JP3552656B2

JP3552656B2 - 被処理体の処理システム

Info

Publication number: JP3552656B2
Application number: JP2000253202A
Authority: JP
Inventors: 一成坂田
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2000-08-23
Filing date: 2000-08-23
Publication date: 2004-08-11
Anticipated expiration: 2020-08-23
Also published as: JP2002076090A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ等の被処理体を気密状態で収容する被処理体収容ボックスを利用する被処理体の処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、ＩＣやＬＳＩ等の半導体集積回路を製造するためには、半導体ウエハに対して各種の成膜処理、酸化拡散処理、エッチング処理等を繰り返し行なうが、各処理を行なうにあたって、半導体ウエハを対応する装置間で搬送する必要がある。この場合、周知のように歩留り向上の上から半導体ウエハの表面にはパーティクルや自然酸化膜を付着形成することを避ける必要があるので、高集積化及び高微細化の要請が大きくなるに従って、ウエハの搬送には内部が密閉された被処理体収容ボックスが用いられる傾向にある。図６及び図７に示すように、この被処理体収容ボックス２は、一側が開口部４として形成されて、他側が略半円状になされたボックス容器６を有しており、このボックス容器６の内壁面に多段に支持突起８を設けて、これに半導体ウエハＷの周縁部を載置して支持することにより、略等ピッチで多段に半導体ウエハＷを収容できるようになっている。通常は、１つのボックス２内に２５枚或いは１３枚程度のウエハを収容できる。
【０００３】
このボックス容器６の開口部４には、四角形の中空板状の開閉蓋１０が着脱可能に取り付けられ、ボックス容器６内をある程度の気密状態として内部はＮ_２ガス等の不活性ガス雰囲気になされており、収容されたウエハＷが外気にできるだけ触れないようにしている。
この開閉蓋１０には、２つのロック機構１２が設けられており、このロック機構１２を解除することにより、開閉蓋１０を開口部４から離脱し得るようになっている。
具体的には、このロック機構１２は、図８にも示すように開閉蓋１０の高さ方向の略中央に、回転可能に取り付けられた円板状のロック板１４を有しており、このロック板１４には、細長い凹部状のカギ溝１６が形成されている。このロック板１４には、円弧運動を直線運動に変換するクランク機構のようにアーム１８に接続された出没ピン２０が上下方向にそれぞれ一対設けられており、このロック板１４を正逆９０度回転させることにより、上下の出没ピン２０をそれぞれ上下方向へ出没させるようになっている。
【０００４】
この出没ピン２０の先端は、ロック時には図７に示すように上記開口部４を区画する上縁部及び下縁部のピン穴２２（図７では下縁部のみ示す）に挿入されて係合し、開閉蓋１０が開口部４から外れないようになっている。従って、上記カギ溝１６に図示しないカギ部材を嵌合させ、図８（Ａ）に示すロック状態からこれを９０度回転させることにより、図８（Ｂ）に示すように出没ピン２０を距離ΔＬだけ後退させてこれをピン穴２２（図７参照）から抜き、アンロック状態とするようになっている。
【０００５】
上記したような収容ボックス２は、一般的には、収容ボックスの自動搬送機構やこれを一時的にストックするストック領域や半導体ウエハに実際に所定の処理を施す処理ユニット等を備えた処理システム内で自動的に搬送され、また、カギ部材２６もこれを有する自動機器によって操作されて、上述のような手順で収容ボックス２の開閉蓋１０を自動的に脱着するようになっている。
