JP3538675B2 - 炭酸エステル製造用触媒、その再生法ならびに炭酸エステルの製造法 - Google Patents
炭酸エステル製造用触媒、その再生法ならびに炭酸エステルの製造法Info
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Description
ニル化による炭酸エステルの製造に用いられる改良され
た炭酸エステル製造用触媒、その再生法ならびに気相反
応条件下での炭酸エステルの製造法に関するものであ
る。
クタン価向上剤、有機溶剤として、またイソシアネート
類、ポリカーボネ−ト類ならびに種々の農薬、医薬中間
体の製造におけるホスゲンに代る反応剤として重要な化
合物である。
せる酸化カルボニル化によって炭酸エステルを製造する
に際しては、ハロゲン化銅を担体に担持させた触媒が知
られている。例えば国際出願公開WO87/07601
号は、担体に含浸させた金属ハロゲン化物又は混合され
た金属ハロゲン化物の存在下で酸素、一酸化炭素及びア
ルコールを気相反応させることにより炭酸エステルを製
造する方法を示しており、特に塩化第2銅を活性炭に担
持させたものや塩化第2銅とカリウム、ナトリウム、リ
チウム、マグネシウム或はカルシウムの塩化物を活性炭
に担持させた触媒が好ましいとしている。しかしなが
ら、例えばこの触媒を用いた炭酸ジメチルの製造におい
ては、アルコール転化率及び炭酸ジメチルの選択率が低
く、特に、反応の初期において多量の副生物が生成する
とか、反応初期に発生した塩化メチル等が反応器を腐蝕
させるため高級な材料を使用する必要がある等の欠点が
あった。
開平5−208137号において、多孔質担体にハロゲ
ン化銅とアルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水
酸化物を担持することにより得られたものであるアルコ
ールの酸化カルボニル化による炭酸エステル製造用触
媒、その再生法ならびにその触媒を使用する炭酸エステ
ルの製造法を提案した。これにより、高活性、高選択性
で炭酸エステルを製造することができ、また塩化メチル
等の腐蝕性ガスの生成を極めて少なく抑えることができ
る。しかし活性、選択性の向上や触媒の使用量の低減は
常に望まれている課題である。
ル、一酸化炭素及び酸素を触媒の存在下に反応させて炭
酸エステルを製造する際に、反応の初期における多量の
副生物、特に腐蝕性ガスなどの発生を抑制し、反応初期
から高いアルコール転化率、炭酸エステル選択率を得る
ことができる炭酸エステル製造用触媒、その再生法なら
びに炭酸エステルの製造法を提供することを目的とす
る。
ールの酸化カルボニル化による炭酸エステル製造用触媒
は、多孔質担体にハロゲン化銅と炭酸塩を担持すること
により形成されたものであることを特徴とする。
造法は、多孔質担体にハロゲン化銅と炭酸塩を担持する
ことを特徴とする。
の酸化カルボニル化反応による炭酸エステルの製造に使
用した後、ハロゲン又はハロゲン化水素含有ガスと接触
させることを特徴とする。
ルコール、一酸化炭素及び酸素を触媒の存在下に反応さ
せて炭酸エステルを製造する方法において、触媒が多孔
質担体にハロゲン化銅と炭酸塩を担持することにより形
成されたものであり、気相反応条件下でアルコール、一
酸化炭素及び酸素を反応させることを特徴とする。
と炭酸塩を担持させる担体は、多孔質で表面積が10m
2 /g以上、さらに30〜1000m2 /gのものが好
ましい。具体的には活性炭、酸化チタン、酸化ニオブ、
シリカ、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、アルミ
ナ、軽石などが挙げられるが、特に活性炭が好ましく用
いられる。
ハロゲン化物が挙げられ、具体的には塩化銅(CuC
l,CuCl2 )、臭化銅(CuBr,CuBr2 )、
沃化銅(CuI,CuI2 )、フッ化銅が挙げられる。
これらは単独で、或は組み合わせて用いられる。これら
のうち、ハロゲン化第2銅が好ましく、特に塩化第2銅
が好ましい。ハロゲン化銅はエタノール、メタノール、
水などの溶液として担体に含浸されるが、ハロゲン化銅
の担持量はCu/(ハロゲン化銅+多孔質担体)として
1〜20重量%、好ましくは2〜15重量%程度含有さ
せるのが適当である。担持量が低すぎる場合には活性及
び選択性が急激に低下し、また20重量%以上含有させ
てもさらに活性及び選択性が向上することは期待できな
い。
3 ,CaCO3 ,BaCO3 のような一種類の陽イオン
からなる単塩およびKNaCO3 ,KHCO3 のような
2種類の陽イオンを含むものや、(NH4)2 CO3 のよ
うに多原子イオンからなる陽イオンを含む炭酸塩が挙げ
られる。特にアルカリ金属の炭酸塩や炭酸アンモニウム
等は通常水溶液として担体に含浸できるので好ましい。
炭酸塩の炭酸基(CO3基)の銅に対するモル比は、好
ましくは0.2〜1.3、更に好ましくは0.4〜0.
