JP3530013B2 - グラビア彫刻装置およびグラビア彫刻装置におけるセルのサイズの計測方法 - Google Patents

グラビア彫刻装置およびグラビア彫刻装置におけるセルのサイズの計測方法

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JP3530013B2 JP10023898A JP10023898A JP3530013B2 JP 3530013 B2 JP3530013 B2 JP 3530013B2 JP 10023898 A JP10023898 A JP 10023898A JP 10023898 A JP10023898 A JP 10023898A JP 3530013 B2 JP3530013 B2 JP 3530013B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はグラビア彫刻装置
およびグラビア彫刻装置におけるセルのサイズの計測方
法に関し、特に、グラビアシリンダにおける試し彫り領
域内に彫刻されたセルの画像を撮像して得た画像データ
からこのセルのサイズを計測するセルのサイズの計測機
能を備えたグラビア彫刻装置およびグラビア彫刻装置に
おけるセルのサイズの計測方法に関する。
【0002】
【従来の技術】グラビア彫刻装置は、表面に銅メッキが
施された円筒状のグラビアシリンダを回転させながら、
このグラビアシリンダの表面にセルと呼ばれる微少な凹
部を形成することにより、グラビア印刷に使用する凹版
を制作する装置である。そして、セルの深さと幅(面
積)とによって、当該セルに充填されるインキの量が制
御され、印刷濃度が表現されるようになっている。
【0003】グラビアシリンダの表面にセルを形成する
ためには、彫刻ヘッドが使用される。この彫刻ヘッド
は、その一端が固定部に固定された軸体と、軸体の他端
に支持されその先端にダイヤモンドの針(バイト)を有
するスタイラスと、軸体の中間部に支持されその周囲に
コイルが巻回されたロータと、ロータに対して磁界を与
えるステータとを有し、ロータのコイルに対して彫刻信
号を印加して交番磁界を発生させることにより、ロータ
をスタイラスとともに数KHzの周波数で振動させるよ
うに構成されている。
【0004】図12(c)は、彫刻ヘッドに印加される
彫刻信号の波形を示したものであり、スタイラスの変位
波形に相当している。この波形信号は、図12(a)に
示す高周波のキャリー信号に、図12(b)に示す濃度
信号波形を重畳することにより得られる。このような彫
刻信号を彫刻ヘッドのコイルに印加することにより、図
5(d)に示すように、濃度信号に対応する深さおよび
幅のセルをグラビアシリンダの表面に彫刻することがで
きる。なお、図12(c)における一点鎖線Sがグラビ
アシリンダの表面に相当している。
【0005】このようなグラビア彫刻装置においては、
セルの深さと幅とによって印刷濃度を表現するようにし
ているので、セルの深さ等と印刷すべき濃度とは一対一
対応の関係にする必要がある。また、印刷すべき画像の
線数にかかわらず、グラビアシリンダの軸方向に隣り合
うセル間には、土手と呼称される彫刻されない部分を形
成する必要がある。このため、濃度とセルの深さ等との
対応関係をセルの形状や線数によって変更する必要が生
ずる。従って、彫刻すべき線数やセル形状が変更される
度に、スタイラスの変位調整が必要となる。
【0006】また、個々の彫刻ヘッドは、同じ彫刻信号
を印加しても、厳密には同じスタイラス変位とはならな
いので、彫刻ヘッドが換わる度に変位調整をする必要が
生ずる。さらには、グラビアシリンダが交換されると、
その表面の銅メッキの硬度によってセルの深さ等が変化
するため、この場合においても変位調整が必要となる。
【0007】このため、特開平6−191001号公報
においては、グラビアシリンダにおける試し彫り領域内
に彫刻されたセルの画像をCCDカメラ等により撮像
し、この撮像して得た画像データからこのセルのサイズ
を計測するとともに、このセルのサイズの計測結果から
彫刻信号を調整するようにしたグラビア彫刻装置が提案
されている。このようなグラビア彫刻装置によれば、ス
タイラスの変位調整を容易に実行することが可能とな
り、セルの深さ等を所望の値に維持することが可能とな
