JP3503441B2 - 液晶パネル用基板の製造方法及び液晶パネル枠並びに液晶パネル体。 - Google Patents
液晶パネル用基板の製造方法及び液晶パネル枠並びに液晶パネル体。Info
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Description
よび産業用の情報表示端末として使われる液晶ディスプ
レイに関わる。特に一対の基板を接着する液晶パネル枠
に強誘電性液晶もしくは反強誘電性液晶を保持する液晶
ディスプレイのパネル体の構成に関する。
ースという特徴を有するのでノートパソコンの表示部と
して広く用いられている。近年、大型化が進み、対角15
インチから21インチの大きさのものが製造されつつあ
り、次第にデスクトップパソコンやテレビなどで使われ
ているCRT(Cathod Ray Tube )と入れ替わっていく
ものと予想されている。
薄膜トランジスター(TFT:ThinFilm Transistor)
を使うタイプの他に、強誘電性液晶(FLC:Ferroele
ctric Liquid Crystal)あるいは反強誘電性液晶(AF
LC:Anti-Ferroelectric Liquid Crystal )を使うタ
イプがある。これらは表示の原理や駆動方式が異なる
が、いずれの液晶ディスプレイでも一対のガラス基板間
(液晶パネル枠)に液晶を狭持するという構造は変わら
ない。
囲で一定であるが可能な限り均一でなければならない。
このために、スペーサービーズという球形もしくは棒状
の基板間隔支持部材を基板間に散布する方法が採用され
ている。
あり、適当な溶媒にこれを分散させて基板上に塗布乾燥
する。塗布乾燥工程は静電気や異物の影響を受けやす
く、結果としてスペーサービーズが凝集したり、分布が
不均一であったりすると、基板間隔が一様でなくなり表
示品質が落ちる原因となる。液晶パネル体が大型化する
と、均一に散布すること自体が難しくなってくる。ま
た、スペーサービーズは基板間隙に浮遊しているにすぎ
ないので、基板間隔は外部からの圧力により容易に変形
し変化するが、こうしたことにより液晶が流動するとス
ペーサが移動してしまうという問題も生じる。更に別の
問題はスペーサの位置が制御できないので表示画素上に
も存在し、その部分が白抜けするなど表示品質も低下す
る。
取り除く手段としてフォトリソグラフィにより微細な部
材を形成してスペーサとする、あるいは更に進めてこれ
らを介して一対の基板を完全に接着する技術が公開され
ている(例えば、特開昭63−50817号公報、特公
平2−36930号公報、特開平4−255826号公
報、特開平7−84267号公報など)。
間隔支持部材を形成することが可能であり、かつ基板間
隔の均一性が優れている。基板上に固着しているため移
動することが無く、かつ基板を洗浄することができるの
で、セル作成時の歩留まりも格段に優れる。完全に接着
する場合にはパネルの耐衝撃性が格段に向上するので、
配向層が衝撃により破壊されやすい強誘電性液晶及び反
強誘電性液晶用の液晶パネルとして好適である。
パネルに液晶を保持する必要があるのみならず、液晶の
層構造に特有のジグザグ欠陥を取り除いて、配向性を向
上させるために一対の基板を接着する必要がある(例え
ば、特開平7−318912号公報、特開平8−870
21号公報)。その理由はこれらの液晶の配向性を向上
させるには液晶分子を全体として同じ方向に動かす必要
があるからである。流動により配向が大幅に改善され
る。流動させるには先ず液晶を細長く狭い空間に閉じこ
めなければならない。その状態でこの狭い空間を一方の
端部から冷却する(温度勾配冷却)。液晶分子は温度が
先に低下する方向に体積収縮により引きずられる効果を
用いる。
向膜を形成し、次いでその上に所望の厚さの感光性樹脂
を塗布する。適切なパターンのマスクを使って露光現像
する。それにより所望の厚みを有する感光性樹脂のパタ
ーンを得る。基板間隙支持用の感光性樹脂パターンを有
する基板と他方の基板とを密着させたまま、概略150
〜170℃程度の環境に1時間程度保持すると両基板は
完全に接着する。感光性樹脂は、高温にすると配向膜素
材であるポリイミドとの化学的に相互作用し強い粘接着
