JP3522020B2 - 加圧型下方注入式オゾン接触槽とその制御方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は上下水道の処理方法
としてのオゾン処理装置に適用して有用な加圧型下方注
入式オゾン接触槽とその制御方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年における都市部での水環境の悪化に
伴って河川とか湖沼の水質汚濁が進んでおり、従来の凝
集沈澱とか砂濾過処理及び塩素処理との組み合わせだけ
では、水道用原水中の色度，臭気の除去作用に限界点が
生じている現状にある。特に我国の水道水として利用さ
れる水源の約７０％は、地表水と呼ばれる湖沼水，ダム
水及び河川水に依存しており、これら湖沼水とかダムに
は富栄養化に伴う生物活動が活発化することによるカビ
臭とか藻臭の発生があり、他方の河川水には各種排水に
含まれている有機物とかアンモニア性窒素が流入され、
河川の自然浄化作用によってこれらの流入物を完全に浄
化することは期待できない状況にある。

【０００３】このような高度経済成長に伴う水源の水質
悪化に対処するため、前塩素処理が一般的に採用されて
いるが、前塩素処理を採用した浄水過程で発生する有機
塩素化合物であるトリハロメタン（ＴＨＭ）が発ガン性
を有していることが知られている。このような水源のカ
ビ臭とか藻臭の消去、及びトリハロメタン等発ガン物質
対策として、浄水の操作工程中にオゾン処理、又は該オ
ゾン処理と活性炭処理との複合処理を導入する高度浄水
システムが検討されている。

【０００４】オゾンガスはそれ自身の持つ強力な酸化力
で水中に溶解している溶存性の有害物質を酸化除去する
作用があり、近時は上水のみならず下水処理にも採用さ
れている。しかしオゾン処理は塩素処理に比して約２倍
のコスト増となるため、オゾンガスの処理効果をより一
層高めることが要求され、そのため無数の微細なオゾン
ガスの気泡を作ることによって水とオゾンガスとの接触
効率を上げて、効率良くオゾンガスを水中に溶解吸収さ
せることが必須の要件となっている。

【０００５】従来からオゾンガスの接触効率及び吸収効
率を上げるための手段として、散気管型オゾン反応槽と
か下方注入式オゾン反応槽（Ｕチューブ型オゾン反応
槽）が知られている。上記散気管型オゾン反応槽の一例
として、例えば「オゾン利用水処理技術」（宗宮 功，
公害対策技術同好会，１９８９年５月）には、図１６に
示したように上下対向流式のオゾン反応槽の例が開示さ
れている。

【０００６】即ち、この例ではオゾン反応槽１の内部に
底面から立ち上がる隔壁２，２と、上面から垂下された
隔壁３，３が配設されていて、この隔壁２，３によって
気相部が分離されているとともに液相部が相互に連通さ
れた越流式の複数の反応室が構成されている。

【０００７】そして各室の内方底面近傍に数十μｍの微
細孔を持つセラミック等の散気管４，４が配置されてい
て、図外のオゾン発生装置から得られるオゾンガスが該
散気管４，４に送り込まれ、流入口５から流入する被処
理水とオゾンガスとが矢印Ａ，Ａに示すように対向流と
して接触することによって該オゾンガスの接触効率が高
められ、オゾン処理水１０として流出する。

【０００８】他方の下方注入式オゾン反応槽（Ｕチュー
ブ型オゾン反応槽）は別名インジェクター型オゾン接触
槽とも呼称され、図１７に示したように縦長のオゾン反
応槽１の内方に内管６が配置されていて、オゾン発生装
置７で得られるオゾンガスがガス放出管８を介して内管
６の上部から送り込まれる。そしてオゾンガス反応槽１
の側方の流入口５から流入する被処理水とオゾンガスと
が内管６内で下降流として継続的に接触して所望のオゾ
ン処理が行われ、そのまま内管６の外壁面に沿って上昇
してオゾン反応槽１の上方部からオゾン処理水１０とし
て流出する。未反応のオゾンガスは排オゾン処理装置９
に送り込まれて清浄化処理される。

【０００９】上記オゾン反応槽１の縦方向の長さは２０
〜３０メートルと可成長くなっていて、これによって内
管６内の水圧が２.０〜２.５（ｋｇｆ／ｃｍ²）のレベ
ルに保持される。

【００１０】このＵチューブ型オゾン反応槽は、内管６
で発生する乱流によってオゾンガスと被処理水との気液
接触効果が高められ、オゾンガスが内管６内を流下する
につれて増大する水圧によって該オゾンガスの水中への
溶解が促進されるので、散気管方式に較べてオゾン溶解
効率で５〜１０％向上しており、オゾンガスと被処理水
との接触時間を約５倍以上取ることができるとともに反
応槽内での滞留時間は１／５以下に短縮することができ
るという特徴を有している。又、オゾン反応槽が縦長で
あるため、オゾン処理施設の設置スペースが散気管方式
の１／５ですむという利点を有している。

【００１１】かかるオゾン反応槽を用いることにより、
塩素よりもはるかに酸化力の強力なオゾンガスによって
被処理水の異臭味とか色度除去、有害物質の酸化除去が
行われる（上記Ｕチューブ型オゾン処理装置に関して
は、第２回日本オゾン協会年次研究講演会講演集の第７
６頁〜第７７頁，鳥山ら「Ｕチューブ型オゾン接触槽の
有機物除去特性」を参照）。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記した
高度浄水システム等に採用されるオゾン反応槽は、被処
理水に対するオゾンガスの吸収効率を上げるための制御
方法が確立されていないため、経時的な吸収効率低下現
象が発生する惧れがある外、装置の大型化等に起因する
コストアップを招来してしまうという課題がある。

【００１３】例えば図１６に示した散気管型オゾン反応
槽は、処理が進むにつれて散気管４の表面にオゾンガス
によって酸化された鉄とかマンガンが付着して、散気管
４の目詰まりに起因する経時的なオゾン吸収効率低下現
象を引き起こす惧れがあり、これに対処して散気管自体
の交換が必要になるという問題がある。更にオゾンガス
による反応時間を充分に取るためには、反応槽を大型化
しなければならないので、設備費等に要するコストアッ
プを招来するとともに、装置を設置するための大きな敷
地面積を要することになり、都市部における浄水場のよ
うに用地確保が困難な地区での採用が難しい。