8とするのが適当である。
含浸法、混練法、共沈法等を適宜採用すれば良い。担体
に対する含浸は、例えばハロゲン化第2銅溶液を含浸さ
せた後、空気雰囲気下で、或は不活性ガスを流通させな
がら60〜100℃、好ましくは80〜100℃で乾燥
させ、次いでこのハロゲン化第2銅含浸担体に炭酸塩の
溶液を含浸させた後、空気雰囲気下で、あるいは不活性
ガスを流通させながら60〜100℃、好ましくは80
〜100℃で乾燥すればよい。この際、初めに炭酸塩の
溶液を含浸させ、次にハロゲン化第2銅溶液を含浸させ
ても良い。また本発明の触媒は、このように含浸して調
製したものを水などで洗浄したものでも良い。
は酸化ハロゲン化銅Cua Ob Xc(X=ハロゲン、
a,b,cは量論数)を形成していると考えられる。例
えば、ハロゲン化第2銅(CuCl2 )とK2 CO3 と
が担持された触媒では、4CuCl2 +3K2 CO3 →
Cu4 O3 Cl2 +6KCl+3CO2 ↑の反応により
Cu4 O3 Cl2 のようなオキシ塩化物が形成され、活
性サイトになるのではないかと推定される。従って炭酸
イオンを供給できるものであれば陽イオンの類は問わな
い。前述の特開平50−208137号の触媒において
も、担体にハロゲン化銅と、アルカリ金属水酸化物又は
アルカリ土類金属水酸化物とを担持させることにより酸
化ハロゲン化銅が形成されるが、この触媒調製において
は熱処理工程が必要とされる。これに対して本発明に係
る触媒においては加熱処理を必要としないので触媒製造
工程が簡略化され、また歩留り良く酸化ハロゲン化銅か
らなる触媒を得ることができる。
ステル生成に対して高い選択性を有する。またこの触媒
を炭酸エステルの合成に使用すれば、腐蝕性のガスなど
の発生を極めて少なく抑えることができるので、装置材
料の選定が容易になる。更にこの触媒は簡単にその活性
を再生させることが出来るので経済的価値が高い。
コールとしては、炭素数1〜6の脂肪族アルコール、炭
素数3〜6の脂環族アルコールや芳香族アルコールが好
ましい。例えば、メタノール、エタノール、プロピルア
ルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、
シクロプロパノール、シクロブタノール、シクロヘキサ
ノール、ベンジルアルコールなどが例示される。特にメ
タノール、エタノールなどの1価アルコールが好まし
い。これらは単独で、或は組み合わせて用いられる。本
発明において、上記アルコールとして1種類のアルコー
ルを用いると対称な炭酸エステルが得られ、異なるアル
コールを組み合わせると対称又は非対称の炭酸エステル
が得られる。
反応により炭酸エステルを製造する際の反応条件として
は、反応温度は通常70〜350℃、好ましくは80〜
250℃、更に好ましくは100〜200℃、反応圧力
は通常常圧〜35kg/cm2 G、好ましくは2〜20
kg/cm2 G、更に好ましくは5〜15kg/cm 2
Gであることが望ましい。一酸化炭素はアルコールに対
するモル比(CO/アルコール)で通常0.01〜10
0、好ましくは0.5〜20、更に好ましくは1〜10
の量で用いられ、また酸素はアルコールに対するモル比
(O2 /アルコール)で0.01〜2.0、好ましくは
0.05〜1.0、更に好ましくは0.05〜0.5の
量で用いられる。また一酸化炭素と酸素とは通常、モル
比(CO/O2 )で通常0.01〜1000、好ましく
は10〜100、更に好ましくは20〜50の量で用い