例えばこのような処理システムは、特開平４−１８０２１３号公報や本出願人の先の出願（特願平１１−２０１０００号）等に開示されており、システム内部にＮ_２ガス等の不活性ガスや清浄度の高い清浄空気が供給されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記収容ボックス２を処理システム内に取り込む際には、この収容ボックス２内に収納されている半導体ウエハに関する情報を知るために、開閉蓋１０を一時的に開いて、ウエハの載置位置を確認するマッピング操作を行なったり、個別のウエハを認識するＩＤ検査（同定検査）等が行なわれる。
この場合、処理システムの外側はクラス１００００程度の清浄度（クリーン度）に設定されているのに対して、処理システム内はクラス１程度の非常に高い清浄度に維持されてパーティクルの侵入を防止している。
【０００７】
しかしながら、従来の処理システムにあっては、処理システム内に取り込んだ収容ボックス２に対して上記したマッピングなどの半導体ウエハに関する情報を得る操作を行なう際には、清浄雰囲気中にて収容ボックス２から単に開閉蓋１０を一時的に取り外し、この状態でマッピング等を行なうようにしているので、折角、清浄度の高い清浄雰囲気中にて行っているにもかかわらず、収容ボックス２の外周面に付着していた清浄度の低い、例えば清浄度１００００の雰囲気中のパーティクル等が、開閉蓋１０が取り外された時にこの収容ボックス２内に流れ込んでウエハに付着する、といった問題が多発する傾向にあった。
特に、線幅がサブミクロンになる程に微細化が進み、また、半導体ウエハサイズも６インチ、８インチから１２インチへと移行しつつある今日において、特に上記した問題の解決が望まれている。
本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、開閉蓋を取り外した際に、被処理体収容ボックスの外周面等に付着していたパーティクル等が、収容ボックス内へ侵入することを確実に防止することができる被処理体の処理システムを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、被処理体を密閉状態で収容する被処理体収容ボックスを一時的に貯留するためのストッカ部と、前記被処理体に対して所定の処理を施す処理ユニットと、少なくとも前記ストッカ部を内部に収容して前記被処理体収容ボックスを外部との間で搬出入させるボックス搬出入口が形成された筐体とを有する被処理体の処理システムにおいて、前記ボックス搬出入口の近傍に設けられて前記被処理体収容ボックスの開閉蓋を開閉する蓋開閉機構と、前記被処理体収容ボックスの開閉蓋の開閉時に出没されて前記開閉蓋を覆うと共に、その内部に清浄度の高い清浄気体が流される蓋開閉用ダクト部材とを備えたものである。これにより、被処理体は収容ボックスの開閉蓋を取り外す際には、開閉蓋は蓋開閉用ダクト部材に覆われた状態で、しかも、このダクト部材には清浄度の高い清浄気体が流されているので、収容ボックスの外周面等に付着していたパーティクル等が、一時的に開放された収容ボックス内へ侵入することを防止することが可能となる。
【０００９】
この場合、例えば請求項２に規定するように、前記ボックス搬出入口の近傍には、前記開閉蓋の開閉時に前記蓋開閉用ダクト部材内に清浄度の高い清浄気体を導入するための送風ファン付きのフィルタ手段が設置されている。
また、例えば請求項３に規定するように、前記ボックス搬出入口には、前記被処理体収容ボックス内の前記被処理体に関する情報を検出するために出没可能になされた被処理体情報検出手段が設けられている。
また、請求項４に規定するように、前記蓋開閉機構の開閉動作と前記被処理体情報検出手段の検出動作とは前記蓋開閉用ダクト部材内で行なわれる。
このように、清浄度の高い清浄気体が流されている蓋開閉用ダクト部材内で開閉蓋の開閉動作や被処理体情報検出手段の検出動作を行なうようにしたので、万一、パーティクル等が飛散しても、これは清浄気体により排除されてしまうので、パーティクル等が収容ボックス内へ侵入することを略確実に防止することが可能となる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明に係る被処理体の処理システムの一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
