JP3525495B2 - 高純度水の製造方法 - Google Patents
高純度水の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高純度水の製造方法に係
り、特に、半導体洗浄用水である超純水或いは医薬用水
といった、特に高純度を要求される水を製造するに当
り、溶存酸素を効率良く除去して高水質処理水を得る方
法に関する。
り、特に、半導体洗浄用水である超純水或いは医薬用水
といった、特に高純度を要求される水を製造するに当
り、溶存酸素を効率良く除去して高水質処理水を得る方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体洗浄用水として用いられて
いる超純水は、図２に示すように前処理システム１、一
次純水システム２、二次純水システム３及びサブシステ
ム４から構成される超純水製造装置で原水（工業用水、
市水、井水等）を処理することにより製造されている。
図２において、各システムの役割は次の通りである。
いる超純水は、図２に示すように前処理システム１、一
次純水システム２、二次純水システム３及びサブシステ
ム４から構成される超純水製造装置で原水（工業用水、
市水、井水等）を処理することにより製造されている。
図２において、各システムの役割は次の通りである。
【０００３】即ち、凝集、加圧浮上（沈殿）、濾過装置
等よりなる前処理システム１では、原水中の懸濁物質や
コロイド物質の除去を行う。逆浸透膜分離装置及びイオ
ン交換純水装置（混床式又は４床５塔式）を備える一次
純水システム２では原水中のイオンや有機成分の除去を
行う。脱気装置（窒素脱気又は真空脱気）を備える二次
純水システムでは溶存酸素の除去を行う。なお、この二
次純水システムに流通する間に、原水中の不純分は殆ど
除去される。熱交換器、低圧紫外線酸化装置、ポリッシ
ャー（非再生式イオン交換樹脂装置）及び限外濾過膜分
離装置を備えるサブシステム４では、水の純度をより一
層高め超純水にするために、循環処理を行って高純度超
純水を製造する。
等よりなる前処理システム１では、原水中の懸濁物質や
コロイド物質の除去を行う。逆浸透膜分離装置及びイオ
ン交換純水装置（混床式又は４床５塔式）を備える一次
純水システム２では原水中のイオンや有機成分の除去を
行う。脱気装置（窒素脱気又は真空脱気）を備える二次
純水システムでは溶存酸素の除去を行う。なお、この二
次純水システムに流通する間に、原水中の不純分は殆ど
除去される。熱交換器、低圧紫外線酸化装置、ポリッシ
ャー（非再生式イオン交換樹脂装置）及び限外濾過膜分
離装置を備えるサブシステム４では、水の純度をより一
層高め超純水にするために、循環処理を行って高純度超
純水を製造する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来、このような超純
水製造装置によれば、溶存酸素濃度が５〜１０ｐｐｂの
超純水が得られる。得られた超純水は、半導体洗浄用水
等として実用上、何ら支障なく使用可能であるが、近
年、各種産業分野における機能向上、特性向上の要求が
高められ、超純水の水質についてもより一層の向上が望
まれている。
水製造装置によれば、溶存酸素濃度が５〜１０ｐｐｂの
超純水が得られる。得られた超純水は、半導体洗浄用水
等として実用上、何ら支障なく使用可能であるが、近
年、各種産業分野における機能向上、特性向上の要求が
高められ、超純水の水質についてもより一層の向上が望
まれている。
【０００５】本発明は上記従来の問題点を解決し、超純
水等の高純度水中の溶存酸素（ＤＯ）を効率的に除去し
て、より純度の高い高純度水を製造する方法を提供する
ことを目的とする。
水等の高純度水中の溶存酸素（ＤＯ）を効率的に除去し
て、より純度の高い高純度水を製造する方法を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の高純度水の製造
方法は、原水を処理して純水とし、この純水を低圧紫外
線酸化装置と該低圧紫外線酸化装置の流出水が流入され
るイオン交換装置とを備える高次処理システムで処理し
