JP3523098B2 - Addition-curable silicone composition - Google Patents

Addition-curable silicone composition

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JP3523098B2 JP37433898A JP37433898A JP3523098B2 JP 3523098 B2 JP3523098 B2 JP 3523098B2 JP 37433898 A JP37433898 A JP 37433898A JP 37433898 A JP37433898 A JP 37433898A JP 3523098 B2 JP3523098 B2 JP 3523098B2
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sio
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気絶縁特性に優
れ、しかも低弾性で高透明性のゴム状弾性体又はゲル硬
化物を形成し得る光デバイス又は半導体デバイスの保護
封止用付加硬化型シリコーン組成物及びその硬化物に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to protection of an optical device or a semiconductor device capable of forming a rubber-like elastic body or a gel-cured product having excellent elasticity and low elasticity and high transparency.
The present invention relates to an addition-curable silicone composition for sealing and a cured product thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、軟質のゴム状弾性体やゲル状物が
その低弾性によるバッファー効果(外装封止剤のストレ
ス吸収保護効果)を利用して電気的信頼性の向上を図る
ために半導体素子のコーティング剤や封止剤として使用
されている。近年、これらデバイスの一層の性能向上の
ために絶縁特性の向上が求められている。光デバイスで
はフィラー(無機質充填剤)がこのような材料に含まれ
ていると光透過率が低下するのでフィラーを添加しない
で絶縁特性を向上することが求められている。しかし、
前記の軟質のゴム状弾性体やゲル状物は絶縁破壊電圧が
低く、デバイスが高電圧で稼動する場合には保護材料と
して信頼性が不十分であった。その改良にはある程度の
フィラーの添加が行われてきた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a soft rubber-like elastic body or gel-like material has been used to improve electrical reliability by utilizing a buffer effect (stress absorption protection effect of an exterior sealant) due to its low elasticity. It is used as a coating and sealing agent for devices. In recent years, it has been required to improve the insulation characteristics in order to further improve the performance of these devices. In an optical device, when a filler (inorganic filler) is contained in such a material, the light transmittance is lowered, so that it is required to improve the insulating property without adding the filler. But,
The soft rubber-like elastic material or gel-like material has a low dielectric breakdown voltage and is insufficient in reliability as a protective material when the device operates at a high voltage. To that extent, some filler has been added.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、フィラー(無機質充填剤)を含有しないために透明
性に優れしかも絶縁特性にも優れた軟質ゴム状ないしは
ゲル状の硬化物が得られる光デバイス又は半導体デバイ
スの保護封止用付加硬化型シリコーン組成物を提供する
ことである。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to obtain a soft rubber-like or gel-like cured product which is excellent in transparency and insulating property because it does not contain a filler (inorganic filler). Optical device or semiconductor device
It is an object of the present invention to provide an addition-curable silicone composition for protective encapsulation of silicone.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ヒドロシ
リル化反応を利用する付加硬化型シリコーン組成物中に
レジン構造のオルガノポリシロキサンを導入して組成物
中のケイ素結合水素原子/ケイ素結合アルケニル基の
ル比を特定の範囲に設定することにより前記の目的を達
成しうることを見出した。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have introduced a resin-structured organopolysiloxane into an addition-curable silicone composition utilizing a hydrosilylation reaction to introduce a silicon-bonded hydrogen atom / silicon-bonded bond in the composition. It has been found that the above object can be achieved by setting the mole ratio of the alkenyl group in a specific range.

【0005】即ち、本発明は、 (A)一分子中にケイ素原子に結合するアルケニル基を
少なくとも2個含有するジオルガノポリシロキサン、 (B)SiO4/2単位、Vi(R22SiO1/2単位及び
2 3SiO1/2単位(式中、Viはビニル基を表し、R2
は脂肪族不飽和結合を含まない、非置換又は置換の一価
炭化水素基を表す。)からなるレジン構造のオルガノポ
リシロキサンを、(A)成分と(B)成分との合計量に
対し20〜60重量%、 (C)一分子中にケイ素原子に結合する水素原子を少な
くとも2個含有するオルガノハイドロジェンポリシロキ
サンを、組成物中の全オルガノハイドロジェンポリシロ
キサン中のケイ素原子に結合する水素原子が、(A)成
分中のケイ素原子に結合するアルケニル基と(B)成分
中のケイ素原子に結合するビニル基との合計1モル当た
り、0.1〜0.6モルとなる量、及び (D)白金族金属系触媒を含有してなり、ゴム硬度が 20
以下の硬化物を与える、光デバイス又は半導体デバイス
の保護封止用付加硬化型シリコーン組成物を提供するも
のである。
That is, the present invention provides (A) a diorganopolysiloxane containing at least two alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, (B) a SiO 4/2 unit, and Vi (R 2 ) 2 SiO. 1/2 unit and R 2 3 SiO 1/2 unit (in the formula, Vi represents a vinyl group, R 2
Represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond. 20 to 60% by weight based on the total amount of the components (A) and (B), and (C) at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms in the molecule. The hydrogen atom bonded to the silicon atom in all the organohydrogenpolysiloxane in the composition contains the alkenyl group bonded to the silicon atom in the component (A) and the organohydrogenpolysiloxane contained in the component (B). An amount of 0.1 to 0.6 mol, and (D) a platinum group metal-based catalyst are contained per 1 mol of the total of vinyl groups bonded to silicon atoms, and the rubber hardness is 20.
An optical device or semiconductor device that gives the following cured product
The present invention provides an addition-curable silicone composition for protective encapsulation .

【0006】この組成物を硬化させることにより得られ
る硬化物はJIS K6301に規定のA型スプリング
式硬さ計で測定したゴム硬度(以下、JIS−Aのゴム
硬度という)が20以下のものである。なお、本発明に
おいて、シリコーンゲルとは、JIS−Aのゴム硬度値
が0(即ち、有効なゴム硬度値を示さないほど低硬度)
でありASTM D-1403(1/4インチ)における針入度が20
0以下、通常5〜200、好ましくは10〜150程度
の、低架橋密度であり、加圧下(応力下)において流動
性を有するオルガノポリシロキサン硬化物を意味する。
The cured product obtained by curing this composition has a rubber hardness (hereinafter referred to as JIS-A rubber hardness) of 20 or less measured by an A-type spring hardness meter specified in JIS K6301. is there. In addition, in the present invention, the silicone gel means that the rubber hardness value of JIS-A is 0 (that is, the hardness is so low that it does not show an effective rubber hardness value).
And the penetration of ASTM D-1403 (1/4 inch) is 20
It means an organopolysiloxane cured product having a low crosslinking density of 0 or less, usually 5 to 200, preferably about 10 to 150, and having fluidity under pressure (under stress).