【００１４】他方の図１７に示したＵチューブ型オゾン
反応槽は、散気管型オゾン反応槽に比較してオゾン溶解
効率で５〜１０％程度向上しており、且つオゾンガスと
被処理水との接触時間も５倍以上長く取ることができる
とともに反応槽内での滞留時間は１／５以下に短縮する
ことができるという利点があるが、前記したようにオゾ
ン反応槽の水深が２０〜３０メートルと可成長くなって
いるので、散気管方式よりも施設の建設工事が複雑にな
るという問題があり、更に反応槽内に貯留される堆積物
の除去とか槽内の清掃が簡便に行えない上、反応槽の底
部近傍で何等かの障害が発生しても直ちに処置すること
ができないという難点を有している。

【００１５】ここで別の観点からオゾンの反応過程を考
察してみると、このオゾン反応過程はオゾンの拡散が律
速する初期段階と、オゾン反応が律速する後期段階とに
大別することができる。従って気液反応接触槽もこれら
の特性を踏まえた装置であることが理想的であり、例え
ばオゾン反応の初期時には拡散効率を高めるための大き
な接触面積と強力な撹拌機構を備え、オゾン反応の後期
時には十分な反応を得るための滞留時間が確保される装
置であることが望ましい。

【００１６】そこで本発明は上記に鑑みてなされたもの
であり、装置の大型化を伴わずに被処理水に対するオゾ
ンガスの吸収効率を高め、コストの低廉化がはかれる
上、経時的な吸収効率低下現象が生じない加圧型下方注
入式オゾン接触槽とその制御方法を提供することを目的
とするものである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、請求項１記載の加圧型下方注入式オゾン接触槽は、
最下段から上段に向けて複数段に分割されて被処理水が
流通可能なブロック型接触槽の重合体で構成されたオゾ
ン接触槽を構成し、このオゾン接触槽に、先端開口部が
該オゾン接触槽内の底壁に対向する近傍位置にまで導入
されているとともにこの先端開口部の直前部分に急縮部
を設けた下方注入式流入管を接続して、この流入管の中
途部に配備した渦流ポンプを介してオゾンガスと被処理
水とを流入管内に送り込んでオゾン処理するように構成
したことを特徴とする。このとき、請求項２記載の加圧
型下方注入式オゾン接触槽のように、前記オゾン接触槽
で反応後の溶存オゾン濃度を計測して、溶存オゾン濃度
コントローラによって当該計測値と予め決定した溶存オ
ゾン濃度設定値の比較により被処理水とオゾンガスの体
積比である〔Ｌ／Ｇ〕比と、前記急縮部の縮小比を変え
るための目標値を算出し、この目標値に基づく注入オゾ
ン濃度コントローラの出力によってオゾン発生装置から
供給されるオゾンガスの流量制御及び濃度制御を実施す
る一方、バルブコントローラの出力によって急縮部の内
径縮小比を変える制御を実施するとよい。

【００１８】請求項３記載の加圧型下方注入式オゾン接
触槽の制御方法は、最下段から上段に向けて複数段に分
割されて被処理水が流通可能なブロック型接触槽の重合
体で構成されたオゾン接触槽を構成し、このオゾン接触
槽に、先端開口部が該オゾン接触槽内の底壁に対向する
近傍位置にまで導入されているとともにこの先端開口部
の直前部分に急縮部を設けた下方注入式流入管を接続し
て、この流入管の中途部に配備した渦流ポンプを介して
オゾンガスと被処理水とを流入管内に送り込んでオゾン
処理する加圧型下方注入式オゾン接触槽において、前記
オゾン接触槽で反応後の溶存オゾン濃度を計測して、溶
存オゾン濃度コントローラによって当該計測値と予め決
定した溶存オゾン濃度設定値の比較により被処理水とオ
ゾンガスの体積比である〔Ｌ／Ｇ〕比と、前記急縮部の
縮小比を変えるための目標値を算出し、この目標値に基
づいて注入オゾン濃度コントローラの出力によってオゾ
ン発生装置から供給されるオゾンガスの流量制御及び濃
度制御を実施する一方、バルブコントローラの出力によ
って急縮部の内径縮小比を変える制御を実施したことを
特徴とする。

【００１９】請求項４記載の加圧型下方注入式オゾン接
触槽は、底面から立ち上がる隔壁と上面から垂下された
隔壁とによって気相部が分離されているとともに液相部
が相互に連通された上下対向流式の複数の滞留槽を有す
るオゾン接触槽を形成し、オゾン接触槽に、先端開口部
が該オゾン接触槽内の底壁に対向する近傍位置にまで導
入されているとともにこの先端開口部の直前部分に急縮
部を設けた下方注入式流入管を接続して、この流入管の
中途部に配備した渦流ポンプを介してオゾンガスと被処
理水とを流入管内に送り込んでオゾン処理するように構
成したことを特徴とする。

【００２０】このとき、請求項５記載の加圧型下方注入
式オゾン接触槽のように、前記滞留槽内に微細孔を持つ
散気管を配置して、前記オゾン発生装置から分岐して得
られたオゾンガスの放出管を該散気管に連結して、オゾ
ンガスを被処理水中に対向流として放散するようにする
とよい。

【００２１】また、請求項６記載の加圧型下方注入式オ
ゾン接触槽の制御方法は、請求項１，２，４または５記
載の加圧型下方注入式オゾン接触槽において、溶存オゾ
ン濃度コントローラとオゾン発生装置との間に注入オゾ
ン濃度コントローラを配置すると共に、処理水の通路に
設置した温度計とガスフローコントローラとの間に温度
／ガス流量コントローラを配備して、溶存オゾン濃度コ
ントローラは入力された溶存オゾン濃度の計測値と予め
決定した溶存オゾン濃度設定値から注入オゾン濃度目標
値を算出し、注入オゾン濃度コントローラは算出された
注入オゾン濃度目標値と注入オゾン濃度計の計測値を比
較して、溶存オゾン濃度を一定に保つための電力値を算
出してオゾン発生装置に出力する一方、温度計により計
測されたオゾン処理水の温度を温度／ガス流量コントロ
ーラに入力してガス流量目標値を算出し、ガスフローコ
ントローラはガス流量目標値と実際の注入オゾン流量に
基づいてオゾン発生装置にガス流量信号を発するように
したことを特徴とする。