図１は本発明の被処理体の処理システムを示す概略構成図、図２は図１に示す蓋開閉用ダクト部材の概略斜視図、図３は蓋開閉用ダクト部材の断面図である。
まず、図１に示すように、この被処理体の処理システム３０は、全体が例えばステンレス等よりなる筐体３２に囲まれており、この内部は被処理体収容ボックス２（以下、収容ボックスとも称す）を搬送するための収容ボックス搬送エリア３４と被処理体である半導体ウエハＷを搬送するウエハ搬送エリア３６とに区画壁３８により２分されている。上記ボックス搬送エリア３４内には清浄空気が流され、上記ウエハ搬送エリア３６内にはＮ_２ガス等の不活性ガス雰囲気になされている。この処理システム３０は、主に収容ボックス２をシステム３０内に対して搬入搬出させるための搬出入ポート４０と、この収容ボックス２を一時的に貯留するためのストッカ部４２と、この収容ボックス２と被処理体ボート４４との間で半導体ウエハを移載する移載ステージ４６と、被処理体ボート４４に移載されて保持されている被処理体に対して所定の処理を施す処理ユニット４８と、上記搬出入ポート４０と移載ステージ４６の近傍に設けられた第１及び第２の蓋開閉機構５０、５１と、本発明の特徴とする蓋開閉用ダクト部材５２とにより主に構成される。
【００１１】
上記搬出入ポート４０において、筐体３２には常時開放されているボックス搬出入口５４が形成されている。このボックス搬出入口５４の外側には、外部より搬送してきた収容ボックス２を載置するための外側載置台５６が設けられると共に、このボックス搬出入口５４の内側には、上記外側載置台５６よりスライド移動されてくる収容ボックス２をその上に載置するための内側載置台５８が設置されている。上記外側、或いは内側載置台５６、５８の上部には、両載置台５６、５８間をスライド移動可能になされたスライド板６０が設けられており、この上に収容ボックス２を載せた状態で移動できるようになっている。図示例では、両載置台５６、５８は理解の容易にために大きく離間させているが、実際には１０ｃｍ程度離間されているだけである。また、このボックス搬出入口５４の内側の直下であって内側の載置台５８との間には、上記収容ボックス２の開閉蓋１０を一時的に開閉するために上下方向へ昇降（出没）可能になされた第１の蓋開閉機構５０と、同じく上下方向へ昇降（出没）可能になされた被処理体情報検出手段６１と、上記蓋開閉用ダクト部材５２とが設置されている。ここで収容ボックス２の開閉蓋１０を一時的に取る理由は、収容ボックス２内のウエハの枚数や載置位置やウエハの状態等のウエハ情報をセンサにより検出するためである。
【００１２】
上記第１の蓋開閉機構５０は、エアシリンダ等のアクチュエータ６２を有し、この上下方向へ出没自在になされた出没ロッド６４の先端に開閉機構本体６６を取り付けている。この開閉機構本体６６には、水平方向へ出没自在になされ、且つ正逆方向へ回動可能になされた一対のカギ部６８（図１では１つのみ記す）が取り付けられており、このカギ部６８を、図６〜図８に示すカギ溝１６に挿入した状態でこれを正逆回転させることにより、ロック機構１２のロックと解除を行なってこれを保持し得るようになっている。
また、上記被処理体情報検出手段６１は、上記第１の蓋開閉機構５０に併設されており、この検出手段６１もエアシリンダ等のアクチュエータ７０を有し、この上下方向へ出没自在になされた出没ロッド７２の先端にセンサ部７４を取り付けている。そして、このセンサ部７４には、例えばウエハＷの存否を検出するための発光素子と受光素子（図示せず）とが設けられており、収容ボックス２の開閉蓋１０を取り外した状態でこのセンサ部７４を上下方向にスキャンさせることにより、ウエハの存否を確認してこのマッピングを行ない得るようになっている。また、上記蓋開閉用ダクト部材５２の構成については後述する。
【００１３】
一方、収納ボックス搬送エリア３４内の上方には、上記ストッカ部４２が位置されている。このストッカ部４２は、図示例においては２列４段に上記収容ボックス２を一時的に載置する棚段７６が２個並設されている。従って、このストッカ部４４には、全部で１６個（＝８×２）の収容ボックス２を一時的に保管できることになる。
