JP3523751B2 - 加圧型下方注入式オゾン接触槽とその制御方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は上下水道の処理方法
としてのオゾン処理装置に適用して有用な加圧型下方注
入式オゾン接触槽とその制御方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年における都市部での水環境の悪化に
伴って河川とか湖沼の水質汚濁が進んでおり、従来の凝
集沈澱とか砂濾過処理及び塩素処理との組み合わせだけ
では、水道用原水中の色度，臭気の除去作用に限界点が
生じている現状にある。特に我国の水道水として利用さ
れる水源の約７０％は、地表水と呼ばれる湖沼水，ダム
水及び河川水に依存しており、これら湖沼水とかダムに
は富栄養化に伴う生物活動が活発化することによるカビ
臭とか藻臭の発生があり、他方の河川水には各種排水に
含まれている有機物とかアンモニア性窒素が流入され、
河川の自然浄化作用によってこれらの流入物を完全に浄
化することは期待できない状況にある。

【０００３】このような高度経済成長に伴う水源の水質
悪化に対処するため、前塩素処理が一般的に採用されて
いるが、前塩素処理を採用した浄水過程で発生する有機
塩素化合物であるトリハロメタン（ＴＨＭ）が発ガン性
を有していることが知られている。このような水源のカ
ビ臭とか藻臭の消去、及びトリハロメタン等発ガン物質
対策として、浄水の操作工程中にオゾン処理、又は該オ
ゾン処理と活性炭処理との複合処理を導入する高度浄水
システムが検討されている。

【０００４】オゾンガスはそれ自身の持つ強力な酸化力
で水中に溶解している溶存性の有害物質を酸化除去する
作用があり、近時は上水のみならず下水処理にも採用さ
れている。しかしオゾン処理は塩素処理に比して約２倍
のコスト増となるため、オゾンガスの処理効果をより一
層高めることが要求され、そのため無数の微細なオゾン
ガスの気泡を作ることによって水とオゾンガスとの接触
効率を上げて、効率良くオゾンガスを水中に溶解吸収さ
せることが必須の要件となっている。

【０００５】従来からオゾンガスの接触効率及び吸収効
率を上げるための手段として、散気管型オゾン接触槽と
か下方注入式オゾン接触槽（Ｕチューブ型オゾン接触
槽）が知られている。上記散気管型オゾン接触槽の一例
として、例えば「オゾン利用水処理技術」（宗宮 功，
公害対策技術同好会，１９８９年５月）には、図１２に
示したように上下対向流式のオゾン接触槽の例が開示さ
れている。

【０００６】即ち、この例ではオゾン接触槽１の内部に
底面から立ち上がる隔壁２，２と、上面から垂下された
隔壁３，３が配設されていて、この隔壁２，３によって
気相部が分離されているとともに液相部が相互に連通さ
れた越流式の複数の反応室が構成されている。

【０００７】そして各室の内方底面近傍に数十μｍの微
細孔を持つセラミック等の散気管４，４が配置されてい
て、図外のオゾン発生装置から得られるオゾンガスが該
散気管４，４に送り込まれ、流入口５から流入する被処
理水とオゾンガスとが矢印Ａ，Ａに示すように対向流と
して接触することによって該オゾンガスの接触効率が高
められ、オゾン処理水１０として流出する。

【０００８】他方の下方注入式オゾン反応槽（Ｕチュー
ブ型オゾン反応槽）は別名インジェクター型オゾン接触
槽とも呼称され、図１３に示したように縦長のオゾン接
触槽１の内方に内管６が配置されていて、オゾン発生装
置７で得られるオゾンガスがガス放出管８を介して内管
６の上部から送り込まれる。そしてオゾンガス接触槽１
の側方の流入口５から流入する被処理水とオゾンガスと
が内管６内で下降流として継続的に接触して所望のオゾ
ン処理が行われ、そのまま内管６の外壁面に沿って上昇
してオゾン接触槽１の上方部からオゾン処理水１０とし
て流出する。未反応のオゾンガスは排オゾン処理装置９
に送り込まれて清浄化処理される。

【０００９】上記オゾン接触槽１の縦方向の長さは２０
〜３０メートルと可成長くなっていて、これによって内
管６内の水圧が２.０〜２.５（ｋｇｆ／ｃｍ²）のレベ
ルに保持される。

【００１０】このＵチューブ型オゾン接触槽は、内管６
で発生する乱流によってオゾンガスと被処理水との気液
接触効果が高められ、オゾンガスが内管６内を流下する
につれて増大する水圧によって該オゾンガスの水中への
溶解が促進されるので、散気管方式に較べてオゾン溶解
効率で５〜１０％向上しており、オゾンガスと被処理水
との接触時間を約５倍以上取ることができるとともに反
応槽内での滞留時間は１／５以下に短縮することができ
るという特徴を有している。又、オゾン接触槽が縦長で
あるため、オゾン処理施設の設置スペースが散気管方式
の１／５ですむという利点を有している。

【００１１】かかるオゾン反応槽を用いることにより、
塩素よりもはるかに酸化力の強力なオゾンガスによって
被処理水の異臭味とか色度除去、有害物質の酸化除去が
行われる（上記Ｕチューブ型オゾン処理装置に関して
は、第２回日本オゾン協会年次研究講演会講演集の第７
６頁〜第７７頁，鳥山ら「Ｕチューブ型オゾン接触槽の
有機物除去特性」を参照）。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記した
高度浄水システム等に採用されるオゾン接触槽は、被処
理水に対するオゾンガスの吸収効率を上げるための制御
方法が確立されていないため、経時的な吸収効率低下現
象が発生する惧れがある外、装置の大型化等に起因する
コストアップを招来してしまうという課題がある。

【００１３】例えば図１２に示した散気管型オゾン接触
槽は、処理が進むにつれて散気管４の表面にオゾンガス
によって酸化された鉄とかマンガンが付着して、散気管
４の目詰まりに起因する経時的なオゾン吸収効率低下現
象を引き起こす惧れがあり、これに対処して散気管自体
の交換が必要になるという問題がある。更にオゾンガス
による反応時間を充分に取るためには、接触槽を大型化
しなければならないので、設備費等に要するコストアッ
プを招来するとともに、装置を設置するための大きな敷
地面積を要することになり、都市部における浄水場のよ
うに用地確保が困難な地区での採用が難しい。