性が発現するためである。感光性樹脂としてはポジ型、
ネガ型何れも使用可能である。感光性樹脂の形状は点
状、直線状などどんな形状も考えられるが、ストライプ
状が配向性向上の点から望ましいことはいうまでもな
い。以下ではこのストライプ状の部材を隔壁部材とも称
する。
誘電性及び反強誘電性液晶用の液晶パネルにおいて、適
切なピッチの隔壁部材で一対の基板を接着すると次の問
題が生じた。図2を使って説明する。この場合隔壁部材
を有する一方の基板203と、透明電極群(ITO:in
dium tin oxide)204を有する他方の基板とを、隔壁
部材と他方の透明電極群が直交するように対抗させる。
隔壁部材側の透明電極は隔壁部材と平行である。液晶パ
ネル体が大型化、大容量化すると電気抵抗を下げるため
に透明電極204の厚みは500オングストローム程度
から3000〜4000オングストロームへと厚くな
る。こうして透明電極が厚い基板を、一定の厚みを有す
る線状の隔壁部材202で接着すると、隔壁部材の変形
では電極線間段差を埋めきれずに、図2に示すように隔
壁部材の一部が対抗側の基板と完全に接触しない部分、
即ち電極間段差による隙間201が生じる。
が2000オングストロームより厚いと、隙間201が
残存することが判った。この隙間は次の問題を生じる。
まず隙間201は、液晶浸透時に空隙として残り易く、
十分な時間をかけても液晶の浸透が不完全な液晶パネル
体となることである。液晶を浸透させた後冷却するが、
この過程で空隙が移動し表示部の液晶部分に隙間として
現れることが多い。
閉されていないので、温度勾配を印加しつつ冷却した場
合に液晶の移動方向が空間方向に集中限定されにくくな
るので配向性の向上が期待できなくなることである。更
に別の問題は、3000〜4000オングストロームの
周期的な凹部があると、凸部を液晶が入りきるのに時間
がかかり全体としての浸透時間が長くかかるということ
も生じる。
ものである。その目的は、透明電極の下側に設けられた
オーバーコート層を簡単な手段により盛り上げて、電極
間が埋設された液晶パネル用基板を提供することであ
る。電極間の盛り上がった部分と対抗側の隔壁部材と接
着させ、完全に密閉された直線状の空間を形成すること
である。
基板の製造方法は、少なくともネガ型感光性樹脂からな
るオーバーコート層とその上側にストライプ状の電極群
を有する液晶パネル用基板の製造方法において、電極群
形成前にオーバーコート層の電極線間部分の所定箇所を
露光しその後加熱焼成することで、所定箇所を高さが4
00〜3000オングストロームの凸状に盛り上げるこ
とを特徴としたものである。オーバーコート層がネガ型
であるのはポジ型では、凸状に盛り上げることが難しい
ためである。請求項2に記載の液晶パネル用基板の製造
方法は、前記オーバーコート層の下部にカラーフィルタ
ー層を有することを特徴としたものである。一般にカラ
ーフィルター層は赤、青、緑の3色からなるが、色特性
の調整のために一般には厚みが一定でない。これを一定
にするためにその上部にオーバーコート層を設けるのが
普通である。請求項3に記載の液晶パネル用基板の製造
方法は、前記オーバーコート層の上部に無機物からなる
薄膜層を有することを特徴としたものである。無機層は
絶対に不可欠ではないがカラーフィルター層もしくはオ
ーバーコート層に含まれる成分が液晶層へ漏出するのを
防止する。また、透明電極との密着性を改善する。請求
項4に記載の液晶パネル用基板の製造方法は、請求項1
から請求項3のいずれか一つに記載の液晶パネル用基板
の製造方法において、前記電極群の上部にストライプ状
の隔壁部材を有することを特徴とする液晶パネル用基板
の製造方法である。請求項5に記載の液晶パネル枠は、
前記製造方法により得られた液晶パネル用基板と、スト
ライプ状の基板間隙支持部材を設けた他方の基板とを該
ストライプ状の部材を介して接着したことを特徴とする
液晶パネル枠である。請求項6に記載の液晶パネル体
は、前記液晶パネル枠に強誘電性液晶もしくは反強誘電
性液晶を浸透したことを特徴とする液晶パネル体であ
る。
る。ITO透明電極を形成する前の一方の基板上には、
ブラックマトリックスやカラーフィルターが形成されて