上記２つの棚段７６間には、昇降エレベータ７８が起立させて設けられており、この昇降エレベータ７８には、水平方向に延びて旋回及び屈伸可能になされたボックス搬送アーム７９が設けられている。従って、このボックス搬送アーム７９を屈伸及び昇降させることにより、収容ボックス２をボックス搬送アーム７９で保持し、搬出入ポート４０とスットカ部４２との間で搬送できるようになっている。
【００１４】
また、上記移載ステージ４６において、両エリア３４、３６間を区画する区画壁３８には、収容ボックス２の開口部４（図７参照）と略同じ大きさになされた開口８０が形成されると共に、この開口８０の収容ボックス搬送エリア３４側には、第２載置台８２が水平に設けられており、この上に収容ボックス２を載置できるようになっている。また、この第２載置台８２の一側には、この上に載置された収容ボックス２を区画壁３８側へ押圧付勢するための水平アクチュエータ８４が設けられており、上記収容ボックス２の開閉蓋１０を、上記開口８０に臨ませた状態でボックス容器６の開口部４の開口縁が区画壁３８の開口８０の開口縁に略気密に接触されることになる。また、この開口８０には、これを開閉する開閉ドア８６が設けられている。
【００１５】
そして、この開口８０のウエハ搬送エリア３６内側の直下には、収容ボックス２の開閉蓋１０を開閉するために、例えば上記第１の蓋開閉機構５０と同じ構造の第２の蓋開閉機構５１が設置されている。
このウエハ搬送エリア３６内には、ウエハボートの如き被処理体ボート４４を載置する２つのボート載置台９０（図１では１つのみ記す）が設けられている。このボート載置台９０と上記移載ステージ４６との間には、旋回及び屈伸可能になされたウエハ搬送アーム９２が設けられており、このウエハ搬送アーム９２は昇降エレベータ９４により上下動可能になされている。従って、このウエハ搬送アーム９２を屈伸、旋回及び昇降駆動することにより、第２載置台８２上の収容ボックス２とボート載置台９０上の被処理体ボート４４との間でウエハＷの移載を行なうことができるようになっている。
【００１６】
この被処理体ボート４４は、例えば石英よりなり、例えば５０〜１５０枚程度のウエハＷを所定のピッチで多段に支持できるようになっている。
また、このウエハ搬送エリア３６の一側の上方には、石英製の円筒体状の処理容器９６を有する縦型熱処理炉よりなる処理ユニット４８が配置されており、一度に多数枚のウエハＷに対して成膜や酸化拡散等の所定の熱処理を施すようになっている。この処理容器９６の下方には、昇降エレベータ９８により昇降可能になされたキャップ１００が配置されており、このキャップ１００上に被処理体ボート４４を載置してこれを上昇させることにより、このボート４４を処理容器９６の下端開口部よりこの処理容器９６内へロードできるようになっている。この時、処理容器９６の下端開口部は上記キャップ１００により気密に閉じられるようになっている。そして、降下されたキャップ１００と上記ボート載置台９０との間には、屈伸及び旋回可能になされたボート搬送アーム１０２が設けられており、ボート載置台９０とキャップ１００との間で被処理体ボート４４の移載ができるようになされている。
【００１７】
また、上記処理ユニット４８の上方の筐体天井部には、例えばパンチングメタルのような通気孔１０４を有する天井通気板１０６が設けられており、例えばクラス１００００程度の外部の清浄空気を内部に取り込むようになっている。そして、上記移載ステージ４６の上方であって上記ストッカ部４２の背面側には、通気孔１０８を有する通気区画壁１１０が上記筐体３２の天井部と区画壁３８との間に接合させて設けられている。そして、この通気区画壁１１０の処理ユニット４８側には、例えばＨＥＰＡフィルタ等よりなる外部フィルタ部材１１２と外部送風ファン１１４とが設けられており、例えば外部より取り込んだクラス１００００程度の清浄空気（気体）をこの外部フィルタ部材１１２に通すことによって、クラス１程度の高い清浄度の清浄気体として収容ボックス搬送エリア３４側へ導入するようになっている。
【００１８】