【００１４】他方の図１３に示したＵチューブ型オゾン
接触槽は、散気管型オゾン接触槽に比較してオゾン溶解
効率で５〜１０％程度向上しており、且つオゾンガスと
被処理水との接触時間も５倍以上長く取ることができる
とともに接触槽内での滞留時間は１／５以下に短縮する
ことができるという利点があるが、前記したようにオゾ
ン接触槽の水深が２０〜３０メートルと可成長くなって
いるので、散気管方式よりも施設の建設工事が複雑にな
るという問題があり、更に接触槽内に貯留される堆積物
の除去とか槽内の清掃が簡便に行えない上、接触槽の底
部近傍で何等かの障害が発生しても直ちに処置すること
ができないという難点を有している。

【００１５】ここで別の観点からオゾンの反応過程を考
察してみると、このオゾン反応過程はオゾンの拡散が律
速する初期段階と、オゾン反応が律速する後期段階とに
大別することができる。従って気液反応接触槽もこれら
の特性を踏まえた装置であることが理想的であり、例え
ばオゾン反応の初期時には拡散効率を高めるための大き
な接触面積と強力な撹拌機構を備え、オゾン反応の後期
時には十分な反応を得るための滞留時間が確保される装
置であることが望ましい。

【００１６】前記２種類のオゾン接触槽の反応過程を考
慮すると、オゾン反応の初期時にはＵチューブ型オゾン
接触槽が適しており、オゾン反応の後期時には散気管型
オゾン接触槽が適しているものといえる。

【００１７】更に近時はオゾンの酸化力を高めるため
に、促進酸化処理法（ＡＯＰ法と略称される）が開発さ
れている。この促進酸化処理法を大別すると、「オゾン
・過酸化水素処理」，「オゾン・紫外線処理」が挙げら
れる。このような併用処理の特徴は処理時間の短縮とか
処理装置の小型化をはかる点にあり、特に「オゾン・過
酸化水素処理」方法は欧米で実用化されている。

【００１８】上記のオゾン・過酸化水素及びオゾン・紫
外線併用処理は、何れもオゾンからＯＨラジカル（間接
反応）を生成することで酸化を促進することが動作原理
となっている。しかしながら有機物質群の中ではＯＨラ
ジカルよりもオゾンとの境膜反応（直接反応）の方が反
応性に富む有機物質群，たとえばフルボ酸があると言わ
れている。従ってオゾン併用処理を適用する場合には、
直接反応を利用するのか間接反応を利用するのかを意識
して処理過程を明確に設定する必要があり、又、オゾン
と過酸化水素等が過剰注入にならないように留意して水
質基準に適合した処理水を得ることが要求される。

【００１９】そこで本発明は上記に鑑みてなされたもの
であり、装置の大型化を伴わずに被処理水に対するオゾ
ンガスの吸収効率を高め、コストの低廉化がはかれる
上、経時的な吸収効率低下現象が生じることがなく、且
つ促進酸化処理を適用した際のオゾンと過酸化水素が過
剰注入にならないようにした加圧型下方注入式オゾン接
触槽とその制御方法を提供することを目的とするもので
ある。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するために、請求項１に記載されたように、先ず、最
下段から上段に向けて複数段に分割されているとともに
被処理水が滞留しながら流通可能なブロック型接触槽の
重合体で成るオゾン接触槽と、上記オゾン接触槽に送り
込まれる被処理水の流入部に配備され、オゾン注入管か
ら被処理水中に注入されたオゾンガスとを気液混合する
加圧渦流ポンプと、オゾン接触槽内に挿入配置され、前
記気液混合された被処理水が下降流として落下する下方
注入管と、オゾン接触槽の底壁に対向する部位に形成さ
れた下方注入管の先端開口部近傍に形成された管内圧力
調整用の急縮部と、該急縮部の上流側に接続された流入
管から過酸化水素を送り込む過酸化水素添加装置と、上
記オゾン接触槽に併設され、溶存オゾンと過酸化水素か
らＯＨラジカルを生成する反応槽とを備えてなる加圧型
下方注入式オゾン接触槽の構成にしてある。

【００２１】また、請求項２に記載されたように、上記
被処理水の流入管に圧力計と流量計を配備し、更に前記
加圧型下方注入式のブロック型接触槽の重合体からなる
オゾン接触槽に過酸化水素・オゾン注入率比コントロー
ラ、オゾン注入率コントローラ、過酸化水素注入率コン
トローラ、注入オゾン濃度コントローラ、バルブ開度コ
ントローラを配備して、予め設定した過酸化水素・オゾ
ン注入率比設定値から過酸化水素・オゾン注入率比コン
トローラがオゾン注入率目標値と過酸化水素注入率目標
値を算定してそれぞれオゾン注入率コントローラと過酸
化水素注入率コントローラに出力し、オゾン注入率コン
トローラは被処理水の流量信号と上記オゾン注入率目標
値とから注入オゾン濃度目標値を算定して注入オゾン濃
度コントローラに出力する一方、過酸化水素注入率コン
トローラは過酸化水素注入率目標値から過酸化水素注入
量目標値を求めてバルブ開度コントローラに出力し、各
オゾン発生装置の駆動と過酸化水素の注入率を調整する
ようにするとよい。

【００２２】さらに、請求項３に記載されたように、前
記加圧型下方注入式のブロック型接触槽の重合体からな
るオゾン接触槽に過酸化水素注入率コントローラ、バル
ブ開度コントローラを配備するとともに反応槽から処理
水が流出する管路に溶存オゾン濃度計を配備して、この
溶存オゾン濃度計によって測定された溶存オゾン濃度値
から過酸化水素注入率コントローラが溶存オゾン濃度目
標値に合うように過酸化水素注入量目標値を求めてバル
ブ開度コントローラに出力し、該バルブ開度コントロー
ラは溶存オゾン濃度が一定になるようにバルブ開度目標
値を求めて流量調整バルブの開度を調整するようにして
もよい。

【００２３】また、請求項４記載のように、上記溶存オ
ゾン濃度計に代えて過酸化水素濃度計を配備した制御方
法にしてあり、さらに、請求項５記載のように、加圧渦
流ポンプに被処理水の流入水量を調整する可変速器を配
備するとともにオゾン接触槽に処理水量コントローラ、
急縮部開度コントローラ、過酸化水素注入量コントロー
ラを配備して、処理水量設定値と被処理水の流量信号に
基づいて処理水量コントローラが処理水量目標値を算定
して可変速器に出力し、この可変速器の出力信号により
加圧渦流ポンプの回転数を変えて被処理水の流入量を変
化させると同時に、圧力計による被処理水の圧力信号
と、予め決定された圧力設定値から急縮部開度コントロ
ーラが求めた急縮部開度目標値に基づいて前記急縮部の
開度を調整するようにしてもよい。