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 (A)アルケニル基含有ジオルガノポリシロキサン:
(A)成分のアルケニル基含有ジオルガノポリシロキサ
ンは、一分子中にケイ素原子に結合するアルケニル基を
少なくとも2個含有するもので、本発明組成物のベース
ポリマーとして使用される。このアルケニル基含有ジオ
ルガノポリシロキサンは、一般的には主鎖部分が基本的
にジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子
鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状
のものであるが、これは分子構造の一部に分岐状の構造
を含んでいてもよく、また全体が環状体であってもよ
い。中でも、硬化物の機械的強度等の物性の点から直鎖
状のジオルガノポリシロキサンが好ましい。該アルケニ
ル基は、分子鎖の両末端にのみ存在していても、分子鎖
の途中にのみ存在していても、或いは分子鎖の両末端及
び分子鎖の途中に存在していてもよい。このようなアル
ケニル基含有ジオルガノポリシロキサンの代表例として
は、例えば、下記一般式(1):
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below. (A) Alkenyl group-containing diorganopolysiloxane:
The alkenyl group-containing diorganopolysiloxane of component (A) contains at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule and is used as the base polymer of the composition of the present invention. The alkenyl group-containing diorganopolysiloxane is generally a straight-chain one in which the main chain is basically composed of repeating diorganosiloxane units, and both ends of the molecular chain are blocked with triorganosiloxy groups. However, this may include a branched structure in a part of the molecular structure, or may be a cyclic body as a whole. Of these, linear diorganopolysiloxanes are preferable from the viewpoint of physical properties such as mechanical strength of the cured product. The alkenyl group may be present only at both ends of the molecular chain, may be present only in the middle of the molecular chain, or may be present at both ends of the molecular chain and in the middle of the molecular chain. As a typical example of such an alkenyl group-containing diorganopolysiloxane, for example, the following general formula (1):

【0008】[0008]

【化2】 (式中、R1は独立に脂肪族不飽和結合を含まない非置
換又は置換の一価炭化水素基であり、Xはアルケニル基
であり、Yは独立にアルケニル基又はR1であり、nは
0又は1以上の整数であり、mは0又は1以上の整数で
あり、且つ一分子中にケイ素原子に結合するアルケニル
基を少なくとも2個含有する。)で表されるジオルガノ
ポリシロキサンが挙げられる。
[Chemical 2] (In the formula, R 1 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond, X is an alkenyl group, Y is independently an alkenyl group or R 1 , and n is Is an integer of 0 or 1 or more, m is an integer of 0 or 1 or more, and at least two alkenyl groups bonded to a silicon atom are contained in one molecule). Can be mentioned.

【0009】一般式(1)において、R1の脂肪族不飽
和結合を含まない非置換又は置換の一価炭化水素基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル
基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等
のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基等のシクロアルキル基;フェニル基、
トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基等
のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基、フェニ
ルプロピル基、メチルベンジル基等のアラルキル基;並
びにこれらの基の炭素原子に結合する水素原子の少なく
とも一部がフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、シア
ノ基等で置換された基、例えば、クロロメチル基、2−
ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−
トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基、フルオロ
フェニル基、シアノエチル基、3,3,4,4,5,
5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基等のハロゲン
置換アルキル基、シアノ置換アルキル基、ハロゲン置換
アリール基などが挙げられる。代表的なR1は炭素原子
数が1〜10、特に1〜6のものであり、好ましくは、
メチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、ブ
ロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、
シアノエチル基等の非置換又は置換の炭素原子数1〜3
のアルキル基;及びフェニル基、クロロフェニル基、フ
ルオロフェニル基等の非置換又は置換のフェニル基であ
る。
In the general formula (1), the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond represented by R 1 is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group or a butyl group. , Isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, and other alkyl groups; cyclopentyl group, cyclohexyl group,
A cycloalkyl group such as a cycloheptyl group; a phenyl group,
An aryl group such as a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group and a biphenylyl group; an aralkyl group such as a benzyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group and a methylbenzyl group; and at least one hydrogen atom bonded to a carbon atom of these groups. A group whose moiety is substituted with a halogen atom such as fluorine, chlorine or bromine, or a cyano group, for example, a chloromethyl group, 2-
Bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-
Trifluoropropyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, cyanoethyl group, 3,3,4,4,5
Examples thereof include halogen-substituted alkyl groups such as 5,6,6,6-nonafluorohexyl group, cyano-substituted alkyl groups, and halogen-substituted aryl groups. Typical R 1 has 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms, and preferably
Methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group,
1 to 3 unsubstituted or substituted carbon atoms such as cyanoethyl group
And an unsubstituted or substituted phenyl group such as a phenyl group, a chlorophenyl group and a fluorophenyl group.

【0010】一般式(1)において、Xのアルケニル基
としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル
基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シ
クロヘキセニル基等の通常炭素原子数2〜8程度のもの
が挙げられ、中でも、ビニル基、アリル基等の炭素原子
数2〜4の低級アルケニル基が好ましい。
In the general formula (1), the alkenyl group represented by X is usually 2 to 8 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group and cyclohexenyl group. The lower alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms such as vinyl group and allyl group is preferable.

【0011】一般式(1)において、Yはアルケニル基
又はR1であり、このアルケニル基の具体例としては、
前記Xで例示したものと同じものが挙げられ、またR1
は前記と同じ意味を有するが、分子鎖両末端のケイ素原
子に結合する置換基としての二つのYは同一でも異なっ
てもよいが、いずれもアルケニル基であることが好まし
い。
In the general formula (1), Y is an alkenyl group or R 1 , and specific examples of this alkenyl group are:
The same as those exemplified in the above X can be mentioned, and R 1
Have the same meanings as described above, but two Y's as substituents bonded to silicon atoms at both ends of the molecular chain may be the same or different, but are preferably alkenyl groups.

【0012】一般式(1)において、nは0又は1以上、
好ましくは10〜10,000の整数、より好ましくは50〜2,00
0の整数であり、mは0又は1以上、好ましくは0〜100の
整数である。また、n及びmは、10≦n+m≦10,000
で、かつ、0≦m/(m+n)≦0.2を満たすことが好まし
く、特に50≦n+m≦2,000で、かつ0≦m/(n+m)≦
0.05を満足することが好ましい。
In the general formula (1), n is 0 or 1 or more,
Preferably an integer from 10 to 10,000, more preferably 50 to 2,000
It is an integer of 0, and m is 0 or an integer of 1 or more, preferably an integer of 0 to 100. Also, n and m are 10 ≦ n + m ≦ 10,000
And preferably 0 ≦ m / (m + n) ≦ 0.2, particularly 50 ≦ n + m ≦ 2,000, and 0 ≦ m / (n + m) ≦
It is preferable to satisfy 0.05.

【0013】(A)成分のアルケニル基含有ジオルガノ
ポリシロキサンは、一種単独で又は2種以上組み合わせ
て使用することができるが、25℃における粘度が10〜1,
000,000 cP(センチポイズ)、特に100〜500,000 cP程
度のものが好ましい。 (B)レジン構造のオルガノポリシロキサン:(B)成
分のレジン構造(即ち、三次元網状構造)を有するオル
ガノポリシロキサンは、下記単位:SiO4/2単位(以
下、a単位と呼ぶことがある)、Vi(R22SiO
1/2単位(以下、b単位と呼ぶことがある)及び、R2 3
SiO1/2単位(以下、c単位と呼ぶことがある)、か
らなり、通常、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が1,00
0〜8,000、特に2,000〜4,000の範囲にあるものが好適で
ある。ここで、Viはビニル基、R2は、脂肪族不飽和
結合を含まない、非置換又は置換の一価炭化水素基を示
す。一価炭化水素基R2としては、前記一般式(1)に
おけるR1として例示したものと同じものを例示するこ
とができ、好ましくはメチル基、フェニル基、3,3,
3−トリフルオロプロピル基等である。
The alkenyl group-containing diorganopolysiloxane as the component (A) can be used alone or in combination of two or more, and has a viscosity at 25 ° C. of 10 to 1,
000,000 cP (centipoise), especially about 100 to 500,000 cP is preferable. (B) Organopolysiloxane having a resin structure: The organopolysiloxane having a resin structure (that is, a three-dimensional network structure) as the component (B) has the following units: SiO 4/2 units (hereinafter, may be referred to as a units). ), Vi (R 2 ) 2 SiO
1/2 unit (hereinafter sometimes referred to as b unit) and R 2 3
SiO 1/2 unit (hereinafter sometimes referred to as c unit), and usually has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 1,00 measured by gel permeation chromatography.
Those in the range of 0 to 8,000, particularly 2,000 to 4,000 are preferable. Here, Vi represents a vinyl group, and R 2 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond. As the monovalent hydrocarbon group R 2 , the same groups as those exemplified as R 1 in the general formula (1) can be exemplified, and preferably a methyl group, a phenyl group, 3,3,3.
3-trifluoropropyl group and the like.