おり、その表面には若干の凹凸がある。凸凹を平坦化す
るのに一般には電極形成前に、サブミクロン〜2ミクロ
ン程度の厚みのオーバーコート層を設ける。透明電極自
体は更に抵抗を下げるためのアルミニウムや銅などの金
属電極部分を含んでいてもかまわない。本発明者らは、
オーバーコート層としてのネガ型の感光性透明樹脂を露
光すると、露光部分が盛り上がり、この盛り上がりが
酸、アルカリ、加熱等で変化せず埋設手段として利用で
きることを見いだした。本発明は、この事実をふまえて
オーバーコート材料としてネガ型感光性透明樹脂を用
い、マスク露光によりオーバーコート層の任意の部分を
盛り上げることに着目したものである。余計なフォトレ
ジストを塗布してフォトリソグラフィを施すことなく電
極間段差を埋設することが可能である。
1にはブラックマトリックス102、カラーフィルター
103が定法のフォトリソ法で形成されており、数百オ
ングストローム程度の凹凸がある(図1(a) 参照)。こ
れを平坦化するために透明なネガ型感光性樹脂でオーバ
ーコート層104を設ける(図1(b) 参照)。厚みはコ
ート後の凸凹が500オングストローム以下になるよう
にするのが望ましい。オーバーコート層の厚みは概ね1
〜2ミクロン程度である。感光性樹脂としては、アクリ
ル系、エポキシ系、エポキシアクリレート系などを使用
することができる。求められる特性としては、感光性、
加熱後の化学的安定性、透明性、絶縁性等である。塗布
方法としては、スピンコート、ロールコート、印刷法な
どを用いることが出来る。
るためのパターンを有するフォトマスク105を用い
て、オーバーコート層の所定部分を紫外線112にて露
光する(図1(c) 参照)。露光量としては感光性材料に
もよるが30〜100mJ/cm2 が適当であった。こ
の後、150〜250℃で30分〜1時間程度保持する
と露光部分がパターン通りに凸状に盛り上がる部分10
6が生じる(図1(d) 参照)。盛り上がり量(高さ)
は、オーバーコート層の厚みの10〜15%程度で、オ
ーバーコート層が厚くなるほど盛り上がり量は増加す
る。透明電極の厚みは最大でも4000オングストロー
ム程度であるが、対抗側の部材が隙間にくい込むので2
000オングストローム程度の盛り上がりが形成できれ
ば良く、オーバーコート層の厚みとして2μm程度が必
要であり標準的な値である。こうして形成された凸部を
含むオーバーコート層は有機アルカリ溶液、無機アルカ
リ溶液、有機溶剤などに対して十分な耐溶剤性、耐アル
カリ性、耐酸性を有していた。
107をスパッタ法などにより成膜する(図1(e) 参
照)。これを常法のフォトリソ法によりエッチングと剥
膜処理を施し、ストライプ状の電極(群)108を形成
する(図1(f) 参照)。この時、電極の厚みとオーバー
コート層の厚みを適切に選択組み合わせるとITO膜頂
上とオーバーコート層凸部への段差を2000オングス
トローム程度以下にできる。ITOの下部にはカラーフ
ィルター層とオーバーコート層から各種のイオンが漏出
するのを防止するためにオーバーコート層を覆うように
二酸化珪素、アルミナなどの無機薄膜層を設けてもよ
い。また、ITOの密着性も向上する。さらにITOの
上に配向用のポリイミド溶液を塗布乾燥しラビング処理
を施す。このようにしても凸部の形状が変化することは
なかった。
極群を形成し、その上に配向膜109を塗布する。次い
で、電極線間に位置するよう感光性樹脂を使って隔壁部
材(群)111を形成する(図1(g) 参照)。感光性樹
脂としてはネガ型、ポジ型いずれも可能で、基板間隔は
感光性樹脂の膜厚で制御できる。基板110を隔壁部材
111を介して基板101とアライメントをとって密着
させる。これを1気圧程度で加圧しながら、150〜1
80℃で1時間程度保持すると、両基板は接着する。隔
壁部材111は対抗するITO電極間隙にくい込んでオ
ーバーコート層の凸部と接着する(図1(h) 参照)。電
極線間段差はオーバーコート層の盛り上がりにより20
00オングストローム以下になるので、隔壁部材111
でほぼ完全に埋設される。
れば、隔壁部材に平行な方向での周期的な段差は少なく
なり、液晶の浸透速度の低下を防げるという効果もあ