【００２２】かかる請求項１記載のオゾン接触槽によれ
ば、既存の施設に渦流ポンプと加圧式下方流入管を付加
すればよいので、建設コストとメンテナンスの両面で有
利であるとともに、従来の散気管方式の滞留時間よりも
短い滞留時間でオゾン処理が行われる。特に接触槽の設
置面積は１／５程度に縮小されるとともに従来のＵチュ
ーブ型オゾン反応槽の高さ約２０ｍに較べて高さが４〜
５ｍに短縮されるので、設備の製作は容易になる。

【００２３】請求項２，３記載のオゾン接触槽及びその
制御方法によれば、オゾンガスの流量の変化によるオゾ
ン接触槽の流動特性の変化が極力抑えられ、動作の安定
性とともに処理水質が安定するという作用が得られる。

【００２４】又、請求項４記載のオゾン接触槽によれ
ば、加圧型下方注入式オゾン接触槽の前記動作に滞留式
オゾン接触槽の動作が加味されるため、気液反応は大き
くなるという作用が得られる。

【００２５】更に請求項５記載のオゾン接触槽によれ
ば、オゾン発生装置から分岐して得られたオゾンガスが
請求項４に記載のオゾン接触槽における滞留槽内に配置
した散気管から対向流として放散されるので、気液反応
は最大限に大きくなるという作用が得られる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下図面に基づいて本発明にかか
る下方注入式オゾン接触槽とその制御方法の各種実施例
を説明する。本実施例では散気管方式の特徴であるオゾ
ンの微細気泡化と、Ｕチューブ方式の特徴である高い吸
収効率を一つの接触槽で達成することが主眼となってい
る。図１に示した第１実施例の概要図において、１１は
オゾン接触槽であって、このオゾン接触槽１１は、最下
段から上段に向けて複数段に分割されているとともに被
処理水が流通可能なブロック型の接触槽１１ａ，１１
ｂ，１１ｃ，１１ｄの重合体で構成されており、最上段
の接触槽１１ｄに配備された処理水タンク１２からオゾ
ン処理水１０が流出する。１３は排オゾンガスの排出管
である。

【００２７】各単位毎に分割されたブロック型接触槽１
１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの側部には、最下方から
夫々サンプリングポート１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４
ｄ，１４ｅ，１４ｆ，１４ｇが配備されている。

【００２８】１５はオゾン接触槽１１に送り込まれる被
処理水２０の下方注入式流入管であり、この流入管１５
の中途部には渦流ポンプ１６が配備されている。１７は
オゾン発生装置、１８はガス放出管であり、オゾンガス
と被処理水２０とが渦流ポンプ１６を介して流入管１５
内に送り込まれる。この下方注入式流入管１５の先端開
口部１５ａはオゾン接触槽１１内の前記最下段の接触槽
１１ａの底壁に対向する近傍位置にまで導入されてお
り、この先端開口部１５ａの直前部分に急縮部１９が設
けられている。尚、流入管１５の一部にもサンプリング
ポート１５ｂが配備されている。

【００２９】図２は上記急縮部１９の具体的な構成を示
す拡大図であり、図示したように被処理水の流入管１５
の管径を部分的に小径に絞って急縮部１９が形成されて
いる。この急縮部１９を構成するための管径の縮小比は
実験的に求められる。

【００３０】上記オゾン接触槽１１の縦方向の長さは約
５〜６メートルであり、従来のＵチューブ型オゾン反応
槽の同部分の長さである２０〜３０メートルという長さ
が大幅に短縮されていて、謂わば通常の散気管型オゾン
反応槽の水深レベルと略同等であることが本実施例の構
造上の特徴ともなっている。

【００３１】かかる第１実施例におけるオゾン接触槽１
１の運転時の操作と動作原理を以下に説明する。先ず基
本的な操作としてオゾン処理すべき被処理水２０を図外
のポンプを用いて流入管１５内に流通させながら、同時
にオゾン発生装置１７を起動することによって発生した
オゾンガスをガス放出管１８を介して被処理水２０中に
送り込むと、被処理水２０とオゾンガスとが渦流ポンプ
１６内に吸引されて気液混合される。この時にオゾンガ
スは渦流ポンプ１６内のインペラー部で微細化され、被
処理水２０中に取り込まれる。

【００３２】渦流ポンプ１６の特性上、気液比，即ち被
処理水２０とオゾンガスの体積比〔Ｌ／Ｇ〕比は１０以
上にすることが必要である。

【００３３】オゾンガスが取り込まれた被処理水２０は
下方注入式流入管１５内を流下して急縮部１９に達す
る。この急縮部１９の管径縮小比によって流入管１５内
の流体の圧力が調整可能となっている。

【００３４】被処理水２０は流入管１５の先端開口部１
５ａから最下段の接触槽１１ａに下降流として送り込ま
れ、この接触槽１１ａの底壁に当たって乱流状態とな
り、更にオゾンガスと被処理水２０との接触効率が高め
られる。

【００３５】上記の動作時に、ポンプで送り込まれる被
処理水２０の流速と圧力は、両方とも高い方が望まし
い。その理由は高圧の方がオゾンガスが水中に溶解しや
すく、流速が大きいと乱流状態が激しくなってオゾン処
理対象物質との反応速度が高められるからである。

【００３６】このようにしてオゾンガスが混合された被
処理水２０は、オゾン接触槽１１を構成するブロック単
位の各接触槽１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの最下段
から上段に向けて圧力が解放された状態として流れる。
この時に径が５０μｍ程度の微細な気泡が生成するが、
この気泡径は通常の散気管方式における気泡径が１〜２
ｍｍであるのに較べて１／２０乃至１／４０となってい
る。

【００３７】被処理水は所定の滞留時間を経てから最上
段のブロック型接触槽１１ｄに配備された処理水タンク
１２からオゾン処理水１０として流出して図外のオゾン
処理水槽に一時的に貯留されて次段の工程に備える。こ
の時には当然各サンプリングポート１４ａ，１４ｂ，１
４ｃ，１４ｄ，１４ｅ，１４ｆ，１４ｇは閉止されてい
る。

【００３８】又、未反応のオゾンガスは排出管１３から
図外の排オゾン処理装置に送り込まれ、周知の熱分解，
触媒を用いた分解，土壌分解，薬液洗浄処理又は活性炭
処理によって無害なガスに分解されて大気中に放出され
る。即ち、オゾンガスはフッ素につぐ強力な酸化力を有
していて人体にも有害な物質であるため、排オゾン処理
装置での分解処理が不可欠である。

【００３９】このようなオゾンガスと被処理水２０との
接触により、脱臭，脱色，鉄マンガン，多環状化合物と
か有機物の酸化除去及び殺菌，殺藻及び異臭味の除去が
行われる。

