６の表面１６ａには、各貫通窓１７を挟むようにして各貫通窓１７の短辺と平行に帯状の電極２６ａが形成されている。又、板材１６の裏面１６ｂには、板材１６の表面１６ａ側に形成された電極２６ａと直交し、各貫通窓１７を挟むようにして帯状の電極２６ｂが形成されている。
【００４２】
そして、この第２実施の形態では、貫通窓１７の両側に形成された板材１６の表面１６ａ又は裏面１６ｂの２本の電極２６、或いは一つの貫通窓１７の両側に形成された板材１６の表面１６ａ及び裏面１６ｂのそれぞれ２本の電極２６に電界を加えることにより、電界放射素子７から放出された電子を貫通窓１７を介して表示部６に集束又は拡散する制御電極として機能させることができる。
【００４３】
尚、図４に示す例では、板材１６の表面１６ａ及び裏面１６ｂに互いに直交させて帯状の電極２６ａ，２６ｂを形成しているが、板材１６の表面１６ａ又は裏面１６ｂの一方の面のみに帯状の電極２６を形成する構成としてもよい。
【００４４】
従って、上記実施の形態の支持部材によれば、各補強用支柱１９の長手方向（軸方向）の中央部分が板材１６の貫通穴１８に固着され、全ての補強用支柱１９が一枚の板材１６に連結された一体構造なので、各補強用支柱１９の位置ずれを十分に小さくでき、従来の構造に比べ、耐久応力、耐座屈特性を向上させることができる。これにより、外囲器１を構成するアノード基板２とカソード基板３との間を安定して支持し、外部からの大気圧による外囲器１の変形を防止することができる。
【００４５】
アノード基板２やカソード基板３の製作プロセスに関係なく、支持部材１５を独立に作製でき、最終段階の組み立て工程で、外囲器１内に組み入れることができる。このため、支持部材１５の作製工程が他の工程へ与える影響が少ない。
【００４６】
支持部材１５の板材１６を絶縁部材で構成し、少なくとも一方の面に電極２６が形成された構成なので、貫通窓１７の両側に位置する２本の電極２６に電界を加えることにより、電界放射素子７から放出される電子を加速制御し、貫通窓１７を通過させて表示部６に集束又は拡散することができる。
【００４７】
支持部材１５の板材１６を金属板で構成し、一定電位をかけることにより電界放射素子７から放出される電子を加速制御し、貫通窓１７を通過させて表示部６に集束または拡散することができる。また、一定電位をかけることにより、板材１６を境として高圧駆動されるアノード側と、低圧駆動されるカソード側とを遮蔽することができる。更に、電界放射素子７から放出された電子は、開口部である表示ドットと同一形状に形成された貫通窓１７を通過するので、より明確な表示ドット単位の表示を行うことができる。
【００４８】
尚、支持部材１５を構成する板材１６を、少なくとも一部がＺｒを含む合金で構成するか、または板材１６の表面にＺｒを含む合金が膜状に形成することにより、支持部材１５にゲッター作用をもたせ、外囲器内のガスを吸着して表示部６や電界放射素子７のガスによる汚染を防ぐとともに、外囲器内の真空度を高めることができる。
【００４９】
ところで、上述した実施の形態では、気密外囲器としてＦＥＤを例にとって説明したが、高真空状態で薄型の気密構造が要求される容器であれば、これに限ることはなく、例えば真空マイクロ磁気センサ、高速スイッチング素子、撮像素子、読取装置等の気密外囲器であってもよい。
【００５０】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、各補強用支柱の軸方向の中央部分が板材の貫通穴に固着され、全ての補強用支柱が一枚の板材に連結された一体構造なので、各補強用支柱の位置ずれを十分に小さくでき、従来の構造に比べ、耐久応力、耐座屈特性を向上させることができる。これにより、外囲器を構成する基板間を安定して支持し、外部からの大気圧による外囲器の変形を防止することができる。