る。隣接する空間の導通を防止するだけなら、対抗側の
隔壁部材とを接触する部分だけを凸状にすれば十分であ
る。
する基板の対抗側基板に設ける必要はない。凸部を設け
た基板上に設けても構わない。この場合にもオーバーコ
ート層の凸部がないと隔壁部材はITO電極をなぞるよ
うに形成され高さが周期的に変化した。ITOの厚みが
4000オングストローム程度であると隔壁部材の凹凸
は5〜600オングストロームに減少はするが残った。
この程度であると対抗基板を隙間なく接着するが基板間
隔の安定性はオーバーコート層を盛り上げた方が好まし
かった。以下、実施例により説明する。
PN−601」)390gおよびアクリル酸108gを
1,6−ヘキサンジオールアクリレート750g中に溶
解させてハイドロキノン0.5gおよびメチルエチルア
ンモニウムアイオダイド3gの存在下に100〜150
℃で2時間反応させた。ついで、無水ヘッド酸279g
を添加し、100〜150℃で2時間反応させて、水溶
性光重合性オリゴマーを得た。
重量部、非水溶性光重合性オリゴマーとしてフェノール
ノボラック型エポキシ樹脂(東都化成(株)製:「YD
CN−602」)40重量部、光重合性モノマーとして
トリメチロールプロパントリアクリレート(共栄社油脂
(株)製:「TMP−A」)20重量部、光重合開始剤
として(チバガイギー社製:「イルガキュア−65
1」)5重量部、光硬化用触媒前駆体としてジフェニル
ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート0.5重量
部および重合禁止剤としてハイドロキノン0.1重量部
を酢酸ブチルセロソルブ1000重量部中で混合して、
ネガ型感光性樹脂材料(1)を得た。
一方の基板上に、ネガ型感光性樹脂材料(1)をオーバ
ーコート層として、スピンコートにより約1.7μm厚
塗布した。所望の位置を露光するようなパターン形状の
マスクを用いて50mJ/cm2 でオーバーコート層を
露光した。これを180℃で1時間保持したところ、露
光部分がパターン通り2200オングストローム程度盛
り上がった。次いで二酸化珪素膜を500オングストロ
ームの厚みになるようにスパッターし無機保護膜とし
た。その直後の凸部のプロファイルを図3に示す。
り約4000オングストローム膜付けした。この上にフ
ォトレジストMP1400(シプレイファーイースト製)を用
いて常法のフォトリソ法によりエッチングして透明電極
群を形成し、更に230度で1時間加熱した。この時、
電極線の間には、ネガ型感光性樹脂材料(1)の盛り上
がりが位置しており、電極間段差は約1500オングス
トロームに減少した。この上にHL1110((株)日立化成
製)を塗布し、焼成した後ラビングを施し配向膜とし
た。これを基板(I)とする。
その上にHL1110を塗布、焼成した。その上にMP1400を
1.7μm厚に塗布して90℃で30分乾燥させた後、
電極線間に位置するようなパターンを有するマスクを用
いて、50mJ/cm2 で露光した。これをMP-Develop
er((株)シプレイファーイースト社製)で現像し、1
50℃で1時間焼成して、電極線間に位置するMP1400の
ストライプ状隔壁部材を形成した。この基板と先述の基
板とを電極群が直交するように貼り合わせ、1気圧で加
圧したまま、170℃で1時間加熱した。その結果両基
板がMP1400の隔壁部材で接着された液晶パネル枠を得
た。
(チッソ製)を浸透し冷却したところ、隔壁部材間の液
晶浸透部分にはまったく隙間(液晶がない部分)は見い
だされなかった。隔壁部材と透明電極の交差部分には液
晶は浸透しておらずオーバーコート層の凸部と隔壁部材
のくい込んだ部分は完全に接着していた。この液晶パネ
ル体を90度の温水漕からゆっくりと引き上げて傾斜冷
却したところ、ジグザグ欠陥及び液晶割れは全く観察さ
れなかった。傾斜冷却時の温度勾配は3℃/mmであっ
た。
晶パネル枠を作製し同じ液晶CS1014を浸透させた。但
し、実施例1と異なり露光によりオーバーコート層の凸
部を形成しなかった。このためITO電極と隔壁部材の
交差部には1000オングストローム程度の隙間が生じ
ていた。これは液晶がこの交差部に浸透していることか