【００４０】オゾンガスが気相から液相に移動する際に
影響を及ぼすパラメータＫ_Lａは、気液接触面積が気泡
径の二乗に比例して小さくなるため、気泡径が半分にな
ると気液接触面積は４倍になる。その結果、オゾンガス
が気相から液相移動する際に影響を及ぼすパラメータＫ
_Lａは計算上４００倍から１６００倍になる。そのため
従来式のオゾン接触槽と比較して極めて短時間，省スペ
ースの環境下でオゾン反応を進行させることが可能とな
る。

【００４１】本実施例のオゾン接触槽１１は、最下段か
ら上段に向けて複数段に分割されたブロック型接触槽１
１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの重合体で構成されてい
るため、必要に応じて単位槽としてのブロック型接触槽
の追加とか削減が自在であるという特徴を有している。
例えばオゾンガスと被処理水の接触時間を長く取りたい
場合には、同様な他のブロック型接触槽を追加重合する
ことによってオゾン接触槽としての全体的な水深を大き
くすることが可能であり、更に運転中に接触槽の一部に
不具合が生じた場合には、その接触槽のみをブロック単
位に削減するとか交換する等の処置を取ればよく、ブロ
ック型接触槽全体を交換しなくても済むという利点があ
る。

【００４２】又、上記の各単位に分割されたブロック型
接触槽１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの側部に夫々サ
ンプリングポート１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ，１
４ｅ，１４ｆ，１４ｇが配備されているので、任意のサ
ンプリングポートの開閉制御を実施することによって被
処理水２０を流出させることが可能であり、オゾンガス
との接触時間を容易に変更することが可能である。

【００４３】一般に溶存オゾン濃度一定制御は、溶存オ
ゾン濃度コントローラで溶存オゾン濃度と溶存オゾン濃
度設定値に基づいてＰＩＤ制御により注入オゾン濃度目
標値を算出する方法で行われており、注入オゾン濃度コ
ントローラはＰＩＤ制御により注入オゾン濃度目標値と
注入オゾン濃度によりオゾン発生装置を駆動するための
電力値を算出している。そしてオゾン発生装置に対する
一定送風量による制御を実施して溶存オゾン濃度の制御
を行っている。

【００４４】本実施例の場合には、図３で示したオゾン
吸収効率ηと気液比，即ち被処理水とオゾンガスの体積
比〔Ｌ／Ｇ〕の関係に基づくＬ／Ｇ制御を基本としてい
る。図３のように〔Ｌ／Ｇ〕比が増加するにつれてオゾ
ン吸収効率ηが上昇しており、このオゾン吸収効率はオ
ゾン注入率にほとんど影響を受けず、一定の注入オゾン
濃度でも（Ｌ／Ｇ）比を大きくすると処理水中の溶存オ
ゾン濃度が増加し、逆に（Ｌ／Ｇ）比を小さくすると処
理水中の溶存オゾン濃度は減少する。

【００４５】図４はオゾン吸収効率ηと圧力との関係を
示しており、〔Ｌ／Ｇ〕が一定の時には、前記流入管１
５と急縮部１９の径長比、換言すれば急縮比が小さいほ
ど流入管１５内の圧力が上昇してオゾン吸収効率は上昇
し、逆に急縮比を大きくするとオゾン吸収効率は低下す
る。これらの関係を利用して本実施例では溶存オゾン濃
度一定制御を実施する。

【００４６】図５は第１実施例における制御の実際例
（１）を示す概要図であり、図中の３１は処理水１０の
溶存オゾン濃度計、３２はオゾンガスの流路に配備され
たオゾン流量計、３３はガスフローコントローラ、３４
は溶存オゾン濃度コントローラ、３５はバルブコントロ
ーラ、１７はオゾン発生装置、３６はオゾンガスの流通
する開度調整バルブである。尚、オゾン接触槽１１と下
方注入式流入管１５及び渦流ポンプ１６、急縮部１９等
の構成は図１により説明した通りである。上記バルブコ
ントローラ３５は、急縮部１９内の内径縮小部の径長を
変えるためのコントローラである。この急縮部１９には
急縮部開閉装置（図示省略）が配備されている。

【００４７】かかる制御の態様を説明すると、前記した
ように被処理水２０を図外のポンプにより流入管１５内
を流通させながらオゾン発生装置１７で得たオゾンガス
を被処理水２０中に送り込み、渦流ポンプ１６内で気液
混合してオゾン接触槽１１内に送り込む。オゾンガスは
接触槽１１内で有機物等と反応して、反応後の溶存オゾ
ン濃度が溶存オゾン濃度計３１で計測され、その計測値
３７が溶存オゾン濃度コントローラ３４に入力される。

【００４８】溶存オゾン濃度コントローラ３４は、入力
された溶存オゾン濃度の計測値３７と予め決定した溶存
オゾン濃度設定値３８を比較して、両者が異なっていた
場合には溶存オゾン濃度を一定に保つために、前記〔Ｌ
／Ｇ〕比と急縮部１９の縮小比を変えるための目標値を
算出して出力する。

【００４９】具体的な制御出力は２系統であるが、先ず
〔Ｌ／Ｇ〕比を変えるためにガス流量目標値３９を算出
してガスフローコントローラ３３に出力する。ガスフロ
ーコントローラ３３は入力されたガス流量目標値３９と
オゾン流量計３２で計測された実際の注入オゾン流量に
基づいて開度調整バルブ３６の開閉制御を行ってオゾン
発生装置１７から供給されるオゾンガスの流量を制御す
る。被処理水２０の水量は通常一定であるため、オゾン
ガスの流量によって、液流量／オゾンガス流量の比であ
る〔Ｌ／Ｇ〕比を決定することが可能である。

【００５０】又、溶存オゾン濃度コントローラ３４で算
出された前記縮小比を変えるための目標値の制御出力４
０がバルブコントローラ３５に入力され、このバルブコ
ントローラ３５の出力４１によって急縮部１９の急縮部
開閉装置を働かせて内径縮小比を変える制御が行われ
る。