【００５１】
請求項３の発明によれば、支持部材の板材を絶縁部材で構成し、少なくとも一方の面に電極が形成された構成なので、透光部の両側に位置する２本の電極に電界を加えることにより、電子源から放出される電子を加速制御し、透光部を通過させて表示部に集束又は拡散することができる。
【００５２】
請求項４の発明によれば、支持部材の板材が金属部材で構成されるので、一定の電位をかけることにより、電界放射素子から放出される電子を加速制御し、貫通窓を通過させてアノードへ集束または拡散することができる。また、板材を境として、高圧駆動されるアノード側と、低圧駆動されるカソード側とを遮蔽することができる。
【００５３】
請求項５の発明によれば、支持部材を構成する板材が少なくとも一部にＺｒを含む合金で構成されるか、または板材の表面にＺｒを含む合金が膜状に形成されているので、支持部材にゲッター作用をもたせ、外囲器内のガスを吸着して表示部や電界放射素子のガスによる汚染を防ぐとともに、外囲器内の真空度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による気密外囲器をなすＦＥＤの部分側断面図
【図２】図１のＦＥＤの外囲器内に収納配設される気密外囲器用支持部材の第１実施の形態を示す部分拡大斜視図
【図３】（ａ）〜（ｅ）気密外囲器用支持部材の製造方法を示す図
【図４】本発明による気密外囲器用支持部材の第２実施の形態を示す部分拡大平面図
【図５】支持部材を用いた従来のＦＥＤの構成を示す側断面図
【図６】図５のＦＥＤに用いられる支持部材の整列方法の説明図
【符号の説明】
１…外囲器、２…アノード基板、３…カソード基板、６…表示部、７…電界放射素子（電子源）、１５（１５Ａ，１５Ｂ）…支持部材、１６…板材、１７…貫通窓、１８…貫通穴、１９…補強用支柱、２６（２６ａ，２６ｂ）…電極。
【発明の属する技術分野】
本発明は、外部からの大気圧に抗して気密外囲器を内面側から支持して変形を防止するための気密外囲器用支持部材及び気密外囲器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
内部が高真空状態に保持される真空容器として、例えば電界放射形陰極を電子源とした電界放射形表示装置（以下、ＦＥＤと言う）が知られている。ＦＥＤは、図５に示すように、アノード導体３１ａと蛍光体層３１ｂからなる表示部３１が内面に形成されたアノード基板３２と、アノード基板３２の表示部３１と対面する内面側に電界放射形陰極３３を備えたカソード基板３４とを、所定間隔をおいて外周部で封止することにより外囲器３５を構成している。
【０００３】
この種のＦＥＤは、細かいドットピッチで表示部３１が形成されるアノード基板３２と、電界放射形陰極３３の形成されるカソード基板３４とがいずれも薄いガラス板からなり、両基板間の間隔も例えば２００μｍと極めて狭く薄型に構成されている。
【０００４】
ところで、この種のＦＥＤは、アノード基板３２とカソード基板３４との間が外周部のみで固定される構造なので、外囲器３５を構成する各基板（アノード基板３２、カソード基板３４）の板厚をある程度厚くして強度を得ている。
【０００５】
しかしながら、ＦＥＤが大形化するに伴って、外圧に耐えるには、外囲器３５を構成する各基板３２，３４の板厚を厚くしなければならず、薄型、軽量のＦＥＤを実現することができない。また、基板３２，３４が変形し、両基板の間隔を一定に保つことができなくなり、表示に悪影響がでる等の問題を有する。このため、図５に示すように、ガラス部材からなるファイバー支柱やビーズ支柱を補強用支柱３６として外囲器３５内の複数箇所に配設し、外部からの大気圧に抗してアノード基板３２とカソード基板３４との間を支持している。