て高純度水を製造する方法において、該純水に有機物を
添加して該低圧紫外線酸化装置の流入水のＴＯＣ濃度を
２〜１０ｐｐｂとすることを特徴とする。
方法は、原水を処理して純水とし、この純水を低圧紫外
線酸化装置と該低圧紫外線酸化装置の流出水が流入され
るイオン交換装置とを備える高次処理システムで処理し
て高純度水を製造する方法において、該純水に有機物を
添加して該低圧紫外線酸化装置の流入水のＴＯＣ濃度を
２〜１０ｐｐｂとすることを特徴とする。
【０００７】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。
する。
【０００８】図１は本発明の高純度水の製造方法の一実
施例方法を示す系統図である。
施例方法を示す系統図である。
【０００９】本実施例の高純度水の製造方法において
は、各種前処理工程より得られた純水（通常の場合、Ｔ
ＯＣ濃度２ｐｐｂ以下の純水）をサブタンク１１、ポン
プ１２、熱交換器１３、低圧紫外線酸化装置１４、イオ
ン交換装置（本実施例ではポリッシャー）１５及び限外
濾過膜分離装置１６に、配管２１，２２，２３，２４，
２５，２６を経て順次通水処理し、限外濾過膜分離装置
１６の流出水の一部をサブタンク１１に配管２７を経て
返送して循環処理し、残部を処理水（高純度水）として
配管２８より系外へ排出するシステムにおいて、熱交換
器１３の導入配管２３に、ポンプ１７を備える配管２９
より有機物を注入することにより、低圧紫外線酸化装置
１４の流入水のＴＯＣ濃度を２〜１０ｐｐｂに高める。
は、各種前処理工程より得られた純水（通常の場合、Ｔ
ＯＣ濃度２ｐｐｂ以下の純水）をサブタンク１１、ポン
プ１２、熱交換器１３、低圧紫外線酸化装置１４、イオ
ン交換装置（本実施例ではポリッシャー）１５及び限外
濾過膜分離装置１６に、配管２１，２２，２３，２４，
２５，２６を経て順次通水処理し、限外濾過膜分離装置
１６の流出水の一部をサブタンク１１に配管２７を経て
返送して循環処理し、残部を処理水（高純度水）として
配管２８より系外へ排出するシステムにおいて、熱交換
器１３の導入配管２３に、ポンプ１７を備える配管２９
より有機物を注入することにより、低圧紫外線酸化装置
１４の流入水のＴＯＣ濃度を２〜１０ｐｐｂに高める。
【００１０】ここで注入する有機物としては、メタノー
ル、イソプロピルアルコール等のアルコール、酢酸等の
有機酸等の易分解性有機物が挙げられる。注入された有
機物は低圧紫外線酸化装置１４で除去されるが、何らか
の理由で低圧紫外線酸化装置１４で除去されなかった場
合を考慮すると、後段のイオン交換装置１５で除去可能
な酢酸（ＣＨ3 ＣＯＯＨ）等の有機酸を用いるのが好ま
しい。
ル、イソプロピルアルコール等のアルコール、酢酸等の
有機酸等の易分解性有機物が挙げられる。注入された有
機物は低圧紫外線酸化装置１４で除去されるが、何らか
の理由で低圧紫外線酸化装置１４で除去されなかった場
合を考慮すると、後段のイオン交換装置１５で除去可能
な酢酸（ＣＨ3 ＣＯＯＨ）等の有機酸を用いるのが好ま
しい。
【００１１】この有機物の注入は、熱交換器１３の入口
側に限らず、熱交換器１３の出口側の配管２４に行って
も良いが、熱交換器１３の入口側の配管２３に注入した
場合には、注入された有機物が熱交換器１３を通過する
間に均一に水中に混合されるため、より良好な注入効果
が得られる。有機物はポンプ１２の入口側の配管２２に
注入することも可能である。
側に限らず、熱交換器１３の出口側の配管２４に行って
も良いが、熱交換器１３の入口側の配管２３に注入した
場合には、注入された有機物が熱交換器１３を通過する
間に均一に水中に混合されるため、より良好な注入効果
が得られる。有機物はポンプ１２の入口側の配管２２に
注入することも可能である。
【００１２】なお、本発明において、純水製造のための
前処理工程とは、図２に示す前処理システム１、一次純
水システム２及び二次純水システム３よりなる工程、或
いは、後述の実施例１で例示する工程などを挙げること
ができる。
前処理工程とは、図２に示す前処理システム１、一次純