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】グラビアシリンダとし
てその表面が鏡面状に羽布研磨されたシリンダを使用し
た場合においては、CCDカメラによりグラビアシリン
ダを撮像して得た画像データから、彫刻後のセルとグラ
ビアシリンダの表面との境界を容易に識別することがで
きる。
【0009】しかしながら、近年においては、グラビア
シリンダの制作コスト低減のため、グラビアシリンダに
対する羽布研磨を省略する場合がある。このような場合
においては、グラビアシリンダの表面には微細な傷が残
存することとなる。
【0010】このような微細な傷を有するグラビアシリ
ンダの表面をCCDカメラ等により撮像した場合におい
ては、この微細な傷により、彫刻後のセルとグラビアシ
リンダの表面との境界を正確に識別することが困難とな
り、セルのサイズを正確に測定することが不可能になる
という問題が生ずる。
【0011】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、セルのサイズを正確に測定することが
できるグラビア彫刻装置およびグラビア彫刻装置におけ
るセルのサイズの計測方法を提供することを目的とす
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、グラビアシリンダにおける試し彫り領域内に彫刻さ
れたセルの画像を撮像して得た画像データからこのセル
のサイズを計測する計測機能を備えたグラビア彫刻装置
であって、前記グラビアシリンダにおける前記試し彫り
領域を撮像可能な撮像手段と、前記撮像手段により撮像
した彫刻前の試し彫り領域の画像データを記憶する記憶
手段と、前記撮像手段により撮像した彫刻後の試し彫り
領域の画像データを、前記記憶手段に記憶された彫刻前
の試し彫り領域の画像データを用いて補正するデータ補
正手段と、前記データ補正手段により補正された画像デ
ータに基づいてセルのサイズを計測する計測手段とを備
えたことを特徴とする。
【0013】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記彫刻前の試し彫り領域の画像デー
タと前記彫刻後の試し彫り領域の画像データとの位置ず
れ量を演算して補正する位置ずれ量補正手段をさらに備
え、前記データ補正手段は、前記位置ずれ量補正手段に
より前記彫刻前の試し彫り領域の画像データと前記彫刻
後の試し彫り領域の画像データとの位置ずれが補正され
た後に、前記彫刻後の試し彫り領域の画像データを前記
記憶手段に記憶された彫刻前の試し彫り領域の画像デー
タを用いて補正している。
【0014】請求項3に記載の発明は、請求項1または
請求項2いずれかに記載の発明において、前記データ補
正手段は、前記彫刻後の試し彫り領域の画像データにお
ける各画素の画素値を、前記記憶手段に記憶された彫刻
前の試し彫り領域の画像データにおける各画素の画素値
により除算処理している。
【0015】請求項4に記載の発明は、グラビアシリン
ダにおける試し彫り領域内に彫刻されたセルの画像を撮
像して得た画像データからこのセルのサイズを計測する
計測機能を備えたグラビア彫刻装置におけるセルのサイ
ズの計測方法であって、前記グラビアシリンダにおける
前記試し彫り領域を撮像手段により撮像して、彫刻前の
試し彫り領域の画像データを得る第1撮像工程と、前記
グラビアシリンダにおける前記試し彫り領域にセルを彫
刻する試し彫り工程と、前記グラビアシリンダにおける
前記試し彫り領域を撮像手段により撮像して、彫刻後の
試し彫り領域の画像データを得る第2撮像工程と、前記
第2撮像工程で得た彫刻後の試し彫り領域の画像データ
を、前記第1撮像工程で得た彫刻前の試し彫り領域の画
像データを用いて補正するデータ補正工程と、前記デー
タ補正工程において補正された画像データに基づいてセ
ルのサイズを計測する計測工程とを備えたことを特徴と
する。
【0016】請求項5に記載の発明は、請求項4に記載
の発明において、前記彫刻前の試し彫り領域の画像デー
タと前記彫刻後の試し彫り領域の画像データとの位置ず
れ量を演算して補正する位置ずれ量補正工程をさらに備
え、前記位置ずれ量補正工程により前記彫刻前の試し彫
り領域の画像データと前記彫刻後の試し彫り領域の画像