そして、本発明の特徴とする蓋開閉用ダクト部材５２は、図２及び図３にも示すように、上方と下方が開放されて例えば略直方体状の筒体として形成されたダクト本体１２０を有しており、この前面側には、上記収容ボックス２の開閉蓋１０よりもやや大きくなされた略四角形状の搬入口１２２が形成されている。このダクト本体１２０は、例えばステンレス等により構成され、上部の開口は気体入口１２４となり、また、下部の開口は気体出口１２６となっており、後述するようにこの内部に清浄度の高い清浄気体を流し得るようになっている。このダクト本体１２０の側壁には、筐体３２の底部に設けられたエアシリンダ等のダクトアクチュエータ１２８（図１参照）から出没可能になされた出没ロッド１３０が接続されており、このダクト本体１２０を上下に昇降可能としている。
【００１９】
また、このダクト本体１２０の寸法は、例えば高さＨ１が４００〜６００ｍｍ程度、長さＨ２が５００〜５５０ｍｍ程度、幅Ｈ３が１００〜２００ｍｍ程度、搬入口１２２の横幅Ｈ４が、収容ボックス２は１２インチウエハを収容できる大きさの時には３００〜４００ｍｍ程度の大きさである。そして、上述のようにこのダクト本体１２０の幅Ｈ３は１００〜２００ｍｍ程度に大きく設定されており、図１に示すようにこのダクト本体１２０内に第１の蓋開閉機構５０及び被処理体情報検出手段６６を並設状態で収容できるようになっている。
そして、この蓋開閉用ダクト部材５２の直上には、清浄度の高い清浄気体を形成するフィルタ手段１３２が設けられている。具体的には、このフィルタ手段１３２は、ＨＥＰＡフィルタ等のフィルタ部材１３４を外枠１３６で囲んで形成されており、その上部には一対の送風ファン１３８が取り付けられて図中において下方向へ送風するようになっている。この外枠１３６の上方は開放され、下方の底部１３６Ｂは、テーパ状に一側に傾斜されている。そして、この底部１３６Ｂの下端からは、この下方に位置するダクト本体１２０の気体入口１２４と略同じ大きさに設定された排出ダクト１４０が下方へ延びており、これより排出した清浄度の高い清浄気体をダクト本体１２０側へ導入するようになっている。
【００２０】
次に、以上のように構成された処理システム３０の動作について説明する。
まず、ウエハ搬送エリア３６内は、ウエハ表面への自然酸化膜の付着を防止するために不活性ガス、例えばＮ_２ガス雰囲気になされ、また、収容ボックス搬送エリア３４内は、清浄空気の雰囲気に維持されている。具体的には、この清浄空気は、例えば清浄度がクラス１００００の清浄空気が筐体３２の天井通気板１０６から取り込まれ、この気体は外側フィルタ部材１１２と通気区画壁１１０を通って清浄度がクラス１程度に上げられて、ボックス搬送エリア３４内に入り、このエリア３４内を循環した後、この底部より排出されている。
【００２１】
最初に、半導体ウエハＷの全体的な流れについて説明すると、外部より搬送されてきた収容ボックス２は、その開閉蓋１０をボックス搬出入口５４側に向けて外側載置台５６上に載置される。この時、蓋開閉用ダクト部材５２のダクト本体１２０を上昇駆動させて、この上方のフィルタ手段１３２からこのダクト本体１２０内へ清浄度が高いクラス１程度の清浄空気を流下させておく。そして、第１の蓋開閉機構５０を駆動することにより、上記収容ボックス２の開閉蓋１０を一時的に取り外し、そして、被処理体情報検出手段６１のセンサ部７４を用いて収容ボックス２内に収容されているウエハの枚数や収容位置等を検出する。そして、この検出が終了したならば、再度、第１の蓋開閉機構５０を駆動して、先程取り外した開閉蓋１０を再度、収容ボックス側へ装着する。
【００２２】
次に、上記蓋開閉用ダクト部材５２、第１の蓋開閉機構５０及び被処理体情報検出手段６１を全て降下させて退避させた後、収容ボックス２が載置されている外側載置台５６上のスライド板６０を前進させることによって、これを内側載置台５８上に移送する。次に、ボックス搬送アーム７９を駆動することにより、内側載置台５８上に設置されている収容ボックス２を取りに行ってこれを保持し、更に昇降エレベータ７８を駆動することによって、この収容ボックス２をストッカ部４２の棚段７６の所定の位置まで搬送して設置し、これを一時的に保管する。これと同時に、すでに棚段７６に一時貯留されており、処理対象となったウエハを収容する収容ボックス２をこのボックス搬送アーム７８により取りに行き、上述のように昇降エレベータ７８を駆動してこれを降下させて、収容ボックス２を移載ステージ４６の第２載置台８２上に移載する。この時、収容ボックス２の開閉蓋１０は、区画壁３８に設けた開閉ドア８６側に向けられており、しかも、第２載置台８２の一側に設けた水平アクチュエータ８４により、収容ボックス２は押圧付勢されて第２載置台８２上にて固定されている。