ら確認された。このパネルを温水から引き上げて傾斜冷
却したところ隣接トンネル間で液晶の移動が可能なため
液晶の移動方向が集中されず数は少ないがジグザグ欠陥
が散見された。また、液晶の浸透に要する時間は実施例
1の約2.5倍であった。
ポジレジスト溶液MP1400を1. 7μm厚に塗布して90
℃で30分乾燥させた後、ITO電極と直交するパター
ンを有するマスクを用いて50mJ/cm2 で露光し、
これをMP-Developer((株)シプレイファーイースト社
製)で現像し、150℃で1時間焼成してストライプ状
隔壁部材を形成した。この場合隔壁部材の下地ITO電
極の有無に対応した凹凸は100〜200オングストロ
ームに低下しておりほぼ平坦であった。対抗側の基板と
接着させても隔壁部材と対抗基板で隙間が生じることは
なかった。
本発明に記載の組成のネガ型感光性樹脂のみならず、他
の組成のアクリル系、ゴム系の感光性樹脂においても見
いだされた。
を下地のオーバーコート材料で埋設した液晶パネル用基
板の製造方法を提供する。電極間を埋設するために別の
塗工・フォトリソ工程を導入する必要がなく、対抗側の
基板と十分に接着することが可能で隔壁部材により完全
に仕切られた密閉された空間を形成できる。これにより
ジグザグ欠陥の少ない配向層が形成可能となる。請求項
2の発明はカラーフィルター付でその上部に電極間が埋
設された液晶パネル用の基板の製造方法を提供する。請
求項3の発明によれば、下地のカラーフィルター層及び
オーバーコート層からの不純物イオンの漏出を防止でき
る。請求項4の発明によれば、隔壁部材の周期的な凹凸
の少ない液晶パネル用基板を提供する。請求項5の発明
によれば、基板間隙の隔壁部材により完全に接着した耐
衝撃性に優れた液晶パネル枠を製造することが可能であ
る。液晶は隔壁部材により完全に仕切られた直線状の空
間に保持が可能となる。請求項6の発明は、強誘電性液
晶及び反強誘電性液晶を使った液晶パネルであって、欠
陥のない高品質な液晶パネル体を提供する。
液晶パネル体の製造工程を示す説明図である。
す説明図である。
Claims (6)
- 【請求項1】少なくともネガ型感光性樹脂からなるオー
バーコート層とその上側にストライプ状の電極群を有す
る液晶パネル用基板の製造方法において、電極群形成前
にオーバーコート層の電極線間部分の所定箇所を露光し
その後加熱焼成することで、所定箇所を高さが400〜
3000オングストロームの凸状に盛り上げることを特
徴とする液晶パネル用基板の製造方法。 - 【請求項2】前記オーバーコート層の下部にカラーフィ
ルター層を有することを特徴とする請求項1記載の液晶
パネル用基板の製造方法。 - 【請求項3】前記オーバーコート層の上部に無機物から
なる薄膜層を有することを特徴とする請求項1及び請求
項2記載の液晶パネル用基板の製造方法。 - 【請求項4】請求項1から請求項3のいずれか一つに記
載の液晶パネル用基板の製造方法において、前記電極群
の上部にストライプ状の隔壁部材を有することを特徴と
する液晶パネル用基板の製造方法。 - 【請求項5】請求項1から請求項4のいずれか一つに記
載の製造方法により得られた液晶パネル用基板と、スト
ライプ状の基板間隙支持部材を設けた他方の基板とを該
ストライプ状の部材を介して接着したことを特徴とする
液晶パネル枠。 - 【請求項6】請求項5に記載の液晶パネル枠に強誘電性
液晶もしくは反強誘電性液晶を浸透したことを特徴とす
る液晶パネル体。
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JP26903097A JP3503441B2 (ja) | 1997-10-01 | 1997-10-01 | 液晶パネル用基板の製造方法及び液晶パネル枠並びに液晶パネル体。 |
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- 1997-10-01 JP JP26903097A patent/JP3503441B2/ja not_active Expired - Fee Related
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