JP3509113B2 - 非線形光学材料 - Google Patents
非線形光学材料Info
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Description
れる基本波を、その基本波の波長に対し短い波長である
第2〜第3の高調波に変換する高調波発生装置等に用い
られる非線形光学材料に関する。 【0002】 【従来の技術】近年、半導体レーザ等から出射される基
本波を非線形光学材料に通して波長変換された第2高調
波や第3高調波を得る装置が種々提案されている。これ
らの装置では、複数の反射面で構成される共振器内に非
線形光学材料を配置し、基本波を共振器内に閉じ込めて
増幅させることで、高調波を効率よく発生させるように
している。 【0003】そして、共振器としては、非線形光学材料
を加工し、その端面に反射膜を設けて、その内部で共振
させるモノリシック型共振器と、複数のミラーを配置し
て共振器を構成し、この共振器内に非線形光学材料を配
置したディスクリート型共振器とが知られている。最近
では、装置の小型化及び高調波への変換効率の向上を図
るために、ディスクリート型共振器のものから、非線形
光学材料の内部において基本波を共振させるモノリシッ
ク型のものへとその主流が移行しつつある。 【0004】共振器の素材として使用される非線形光学
材料は、無機結晶と有機結晶とに大別される。有機結晶
は非線形光学定数が大きいこと、結晶育成が容易なこ
と、分子設計が可能であることなどの利点を有している
が、長期安定性に劣ることなどから実用レベルには至っ
ていない。これに対し、無機結晶は既にレーザ核融合
や、その他の各種レーザの波長変換等に一部実用化され
ている。そして波長変換におけるその高性能化が、期待
されている。 【0005】これら無機結晶の中でも、KNbO3はバ
ルクとしては最大級の非線形光学定数を持つこと、室温
近傍において非臨界的な位相整合が可能であり、波長変
換の結果として青色光が得られることなどから注目され
ている材料である。また、KNbO3は他の結晶と比較
して大出力が得られるだけでなく、光損傷にも強いこと
が知られている。 【0006】次に、純粋KNbO3単結晶の主な特性値
を示す。非線形光学定数はd32=−13〜−21、ま
た出射光の位相整合波長許容幅、位相整合温度許容幅、
位相整合角度許容幅の半値幅はそれぞれ0.06nm、
0.3℃、38mrad・(cm)0.5である。ただ
し、これらの値はノンクリティカル(非臨界的な)位相
整合の状態での代表値である。 【0007】図7にKNbO3単結晶の屈折率の波長分
散の特性を参考に示す。この図7から読み取れるよう
に、KNbO3単結晶は基本波の進行方向をa軸とし、
その偏光方向をb軸とした場合、c軸に偏光を持った第
2高調波と第1のタイプの位相整合がとれることがわか
る。具体的に説明すると、KNbO3に入射される基本
波であるE(ω)が860nmであるとすると、その屈
折率はnbで示す特性曲線で定まる値となる(対応する
図7に示す値は、2.28である)。これに対して第2
高調波であるE(2ω)は、波長が430nmであり、
その屈折率はncで示す特性曲線で定まる。 【0008】このように基本波と第2高調波のそれぞれ
の屈折率が一致する範囲が、同じ符号の微係数を有する
それぞれの特性曲線の単調に変化する部分に、或る波長
域の範囲で存在していることが望ましい。そして結晶内
で基本波と第2高調波の位相が合致する(PM=Pha
se Matching:位相整合)ことで共振が起こ
る。 【0009】なお、非臨界的な位相整合となるため、位
相整合が徐々にずれていくウォークオフ現象のない安定
した効率的な波長変換が実現されている。 【0010】さらにKNbO3のKの一部をLiで置換
したLi−KNbO3がある。このLi−KNbO3に
おいては、KNbO3に比して、条件によっては基本波
と高調波との位相整合が改善され安定して動作可能の場
合があることが知られていた。 【0011】 【発明が解決しようとする課題】しかし、これらKNb
O3またはLi−KNbO3以上に波長変換効率の高
い、つまり、より大きな非線形光学定数を持つ材料が求
められていた。 【0012】 【課題を解決するための手段】本発明は、NaおよびR
b、またはRbによりKの一部が置換されてなるKNb
O3 を主体とする結晶からなる非線形光学材料を提供
する。 【0013】 【作用】本発明の非線形光学材料においては、KNbO
3のKの一部をNaおよびRb、またはRbで置換する
ことによって、結晶構造が変化し、高調波発生の変換特
性が改善される。そして、この(NaおよびRb)−K
NbO3またはRb−KNbO3を主体とする非線形光
学材料を用いて非線形光学単結晶を形成すると、良好な
SHG特性が得られる。 【0014】 【実施例】(実施例) 前述した、Rbを用いて、KNbO3のKの一部を置換
して得られるKNbO3を主体とする微結晶からなる粉
末について実験を行った。そして図3、図4に、粉末S
HG法を用いて非線形光学材料としての第2高調波出力
を測定した結果を示す。参考例として、Na、Ag、C
sおよびLiについても同様に実験を行い、データをと
った。なお粉末SHG法は有機、無機を問わず、SHG
特性を簡単かつ迅速に測定する方法として用いられてい
る。 【0015】本実施例で、基準試料として一般によく用
いられる石英ではなく、KNbO3粉末を用いて、これ
