JP3535635B2 - 帯電装置 - Google Patents
帯電装置Info
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Description
ミリ、プリンター等の電子写真方式の画像形成装置にお
いて静電潜像担持体の帯電に用いられる帯電装置に関す
る。
光体等の静電潜像担持体の帯電に用いられる帯電装置と
しては、コロナ帯電方式が従来から用いられている。コ
ロナ帯電方式には、非接触であること、構成が簡単であ
ること等の利点があり、広く用いられる。しかしコロナ
放電中のオゾン発生、効率が悪く高電圧を印加しなけれ
ばならない等の問題点がある。この問題点を改善する方
法として、接触帯電方式が提案されている。接触方式の
帯電においては、接触部材としてローラ、ブラシ、ブレ
ード等が存在するが、これらの方式は文字通り感光体と
帯電部材を接触させて使用するために、感光体上の残ト
ナー等が帯電部材に付着することによる汚れ等によって
帯電ムラが発生し、画像に悪影響を与える。
体積抵抗106〜1013Ωcm、表面抵抗106 Ω以上で
ある電気抵抗体を感光体と非接触で近接させてバイアス
電圧を印加することによって、感光体を帯電させる方法
が開示されている。この発明では、電気抵抗体と感光体
を500μm以下に近接させることによって帯電ムラを
少なくしているが、入口側の電気抵抗体と感光体間の空
隙が500μm以上となる箇所で放電が発生しやすく、
帯電ムラが発生する恐れがある。また、抵抗値の管理が
厳しく、環境等の変動によっては帯電ムラが発生する。
みなされたものであって、非接触で感光体等の静電潜像
担持体を帯電させる帯電方式で、かつ帯電ムラの少ない
方式の帯電装置を提供することを課題としており、以下
に各請求項の目的を示す。
部材を非接触とし、かつ帯電ムラの少ない帯電方式の帯
電装置を提供することを目的とする。また、帯電部材と
静電潜像担持体間の放電を、常に安定かつ小刻みに発生
させることを目的とする。請求項2の発明は、帯電部材
と静電潜像担持体間の最初の放電を安定化することを目
的とする。請求項3の発明は、静電潜像担持体が円筒状
でかつその径が小さい場合、帯電部材が平板の場合には
空隙の大きな領域が存在し、空隙が大きな所での放電は
不安定であるため、帯電部材に曲率を設けることによっ
て、この不安定な放電を防止することを目的とする。請
求項4の発明は、静電潜像担持体にピンホール等の欠陥
があった際に、過剰電流が流れ異常放電が発生するとい
う問題があるがこれを防止することを目的とする。請求
項5の発明は、静電潜像担持体の画像形成領域全体を、
確実に帯電させることを目的とする。請求項6の発明
は、帯電部材のエッジ部では、異常放電が発生しやすい
ため、この異常放電を防止することを目的とする。
め、請求項1記載の帯電装置は、感光体等の静電潜像担
持体と非接触に1個の抵抗部材からなる帯電部材を配置
し、該帯電部材の静電潜像担持体回転方向上流側に直流
のバイアス電圧V1 を、下流側に直流のバイアス電圧V
2 を印加することによって、放電を生じさせて静電潜像
担持体を帯電させる構成としたものであり、バイアス電
圧V1 とバイアス電圧V2 の関係が、 |V1|<|V2| であり、V1 は静電潜像担持体の帯電電位Vs と同極性
または0ボルトであり、V2 は前記帯電電位Vs と同極
性である構成とした。
加えて、バイアス電圧V1 に0ボルトを印加するように
構成した。
加えて、帯電部材の静電潜像担持体と対向する面が曲率
を持ち、該帯電部材と静電潜像担持体間距離が円周上の
どの位置でも略等しくなるように構成した。
加えて、帯電部材の静電潜像担持体に対向する表面に表
面保護層を有し、かつ該表面保護層の抵抗率が、体積抵
抗率、表面抵抗率共に帯電部材よりも大きくなるように
構成した。
加えて、帯電部材の長手方向の長さが、静電潜像担持体
の画像形成領域の長さよりも長くなるように構成した。
加えて、帯電部材の静電潜像担持体に対向する面の各辺
のエッジが、丸め処理されているか、もしくは、高抵抗
部材で覆われている構成とした。
を参照して詳細に説明する。図1は本発明による帯電装
置の一構成例を示したものである。図中1は潜像を形成
するための静電潜像担持体であるドラム状の感光体であ
り、図示の例では時計回りに回転する。2は高抵抗部材
からなる板状の1個の帯電部材であり、この帯電部材2
の感光体回転方向上流側には直流のバイアス電圧V1
が、下流側には直流のバイアス電圧V2 が印加されてい
る。帯電部材2の体積抵抗値は、106 Ωcm以上がよ
く、それ以下では帯電部材2の上流側から下流側へ流れ