【0014】上記の各単位は、(b単位+c単位)/a
単位=0.3〜3,特に0.7〜1.0、且つb単位/a単位=0.
01〜1,特に0.07〜0.2のモル比となる割合で組み合わさ
れていることが好ましい。このようなレジン構造のオル
ガノポリシロキサンは、周知の方法にしたがって各単位
源となる化合物を、上記モル比となる割合で組み合わ
せ、これを、例えば酸の存在下で共加水分解することに
よって容易に合成することができる。
Each of the above units is (b unit + c unit) / a
Unit = 0.3-3, especially 0.7-1.0, and b unit / a unit = 0.
It is preferable to combine them in a molar ratio of 01 to 1, especially 0.07 to 0.2. Such an organopolysiloxane having a resin structure can be easily prepared by combining the compounds serving as the respective unit sources in the above molar ratio according to a well-known method and cohydrolyzing them in the presence of an acid, for example. Can be synthesized.

【0015】ここでa単位源としては、ケイ酸ソーダ、
アルキルシリケート、ポリアルキルシリケート、四塩化
ケイ素等を例示することができる。またb単位源として
は、Vi(R22SiOSi(R22Vi、Vi
(R22SiCl等を例示することができる。またc単
位源としては、(R23SiOSi(R23、(R23
SiCl等を例示することができる。上記式中、Vi及
びR2は前記のとおりである。なお、レジン構造のオル
ガノポリシロキサン中のビニル基量は0.05〜0.2モル/
100gが好ましい。
Here, as a unit source, sodium silicate,
Examples thereof include alkyl silicate, polyalkyl silicate, silicon tetrachloride and the like. The b unit source is Vi (R 2 ) 2 SiOSi (R 2 ) 2 Vi, Vi.
(R 2) can be exemplified 2 SiCl and the like. The c unit source includes (R 2 ) 3 SiOSi (R 2 ) 3 and (R 2 ) 3
SiCl etc. can be illustrated. In the above formula, Vi and R 2 are as described above. The amount of vinyl groups in the resin-structured organopolysiloxane is 0.05 to 0.2 mol /
100 g is preferred.

【0016】(B)成分の配合量は、(A)成分と
(B)成分との合計量(100重量%)に対し20〜60重量
%、好ましくは25〜50重量%である。20重量%未満で
は、硬化物の絶縁破壊電圧を改善できず、また60重量%
を越えると、硬化物の硬度が高くなりすぎ、低弾性によ
るバッファー効果が得られない。(B)成分のレジン構
造を有するオルガノポリシロキサンは、一種単独で又は
2種以上組み合わせて使用することができる。
The blending amount of the component (B) is 20 to 60% by weight, preferably 25 to 50% by weight, based on the total amount (100% by weight) of the components (A) and (B). If it is less than 20% by weight, the dielectric breakdown voltage of the cured product cannot be improved, and it is 60% by weight.
If it exceeds, the hardness of the cured product becomes too high, and the buffer effect due to low elasticity cannot be obtained. The component (B) organopolysiloxane having a resin structure may be used alone or in combination of two or more.

【0017】(C)オルガノハイドロジェンポリシロキ
サン:(C)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキ
サンは、一分子中にケイ素原子に結合する水素原子(即
ち、SiH基)を少なくとも2個、好ましくは3個以上
含有するもので、架橋剤として使用される。このオルガ
ノハイドロジェンポリシロキサンは、直鎖状、分岐状、
環状、或いは三次元網目構造のいずれでもよい。このよ
うなオルガノハイドロジェンポリシロキサンの代表例と
しては、例えば、下記平均組成式(2): Ha3 bSiO(4-a-b)/2 (2) (式中、R3は独立に脂肪族不飽和結合を含まない非置
換又は置換の一価炭化水素基であり、a及びbは、0<
a<2、0.7≦b≦2、且つ0.8≦a+b≦3、好ましく
は、0.001≦a≦1.2、0.8≦b≦2、且つ1≦a+b≦
2.7、より好ましくは、0.01≦a≦1、1.5≦b≦2か
つ、1.8≦a+b≦2.4を満足する数である。)で表わさ
れるオルガノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられ
る。
(C) Organohydrogenpolysiloxane: The organohydrogenpolysiloxane of component (C) has at least two hydrogen atoms (ie, SiH groups) bonded to silicon atoms in one molecule, preferably three hydrogen atoms. It is contained as described above and is used as a crosslinking agent. This organohydrogenpolysiloxane has a linear, branched,
It may have either a ring shape or a three-dimensional mesh structure. As a typical example of such an organohydrogenpolysiloxane, for example, the following average composition formula (2): H a R 3 b SiO 2 (4-ab) / 2 (2) (In the formula, R 3 is independently a fat It is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no group unsaturated bond, and a and b are 0 <
a <2, 0.7 ≦ b ≦ 2, and 0.8 ≦ a + b ≦ 3, preferably 0.001 ≦ a ≦ 1.2, 0.8 ≦ b ≦ 2, and 1 ≦ a + b ≦
The number is preferably 2.7, more preferably 0.01 ≦ a ≦ 1, 1.5 ≦ b ≦ 2 and 1.8 ≦ a + b ≦ 2.4. ) Organohydrogenpolysiloxane represented by

【0018】平均組成式(2)において、R3の脂肪族
不飽和結合を含まない非置換又は置換の一価炭化水素基
としては、前記一般式(1)のR1として例示したもの
と同じものが挙げられる。代表的なR3は炭素原子数が1
〜10、特に炭素原子数が1〜7のものであり、好ましくは
メチル基等の炭素原子数1〜3の低級アルキル基;フェニ
ル基;及び3,3,3−トリフルオロプロピル基である。
このようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンとし
ては、例えば、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、
1,3,5,7−テトラメチルテトラシクロシロキサン、1,3,
5,7,9−ペンタメチルぺンタシクロシロキサン等のシロ
キサンオリゴマー;分子鎖両末端トリメチルシロキシ基
封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末
端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチ
ルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端シ
ラノール基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、
分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メ
チルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端
ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシ
ロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキ
シ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖
両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチル
シロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合
体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシ
ロキサン・ジフェニルシロキサン・メチルハイドロジェ
ンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロ
ジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニル
シロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合
体、R2(H)SiO1/2単位とSiO4/2単位からな
り、任意にR3SiO1/2単位、R2SiO2/2単位、R
(H)SiO2/2単位、(H)SiO3/2単位又はRSi
3/2単位を含み得るシリコーンレジン(但し、式中、
Rは前記のR1として例示した非置換又は置換の一価炭
化水素基と同様のものである。)、下記一般式(3):
In the average compositional formula (2), the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond represented by R 3 is the same as that exemplified as R 1 in the above general formula (1). There are things. Typical R 3 has 1 carbon atom
To 10, especially those having 1 to 7 carbon atoms, preferably lower alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms such as methyl group; phenyl group; and 3,3,3-trifluoropropyl group.
Examples of such an organohydrogenpolysiloxane include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane,
1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane, 1,3,
Siloxane oligomers such as 5,7,9-pentamethylpentacyclosiloxane; Methyl hydrogen polysiloxanes capped with trimethylsiloxy groups at both ends of the molecular chain, dimethylsiloxane / methylhydrogen siloxane copolymers, capped with trimethylsiloxy groups at both ends of the molecular chain, molecules Methyl hydrogen polysiloxane with silanol groups blocked at both chain ends,
Dimethyl siloxane / methyl hydrogen siloxane copolymer with silanol groups at both ends of the molecular chain, dimethyl polysiloxane with dimethyl hydrogen siloxy groups at both ends of the molecular chain, methyl hydrogen polysiloxane with dimethyl hydrogen siloxy groups at both ends of the molecule chain, molecular chain Dimethyl siloxane / methyl hydrogen siloxane copolymer with both ends dimethyl hydrogen siloxy groups, dimethyl siloxy / diphenyl siloxane / methyl hydrogen siloxane copolymer with both ends trimethyl siloxy groups, molecular chain Both ends dimethyl hydrogen siloxy groups dimethylsiloxane-diphenylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymers, made from R 2 (H) SiO 1/2 units and SiO 4/2 units, R 3 SiO 1/2 optionally Position, R 2 SiO 2/2 units, R
(H) SiO 2/2 unit, (H) SiO 3/2 unit or RSi
Silicone resins that may contain O 3/2 units, provided that
R is the same as the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group exemplified as R 1 above. ), The following general formula (3):