られる。酸素は純粋な分子状酸素として、あるいは窒素
又はアルゴンなどの不活性ガスで希釈して供給される。
式、噴流床形式など反応形式には限定されない。
具体的には、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネ
ート、ジプロピルカーボネート、ジブチルカーボネー
ト、ジペンチルカーボネート、ジヘキシルカーボネー
ト、ジシクロプロピルカーボネート、ジシクロブチルカ
ーボネート、ジシクロペンチルカーボネート、ジシクロ
ヘキシルカーボネート、ジベンジルカーボネート、メチ
ルエチルカーボネート、メチルプロピルカーボネート、
エチルプロピルカーボネート等が挙げられる。
性が低下した触媒は、ハロゲン又はハロゲン化水素を含
有ガスと接触させることにより再生することができる。
再生に際しては、不活性ガス又は還元性ガスの雰囲気下
にて行うことが好ましい。不活性ガスとしては窒素、ヘ
リウム、アルゴンなどが挙げられ、還元性ガスとしては
水素や一酸化炭素などが用いられる。ハロゲンとして
は、塩素、フッ素、臭素などが用いられ、ハロゲン化水
素としては、弗化水素、塩化水素、臭化水素、沃化水
素、あるいはそれらの水溶液が用いられる。また、処理
条件でハロゲンやハロゲン化水素を生成する有機ハロゲ
ン化物を用いても良い。不活性ガス又は還元性ガス雰囲
気下で行う場合、ガス中のハロゲン又はハロゲン化水素
の量としては0.1〜10%程度が好ましい。通常活性
の低下した触媒を不活性ガス流通下で所定の温度まで昇
温し、次いで不活性ガス又は還元性ガスの流通下、所定
温度にてハロゲン又はハロゲン化水素と所定時間接触さ
せることにより再生を行うことができる。ハロゲン又は
ハロゲン化水素含有ガスと接触させる処理温度は100
〜300℃、好ましくは100〜200℃である。処理
時間は0.5時間以上、通常は0.5〜3時間程度で良
い。
C)を例として本発明を具体的に説明するが、本発明は
下記の実施例に限定されるものではない。
留水を加えて100mlとした塩化第二銅水溶液と、炭
酸カリウム(K2 CO3 )6.63gに蒸留水を加えて
100mlとした炭酸カリウム水溶液をそれぞれ調製し
た。活性炭15gに前記塩化第二銅水溶液8mlを含浸
させた後不活性ガス(窒素)を流通させながら100℃
で3時間乾燥した。冷却後、塩化第2銅を担持した活性
炭に前記炭酸カリウム水溶液8mlを含浸させた後不活
性ガス(窒素)を流通させながら100℃で3時間乾燥
して触媒A(Cu含有量=3重量%、CO3 /Cuモル
比=0.5)を調製した。高圧固定床反応装置の内径1
2mmのステンレス製反応管に触媒Aを7ml充填し、
反応圧力6kg/cm2 G,反応温度150℃の条件下
でメタノール5g/時、一酸化炭素57.8ml/分、
酸素5.8ml/分の割合で導入して炭酸ジメチル(D
MC)の合成を行った。反応開始後2時間目での触媒性
能試験結果を表1に示す。
下の実施例においても同様である。 Cu含有量=[Cu重量/(ハロゲン化銅重量+多孔質
担体重量)]×100[重量%]
施例1と同様にして触媒B(Cu含有量=3重量%、C
O3 /Cuモル比=0.65)を調製し、実施例1と同
様にしてDMCの合成を行った。反応開始後2時間目で
の触媒性能試験結果を表1に示す。
施例1と同様にして触媒C(Cu含有量=3重量%、C
O3 /Cuモル比=1.0)を調製し、実施例1と同様
にしてDMCの合成を行った。反応開始後2時間目での
触媒性能試験結果を表1に示す。
施例1と同様にして触媒D(Cu含有量=3重量%、C