データとの位置ずれが補正された後に、前記第2撮像工
程で得た彫刻後の試し彫り領域の画像データを前記第1
撮像工程で得た彫刻前の試し彫り領域の画像データを用
いて補正している。
【0017】請求項6に記載の発明は、請求項4または
請求項5いずれかに記載の発明において、前記データ補
正工程において、前記第2の撮像工程で得た彫刻後の試
し彫り領域の画像データにおける各画素の画素値を、前
記第1の撮像工程で得た彫刻前の試し彫り領域の画像デ
ータにおける各画素の画素値により除算処理している。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1はこの発明に係るグラビア
彫刻装置の斜視図である。
【0019】このグラビア彫刻装置は、グラビアシリン
ダ1に対してセルを彫刻するためのものであり、ベッド
11と、ベッド11の上面に固定された主軸台12と、
主軸台12と対向して配置された芯押台13と、彫刻ヘ
ッド14を有するテーブル15とを備える。
【0020】主軸台12の主軸21は駆動モータ22と
連結しており、駆動モータ22の駆動により高速に回転
する。一方、芯押台13はベット11の上面をグラビア
シリンダ1の軸芯方向に移動可能に構成されており、ま
た、芯押台13のセンタ23は、図示しないエアシリン
ダの駆動により主軸台12の主軸21に対して接離可能
に構成されている。このため、図1において一部を切り
欠いて示すグラビアシリンダ1は、主軸21とセンタ2
3とにより支持されて高速に回転する。
【0021】彫刻ヘッド14を有するテーブル15は、
その下面に駆動モータ27と連結されたボールネジ28
と螺合するナット部29を備えており、駆動モータ27
の駆動により基台31の上面に配設された一対のガイド
レール32に沿って移動可能に構成されている。また、
基台31は、その下面にボールネジ24と螺合するネジ
部を備えており、駆動モータ25の駆動により、ベッド
11の上面に配設された一対のガイドレール26に沿っ
て、グラビアシリンダ1の軸芯方向に移動可能に構成さ
れている。このため、彫刻ヘッド14は、グラビアシリ
ンダ1対して接離可能で、かつ、グラビアシリンダ1の
表面に沿って移動可能な構成となっている。
【0022】テーブル15上には、CCDカメラ33
と、このCCDカメラ33に対して鏡筒34を介して接
続された対物レンズ35とを支持する支持台36が配設
されている。この支持台36は、エアシリンダ38の駆
動により、テーブル15に固定されたガイドレール37
に沿って往復移動する。このCCDカメラ33は、グラ
ビアシリンダ1の表面を撮像するためのものである。な
お、支持台36には、図3に示すストロボ光源39が配
設されている。このストロボ光源39からのストロボ光
は、ハーフミラーを利用した同軸落射光学系により、対
物レンズ35を介してグラビアシリンダ1の表面に照射
される。
【0023】また、テーブル15上には、CCDカメラ
33によるグラビアシリンダ1の表面の撮像時の焦点合
わせのため、グラビアシリンダ1の表面の位置を測定す
るための、投光部41と受光部42とを有するシリンダ
表面位置検出部43が配設されている。
【0024】テーブル15上に配設された彫刻ヘッド1
4は、図2に示すように、その一端がテーブル15にお
ける固定部51に固定された軸体52と、軸体52の他
端に支持されその先端にダイヤモンドの針(バイト)5
3を有するスタイラス54と、軸体52に支持されたロ
ータ55と、ロータ55の周囲に配設されロータ55に
対して磁界を与えるステータ56と、ステータ56に磁
力を付与するための永久磁石57とを有する。また、ロ
ータ55は軸体52に支持された多数の薄板を積層した
構成を有し、その左右端近傍には、図2において仮想線
で示すコイル58が巻回されている。
【0025】このような構成において、コイル58に交
番電流を印加した場合には、磁束の流れの発生によりロ
ータ55はスタイラス54とともにわずかな角度だけ回
動する。そして、このスタイラス54の回動を利用して
バイト53をグラビアシリンダ1の表面に当接させるこ
とにより、グラビアシリンダ1の表面にセルを形成する
ように構成されている。
【0026】図3は、上述したグラビア彫刻装置の主要
な電気的構成を示すブロック図である。
【0027】このグラビア彫刻装置は、装置の制御に必