【００５１】これを更に説明すると、急激な水質の変化
に伴ってオゾンガスの流量制御が不能となって該オゾン
ガスの流量が不足するか又は過剰になることがあり、こ
の時には急縮部１９における縮小比を変更する。この縮
小比を小さくすると、オゾンガスの吸収効率が高くなっ
て有機物等の処理特性が向上し、逆に縮小比を大きくす
るとオゾンガスの吸収効率は低下するので、適宜の縮小
比を選択することによってオゾンガスの過不足に対して
直ちに対処可能となる。この縮小比の制御を実施するこ
とによってオゾン接触槽１１内の特性変化を極力抑える
ことが可能となり、オゾン接触槽自体の運転性能を高め
ることができる。

【００５２】図６はオゾン吸収効率ηとオゾン注入率Ｄ
との関係を示しており、被処理水の圧力が一定の時には
オゾン注入率Ｄを減少させることでオゾン吸収効率ηは
上昇する。

【００５３】図７は第１実施例における制御の実際例
（２）を示す概要図であり、基本的な構成は図５に示す
制御の実際例（１）とほぼ同一であるため、同一の符号
を付して表示する。この例では、前記実際例１における
ガスフローコントローラ３３に代えて、注入オゾン濃度
コントローラ４２を配備して、この注入オゾン濃度コン
トローラ４２の制御出力がオゾン発生装置１７に入力さ
れている。４４は注入オゾン濃度計である。又、制御の
実際例（１）における開度調整バルブ３６は設置されて
いない。

【００５４】かかる制御の実際例（２）によれば、被処
理水２０を流入管１５内に流通させながらオゾン発生装
置１７で得たオゾンガスを被処理水２０中に送り込み、
渦流ポンプ１６内で気液混合してオゾン接触槽１１内に
送り込んでオゾン処理を行い、反応後の溶存オゾン濃度
が溶存オゾン濃度計３１で計測されて計測値３７が溶存
オゾン濃度コントローラ３４に入力される。溶存オゾン
濃度コントローラ３４は入力された溶存オゾン濃度の計
測値３７と予め決定した溶存オゾン濃度設定値３８を比
較して、溶存オゾン濃度を一定に保つために、前記〔Ｌ
／Ｇ〕比と急縮部１９の縮小比を変えるための目標値を
算出して制御出力４０を出力する。特に被処理水２０が
可変圧力の設定範囲から外れる場合には、〔Ｌ／Ｇ〕比
を変えるために注入オゾン濃度目標値４３を算出して注
入オゾン濃度コントローラ４２に出力する。

【００５５】注入オゾン濃度コントローラ４２は入力さ
れた注入オゾン濃度目標値４３と注入オゾン濃度計４４
で計測された実際の注入オゾン濃度に基づいてオゾン発
生装置１７の駆動制御を行ってオゾン発生装置１７から
供給されるオゾンガスの流量を制御する。被処理水２０
の水量は一定であるため、オゾンガスの流量によって
〔Ｌ／Ｇ〕比を決定することが可能である。

【００５６】この実際例（２）では溶存オゾン濃度を一
定にするために、基本的には圧力制御を用いて水質を制
御するが、汚濁物質濃度の急上昇等による急速な水質の
変化によって渦流ポンプ１６の能力以上に圧力を増大さ
せる必要がある場合には、その補助的な役割としてオゾ
ン注入率，即ち注入オゾン濃度を変化させ、水質を安定
に保つ。このように制御することにより、オゾン接触槽
１１内の特性変化を極力抑えることが可能となり、シス
テムの安定性向上をはかることができる。

【００５７】次に本実施例における制御の実際例（３）
を説明する。この制御の場合には、前記渦流ポンプ１６
の回転数変更による溶存オゾン濃度一定制御を行うこと
を特徴としている。前記したようにオゾンガスの気泡を
微細化することでオゾンの水中への移動が大きく改善さ
れる。特に気泡径はポンプ１６の回転数に大きく影響を
受けるものであって、回転数が大きいほど気泡に対する
せん断力が増加し、気泡径が小さくなる。

【００５８】そこで渦流ポンプ１６による気泡微細化の
度合を該渦流ポンプ１６の回転数のコントロールによっ
て制御し、水中へのオゾンの移動速度を変化させて水質
を安定に保つことが本実施例の特徴となっている。これ
に伴って渦流ポンプ１６の駆動に必要とする電力が必要
最小限に設定されるので、節電効果も大きくなるという
メリットがある。

【００５９】次に本発明の第２実施例を説明する。前記
したようにオゾン反応をスムーズに進行させるために
は、散気管方式の特徴である気泡微細化と、Ｕチューブ
方式の特徴である高い吸収効率が達成されることが望ま
れる。そこで図８に示したようにオゾン接触槽１１に渦
流ポンプ１６を介在して上方から挿通された流入管１５
を設けて、被処理水２０とガス放出管１８を介して送り
込まれるオゾンガスを渦流ポンプ１６内に吸引して気液
混合してから流入管１５及び急縮部１９を通してオゾン
接触槽１１内に供給する。このオゾン接触槽１１の内部
には、底面から立ち上がる隔壁２，２と、上面から垂下
された隔壁３，３を配設したことによって気相部が分離
されているとともに液相部が相互に連通された上下対向
流式の複数の滞留槽４５，４６が形成されている。

【００６０】そして高いオゾン吸収率を得るために必要
な水深は、通常の散気管方式の水深レベルと同様に５〜
６ｍとし、流入管１５内の水圧を従来のＵチューブ方式
の接触槽の水圧レベルである２.０〜２.５（ｋｇｆ／ｃ
ｍ²）を確保したことが本第２実施例の特徴となってい
る。本第２実施例のＵチューブ部分の基本的動作態様は
前記第１実施例で説明した動作態様と略一致している
が、この第２実施例ではオゾン接触槽１１内に上下対向
流式の複数の滞留槽４５，４６が形成されているので、
オゾン反応の後期時における滞留時間が確保されてオゾ
ンの吸収効率がより一層高められる。

【００６１】図９，図１０は第２実施例を用いて実験検
証した特性グラフであり、図９は溶存オゾン濃度（ｍｇ
／ｌ）と滞留時間（ｍｉｎ）の関係を〔Ｌ／Ｇ〕比を各
１０，１５，２０に代えて測定した結果を示し、図１０
は同じくフミン残存率と滞留時間（ｍｉｎ）の関係を測
定した結果を示している。