【０００６】
ところで、補強用支柱３６を外囲器３５内に配設するにあたっては、図６に示す専用の治具３７を用いて補強用支柱３６の整列を行っている。治具３７は、基板３２，３４への補強用支柱３６の配設位置に対応して貫通穴３８ａが形成された基台３８と、貫通穴３８ａに挿入された補強用支柱３６を基台３８の下部に密着して配設された多孔質部３９の表面に吸引保持する吸引装置４０とを備えている。
【０００７】
補強用支柱３６を外囲器３５内に配設する場合には、補強用支柱３６をそれぞれ他端面３６ｂ側から貫通穴３８ａに挿入する。この状態で、吸引装置４０を作動させて各補強用支柱３６の他端面３６ｂ側を多孔質部３９を介して吸引保持する。これにより、複数の補強用支柱３６が貫通穴３８ａに挿入された状態で整列される。尚、補強用支柱３６の一端面３６ａには、予め固着材４１が塗布されている。
【０００８】
上記のようにして補強用支柱３６の整列が行われると、固着材４１が塗布された補強用支柱３６の一端面３６ａにアノード基板３２を載置して押え付け、補強用支柱３６の一端面３６ａをアノード基板３２に固着させる。その後、補強用支柱３６が固着されたアノード基板３２を治具３７から取り外し、各補強用支柱３６の他端面３６ｂ及びアノード基板３２の外周部に固着材４２をそれぞれ塗布し、補強用支柱３６の他端面３６ｂをカソード基板３４に固着させるとともに、基板３２，３４間の外周部を固着させる。
【０００９】
このように、治具３７を用いて補強用支柱３６を整列させる場合、補強用支柱３６の一端側を吸引保持しているので、縦横寸法比（径と長さの比）の小さい補強用支柱（例えば径５０μｍ、長さ２００μｍ）を用いれば、補強用支柱３６の一端面３６ａに基板を載置して押え付けたとき、吸引保持される補強用支柱３６の他端面３６ｂを中心とした位置ずれが小さく、少ない誤差での整列が可能である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、高精細表示では補強用支柱の配設領域が制限されるため、使用する補強用支柱の径を小さくする必要があり、その本数も増える。しかも、アノード電圧を上げてＦＥＤを高電圧駆動させる場合には、基板３２，３４間の間隔が大きくなり、これに伴って縦横寸法比の大きな補強用支柱（例えば径５０μｍ、長さ１ｍｍ）３６を基板３２，３４間に配設しなければならない。
【００１１】
このため、従来の構成では、補強用支柱３６の一端面３６ａにアノード基板３２を載置して押え付けたときに、吸引保持される補強用支柱３６の他端面３６ｂを中心とした位置ずれが大きくなり、少ない誤差で補強用支柱３６を整列してＦＥＤを作製することが困難であった。しかも、上記のように補強用支柱３６が大きな位置ずれをもって外囲器３５内に配設され、両基板３２，３４に外部から大気圧が加わると、補強用支柱３６が曲がったり、折れたりする恐れがある。従って、従来の構成では、耐応力、耐座屈特性に欠け、基板３２，３４間を安定して支持することができなかった。
【００１２】
又、補強用支柱３６としてビーズ支柱を用いた場合には、その径が基板３２，３４間を支持する高さとなり、支柱の寸法を大きくすると、支柱全体が大きくなる。このため、電子線を表示面に射突させるときに、支柱自身が影となって表示面の邪魔になり、表示面に対して効率的に電子線を射突させることができない。その結果、支柱による電子線のケラレ等が発生し、高精細な表示を行うには、使用できる支柱の径に制限が生じ、それに伴って印加できるアノード電圧も制限を受け、発光輝度が向上できないという問題があった。
【００１３】
そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、耐応力、耐座屈特性を向上させ、基板間を安定して支持し、外部からの大気圧による変形を防止することができる気密外囲器用支持部材及び気密外囲器を提供することを目的としている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１の発明は、気密外囲器内に収納配設され、前記気密外囲器を内面側から支持する気密外囲器用支持部材において、
所定間隔おきに複数の貫通穴が形成されるとともに、電子を通過させるための貫通窓が形成された板材と、
前記貫通穴のそれぞれに挿入されて軸方向の中央部分が前記貫通穴に固着され、両端部が前記気密外囲器の内面に当接して設けられた補強用支柱とを備えたことを特徴とする。
【００１５】
請求項２の発明は、表示部が内面に形成されたアノード基板と、該アノード基板の表示部と対面する内面側に電子源を備えたカソード基板とが所定間隔をおいて外周部で封止された気密外囲器内に収納配設され、前記気密外囲器を内面側から支持する気密外囲器用支持部材において、
所定間隔おきに複数の貫通穴が形成されるとともに、前記電子源から放出される電子を通過させるための貫通窓が形成された板材と、
前記貫通穴のそれぞれに挿入されて軸方向の中央部分が前記貫通穴に固着され、両端部が前記アノード基板及び前記カソード基板の内面に当接して設けられた補強用支柱とを備えたことを特徴とする。
【００１６】
請求項３の発明は、請求項２の気密外囲器用支持部材において、前記板材が絶縁部材で構成され、該板材の少なくとも一方の面には前記貫通窓を挟むようにして帯状の電極が形成されており、前記貫通窓の両側に位置する電極に電界を与えて前記電子源から放出される電子を集束又は拡散することを特徴とする。
【００１７】
請求項４の発明は、請求項２の気密外囲器用支持部材において、前記板材が金属部材で構成されたことを特徴とする。
【００１８】
請求項５の発明は、請求項１、２または４の気密外囲器用支持部材において、前記支持部材を構成する板材は、少なくとも一部がＺｒを含む合金で構成されるか、または前記板材の表面にＺｒを含む合金が膜状に形成されていることを特徴とする。
【００１９】
請求項６の発明は、アノード導体と蛍光体層による表示部が内面に形成されたアノード基板と、
該アノード基板の表示部と対面する内面側に電界放射形陰極を有し、前記アノード基板と所定間隔をおいて外周部で封止されるカソード基板と、
前記アノード基板と前記カソード基板との間に配設された支持部材とを備えており、
該支持部材は、所定間隔おきに複数の貫通穴が形成されるとともに、前記電界放射形陰極から放出される電子を通過させるための貫通窓が形成された板材と、前記貫通穴のそれぞれに挿入されて軸方向の中央部分が前記貫通穴に固着され、両端部が前記アノード基板及び前記カソード基板の内面に当接して設けられた補強用支柱とを備えたことを特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図１は本発明による気密外囲器をなすＦＥＤの部分側断面図、図２は図１のＦＥＤの外囲器内に収納配設される気密外囲器用支持部材の第１実施の形態を示す部分拡大斜視図である。
【００２１】
気密外囲器をなすＦＥＤの外囲器１は、アノード基板２とカソード基板３とが所定間隔をおいて対面し、例えば軟化温度が４００℃程度の低軟化点ガラスによって両基板２，３の外周部が封着されている。ここで、両基板２，３の間隔は、例えば１ｍｍに設定されている。そして、このＦＥＤは、通常のＦＥＤよりも高い例えば１ｋＶ以上のアノード電圧で駆動される。
【００２２】
アノード基板２は、透光性を有する矩形の絶縁板で構成されている。アノード基板２の内面には、後述する電界放射素子７と対面する位置に蛍光体層５がドット状に被着形成されている。その上面に導電性を有する金属薄膜、例えばＡｌ薄膜等のアノード導体４が形成されている。そして、アノード導体４と蛍光体層５とにより、アノードとしての表示部６を構成している。