【0019】[0019]

【化3】 (3) (式中、R4は同一でも異なっていてもよく、水素原子
又は脂肪族不飽和結合を含まない非置換又は置換の一価
炭化水素基であり、R5は同一でも異なっていてもよ
く、脂肪族不飽和結合を含まない非置換又は置換の一価
炭化水素基であり、pは、正の整数、好ましくは1〜20
0、より好ましくは2〜100の整数であり、qは、0また
は正の整数、好ましくは0〜200、より好ましくは1〜100
の整数である。)で表されるオルガノハイドロジェンポ
リシロキサン、下記一般式(4): 一般式(4):
[Chemical 3] (3) (In the formula, R 4 may be the same or different and is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no hydrogen atom or aliphatic unsaturated bond, and R 5 is the same or different. It may be an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond, p is a positive integer, preferably 1 to 20.
0, more preferably an integer of 2 to 100, q is 0 or a positive integer, preferably 0 to 200, more preferably 1 to 100.
Is an integer. ) Organohydrogenpolysiloxane represented by the following general formula (4):

【0020】[0020]

【化4】 (4) (式中、R6及びR7は、各々独立に、脂肪族不飽和結合
を含まない非置換又は置換の一価炭化水素基であり、
6、R7の非置換又は置換の1価炭化水素基としては、
前記一般式(1)のR1において例示したものと同じも
のを例示することができる。また、rは正の整数、好ま
しくは2〜200、より好ましくは3〜100の整数であり、s
は、正の整数、好ましくは1〜200、より好ましくは3〜1
00の整数である。)で表されるオルガノハイドロジェン
ポリシロキサン等が挙げられるが、光デバイス、半導体
デバイス等の保護封止剤として適用する際に、より電気
絶縁性に優れたシリコーン硬化物を得るという観点か
ら、好ましくは前記一般式(3)のオルガノハイドロジ
ェンポリシロキサン、更に好ましくは前記一般式(4)
のオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。
[Chemical 4] (4) (In the formula, R 6 and R 7 are each independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond,
As the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group for R 6 and R 7 ,
It can be exemplified the same as those exemplified in R 1 in the general formula (1). R is a positive integer, preferably 2 to 200, more preferably 3 to 100, and s
Is a positive integer, preferably 1 to 200, more preferably 3 to 1
It is an integer of 00. ) Is preferable, from the viewpoint of obtaining a silicone cured product having more excellent electrical insulation when applied as a protective sealant for optical devices, semiconductor devices, etc. Is an organohydrogenpolysiloxane of the above general formula (3), more preferably the above general formula (4)
Is an organohydrogenpolysiloxane.

【0021】これらのオルガノハイドロジェンポリシロ
キサンは、公知の方法で製造することができ、例えば、
下記一般式(5)及び(6): R3SiHCl2 (5) R3 2SiHCl (6) (式中、R3は平均組成式(2)で定義したとおりであ
る。)よりなる群から選ばれる少なくとも1種のクロロ
シラン又はそのアルコキシ誘導体(例えばメトキシ誘導
体)を共加水分解するか、或いは該クロロシラン又はそ
の塩素原子をアルコキシ基で置換したアルコキシ誘導体
と下記一般式(7)及び(8): R3 3SiCl (7) R3 2SiCl2 (8) (式中、R3は平均組成式(2)で定義したとおりであ
る。)よりなる群から選ばれる少なくとも1種のクロロ
シラン又はそのアルコキシ誘導体(例えばメトキシ誘導
体)とを一緒に共加水分解して製造することができる。
またオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、このよ
うに共加水分解して得られるポリシロキサンをさらに周
知の方法で平衡化反応させて製造したものでもよい。
These organohydrogenpolysiloxanes can be produced by a known method, for example,
The following general formulas (5) and (6): R 3 SiHCl 2 (5) R 3 2 SiHCl (6) (wherein R 3 is as defined in the average composition formula (2)). At least one selected chlorosilane or its alkoxy derivative (for example, methoxy derivative) is co-hydrolyzed, or the chlorosilane or its alkoxy derivative in which a chlorine atom is substituted with an alkoxy group and the following general formulas (7) and (8): R 3 3 SiCl (7) R 3 2 SiCl 2 (8) (In the formula, R 3 is as defined in the average composition formula (2).) At least one chlorosilane selected from the group consisting of or a alkoxy thereof. It can be prepared by cohydrolyzing with a derivative (for example, a methoxy derivative).
Further, the organohydrogenpolysiloxane may be produced by subjecting the polysiloxane thus obtained by cohydrolysis to an equilibrium reaction by a known method.

【0022】(C)成分のオルガノハイドロジェンポリ
シロキサンは、一種単独で又は2種以上組み合わせて使
用することができるが、25℃における粘度は0.2〜1,000
cP、特に0.5〜500 cP程度が好ましい。
The organohydrogenpolysiloxane as the component (C) can be used alone or in combination of two or more, and the viscosity at 25 ° C. is 0.2 to 1,000.
cP, particularly about 0.5 to 500 cP is preferable.