【００２３】
この状態で開閉ドア８６をスライド移動させることにより、開口８０が開かれる。ここで、収容ボックス２の開口部の周縁部は、区画壁３８に押圧されて密接状態となっているので、開口８０を介して両エリア３４、３６間で気体が流通することはない。そして、第２の蓋開閉機構５１を駆動することにより、収容ボックス２に設けた開閉蓋１０を取り外し、更に、ウエハ搬送アーム９２及び昇降エレベータ９４を駆動することにより、収容ボックス２内に収容されていたウエハＷを一枚ずつ取り出し、これをボート載置台９０上に設置されている被処理体ボート４４に移載する。被処理体ボート４４へのウエハＷの移載が完了したならば、次に、ボート搬送アーム１０２を駆動して、ボート載置台９０上の被処理体ボート４４を最下端へ降下されているキャップ１００上に載置する。そして、この被処理体ボート４４の移載が完了したならば、昇降エレベータ９８を駆動させて、被処理体ボート４４の載置されたキャップ１００を上昇させ、このボート４４を処理ユニット４８の処理容器９６の下端開口部より処理容器９６内へ導入してロードする。そして、このキャップ１００によって処理容器９６の下端開口部を密閉し、この状態で処理ユニット４８内でウエハＷに対して所定の熱処理、例えば成膜処理や酸化拡散処理等を行なう。
【００２４】
このようにして、所定の熱処理が終了したならば、前述したと逆の操作を行なって、処理済みのウエハＷを取り出す。すなわち、被処理体ボート４４を処理容器９６内から降下させてアンロードし、更に、これをボート載置台９０上に移載する。そして、ウエハ搬送アーム９２を用いて処理済みのウエハＷをボート４４から第２載置台８２上の収容ボックス２内に移載する。この収容ボックス２内への処理済みウエハＷの移載が完了したならば、第２の蓋開閉機構５１を駆動して、開閉蓋１０を再度、収容ボックス２側へ装着する。
【００２５】
次に、開閉ドア８６を閉じて、両エリア３４、３６間を気密に仕切ったならば、ボックス搬送アーム７９を駆動し、この収容ボックス２を一時的にストッカ部４４へ貯留し、或いは貯留することなくボックス搬出入口５４を介して処理システム３０外へ搬送することになる。尚、上記した収容ボックス２の流れは単に一例を示したに過ぎず、これに限定されないのは勿論である。
次に、図４も参照して本発明の特徴とする蓋開閉用ダクト部材５２とその周辺の部材の動作について詳しく説明する。図４は蓋開閉用ダクト部材と他の関連部材の動作を説明するための説明図である。
【００２６】
まず、図４（Ａ）に示すように、収容ボックス２がボックス搬出入口５４から離れた位置で外側載置台５６上に載置される。次に、図４（Ｂ）に示すように、蓋開閉用ダクト部材５２のダクト本体１２０を上昇させてこれをボックス搬出入口５４に位置させ、スタンバイ状態とする。この時、フィルタ手段１３２の送風ファン１３８（図２参照）を駆動させ、クラス１程度の清浄度の高い清浄空気Ｆをダクト本体１２０内に流下させておく。尚、図１に示したようにボックス搬送エリア３４内に取り込まれた清浄空気はクラス１程度になっているが、この清浄空気がストッカ部４２内等を通過する際にその清浄度が低下するので、この空気を再度、フィルタ部材１３４に通過させることにより、上述のようにダクト本体１２０内に流れる空気の清浄度を上げている。また、ダクト本体１２０を上昇した際は、パーティクル発生防止の見地より、ダクト本体１２０の上端と、フィルタ手段１３２の排出ダクト１４０の下端とはできるだけ接近させるが、接触させないようにして僅かに離間させておく。この時の離間距離Ｌ１（図３も参照）は、例えば０．２〜０．３ｍｍ程度の範囲が好ましい。