O3 /Cuモル比=0.25)を調製し、実施例1と同
様にしてDMCの合成を行った。反応開始後2時間目で
の触媒性能試験結果を表1に示す。
物(Na2 CO3 ・H2 O)7.7gを用いた以外は実
施例1と同様にして触媒E(Cu含有量=3重量%、C
O3/Cuモル比=0.65)を調製し、実施例1と同
様にしてDMCの合成を行った。反応開始後2時間目で
の触媒性能試験結果を表1に示す。
ウム(KNaCO3 )7.6gを用いた以外は実施例1
と同様にして触媒F(Cu含有量=3重量%、CO3 /
Cuモル比=0.65)を調製し、実施例1と同様にし
てDMCの合成を行った。反応開始後2時間目での触媒
性能試験結果を表1に示す。
(KHCO3 )6.24gを用いた以外は実施例1と同
様にして触媒G(Cu含有量=3重量%、CO3 /Cu
モル比=0.65)を調製し、実施例1と同様にしてD
MCの合成を行った。反応開始後2時間目での触媒性能
試験結果を表1に示す。
((NH4 )2 CO3 )5.98gを用いた以外は実施
例1と同様にして触媒H(Cu含有量=3重量%、CO
3 /Cuモル比=0.65)を調製し、実施例1と同様
にしてDMCの合成を行った。反応開始後2時間目での
触媒性能試験結果を表1に示す。
17.2gとした以外は実施例1と同様にして触媒I
(Cu含有量=6重量%、CO3 /Cuモル比=0.6
5)を調製し、実施例1と同様にしてDMCの合成を行
った。反応開始後2時間目での触媒性能試験結果を表1
に示す。
を25.9gとした以外は実施例1と同様にして触媒J
(Cu含有量=9重量%、CO3 /Cuモル比=0.6
5)を調製し、実施例1と同様にしてDMCの合成を行
った。反応開始後2時間目での触媒性能試験結果を表1
に示す。
gのみを用いて触媒K(Cu含有量=3重量%、CO3
/Cuモル比=0)を調製し、実施例1と同様にしてD
MCの合成を行った。反応開始後2時間目での触媒性能
試験結果を表1に示す。
なかった触媒K(塩化銅のみを担体に担持したもの)を
使用する場合に比べて、本発明によれば高活性、高選択
性で炭酸エステルを製造することができる。
率)がフレッシュ触媒の60%まで低下した触媒Aを、
不活性ガス(窒素ガス)流通下200℃まで昇温し、次
いで5%の塩素を含む窒素ガス100ml/時/触媒m
lを流通させて200℃で3時間処理した。この再生触
媒A1を用いて実施例1と同様にしてDMCの合成を行
った。反応開始後2時間目での触媒性能は、メタノール
転化率21.0%、DMC選択率94%で、フレッシュ
触媒と同等であった。
れ、しかも歩留り良く酸化ハロゲン化銅からなる炭酸エ
ステル製造用触媒が得られる。この触媒により高活性、
高選択性で炭酸エステルを製造することができ、また塩
化メチル等の腐蝕性ガスの生成を極めて少なく抑えるこ
とができるので、反応装置材料として高級材料を必要と
しない。
Claims (16)
- 【請求項1】 多孔質担体にハロゲン化銅と炭酸塩を担
持することにより形成されたものであることを特徴とす
るアルコールの酸化カルボニル化による炭酸エステル製
造用触媒。 - 【請求項2】 炭酸塩の炭酸基(CO3 基)の銅に対す
るモル比が0.2〜1.3の割合である請求項1に記載
の炭酸エステル製造用触媒。 - 【請求項3】 ハロゲン化銅がハロゲン化第2銅である
請求項1に記載の炭酸エステル製造用触媒。 - 【請求項4】 多孔質担体にハロゲン化銅と炭酸塩を担
持することにより形成されたものが酸化ハロゲン化銅で