【0023】(C)成分の使用量は、(A)成分中のケ
イ素原子に結合するアルケニル基(特に、ビニル基)と
(B)成分中のケイ素原子に結合するビニル基との合計
1モル当たり、(C)成分中のケイ素原子に結合する水
素原子(即ち、SiH基)が、通常0.1〜0.6モル、好ま
しくは0.2〜0.6モル、より好ましくは0.3〜0.6モルとな
る量である。0.1モル未満では、組成物の硬化が進行せ
ず、ゴム状弾性体やゲル状硬化物が得られず、また1モ
ルを越えると、硬化物の硬度が高くなりすぎ、低弾性に
よるバッファー効果が得られない。また、この(C)成
分の使用量は、後述する接着性向上剤としてのエポキシ
基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンやアルコ
キシ基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンなど
の(C)成分以外のオルガノハイドロジェンポリシロキ
サンを組成物中に配合する場合には、上記と同様の理由
により(A)成分と(B)成分中のアルケニル基の合計
1モル当たり、組成物中のオルガノハイドロジェンポリ
シロキサン全体中のSiH基の量が0.1〜0.6モル、好ま
しくは0.2〜0.6モル、より好ましくは0.3〜0.6モルとな
る量で使用する。
The amount of the component (C) used is 1 mol in total of the alkenyl group (particularly vinyl group) bonded to the silicon atom in the component (A) and the vinyl group bonded to the silicon atom in the component (B). The amount of hydrogen atom bonded to silicon atom (that is, SiH group) in the component (C) is usually 0.1 to 0.6 mol, preferably 0.2 to 0.6 mol, and more preferably 0.3 to 0.6 mol. If it is less than 0.1 mol, curing of the composition does not proceed, and a rubber-like elastic body or gel-like cured product cannot be obtained.If it exceeds 1 mol, the hardness of the cured product becomes too high and the buffer effect due to low elasticity is obtained. I can't get it. Further, the amount of the component (C) used is an organohydrogenpolysiloxane other than the component (C), such as an epoxy group-containing organohydrogenpolysiloxane or an alkoxy group-containing organohydrogenpolysiloxane as an adhesion improver described later. In the case of blending in the composition, for the same reason as above, the SiH groups in the whole organohydrogenpolysiloxane in the composition per 1 mol of the total of alkenyl groups in the components (A) and (B) are combined. Is used in an amount of 0.1 to 0.6 mol, preferably 0.2 to 0.6 mol, more preferably 0.3 to 0.6 mol.

【0024】(D)白金族金属系触媒:(D)成分の白
金族金属系触媒は、(A)成分のアルケニル基と(B)
成分のSiH基との付加反応(ヒドロシリル化反応)を
促進するための触媒である。このような白金族金属系触
媒としては、周知のヒドロシリル化反応用触媒が使用で
きる。その具体例としては、例えば、白金(白金黒を含
む)、ロジウム、パラジウム等の白金族金属単体;H2
PtCl4・nH2O、H2PtCl6・nH2O、NaH
PtCl6・nH2O、KHPtCl6・nH2O、Na2
PtCl6・nH2O、K2PtCl4・nH2O、PtC
4・nH2O、PtCl2、Na2HPtCl4・nH2
(上式中、nは0〜6の整数であり、好ましくは0又は6で
ある。)等の塩化白金、塩化白金酸及び塩化白金酸塩;
アルコール変性塩化白金酸(米国特許第3,220,9
72号明細書参照);塩化白金酸とオレフィンとのコン
プレックス(米国特許第3,159,601号明細書、
同第3,159,662号明細書、同第3,775,4
52号明細書参照);白金黒、パラジウム等の白金族金
属をアルミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させた
もの;ロジウム−オレフィンコンプレックス;クロロト
リス(トリフェニルフォスフィン)ロジウム(ウィルキ
ンソン触媒);塩化白金、塩化白金酸又は塩化白金酸塩
とビニル基含有シロキサン、特にビニル基含有環状シロ
キサンとのコンプレックス等が挙げられる。(D)成分
は有効量必要であり、通常、(A)成分と(B)成分と
の合計量に対し、白金族金属の重量換算で、0.1〜1,000
ppm、好ましくは0.5〜500ppm程度でよい。
(D) Platinum group metal-based catalyst: The platinum group metal-based catalyst of the component (D) comprises an alkenyl group of the component (A) and (B).
It is a catalyst for promoting the addition reaction (hydrosilylation reaction) with the SiH group of the component. As such a platinum group metal-based catalyst, a well-known catalyst for hydrosilylation reaction can be used. Specific examples thereof include platinum (including platinum black), rhodium, palladium, and other platinum group metal simple substances; H 2
PtCl 4 · nH 2 O, H 2 PtCl 6 · nH 2 O, NaH
PtCl 6 · nH 2 O, KHPtCl 6 · nH 2 O, Na 2
PtCl 6 · nH 2 O, K 2 PtCl 4 · nH 2 O, PtC
l 4 · nH 2 O, PtCl 2 , Na 2 HPtCl 4 · nH 2 O
(In the above formula, n is an integer of 0 to 6, and is preferably 0 or 6.) Platinum chloride, chloroplatinic acid and chloroplatinate;
Alcohol-modified chloroplatinic acid (US Pat. No. 3,220,9
72); a complex of chloroplatinic acid and an olefin (US Pat. No. 3,159,601).
No. 3,159,662, No. 3,775,4
No. 52); platinum group metals such as platinum black and palladium supported on a carrier such as alumina, silica, carbon; rhodium-olefin complex; chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (Wilkinson catalyst); Examples thereof include complexes of platinum, chloroplatinic acid or chloroplatinate and a vinyl group-containing siloxane, particularly a vinyl group-containing cyclic siloxane. Component (D) requires an effective amount, and is usually 0.1 to 1,000 in terms of weight of platinum group metal based on the total amount of components (A) and (B).
ppm, preferably about 0.5 to 500 ppm.

【0025】その他の任意成分:本発明の組成物には、
前記成分(A)〜(D)以外に、必要に応じて、本発明
の組成物から得られる硬化物の透明性に悪影響を及ぼさ
ない範囲の量で、通常使用されている各種の添加剤を添
加することができる。添加剤としては、例えばヒューム
ドシリカ、ヒュームド二酸化チタン等の補強性無機フィ
ラー;けい酸カルシウム、二酸化チタン、酸化第二鉄、
カーボンブラック等の非補強性無機フィラー等が挙げら
れる。本発明の組成物には、本発明の効果を妨げない限
り、その他の各種添加剤を配合することができる。特に
組成物を1液型で使用する場合は、アセチレンアルコー
ル等の公知の硬化抑制剤を配合することができる。硬化
抑制剤の配合量は、(A)〜(D)成分の合計量100重
量部当たり、通常、10重量部以下(0〜10重量部)であ
る。
Other optional ingredients: The composition of the present invention includes
In addition to the above components (A) to (D), if necessary, various additives that are usually used are added in an amount within a range that does not adversely affect the transparency of the cured product obtained from the composition of the present invention. It can be added. Examples of the additive include reinforcing inorganic fillers such as fumed silica and fumed titanium dioxide; calcium silicate, titanium dioxide, ferric oxide,
Examples include non-reinforcing inorganic fillers such as carbon black. Various other additives can be added to the composition of the present invention as long as the effects of the present invention are not impaired. In particular, when the composition is used as a one-pack type, a known curing inhibitor such as acetylene alcohol can be added. The compounding amount of the curing inhibitor is usually 10 parts by weight or less (0 to 10 parts by weight) per 100 parts by weight of the total amount of the components (A) to (D).

【0026】また組成物の接着性を更に向上する目的
で、エポキシ基及び/又はアルコキシ基含有オルガノハ
イドロジェンポリシロキサン化合物やエステルシロキサ
ン化合物(即ち、ケイ素原子に結合する一価の基が全て
アルコキシ基か水素原子である、分子中にケイ素−炭素
結合を含まないオルガノシロキサン化合物)を添加する
ことができる。これらシロキサン化合物の添加量は、通
常、(A)〜(D)成分の合計量100重量部当たり、通
常10重量部以下(0〜10重量部)である。
For the purpose of further improving the adhesiveness of the composition, an epoxy group- and / or alkoxy group-containing organohydrogenpolysiloxane compound or ester siloxane compound (that is, all monovalent groups bonded to silicon atoms are alkoxy groups) Or a hydrogen atom, that is, an organosiloxane compound containing no silicon-carbon bond in the molecule) can be added. The addition amount of these siloxane compounds is usually 10 parts by weight or less (0 to 10 parts by weight) per 100 parts by weight of the total amount of the components (A) to (D).