【００２４】

【００２５】かかる請求項１記載の加圧型下方注入式オ
ゾン接触槽と請求項２記載の制御方法によれば、被処理
水内にオゾン注入管を介してオゾンガスを送り込み、加
圧渦流ポンプを起動することによってオゾンガスと被処
理水とが加圧渦流ポンプによって混合・微細気泡化され
て高溶存オゾン水となり、下方注入管内を気液が接触し
ながら下降する際に急縮部によって管内圧力が所定値に
調整される。そして下方注入管に形成された急縮部を通
過してから接触槽底壁に当たって乱流状態となり、オゾ
ンガスと被処理水との接触効率が高められ、オゾン処理
水として反応槽に流入する。反応槽では過酸化水素と溶
存オゾンからＯＨラジカルが生成して、このＯＨラジカ
ルによってオゾン単独処理と比較して除去対象物質が効
率的に処理され、反応槽から導出された排出口から処理
水して排出される。

【００２６】このような動作時に、過酸化水素・オゾン
注入率比設定値に基づいて過酸化水素・オゾン注入率比
コントローラがオゾン注入率目標値と過酸化水素注入率
目標値を算定して、オゾン注入率コントローラと過酸化
水素注入率コントローラに出力することにより、オゾン
発生装置の駆動状態と過酸化水素注入用バルブの開度が
最適に制御されてオゾン注入率・過酸化水素注入率が一
定となる。

【００２７】請求項３記載の制御方法によれば、反応槽
から処理水が流出する管路に配備された溶存オゾン濃度
計によって測定された溶存オゾン濃度値が過酸化水素注
入率コントローラに入力され、溶存オゾン濃度目標値に
合うように過酸化水素注入量目標値を求めてバルブ開度
コントローラに出力し、このバルブ開度コントローラは
溶存オゾン濃度が一定になるようにバルブ開度目標値を
求めて流量調整バルブの開度ず調整される。

【００２８】請求項４記載の制御方法によれば、上記溶
存オゾン濃度計に代えて過酸化水素濃度計を配備し、こ
の過酸化水素濃度計によって測定された過酸化水素濃度
値から過酸化水素注入率コントローラが過酸化水素濃度
目標値に合うように注入量目標値を求めてバルブ開度コ
ントローラに出力し、前記の制御例と同様にバルブ開度
コントローラが過酸化水素濃度が一定になるようにバル
ブ開度目標値を求めて流量調整バルブの開度が調整され
る。

【００２９】請求項５記載の制御方法によれば、処理水
量設定値が処理水量コントローラに入力されると、該処
理水量コントローラ被処理水の流量と処理水量設定値と
から処理水量目標値を算定して可変速器に出力し、この
可変速器により流入水量が調整されて流入管内を圧送さ
れ、更に下方注入管内の圧力を変化させるために圧力設
定値が急縮部開度コントローラに入力されると、この急
縮部開度コントローラ圧力計による流量信号と圧力設定
値とから急縮部開度目標値を求めて急縮部に出力し、こ
の急縮部の開度によって管内圧力が最適に設定される。

【００３０】

【００３１】

【発明の実施の形態】以下図面に基づいて本発明にかか
る加圧型下方注入式オゾン接触槽の基本構成とその各種
制御方法を説明する。図１は本実施例にかかる加圧型下
方注入式オゾン接触槽の基本的構成を示す概略図であ
り、図中の１１は本実施例を適用したオゾン接触槽、１
４は該オゾン接触槽１１に併設された反応槽であり、オ
ゾン接触槽１１は最下段から上段に向けて複数段に分割
されているとともに被処理水が流通可能なブロック型の
接触槽１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの重合体で構成
されており、最上段の接触槽１１ｄに配備された処理水
タンク１２からオゾン処理水１０が流出して反応槽１４
に流入する。１３，１３ａは排オゾンガスの排出管であ
り、１０ａは反応槽１４の下側部から導出された処理水
２０ａの排出口である。

【００３２】１５はオゾン接触槽１１に送り込まれる被
処理水２０の流入管であり、この流入管１５に対する被
処理水２０の流入部には加圧渦流ポンプ１６が配備され
ている。更に該加圧渦流ポンプ１６の前段には、被処理
水２０中に図外のオゾン発生装置からオゾンガスを送り
込むためのオゾン注入管１７が連結されている。加圧渦
流ポンプ１６内にはインペラー部が構成されていて、オ
ゾンガスと被処理水２０とを「混合・微細気泡化・圧
送」するという三つの機能を有している。

【００３３】上記加圧渦流ポンプ１６の下流側に位置す
る流入管１５には、圧力計１８と流量計１９が配置され
ている。この流入管１５はオゾン接触槽１１内に挿入配
置された下方注入管２１に連結されており、この下方注
入管２１の先端開口部はオゾン接触槽１１内の前記最下
段の接触槽１１ａの底壁に対向する近傍位置にまで延長
されている。この先端開口部の近傍部位には、下方注入
管２１の管内圧力を調整するための急縮部２２が形成さ
れている。

【００３４】一方、２３は過酸化水素添加装置であり、
この過酸化水素添加装置２３により過酸化水素（Ｈ
₂Ｏ₂）が流入管２４から流量調整バルブ２５及び流量計
２６を介して前記急縮部２２の上流側に導入されてい
る。図２は急縮部２２と過酸化水素の流入管２４との関
係を示す部分的拡大図であって、急縮部２２は下方注入
管２１の管径を部分的に小径に絞ったオリフィス２２ａ
により構成されている。尚、上記オリフィス２２ａの開
度は適宜に調整可能となっている。

【００３５】上記オゾン接触槽１１の縦方向の長さは約
５〜６メートルであり、従来のＵチューブ型オゾン接触
槽の同部分の２０〜３０メートルという長さが大幅に短
縮されていて、謂わば通常の散気管型オゾン接触の水深
レベルと略同等でしかもＵチューブ型オゾン接触槽の水
圧（２.０〜２.５ｋｇｆ／ｃｍ²）を確保し、且つ生成
した高溶存オゾン水に過酸化水素を注入することによっ
てＯＨラジカルを生成して間接反応を促進することが本
実施例の構造上の特徴ともなっている。