【００２３】
カソード基板３はアノード基板２と同形の絶縁板で構成されている。カソード基板３の内面には、表示部６の電子源をなす縦型の電界放射素子７が形成されている。
【００２４】
図１に示すように、電界放射素子７は、カソード基板３の内面に形成されたカソード電極８と、カソード電極８上に形成された酸化シリコン等の絶縁層９と、絶縁層９上に形成されたゲート電極１０と、絶縁層９及びゲート電極１０に形成されたホール１１内においてカソード電極８上に設けられたコーン形状のエミッタ１２を有している。
【００２５】
尚、電界放射素子として、カソード電極８と絶縁層９との間に抵抗層が形成されたものもある。又、電界放射素子７におけるカソード電極８とゲート電極１０とをマトリクス状に配設し、アノード基板２に被着される蛍光体層５を外囲器１内にベタに形成すれば、カソード電極８とゲート電極１０の交差位置に対面する蛍光体層５を選択的に発光させることができる。
【００２６】
図１に示すように、外囲器１内には、アノード基板２とカソード基板３とを内面側から支持して両基板２，３間を一定間隔に保持するための支持部材１５（１５Ａ）が収納配設されている。支持部材１５は、透光性を有するガラス板やセラミック板、金属板等の矩形状の板材１６より構成される。
【００２７】
板材１６には、各蛍光体層５と対面する位置に表示部６の画素に対応した形状（図示の例では矩形状）の貫通窓１７が形成されている。貫通窓１７は、表示部６のパターン形状に応じて、発光表示のための電子の軌道を阻害しないように形成される。具体的には、図２に示すように、矩形状に開口した貫通窓１７が形成されている。
【００２８】
板材１６における貫通窓１７を避けた位置には、テーパ状の支柱位置決め用貫通穴（以下、貫通穴と言う）１８が所定間隔おきに形成されている。図２の例において、貫通穴１８は、各貫通窓１７の短辺に近接した位置に縦横一定間隔Ｌ１，Ｌ２おきに形成されている。各貫通穴１８には、例えばガラスファイバー等の絶縁部材からなる同一長さの補強用支柱１９が挿通されている。各補強用支柱１９は、貫通穴１８への挿通方向である長手方向の中央部分が固着剤２０により貫通穴１８に固着されている。
【００２９】
尚、補強用支柱１９としては、全体が絶縁性を有している必要はなく、少なくとも両端部が絶縁性を有していれば、他の部分を金属部材で形成してもよい。
【００３０】
上記構成による支持部材１５は、各補強用支柱１９の一端面１９ａがアノード基板２の内面側に当接し、かつ他端面１９ｂがカソード基板３の内面側に当接した状態で、外囲器１内に収納配設される。これにより、アノード基板２とカソード基板３とを内面側から支持し、アノード基板２とカソード基板３との間を一定間隔に保持して外部からの大気圧による外囲器１の変形を防止している。
【００３１】
そして、上記のように構成されたＦＥＤでは、電界放射素子７から電子が放出されると、この電子が支持部材１５の貫通窓１７を通過して蛍光体層５に射突し、蛍光体層５が励起発光する。このときの発光は透光性のアノード基板２を介して観察される。
【００３２】
次に、ＦＥＤの外囲器１内に収納配設される支持部材１５の作製方法を、図３（ａ）〜（ｅ）に基づいて説明する。
【００３３】
支持部材１５を作製するにあたっては、図３（ｂ）に示すような専用の治具２１が用いられる。治具２１は、支持部材１５の板材１６に形成された各貫通穴１８に対応する部分のみに貫通穴１８より大径に貫通した開口部２２が形成された基台２３と、貫通穴１８に挿入されて開口部２２に臨んだ補強用支柱１９を基台２３の下部に密着して配設された板状の多孔質部２４の表面２４ａに吸引保持する吸引装置２５とを備えて構成される。