る電流が大きくなり、消費電力の増加を招く。帯電部材
2を構成する材料に関しては、抵抗値を満たすものであ
れば、ゴム、プラスチック、セラミックス、ガラス等の
いずれでもよい。
近接した箇所の拡大図である。感光体上の或る点1−a
と帯電部材上の或る点2−a間の空隙幅をga とし、ま
た帯電部材上の点2−aの電位をV2aとすると、V2a
が、空隙ga におけるパッシェンの気中放電限界電圧V
paを越えていれば放電が発生する。この放電によって感
光体上の点1−aはわずかに帯電する。尚、図2では、
煩雑となるのを避けるために、注目している点1−aで
の放電のみを記してあり、その他の場所での放電は省略
している。
目している点1−aが1−bへ移動した状態を示す図で
ある。このとき、帯電部材2上の点2−bと感光体1上
の点1−bとの電位差ΔVb が、空隙幅gb における放
電限界を越えていれば放電が発生し、再びわずかの電荷
が感光体上の点1−bに移動する。このようにして感光
体上の点は、帯電部材2の下を移動しながら、少しづつ
帯電していく。そして感光体1が移動するに伴って、帯
電を進めていくためには、帯電部材2に印加するバイア
ス電圧は、感光体回転方向上流側のバイアス電圧V1 に
対して下流側のバイアス電圧V2 の方が絶対値で大きく
(|V1|<|V2|)、かつ感光体1を所望の帯電電位
に帯電させるためには、帯電部材2と感光体1間の最短
距離で十分に放電が発生するだけの電圧でなければいけ
ない。尚、上流側のバイアス電圧V1 は0Vでもよく、
この場合には電源が下流側のバイアス電圧V2 用に1つ
でよく、装置が簡略化されて好都合である。
が発生しやすく、感光体1と帯電部材2間の空隙幅を小
さくする必要があったが、本帯電方式によれば、安定な
放電が連続して発生するために、帯電ムラが少なく、ま
た感光体1との空隙幅を必ずしも小さくする必要がな
い。また環境等で帯電部材2を構成する抵抗部材の抵抗
値が変動しても、抵抗部材上の電位分布は変わらないた
め、帯電特性には影響しないといった利点もある。
て、ドラム状の感光体1も小径化が進んでいる。感光体
1の径が小さくなると、帯電部材2が図1のような平板
の場合には、感光体回転方向における感光体1と帯電部
材2間の空隙の変化が大きく、感光体1が移動する際の
空隙変化が大きくなり、安定した帯電が行なわれない。
そのような場合には、感光体が移動しても空隙があまり
変化しないように、帯電部材2に曲率を持たせるとよ
い。最もよい形状は、図4に示す例のように、帯電部材
2の感光体1と対向する面を感光体の周面に沿った円弧
状に形成した、感光体1と帯電部材2の空隙幅がほぼ一
定となる形状である。図4に示す形状であれば、空隙が
常に一定であるため、放電を支配する因子は、帯電部材
2上の各点での電位のみとなり、感光体1が移動するに
伴って安定した放電が連続的に発生する。
がある場合には、放電がその箇所に集中し大電流が流れ
ることによって、電源の容量をオーバーし、感光体軸方
向に平行に帯電しない領域が発生する。これを防止する
ためには、図5に示す例のように、帯電部材2の感光体
1と対向する面に高抵抗部材で形成された表面保護層3
を設けるとよい。尚、図5は帯電部材の構成例を示す断
面図である。表面保護層3の抵抗率は、体積抵抗率と表
面抵抗率のどちらも、帯電部材2を形成する抵抗部材の
材質の抵抗率よりも大きい必要があり、可能であるなら
ば2桁以上大きくすることが望ましい。これは、表面保
護層3の体積抵抗率が小さいと帯電部材2の厚さ方向に
電流が流れやすく、また表面抵抗率が小さいと表面を伝
わって電源側から電流が流れ込んでしまい、感光体1に
欠陥等があった際に大電流が流れてしまうからである。
せるためには、帯電部材2の感光体軸方向の長さは、画
像形成領域よりも長い必要がある。また帯電部材の感光
体1に対向する面の4辺はその角がたっていると、そこ
から異常放電が発生する恐れがあり、辺のエッジを丸め
るか、もしくは高抵抗部材4で覆っておく必要がある。
高抵抗部材4は、絶縁体であればなお効果的である。こ
こで図6は帯電部材の構成例を示す図であって、(a)
は帯電部材2の角を丸めたときの例を示す断面図、
(b)は帯電部材2の4辺を高抵抗部材4で覆った例を
示す断面図、(c)は帯電部材2に図5に示した高抵抗
の表面保護層3をコーティングし、さらに4辺を高抵抗
部材4で覆った例を示す断面図である。また、図6
(d)は同図(c)の帯電部材2を、感光体側から見た
ときの平面図である。尚、帯電部材2の感光体回転方向
上流側に印加するバイアス電圧V1 が、十分に小さく例
えば0Vであれば、上流側の感光体軸と平行な辺では、
異常放電は発生しないため、必ずしもこの辺に上記のよ