【００３６】かかる本実施例におけるオゾン接触槽１１
の運転時の操作と動作原理を以下に説明する。先ず基本
的な操作としてオゾン処理すべき被処理水２０内にオゾ
ン注入管１７を介してオゾンガスを送り込み、加圧渦流
ポンプ１６を起動することによってオゾンガスと被処理
水２０とがこの加圧渦流ポンプ１６のインペラー部によ
って混合・微細気泡化され、高溶存オゾン水となって流
入管１５内を圧送され、圧力計１８と流量計１９によっ
て圧力と流量が計測されてから下方注入管２１内を気液
が接触しながら下降する。この時に、ポンプの特性上か
ら被処理水流量／オゾンガス流量の比（Ｌ／Ｇ比と略
称）を１０以上とし、又、急縮部２２を構成するオリフ
ィス２２ａの開度を調整することによって管内圧力は０
〜４.０（ｋｇｆ／ｃｍ²）に調整される。

【００３７】下方注入管２１内は大きな乱流状態（レイ
ノルズ数２００００以上）であるので、撹拌作用はきわ
めて大きくなる。特に急縮部２２の内径と下方注入管２
１の内径の比、即ち急縮比は０.２〜０.６が適当であ
る。

【００３８】同時に過酸化水素添加装置２３から発生す
る過酸化水素が流入管２４から流量調整バルブ２５及び
流量計２６を介して急縮部２２の上流側に導入され、図
２に示した急縮部２２を構成するオリフィス２２ａから
被処理水２０内に送り込まれる。過酸化水素の注入口先
端はオリフィス２２ａに近づけてあり、この注入口先端
とオリフィス２２ａの内径比は０.１〜０.３が適当であ
る。

【００３９】この地点で過酸化水素を注入する理由は、
急縮部２２が溶存オゾン濃度が最も上昇する地点である
という実験事実に基づいており、過酸化水素の注入に伴
って高溶存オゾン水と過酸化水素とが混合撹拌されて間
接反応が促進され、ＯＨラジカルが多量に生成する。
又、下方注入管２１内が加圧状態であっても急縮部２２
では吸引作用が働いており、特別な加圧を行わなくても
容易に過酸化水素を吸引する作用がある。過酸化水素の
添加量は、過酸化水素・オゾンモル比で０.５〜２が適
当である。

【００４０】そして下方注入管２１に形成された急縮部
２２を通過してから最下段の接触槽１１ａの底壁に当た
って乱流状態となり、これによって被処理水２０とオゾ
ンガス及び過酸化水素の接触効率が高められる。

【００４１】上記の動作時に、加圧渦流ポンプ１６で送
り込まれる被処理水２０の流速と圧力は、両方とも高い
方が望ましい。その理由はヘンリーの法則によって高圧
の方がオゾンガス接触後のオゾンの水中への溶解を容易
にするためと、流速が大きいと乱流状態が激しくなって
除去対象物質との反応が早く進行する点にある。又、被
処理水２０の流速と圧力が高い方が急縮部２２のオリフ
ィス部分で発生する圧力損失を補うことができる。

【００４２】このようにしてオゾンガスと過酸化水素と
が混合された被処理水２０は、オゾン接触槽１１を構成
するブロック単位の各接触槽１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，
１１ｄの外管部の最下段から上段に向けて流れるが、こ
こでは内管部での圧力が急激に解放され、径長５０μｍ
程度の多量の微細な気泡が生成する。この径長は通常の
散気管方式における気泡径が１〜２ｍｍであるのに対し
て１／２０〜１／４０となっている。

【００４３】オゾンが気相から液相へ移動する際に影響
を及ぼすパラメータＫ_Lａは、気液接触面積が気泡径に
比例して小さくなるため、気泡径が半分になると気液接
触面積は２倍になる。その結果、オゾンが気相から液相
へ移動する際に影響を及ぼすパラメータＫ_Lａは２０倍
から４０倍になる。そのために非常に短時間でオゾン反
応が進行する。そして最上段の処理水タンク１２からオ
ゾン処理水１０として流出して反応槽１４に流入する。

【００４４】反応槽１４では過酸化水素と溶存オゾンか
らＯＨラジカルが生成して、このＯＨラジカルによって
オゾン単独処理と比較して除去対象物質が効率的に処理
される。そして反応槽１４の下側部から導出された排出
口１０ａから処理水２０ａとして排出される。

【００４５】尚、前記オゾン接触槽１１における各単位
に分割されたブロック型接触槽１１ａ，１１ｂ，１１
ｃ，１１ｄの側部に夫々サンプリングポートを配備して
おくことにより、任意のサンプリングポートの開閉制御
を実施して被処理水２０を流出させることが可能であ
り、オゾンガス及び過酸化水素との接触時間を容易に変
更することが可能である。

【００４６】又、未反応のオゾンガスは排出管１３及び
１３ａから図外の排オゾン処理装置に送り込まれ、周知
の熱分解，触媒を用いた分解，土壌分解，薬液洗浄処理
又は活性炭処理によって無害なガスに分解されて大気中
に放出される。即ち、オゾンガスはフッ素につぐ強力な
酸化力を有していて人体にも有害な物質であるため、排
オゾン処理装置での分解処理が不可欠である。

【００４７】このようなオゾンガスと被処理水２０との
接触により、脱臭，脱色，鉄マンガン，多環状化合物と
か有機物の酸化除去及び殺菌，殺藻及び異臭味の除去が
行われる。

【００４８】上記のようなオゾン−過酸化水素併用処理
では、溶存オゾンに対する過酸化水素の添加量が重要な
要素となる。図３は水中での溶存オゾン、過酸化水素そ
れぞれの濃度と過酸化水素・オゾンモル比との関係を示
すグラフであり、図示したように過酸化水素を添加する
ことによって溶存オゾンは減少し、且つ過酸化水素を過
剰に添加すると水中に残留する。そこで最終的な溶存オ
ゾン濃度を一定に保ちつつ、過酸化水素を過剰に注入し
ないように制御する必要がある。