【００６２】図９，図１０の結果からみて、下方注入式
の流入管１５でオゾンガスと被処理水とが混合接触した
結果、オゾンガスが急速に反応または溶存状態となり、
オゾン接触槽１１の流出口近辺では反応がほとんど終了
している。又、〔Ｌ／Ｇ〕比を変化させることによって
溶存特性及びフミン酸等の除去特性が変動することが分
かる。特に反応性が高いフミン酸等の除去には下方注入
式の流入管１５を利用してオゾンの拡散が律速する初期
段階の反応過程を促進し、反応性の低いマンガンとか多
環状化合物等の除去は前記滞留槽４５，４６の下降流部
でオゾン反応が律速する後期段階の反応過程を促進させ
る。このように第２実施例では反応性を考慮したオゾン
接触槽１１が提供されるものであり、又、既存の施設に
渦流ポンプ１６とか下方注入式の流入管１５を増設する
だけで装置が完成するので、余分な建設費を不要として
コストの低廉化に寄与するという特長がある。

【００６３】図１１は上記第２実施例における制御の実
際例を示す概要図であり、図５に示した第１実施例の制
御の実際例（１）と同一の構成部分に同一の符号を付し
て表示してある。この制御例と実際例（１）との異なっ
ている構成として、溶存オゾン濃度コントローラ３４と
オゾン発生装置１７との間に注入オゾン濃度コントロー
ラ５０が配備され、処理水１０の通路に設置した温度計
５１とガスフローコントローラ３３との間に温度／ガス
流量コントローラ５２が配備されている。温度計５１と
しては測温抵抗体等が使用可能である。

【００６４】かかる制御の態様を説明すると、前記した
ように被処理水２０中にオゾン発生装置１７で得たオゾ
ンガスを送り込み、渦流ポンプ１６内で気液混合して流
入管１５を介してオゾン接触槽１１内に送り込む。そし
てオゾン処理水１０の溶存オゾン濃度が溶存オゾン濃度
計３１で計測され、その計測値３７が溶存オゾン濃度コ
ントローラ３４に入力される。

【００６５】溶存オゾン濃度コントローラ３４は、入力
された溶存オゾン濃度の計測値３７と予め決定した溶存
オゾン濃度設定値３８から注入オゾン濃度目標値を算出
し、注入オゾン濃度コントローラ５０に出力する。する
と注入オゾン濃度コントローラ５０は入力された注入オ
ゾン濃度目標値と注入オゾン濃度計４４の計測値を比較
して、両者が異なっていた場合には溶存オゾン濃度を一
定に保つための電力値５４を算出してオゾン発生装置１
７に出力する。

【００６６】又、オゾン処理水１０の温度が温度計５１
により計測され、この計測値５５が温度／ガス流量コン
トローラ５２に入力されてガス流量目標値５６が算出さ
れ、ガスフローコントローラ３３に入力される。ガスフ
ローコントローラ３３は入力されたガス流量目標値５６
とオゾン流量計３２で計測された実際の注入オゾン流量
に基づいてガス流量信号５７を発してオゾン発生装置１
７のガス流量を制御する。

【００６７】上記の注入オゾン濃度コントローラ５０に
よる電力制御とガスフローコントローラ３３のガス流量
制御とは各独立したループを構成しており、時定数は水
温変化の方が溶存オゾン濃度の変化よりもはるかに遅い
ため、相互干渉を受けることがない。

【００６８】図１２，図１３は第２実施例を用いて実験
検証した特性グラフであり、図１２はオゾン注入率を
１.０（ｍｇ／ｌ）、下方注入管内圧力を一定にした場
合の溶存オゾン濃度（ｍｇ／ｌ）と〔Ｌ／Ｇ〕比の関係
を示し、図１３は〔Ｌ／Ｇ〕比と水温（℃）の関係を示
している。図１２からオゾン注入率と下方注入管内圧力
を一定にした時には、〔Ｌ／Ｇ〕比を大きくすると被処
理水中の溶存オゾン濃度が増加し、逆に〔Ｌ／Ｇ〕比を
小さくすると被処理水中の溶存オゾン濃度は減少してい
る。

【００６９】更に以下に説明するように、溶存オゾン濃
度は水温によってもその溶解度が大きく変化する。今、
発生オゾン濃度をＹ（ｇ／ｍ³）が水と接触した場合、
水中の溶存オゾン濃度Ｃ（ｇ／ｍ³）は、 Ｃ＝ＫＹ（Ｋ：定数）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・（１） である。（１）式の定数Ｋは、圧力と温度に依存する
が、通常は大気圧で扱われることが多いため、大気圧一
定のもとでの温度との関係が実験に基づいて（２）式で
与えられる（田畑則一，水道協会誌，４８２，１６，１
９７４）。

【００７０】 Ｋ＝0.604×(1＋t／273)／1＋0.063t・・・・・・・・・・・・・・・・（２） （２）式のｔは温度（℃）である。

【００７１】（１）（２）式から発生オゾン濃度２０
（ｇ／Ｎｍ³）の時の水温と溶存オゾン濃度の関係は、
水温が各５.０，１０.０，２０.０，３０.０（℃）の時
の溶存オゾン濃度（ｍｇ／ｌ）は各９.２，７.６，５.
７，３.９である。

【００７２】このように水温の変動により溶存オゾン濃
度も変化するので、低水温期である冬季と高水温期であ
る夏季とでは従来の一定送風量の溶存オゾン濃度一定制
御におけるオゾン発生装置の負荷が大きく変動という問
題が残る。この対策として〔Ｌ／Ｇ〕比の操作指標を水
温として前記図１３に示した関係が得られる。

【００７３】図１３から低水温期に〔Ｌ／Ｇ〕比を小さ
くし、逆に高水温期には〔Ｌ／Ｇ〕比を大きくすれば等
しい溶存オゾン濃度になることが分かる。この〔Ｌ／
Ｇ〕比の変化は送気ガス風量を変えることで達成可能で
ある。

【００７４】特に低水温期には高水温期に較べてオゾン
は溶解しやすいため、発生オゾン濃度は低くてもよい
が、溶存している除去対象物質との反応性が低くなるた
め、送気量を多くすることで気液接触効果を高める。逆
に高水温期の場合には、低水温期に較べてオゾンが溶解
しにくいため、発生オゾン濃度は高めに設定すると、溶
存している除去対象物質との反応性が高くなるため、送
気量は少なくてもよい。又、昼夜の温度変化な対しても
同様の制御を実施することができる。このように第２実
施例では、被処理水２０に対するオゾン反応の初期時に
は、下方注入方式に基づいて拡散効率を充分に高めると
ともに、オゾン反応の後期時には、複数段の滞留槽４
５，４６による滞留時間が確保されることが作用上の特
徴となっている。