うな丸め処理や、高抵抗部材で覆う処理を施す必要はな
いが、安全のためにこの辺にも上記処理を施しておいた
ほうがよい。
帯電部材2とし、感光体1と非接触に対向した位置に配
置する。尚、帯電部材2の幅は感光体1の軸方向の長さ
と略同じである。また帯電部材2の感光体1に対向する
面の4辺は、図6(b)のように絶縁部材で覆ってあ
る。クロロプレンゴムの体積抵抗率は107Ωcm 、表面
抵抗率は105Ω/□ である。また帯電部材2と感光体
1との距離は、どの場所でも略500μmとなるよう
に、図4のように、帯電部材2に曲率を持たせている。
帯電部材2の両端には電極が設けられており、V1=0
VとV2=−4kVのバイアス電圧が印加されている。
以上の構成で、感光体1を線速60mm/sで回転させた
結果、感光体1には約−600Vの帯電電位が得られ
た。また感光体1を正帯電トナーで現像したところ、画
像は均一で、帯電ムラはほとんど見られなかった。
部材2にV1=−4kV、V2=−4kVのバイアス電圧
を印加して帯電を行なった。感光体1の帯電電位は約−
650Vで、実施例1とほぼ同電位が得られた。次に正
帯電トナーで現像を行なったところ、画像には細かいウ
ロコ状のムラが見られた。
部材2にV1=0V、V2=−4kVのバイアス電圧を印
加して帯電を行なった。実機で50000枚の画像出し
後の感光体1を用いたところ、帯電電位にムラが見られ
た。正帯電トナーで現像して画像出しを行なったとこ
ろ、感光体軸方向に平行にすじ状の帯電していない箇所
が数箇所見られた。そこで感光体1を調べたところ、対
応する箇所に小さな傷が見られ、この傷によって異常放
電が発生し、大電流が流れることによって電源電圧が低
下して、帯電しない箇所が発生したと考えられる。
の感光体を用いた。帯電部材2の感光体1と対向する表
面に高抵抗のテフロンを表面保護層3としてコーティン
グした。さらに4辺に絶縁層4を設け、図6(c)の構
造とした。また表面保護層3の体積抵抗率は1012Ωc
m、表面抵抗率は1010Ω/□であった。以上の構成で
帯電を行なったところ、感光体の傷の有る箇所のみ点状
に帯電しない箇所が見られるものの、実施例3で見られ
たような、すじ状の帯電ムラは見られなかった。
接触で静電潜像担持体を帯電させる帯電方式の帯電装置
を提供することができる。すなわち、請求項1記載の帯
電装置では、感光体等の静電潜像担持体と非接触に1個
の抵抗部材からなる帯電部材を配置し、該帯電部材の静
電潜像担持体回転方向上流側に直流のバイアス電圧V1
を、下流側に直流のバイアス電圧V2 を印加することに
よって、放電を生じさせて静電潜像担持体を帯電させる
構成としたので、静電潜像担持体と帯電部材を非接触と
し、かつ帯電ムラの少ない帯電方式の帯電装置を提供で
きる。
の構成に加えて、バイアス電圧V1とバイアス電圧V2
の関係が、 |V1|<|V2| となるように構成したので、帯電部材と静電潜像担持体
間の放電を、常に安定かつ小刻みに発生させることが可
能となる。
は、上記構成に加えて、バイアス電圧V1 に0ボルト
を、バイアス電圧V2 に静電潜像担持体の帯電電位Vs
と同極性の電圧を印加するように構成したので、帯電部
材と静電潜像担持体間の最初の放電を安定化することが
でき帯電ムラを少なくすることが可能となる。
加えて、帯電部材の静電潜像担持体と対向する面が曲率
を持ち、該帯電部材と静電潜像担持体間距離が円周上の
どの位置でも略等しくなるように構成したので、静電潜
像担持体が円筒状でかつその径が小さい場合、帯電部材
が平板の場合には空隙の大きな領域が存在し、空隙が大
きな所での放電が不安定となることがあったが、この不
安定な放電を防止することができる。
加えて、帯電部材の静電潜像担持体に対向する表面に表
面保護層を有し、かつ該表面保護層の抵抗率が、体積抵
抗率、表面抵抗率共に帯電部材よりも大きくなるように
構成したので、静電潜像担持体にピンホール等の欠陥が
有った際に、過剰電流が流れ異常放電が発生することを
防止することが可能となり、帯電ムラを防止できる。
加えて、帯電部材の長手方向の長さが、静電潜像担持体
の画像形成領域の長さよりも長くなるように構成したの
で、静電潜像担持体の画像形成領域全体を、確実に帯電
させることが可能となる。
加えて、帯電部材の静電潜像担持体に対向する面の各辺
のエッジが、丸め処理されているか、もしくは、高抵抗
部材で覆われている構成としたので、帯電部材のエッジ
部では異常放電が発生しやすかったが、この異常放電を
防止することが可能となる。
る。
拡大図である。
拡大図であり、感光体の回転により注目している点が図
2に示す位置から移動した状態を示す図である。