【００４９】次に図４に基づいて本実施例における制御
例１を説明する。図中の１１は前記オゾン接触槽、１４
は反応槽、１５は被処理水２０の流入管、１６は加圧渦
流ポンプ、１７はオゾン注入管、１９は被処理水２０の
流量計であり、オゾン注入管１７にオゾン発生装置７で
得られるオゾンガスが供給されている。２８は注入オゾ
ン濃度コントローラ、２９はオゾン注入率コントロー
ラ、３０は過酸化水素・オゾン注入率比コントローラ、
３１は過酸化水素注入率コントローラ、３２はバルブ開
度コントローラである。尚、過酸化水素はポンプ２７の
作用により流入管２４から流量調整バルブ２５及び流量
計２６を介してオゾン接触槽１１内に送り込まれてお
り、前記オゾン接触槽１１と加圧渦流ポンプ１６等の構
成は図１により説明した通りである。

【００５０】かかる制御例１によれば、過酸化水素・オ
ゾン注入率比コントローラ３０に予め設定した過酸化水
素・オゾン注入率比設定値３３が入力されると、この過
酸化水素・オゾン注入率比コントローラ３０がオゾン注
入率目標値３４を算定してオゾン注入率コントローラ２
９に出力し、同時に過酸化水素注入率目標値３５を算定
して過酸化水素注入率コントローラ３１に出力する。

【００５１】オゾン注入率コントローラ２９には流量計
１９で測定された被処理水２０の流量信号３６が入力さ
れており、オゾン注入率コントローラ２９は上記オゾン
注入率目標値３４と流量信号３６とから注入オゾン濃度
目標値３８を算定して注入オゾン濃度コントローラ２８
に出力する。注入オゾン濃度コントローラ２８は上記入
力データからオゾン発生装置７に対する制御信号４０を
発して該オゾン発生装置７の駆動状態が制御される。通
常制御信号４０は電力値としてオゾン発生装置７に入力
され、このオゾン発生装置７からオゾンガスが一定の注
入率でオゾン注入管１７に供給される。このオゾン発生
量は流量計４１により計測されて注入オゾン濃度コント
ローラ２８にフィードバックされている。

【００５２】他方の過酸化水素注入率コントローラ３１
は、前記過酸化水素注入率目標値３５から過酸化水素注
入量目標値３９を求めてバルブ開度コントローラ３２に
出力する。このバルブ開度コントローラ３２には流量計
２６によって測定された過酸化水素の流量が入力されて
おり、これらの入力データからバルブ開度コントローラ
３２はバルブ開度目標値４２を求めて流量調整バルブ２
５に出力して過酸化水素の注入率を一定に制御する。従
って本制御例１はオゾン注入率・過酸化水素注入率一定
制御が基本となっている。

【００５３】次に本実施例における制御例２を説明す
る。前記したようにオゾン・過酸化水素併用処理でも通
常のオゾン処理と同様に最終的な処理水の溶存オゾン濃
度が大きくならないことが肝要である。そこで水中の溶
存オゾン濃度が一定となるように過酸化水素注入量を変
化させる制御例を構築した。

【００５４】これにより図５に示す制御例２を実現し
た。制御例２におけるオゾン接触槽１１と反応槽１４へ
のオゾン並びに過酸化水素の供給機構は制御例１と一致
しているため、同一の構成部分に同一の符号を付してあ
り、説明の重複を避ける。

【００５５】即ち、この制御例２の場合には、反応槽１
４から処理水２０ａが流出する管路に溶存オゾン濃度計
４４を配備し、この溶存オゾン濃度計４４によって測定
された溶存オゾン濃度値４５が過酸化水素注入率コント
ローラ３１に入力されている。このような制御によれ
ば、過酸化水素注入率コントローラ３１は、溶存オゾン
濃度目標値，例えば０.１（ｍｇ／ｌ）に合うように過
酸化水素注入量目標値３９を求めてバルブ開度コントロ
ーラ３２に出力する。バルブ開度コントローラ３２には
前記例と同様に流量計２６によって測定された過酸化水
素の流量が入力されており、これらの入力データからバ
ルブ開度コントローラ３２は溶存オゾン濃度が一定にな
るようにバルブ開度目標値４２を求めて流量調整バルブ
２５に出力する。従って本制御例２は溶存オゾン濃度一
定制御が基本となっている。

【００５６】次に本実施例における制御例３を説明す
る。オゾン・過酸化水素併用処理では処理水２０ａの過
酸化水素濃度を極力抑えることが肝要である。何故なら
ば過酸化水素の濃度が大きくなると人体に悪影響を及ぼ
す惧れがあり、フランスの水道水質基準では過酸化水素
濃度は０.５（ｍｇ／ｌ）以下と定められている。そこ
で水中の過酸化水素濃度が一定となるように過酸化水素
注入量を変化させる制御例を構築した。

【００５７】そこで図５に示す制御例２における反応槽
１４から処理水２０ａが流出する管路に配備した溶存オ
ゾン濃度計４４に代えて、過酸化水素濃度計を配備し
て、この過酸化水素濃度計によって測定された過酸化水
素濃度値を過酸化水素注入率コントローラ３１に入力
し、この過酸化水素注入率コントローラ３１が過酸化水
素濃度目標値，例えば０.５（ｍｇ／ｌ）に合うように
過酸化水素注入量目標値３９を求めてバルブ開度コント
ローラ３２に出力し、前記の制御例と同様にバルブ開度
コントローラ３２は過酸化水素濃度が一定になるように
バルブ開度目標値４２を求めて流量調整バルブ２５の開
度を調整する。

【００５８】次に本実施例における制御例４を説明す
る。前記したように加圧型下方注入式オゾン接触槽では
被処理水流量／オゾンガス流量の比，即ち、Ｌ／Ｇ比と
か加圧値が変化するとオゾン吸収特性が変化し、オゾン
処理特性も変化する。図６はオゾン吸収効率η（％）と
Ｌ／Ｇ比の関係を示すグラフであり、図７はオゾン吸収
効率η（％）と管内圧力（ｋｇｆ／ｃｍ²）の関係を示
すグラフである。図６，図７によれば、オゾン吸収効率
が９０％以上であることを目標とした場合、オゾンガス
流量が一定条件下では、Ｌ／Ｇ比が１０以上で且つ管内
圧力が１.５（ｋｇｆ／ｃｍ²）以上となる。従ってＬ／
Ｇ比と管内圧力の両条件を満たす操作が必要である。