【0027】組成物の調製及び硬化:本発明の組成物
は、好ましくは無機質充填剤を実質的に配合することな
く、基本的には(A)〜(D)成分及び必要ならば他の
任意成分を混合することにより調製される。また硬化物
は、該組成物を室温又は加熱硬化させることにより調製
される。こうして得られる本発明の硬化物は、ゴム硬度
がJIS−Aで20以下の軟質ゴム状弾性体ないしはゲル
状物で、高い透明性及び優れた電気絶縁特性を示す。
Preparation and Curing of the Composition: The composition of the present invention preferably comprises essentially no inorganic fillers, essentially the components (A) to (D) and optionally any other. It is prepared by mixing the ingredients. A cured product is prepared by curing the composition at room temperature or by heating. The thus obtained cured product of the present invention is a soft rubber-like elastic body or gel-like product having a rubber hardness of 20 or less according to JIS-A, and exhibits high transparency and excellent electric insulation properties.

【0028】用途:本発明の硬化物は、上記のような特
性を有しているので、LED、フォトカプラー、レーザ
素子、光結合素子等の、高透明性を必要とする光デバイ
スや高電圧を必要とする半導体デバイスの保護コーティ
ング剤、下地又は外装用の封止剤等に好適に利用でき
る。
Uses: The cured product of the present invention has the above-mentioned characteristics, and therefore, it can be used for optical devices such as LEDs, photo couplers, laser devices, and optical coupling devices, and high voltage devices requiring high transparency. Can be suitably used as a protective coating agent for a semiconductor device requiring the above, a sealant for a base or an exterior, and the like.

【0029】[0029]

【実施例】以下に本発明の実施例及び比較例を示す。各
例中、部は重量部、粘度は25℃で測定した粘度、Meはメ
チル基、またViはビニル基を示す。 〔実施例1〕分子鎖両末端がビニルジメチルシロキシ基
で封鎖された粘度 5,000 cPのジメチルポリシロキサン
(VF−1)50部;SiO4/2単位50モル%、(CH3
3SiO1/2単位42.5モル%及びVi(CH32SiO
1/2単位7.5モル%からなるレジン構造のビニルメチルポ
リシロキサン(VMQ)50部、下記の平均式(9):
EXAMPLES Examples and comparative examples of the present invention will be shown below. In each example, parts are parts by weight, viscosities are viscosities measured at 25 ° C., Me is a methyl group, and Vi is a vinyl group. [Example 1] 50 parts of dimethylpolysiloxane (VF-1) having a viscosity of 5,000 cP in which both ends of the molecular chain were blocked with vinyldimethylsiloxy groups; SiO 4/2 unit 50 mol%, (CH 3 ).
3 SiO 1/2 unit 42.5 mol% and Vi (CH 3 ) 2 SiO
50 parts of vinyl methyl polysiloxane (VMQ) having a resin structure composed of 1/2 unit of 7.5 mol%, the following average formula (9):

【0030】[0030]

【化5】 (9)で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ン5.3部(SiH基量は、前記VF−1中のビニル基及
びVMQ中のビニル基の合計量当り0.6倍モル)、及び
塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液(白金金属1
重量%)0.05部(白金金属換算で5ppm)を混合し、よく
攪拌し、付加硬化型シリコーン組成物を調製した。
[Chemical 5] 5.3 parts by weight of organohydrogenpolysiloxane represented by (9) (the amount of SiH group is 0.6 times mol per the total amount of vinyl groups in VF-1 and VMQ in VMQ), and octyl alcohol modification of chloroplatinic acid. Solution (platinum metal 1
(Wt%) 0.05 part (5 ppm in terms of platinum metal) were mixed and stirred well to prepare an addition-curable silicone composition.

【0031】この組成物について、下記測定方法に従っ
て、硬度及び/又は針入度、並びに絶縁破壊電圧を測定
した。これらの結果を表1に示した。 <硬さ>JIS C 2123 の9項に規定される方法に準じて
測定する。試験片としては、組成物を150℃で4hr(時
間、以下同様)加熱成形して得られた2mm厚のシート
を3枚重ねたもの(厚さ約6mm)を使用し、これをJI
S K6301に規定されるA型スプリング硬さ試験機を用い
て測定する。硬さ試験機を垂直に保ち、押針を試験片の
測定面に垂直になるように接触させて、直ちに目盛りを
読む。 <針入度>清浄なガラスシャーレ(30φ×12mm)内に
組成物を満たし、150℃で4hr加熱硬化させる。室温まで
冷却した後、硬さをASTM D-1403に規定される1/4インチ
ミクロ稠度計を用いて針入度を測定する。 <絶縁破壊の強さ>絶縁破壊の強さは、JIS C 2123 の1
7項に規定される方法に準じて測定する。試験片として
は、組成物を150℃で4hr加熱成形して得られた1mm厚
のシートを使用する。試験の種類及び条件は、17.3−
(1)に規定される方法に準じる。 (1)装置 a)電極 : 回りに半径2.5mmの丸みを持たせた直径2
5mmの黄銅製円柱 b)マイクロメータ (2)方法 波高率が1.34 〜1.48の間にあるように商用周波数(5
0Hz)の交流電圧を試験片に加える。この時、交流電
圧は0から1秒間に約1,000Vの速さでできるだけ一様に
上昇させ、破壊電圧を求める。 (3)計算 破壊電圧を測定個所の厚さで割り、厚さ1mm当りの絶
縁破壊の強さを求める。
With respect to this composition, hardness and / or penetration and dielectric breakdown voltage were measured according to the following measuring methods. The results are shown in Table 1. <Hardness> Measured according to the method specified in JIS C 2123, item 9. As a test piece, three 2 mm-thick sheets (thickness: about 6 mm) obtained by thermoforming the composition at 150 ° C. for 4 hours (time, the same applies below) were used.
Measured using an A-type spring hardness tester specified in S K6301. Keep the hardness tester vertical, touch the measuring needle of the test piece so that it is vertical, and read the scale immediately. <Penetration> A clean glass petri dish (30φ x 12 mm) is filled with the composition, and heat-cured at 150 ° C for 4 hours. After cooling to room temperature, the hardness is measured for penetration using a 1/4 inch micro consistency meter specified in ASTM D-1403. <Dielectric breakdown strength> The dielectric breakdown strength is JIS C 2123-1.
Measure according to the method specified in Section 7. As the test piece, a 1 mm thick sheet obtained by heat-molding the composition at 150 ° C. for 4 hours is used. The types and conditions of tests are 17.3-
Follow the method specified in (1). (1) Device a) Electrode: Diameter 2 with a rounded radius of 2.5 mm
5mm brass cylinder b) Micrometer (2) Method Commercial frequency (5) so that the crest factor is between 1.34 and 1.48.
An AC voltage of 0 Hz) is applied to the test piece. At this time, the AC voltage is increased as uniformly as possible from 0 to 1 second at a speed of about 1,000 V to obtain the breakdown voltage. (3) Divide the calculated breakdown voltage by the thickness of the measurement point to obtain the strength of dielectric breakdown per 1 mm of thickness.