水システム２及び二次純水システム３よりなる工程、或
いは、後述の実施例１で例示する工程などを挙げること
ができる。
【００１３】
【００１４】
【００１５】本発明において、低圧紫外線酸化装置の流
入水のＴＯＣ濃度が１０ｐｐｂを超えると低圧紫外線酸
化装置のＴＯＣ負荷が高くなるため、高水質処理水を得
るためには大型の低圧紫外線酸化装置が必要となるなど
の不具合が生じる。逆に、ＴＯＣ濃度が２ｐｐｂ未満で
は、ＴＯＣ濃度を高めることによる本発明による溶存酸
素低減効果は得られない。従って、低圧紫外線酸化装置
の流入水のＴＯＣ濃度は２〜１０ｐｐｂとする。特に、
このＴＯＣ濃度は、溶存酸素濃度や処理水の溶存酸素濃
度の目標値等によっても異なるが、５〜１０ｐｐｂとす
るのが好ましい。
入水のＴＯＣ濃度が１０ｐｐｂを超えると低圧紫外線酸
化装置のＴＯＣ負荷が高くなるため、高水質処理水を得
るためには大型の低圧紫外線酸化装置が必要となるなど
の不具合が生じる。逆に、ＴＯＣ濃度が２ｐｐｂ未満で
は、ＴＯＣ濃度を高めることによる本発明による溶存酸
素低減効果は得られない。従って、低圧紫外線酸化装置
の流入水のＴＯＣ濃度は２〜１０ｐｐｂとする。特に、
このＴＯＣ濃度は、溶存酸素濃度や処理水の溶存酸素濃
度の目標値等によっても異なるが、５〜１０ｐｐｂとす
るのが好ましい。
【００１６】
【作用】図２に示す超純水製造装置において、水中の溶
存酸素は基本的には二次純水システムの脱気装置で除去
されるのであるが、各ユニットでの溶存酸素濃度の推移
を調査した結果、近年、超純水製造システムの技術開発
が進み、サブシステムの低圧紫外線酸化装置でも溶存酸
素が低減されることが確認された。
存酸素は基本的には二次純水システムの脱気装置で除去
されるのであるが、各ユニットでの溶存酸素濃度の推移
を調査した結果、近年、超純水製造システムの技術開発
が進み、サブシステムの低圧紫外線酸化装置でも溶存酸
素が低減されることが確認された。
【００１７】この低圧紫外線酸化装置において、溶存酸
素を除去することができることは公知の事実であるが、
本発明者らは、図２に示されるような超純水製造装置に
おける溶存酸素濃度の推移を調べた結果、サブシステム
内の低圧紫外線酸化装置出口で一旦溶存酸素濃度は低下
するが、後段のポリッシャー出口で再度低圧紫外線酸化
装置入口の溶存酸素濃度まで上昇してしまい、結果的に
低圧紫外線酸化装置の溶存酸素除去効果が表れないこと
を確認した。即ち、二次純水システムの流出水の溶存酸
素濃度は約５〜１０ｐｐｂであり、この水が低圧紫外線
酸化装置で処理されることにより、溶存酸素濃度は０〜
５ｐｐｂに低減するが、ポリッシャー出口水の溶存酸素
濃度は再び５〜１０ｐｐｂ程度に上昇しており、結果と
して得られる超純水の溶存酸素濃度は５〜１０ｐｐｂと
なる。
素を除去することができることは公知の事実であるが、
本発明者らは、図２に示されるような超純水製造装置に
おける溶存酸素濃度の推移を調べた結果、サブシステム
内の低圧紫外線酸化装置出口で一旦溶存酸素濃度は低下
するが、後段のポリッシャー出口で再度低圧紫外線酸化
装置入口の溶存酸素濃度まで上昇してしまい、結果的に
低圧紫外線酸化装置の溶存酸素除去効果が表れないこと
を確認した。即ち、二次純水システムの流出水の溶存酸
素濃度は約５〜１０ｐｐｂであり、この水が低圧紫外線
酸化装置で処理されることにより、溶存酸素濃度は０〜
５ｐｐｂに低減するが、ポリッシャー出口水の溶存酸素
濃度は再び５〜１０ｐｐｂ程度に上昇しており、結果と
して得られる超純水の溶存酸素濃度は５〜１０ｐｐｂと
なる。
【００１８】本発明者らは、この現象について鋭意検討
した結果、下記（１）式のような反応が低圧紫外線酸化
装置からポリッシャーの間で生じていることを推定し
た。
した結果、下記（１）式のような反応が低圧紫外線酸化
装置からポリッシャーの間で生じていることを推定し
た。
【００１９】
【化１】
【００２０】即ち、低圧紫外線酸化装置入口では水（Ｈ
2 Ｏ）と溶存酸素（Ｏ2 ）が存在し、これらは紫外線の
照射によりＨ2 Ｏ2 （過酸化水素）となり、見掛け上溶
存酸素濃度が低下する。しかし、Ｈ2 Ｏ2 はポリッシャ