【００５９】又、オゾンガスの溶解度はヘンリーの法則
に従っており、その溶解度は分圧に比例する。このヘン
リーの法則を前記加圧型下方注入式オゾン接触槽で検証
すると図８の結果が得られる。図８は前記Ｌ／Ｇ比とオ
ゾン注入率を一定として、管内圧力を各４.０，２.０，
１.０（ｋｇｆ／ｃｍ²）とした場合の本オゾン接触槽に
おける滞留時間（ｍｉｎ）と溶存オゾン濃度（ｍｇ／
ｌ）の関係を示しており、横軸の滞留時間は前記オゾン
接触槽１１の高さ方向の長さを滞留時間に換算した値
（ｍｉｎ）である。図８からＬ／Ｇ比とオゾン注入率が
一定の条件下では、管内圧力を高くすると溶存オゾン濃
度も高くなる。従ってＬ／Ｇ比，オゾン注入率，過酸化
水素注入率が一定の条件下では圧力を高くすると溶存オ
ゾン濃度も高くなることが分かる。

【００６０】そこで図６，図７に示すオゾン吸収効率を
目標値として、Ｌ／Ｇ比と加圧値及び過酸化水素注入量
を変化させる制御として、図９に示す制御例４を構築し
た。ここで４７は処理水量コントローラ、４８は加圧渦
流ポンプ１６による被処理水２０の量を変化させるため
の可変速器、４９は急縮部開度コントローラ、５０は過
酸化水素注入量コントローラである。他の構成は制御例
２，３と基本的に一致している。

【００６１】制御例４の場合には、処理水量設定値５１
が処理水量コントローラ４７に入力されると、該処理水
量コントローラ４７は流量計１９により計測された流量
信号５２と処理水量設定値５１から処理水量目標値５３
を算定して可変速器４８に出力し、この可変速器４８の
出力信号５４により加圧渦流ポンプ１６の回転数を変え
て被処理水２０の流入量を変化させる。更に下方注入管
２１内の圧力を変化させるために圧力設定値５５が急縮
部開度コントローラ４９に入力されると、この急縮部開
度コントローラ４９は圧力計１８により計測された流量
信号５６と圧力設定値５５とから急縮部開度目標値５７
を求めて急縮部２２に出力する。この急縮部２２の開度
によって管内圧力は前記した通り１.５（ｋｇｆ／ｃ
ｍ²）以上に設定される。

【００６２】ここで被処理水２０の流量低減は可変速器
４８による流入水量調整と急縮部２２のオリフィス径調
整で達成することができるが、一般のオゾン発生装置は
ガス流量の制御は行っていないため、前記Ｌ／Ｇ比の目
標値を満たすことができないという問題がある。従って
可変速器４８による回転数制御によって可変速範囲を制
限する必要がある。

【００６３】又、管内圧力と被処理水２０の水量をコン
トロールすると相互干渉を受けることがあるため、圧力
の設定値は１.５（ｋｇｆ／ｃｍ²）を閾値として判断条
件を設定し、この閾値以上であれば開度調整は実施しな
い方法が適当である。

【００６４】上記の制御によってオゾン吸収効率が安定
しても前記図８に示したように加圧値が変化すると溶存
オゾン濃度が変化し、除去対象物質の濃度が変化すると
溶存オゾン濃度も変化する。そこで反応槽１４から処理
水２０ａが流出する管路に配備した溶存オゾン濃度計４
４によって測定された溶存オゾン濃度値５８が過酸化水
素注入量コントローラ５０に入力されると、この過酸化
水素注入量コントローラ５０は過酸化水素注入率制限値
５９と溶存オゾン濃度値５８とから過酸化水素注入率目
標値６０を求めてバルブ開度コントローラ３２に出力
し、バルブ開度コントローラ３２は過酸化水素注入率が
一定になるようにバルブ開度目標値４２を求めて流量調
整バルブ２５の開度を調整する。

【００６５】ここでは溶存オゾン濃度が高い時に過酸化
水素注入率を増加させ、溶存オゾン濃度が低い場合には
過酸化水素注入率を減少させるように制御する。尚、過
酸化水素注入率には最大値を決めておき、その値以上に
はならないようにする必要がある。

【００６６】本制御例４では管内圧力を１.５〜４.０
（ｋｇｆ／ｃｍ²）の範囲で可変することで溶存オゾン
濃度を一定に保つことが特徴となっている。但し加圧値
が加圧範囲内でも目標とする溶存オゾン濃度値に到達し
ない場合には、過酸化水素注入率を可変とすることが特
徴となっている。

【００６７】次に本実施例における制御例５を説明す
る。オゾン・過酸化水素併用処理の目標の一つにトリハ
ロメタン生成能と相関性が大きいＥ２６０（波長２６０
ｎｍにおける紫外線吸光度，通常有機物量の指標として
用いられる）成分の除去がある。図１０はＥ２６０除去
率とオゾン注入率の関係を示すグラフであり、Ｅ２６０
除去率はＬ／Ｇ比が１０〜２０、加圧値Ｐが３〜４（ｋ
ｇｆ／ｃｍ²）の範囲ではオゾン注入率に対して同じ除
去特性が得られていることが分かる。又、Ｌ／Ｇ比とオ
ゾン注入率が一定の条件下では加圧による有機物除去変
化が確認できることが判明した。従って加圧値を操作因
子とすると、ＵＶ値一定制御も可能となる。

【００６８】そこでＥ２６０成分を水質の指標として処
理水中のＥ２６０濃度と溶存オゾン濃度を一定にするた
めの制御を構築した。図１１において６１はＵＶ値コン
トローラ、２８は注入オゾン濃度コントローラ、５０は
過酸化水素注入量コントローラ、３２はバルブ開度コン
トローラであり、反応槽１４から処理水２０ａが流出す
る管路にＵＶ計６２と溶存オゾン濃度計４４とが配備さ
れている。

【００６９】かかる制御例５によれば、ＵＶ計６２によ
って計測されたＵＶ値信号６３がＵＶ値コントローラ６
１に入力され、ＵＶ値コントローラ６１はＵＶ設定値６
４とＵＶ値信号６３により注入オゾン濃度目標値６５を
求めて注入オゾン濃度コントローラ２８に出力する。注
入オゾン濃度コントローラ２８はオゾン発生装置７に対
する制御信号４０を発して該オゾン発生装置７の駆動状
態が制御されて、オゾン発生装置７からオゾンガスが一
定の注入率でオゾン注入管１７に供給される。オゾン発
生量は流量計４１により計測されて注入オゾン濃度コン
トローラ２８にフィードバックされる。同時に処理水２
０ａが流出する管路に配備した溶存オゾン濃度計４４に
よって測定された溶存オゾン濃度値５８が過酸化水素注
入量コントローラ５０に入力され、この過酸化水素注入
量コントローラ５０は溶存オゾン濃度値５８から過酸化
水素注入量目標値６６を求めてバルブ開度コントローラ
３２に出力し、バルブ開度コントローラ３２は過酸化水
素注入量が一定になるようにバルブ開度目標値４２を求
めて流量調整バルブ２５の開度を調整する。