要な動作プログラムが格納されたROM62と、制御時
にデータ等が一時的にストアされるRAM63と、論理
演算を実行するCPU61とからなる制御部60を備え
る。RAM63は、後程詳細に説明するように、CCD
カメラ33により撮像した彫刻前の試し彫り領域の画像
データを記憶する記憶手段として機能する。また、制御
部60は、後程詳細に説明するように、CCDカメラ3
3により撮像した彫刻後の試し彫り領域の画像データ
を、RAM63に記憶された彫刻前の試し彫り領域の画
像データを用いて補正するデータ補正手段として機能す
る。さらに、制御部60は、後程詳細に説明するよう
に、画像データに基づいてセルのサイズを計測する計測
手段としても機能する。
【0028】また、この制御部60は、インターフェー
ス44を介して、上述した彫刻ヘッド14およびストロ
ボ光源39と接続されている。さらに、この制御部60
は、インターフェース44を介して画像処理部45と接
続されており、この画像処理部45は、上述したCCD
カメラ33と接続されている。
【0029】次に、上述したグラビア彫刻装置における
セルのサイズの計測動作について説明する。図4はセル
のサイズの計測工程を示すフローチャートであり、図5
は位置ずれ量の補正工程を示すフローチャートである。
【0030】なお、以下に説明するセルのサイズの計測
方法においては、後述するデータ補正工程においてグラ
ビアシリンダ1の表面に形成された微細な傷の像を除去
することにより、セルのサイズを正確に測定することを
可能にしている。
【0031】この発明に係るセルのサイズの計測方法に
よりセルのサイズを測定する場合においては、最初に、
グラビアシリンダ1における試し彫り領域をCCDカメ
ラ33により撮像して、セルが彫刻される前の試し彫り
領域の画像データを得る(ステップS1)。
【0032】この場合においては、予め設定された試し
彫り領域48の位置に基づいて、モータ22、25の駆
動によりテーブル15を移動させ、彫刻ヘッド14をグ
ラビアシリンダ1の表面における試し彫り領域48と対
向可能な位置に配置させる。そして、モータ22の駆動
によりグラビアシリンダ1を回転させると共に、予め設
定された試し彫り領域48を照射可能なようにストロボ
光源39を間欠的に発光させ、グラビアシリンダ1の表
面からの反射光をCCDカメラ33により撮影する。
【0033】この画像データは、画像処理部45を介し
て制御部60に転送され、制御部60のRAM63に記
憶される。
【0034】図6は、このような試し彫り領域48を示
す説明図である。この試し彫り領域48は、1回の試し
彫りを実行するための複数の単位試し彫り領域49の集
合体として構成される。なお、この試し彫り領域48の
位置は、グラビアシリンダ1の表面における実際のグラ
ビア印刷に支障を来さない部分に予め設定されている。
そして、この試し彫り領域48の位置は、制御部60に
おけるRAM63に記憶されている。
【0035】図7は、CCDカメラ33により撮像した
グラビアシリンダ1における試し彫り領域48の画像B
を示す模式図である。この実施形態においては、グラビ
アシリンダ1として、羽布研磨を省略したものを使用し
ている。このため、CCDカメラ33により撮像した画
像Bには、グラビアシリンダ1の表面に形成された微細
な傷を表す線状の像が映し出されている。
【0036】次に、試し彫りを行う(ステップS2)。
試し彫りを行う場合には、モータ22、25の駆動によ
りテーブル15を移動させ、彫刻ヘッド14がグラビア
シリンダ1の表面における試し彫り領域48と対向可能
な位置に配置させる。そして、モータ22の駆動により
グラビアシリンダ1を回転させると共に、スタイラス5
4を彫刻信号に応じて回動させ、バイト53をグラビア
シリンダ1の表面に当接させることにより、グラビアシ
リンダ1の表面にセルを形成する。
【0037】続いて、グラビアシリンダ1における試し
彫り領域48をCCDカメラ33により撮像して、セル
が彫刻された後の試し彫り領域48の画像データを得る
(ステップS3)。
【0038】この場合においても、ステップS1と同
様、予め設定された試し彫り領域48の位置に基づい
て、モータ22、25の駆動によりテーブル15を移動
させ、彫刻ヘッド14がグラビアシリンダ1の表面にお