【0032】〔実施例2〕ビニル基含有ジメチルポリシ
ロキサンVF−1の代わりに、分子鎖両末端がビニルジ
メチルシロキシ基で封鎖された、粘度10,000 cPのジメ
チルポリシロキサン(VF−2)を70部使用し、レジン
構造のビニルメチルポリシロキサン(VMQ)の量を30
部に、式(9)のオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンの量を3.7部(SiH基量は、前記VF−2中のビニ
ル基及びVMQ中のビニル基の合計量当り0.6倍モル)
に変えた以外は実施例1と同様にして付加硬化型シリコ
ーン組成物を調製し、この組成物について硬度及び/又
は針入度、並びに絶縁破壊電圧を測定した。これらの結
果を表1に示した。
Example 2 70 parts of dimethylpolysiloxane (VF-2) having a viscosity of 10,000 cP and having both ends of the molecular chain blocked with vinyldimethylsiloxy groups instead of vinyl group-containing dimethylpolysiloxane VF-1. Use 30 parts of resin structure vinylmethyl polysiloxane (VMQ)
In parts, 3.7 parts of the organohydrogenpolysiloxane of the formula (9) is used (the amount of SiH group is 0.6 times mol based on the total amount of vinyl groups in VF-2 and VMQ).
An addition-curable silicone composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed to, and the hardness and / or penetration and dielectric breakdown voltage of this composition were measured. The results are shown in Table 1.

【0033】〔実施例3〕ビニル基含有ジメチルポリシ
ロキサンVF−1の代わりにビニル基含有ジメチルポリ
シロキサンVF−2を70部使用し、レジン構造のビニル
メチルポリシロキサン(VMQ)の量を30部に変え、
式(9)のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの量
を2.0部に変え、かつ下記式(10):
Example 3 70 parts of vinyl group-containing dimethylpolysiloxane VF-2 was used in place of vinyl group-containing dimethylpolysiloxane VF-1, and the amount of resin-structured vinylmethylpolysiloxane (VMQ) was 30 parts. Change to
The amount of the organohydrogenpolysiloxane of formula (9) was changed to 2.0 parts and the following formula (10):

【0034】[0034]

【化6】 (10) で示されるエポシキ基含有オルガノハイドロジェンポリ
シロキサン1.0部を加えた以外は実施例1と同様にして
付加硬化型シリコーン組成物(オルガノハイドロジェン
ポリシロキサン混合物中のSiH基量は、前記VF−2
中のビニル基及びVMQ中のビニル基の合計量当り0.6
倍モル)を調製し、この組成物について硬度及び/又は
針入度、並びに絶縁破壊電圧を測定した。これらの結果
を表1に示した。
[Chemical 6] (10) The addition-curable silicone composition (the amount of SiH groups in the organohydrogenpolysiloxane mixture is the same as the above VF) in the same manner as in Example 1 except that 1.0 part of the epoxy group-containing organohydrogenpolysiloxane is added. -2
0.6 per total amount of vinyl groups in vinyl and VMQ
A double mole) was prepared and hardness and / or penetration and dielectric breakdown voltage of this composition were measured. The results are shown in Table 1.

【0035】〔実施例4〕式(9)のオルガノハイドロ
ジェンポリシロキサンの代わりに下記式(11):
Example 4 Instead of the organohydrogenpolysiloxane of the formula (9), the following formula (11):

【0036】[0036]

【化7】 (11) で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン13.4
部(SiH基量は、前記VF−1中のビニル基及びVM
Q中のビニル基の合計量当り0.3倍モル)を使用した以
外は実施例1と同様にして付加硬化型シリコーン組成物
を調製し、この組成物について硬度及び/又は針入度、
並びに絶縁破壊電圧を測定した。これらの結果を表1に
示した。
[Chemical 7] Organohydrogenpolysiloxane 13.4 represented by (11)
(The amount of SiH group is the vinyl group and VM in VF-1.
An addition-curable silicone composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.3 times mol per the total amount of vinyl groups in Q) was used, and the hardness and / or penetrability of this composition,
Also, the breakdown voltage was measured. The results are shown in Table 1.

【0037】〔比較例1〕ビニル基含有ジメチルポリシ
ロキサン(VF−1)の量を100部に変え、レジン構造
のビニルメチルポリシロキサン(VMQ)を配合せず、
式(9)のオルガノハイドロジェンシロキサンの代わり
に実施例4で用いた式(11)のオルガノハイドロジェ
ンポリシロキサン3.0部を用いた以外は実施例1と同様
にして付加硬化型シリコーン組成物[式(11)のオル
ガノハイドロジェンポリシロキサン中のSiH基量は、
前記VF−1中のビニル基量当り0.6倍モル]を調製し、
この組成物について硬度及び/又は針入度、並びに絶縁
破壊電圧を測定した。これらの結果を表1に示した。
Comparative Example 1 The amount of vinyl group-containing dimethylpolysiloxane (VF-1) was changed to 100 parts, and no vinylmethylpolysiloxane (VMQ) having a resin structure was blended.
An addition-curable silicone composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 3.0 parts of the organohydrogenpolysiloxane of formula (11) used in Example 4 was used instead of the organohydrogensiloxane of formula (9). The amount of SiH groups in the organohydrogenpolysiloxane of (11) is
0.6 times mol based on the amount of vinyl groups in VF-1],
The hardness and / or penetration of this composition and the dielectric breakdown voltage were measured. The results are shown in Table 1.

【0038】〔比較例2〕ビニル基含有ジメチルポリシ
ロキサン(VF−1)の量を100部に変え、レジン構造
のビニルメチルポリシロキサン(VMQ)を配合せず、
式(9)のオルガノハイドロジェンシロキサンの代わり
に実施例4で用いた式(11)のオルガノハイドロジェ
ンポリシロキサン6.6部を用いた以外は実施例1と同様
にして付加硬化型シリコーン組成物[式(11)のオル
ガノハイドロジェンポリシロキサン中のSiH基量は、
前記VF−1中のビニル基量当り1.4倍モル]を調製し、
この組成物について硬度及び/又は針入度、並びに絶縁
破壊電圧を測定した。これらの結果を表1に示した。
Comparative Example 2 The amount of vinyl group-containing dimethylpolysiloxane (VF-1) was changed to 100 parts, and no vinylmethylpolysiloxane (VMQ) having a resin structure was blended.
An addition-curable silicone composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 6.6 parts of the organohydrogenpolysiloxane of formula (11) used in Example 4 was used instead of the organohydrogensiloxane of formula (9). The amount of SiH groups in the organohydrogenpolysiloxane of (11) is
1.4 times mol per amount of vinyl groups in VF-1] is prepared,
The hardness and / or penetration of this composition and the dielectric breakdown voltage were measured. The results are shown in Table 1.

【0039】〔比較例3〕ビニル基含有ジメチルポリシ
ロキサンVF−1の代わりに実施例2で用いたビニル基
含有ジメチルポリシロキサン(粘度10,000 cP)(VF
−2)85部使用し、レジン構造のビニルメチルポリシロ
キサン(VMQ)の量を15部に変え、式(9)のオルガ
ノハイドロジェンポリシロキサンの量を2.2部に変えた
(SiH基量は、前記VF−2及びVMQ成分中のビニ
ル基の合計量当り0.6倍モル)以外は、実施例1と同様
にして付加硬化型シリコーン組成物を調製し、この組成
物について硬度及び/又は針入度、並びに絶縁破壊電圧
を測定した。これらの結果を表1に示した。
Comparative Example 3 The vinyl group-containing dimethylpolysiloxane used in Example 2 (viscosity 10,000 cP) (VF) instead of the vinyl group-containing dimethylpolysiloxane VF-1.
-2) 85 parts were used, the amount of vinylmethylpolysiloxane (VMQ) having a resin structure was changed to 15 parts, and the amount of organohydrogenpolysiloxane of the formula (9) was changed to 2.2 parts (SiH group content is An addition-curable silicone composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the total amount of vinyl groups in the VF-2 and VMQ components was 0.6 times the total amount, and the hardness and / or the penetration of the composition were measured. , And the dielectric breakdown voltage were measured. The results are shown in Table 1.