ー（特にポリッシャー内のアニオン交換樹脂）で分解さ
れ、再度Ｏ2 が発生するため、ポリッシャー出口水の溶
存酸素濃度は上昇する。
2 Ｏ）と溶存酸素（Ｏ2 ）が存在し、これらは紫外線の
照射によりＨ2 Ｏ2 （過酸化水素）となり、見掛け上溶
存酸素濃度が低下する。しかし、Ｈ2 Ｏ2 はポリッシャ
ー（特にポリッシャー内のアニオン交換樹脂）で分解さ
れ、再度Ｏ2 が発生するため、ポリッシャー出口水の溶
存酸素濃度は上昇する。
【００２１】ところで、仮りに、低圧紫外線酸化装置入
口にＯ2 以外にＴＯＣ源（有機成分）が存在するなら
ば、下記（２）式のような反応が生じ、結果として水中
のＯ2はＴＯＣ分解に伴うＣＯ2 生成に用いられ、生成
したＣＯ2 は後段のポリッシャーで効率的に除去される
ため、ポリッシャー出口水の溶存酸素濃度は低く抑えら
れるはずである。
口にＯ2 以外にＴＯＣ源（有機成分）が存在するなら
ば、下記（２）式のような反応が生じ、結果として水中
のＯ2はＴＯＣ分解に伴うＣＯ2 生成に用いられ、生成
したＣＯ2 は後段のポリッシャーで効率的に除去される
ため、ポリッシャー出口水の溶存酸素濃度は低く抑えら
れるはずである。
【００２２】
【化２】
【００２３】しかし、図２に示されるような超純水製造
装置のサブシステム内では、低圧紫外線酸化装置入口に
いたるまでに水中のＴＯＣ濃度は１ｐｐｂ以下になって
おり、上記（２）式の反応を促進するために必要なＴＯ
Ｃ源は既に二次純水システムまでで除去されている。そ
のため、実際には上記（２）式の反応ではなく、前記
（１）式の反応が生じ、結果的に、溶存酸素は除去され
ない。
装置のサブシステム内では、低圧紫外線酸化装置入口に
いたるまでに水中のＴＯＣ濃度は１ｐｐｂ以下になって
おり、上記（２）式の反応を促進するために必要なＴＯ
Ｃ源は既に二次純水システムまでで除去されている。そ
のため、実際には上記（２）式の反応ではなく、前記
（１）式の反応が生じ、結果的に、溶存酸素は除去され
ない。
【００２４】本発明者らは、以上のような推論をもとに
サブシステム内で更なる溶存酸素の除去を行うべく検討
を重ね、低圧紫外線酸化装置の入口側に有機物を注入し
て、低圧紫外線酸化装置流入水のＴＯＣ濃度を限られた
範囲内で高めることにより、上記（２）式の反応を生起
させ、これにより溶存酸素のより一層の低減を図る本発
明の方法を見出した。
サブシステム内で更なる溶存酸素の除去を行うべく検討
を重ね、低圧紫外線酸化装置の入口側に有機物を注入し
て、低圧紫外線酸化装置流入水のＴＯＣ濃度を限られた
範囲内で高めることにより、上記（２）式の反応を生起
させ、これにより溶存酸素のより一層の低減を図る本発
明の方法を見出した。
【００２５】本発明の方法によれば、低圧紫外線酸化装
置の流入水中に適当量の有機物が存在することにより、
上記（２）式に従って、低圧紫外線酸化装置において、
水中の溶存酸素はＣＯ2 となって除去される。しかし
て、このＣＯ2 は後段のイオン交換装置で効率的に除去
される。なお、ＴＯＣは溶存酸素と共に除去されるた
め、低圧紫外線酸化装置流入水中のＴＯＣ濃度を高める
ことにより、何ら水質の低下を生じることはない。この
ため、溶存酸素濃度がより一層低減され、著しく純度が
高められた高純度水を得ることができる。
置の流入水中に適当量の有機物が存在することにより、
上記（２）式に従って、低圧紫外線酸化装置において、
水中の溶存酸素はＣＯ2 となって除去される。しかし
て、このＣＯ2 は後段のイオン交換装置で効率的に除去
される。なお、ＴＯＣは溶存酸素と共に除去されるた
め、低圧紫外線酸化装置流入水中のＴＯＣ濃度を高める
ことにより、何ら水質の低下を生じることはない。この
ため、溶存酸素濃度がより一層低減され、著しく純度が
高められた高純度水を得ることができる。
【００２６】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
説明する。
【００２７】実施例１
原水（厚木市水：平成６年３月１０日〜平成６年４月１
８日）を第１の限外濾過膜分離装置、タンク、脱炭酸