ける試し彫り領域48と対向可能な位置に配置させる。
そして、モータ22の駆動によりグラビアシリンダ1を
回転させると共に、予め設定された試し彫り領域48を
照射可能なようにストロボ光源39を間欠的に発光さ
せ、グラビアシリンダ1の表面からの反射光をCCDカ
メラ33により撮影する。
【0039】この画像データも、制御部60のRAM6
3に一旦記憶される。
【0040】図8は、CCDカメラ33により撮像した
グラビアシリンダ1における試し彫り領域48の画像R
を示す模式図である。この画像Rには、グラビアシリン
ダ1の彫刻されたセルの像とともに、グラビアシリンダ
1の表面に形成された微細な傷を表す線状の像が映し出
されている。
【0041】このように、グラビアシリンダ1の表面に
彫刻されたセルの像とグラビアシリンダ1の表面に形成
された微細な傷の像とが互いに重畳して撮影された場合
においては、彫刻後のセルとグラビアシリンダ1の表面
との境界を正確に識別することが困難となり、セルのサ
イズを正確に測定することが不可能になるという問題が
生ずる。このため、この発明に係るセルのサイズの計測
方法においては、後述する位置ずれ量補正工程およびデ
ータ補正工程において、グラビアシリンダ1の表面に形
成された微細な傷の像を除去するようにしている。
【0042】上述した画像データの取込が完了すれば、
彫刻前の試し彫り領域48の画像データと彫刻後の試し
彫り領域48の画像データとの位置ずれ量を演算して補
正する位置ずれ量補正を行う(ステップS4)。
【0043】CCDカメラ33によりグラビアシリンダ
1表面における試し彫り領域48を撮像する場合におい
ては、グラビアシリンダ1を回転させながら、予め設定
された試し彫り領域48の位置を照射可能なようにスト
ロボ光源39を間欠的に発光させることにより、グラビ
アシリンダ1の表面からの反射光をCCDカメラ33に
より撮影している。このため、制御部60からストロボ
光源39に発光指令が出されてから実際にストロボ光源
39が発光するまでのわずかな時間差の変動により、C
CDカメラ33による撮像位置がグラビアシリンダ1の
回転方向(主走査方向)にわずかにずれる場合がある。
【0044】また、上述したステップS2とステップS
3とは、必要に応じ複数回繰り返される。このため、テ
ーブル15は、彫刻ヘッド14が試し彫り領域48と対
向可能な位置と対物レンズ35が試し彫り領域48と対
向可能な位置とを繰り返し往復移動することになる。こ
のため、CCDカメラ33による撮像位置がグラビアシ
リンダ1の軸方向(副走査方向)にわずかにずれる場合
がある。
【0045】このような位置ずれに対応するため、彫刻
前の試し彫り領域48の画像データと彫刻後の試し彫り
領域48の画像データとの位置ずれ量を演算して補正す
る位置ずれ量の補正を実行している。
【0046】以下、この位置ずれ量の補正工程について
説明する。図5は、位置ずれ量の補正工程を示すフロー
チャートである。
【0047】彫刻前の試し彫り領域48の画像データと
彫刻後の試し彫り領域48の画像データとの位置ずれ量
を演算して補正するためには、先ず、彫刻前の試し彫り
領域48の画像データと彫刻後の試し彫り領域48の画
像データとを比較するための比較用画像データを取り込
む(ステップS41)。
【0048】この比較用画像データは、図8に代表して
示すように、試し彫り領域48におけるCCDカメラ3
3により撮像した領域のうち、セルが彫刻されない領域
Cの画像データである。この比較用画像データは、彫刻
前の試し彫り領域48の画像データと彫刻後の試し彫り
領域48の画像データとから、各々取り込まれる。な
お、このセルが彫刻されない領域Cは、彫刻を行うべき
基準位置とセルフォーメーションとから、制御部60に
より決定される。
【0049】次に、CCDカメラ33における単位画素
当たりの誤差量を演算する(ステップS42)。すなわ
ち、図11に示すように、図8に示す彫刻後の試し彫り
領域48を撮像した領域のうちセルが彫刻されない領域
Cの画像データである彫刻後の比較画像領域Crの画像
データと、彫刻前の試し彫り領域48を撮像した領域の
うちセルが彫刻されない領域の画像データである彫刻前
の比較画像領域Cbの画像データとを、X方向およびY
方向に各々ずらせた状態で、1画素ずつ順次X、Y方向