【００７５】次に本発明の第３実際例を説明する。この
第３実施例では特に反応性の低い物質を多く含む原水を
処理するための加圧型下方注入式オゾン接触槽に関する
ものであり、図１４に示したようにオゾン接触槽１１に
渦流ポンプ１６を介在して上方から挿通された流入管１
５を設けて、被処理水２０とガス放出管１８を介して送
り込まれるオゾンガスを渦流ポンプ１６内に吸引して気
液混合してから流入管１５及び急縮部１９を通してオゾ
ン接触槽１１内に供給する。このオゾン接触槽１１の内
部には、第２実施例と同様に隔壁２，２と隔壁３，３に
よって上下対向流式の滞留槽４５，４６が形成されてお
り、この滞留槽４５内に数十μｍの微細孔を持つセラミ
ック等の散気管４が配置されていて、図外のオゾン発生
装置から分岐して得られたオゾンガスが該散気管４に送
り込まれて被処理水２０中に対向流として接触する。

【００７６】この第３実施例では、散気管４からのオゾ
ンガスの放散によりオゾン反応過程が繰り返されて酸化
反応が高められるとともに、オゾン反応が律速する後期
段階の反応過程がより一層促進されて、難分解性の物質
でも分解可能になるという作用が得られる。

【００７７】図１５は第３実施例の制御の実際例を示す
概要図であり、図１１に示した第２実施例の制御の実際
例と同一の構成部分に同一の符号を付して表示してあ
る。この制御例と図１１との異なっている構成として、
ガス放出管１８をガス放出管１８ａとガス放出管１８ｂ
に分岐して、一方のガス放出管１８ａをオゾン接触槽１
１の滞留槽４５内に配置された散気管４に接続するとと
もに、該ガス放出管１８ａの中途部に開度調整バルブ３
６を配備して、ガスフローコントローラ３３から出力さ
れたガス流量信号５７を開度調整バルブ３６に入力して
開度を変化させている。その他の制御態様は図１１の例
と同様である。

【００７８】この制御例では、例えば低水温期にはメイ
ン流路であるガス放出管１８ｂのオゾンガス流量を増加
させることで〔Ｌ／Ｇ〕比を小さくし、逆に高水温期に
はメイン流路のオゾンガス流量を減少させることで〔Ｌ
／Ｇ〕比を大きくする制御を行う。この時の分岐側のガ
ス放出管１８ａのオゾン量はメイン側と逆になる。

【００７９】図１５の例では、開度調整バルブ３６の開
度調整によってオゾンガス供給量の制御を実施している
ため、送風量一定の一般的なオゾン発生装置１７を用い
ても〔Ｌ／Ｇ〕比の制御を可能にするという利点があ
る。

【００８０】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる加圧型下方注入式オゾン接触槽とその制御方法によ
れば、被処理水が流入管の中途部に設けた急縮部により
加圧された状態としてオゾン接触槽内に下降流として送
り込まれてオゾンガスと被処理水との接触効率を高め、
この被処理水をオゾン接触槽を構成するブロック型接触
槽の最下段から上段に向けて送り込んで所定の滞留時間
を経てからオゾン処理水として流出することができる。

【００８１】従って被処理水に対するオゾン反応の初期
時には、下方注入方式に基づいて拡散効率を充分に高め
て反応性の高い物質の除去を行うことができるととも
に、オゾン反応の後期時にはブロック型接触槽内での反
応と滞留時間の確保に伴って反応性の低い物質の除去を
行うことができる。

【００８２】本実施例では既存の施設に渦流ポンプと加
圧式下方流入管を付加すればよいので、建設コストとメ
ンテナンスの両面で有利であるとともに、従来の散気管
方式の滞留時間よりも短い滞留時間でオゾン処理が可能
である。

【００８３】制御時にはオゾン接触槽の溶存オゾン濃度
の計測値に基づいて溶存オゾン濃度を一定に保つための
（Ｌ／Ｇ）比と、注入オゾン濃度を一定に保つための制
御、及び温度／ガス流量制御によるオゾンガス流量制御
と、急縮比を変えるための制御が行われることによって
オゾンガスの流量の変化によるオゾン接触槽の流動特性
の変化は極力抑えられて、動作の安定性とともに処理水
質が安定するという効果が得られる。

【００８４】又、請求項４記載のオゾン接触槽によれ
ば、加圧型下方注入式オゾン接触槽の前記動作に滞留式
オゾン接触槽の動作が加味されるため、気液反応は大き
くなり、更に請求項６記載のオゾン接触槽によれば、滞
留槽内に配置した散気管からオゾン発生装置から分岐し
て得られたオゾンガスが対向流として放散されるので、
気液反応は最大限に大きくなるという効果が得られる。

【００８５】本発明の場合には接触槽の設置面積は１／
５程度に縮小されるとともに従来のＵチューブ型オゾン
反応槽の高さ約２０ｍに較べて高さが４〜５ｍに短縮さ
れるので、装置の大型化を伴わずに被処理水に対するオ
ゾンガスの吸収効率を高めることができるとともに反応
槽内に貯留される堆積物の除去とか槽内の清掃を簡便に
行うことが可能となり、しかも反応槽の底部近傍で障害
が発生しても直ちに処置することができる。更にオゾン
ガスによって酸化された鉄とかマンガンの付着による目
詰まり等に伴う経時的な吸収効率低下現象が防止される
という効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる加圧型下方注入式オゾン接触槽
の第１実施例を示す概要図。