【0040】〔比較例4〕式(9)のオルガノハイドロ
ジェンポリシロキサンの配合量を11.4部に変えた以外
は、実施例1と同様にして付加硬化型シリコーン組成物
[式(9)のオルガノハイドロジェンポリシロキサン中
のSiH基量は、前記VF−1中のビニル基及びVMQ
中のビニル基の合計量当り1.2倍モル]を調製し、この組
成物について硬度及び/又は針入度、並びに絶縁破壊電
圧を測定した。これらの結果を表1に示した。
[Comparative Example 4] An addition-curable silicone composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compounding amount of the organohydrogenpolysiloxane of the formula (9) was changed to 11.4 parts.
[The amount of SiH groups in the organohydrogenpolysiloxane of the formula (9) depends on the vinyl groups and VMQ in VF-1.
1.2 times mol per the total amount of vinyl groups in the mixture] was prepared, and hardness and / or penetration and dielectric breakdown voltage of this composition were measured. The results are shown in Table 1.

【0041】[0041]

【表1】 次に、図1に示すフォトカプラーを図2に示すように接
続し、実施例1〜4及び比較例1〜4の各組成物を図1
のシリコーン封止剤5として使用し、実装同時比較によ
り絶縁耐圧性の評価を行った。具体的には、フォトカプ
ラー端子のアノード6とコレクタ9間に交流電圧(50H
z)を1秒間印加し、それぞれの電圧を印加した際の樹
脂が破壊されたサンプルの割合を求めて絶縁耐圧性を評
価した。その結果を表2に示す。
[Table 1] Next, the photocoupler shown in FIG. 1 was connected as shown in FIG. 2, and the compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were mixed with each other as shown in FIG.
It was used as the silicone sealant 5 of No. 3, and the withstand voltage was evaluated by simultaneous mounting comparison. Specifically, an AC voltage (50H) is applied between the anode 6 and collector 9 of the photocoupler terminal.
z) was applied for 1 second, and the withstand voltage was evaluated by determining the proportion of the sample in which the resin was destroyed when each voltage was applied. The results are shown in Table 2.

【0042】[0042]

【表2】 (注)数値(%)は、測定サンプル100個における良品
率を表す。
[Table 2] (Note) The numerical value (%) indicates the non-defective rate in 100 measurement samples.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明の付加硬化型シリコーン組成物
は、フィラーを添加することなく、硬化により従来より
も絶縁特性、特に絶縁破壊電圧が大幅に向上した、軟質
ゴム状ないしはゲル状の高透明性の硬化物が得られる。
EFFECTS OF THE INVENTION The addition-curable silicone composition of the present invention is a soft rubber-like or gel-like highly transparent material which has a significantly improved insulating property, particularly a dielectric breakdown voltage, when cured by adding a filler without adding a filler. A cured product having a sex property is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 実施例で使用したフォトカプラーの断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view of a photocoupler used in an example.

【図2】 図1のフォトカプラーの接続図。FIG. 2 is a connection diagram of the photocoupler of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1‥‥発光素子 2‥‥受光素子 3‥‥エポキシトランスファモールド樹脂 4‥‥リードフレーム 5‥‥シリコーン封止剤 6‥‥アノード 7‥‥カソード 8‥‥エミッタ 9‥‥コレクタ 1. Light-emitting element 2 Photo detector 3 Epoxy transfer mold resin 4 Lead frame 5 Silicone sealant 6 ... Anode 7 ... Cathode 8 Emitter 9: Collector

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 23/02 H01L 23/02 Z // C09D 183/05 C09D 183/05 183/07 183/07 (56)参考文献 特開 昭55−118959(JP,A) 特開 平7−41679(JP,A) 特開 平7−53872(JP,A) 特開 平10−231428(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08L 83/00 - 83/16 C08K 3/00 - 13/08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H01L 23/02 H01L 23/02 Z // C09D 183/05 C09D 183/05 183/07 183/07 (56) Reference 55-118959 (JP, A) JP-A-7-41679 (JP, A) JP-A-7-53872 (JP, A) JP-A-10-231428 (JP, A) (58) Fields investigated (Int .Cl. 7 , DB name) C08L 83/00-83/16 C08K 3/00-13/08

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】(A)一分子中にケイ素原子に結合するア
ルケニル基を少なくとも2個含有するジオルガノポリシ
ロキサン、 (B)SiO4/2単位、Vi(R22SiO1/2単位及び
2 3SiO1/2単位(式中、Viはビニル基を表し、R2
は脂肪族不飽和結合を含まない、非置換又は置換の一価
炭化水素基を表す。)からなるレジン構造のオルガノポ
リシロキサンを、(A)成分と(B)成分との合計量に
対し20〜60重量%、 (C)一分子中にケイ素原子に結合する水素原子を少な
くとも2個含有するオルガノハイドロジェンポリシロキ
サンを、組成物中の全オルガノハイドロジェンポリシロ
キサン中のケイ素原子に結合する水素原子が、(A)成
分中のケイ素原子に結合するアルケニル基と(B)成分
中のケイ素原子に結合するビニル基との合計1モル当た
り、0.1〜0.6モルとなる量、 及び (D)白金族金属系触媒を含有してなり、ゴム硬度が 20
以下の硬化物を与える、光デバイス又は半導体デバイス
の保護封止用付加硬化型シリコーン組成物。
1. A diorganopolysiloxane containing (A) at least two alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, (B) a SiO 4/2 unit, and a Vi (R 2 ) 2 SiO 1/2 unit. And R 2 3 SiO 1/2 unit (wherein Vi represents a vinyl group, R 2 3
Represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond. 20 to 60% by weight based on the total amount of the components (A) and (B), and (C) at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms in the molecule. The hydrogen atom bonded to the silicon atom in all the organohydrogenpolysiloxane in the composition contains the alkenyl group bonded to the silicon atom in the component (A) and the organohydrogenpolysiloxane contained in the component (B). An amount of 0.1 to 0.6 mol per 1 mol of the total of vinyl groups bonded to silicon atoms, and (D) a platinum group metal catalyst are contained, and the rubber hardness is 20.
An optical device or semiconductor device that gives the following cured product
Addition-curable silicone composition for protective encapsulation .
【請求項2】 (C)成分のオルガノハイドロジェンポ
リシロキサンが下記一般式(4): 【化1】 (4)(式中、R6及びR7は、各々独立に、脂肪族不飽
和結合を含まない非置換又は置換の一価炭化水素基であ
り、rは2〜200の整数、sは1〜200の整数である。)
で示されるものである、請求項1に記載のシリコーン組
成物。
2. An organohydrogenpolysiloxane as the component (C) has the following general formula (4): (4) (In the formula, R 6 and R 7 are each independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond, r is an integer of 2 to 200, and s is 1 It is an integer of ~ 200.)
In being indicated, shea recone composition of claim 1.
【請求項3】 無機充填剤を含有しない、請求項1又は
2に記載のシリコーン組成物。
Wherein the inorganic filler contains no, shea recone composition according to claim 1 or 2.
【請求項4】 請求項1〜のいずれかに記載のシリコ
ーン組成物を硬化して得られた、ゴム硬度が20以下の硬
化物。
4. A cured product having a rubber hardness of 20 or less, which is obtained by curing the silicone composition according to any one of claims 1 to 3 .
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