に移動させる。そして、図11において斜線で示す比較
画像領域Crと比較画像領域Cbとの重なり領域におい
て、各画素における画素値の差の絶対値を加算し、か
つ、重なり部分の総画素数で除算した値、すなわち、単
位画素当たりの誤差量aを各々の位置において演算す
る。この演算は、例えば、各比較画像領域を、互いにそ
のX、Y方向のサイズに相当する距離だけずらせた範囲
において実行する。
【0050】この単位画素当たりの誤差量aは、比較画
像領域Crと比較画像領域Cbとの位置が互いに一致し
たとき、最小となるはずである。このため、単位画素当
たりの誤差量aが最小となるときの、比較画像領域Cr
と比較画像領域CbとのX方向およびY方向のずれ量L
x、Lyを、比較画像領域Crと比較画像領域Cbとの
位置ずれ量、すなわち、彫刻前の試し彫り領域48の画
像データと彫刻後の試し彫り領域48の画像データとの
位置ずれ量と判断する(ステップS43)。
【0051】そして、彫刻前の試し彫り領域48の画像
データを彫刻後の試し彫り領域48の画像データに対し
て、X方向およびY方向のずれ量Lx、Lyだけ移動さ
せることにより、画像データの位置を補正する(ステッ
プS44)。
【0052】再度図4を参照して、上述した位置ずれ量
の補正工程が終了すれば、グラビアシリンダ1の表面に
形成された微細な傷の像を除去するためのデータ補正工
程を実行する(ステップS5)。
【0053】このデータ補正工程においては、彫刻後の
試し彫り領域48の画像データにおける各画素の画素値
Drを、彫刻前の試し彫り領域48の画像データにおけ
る対応する各画素の画素値Dbで各々除算し、その値に
最大の輝度値Mを乗算した値を補正後の画素値とする。
すなわち、補正後の画像データにおける各画素値Kは、
[M・Dr/Db]で表される値となる。なお、CCD
カメラ33により撮像された画像データが例えば256
階調のものであれば、Mとしてその最大値である255
を入力すればよい。
【0054】図10は、上述した位置ずれ量補正および
データ補正後の試し彫り領域48の画像R2を示す模式
図である。この画像R2には、図7に示すようなグラビ
アシリンダ1の表面に形成された微細な傷を表す線状の
像は映し出されてはいない。このため、彫刻後のセルと
グラビアシリンダ1の表面との境界を正確に識別するこ
とができる。なお、図10においては、彫刻されたセル
の画像中にグラビアシリンダ1の表面に形成された一部
の傷を表す線状の像が反転して映し出されているが、こ
れが彫刻後のセルとグラビアシリンダ1の表面との境界
を識別する際の障害となることはない。
【0055】図9は、上述した位置ずれ量補正を行わ
ず、データ補正のみを行った後の試し彫り領域48の画
像R1を示す模式図である。この画像R1には、グラビ
アシリンダ1の表面に形成された微細な傷を表す線状の
像が若干残存している。しかしながら、この場合におい
ても、図7に示す画像Rに比べて線状の像を大幅に減少
させることが可能となっており、彫刻後のセルとグラビ
アシリンダ1の表面との境界をより正確に識別すること
が可能となっている。従って、上述した位置ずれ補正工
程は、これを省略することも可能である。
【0056】再度図4を参照して、上述したデータ補正
工程が完了すれば、補正後の画像データに基づいてセル
のサイズを測定する(ステップS6)。この計測工程に
おいては、制御部60のCPU61が上述した補正後の
画像データにおけるセルとグラビアシリンダ1の表面と
の境界位置に基づいてセルのサイズを判断する。このと
き、上記のように彫刻後のセルとグラビアシリンダ1の
表面との境界を正確に識別することができることから、
セルのサイズを正確に測定することが可能となる。
【0057】以上により、グラビア彫刻装置におけるセ
ルのサイズの計測動作が終了する。そして、上記の工程
で計測されたセルサイズのデータに基づいて彫刻信号を
調整することにより、スタイラスの変位調整を容易に実
行することが可能となり、セルの深さ等を所望の値に維
持することが可能となる。
【0058】
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、撮像手
段により撮像した彫刻後の試し彫り領域の画像データを
記憶手段に記憶された彫刻前の試し彫り領域の画像デー
タを用いて補正するデータ補正手段と、データ補正手段
