JP3518355B2 - 乾燥方法 - Google Patents
乾燥方法Info
- Publication number
- JP3518355B2 JP3518355B2 JP21460598A JP21460598A JP3518355B2 JP 3518355 B2 JP3518355 B2 JP 3518355B2 JP 21460598 A JP21460598 A JP 21460598A JP 21460598 A JP21460598 A JP 21460598A JP 3518355 B2 JP3518355 B2 JP 3518355B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- concentration
- carbon monoxide
- drying
- dried
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E50/00—Technologies for the production of fuel of non-fossil origin
- Y02E50/30—Fuel from waste, e.g. synthetic alcohol or diesel
Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、広くは食品およ
び食品原料、ならびに、ごみまたはごみの焼却残さ等の
廃棄物の乾燥、殺菌および性状変化等の方法に関するも
のであり、特に、ごみ固形化燃料（ＲＤＦ）の製造プロ
セスおよびコンポストの製造プロセスの中に含まれてい
る乾燥工程に関するものである。
び食品原料、ならびに、ごみまたはごみの焼却残さ等の
廃棄物の乾燥、殺菌および性状変化等の方法に関するも
のであり、特に、ごみ固形化燃料（ＲＤＦ）の製造プロ
セスおよびコンポストの製造プロセスの中に含まれてい
る乾燥工程に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般廃棄物または産業廃棄物からごみ固
形化燃料（ＲＤＦ）を製造するプロセスや、厨芥ごみや
有機汚泥からコンポストを製造するプロセスには、乾燥
工程が含まれるのが通常である。この乾燥工程には、プ
ロパン、天然ガス、灯油または重油などを燃焼させて熱
風を発生し、これに被乾燥物を直接接触させて加熱する
形式の乾燥装置が使用されることが多い。最も良く使用
されるロータリーキルン型の直接加熱型乾燥装置を図９
に示す。
形化燃料（ＲＤＦ）を製造するプロセスや、厨芥ごみや
有機汚泥からコンポストを製造するプロセスには、乾燥
工程が含まれるのが通常である。この乾燥工程には、プ
ロパン、天然ガス、灯油または重油などを燃焼させて熱
風を発生し、これに被乾燥物を直接接触させて加熱する
形式の乾燥装置が使用されることが多い。最も良く使用
されるロータリーキルン型の直接加熱型乾燥装置を図９
に示す。
【０００３】図９に示すように、被乾燥物２は、回転ド
ラム１ａの内部に、投入装置3 によって定量供給され
る。一方、燃料６ａおよび燃焼用空気６ｂを熱風炉7 に
供給して熱風を発生させ、これを直接被乾燥物２に吹き
付けて乾燥を行う。ここで、熱風と被乾燥物２との接触
効率を上げ、乾燥効率を上げるために、回転ドラム１ａ
の中央で攪拌羽根４を軸を中心にして回転させ、被乾燥
物を攪拌する場合もある。
ラム１ａの内部に、投入装置3 によって定量供給され
る。一方、燃料６ａおよび燃焼用空気６ｂを熱風炉7 に
供給して熱風を発生させ、これを直接被乾燥物２に吹き
付けて乾燥を行う。ここで、熱風と被乾燥物２との接触
効率を上げ、乾燥効率を上げるために、回転ドラム１ａ
の中央で攪拌羽根４を軸を中心にして回転させ、被乾燥
物を攪拌する場合もある。
【０００４】被乾燥物２は、排出装置８より乾燥物９と
して排出する。また、供給した熱風は、発生した水蒸気
と共に、誘因ファン１６を通し、排出ガス１０として排
出する。
して排出する。また、供給した熱風は、発生した水蒸気
と共に、誘因ファン１６を通し、排出ガス１０として排
出する。
【０００５】熱風炉７で発生する熱風の温度は、６００
〜１５００℃程度であるが、これを被乾燥物と接触させ
ると発火する場合がある。このため、排出ガス１０の一
部を、循環バイパス１７を通じて再び乾燥装置（回転ド
ラム１ａ）内に戻すことにより、熱風の温度を下げる。
２０ｗｔ．％以上の水分を含む被乾燥物と接触する直前
の熱風の温度は、通常３５０〜６００℃程度であり、こ
れが被乾燥物と接触し終わった後のガス温度は７０〜２
００℃程度である。また、乾燥装置出口の被乾燥物の温
度は、通常、ガス温度より低く、７０℃程度である。
〜１５００℃程度であるが、これを被乾燥物と接触させ
ると発火する場合がある。このため、排出ガス１０の一
部を、循環バイパス１７を通じて再び乾燥装置（回転ド
ラム１ａ）内に戻すことにより、熱風の温度を下げる。
２０ｗｔ．％以上の水分を含む被乾燥物と接触する直前
の熱風の温度は、通常３５０〜６００℃程度であり、こ
れが被乾燥物と接触し終わった後のガス温度は７０〜２
００℃程度である。また、乾燥装置出口の被乾燥物の温
度は、通常、ガス温度より低く、７０℃程度である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】これらの乾燥プロセス
では、次の理由により、ポリクロロベンゼン類、ポリク
ロロフェノール類等の有機塩素化合物の発生は無いもの
と思われていた。
では、次の理由により、ポリクロロベンゼン類、ポリク
ロロフェノール類等の有機塩素化合物の発生は無いもの
と思われていた。
【０００７】１）含水率の高い被乾燥物自体の温度は上
がらない。 ２）有機塩素化合物の構成元素である塩素を供給するた
めに必要とされる乾燥装置排ガス中のＨＣｌ濃度は、通
常１０ｐｐｍ以下程度と低い。
がらない。 ２）有機塩素化合物の構成元素である塩素を供給するた
めに必要とされる乾燥装置排ガス中のＨＣｌ濃度は、通
常１０ｐｐｍ以下程度と低い。
【０００８】３）有機塩素化合物は、廃棄物等の燃焼に
より発生したガスの冷却過程において合成されることが
知られており、このとき飛灰が触媒としての機能を果た
している。乾燥プロセスではこの飛灰が存在しない。
より発生したガスの冷却過程において合成されることが
知られており、このとき飛灰が触媒としての機能を果た
している。乾燥プロセスではこの飛灰が存在しない。
【０００９】しかしながら、この乾燥プロセスにおける
有機塩素化合物の発生挙動を詳細に検討したところ、乾
燥装置出口において有機塩素化合物が検出されることも
有り得ることが判明した。これは、次の理由による。
有機塩素化合物の発生挙動を詳細に検討したところ、乾
燥装置出口において有機塩素化合物が検出されることも
有り得ることが判明した。これは、次の理由による。
【００１０】１）被乾燥物自体の平均温度は上がらなく
ても、局部の過熱により雰囲気ガス中に揮散する有機物
は存在し、雰囲気ガスの温度は有機塩素化合物を合成す
るのに充分である。
ても、局部の過熱により雰囲気ガス中に揮散する有機物
は存在し、雰囲気ガスの温度は有機塩素化合物を合成す
るのに充分である。
【００１１】２）ＨＣｌ濃度は、１０ｐｐｍ以下程度で
あっても、数μｇ／Ｎｍ3 程度の有機塩素化合物を合成
するのに充分である。３）生成量は少ないが、無触媒下
でも有機塩素化合物は合成しうる。