【００２７】
次に、図４（Ｃ）に示すように、スライド板６０（図１参照）上で図示しないクランプ機構により収容ボックス２をクランプし、これを前進させることにより収容ボックス２をボックス搬出入口５４に臨ませる。この時、ボックス搬出入口５４と収容ボックス２の前面との間の距離は０〜０．５ｍｍ程度の範囲内が好ましい。
次に、図４（Ｄ）に示すように、第１の蓋開閉機構５０（図１参照）を駆動することにより開閉機構本体６６を上昇させ、これに設けられているカギ部６８を前進及び旋回させることにより収容ボックス２の開閉蓋１０のロックを解除し、この状態でカギ部６８を後退させることにより開閉蓋１０は収容ボックス２側から取り外す。この際、この開閉蓋１０はカギ部６８に保持されている。この際、収容ボックス２内は開放されることになるが、前述のようにこのダクト本体１２０内にはクラス１の清浄度の高い清浄空気が流通されているので、収容ボックス２の外周面等に付着しているパーティクルが開放された収容ボックス２内に入り込むことはなく、収容ボックス２内のウエハＷにパーティクルが付着することを防止することができる。尚、図４においては、発明の理解の容易のために、開閉蓋１０が外された収容ボックス２とダクト本体１２０との間の距離を大きく記載しているが、実際には、前述したように両者は、非常に接近している。
【００２８】
次に、図４（Ｅ）に示すように、被処理体情報検出手段６１（図１参照）を駆動して出没ロッド７２を上方へ延ばすことによりこのセンサ部７４を上昇させてスキャンし、開放されている収容ボックス２内のウエハ位置等の検出やウエハの同定などの操作を行ない、例えばマッピング操作を実行する。
次に、図４（Ｆ）に示すように、上記出没ロッド７２を下方へ没することによりセンサ部７４を降下させてこれをボックス搬出入口５４から退避させる。
次に、図４（Ｇ）に示すように、開閉機構本体６６を前記と逆に操作するように駆動することにより、このカギ部６８に保持していた開閉蓋１０を収容ボックス２に再度装着してこれをロックし、そして、出没ロッド６４を下方へ没することにより、開閉機構本体６６もボックス搬出入口５４から退避させる。尚、収容ボックス２に開閉蓋１０が装着されて再度密閉されたならば、清浄空気Ｆの送風を停止してもよい。
【００２９】
次に、図４（Ｈ）に示すように収容ボックス２の載置されているスライド板６０（図１参照）を僅かに後退させてこれがダクト本体１２０と干渉しないようにする。
次に、図４（Ｉ）に示すように、ダクト本体１２０も下方向へ降下させて、これをボックス搬出入口５４から退避させる。
そして、次に、図４（Ｊ）に示すように、収容ボックス２が載置されているスライド板６０（図１参照）を更に前進させることによってこれを内側載置台５８（図１参照）上に移行させ、これにより、収容ボックス２を収容ボックス搬送エリア３４内に取り込まれることになる。これ以降の収容ボックス２の移送経路は前述した通りである。
このように、本実施例では、収容ボックス２の開閉蓋１０を開いて中のウエハに関する情報を得る際に、この収容ボックス２の開口部４を清浄度の高い清浄気体が流れるダクト本体１２０に臨ませた状態で行なうようにしたので、収容ボックス２の外周面等に付着していたパーティクル等が、全て清浄空気により下方向へ排除されるので、収容ボックス２内に侵入することを防止でき、また従って、パーティクルがウエハに付着することも防止することができる。
【００３０】
また、上述のようにダクト本体１２０内に清浄空気を流す結果、このダクト本体１２０内が陽圧となり、各部材間の隙間からは外側へ空気が出て行くことになるので、この点よりも、開放されている収容ボックス２内にパーティクルが入ることを確実に防止することができる。
更には、開閉蓋１０の開閉操作時に第１の蓋開閉機構５０から出るパーティクルや、被処理体情報検出手段６１の操作時にこれより出るパーティクル等も全てダクト本体１２０内を流下する清浄空気により排出されるので、これが開放されている収容ボックス２内に侵入することを防止できる。