【００３４】
そして、支持部材１５を作製する場合には、図３（ａ）に示すように、まず、矩形状の板材１６に対し、補強用支柱１９を位置決めするための貫通穴１８と、表示部６の画素に対応した貫通窓１７とをエッチング法にて形成する。
【００３５】
次に、図３（ｂ）に示すように、板材１６の各貫通穴１８が開口部２２上に位置するように、板材１６を治具２１の基台２３の表面２３ａに密着させてセットし、各貫通穴１８に補強用支柱１９を挿入する。各補強用支柱１９は、端面（他端面１９ｂ）が開口部２２に臨み多孔質部２４の表面２４ａに当接するまで挿入される。この状態で、吸引装置２５を作動させ、図３（ｃ）に示すように、各補強用支柱１９の他端面１９ｂを多孔質部２４の表面２４ａに吸引保持する。
【００３６】
尚、基台２３の高さは、補強用支柱１９を貫通穴１８に挿入したときに、補強用支柱１９の中央部分が貫通穴１８に位置するように設定されている。これにより、板材１６に対する各補強用支柱１９の高さ方向の位置関係を規定している。そして、複数の補強用支柱１９は、個々に対応する貫通穴１８に挿入され、各補強用支柱１９の中央部分が貫通穴１８に位置した状態で一枚の板材１６に整列される。その際、板材１６の貫通窓１７は、基台２３によって覆われるため、吸引装置２５を作動させたときに、この貫通窓１７に補強用支柱１９が吸引されることはない。
【００３７】
次に、各補強用支柱１９を板材１６の貫通穴１８に固定するべく、図３（ｃ）に示すように、貫通穴１８と補強用支柱１９との接触部に対し、ディスペンサーにより固着剤２０を塗布する。その際、吸引装置２５の吸引力を低下させ、貫通穴１８からの固着剤２０の吸い込みを防止する。尚、固着材２０としては、例えば感光性アクリル樹脂に低軟化点ガラスを混入させてペースト状にした材料等が考えられる。
【００３８】
次に、図３（ｄ）に示すように、固着材２０のペースト塗布まで完了した板材１６に対して紫外線を照射し、固着剤２０を硬化させる。その後、吸引装置２５による吸引を解き、板材１６を治具２１から取り外す。これにより、図３（ｅ）に示すように、一枚の板材１６に対して複数の補強用支柱１９が固着された支持部材１５が完成する。
【００３９】
尚、上記固着剤２０の硬化後、従来の技術と同様に、各補強用支柱１９の一端面１９ａに固着剤を塗布してアノード基板２に固着させ、その後、各補強用支柱１９の他端面１９ｂ及びアノード基板２の外周部に固着材をそれぞれ塗布し、補強用支柱１９の他端面１９ｂをカソード基板３に固着させるとともに、基板２，３間の外周部を固着させて外囲器１を組み立てるようにしてもよい。
【００４０】
次に、図４は本発明による気密外囲器用支持部材の第２実施の形態を示す部分拡大平面図である。尚、第１実施の形態の支持部材と同一の構成要素には同一番号を付し、その説明を省略する。
【００４１】
この第２実施の形態による支持部材１５（１５Ｂ）は、板材１６がガラス板、セラミック板等の絶縁板で構成される。そして、板材１６には、例えばアルミニウム等の導電性金属からなる電極２６が形成されている。具体的には、図４に示すように、板材１６の表面１６ａには、各貫通窓１７を挟むようにして各貫通窓１７の短辺と平行に帯状の電極２６ａが形成されている。又、板材１６の裏面１６ｂには、板材１６の表面１６ａ側に形成された電極２６ａと直交し、各貫通窓１７を挟むようにして帯状の電極２６ｂが形成されている。
【００４２】
そして、この第２実施の形態では、貫通窓１７の両側に形成された板材１６の表面１６ａ又は裏面１６ｂの２本の電極２６、或いは一つの貫通窓１７の両側に形成された板材１６の表面１６ａ及び裏面１６ｂのそれぞれ２本の電極２６に電界を加えることにより、電界放射素子７から放出された電子を貫通窓１７を介して表示部６に集束又は拡散する制御電極として機能させることができる。