あっても、数μｇ／Ｎｍ3 程度の有機塩素化合物を合成
するのに充分である。３）生成量は少ないが、無触媒下
でも有機塩素化合物は合成しうる。
【００１２】有機塩素化合物の発生量は、熱効率を高
く、また、装置を小型にするために、乾燥容器に投入す
る熱媒の温度を高くするほど高くなることがわかった。
特に、熱媒の温度が３５０℃以上になると、発生量は顕
著である。電気ヒーターに電気を通電すること等により
加熱した面（以下、「加熱面」という）による乾燥にお
いても、加熱面の温度が３５０℃以上になると、同じ理
由により有機塩素化合物の発生量が顕著に多くなる。
く、また、装置を小型にするために、乾燥容器に投入す
る熱媒の温度を高くするほど高くなることがわかった。
特に、熱媒の温度が３５０℃以上になると、発生量は顕
著である。電気ヒーターに電気を通電すること等により
加熱した面（以下、「加熱面」という）による乾燥にお
いても、加熱面の温度が３５０℃以上になると、同じ理
由により有機塩素化合物の発生量が顕著に多くなる。
【００１３】この有害な有機塩素化合物を環境に放散さ
せないためには、排出ガス中の有機塩素化合物の濃度を
連続的に測定し、必要に応じて低減するための手段を実
施することが有効である。有機塩素化合物の濃度は、エ
レクトロンキャプチャディテクタまたは質量分析計を備
えたガスクロマトグラフ等により測定できるが、これら
の装置では連続測定は困難であり、また、測定対象物に
よっては、サンプリング、採取サンプルの処理および測
定という手順を踏むことが必要であった。
せないためには、排出ガス中の有機塩素化合物の濃度を
連続的に測定し、必要に応じて低減するための手段を実
施することが有効である。有機塩素化合物の濃度は、エ
レクトロンキャプチャディテクタまたは質量分析計を備
えたガスクロマトグラフ等により測定できるが、これら
の装置では連続測定は困難であり、また、測定対象物に
よっては、サンプリング、採取サンプルの処理および測
定という手順を踏むことが必要であった。
【００１４】従って、この発明の目的は、有機物または
含炭素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾
燥させる方法において、排出ガス中の有機塩素化合物の
存在を安価、容易且つ連続的に検出する手段を提供する
ものであり、また、排出ガス中の有機塩素化合物の含有
量を極力抑えることができる手段を提供するものであ
る。
含炭素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾
燥させる方法において、排出ガス中の有機塩素化合物の
存在を安価、容易且つ連続的に検出する手段を提供する
ものであり、また、排出ガス中の有機塩素化合物の含有
量を極力抑えることができる手段を提供するものであ
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は、有機物または
含炭素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾
燥させる方法において、排出ガス中の有機塩素化合物の
存在を安価、容易且つ連続的に検出し、また、有機塩素
化合物を排出ガス中に含有させないものであり、次のよ
うな構成からなっている。
含炭素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾
燥させる方法において、排出ガス中の有機塩素化合物の
存在を安価、容易且つ連続的に検出し、また、有機塩素
化合物を排出ガス中に含有させないものであり、次のよ
うな構成からなっている。
【００１６】請求項１記載の発明は、有機物または含炭
素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾燥さ
せる方法において、被乾燥物から発生し、および／また
は被乾燥物と接触し、乾燥装置から排出されるガスに含
まれる一酸化炭素の濃度を測定し、前記一酸化炭素の濃
度を前記ガスに含まれる有機塩素化合物濃度の指標とし
て用いることに特徴を有するものである。
素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾燥さ
せる方法において、被乾燥物から発生し、および／また
は被乾燥物と接触し、乾燥装置から排出されるガスに含
まれる一酸化炭素の濃度を測定し、前記一酸化炭素の濃
度を前記ガスに含まれる有機塩素化合物濃度の指標とし
て用いることに特徴を有するものである。
【００１７】請求項２記載の発明は、有機物または含炭
素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾燥さ
せる方法において、被乾燥物から発生し、および／また
は被乾燥物と接触し、乾燥装置から排出されるガスに含
まれる一酸化炭素の濃度を測定し、前記一酸化炭素の濃
度を基準にして前記乾燥装置を制御して前記ガスに含ま
れる有機塩素化合物濃度を制御すること特徴とする乾燥
方法。
素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾燥さ
せる方法において、被乾燥物から発生し、および／また
は被乾燥物と接触し、乾燥装置から排出されるガスに含
まれる一酸化炭素の濃度を測定し、前記一酸化炭素の濃
度を基準にして前記乾燥装置を制御して前記ガスに含ま
れる有機塩素化合物濃度を制御すること特徴とする乾燥
方法。
【００１８】請求項３記載の発明は、請求項２記載の乾
燥方法において、前記一酸化炭素の濃度を１００ｐｐｍ
以下に維持することに特徴を有するものである。請求項
４記載の発明は、有機物または含炭素化合物、および、
塩素化合物を含有する物質を乾燥させる方法において、
被乾燥物から発生し、および／または被乾燥物と接触
し、乾燥装置から排出されるガスに含まれる一酸化炭素
の濃度を測定して、前記一酸化炭素の濃度を１０ｐｐｍ
以上１００ｐｐｍ以下の所定の値以下に維持して前記ガ
スに含まれる有機塩素化合物濃度を制御することに特徴
を有するものである。
燥方法において、前記一酸化炭素の濃度を１００ｐｐｍ
以下に維持することに特徴を有するものである。請求項
４記載の発明は、有機物または含炭素化合物、および、
塩素化合物を含有する物質を乾燥させる方法において、
被乾燥物から発生し、および／または被乾燥物と接触
し、乾燥装置から排出されるガスに含まれる一酸化炭素
の濃度を測定して、前記一酸化炭素の濃度を１０ｐｐｍ
以上１００ｐｐｍ以下の所定の値以下に維持して前記ガ
スに含まれる有機塩素化合物濃度を制御することに特徴
を有するものである。
【００１９】請求項５記載の発明は、有機物または含炭
素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾燥さ
せる方法において、乾燥装置内部の被乾燥物と接触して
いる雰囲気ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を測定し、
前記一酸化炭素の濃度を前記ガスに含まれる有機塩素化
合物濃度の指標として用いることに特徴を有するもので
ある。
素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾燥さ
せる方法において、乾燥装置内部の被乾燥物と接触して
いる雰囲気ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を測定し、