塔、第１の逆浸透膜分離装置、第２の逆浸透膜分離装
置、第１のポリッシャー、タンク、窒素脱気装置の順で
通水処理して得られた純水を、図１に示す如く、サブタ
ンク、熱交換器、低圧紫外線酸化装置、第２のポリッシ
ャー及び第２の限外濾過膜分離装置に通水処理して高純
度水を製造した。
８日）を第１の限外濾過膜分離装置、タンク、脱炭酸
塔、第１の逆浸透膜分離装置、第２の逆浸透膜分離装
置、第１のポリッシャー、タンク、窒素脱気装置の順で
通水処理して得られた純水を、図１に示す如く、サブタ
ンク、熱交換器、低圧紫外線酸化装置、第２のポリッシ
ャー及び第２の限外濾過膜分離装置に通水処理して高純
度水を製造した。
【００２８】なお、原水は凝集剤を添加した後、第１の
限外濾過膜分離装置で生成フロックを分離した。
限外濾過膜分離装置で生成フロックを分離した。
【００２９】各装置の仕様及び処理条件は下記の通りで
ある。
ある。
【００３０】
低圧紫外線酸化装置：８０Ｗ×４本（０．３２ｋＷ）
（発生波長：１８５ｍｍ）
第１及び第２のポリッシャー：カチオン交換樹脂とアニ
オン交換樹脂とを混合充填した混床式イオン交換装置 ＳＶ＝７０〜８０ｈｒ-1 第１及び第２の限外濾過膜分離装置：ｋＵ−１０３０
（栗田工業株式会社製） 限外濾過膜分離装置流入量：１．１ｍ3 ／ｈｒ 処理水流出量：１．０ｍ3 ／ｈｒ また、有機物としてはＣＨ3 ＣＯＯＨを熱交換器の入口
側に１０ｐｐｂ（ＴＯＣ濃度）となるように連続注入し
た。
オン交換樹脂とを混合充填した混床式イオン交換装置 ＳＶ＝７０〜８０ｈｒ-1 第１及び第２の限外濾過膜分離装置：ｋＵ−１０３０
（栗田工業株式会社製） 限外濾過膜分離装置流入量：１．１ｍ3 ／ｈｒ 処理水流出量：１．０ｍ3 ／ｈｒ また、有機物としてはＣＨ3 ＣＯＯＨを熱交換器の入口
側に１０ｐｐｂ（ＴＯＣ濃度）となるように連続注入し
た。
【００３１】原水及びサブタンクに到るまでの各装置の
流出水の水質は表１に示す通りであった。
流出水の水質は表１に示す通りであった。
【００３２】
【表１】
【００３３】また、低圧紫外線酸化装置以降の各装置の
流入水又は流出水及び処理水の水質は表２に示す通りで
あった。
流入水又は流出水及び処理水の水質は表２に示す通りで
あった。
【００３４】実施例２，３
実施例１において、表１に示すＴＯＣ濃度となるように
有機物の注入を行ったこと以外は同様に処理したとこ
ろ、低圧紫外線酸化装置以降の各装置の流入水又は流出
水及び処理水の水質は表２に示す通りであった。
有機物の注入を行ったこと以外は同様に処理したとこ
ろ、低圧紫外線酸化装置以降の各装置の流入水又は流出
水及び処理水の水質は表２に示す通りであった。
【００３５】比較例１
有機物の注入を行わなかったこと以外は実施例１と同様
に処理したところ、低圧紫外線酸化装置以降の各装置の
流入水又は流出水及び処理水の水質は表２に示す通りで
あった。
に処理したところ、低圧紫外線酸化装置以降の各装置の
流入水又は流出水及び処理水の水質は表２に示す通りで
あった。
【００３６】
【表２】
【００３７】表２より次のことが明らかである。即ち、
低圧紫外線酸化装置流入水のＴＯＣ濃度が０．８ｐｐｂ
と低い比較例１では低圧紫外線酸化装置での処理により
一時的にＤＯが低減するが、その後、ポリッシャーでの
処理により、ＤＯは上昇してしまうため、結果としてＤ
Ｏ濃度の低い処理水を得ることができない。
低圧紫外線酸化装置流入水のＴＯＣ濃度が０．８ｐｐｂ
と低い比較例１では低圧紫外線酸化装置での処理により
一時的にＤＯが低減するが、その後、ポリッシャーでの
処理により、ＤＯは上昇してしまうため、結果としてＤ
Ｏ濃度の低い処理水を得ることができない。
【００３８】これに対して、有機物の注入を行って低圧
紫外線酸化装置流入水のＴＯＣ濃度を５〜１０ｐｐｂと
した実施例１〜３では、低圧紫外線酸化装置で低減され
たＤＯ濃度がポリッシャーで殆ど高められることなく、
低ＤＯ濃度の処理水を得ることができる。しかも、低圧
紫外線酸化装置流入水のＴＯＣ濃度を高めても、処理水
のＴＯＣ濃度には何ら影響はない。
紫外線酸化装置流入水のＴＯＣ濃度を５〜１０ｐｐｂと