【００４３】
尚、図４に示す例では、板材１６の表面１６ａ及び裏面１６ｂに互いに直交させて帯状の電極２６ａ，２６ｂを形成しているが、板材１６の表面１６ａ又は裏面１６ｂの一方の面のみに帯状の電極２６を形成する構成としてもよい。
【００４４】
従って、上記実施の形態の支持部材によれば、各補強用支柱１９の長手方向（軸方向）の中央部分が板材１６の貫通穴１８に固着され、全ての補強用支柱１９が一枚の板材１６に連結された一体構造なので、各補強用支柱１９の位置ずれを十分に小さくでき、従来の構造に比べ、耐久応力、耐座屈特性を向上させることができる。これにより、外囲器１を構成するアノード基板２とカソード基板３との間を安定して支持し、外部からの大気圧による外囲器１の変形を防止することができる。
【００４５】
アノード基板２やカソード基板３の製作プロセスに関係なく、支持部材１５を独立に作製でき、最終段階の組み立て工程で、外囲器１内に組み入れることができる。このため、支持部材１５の作製工程が他の工程へ与える影響が少ない。
【００４６】
支持部材１５の板材１６を絶縁部材で構成し、少なくとも一方の面に電極２６が形成された構成なので、貫通窓１７の両側に位置する２本の電極２６に電界を加えることにより、電界放射素子７から放出される電子を加速制御し、貫通窓１７を通過させて表示部６に集束又は拡散することができる。
【００４７】
支持部材１５の板材１６を金属板で構成し、一定電位をかけることにより電界放射素子７から放出される電子を加速制御し、貫通窓１７を通過させて表示部６に集束または拡散することができる。また、一定電位をかけることにより、板材１６を境として高圧駆動されるアノード側と、低圧駆動されるカソード側とを遮蔽することができる。更に、電界放射素子７から放出された電子は、開口部である表示ドットと同一形状に形成された貫通窓１７を通過するので、より明確な表示ドット単位の表示を行うことができる。
【００４８】
尚、支持部材１５を構成する板材１６を、少なくとも一部がＺｒを含む合金で構成するか、または板材１６の表面にＺｒを含む合金が膜状に形成することにより、支持部材１５にゲッター作用をもたせ、外囲器内のガスを吸着して表示部６や電界放射素子７のガスによる汚染を防ぐとともに、外囲器内の真空度を高めることができる。
【００４９】
ところで、上述した実施の形態では、気密外囲器としてＦＥＤを例にとって説明したが、高真空状態で薄型の気密構造が要求される容器であれば、これに限ることはなく、例えば真空マイクロ磁気センサ、高速スイッチング素子、撮像素子、読取装置等の気密外囲器であってもよい。
【００５０】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、各補強用支柱の軸方向の中央部分が板材の貫通穴に固着され、全ての補強用支柱が一枚の板材に連結された一体構造なので、各補強用支柱の位置ずれを十分に小さくでき、従来の構造に比べ、耐久応力、耐座屈特性を向上させることができる。これにより、外囲器を構成する基板間を安定して支持し、外部からの大気圧による外囲器の変形を防止することができる。
【００５１】
請求項３の発明によれば、支持部材の板材を絶縁部材で構成し、少なくとも一方の面に電極が形成された構成なので、透光部の両側に位置する２本の電極に電界を加えることにより、電子源から放出される電子を加速制御し、透光部を通過させて表示部に集束又は拡散することができる。
【００５２】
請求項４の発明によれば、支持部材の板材が金属部材で構成されるので、一定の電位をかけることにより、電界放射素子から放出される電子を加速制御し、貫通窓を通過させてアノードへ集束または拡散することができる。また、板材を境として、高圧駆動されるアノード側と、低圧駆動されるカソード側とを遮蔽することができる。