【００７０】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる加圧型下方注入式オゾン接触槽とその制御方法によ
れば、被処理水内にオゾン注入管を介してオゾンガスを
送り込んでから加圧渦流ポンプによって混合・微細気泡
化されて高溶存オゾン水となり、且つ可変速器により流
入水量が調整されてから急縮部によって管内圧力が所定
値に調整された下方注入管内を気液が接触しながら下降
して接触槽底壁に当たることによってオゾンガスと被処
理水との接触効率を高めることができるので、従来の散
気管方式のオゾン接触槽の滞留時間よりも短い滞留時間
で同等の処理特性が得られる。

【００７１】上記の作用時に、被処理水に対するオゾン
反応の初期時には下方注入方式に基づいて拡散効率を充
分に高めて反応性の高い物質の除去が行われ、これによ
りオゾンガスの拡散が律速する初期段階の反応過程が促
進されるとともにオゾン反応の後期時には接触槽による
反応と滞留時間の確保により反応性の低い物質の除去が
行われて、オゾン反応が律速する後期段階の反応が促進
されるという効果が得られる。更に「オゾン・過酸化水
素処理」，「オゾン・紫外線処理」に基づく促進酸化処
理法（ＡＯＰ法）を併用したことにより、処理時間の短
縮と処理装置の小型化がはかれるとともに反応槽により
オゾンからＯＨラジカルを生成することで酸化が促進さ
れるという効果が得られる。

【００７２】更に本発明によれば、装置の大型化を伴わ
ずに被処理水に対するオゾンガスの吸収効率を高め、コ
ストの低廉化がはかれる上、経時的な吸収効率低下現象
が生じることがなくなり、オゾンと過酸化水素が過剰注
入にならないようにした加圧型下方注入式オゾン接触槽
とその制御方法を提供することができる。

【００７３】又、従来の深いＵチューブ型オゾン接触槽
の場合には、通水量が変動すると処理特性がばらついて
しまうのに対して、本実施例の各制御例の場合には、Ｌ
／Ｇ比管内圧力を適宜調整することにより安定した処理
特性が得られ、特に水量が著しく変動した場合でも管内
圧力に閾値を設定することによって水量変動に対応した
最適なオゾン注入率制御が可能となる。更に制御例２，
３，４，５によれば、溶存オゾン濃度一定制御及びＵＶ
濃度一定制御が可能となり、散気管方式に比べて目標と
する溶存オゾン濃度への到達及び処理に要する時間が短
縮される。

【００７４】本実施例にかかるオゾン接触槽は従来のＵ
チューブ反応槽のように２０〜３０メートルの長さに形
成しなくてもよいので、装置の大型化を伴わずに被処理
水に対するオゾンガスの吸収効率を高めることができ
る。更にオゾンガスによって酸化された鉄とかマンガン
の付着による目詰まり等に伴う経時的な吸収効率低下現
象を防止することができる。更にＵチューブ型オゾン反
応槽のように施設の建設工事が複雑になるという問題も
なく、建設コストの低廉化がはかれるとともに、反応槽
内に貯留される堆積物の除去とか槽内の清掃を簡便に行
うことが可能となり、しかも反応槽の底部近傍で障害が
発生しても直ちに処置することができるという効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる加圧型下方注入式オゾン接触槽
の一実施例を全体的に示す概略図。

【図２】図１の要部を部分的に示す拡大図。

【図３】オゾン−過酸化水素併用処理における水中での
溶存オゾン、過酸化水素それぞれの濃度と過酸化水素・
オゾンモル比との関係を示すグラフ。

【図４】本実施例における制御例１を説明するための概
要図。

【図５】本実施例における制御例２を説明するための概
要図。

【図６】オゾン吸収効率η（％）とＬ／Ｇ比の関係を示
すグラフ。

【図７】オゾン吸収効率η（％）と管内圧力（ｋｇｆ／
ｃｍ²）の関係を示すグラフ。

【図８】本オゾン接触槽における滞留時間と溶存オゾン
濃度の関係を示すグラフ。

【図９】本実施例における制御例４を説明するための概
要図。

【図１０】Ｅ２６０除去率とオゾン注入率の関係を示す
グラフ。

【図１１】本実施例における制御例５を説明するための
概要図。

【図１２】通常の散気管型オゾン反応槽の一例を示す要
部断面図。

【図１３】通常のＵチューブ型オゾン接触槽の構造を示
す概略図。

【符号の説明】

７…オゾン発生装置 １１…オゾン接触槽 １１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ…ブロック型接触槽 １２…処理水タンク １５…流入管 １６…加圧渦流ポンプ １７…オゾン注入管 １８…圧力計 １９，２６…流量計 ２０…被処理水 ２１…下方注入管 ２２…急縮部 ２３…過酸化水素添加装置 ２５…流量調整バルブ ２７…オゾン発生装置 ２８…注入オゾン濃度コントローラ ２９…オゾン注入率コントローラ ３０…過酸化水素・オゾン注入率比コントローラ ３１…過酸化水素注入率コントローラ ３２…バルブ開度コントローラ ４４…溶存オゾン濃度計 ４７…処理水量コントローラ ４８…可変速器 ４９…急縮部開度コントローラ ５０…過酸化水素注入量コントローラ ６１…ＵＶ値コントローラ ６２…ＵＶ計

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−275873（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−281893（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−5183（ＪＰ，Ａ) 特公 平４−74049（ＪＰ，Ｂ２) 特許3491371（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C02F 1/78 B01F 1/00 C02F 1/72