した実施例１〜３では、低圧紫外線酸化装置で低減され
たＤＯ濃度がポリッシャーで殆ど高められることなく、
低ＤＯ濃度の処理水を得ることができる。しかも、低圧
紫外線酸化装置流入水のＴＯＣ濃度を高めても、処理水
のＴＯＣ濃度には何ら影響はない。
【００３９】
【００４０】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の高純度水の
製造方法によれば、原水を処理して純水とし、この純水
を低圧紫外線酸化装置と該低圧紫外線酸化装置の流出水
が流入されるイオン交換装置とを備える高次処理システ
ムで処理して高純度水を製造するに当り、低圧紫外線酸
化装置による溶存酸素低減機能を十分に活用して、極低
溶存酸素濃度で著しく純度の高い高純度水を得ることが
できる。
製造方法によれば、原水を処理して純水とし、この純水
を低圧紫外線酸化装置と該低圧紫外線酸化装置の流出水
が流入されるイオン交換装置とを備える高次処理システ
ムで処理して高純度水を製造するに当り、低圧紫外線酸
化装置による溶存酸素低減機能を十分に活用して、極低
溶存酸素濃度で著しく純度の高い高純度水を得ることが
できる。
【図１】本発明の高純度水の製造方法の一実施例方法を
示す系統図である。
示す系統図である。
【図２】従来の超純水製造装置を示す系統図である。
１ 前処理システム
２ 一次純水システム
３ 二次純水システム
４ サブシステム
１１ サブタンク
１２，１７ ポンプ
１３ 熱交換器
１４ 低圧紫外線酸化装置
１５ イオン交換装置（ポリッシャー）
１６ 限外濾過膜分離装置
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平５−138162（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−278882（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C02F 1/32
Claims (4)
- 【請求項１】 原水を処理して純水とし、この純水を低
圧紫外線酸化装置と該低圧紫外線酸化装置の流出水が流
入されるイオン交換装置とを備える高次処理システムで
処理して高純度水を製造する方法において、 該純水に有機物を添加して該低圧紫外線酸化装置の流入
水のＴＯＣ濃度を２〜１０ｐｐｂとすることを特徴とす
る高純度水の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１において、該有機物が有機酸で
あることを特徴とする高純度水の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、該低圧紫外線
酸化装置の流入水のＴＯＣ濃度を５〜１０ｐｐｂとする
ことを特徴とする高純度水の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１項におい
て、該純水の溶存酸素濃度が５〜１０ｐｐｂであること
を特徴とする高純度水の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14775194A JP3525495B2 (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | 高純度水の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14775194A JP3525495B2 (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | 高純度水の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0810758A JPH0810758A (ja) | 1996-01-16 |
| JP3525495B2 true JP3525495B2 (ja) | 2004-05-10 |
Family
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