上記ダクト本体１２０の各部の寸法は、単に一例を示したに過ぎず、これに限定されないのは勿論である。また、上記実施例では、第１の蓋開閉機構５０と被処理体情報検出手段６１とを別体として設けたが、両者を結合して組み合わせるようにして一体化してもよい。
【００３１】
更には、ここではダクト本体１２０とこの上方に位置する送風ファン１３８の付いたフィルタ手段１３２とを別体としたが、これに限定されず、例えば図５に示すように、この送風ファン１３８の付いたフィルタ手段１３２を小型化して、このフィルタ手段１３２を上記ダクト本体１２０の上端に一体的に固定するようにして設けてもよい。
また、ここでは被処理体として半導体ウエハを例にとって説明したが、これに限定されず、ガラス基板、ＬＣＤ基板等にも本発明を適用することができる。
【００３２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の被処理体の処理システムによれば、次のように優れた作用効果を発揮することができる。
請求項１乃至３に係る発明によれば、被処理体は収容ボックスの開閉蓋を取り外す際には、開閉蓋は蓋開閉用ダクト部材に覆われた状態で、しかも、このダクト部材には清浄度の高い清浄気体が流されているので、収容ボックスの外周面等に付着していたパーティクル等が、一時的に開放された収容ボックス内へ侵入することを防止することができる。
請求項４に係る発明によれば、清浄度の高い清浄気体が流されている蓋開閉用ダクト部材内で開閉蓋の開閉動作や被処理体情報検出手段の検出動作を行なうようにしたので、万一、パーティクル等が飛散しても、これは清浄気体により排除されてしまうので、パーティクル等が収容ボックス内へ侵入することを略確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の被処理体の処理システムを示す概略構成図である。
【図２】図１に示す蓋開閉用ダクト部材の概略斜視図である。
【図３】蓋開閉用ダクト部材の断面図である。
【図４】蓋開閉用ダクト部材と他の関連部材の動作を説明するための説明図である。
【図５】蓋開閉用ダクト部材の変形例を示す概略構成図である。
【図６】被処理体収容ボックスを示す斜視図である。
【図７】被処理体収容ボックスの開閉蓋が開いた状態を示す斜視図である。
【図８】開閉蓋のロック機構を示す図である。
【符号の説明】
２被処理体収容ボックス
６ボックス容器
１０開閉蓋
３０被処理体の処理システム
３２筐体
４２ストッカ部
４８処理ユニット
５０第１の蓋開閉機構（蓋開閉機構）
４２蓋開閉用ダクト部材
５４ボックス搬出入口
５６外側載置台
５８内側載置台
６０スライド板
６１被処理体情報検出手段
９６処理容器
１２０ダクト本体
１３２フィルタ手段
１３４フィルタ部材
１３８送風ファン
１４０排出ダクト
Ｗ半導体ウエハ（被処理体）

Claims

被処理体を密閉状態で収容する被処理体収容ボックスを一時的に貯留するためのストッカ部と、前記被処理体に対して所定の処理を施す処理ユニットと、少なくとも前記ストッカ部を内部に収容して前記被処理体収容ボックスを外部との間で搬出入させるボックス搬出入口が形成された筐体とを有する被処理体の処理システムにおいて、前記ボックス搬出入口の近傍に設けられて前記被処理体収容ボックスの開閉蓋を開閉する蓋開閉機構と、前記被処理体収容ボックスの開閉蓋の開閉時に出没されて前記開閉蓋を覆うと共に、その内部に清浄度の高い清浄気体が流される蓋開閉用ダクト部材とを備えたことを特徴とする被処理体の処理システム。
前記ボックス搬出入口の近傍には、前記開閉蓋の開閉時に前記蓋開閉用ダクト部材内に清浄度の高い清浄気体を導入するための送風ファン付きのフィルタ手段が設置されていることを特徴とする請求項１記載の被処理体の処理システム。
前記ボックス搬出入口には、前記被処理体収容ボックス内の前記被処理体に関する情報を検出するために出没可能になされた被処理体情報検出手段が設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の被処理体の処理システム。
前記蓋開閉機構の開閉動作と前記被処理体情報検出手段の検出動作とは前記蓋開閉用ダクト部材内で行なわれることを特徴とする請求項３記載の被処理体の処理システム。