【図２】図１の要部を部分的に示す拡大図。

【図３】図１の接触槽における液流量／オゾンガス流量
の比（Ｌ／Ｇ）とオゾンガスの吸収効率の相関図。

【図４】図１の接触槽における圧力とオゾンガスの吸収
効率の相関図。

【図５】第１実施例における制御の実際例（１）を示す
概要図。

【図６】オゾン吸収効率とオゾン注入率の関係を示すグ
ラフ。

【図７】第１実施例における制御の実際例（２）を示す
概要図。

【図８】本発明の第２実施例を示す概要図。

【図９】〔Ｌ／Ｇ〕比を変えて溶存オゾン濃度と滞留時
間の相関を測定したグラフ。

【図１０】〔Ｌ／Ｇ〕比を変えてフミン残存率と滞留時
間の関係を測定したグラフ。

【図１１】第２実施例における制御の実際例を示す概要
図。

【図１２】オゾン注入率と下方注入管内圧力を一定にし
た場合の溶存オゾン濃度と〔Ｌ／Ｇ〕比の関係を示すグ
ラフ。

【図１３】〔Ｌ／Ｇ〕比と水温（℃）の関係を示すグラ
フ。

【図１４】本発明の第３実施例を示す概要図。

【図１５】第３実施例における制御の実際例を示す概要
図。

【図１６】通常の散気管型オゾン反応槽の一例を示す要
部断面図。

【図１７】通常のＵチューブ型オゾン接触槽の構造を示
す概略図。

【符号の説明】

１１…オゾン接触槽 １１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ…ブロック型接触槽 １２…処理水タンク １４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ，１４ｅ，１４ｆ，１
４ｇ…サンプリングポート １５…流入管 １５ａ…先端開口部 １６…渦流ポンプ １７…オゾン発生装置 １８…ガス放出管 １９…急縮部 ２０…被処理水 ３１…溶存オゾン濃度計 ３２…オゾン流量計 ３３…ガスフローコントローラ ３４…溶存オゾン濃度コントローラ ３５…バルブコントローラ ３６…開度調整バルブ ４２…注入オゾン濃度コントローラ ４４…注入オゾン濃度計 ４５，４６…滞留槽 ５０…注入オゾン濃度コントローラ ５１…温度計 ５２…温度／ガス流量コントローラ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 哲文 東京都品川区大崎２丁目１番17号 株式 会社明電舎内 (56)参考文献 特開 平７−275873（ＪＰ，Ａ) 実開 平６−85096（ＪＰ，Ｕ) 特許3491371（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C02F 1/78 B01F 1/00

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 最下段から上段に向けて複数段に分割さ
   れて被処理水が流通可能なブロック型接触槽の重合体で
   構成されたオゾン接触槽を構成し、このオゾン接触槽
   に、先端開口部が該オゾン接触槽内の底壁に対向する近
   傍位置にまで導入されているとともにこの先端開口部の
   直前部分に急縮部を設けた下方注入式流入管を接続し
   て、この流入管の中途部に配備した渦流ポンプを介して
   オゾンガスと被処理水とを流入管内に送り込んでオゾン
   処理するように構成したことを特徴とする加圧型下方注
   入式オゾン接触槽。
2. 【請求項２】 前記オゾン接触槽で反応後の溶存オゾン
   濃度を計測して、溶存オゾン濃度コントローラによって
   当該計測値と予め決定した溶存オゾン濃度設定値の比較
   により被処理水とオゾンガスの体積比である〔Ｌ／Ｇ〕
   比と、前記急縮部の縮小比を変えるための目標値を算出
   し、この目標値に基づく注入オゾン濃度コントローラの
   出力によってオゾン発生装置から供給されるオゾンガス
   の流量制御及び濃度制御を実施する一方、バルブコント
   ローラの出力によって急縮部の内径縮小比を変える制御
   を実施したことを特徴とする請求項１記載の加圧型下方
   注入式オゾン接触槽。
3. 【請求項３】 最下段から上段に向けて複数段に分割さ
   れて被処理水が流通可能なブロック型接触槽の重合体で
   構成されたオゾン接触槽を構成し、このオゾン接触槽
   に、先端開口部が該オゾン接触槽内の底壁に対向する近
   傍位置にまで導入されているとともにこの先端開口部の
   直前部分に急縮部を設けた下方注入式流入管を接続し
   て、この流入管の中途部に配備した渦流ポンプを介して
   オゾンガスと被処理水とを流入管内に送り込んでオゾン
   処理する加圧型下方注入式オゾン接触槽において、 前記オゾン接触槽で反応後の溶存オゾン濃度を計測し
   て、溶存オゾン濃度コントローラによって当該計測値と
   予め決定した溶存オゾン濃度設定値の比較により被処理
   水とオゾンガスの体積比である〔Ｌ／Ｇ〕比と、前記急
   縮部の縮小比を変えるための目標値を算出し、この目標
   値に基づいて注入オゾン濃度コントローラの出力によっ
   てオゾン発生装置から供給されるオゾンガスの流量制御
   及び濃度制御を実施する一方、バルブコントローラの出
   力によって急縮部の内径縮小比を変える制御を実施した
   ことを特徴とする加圧型下方注入式オゾン接触槽の制御
   方法。
4. 【請求項４】 底面から立ち上がる隔壁と上面から垂下
   された隔壁とによって気相部が分離されているとともに
   液相部が相互に連通された上下対向流式の複数の滞留槽
   を有するオゾン接触槽を形成し、オゾン接触槽に、先端
   開口部が該オゾン接触槽内の底壁に対向する近傍位置に
   まで導入されているとともにこの先端開口部の直前部分
   に急縮部を設けた下方注入式流入管を接続して、この流
   入管の中途部に配備した渦流ポンプを介してオゾンガス
   と被処理水とを流入管内に送り込んでオゾン処理するよ
   うに構成したことを特徴とする加圧型下方注入式オゾン
   接触槽。
5. 【請求項５】 前記滞留槽内に微細孔を持つ散気管を配
   置して、前記オゾン発生装置から分岐して得られたオゾ
   ンガスの放出管を該散気管に連結して、オゾンガスを被
   処理水中に対向流として放散するように構成したことを
   特徴とする請求項４記載の加圧型下方注入式オゾン接触
   槽。
6. 【請求項６】 請求項１，２，４または５記載の加圧型
   下方注入式オゾン接触槽において、 溶存オゾン濃度コントローラとオゾン発生装置との間に
   注入オゾン濃度コントローラを配置すると共に、処理水
   の通路に設置した温度計とガスフローコントローラとの
   間に温度／ガス流量コントローラを配備して、溶存オゾ
   ン濃度コントローラは入力された溶存オゾン濃度の計測
   値と予め決定した溶存オゾン濃度設定値から注入オゾン
   濃度目標値を算出し、注入オゾン濃度コントローラは算
   出された注入オゾン濃度目標値と注入オゾン濃度計の計
   測値を比較して、溶存オゾン濃度を一定に保つための電
   力値を算出してオゾン発生装置に出力する一方、温度計
   により計測されたオゾン処理水の温度を温度／ガス流量
   コントローラに入力してガス流量目標値を算出し、ガス
   フローコントローラはガス流量目標値と実際の注入オゾ
   ン流量に基づいてオゾン発生装置にガス流量信号を発す
   るようにしたことを特徴とする加圧型下方注入式オゾン
   接触槽の制御方法。