前記一酸化炭素の濃度を前記ガスに含まれる有機塩素化
合物濃度の指標として用いることに特徴を有するもので
ある。
【００２０】請求項６記載の発明は、有機物または含炭
素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾燥さ
せる方法において、乾燥装置内部の被乾燥物と接触して
いる雰囲気ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を測定し、
前記一酸化炭素の濃度を基準にして前記乾燥装置を制御
して前記ガスに含まれる有機塩素化合物濃度を制御する
ことに特徴を有するものである。
素化合物、および、塩素化合物を含有する物質を乾燥さ
せる方法において、乾燥装置内部の被乾燥物と接触して
いる雰囲気ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を測定し、
前記一酸化炭素の濃度を基準にして前記乾燥装置を制御
して前記ガスに含まれる有機塩素化合物濃度を制御する
ことに特徴を有するものである。
【００２１】請求項７記載の発明は、請求項６記載の乾
燥方法において、前記一酸化炭素の濃度を１００ｐｐｍ
以下に維持することに特徴を有するものである。請求項
８記載の発明は、有機物または含炭素化合物、および、
塩素化合物を含有する物質を乾燥させる方法において、
乾燥装置内部の被乾燥物と接触している雰囲気ガスに含
まれる一酸化炭素の濃度を測定して、前記一酸化炭素の
濃度を１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下の所定の値以下
に維持して前記ガスに含まれる有機塩素化合物濃度を制
御することに特徴を有するものである。
燥方法において、前記一酸化炭素の濃度を１００ｐｐｍ
以下に維持することに特徴を有するものである。請求項
８記載の発明は、有機物または含炭素化合物、および、
塩素化合物を含有する物質を乾燥させる方法において、
乾燥装置内部の被乾燥物と接触している雰囲気ガスに含
まれる一酸化炭素の濃度を測定して、前記一酸化炭素の
濃度を１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下の所定の値以下
に維持して前記ガスに含まれる有機塩素化合物濃度を制
御することに特徴を有するものである。
【００２２】次に、上記構成によるこの発明の作用につ
いて説明する。通常使用されている乾燥装置からは、被
乾燥物の種類や乾燥条件によって、無視できない濃度の
有機塩素化合物が発生する。本発明者らは、被乾燥物か
ら発生し、および／または被乾燥物と接触し、乾燥装置
から排出されるガス、および、乾燥装置内部の被乾燥物
と接触している雰囲気ガスに含まれる有機塩素化合物の
濃度が、前記ガスに含まれる一酸化炭素の濃度と正の相
関を持つことを見出した。前記ガスに含まれる一酸化炭
素の濃度を、赤外線式ガス分析計等の既知の一酸化炭素
濃度分析計を用いて測定することにより、前記ガスに含
まれる有機塩素化合物の濃度を安価、容易且つ連続的に
検出することが可能となる。
いて説明する。通常使用されている乾燥装置からは、被
乾燥物の種類や乾燥条件によって、無視できない濃度の
有機塩素化合物が発生する。本発明者らは、被乾燥物か
ら発生し、および／または被乾燥物と接触し、乾燥装置
から排出されるガス、および、乾燥装置内部の被乾燥物
と接触している雰囲気ガスに含まれる有機塩素化合物の
濃度が、前記ガスに含まれる一酸化炭素の濃度と正の相
関を持つことを見出した。前記ガスに含まれる一酸化炭
素の濃度を、赤外線式ガス分析計等の既知の一酸化炭素
濃度分析計を用いて測定することにより、前記ガスに含
まれる有機塩素化合物の濃度を安価、容易且つ連続的に
検出することが可能となる。
【００２３】ここで、廃棄物の燃焼において、その燃焼
排ガスに含まれる有機塩素化合物の濃度が前記ガスに含
まれる一酸化炭素の濃度とある程度の相関を持つことは
知られており、前記ガス中の一酸化炭素濃度を低減させ
ることを基準として焼却炉の燃焼を制御するのが一般的
である。燃焼反応の中間生成物である一酸化炭素が排ガ
ス中にどれだけ含まれているかが、不完全燃焼の度合い
の指標となっている。しかし、燃焼排ガスと乾燥排ガス
とは本質的に異なったものであり、本発明における乾燥
のような、燃焼を全く伴わない加熱においても一酸化炭
素が発生しており、前記一酸化炭素濃度が有機塩素化合
物の濃度と相関を持つことはこれまでに全く知られてお
らず、本発明者らが新規に発見した事実である。また、
一酸化炭素濃度を、指標として用いて乾燥装置を制御す
ることにより、有害物質を環境中に放散させない進歩し
た乾燥方法を実現することができる。
排ガスに含まれる有機塩素化合物の濃度が前記ガスに含
まれる一酸化炭素の濃度とある程度の相関を持つことは
知られており、前記ガス中の一酸化炭素濃度を低減させ
ることを基準として焼却炉の燃焼を制御するのが一般的
である。燃焼反応の中間生成物である一酸化炭素が排ガ
ス中にどれだけ含まれているかが、不完全燃焼の度合い
の指標となっている。しかし、燃焼排ガスと乾燥排ガス
とは本質的に異なったものであり、本発明における乾燥
のような、燃焼を全く伴わない加熱においても一酸化炭
素が発生しており、前記一酸化炭素濃度が有機塩素化合
物の濃度と相関を持つことはこれまでに全く知られてお
らず、本発明者らが新規に発見した事実である。また、
一酸化炭素濃度を、指標として用いて乾燥装置を制御す
ることにより、有害物質を環境中に放散させない進歩し
た乾燥方法を実現することができる。
【００２４】また、一酸化炭素濃度を検出する手段を備
えた乾燥装置としては、例えば、特開昭５７−１３２２
１３号（以下、「先行技術１」という）および特開平９
−７９３号公報（以下、「先行技術２」という）が提案
されている。しかしながら、先行技術１においては、一
酸化炭素を含む還元性ガスの検出により被乾燥物の変質
を検知することを目的としており、先行技術２において
は、被乾燥物から発生する一酸化炭素ではなく、被乾燥
物を乾燥させるための熱風を発生するバーナの燃焼状態
が悪化した際に生成する一酸化炭素の検出を目的として
いる。
えた乾燥装置としては、例えば、特開昭５７−１３２２
１３号（以下、「先行技術１」という）および特開平９
−７９３号公報（以下、「先行技術２」という）が提案
されている。しかしながら、先行技術１においては、一
酸化炭素を含む還元性ガスの検出により被乾燥物の変質
を検知することを目的としており、先行技術２において
は、被乾燥物から発生する一酸化炭素ではなく、被乾燥
物を乾燥させるための熱風を発生するバーナの燃焼状態
が悪化した際に生成する一酸化炭素の検出を目的として
いる。
【００２５】これに対して、本発明は、一酸化炭素より
も環境に与える影響がはるかに大きい有機塩素化合物の
濃度を検知する手段として、測定の容易な一酸化炭素の
濃度を用いるものであり、前述の発明とは異なるもので
ある。
も環境に与える影響がはるかに大きい有機塩素化合物の
濃度を検知する手段として、測定の容易な一酸化炭素の
濃度を用いるものであり、前述の発明とは異なるもので
ある。
【００２６】被乾燥物から発生し、および／または被乾
燥物と接触し、乾燥装置から排出されるガス、ならび
に、乾燥装置内部の被乾燥物と接触している雰囲気ガス
の一酸化炭素濃度が、１００ｐｐｍ以下、望ましくは１
０ｐｐｍ以下である場合、前記ガスの有機塩素化合物濃