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 最下段から上段に向けて複数段に分割さ
   れているとともに被処理水が滞留しながら流通可能なブ
   ロック型接触槽の重合体で成るオゾン接触槽と、上記オ
   ゾン接触槽に送り込まれる被処理水の流入部に配備さ
   れ、オゾン注入管から被処理水中に注入されたオゾンガ
   スとを気液混合する加圧渦流ポンプと、オゾン接触槽内
   に挿入配置され、前記気液混合された被処理水が下降流
   として落下する下方注入管と、オゾン接触槽の底壁に対
   向する部位に形成された下方注入管の先端開口部近傍に
   形成された管内圧力調整用の急縮部と、該急縮部の上流
   側に接続された流入管から過酸化水素を送り込む過酸化
   水素添加装置と、上記オゾン接触槽に併設され、溶存オ
   ゾンと過酸化水素からＯＨラジカルを生成する反応槽と
   を備えてなることを特徴とする加圧型下方注入式オゾン
   接触槽。
2. 【請求項２】 被処理水の流入部に被処理水とオゾンガ
   スとを気液混合する加圧渦流ポンプを配備するととも
   に、オゾン接触槽内に挿入配置された下方注入管の先端
   開口部近傍でオゾン接触槽の底壁に対向する部位に形成
   された急縮部と、該急縮部の上流側に接続された流入管
   から過酸化水素を送り込む過酸化水素添加装置を備えた
   加圧型下方注入式のブロック型接触槽の重合体からなる
   オゾン接触槽において、被処理水の流入管に圧力計と流
   量計を配備し、更に該オゾン接触槽に過酸化水素・オゾ
   ン注入率比コントローラ、オゾン注入率コントローラ、
   過酸化水素注入率コントローラ、注入オゾン濃度コント
   ローラ、バルブ開度コントローラを配備して、予め設定
   した過酸化水素・オゾン注入率比設定値から過酸化水素
   ・オゾン注入率比コントローラがオゾン注入率目標値と
   過酸化水素注入率目標値を算定してそれぞれオゾン注入
   率コントローラと過酸化水素注入率コントローラに出力
   し、オゾン注入率コントローラは被処理水の流量信号と
   上記オゾン注入率目標値とから注入オゾン濃度目標値を
   算定して注入オゾン濃度コントローラに出力する一方、
   過酸化水素注入率コントローラは過酸化水素注入率目標
   値から過酸化水素注入量目標値を求めてバルブ開度コン
   トローラに出力し、各オゾン発生装置の駆動と過酸化水
   素の注入率を制御することを特徴とする加圧型下方注入
   式オゾン接触槽の制御方法。
3. 【請求項３】 被処理水の流入部に被処理水とオゾンガ
   スとを気液混合する加圧渦流ポンプを配備するととも
   に、オゾン接触槽内に挿入配置された下方注入管の先端
   開口部近傍でオゾン接触槽の底壁に対向する部位に形成
   された急縮部と、該急縮部の上流側に接続された流入管
   から過酸化水素を送り込む過酸化水素添加装置と、オゾ
   ン接触槽に併設され、溶存オゾンと過酸化水素からＯＨ
   ラジカルを生成する反応槽とを備えた加圧型下方注入式
   のブロック型接触槽の重合体からなるオゾン接触槽にお
   いて、 該オゾン接触槽に過酸化水素注入率コントローラ、バル
   ブ開度コントローラを配備するとともに反応槽から処理
   水が流出する管路に溶存オゾン濃度計を配備して、この
   溶存オゾン濃度計によって測定された溶存オゾン濃度値
   から過酸化水素注入率コントローラが溶存オゾン濃度目
   標値に合うように過酸化水素注入量目標値を求めてバル
   ブ開度コントローラに出力し、該バルブ開度コントロー
   ラは溶存オゾン濃度が一定になるようにバルブ開度目標
   値を求めて流量調整バルブの開度を調整することを特徴
   とする加圧型下方注入式オゾン接触槽の制御方法。
4. 【請求項４】 被処理水の流入部に被処理水とオゾンガ
   スとを気液混合する加圧渦流ポンプを配備するととも
   に、オゾン接触槽内に挿入配置された下方注入管の先端
   開口部近傍でオゾン接触槽の底壁に対向する部位に形成
   された急縮部と、該急縮部の上流側に接続された流入管
   から過酸化水素を送り込む過酸化水素添加装置と、オゾ
   ン接触槽に併設され、溶存オゾンと過酸化水素からＯＨ
   ラジカルを生成する反応槽とを備えた加圧型下方注入式
   のブロック型接触槽の重合体からなるオゾン接触槽にお
   いて、 該オゾン接触槽に過酸化水素注入率コントローラ、バル
   ブ開度コントローラを配備するとともに反応槽から処理
   水が流出する管路に過酸化水素濃度計を配備し、この過
   酸化水素濃度計によって測定された過酸化水素濃度値か
   ら過酸化水素注入率コントローラが過酸化水素濃度目標
   値を求めてバルブ開度コントローラに出力し、該バルブ
   開度コントローラは過酸化水素濃度が一定になるように
   バルブ開度目標値を求めて流量調整バルブの開度を調整
   するようにした加圧型下方注入式オゾン接触槽の制御方
   法。
5. 【請求項５】 被処理水の流入部に被処理水とオゾンガ
   スとを気液混合する加圧渦流ポンプを配備するととも
   に、オゾン接触槽内に挿入配置された下方注入管の先端
   開口部近傍でオゾン接触槽の底壁に対向する部位に形成
   された急縮部と、該急縮部の上流側に接続された流入管
   から過酸化水素を送り込む過酸化水素添加装置と、オゾ
   ン接触槽に併設され、溶存オゾンと過酸化水素からＯＨ
   ラジカルを生成する反応槽とを備えた加圧型下方注入式
   のブロック型接触槽の重合体からなるオゾン接触槽にお
   いて、 前記加圧渦流ポンプに被処理水の流入水量を調整する可
   変速器を配備するとともにオゾン接触槽に処理水量コン
   トローラ、急縮部開度コントローラ、過酸化水素注入量
   コントローラを配備して、処理水量設定値と被処理水の
   流量信号に基づいて処理水量コントローラが処理水量目
   標値を算定して可変速器に出力し、この可変速器の出力
   信号により加圧渦流ポンプの回転数を変えて被処理水の
   流入量を変化させると同時に、圧力計による被処理水の
   圧力信号と、予め決定された圧力設定値から急縮部開度
   コントローラが求めた急縮部開度目標値に基づいて前記
   急縮部の開度を調整するようにしたことを特徴とする加
   圧型下方注入式オゾン接触槽の制御方法。