【００５３】
請求項５の発明によれば、支持部材を構成する板材が少なくとも一部にＺｒを含む合金で構成されるか、または板材の表面にＺｒを含む合金が膜状に形成されているので、支持部材にゲッター作用をもたせ、外囲器内のガスを吸着して表示部や電界放射素子のガスによる汚染を防ぐとともに、外囲器内の真空度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による気密外囲器をなすＦＥＤの部分側断面図
【図２】図１のＦＥＤの外囲器内に収納配設される気密外囲器用支持部材の第１実施の形態を示す部分拡大斜視図
【図３】（ａ）〜（ｅ）気密外囲器用支持部材の製造方法を示す図
【図４】本発明による気密外囲器用支持部材の第２実施の形態を示す部分拡大平面図
【図５】支持部材を用いた従来のＦＥＤの構成を示す側断面図
【図６】図５のＦＥＤに用いられる支持部材の整列方法の説明図
【符号の説明】
１…外囲器、２…アノード基板、３…カソード基板、６…表示部、７…電界放射素子（電子源）、１５（１５Ａ，１５Ｂ）…支持部材、１６…板材、１７…貫通窓、１８…貫通穴、１９…補強用支柱、２６（２６ａ，２６ｂ）…電極。
Claims (6)
- 気密外囲器内に収納配設され、前記気密外囲器を内面側から支持する気密外囲器用支持部材において、
所定間隔おきに複数の貫通穴が形成されるとともに、電子を通過させるための貫通窓が形成された板材と、
前記貫通穴のそれぞれに挿入されて軸方向の中央部分が前記貫通穴に固着され、両端部が前記気密外囲器の内面に当接して設けられた補強用支柱とを備えたことを特徴とする気密外囲器用支持部材。 - 表示部が内面に形成されたアノード基板と、該アノード基板の表示部と対面する内面側に電子源を備えたカソード基板とが所定間隔をおいて外周部で封止された気密外囲器内に収納配設され、前記気密外囲器を内面側から支持する気密外囲器用支持部材において、
所定間隔おきに複数の貫通穴が形成されるとともに、前記電子源から放出される電子を通過させるための貫通窓が形成された板材と、
前記貫通穴のそれぞれに挿入されて軸方向の中央部分が前記貫通穴に固着され、両端部が前記アノード基板及び前記カソード基板の内面に当接して設けられた補強用支柱とを備えたことを特徴とする気密外囲器用支持部材。 - 前記板材が絶縁部材で構成され、該板材の少なくとも一方の面には前記貫通窓を挟むようにして帯状の電極が形成されており、前記貫通窓の両側に位置する電極に電界を与えて前記電子源から放出される電子を集束又は拡散する請求項２記載の気密外囲器用支持部材。
- 前記板材が金属部材で構成された請求項２記載の気密外囲器用支持部材。
- 前記支持部材を構成する板材は、少なくとも一部がＺｒを含む合金で構成されるか、または前記板材の表面にＺｒを含む合金が膜状に形成されている請求項１、２または４記載の気密外囲器用支持部材。
- アノード導体と蛍光体層による表示部が内面に形成されたアノード基板と、
該アノード基板の表示部と対面する内面側に電界放射形陰極を有し、前記アノード基板と所定間隔をおいて外周部で封止されるカソード基板と、
前記アノード基板と前記カソード基板との間に配設された支持部材とを備えており、
該支持部材は、所定間隔おきに複数の貫通穴が形成されるとともに、前記電界放射形陰極から放出される電子を通過させるための貫通窓が形成された板材と、前記貫通穴のそれぞれに挿入されて軸方向の中央部分が前記貫通穴に固着され、両端部が前記アノード基板及び前記カソード基板の内面に当接して設けられた補強用支柱とを備えたことを特徴とする気密外囲器。
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