度はほぼ検出限界の無視できる値となる。ここで、熱媒
またはパージガス等として被乾燥物に直接接触させるた
めに投入するガスに、あらかじめ一酸化炭素が含まれて
いる場合、被乾燥物から発生し、および／または被乾燥
物と接触し、乾燥装置から排出されるガス、ならびに、
乾燥装置内部の被乾燥物と接触している雰囲気ガスの一
酸化炭素濃度は、乾燥装置内で発生した一酸化炭素のみ
による値よりも高い値として検出される。この場合、装
置に投入した一酸化炭素分に相当する濃度を測定値から
差し引かなければならないことは言うまでもない。
燥物と接触し、乾燥装置から排出されるガス、ならび
に、乾燥装置内部の被乾燥物と接触している雰囲気ガス
の一酸化炭素濃度が、１００ｐｐｍ以下、望ましくは１
０ｐｐｍ以下である場合、前記ガスの有機塩素化合物濃
度はほぼ検出限界の無視できる値となる。ここで、熱媒
またはパージガス等として被乾燥物に直接接触させるた
めに投入するガスに、あらかじめ一酸化炭素が含まれて
いる場合、被乾燥物から発生し、および／または被乾燥
物と接触し、乾燥装置から排出されるガス、ならびに、
乾燥装置内部の被乾燥物と接触している雰囲気ガスの一
酸化炭素濃度は、乾燥装置内で発生した一酸化炭素のみ
による値よりも高い値として検出される。この場合、装
置に投入した一酸化炭素分に相当する濃度を測定値から
差し引かなければならないことは言うまでもない。
【００２７】更に、本発明者らは、乾燥装置の排出ガス
中の有機塩素化合物濃度を低下させる方法として、乾燥
装置の内部温度、または、投入する熱媒の温度を低下さ
せることが有効であることを見出した（特願平９−３２
８８６８号）。
中の有機塩素化合物濃度を低下させる方法として、乾燥
装置の内部温度、または、投入する熱媒の温度を低下さ
せることが有効であることを見出した（特願平９−３２
８８６８号）。
【００２８】これより、被乾燥物から発生し、および／
または被乾燥物と接触し、乾燥装置から排出されるガ
ス、または、乾燥装置内部の被乾燥物と接触している雰
囲気ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を測定し、この値
が、１００ｐｐｍ、望ましくは１０ｐｐｍを超えた場合
に、乾燥装置の内部温度、または、投入する熱媒の温度
を、前記ガスの一酸化炭素濃度が１００ｐｐｍ以下、望
ましくは１０ｐｐｍ以下になるまで低下させることによ
り、有機塩素化合物を排ガス中に含有させないことが可
能になる。ここで、前記ガスの一酸化炭素濃度を１００
ｐｐｍ以下、望ましくは１０ｐｐｍ以下に維持する手段
は、特に乾燥装置の内部温度、または、投入する熱媒の
温度を低下させる方法に限らない。
または被乾燥物と接触し、乾燥装置から排出されるガ
ス、または、乾燥装置内部の被乾燥物と接触している雰
囲気ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を測定し、この値
が、１００ｐｐｍ、望ましくは１０ｐｐｍを超えた場合
に、乾燥装置の内部温度、または、投入する熱媒の温度
を、前記ガスの一酸化炭素濃度が１００ｐｐｍ以下、望
ましくは１０ｐｐｍ以下になるまで低下させることによ
り、有機塩素化合物を排ガス中に含有させないことが可
能になる。ここで、前記ガスの一酸化炭素濃度を１００
ｐｐｍ以下、望ましくは１０ｐｐｍ以下に維持する手段
は、特に乾燥装置の内部温度、または、投入する熱媒の
温度を低下させる方法に限らない。
【００２９】また、特に有機塩素化合物の発生が微量で
ある乾燥装置については、被乾燥物から発生し、および
／または被乾燥物と接触し、乾燥装置から排出されるガ
ス、または、乾燥装置内部の被乾燥物と接触している雰
囲気ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を測定し、あらか
じめ基準値として１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下の所
定値を定めておき、測定値がこの値以下に維持されてい
ることを確認しながら乾燥を行うことにより、有機塩素
化合物を排出ガス中に含有させていないことを安価、容
易且つ連続的に確認することが可能となる。ここでは、
例えば、測定値が基準値を超えた場合に作動する警報装
置を設置すること、あるいは、測定値を連続記録するこ
となどにより、測定値が基準値を超えていないことを確
認することができる。有機塩素化合物を排出していない
ことを示すために、前記ガスの一酸化炭素濃度の連続記
録結果を提示することも可能である。
ある乾燥装置については、被乾燥物から発生し、および
／または被乾燥物と接触し、乾燥装置から排出されるガ
ス、または、乾燥装置内部の被乾燥物と接触している雰
囲気ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を測定し、あらか
じめ基準値として１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下の所
定値を定めておき、測定値がこの値以下に維持されてい
ることを確認しながら乾燥を行うことにより、有機塩素
化合物を排出ガス中に含有させていないことを安価、容
易且つ連続的に確認することが可能となる。ここでは、
例えば、測定値が基準値を超えた場合に作動する警報装
置を設置すること、あるいは、測定値を連続記録するこ
となどにより、測定値が基準値を超えていないことを確
認することができる。有機塩素化合物を排出していない
ことを示すために、前記ガスの一酸化炭素濃度の連続記
録結果を提示することも可能である。
【００３０】
【発明の実施の形態】次に、この発明の実施の形態を図
面を参照しながら説明する。 〔第１の実施の形態〕図１は、この発明の第１の実施の
形態に係る乾燥装置を示す工程図である。図１に示すよ
うに、乾燥装置においては、乾燥容器１ｂに被乾燥物２
および熱媒５を投入し、乾燥物９および排出ガス１０を
排出するようになっている。乾燥容器１ｂは熱媒５を直
接的に被乾燥物２と接触させる１重構造でも、間接的に
被乾燥物と接触させる２重構造でもよい。熱媒５は、気
体または液体のいずれでも良い。乾燥容器１ｂの加熱方
法は、熱媒５の投入による方法に限らず、電気ヒーター
に電気を通電すること等により加熱した面を用いても良
い（図示せず）。また、乾燥容器１ｂ内の圧力は正圧お
よび負圧のうちのどちらでもよい。
面を参照しながら説明する。 〔第１の実施の形態〕図１は、この発明の第１の実施の
形態に係る乾燥装置を示す工程図である。図１に示すよ
うに、乾燥装置においては、乾燥容器１ｂに被乾燥物２
および熱媒５を投入し、乾燥物９および排出ガス１０を
排出するようになっている。乾燥容器１ｂは熱媒５を直
接的に被乾燥物２と接触させる１重構造でも、間接的に
被乾燥物と接触させる２重構造でもよい。熱媒５は、気
体または液体のいずれでも良い。乾燥容器１ｂの加熱方
法は、熱媒５の投入による方法に限らず、電気ヒーター
に電気を通電すること等により加熱した面を用いても良
い（図示せず）。また、乾燥容器１ｂ内の圧力は正圧お
よび負圧のうちのどちらでもよい。
【００３１】排出ガス１０に含まれる一酸化炭素の濃度
を測定するために、排出ガス１０の一部を一酸化炭素濃
度連続分析計１１に導入する。導入する方法としては分
析計１１内にポンプを組み込み、これによりガスの吸引
を行う等の手段を用いる。一酸化炭素濃度連続分析計１
１としては、例えば、赤外線式ガス分析計を使用する