により補正された画像データに基づいてセルのサイズを
計測する計測手段とを備えたことから、グラビアシリン
ダの表面状態にかかわらず彫刻後のセルとグラビアシリ
ンダの表面との境界を正確に識別することができ、セル
のサイズを正確に測定することが可能となる。
【0059】請求項2に記載の発明によれば、彫刻前の
試し彫り領域の画像データと彫刻後の試し彫り領域の画
像データとの位置ずれ量を演算して補正する位置ずれ量
補正手段をさらに備えることから、彫刻前の試し彫り領
域の画像データと彫刻後の試し彫り領域の画像データと
に位置ずれが生じた場合においても、これを補正するこ
とにより、彫刻後のセルとグラビアシリンダの表面との
境界を正確に識別することが可能となり、セルのサイズ
を正確に測定することが可能となる。
【0060】請求項3に記載の発明によれば、データ補
正手段は彫刻後の試し彫り領域の画像データにおける各
画素の画素値を記憶手段に記憶された彫刻前の試し彫り
領域の画像データにおける各画素の画素値により除算処
理することから、各画素値の変化の値が大きい場合にお
いても正確にデータの補正を実行することが可能とな
る。
【0061】請求項4に記載の発明によれば、第2撮像
工程で得た彫刻後の試し彫り領域の画像データを第1撮
像工程で得た彫刻前の試し彫り領域の画像データを用い
て補正するデータ補正工程と、データ補正工程において
補正された画像データに基づいてセルのサイズを計測す
る計測工程とを備えたことから、グラビアシリンダの表
面状態にかかわらず彫刻後のセルとグラビアシリンダの
表面との境界を正確に識別することができ、セルのサイ
ズを正確に測定することが可能となる。
【0062】請求項5に記載の発明によれば、彫刻前の
試し彫り領域の画像データと彫刻後の試し彫り領域の画
像データとの位置ずれ量を演算して補正する位置ずれ量
補正工程をさらに備えることから、彫刻前の試し彫り領
域の画像データと彫刻後の試し彫り領域の画像データと
に位置ずれが生じた場合においても、これを補正するこ
とにより、彫刻後のセルとグラビアシリンダの表面との
境界を正確に識別することが可能となり、セルのサイズ
を正確に測定することが可能となる。
【0063】請求項6に記載の発明によれば、データ補
正工程において第2の撮像工程で得た彫刻後の試し彫り
領域の画像データにおける各画素の画素値を第1の撮像
工程で得た彫刻前の試し彫り領域の画像データにおける
各画素の画素値により除算処理することから、各画素値
の変化の値が大きい場合においても正確にデータの補正
を実行することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係るグラビア彫刻装置の斜視図であ
る。
【図2】彫刻ヘッド14の要部を示す斜視図である。
【図3】グラビア彫刻装置の主要な電気的構成を示すブ
ロック図である。
【図4】セルのサイズの計測工程を示すフローチャート
である。
【図5】位置ずれ量の補正工程を示すフローチャートで
ある。
【図6】試し彫り領域48を示す説明図である。
【図7】彫刻前の試し彫り領域48の画像Bを示す模式
図である。
【図8】彫刻後の試し彫り領域48の画像Rを示す模式
図である。
【図9】データ補正後の試し彫り領域48の画像R1を
示す模式図である。
【図10】位置ずれ量補正およびデータ補正後の試し彫
り領域48の画像R2を示す模式図である。
【図11】比較画像領域Cr、Cbを示す説明図であ
る。
【図12】彫刻信号およびセルの形状を示す説明図であ
る。
【符号の説明】
1 グラビアシリンダ 14 彫刻ヘッド 15 テーブル 33 CCDカメラ 39 ストロボ光源 45 画像処理部 48 試し彫り領域 60 制御部 61 CPU 62 ROM 63 RAM C セルが彫刻されない領域 B 彫刻前の試し彫り領域48の画像データ R 彫刻後の試し彫り領域48の画像データ R1 データ補正後の試し彫り領域48の画像データ R2 位置ずれ量補正およびデータ補正後の試し彫り
領域48の画像データ

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 グラビアシリンダにおける試し彫り領域
    内に彫刻されたセルの画像を撮像して得た画像データか
    らこのセルのサイズを計測する計測機能を備えたグラビ