ある請求項1に記載の炭酸エステル製造用触媒。 - 【請求項5】 多孔質担体が活性炭である請求項1又は
請求項4に記載の炭酸エステル製造用触媒。 - 【請求項6】 多孔質担体へのハロゲン化銅の担持量が
Cu/(ハロゲン化銅+多孔質担体)として1〜20重
量%である請求項1に記載の炭酸エステル製造用触媒。 - 【請求項7】 多孔質担体にハロゲン化銅と炭酸塩を担
持することにより酸化ハロゲン化銅を形成させることを
特徴とするアルコールの酸化カルボニル化による炭酸エ
ステル製造用触媒の製造法。 - 【請求項8】 多孔質担体にハロゲン化銅と炭酸塩を担
持することにより形成された触媒を、アルコールの酸化
カルボニル化反応による炭酸エステルの製造に使用した
後、ハロゲン又はハロゲン化水素含有ガスと接触させる
ことを特徴とする炭酸エステル製造用触媒の再生法。 - 【請求項9】 アルコール、一酸化炭素及び酸素を触媒
の存在下に反応させて炭酸エステルを製造する方法にお
いて、触媒が多孔質担体にハロゲン化銅と炭酸塩を担持
することにより形成されたものであり、気相反応条件下
でアルコール、一酸化炭素及び酸素を反応させることを
特徴とする炭酸エステルの製造法。 - 【請求項10】 多孔質担体に担持する時の炭酸塩の炭
酸基(CO3 基)の銅に対するモル比が0.2〜1.3
の割合である触媒を用いる請求項9に記載の炭酸エステ
ルの製造法。 - 【請求項11】 ハロゲン化銅がハロゲン化第2銅であ
る請求項9に記載の炭酸エステルの製造法。 - 【請求項12】 多孔質担体にハロゲン化銅と炭酸塩を
担持することにより形成されたものが酸化ハロゲン化銅
である請求項9に記載の炭酸エステルの製造法。 - 【請求項13】 多孔質担体が活性炭である請求項9又
は請求項12に記載の炭酸エステルの製造法。 - 【請求項14】 多孔質担体へのハロゲン化銅の担持量
がCu/(ハロゲン化銅+多孔質担体)として1〜20
重量%である請求項9に記載の炭酸エステルの製造法。 - 【請求項15】 アルコールが、炭素数1〜6の脂肪族
アルコール、炭素数3〜6の脂環族アルコールや芳香族
アルコールからなる群から選ばれる少なくとも一種であ
る請求項9に記載の炭酸エステルの製造法。 - 【請求項16】 アルコールに対する一酸化炭素のモル
比が0.01〜100、アルコールに対する酸素のモル
比が0.01〜2.0、反応温度が70〜350℃、反
応圧力が常圧〜35kg/cm2 Gである請求項9に記
載の炭酸エステルの製造法。
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---|---|---|---|
JP01129094A JP3538675B2 (ja) | 1994-01-05 | 1994-01-05 | 炭酸エステル製造用触媒、その再生法ならびに炭酸エステルの製造法 |
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JPH07194983A JPH07194983A (ja) | 1995-08-01 |
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1994
- 1994-01-05 JP JP01129094A patent/JP3538675B2/ja not_active Expired - Fee Related
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