が、特にこれに限定するものではない。
を測定するために、排出ガス１０の一部を一酸化炭素濃
度連続分析計１１に導入する。導入する方法としては分
析計１１内にポンプを組み込み、これによりガスの吸引
を行う等の手段を用いる。一酸化炭素濃度連続分析計１
１としては、例えば、赤外線式ガス分析計を使用する
が、特にこれに限定するものではない。
【００３２】排出ガス１０は、必要に応じてガス浄化装
置（図示せず）を通した後、大気放散する。一酸化炭素
濃度分析計１１の計測値は、装置運転者が認識できるよ
うに表示させる。更に、一酸化炭素濃度と有機塩素化合
物濃度との関係を示す検量線を作成し、一酸化炭素濃度
の測定値を有機塩素化合物濃度に変換する変換機を設置
することにより、乾燥装置の運転者が有機塩素化合物の
濃度を連続的に知ることも可能となる（図示せず）。
置（図示せず）を通した後、大気放散する。一酸化炭素
濃度分析計１１の計測値は、装置運転者が認識できるよ
うに表示させる。更に、一酸化炭素濃度と有機塩素化合
物濃度との関係を示す検量線を作成し、一酸化炭素濃度
の測定値を有機塩素化合物濃度に変換する変換機を設置
することにより、乾燥装置の運転者が有機塩素化合物の
濃度を連続的に知ることも可能となる（図示せず）。
【００３３】〔第２の実施の形態〕図２は、この発明の
第２の実施の形態に係る乾燥装置を示す工程図である。
被乾燥物２の乾燥方法は、第１の実施の形態と同様であ
る。
第２の実施の形態に係る乾燥装置を示す工程図である。
被乾燥物２の乾燥方法は、第１の実施の形態と同様であ
る。
【００３４】乾燥容器１ｂ内の被乾燥物２と接触してい
る雰囲気ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を測定するた
めに、乾燥容器１ｂ内のガスの一部を一酸化炭素濃度連
続分析計１１に導入する。導入する方法としては分析計
１１内にポンプを組み込み、これによりガスの吸引を行
う等の手段を用いる。一酸化炭素濃度連続分析計１１と
しては、例えば、赤外線式ガス分析計を使用するが、特
にこれに限定するものではない。
る雰囲気ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を測定するた
めに、乾燥容器１ｂ内のガスの一部を一酸化炭素濃度連
続分析計１１に導入する。導入する方法としては分析計
１１内にポンプを組み込み、これによりガスの吸引を行
う等の手段を用いる。一酸化炭素濃度連続分析計１１と
しては、例えば、赤外線式ガス分析計を使用するが、特
にこれに限定するものではない。
【００３５】一酸化炭素濃度連続分析計１１の計測値の
取り扱いは、第１の実施の形態と同様である。 〔第３の実施の形態〕図３は、この発明の第３の実施の
形態に係る乾燥装置を示す工程図である。被乾燥物２の
乾燥方法および排出ガス１０に含まれる一酸化炭素濃度
の測定方法は、第１の実施の形態と同様である。
取り扱いは、第１の実施の形態と同様である。 〔第３の実施の形態〕図３は、この発明の第３の実施の
形態に係る乾燥装置を示す工程図である。被乾燥物２の
乾燥方法および排出ガス１０に含まれる一酸化炭素濃度
の測定方法は、第１の実施の形態と同様である。
【００３６】一酸化炭素濃度連続分析計１１からの信号
は、制御装置１２に入力する。一酸化炭素濃度があらか
じめ設定した所定値を超えた場合に、制御装置１２から
出された制御信号１３が熱媒５を制御して一酸化炭素濃
度を所定値以下に戻すように調整する。所定値は、１０
０ｐｐｍ以下の値が望ましく、更に望ましくは１０ｐｐ
ｍ以下の値である。制御方法は、例えば熱媒５の温度お
よび／または流量を低下させるものである。一酸化炭素
濃度を所定値以下に戻す方法としては、熱媒５を制御す
ることの他に乾燥容器１ｂ内に水を噴霧して容器内部温
度を低下させること等があるが、特にこれらに限定する
ものではない。
は、制御装置１２に入力する。一酸化炭素濃度があらか
じめ設定した所定値を超えた場合に、制御装置１２から
出された制御信号１３が熱媒５を制御して一酸化炭素濃
度を所定値以下に戻すように調整する。所定値は、１０
０ｐｐｍ以下の値が望ましく、更に望ましくは１０ｐｐ
ｍ以下の値である。制御方法は、例えば熱媒５の温度お
よび／または流量を低下させるものである。一酸化炭素
濃度を所定値以下に戻す方法としては、熱媒５を制御す
ることの他に乾燥容器１ｂ内に水を噴霧して容器内部温
度を低下させること等があるが、特にこれらに限定する
ものではない。
【００３７】熱媒５の温度および／または流量を低下さ
せる、または、乾燥容器１ｂの内部温度を低下させるこ
とにより一酸化炭素濃度は低下するが、同時に被乾燥物
２に与えられる熱量は低下し、その結果、乾燥物９の含
水率が上昇する。乾燥物９の含水率を所定値に維持する
ためには、被乾燥物２の投入量を減少させることが有効
である。熱媒５および被乾燥物２を同時に制御すること
等により乾燥物９の含水率を一定に保つシステムを構成
することは、製品の品質を維持する上で必要である。
せる、または、乾燥容器１ｂの内部温度を低下させるこ
とにより一酸化炭素濃度は低下するが、同時に被乾燥物
２に与えられる熱量は低下し、その結果、乾燥物９の含
水率が上昇する。乾燥物９の含水率を所定値に維持する
ためには、被乾燥物２の投入量を減少させることが有効
である。熱媒５および被乾燥物２を同時に制御すること
等により乾燥物９の含水率を一定に保つシステムを構成
することは、製品の品質を維持する上で必要である。
【００３８】〔第４の実施の形態〕図４は、この発明の
第４の実施の形態に係る乾燥装置を示す工程図である。
被乾燥物２の乾燥方法、および、乾燥容器１ｂ内の被乾
燥物２と接触している雰囲気ガスに含まれる一酸化炭素
濃度の測定方法は、第２の実施の形態と同様である。
第４の実施の形態に係る乾燥装置を示す工程図である。
被乾燥物２の乾燥方法、および、乾燥容器１ｂ内の被乾
燥物２と接触している雰囲気ガスに含まれる一酸化炭素
濃度の測定方法は、第２の実施の形態と同様である。
【００３９】一酸化炭素濃度連続分析計１１からの信号
による乾燥装置の制御方法は、第３の実施の形態と同様
である。 〔第５の実施の形態〕図５は、この発明の第５の実施の
形態に係る乾燥装置を示す工程図である。被乾燥物２の
乾燥方法、および、排出ガス１０に含まれる一酸化炭素
濃度の測定方法は、第１の実施の形態と同様である。
による乾燥装置の制御方法は、第３の実施の形態と同様
である。 〔第５の実施の形態〕図５は、この発明の第５の実施の
形態に係る乾燥装置を示す工程図である。被乾燥物２の
乾燥方法、および、排出ガス１０に含まれる一酸化炭素
濃度の測定方法は、第１の実施の形態と同様である。
【００４０】一酸化炭素濃度連続分析計１１からの信号
は、警報装置１４に入力する。警報装置１４は、一酸化
炭素濃度が１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下の設定値を
超えた場合に作動する。一酸化炭素濃度連続分析計１１
からの信号は、この他に、連続記録計に入力し、経時変
化を記録してもよい（図示せず）。
は、警報装置１４に入力する。警報装置１４は、一酸化
炭素濃度が１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下の設定値を
超えた場合に作動する。一酸化炭素濃度連続分析計１１
からの信号は、この他に、連続記録計に入力し、経時変