との比較で各試料のSHG強度を相対的に比較した。 【0016】試料として、Na2O、Rb2O、Li2
OまたはCs2Oをそれぞれ1モルに対し、K2Oを9
モル、Nb2O5を10モルとなる重量比に調整し、焼
成し、粉砕して形成した粒径約10μmのものを用い
た。KNbO3のKの一部が置換されて、KNbO3と
混在した微結晶粉末となっている。この状態で、もとの
酸化物はほとんど残存していない。 【0017】図1は、直接透過式でのSHG粉末法によ
る測定系を示す。サンプル1は、上記の各微結晶粉末を
ガラスなどのセルに封入したものである。高出力レーザ
装置15から出射された基本波長のレーザ光5が、サン
プル1に入射される。基本波がサンプル1の内部を通過
する際に、第2高調波50が発生し、サンプル1から出
射される。基本波長のレーザ光5のもれ成分、およびそ
の他のノイズ波長を除去するためにフィルター19を設
けて、第2高調波50だけを選択する。 【0018】そして波長変換され出力された第2高調波
50を高感度の光検出器20で検出し、その強度を測定
する。この光検出器20は、第2高調波50の波長であ
る430nm付近において、充分な波長分解能と感度を
有しているものを用いる。さらに、基本波長のレーザ光
5は、パルス出力とし、光検出器20は、それに同期し
て第2高調波50の測定を行うように設けられる。 【0019】図2は、反射式でのSHG粉末法による測
定系を示す。図1の直接透過式と基本的には同様な原理
に基づいているが、この例において、サンプル1はガラ
ス板の表面に設けられている。高出力レーザ装置15か
らの基本波長のレーザ光5を反射ミラー18で反射し、
サンプル1に当てる。基本波長のレーザ光5は、その一
部がサンプル1によって波長変換され第2高調波50が
発生する。この第2高調波50をフィルター19で選択
し、高感度の光検出器20で測定する。 【0020】図2に示す反射式の粉末法で、上記の各サ
ンプルのSHG特性の測定を行った。高出力レーザ装置
15からの基本波のレーザ光5の出力強度を40mWと
した。基本波の波長として、860nm±10nmを用
いた。光検出器20で、波長変換されて出力された第2
高調波50を、中心周波数430nm±5nmで測定し
た。この場合、サンプル1中の微結晶の粒子径をほぼ一
定とした。また、基本波のレーザ光5のビーム径を、一
定とする条件のもとに行った。 【0021】図3は、NaでKを一部置換したNa−K
NbO3粉末におけるSHG出力特性の実験結果を参考
のため示す。Na−KNbO3は、入力波長=860±
10nmの波長域で、純粋KNbO3粉末の1.1倍以
上のSHG特性が得られた。ピークで、1.16倍程度
である。比較例であるCs−KNbO3は、本図に示す
波長域で1.0倍程度、特定の波長で1.01〜1.0
2倍のSHG出力特性を示した。 【0022】図4は、RbでKを一部置換したRb−K
NbO3粉末におけるSHG出力特性の実験結果を示
す。Rb−KNbO3は、広い波長域にわたって、平均
的に1.1倍を上まわっている。つまり入力波長に対す
る許容範囲が広いので極めて望ましい。またそのピーク
は、1.17倍程度である。比較例であるLi−KNb
O3は、1.0〜1.05倍の値を示している。 【0023】図8は、AgでKの一部を置換したAg−
KNbO3粉末におけるSHG出力特性の実験結果を参
考のために示す。このAg−KNbO3の場合は、純粋
KNbO3の場合の0.5〜0.6倍のSHG出力特性
(反射式)を示した。 【0024】一般に、微結晶からなる粉末SHG法での
測定結果に示される傾向は、単結晶の場合にも保存され
ることが知られている。従って本発明の非線形光学材料
を用いて、単結晶を育成した場合、高い変換効率を有す
る非線形光学単結晶が得られるものと考えられる。 【0025】図5に本発明の非線形光学材料を用いる第
2高調波発生装置11を参考例として示す。これには、
KNbO3に前記のNa,Rbの各酸化物を混合し、焼
成し、粉砕して形成した、KNbO3を主体とした微結
晶粉末を素材とした非線形光学単結晶ブロック10を用
いる。RbをMとし、一般式であるMxK1−xNbO
3で表現した場合、X=0.05〜0.2の範囲が高出
力SHG特性を得る上で望ましい。X=0.2〜0.5
の範囲では、一応の特性が得られるがSHG特性がやや
低下する傾向がある。 【0026】この参考例の第2高調波発生装置11にお
いては、半導体レーザ12を光源としている。この半導
体レーザ12と非線形光学単結晶ブロック10との間に
は、コリメータレンズやモードマッチングレンズ等を設
けず、光結合系なしで構成している。非線形光学単結晶
ブロック10は、その両端面を球面状に加工され、さら
に入射面側は、基本波の波長と第2高調波50の波長を
共に反射せしめる反射ミラー16が形成されている。 【0027】出力側の面には、入射される基本波の波長
を反射し、第2高調波50に対しては透過性であり、第
2高調波50を出射せしめる球面ミラー17が設けられ
ている。平面ミラー18は基本波(および第2高調波5
0)を全反射する。この第2高調波発生装置11のモノ
リシック型共振器(非線形光学単結晶ブロック10と球
面ミラー16と球面ミラー17とで構成される)の内部
で基本波と同じ波長の共振波30が3角形状に循環して
リング発振する。そして結晶軸aの方向(図中、入射点
から出射点に向かう方向である)に共振波30が進行す