    ア彫刻装置であって、 前記グラビアシリンダにおける前記試し彫り領域を撮像
    可能な撮像手段と、 前記撮像手段により撮像した彫刻前の試し彫り領域の画
    像データを記憶する記憶手段と、 前記撮像手段により撮像した彫刻後の試し彫り領域の画
    像データを、前記記憶手段に記憶された彫刻前の試し彫
    り領域の画像データを用いて補正するデータ補正手段
    と、 前記データ補正手段により補正された画像データに基づ
    いてセルのサイズを計測する計測手段と、 を備えたことを特徴とするグラビア彫刻装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のグラビア彫刻装置にお
    いて、 前記彫刻前の試し彫り領域の画像データと前記彫刻後の
    試し彫り領域の画像データとの位置ずれ量を演算して補
    正する位置ずれ量補正手段をさらに備え、 前記データ補正手段は、前記位置ずれ量補正手段により
    前記彫刻前の試し彫り領域の画像データと前記彫刻後の
    試し彫り領域の画像データとの位置ずれが補正された後
    に、前記彫刻後の試し彫り領域の画像データを前記記憶
    手段に記憶された彫刻前の試し彫り領域の画像データを
    用いて補正するグラビア彫刻装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2いずれかに記載
    のグラビア彫刻装置において、 前記データ補正手段は、前記彫刻後の試し彫り領域の画
    像データにおける各画素の画素値を、前記記憶手段に記
    憶された彫刻前の試し彫り領域の画像データにおける各
    画素の画素値により除算処理するグラビア彫刻装置。
  4. 【請求項4】 グラビアシリンダにおける試し彫り領域
    内に彫刻されたセルの画像を撮像して得た画像データか
    らこのセルのサイズを計測する計測機能を備えたグラビ
    ア彫刻装置におけるセルのサイズの計測方法であって、 前記グラビアシリンダにおける前記試し彫り領域を撮像
    手段により撮像して、彫刻前の試し彫り領域の画像デー
    タを得る第1撮像工程と、 前記グラビアシリンダにおける前記試し彫り領域にセル
    を彫刻する試し彫り工程と、 前記グラビアシリンダにおける前記試し彫り領域を撮像
    手段により撮像して、彫刻後の試し彫り領域の画像デー
    タを得る第2撮像工程と、 前記第2撮像工程で得た彫刻後の試し彫り領域の画像デ
    ータを、前記第1撮像工程で得た彫刻前の試し彫り領域
    の画像データを用いて補正するデータ補正工程と、 前記データ補正工程において補正された画像データに基
    づいてセルのサイズを計測する計測工程と、 を備えたことを特徴とするグラビア彫刻装置におけるセ
    ルのサイズの計測方法。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載のグラビア彫刻装置にお
    けるセルのサイズの計測方法において、 前記彫刻前の試し彫り領域の画像データと前記彫刻後の
    試し彫り領域の画像データとの位置ずれ量を演算して補
    正する位置ずれ量補正工程をさらに備え、 前記位置ずれ量補正工程により前記彫刻前の試し彫り領
    域の画像データと前記彫刻後の試し彫り領域の画像デー
    タとの位置ずれが補正された後に、前記第2撮像工程で
    得た彫刻後の試し彫り領域の画像データを前記第1撮像
    工程で得た彫刻前の試し彫り領域の画像データを用いて
    補正するグラビア彫刻装置におけるセルのサイズの計測
    方法。
  6. 【請求項6】 請求項4または請求項5いずれかに記載
    のグラビア彫刻装置におけるセルのサイズの計測方法に
    おいて、 前記データ補正工程において、前記第2の撮像工程で得
    た彫刻後の試し彫り領域の画像データにおける各画素の
    画素値を、前記第1の撮像工程で得た彫刻前の試し彫り
    領域の画像データにおける各画素の画素値により除算処
    理するグラビア彫刻装置におけるセルのサイズの計測方
    法。
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