化を記録してもよい（図示せず）。
【００４１】乾燥装置の運転者は、有機塩素化合物を排
出ガス１０中に含有させない条件で通常の運転を行う
が、警報装置１４の作動により有機塩素化合物が生成す
る異常事態が生じたことを確認した場合、装置の設定条
件を変更し、一酸化炭素濃度連続分析計１１の測定値が
１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下の設定値以下になるよ
う調整を行う。
出ガス１０中に含有させない条件で通常の運転を行う
が、警報装置１４の作動により有機塩素化合物が生成す
る異常事態が生じたことを確認した場合、装置の設定条
件を変更し、一酸化炭素濃度連続分析計１１の測定値が
１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下の設定値以下になるよ
う調整を行う。
【００４２】〔第６の実施の形態〕図６は、この発明の
第６の実施の形態に係る乾燥装置を示す工程図である。
被乾燥物２の乾燥方法、および、乾燥容器１ｂ内の被乾
燥物２と接触している雰囲気ガスに含まれる一酸化炭素
濃度の測定方法は、第２の実施の形態と同様である。
第６の実施の形態に係る乾燥装置を示す工程図である。
被乾燥物２の乾燥方法、および、乾燥容器１ｂ内の被乾
燥物２と接触している雰囲気ガスに含まれる一酸化炭素
濃度の測定方法は、第２の実施の形態と同様である。
【００４３】一酸化炭素濃度連続分析計１１からの信号
の利用方法は、第５の実施の形態と同様である。
の利用方法は、第５の実施の形態と同様である。
【００４４】
【実施例】次に、この発明の実施例を説明する。上述し
た実施の形態による実験データの実施例を以下に示す。
た実施の形態による実験データの実施例を以下に示す。
【００４５】〔実施例１〕まず、排出ガス中の一酸化炭
素濃度は測定するが、測定値による乾燥機の制御を行わ
ない場合の実施例を示す。装置は図８に示すものであ
り、排出ガス１０の一部を赤外線式一酸化炭素濃度連続
分析計１１に導入した。この実施例では制御装置１２は
作動させず、制御信号１３は出力させなかった。また、
このとき、熱風炉７から排出される熱風中の一酸化炭素
濃度も赤外線一酸化炭素濃度分析計を用いて測定したが
（図示せず）、濃度は常時２ｐｐｍ以下であった。この
ときの実験条件を示す。
素濃度は測定するが、測定値による乾燥機の制御を行わ
ない場合の実施例を示す。装置は図８に示すものであ
り、排出ガス１０の一部を赤外線式一酸化炭素濃度連続
分析計１１に導入した。この実施例では制御装置１２は
作動させず、制御信号１３は出力させなかった。また、
このとき、熱風炉７から排出される熱風中の一酸化炭素
濃度も赤外線一酸化炭素濃度分析計を用いて測定したが
（図示せず）、濃度は常時２ｐｐｍ以下であった。この
ときの実験条件を示す。
【００４６】被乾燥物種類 ：一般廃棄物（５０ｍｍア
ンダー（以下）に破砕） 被乾燥物投入量：０．５〜１．５ｔ（トン）／ｈ（時
間） 投入物含水率 ：４０〜５０ｗｔ．％ 排出物含水率 ：５〜１０ｗｔ．％ 回転ドラム１ａに投入する被乾燥物２の重量を変化さ
せ、且つ、乾燥物９の含水率がほぼ一定値になるように
回転ドラム１ａに投入する熱風の温度を制御したとき、
排出ガス１０中の一酸化炭素濃度は熱風温度の低下と共
に低下した。排出ガス１０中のダイオキシン類（有機塩
素化合物）濃度( 等価濃度［ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3 ］)
を測定し、ダイオキシン類濃度測定中の一酸化炭素の平
均濃度に対してプロットしたものを図７に黒丸印（●）
によって示す。ダイオキシン類濃度は一酸化炭素濃度の
低下と共に低下し、両者の間には良好な相関関係が見ら
れた。この検量線を用いることにより、連続的に、一酸
化炭素濃度から有機塩素化合物濃度を知ることが可能と
なった。
ンダー（以下）に破砕） 被乾燥物投入量：０．５〜１．５ｔ（トン）／ｈ（時
間） 投入物含水率 ：４０〜５０ｗｔ．％ 排出物含水率 ：５〜１０ｗｔ．％ 回転ドラム１ａに投入する被乾燥物２の重量を変化さ
せ、且つ、乾燥物９の含水率がほぼ一定値になるように
回転ドラム１ａに投入する熱風の温度を制御したとき、
排出ガス１０中の一酸化炭素濃度は熱風温度の低下と共
に低下した。排出ガス１０中のダイオキシン類（有機塩
素化合物）濃度( 等価濃度［ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3 ］)
を測定し、ダイオキシン類濃度測定中の一酸化炭素の平
均濃度に対してプロットしたものを図７に黒丸印（●）
によって示す。ダイオキシン類濃度は一酸化炭素濃度の
低下と共に低下し、両者の間には良好な相関関係が見ら
れた。この検量線を用いることにより、連続的に、一酸
化炭素濃度から有機塩素化合物濃度を知ることが可能と
なった。
【００４７】排出ガス１０中の一酸化炭素濃度が１００
ｐｐｍ以上のとき、排出ガス１０中の有機塩素化合物濃
度は無視できない値であった。なお、熱風温度が３５０
℃以上となる従来の乾燥方法では、排出ガス１０中の一
酸化炭素濃度は通常２００ｐｐｍ以上であった。
ｐｐｍ以上のとき、排出ガス１０中の有機塩素化合物濃
度は無視できない値であった。なお、熱風温度が３５０
℃以上となる従来の乾燥方法では、排出ガス１０中の一
酸化炭素濃度は通常２００ｐｐｍ以上であった。
【００４８】排出ガス１０中の一酸化炭素濃度が１００
ｐｐｍ以下になる条件で装置の運転を行った結果、排出
ガス中の有機塩素化合物濃度を大きく低減できた。 〔実施例２〕更に、実施例２として、排出ガス中の一酸
化炭素濃度を測定し、測定値による乾燥機の制御を行っ
た。装置は図８に示すものである。排出ガス１０の一部
を赤外線式一酸化炭素濃度連続分析計１１に導入し、分
析計１１からの測定値の出力を制御装置１２に入力し
た。制御装置１２では、分析計１１の測定値が制御装置
１２に設定された所定の設定値を超えた際に、熱風温度
および被乾燥物２の投入量を所定の計算値だけ低下させ
るよう、熱風炉７および投入装置３に制御信号１３を送
り、制御した。制御装置１２に設定した一酸化炭素濃度
の設定値は、５０ｐｐｍおよび１０ｐｐｍである。更
に、投入装置３は、乾燥物９の含水率を測定する赤外線
式水分計１５からの出力によっても連続的に制御してお
り（制御は図示せず）、乾燥物９の含水率を所定値に合
わせるように調整した。一度低下させた熱風温度および
被乾燥物２の投入量は、徐々に初期設定値に復帰させ
た。このときの実験条件を示す。
ｐｐｍ以下になる条件で装置の運転を行った結果、排出
ガス中の有機塩素化合物濃度を大きく低減できた。 〔実施例２〕更に、実施例２として、排出ガス中の一酸
化炭素濃度を測定し、測定値による乾燥機の制御を行っ
た。装置は図８に示すものである。排出ガス１０の一部
を赤外線式一酸化炭素濃度連続分析計１１に導入し、分
析計１１からの測定値の出力を制御装置１２に入力し
た。制御装置１２では、分析計１１の測定値が制御装置
１２に設定された所定の設定値を超えた際に、熱風温度
および被乾燥物２の投入量を所定の計算値だけ低下させ
るよう、熱風炉７および投入装置３に制御信号１３を送
り、制御した。制御装置１２に設定した一酸化炭素濃度
の設定値は、５０ｐｐｍおよび１０ｐｐｍである。更
に、投入装置３は、乾燥物９の含水率を測定する赤外線
式水分計１５からの出力によっても連続的に制御してお
り（制御は図示せず）、乾燥物９の含水率を所定値に合