るときに、第2高調波50が発生し、球面ミラー17の
出射点から外部に出射される。 【0028】図6に、ディスクリート型共振器を用いた
場合の第2高調波発生装置21を参考に示す。基本的な
動作原理は、前述したモノリシック型共振器を用いた場
合と同様である。このディスクリート型共振器では、非
線形光学単結晶ブロック10の両側に第1平面ミラーと
第2平面ミラーを配置する。第1平面ミラーは、基本波
と第2高調波50の両方を反射し、第2平面ミラーは基
本波を反射し、第2高調波50を透過せしめる。なお、
図中で基本のレーザ光を省略している。 【0029】この例では、半導体レーザ12を光源とし
YAGロッドを励起して大きなレーザ光を発生して、第
2高調波50もそれに応じて大出力をとれるようにして
いる。非線形光学単結晶ブロック10は、前述したNa
およびRb、またはRbでKNbO3のKの一部を置換
した材料を用いる。本発明の非線形光学材料は、大出力
の第2高調波を発生するのに適している。 【0030】 【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、KNbO3のKをNaおよびRb、またはRbでK
の一部を置換した非線形光学材料を提供する。この非線
形光学材料は、粉末SHG法によって、いずれも純粋K
NbO3のおよそ110%以上の第2高調波出力を示し
たので、非線形光学材料として有用であると結論でき
る。また、高い第2高調波変換効率を期待できる。 【0031】したがって、本発明によって、非線形光学
定数の大きな非線形光学材料を提供できる。例えば、N
aおよびRb、またはRbでKの一部を置換したKNb
O3粉末を物体に文字または符号をパターニングして設
け、これに光学的に光を当てて、パターニングに応じた
第2高調波を検知すれば高密度、高感度の情報記録媒体
として用いることができる。また、単結晶ブロックを用
いて高出力の高調波発生装置を提供することができる。
ブロック図。 【図2】反射式粉末法によるSHG出力特性測定のブロ
ック図。 【図3】Na−KNbO3およびCs−KNbO3の反
射式粉末法によるSHG出力特性測定の結果を示すグラ
フ。 【図4】Rb−KNbO3およびLi−KNbO3の反
射式粉末法によるSHG出力特性測定の結果を示すグラ
フ。 【図5】本発明の非線形光学材料を用いるモノリシック
型共振器の側面図。 【図6】本発明の非線形光学材料を用いるディスクリー
ト型共振器の側面図。 【図7】KNbO3の屈折率の特性を示すグラフ。 【図8】Ag−KNbO3の反射式粉末法によるSHG
出力特性測定の結果を示すグラフ。 【符号の説明】 1:Na−KNbO3またはRb−KNbO3を主体と
する微結晶粉末 5:基本波長のレーザ光 15:高出力レーザ装置 19:フィルター(第2高調波の成分を透過する) 20:光検出器 50:第2高調波
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】NaおよびRb、またはRbによりKの一
部が置換されてなるKNbO3を主体とする結晶からな
る非線形光学材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13579692A JP3509113B2 (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | 非線形光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13579692A JP3509113B2 (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | 非線形光学材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05306123A JPH05306123A (ja) | 1993-11-19 |
JP3509113B2 true JP3509113B2 (ja) | 2004-03-22 |
Family
ID=15160030
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13579692A Expired - Fee Related JP3509113B2 (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | 非線形光学材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3509113B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR3051785A1 (fr) * | 2016-05-25 | 2017-12-01 | Soitec Silicon On Insulator | Procede de fabrication d'une couche |
-
1992
- 1992-04-28 JP JP13579692A patent/JP3509113B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05306123A (ja) | 1993-11-19 |
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