ある。
例を示す断面図である。
構成例を示す図であって、(a)は帯電部材の角を丸め
たときの例を示す断面図、(b)は帯電部材の4辺を高
抵抗部材で覆った例を示す断面図、(c)は帯電部材に
図5に示した高抵抗の表面保護層をコーティングし、さ
らに4辺を高抵抗部材で覆った例を示す断面図、(d)
は(c)の帯電部材を感光体側から見たときの平面図で
ある。
イアス電圧 V2 静電潜像担持体回転方向下流側に印加されるバ
イアス電圧
Claims (6)
- 【請求項1】静電潜像担持体の帯電に用いられる帯電装
置であって、静電潜像担持体と非接触に1個の抵抗部材
からなる帯電部材を配置し、該帯電部材の静電潜像担持
体回転方向上流側に直流のバイアス電圧V1 を、下流側
に直流のバイアス電圧V2 を印加することによって、放
電を生じさせて静電潜像担持体を帯電させる構成とした
ものであり、 バイアス電圧V1 とバイアス電圧V2 の関係が、 |V1|<|V2| であり、V1 は静電潜像担持体の帯電電位Vs と同極性
または0ボルトであり、V2 は前記帯電電位Vs と同極
性であることを特徴とする帯電装置。 - 【請求項2】請求項1記載の帯電装置において、バイア
ス電圧V1 に0ボルトを印加することを特徴とする帯電
装置。 - 【請求項3】請求項1または2記載の帯電装置におい
て、前記帯電部材の静電潜像担持体と対向する面が曲率
を持ち、該帯電部材と静電潜像担持体間距離が円周上の
どの位置でも略等しいことを特徴とする帯電装置。 - 【請求項4】請求項1乃至3のいずれか一つに記載の帯
電装置において、前記帯電部材の静電潜像担持体に対向
する表面に表面保護層を有し、かつ該表面保護層の抵抗
率が、体積抵抗率、表面抵抗率共に帯電部材よりも大き
いことを特徴とする帯電装置。 - 【請求項5】請求項1乃至4のいずれか一つに記載の帯
電装置において、前記帯電部材の長手方向の長さが、静
電潜像担持体の画像形成領域の長さよりも長いことを特
徴とする帯電装置。 - 【請求項6】請求項5記載の帯電装置において、前記帯
電部材の静電潜像担持体に対向する面の各辺のエッジ
が、丸め処理されているか、もしくは、高抵抗部材で覆
われていることを特徴とする帯電装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29839795A JP3535635B2 (ja) | 1995-11-16 | 1995-11-16 | 帯電装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29839795A JP3535635B2 (ja) | 1995-11-16 | 1995-11-16 | 帯電装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09138543A JPH09138543A (ja) | 1997-05-27 |
JP3535635B2 true JP3535635B2 (ja) | 2004-06-07 |
Family
ID=17859179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29839795A Expired - Lifetime JP3535635B2 (ja) | 1995-11-16 | 1995-11-16 | 帯電装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3535635B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6570898B2 (en) * | 1999-09-29 | 2003-05-27 | Xerox Corporation | Structure and method for index-guided buried heterostructure AlGalnN laser diodes |
JP2002351195A (ja) | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Ricoh Co Ltd | 帯電装置及びそれを用いたプロセスカートリッジ |
-
1995
- 1995-11-16 JP JP29839795A patent/JP3535635B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09138543A (ja) | 1997-05-27 |
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