わせるように調整した。一度低下させた熱風温度および
被乾燥物２の投入量は、徐々に初期設定値に復帰させ
た。このときの実験条件を示す。
【００４９】被乾燥物種類 ：一般廃棄物（５０ｍｍア
ンダー（以下）に破砕） 被乾燥物投入量：０．５〜０．７ｔ（トン）／ｈ（時
間） 投入物含水率 ：４０〜５０ｗｔ．％ 排出物含水率 ：５〜１０ｗｔ．％ 排出ガス１０中のダイオキシン類濃度を測定し、ダイオ
キシン類濃度測定中の一酸化炭素の平均濃度に対してプ
ロットしたものを図７に白丸印（○）によって示す。制
御を行わない場合と比較して、長時間、安定してダイオ
キシン類濃度をほぼ定量下限値まで低減することができ
た。
ンダー（以下）に破砕） 被乾燥物投入量：０．５〜０．７ｔ（トン）／ｈ（時
間） 投入物含水率 ：４０〜５０ｗｔ．％ 排出物含水率 ：５〜１０ｗｔ．％ 排出ガス１０中のダイオキシン類濃度を測定し、ダイオ
キシン類濃度測定中の一酸化炭素の平均濃度に対してプ
ロットしたものを図７に白丸印（○）によって示す。制
御を行わない場合と比較して、長時間、安定してダイオ
キシン類濃度をほぼ定量下限値まで低減することができ
た。
【００５０】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、有機物または含炭素化合物、および、塩素化合物を
含有する物質を乾燥させる方法において、排出ガス中の
有害な有機塩素化合物の存在を安価、容易且つ連続的に
検出することが可能となり、また、排出ガス中の有機塩
素化合物の含有量を極力抑えることが可能となり、かく
して、有用な効果がもたらされる。
ば、有機物または含炭素化合物、および、塩素化合物を
含有する物質を乾燥させる方法において、排出ガス中の
有害な有機塩素化合物の存在を安価、容易且つ連続的に
検出することが可能となり、また、排出ガス中の有機塩
素化合物の含有量を極力抑えることが可能となり、かく
して、有用な効果がもたらされる。
【図面の簡単な説明】
【図1 】この発明の第1 の実施の形態に係る乾燥装置を
示す工程図である。
示す工程図である。
【図２】この発明の第２の実施の形態に係る乾燥装置を
示す工程図である。
示す工程図である。
【図３】この発明の第３の実施の形態に係る乾燥装置を
示す工程図である。
示す工程図である。
【図４】この発明の第４の実施の形態に係る乾燥装置を
示す工程図である。
示す工程図である。
【図５】この発明の第５の実施の形態に係る乾燥装置を
示す工程図である。
示す工程図である。
【図６】この発明の第６の実施の形態に係る乾燥装置を
示す工程図である。
示す工程図である。
【図７】この発明の実施例に係る乾燥装置の排出ガス中
の一酸化炭素濃度と有機塩素化合物濃度との関係を示す
グラフである。
の一酸化炭素濃度と有機塩素化合物濃度との関係を示す
グラフである。
【図８】この発明の実施例に係る乾燥装置を示す概略断
面図である。
面図である。
【図９】従来の乾燥装置の一例を示す概略断面図であ
る。
る。
１ａ：回転ドラム
１ｂ：乾燥容器
２：被乾燥物
３：投入装置
４：攪拌羽根
５：熱媒
６ａ：燃料
６ｂ：空気
７：熱風炉
８：排出装置
９：乾燥物
１０：排出ガス
１１：一酸化炭素濃度連続分析計
１２：制御装置
１３：制御信号
１４：警報装置
１５：水分計
１６：誘因ファン
１７：循環バイパス
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 山崎 茂樹
東京都千代田区丸の内一丁目１番２号
日本鋼管株式会社内
(72)発明者 立福 輝生
東京都千代田区丸の内一丁目１番２号
日本鋼管株式会社内
(72)発明者 横山 隆
東京都千代田区丸の内一丁目１番２号
日本鋼管株式会社内
(72)発明者 鈴木 康夫
東京都千代田区丸の内一丁目１番２号
日本鋼管株式会社内
(72)発明者 阿部 盛一
東京都千代田区丸の内一丁目１番２号
日本鋼管株式会社内
(72)発明者 大垣 陽二
東京都千代田区丸の内一丁目１番２号
日本鋼管株式会社内
(56)参考文献 特開 平９−52023（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−34110（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−318029（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−316572（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−247423（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−148319（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−340015（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−793（ＪＰ，Ａ)
特開 昭57−132213（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
F26B 25/00
B09B 3/00
B09B 3/00 ZAB
Claims (8)
- 【請求項１】 有機物または含炭素化合物、および、塩
素化合物を含有する物質を乾燥させる方法において、被
乾燥物から発生し、および／または被乾燥物と接触し、
乾燥装置から排出されるガスに含まれる一酸化炭素の濃
度を測定し、前記一酸化炭素の濃度を前記ガスに含まれ
る有機塩素化合物濃度の指標として用いることを特徴と
する乾燥方法。 - 【請求項２】 有機物または含炭素化合物、および、塩
素化合物を含有する物質を乾燥させる方法において、被
乾燥物から発生し、および／または被乾燥物と接触し、
乾燥装置から排出されるガスに含まれる一酸化炭素の濃
度を測定し、前記一酸化炭素の濃度を基準にして前記乾
燥装置を制御して前記ガスに含まれる有機塩素化合物濃
度を制御すること特徴とする乾燥方法。 - 【請求項３】 前記一酸化炭素の濃度を１００ｐｐｍ以
下に維持することを特徴とする請求項２記載の乾燥方
法。 - 【請求項４】 有機物または含炭素化合物、および、塩
素化合物を含有する物質を乾燥させる方法において、被
乾燥物から発生し、および／または被乾燥物と接触し、
乾燥装置から排出されるガスに含まれる一酸化炭素の濃
度を測定して、前記一酸化炭素の濃度を１０ｐｐｍ以上
１００ｐｐｍ以下の所定の値以下に維持して前記ガスに
含まれる有機塩素化合物濃度を制御することを特徴とす
る乾燥方法。 - 【請求項５】 有機物または含炭素化合物、および、塩
素化合物を含有する物質を乾燥させる方法において、乾
燥装置内部の被乾燥物と接触している雰囲気ガスに含ま
れる一酸化炭素の濃度を測定し、前記一酸化炭素の濃度
を前記ガスに含まれる有機塩素化合物濃度の指標として
用いることを特徴とする乾燥方法。 - 【請求項６】 有機物または含炭素化合物、および、塩
素化合物を含有する物質を乾燥させる方法において、乾
燥装置内部の被乾燥物と接触している雰囲気ガスに含ま
れる一酸化炭素の濃度を測定し、前記一酸化炭素の濃度
を基準にして前記乾燥装置を制御して前記ガスに含まれ
る有機塩素化合物濃度を制御することを特徴とする乾燥
方法。 - 【請求項７】 前記一酸化炭素の濃度を１００ｐｐｍ以
下に維持することを特徴とする請求項６記載の乾燥方
法。 - 【請求項８】 有機物または含炭素化合物、および、塩
素化合物を含有する物質を乾燥させる方法において、乾
燥装置内部の被乾燥物と接触している雰囲気ガスに含ま
れる一酸化炭素の濃度を測定して、前記一酸化炭素の濃
度を１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下の所定の値以下に
維持して前記ガスに含まれる有機塩素化合物濃度を制御
することを特徴とする乾燥方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21460598A JP3518355B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | 乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21460598A JP3518355B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | 乾燥方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000046472A JP2000046472A (ja) | 2000-02-18 |
| JP3518355B2 true JP3518355B2 (ja) | 2004-04-12 |
Family
ID=16658492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21460598A Expired - Fee Related JP3518355B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | 乾燥方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3518355B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4382856B2 (ja) * | 2008-04-08 | 2009-12-16 | 株式会社谷黒組 | 有機性廃棄物の処理方法及び熱エネルギー利用方法 |
| JP4538595B1 (ja) | 2009-10-07 | 2010-09-08 | 克守 谷黒 | バイオマス材料の処理方法及び熱エネルギー利用方法 |
| JP5412418B2 (ja) * | 2010-12-17 | 2014-02-12 | 三菱重工業株式会社 | 石炭不活化処理装置 |
-
1998
- 1998-07-29 JP JP21460598A patent/JP3518355B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000046472A (ja) | 2000-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3518355B2 (ja) | 乾燥方法 | |
| JPWO2004074409A1 (ja) | ガス化炉への可燃物供給方法及び装置及びガス化溶融システム | |
| JP4373263B2 (ja) | 有機物含有汚泥の炭化処理方法 | |
| JPS5861181A (ja) | 廃棄物の熱的処理における有害成分処理方法及びその装置 | |
| JP2005139338A (ja) | 移動床式ガス化炉の燃焼帯の温度計測方法および廃棄物ガス化装置 | |
| JP4256378B2 (ja) | ガス化炉の制御方法及び制御装置 | |
| JP2006193622A (ja) | 炭化製品及びその製造方法 | |
| JP3867259B2 (ja) | ゴミ乾燥装置における酸素濃度制御方法 | |
| JP2001050520A (ja) | 廃棄物処理装置における熱分解反応炉 | |
| JPH11183026A (ja) | 廃棄物の乾燥方法 | |
| JP2005265197A (ja) | 熱分解施設の運転方法及び熱分解施設 | |
| JP3944389B2 (ja) | 熱分解ガス化溶融炉における燃焼空気量制御システム | |
| JP3029250B2 (ja) | 生ごみの炭化処理装置 | |
| JP3607058B2 (ja) | 焼却装置および焼却装置の運転制御方法 | |
| JP4663933B2 (ja) | 熱分解反応装置及びその運転方法 | |
| JPH10339420A (ja) | 燃焼炉の燃焼制御方法とそのシステム | |
| JPH11159957A (ja) | 廃棄物の乾燥方法 | |
| JP3522455B2 (ja) | 放射性固体廃棄物の仮焼処理方法および仮焼処理装置 | |
| JP3556078B2 (ja) | ゴミ焼却炉の給塵速度制御方法及びゴミ焼却炉 | |
| JP3840208B2 (ja) | 土壌の処理装置及び処理方法 | |
| JP2005254032A (ja) | 熱分解施設の運転方法及び熱分解施設 | |
| JPH1047633A (ja) | ゴミ焼却炉の燃焼制御装置 | |
| JP3570881B2 (ja) | 焼却システムにおける高発熱量ごみの供給制御装置 | |
| JP3555011B2 (ja) | 廃棄物ガス化溶融装置とその制御方法 | |
| JPH11351538A (ja) | 溶融炉の燃焼制御方法及び装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040106 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040119 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313121 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313121 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080206 Year of fee payment: 4 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080206 Year of fee payment: 4 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090206 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090206 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100206 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100206 Year of fee payment: 6 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100206 Year of fee payment: 6 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110206 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |