JP3501967B2 - すき入れ検査装置 - Google Patents
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Description
を検出するためのすき入れ検査装置に関する。
ールの表面の欠陥を検査する紙幣用紙検査工程と、大判
単位に裁断する大判裁断工程と、紙幣の種類に応じた印
刷を行う印刷工程と、紙幣用紙を小切れ単位に裁断する
小切れ裁断工程とを経て完成される。
は、抄造工程の段階で原反ロールに形成される。すなわ
ち、図24に示すように、原反ロール1は、抄造工程に
よって形成された印刷用紙2がロール状に巻回されたも
のである。印刷用紙2には、4行5列の小切れ紙幣領域
3aにブロック化された大判3A,3B,3Cが印刷用
紙2の幅方向に3列に設けられている。但し、これら小
切れ紙幣領域3aは、可視状態にあるものではないが、
印刷用紙2に付されたプリントマーク4によって各大判
3A,3B,3Cの位置が把握されるようになってい
る。また、人物等の透かし画像は、各小切れ紙幣領域3
aの所定の位置に形成されている。
ロール1の印刷用紙2の欠陥の有無が検査される。検査
項目は、汚れやピンホール等である。検査に際しては、
原反ロール1から引出された印刷用紙2に対し、印刷用
紙2の幅方向にCCDラインセンサカメラによって水平
走査が行われ、得られた画像データから欠陥の有無が検
査されるようになっている。
刷用紙2の検査工程においては、その用紙自体の欠陥が
検査されるものの、各小切れ紙幣領域3aに形成されて
いる人物等の透かし画像の検査は、熟練工により目視に
よって行われている。
線の欠け、不鮮明、歪み、異物、ピンホール等がある
が、これらの項目毎の欠陥を瞬時にして判定すること
は、熟練をもってしても物理的に不可能である。
れたもので、透かし画像の欠陥検出を精度良く行うこと
ができるすき入れ検査装置を提供することを目的とす
る。
め、請求項1に記載のすき入れ検査装置は、検査対象と
なる検査対象透かし画像を撮像する撮像手段と、基準と
なる基準透かし画像の全体パターンを格納する基準パタ
ーン格納部と、前記全体パターンに基づき、前記検査対
象透かし画像の検査領域を設定するとともに、前記検査
対象透かし画像の画像パターンのコントラストの高い部
分の欠陥検査に優れ、該コントラストの高い部分の検査
を行う第1のアルゴリズムと、この第1のアルゴリズム
によって設定された前記検査領域内の画像パターンの無
い部分及びコントラストの低い部分の欠陥検査に優れ、
該画像パターンの無い部分及びコントラストの低い部分
の欠陥検査を行う第2のアルゴリズムと、前記第1のア
ルゴリズムによって設定された前記検査領域内の画像パ
ターンのコントラストの変化が緩やかな部分の欠陥検査
に優れ、該コントラストの変化が緩やかな部分の欠陥検
査を行う第3のアルゴリズムとを有する画像処理検査部
とを備え、前記第1〜3のアルゴリズムによる前記基準
透かし画像と検査対象透かし画像とのマッチングによっ
て、前記検査対象透かし画像の欠陥が相互補完的に検査
されることを特徴としている。
ぞれの得意点と不得意点とを相互に補完し合うことによ
って、検査対象透かし画像の欠陥検査を確実に行うもの
である。欠陥検査の着目点は、検査対象透かし画像の濃
淡変動であり、これを3つのグループに分け、それぞれ
に3つの画像処理アルゴリズムを適用させたものであ
る。ここで、欠陥とは、線の欠け、不鮮明、歪み、異
物、ピンホール等である。
し、例えば紙幣の透かし画像の各部分を見てみると、次
のように大きく3つに分類することができる。 目、まゆ毛、頬の輪郭、襟元ネクタイ等のようにパタ
ーンコントラストが高い箇所。 額、頬や服の部分でのパターンがない箇所、もしくは
パターンのコントラストが非常に低い箇所。 まゆ毛の中や服の折目の線等で濃淡の変化はあるが急
激ではない箇所。 よって、本発明では、分類した〜にそれぞれ第1〜
3のアルゴリズムを適用させている。第1のアルゴリズ
ムとしては、正規化相関法を適用することができる。第
2のアルゴリズムとしては、微分系のフィルターを適用
することができる。第3のアルゴリズムとしては、濃淡
モホロジーを適用することができる。
画像に対して、第1のアルゴリズムにより、画像パター
ンのコントラストの高い部分の欠陥検査が行われ、第2
のアルゴリズムにより、画像パターンの無い部分及びコ
ントラストの低い部分の欠陥検査が行われ、第3のアル
ゴリズムにより、画像パターンのコントラストの変化が
緩やかな部分の欠陥検査が行われる。これにより、第1
〜3のアルゴリズムによって、それぞれの不得意部分が
補われつつ欠陥検査が行われるので、透かし画像がもつ
全てのパターンに対しての欠陥検査を確実に行うことが
できる。
記基準パターン格納部には、前記全体パターンを分割し
た複数の分割パターンが格納されており、前記第1のア
ルゴリズムが前記分割パターンに基づき、前記検査対象
透かし画像の検査領域を分割設定するとともに、これら
分割設定された領域毎に、前記第1〜3のアルゴリズム
によるマッチングが行われることを特徴としている。
割することで、検査対象透かし画像の微細な濃淡変動の
欠陥検査が可能となるため、透かし画像がもつ全てのパ
ターンに対しての欠陥検査をより確実に行うことができ
る。
記全体パターンには、前記第1〜3のアルゴリズムに対
応させて、これらアルゴリズムの相互に補完すべき優位
部分のみを取入れるマスク画像パターンが含まれている
ことを特徴としている。
ズムのそれぞれに対応させた優位部分のみを取入れるマ
スク画像パターンを用いることで、各アルゴリズムの検
査領域が必要最小限とされるため、検査精度を高めるこ
とができる。
記分割パターンのそれぞれには、前記第1〜3のアルゴ
リズムに対応させて、これらアルゴリズムの相互に補完
すべき優位部分のみを取入れるマスク画像パターンが含
まれていることを特徴としている。
領域毎に、第1〜3のアルゴリズムのそれぞれに対応さ
せた優位部分のみを取入れるマスク画像パターンを用い
ることで、微細な濃淡変動の欠陥検査がより精度よく行
われる。
いて説明する。なお、以下に説明する図において、図2
4と共通する部分には同一符号を付すものとする。図1
は、本発明のすき入れ検査装置の一実施の形態に用いら
れるシステム構成図、図2は、図1のラインセンサカメ
ラによる画像取込み状態を示す図、図3は、本発明のす
き入れ検査装置の一実施の形態を示すブロック図であ
る。
れる原反ロール1の印刷用紙2の下方の光源10からの
光を、印刷用紙2の上方のラインセンサカメラ11によ
って取込み、その画像データは画像処理検査部20に送
られるようになっている。
マーク4を検出してタイミング制御部13に送出する。
また、タイミング制御部13には、ロータリエンコーダ
14からのタイミングパルスが取込まれる。そして、画
像処理検査部20は、マーク検知センサ12からの検出
信号と、タイミング制御部13からのタイミング信号に
基づき、すき入れ検査を実行するが、その詳細は後述す
る。また、画像処理検査部20による検査結果は、ディ
スプレイ15に表示される。なお、画像処理検査部20
による検査結果は、プリンタ等によっても出力可能であ
る。
みは、図2のようにして行われる。すなわち、印刷用紙
2には、上述したように、4行5列の小切れ紙幣領域3
aにブロック化された大判3A,3B,3Cが印刷用紙
2の幅方向に3列に設けられている。また、これら小切
れ紙幣領域3aは、可視状態にあるものではないが、印
刷用紙2に付されたプリントマーク4によって各大判3
A,3B,3Cの位置が把握されるようになっている。
さらに、各小切れ紙幣領域3aには、人物等のすき入れ
部位(透かし)6が形成されている。検査に際しては、
原反ロール1から引出された印刷用紙2に対し、印刷用
紙2の幅方向にラインセンサカメラ11によって水平走
査が行われるようになっている。
に、ラインセンサカメラ11からの画像データに対し、
基準パターン格納部21に格納されている基準パターン
と、マスク画像格納部22に格納されているマスク画像
とに基づき、画像処理(パターンマッチング)を施して
検査結果を出力する画像処理検査部23とが設けられて
いる。なお、基準パターン格納部21及びマスク画像格
納部22に格納されている基準パターン及びマスク画像
の詳細については後述する。画像処理部23は、正規化
相関法処理部24、ミクロフィルター処理部25、濃淡
モホロジー処理部26から構成されている。
化相関法の画像処理アルゴリズムを備えたものであり、
ミクロフィルター処理部25は、ミクロフィルターの画
像処理アルゴリズムを備えたものであり、濃淡モホロジ
ー処理部26は、濃淡モホロジーの画像処理アルゴリズ
ムを備えたものである。
像処理アルゴリズムは、それぞれの得意点と不得意点と
を相互に補完し合うことによって、すき入れ部位(透か
し)6の欠陥検査を確実に行うものである。また、欠陥
検査の着目点は、すき入れ部位(透かし)6の濃淡変動
であり、これを3つのグループに分け、それぞれに3つ
の画像処理アルゴリズムを適用させたものである。ここ
で、欠陥とは、線の欠け、不鮮明、歪み、異物、ピンホ
ール等である。
し、すき入れ部位(透かし)6の各部分を見てみると、
次のように大きく3つに分類することができる。 目、まゆ毛、頬の輪郭、襟元ネクタイ等のようにパタ
ーンコントラストが高い箇所。 額、頬や服の部分でのパターンがない箇所、もしくは
パターンのコントラストが非常に低い箇所。 まゆ毛の中や服の折目の線等で濃淡の変化はあるが急
激ではない箇所。 このように、〜に分類した中で、には正規化相関
法、には微分系のフィルター、には濃淡モホロジー
がそれぞれ適している。
の得意及び不得意を、表1に示す。
に対する欠陥検出の相補性を、表2に示す。
すき入れ部位(透かし)6の検査方法について説明す
る。まず、画像処理検査部20による検査を行うに先立
ち、準備段階として、手入力(例えばマウス操作によ
る)により、基準パターンの作成と、マスク画像の作成
とがある。基準パターンには、全体パターンと分割パタ
ーンとがあるが、これの詳細は順を追って説明する。ま
た、マスク画像には、正規化相関法、濃淡モホロジー、
ミクロフィルターのそれぞれに対応したマスクがあり、
特に、濃淡モホロジーにおいては、オープニング処理用
とクロージング処理用とがあるが、これらの詳細につい
ても順を追って説明する。なお、これらマスク画像は、
表1に示した各画像処理アルゴリズムにおける不得意箇
所を除くためであり、これらのマスク画像を用いること
で、検出精度が高められるようになっている。
作による)による基準パターンの作成について説明す
る。ここでは、まず正規化相関法による計算方法の定義
について説明する。正規化相関法は、表1に示した検出
能力に加えて、検査対象画像の中から基準画像と最も良
く一致する箇所を検索する作業と一致度を算出する作業
を同時に行うことができるアルゴリズムである。なお、
ここで得られるパターンの位置座標データは、後述する
ミクロフィルター処理、モホロジー処理においても使用
されるものである。
は、良品の処理対象画像f(x、y)から任意の矩形領
域を取り出したものであり、その矩形領域は人物像全体
を囲む外接長方形として定義する。この取り出した任意
の矩形領域の画像を図4に示す。
の通りである。
れ次の意味を持つ。 Wx: 基準画像幅 Wy : 高さ x0 : 基準画像左上x座標 y0 : y座標 これらの値は、手入力(例えばマウス操作による)によ
り矩形領域が所望の位置に収るよう調整されることで、
決定されるものである。
(x、y)の相互関係係数C(mx、my )は、次の式
で表される。
いて基準画像と比較する矩形領域の、左上すみの座標を
指定するものである。また、相関係数C(mx 、my )
は、基準画像と検査対象画像が完全に一致した場合、
(1.0)を示し、一致度が下がるにつれ、係数が小さ
くなる。ランダム画像と基準画像の相関では0付近にま
で低下し、基準画像の反転画像との相関係数は(−1.
0)にまで低下する。これが、相関係数の最低値であ
る。
振らせたときに相関係数C(mx 、my )の最大を与え
るmx 、my を求めることにより、検査対象画像の中か
ら基準画像と最も一致する箇所(基準画像の位置)を検
索することができる。このときの相関係数を、検査対象
画像と基準画像との一致度と定義する。ここで、一致度
としてC2 (mx 、my )を百分率表示した値を使用す
ることで、計算時間を短縮することができる。すなわ
ち、まず、mx 、my を振らせる際に、一画素ずつ振ら
せるのではなく、数画素おきに飛ばして計算する。例え
ば、x方向、y方向に4画素毎に計算すれば、計算量
を、4×4= 16分の1に低減することができる。
最大になる所を検索し、次にその付近では画素飛ばしせ
ずに計算することにより、精度の高い検索を行うことが
できる。上記の画素飛ばしの他に、周知のピラミッド法
を用いることでも計算量を減らすことができる。このピ
ラミッド法は、検査対象画像をもとに、分解能の荒い画
像を生成しこの荒い画像に対し、相関演算するものであ
る。すなわち、ビラミッド画像は、階層的な構造をもつ
ものであり、各階層は番号が付けられたレベルでよば
れ、最下層のレベル0は、検査対象画像そのものにな
る。計算の便宜上、最下層の画像サイズを512×51
2画素にとって説明する。ピラミッド画像は、レベル0
から始まるため、下位のレベルから上位のレベルに向け
計算する。これを式で示すと次の通りである。
れ、f(k)(x、y)、f(k1-1)(x、y)とすると
き、f(k)(x、y)の計算方法を以下に示す。
像サイズが小さくなることが分る。但し、ピラミッド画
像中で、パターンの検索を行うためには、基準画像も同
様にピラミッド画像化しておく必要がある。そして、上
述した画素飛ばしとピラミッド法の両者を組み合わせる
ことで、計算の高速化と精度を両立させた正規化相開法
を実現することができる。また、この正規化相関は検査
画像の明るさの線形的な変動には全く影響されない特徴
がある。システム化した場合でも、安定した結果が得ら
れることが期待される。
明する。ここでの基準パターンは、図2に示した人物等
のすき入れ部位(透かし)6を形成するすき入れの型ご
とに用意されるものである。すなわち、図2に示したよ
うに、各大判3A,3B,3Cの1面当り、4×5=2
0個のすき入れがある。さらに、図2のように、1ライ
ンにつき、3面の大判3A,3B,3Cが作られている
場合、すき入れの型の総数は60個となる。よって、6
0個分の基準パターンが必要となる。
を全て手入力(例えばマウス操作による)により作成す
ることは運用上不可能であり、システムの実現性を損う
ものである。また、手入力(例えばマウス操作による)
(例えばマウス操作による)によっていたのでは、異な
るすき入れの型の基準パターンに差がでることは避けが
たく、検査水準が確立した検査を実現することができな
い。
えばマウス操作による)による作業を最小限に抑えた、
効率的で、ばらつきの少ない基準パターンの作成アルゴ
リズムを用いており、その作成手順は次の通りである。
このような基準パターンの作成手順を、図5及び図6を
用いて説明する。なお、以下の説明において、登録(保
存)されるデータの保存先は、図3の基準パターン格納
部21である。
登録(保存)の流れについて説明する。まず、図4に示
したすき入れ部位(透かし)6の画像を取込む(ステッ
プ501)。次いで、手入力(例えばマウス操作によ
る)により、入力画像の中から、人物像の主要な部分を
囲む矩形領域を指定して、登録(保存)する(ステップ
502,503)。すなわち、図6において、零○で示
す部分が全体パターンである。このとき、パターンの位
置も合わせて、全体パターン位置として保存する(ステ
ップ504)。
存)する(ステップ505,506)。すなわち、手入
力(例えばマウス操作による)により、図6に示す入力
画像において分割パターン〜(16)で示す各分割ウィン
ドウ(矩形)を指定する。このとき、各分割パターン
〜(16)の位置も合わせて、分割パターン位置として保存
する(ステップ507)。
存する(ステップ508,509)。すなわち、零○で
示す全体パターンの位置に対する各分割パターン〜(1
6)の相対位置を、全体パターン位置データ及び分割パタ
ーン位置データを用いて計算し、相対位置データとして
保存する。これを式で示すと次のようになる。
用いて説明する。なお、以下の説明において、登録(保
存)されるデータの保存先は、図3の基準パターン格納
部21である。まず、基準パターンを作成するための良
品の画像である、例えば図4に示したすき入れ部位(透
かし)6の画像を取込む(ステップ701)。ここで、
この取込んだ画像のデータを下式のように定義する。
正規化相関法を用いて全体パターンFW(x、y)の位
置を算出する(ステップ702,703)。この位置を
(Dx、Dy)とし、新全体パターンを求めて登録する
(ステップ704,705)。このとき、上記の(ステ
ップ509)で求められた相対位置のデータも併せて登
録する(ステップ706)。ここで、新全体パターン
は、次の通りである。
+Dx、y+Dy) {(x、y)|0≦x<Ww、0≦y<Ww y }
新分割パターンFW (i) (x、y)を切り出す(ステッ
プ707)。
+Dx+Xr (i) 、y+Dy(i) +Yr (i) )
査前の基準パターンの作成手順である。次に、正規化相
関法において用いられるマスク画像の形成方法について
説明する。なお、ここでの説明も、正規化相関法による
すき入れ検査前の手入力(例えばマウス操作による)に
よる準備作業である。
ように表す。
をもつ。 Wx: 基準画像幅 Wy: 高さ 次に、基準画像と同一の大きさを持つマスク画像を定義
する。
0)に初期化しておく。その後、手入力(例えばマウス
操作による)によりマスクする画素の値を0に設定し、
マスクしない画素の値を1に設定する。この処理は、実
際のソフトウェアにおいて、マスク画像を塗りつぶす操
作で行う。このようなマスク画像の作成により、検査画
像f(x、y)と基準画像g(x、y)の相互相関係数
C(mx 、my )は以下の様に変更される。
る。
ィルターについて説明する。このミクロフィルターは、
表2で説明したように、濃度変化がない、または非常に
緩やかでありパターンがない領域において、微小な欠点
を検出するために有効となるものである。なお、微分系
のフィルターとしては、ソーベルフィルター、プレウィ
ットフィルター、ロバーツフィルター等を用いることが
できる。
のマスク画像の作成方法について説明する。まず、ミク
ロフィルターの定義について説明する。いま、処理対象
画像をF(x、y)とする。ミクロフィルタは3段階の
処理で構成される。まず、第1段階では、処理対象画像
の垂直微分画像、水平微分画像を算出する。
1)−F(x−1、y−1))+2×(F(x、y+
1)−F(x、y−1))+(F(x+1、y+1)−
F(x+1、y−1)) | 水平微分画像:FH (x、y)=|(F(x+1、y−
1)−F(x−1、y−1))+2×(F(x+1、
y)−F(x−1、y))+(F(x+1、y+1)−
F(x−1、y+1))| {(x、y)|0≦x≦511、0≦y≦511}
v (x、y)と水平微分画像:FH(x、y)の和の平
均である加算画像FA (x、y)を算出する。
H(x、y))/2 {(x、y)|0≦x≦511、0≦y≦511}
平滑化フィルターをかけてミクロフィルター画像F
M (x、y)を得る。
ものであり、第1段階では処理対象画像を取込み、その
処理対象画像の垂直微分画像Fv (x、y)、水平微分
画像FH (x、y)を算出する(ステップ801〜80
3)。第2段階では、垂直微分画像Fv (x、y)と水
平微分画像:FH (x、y)の和の平均である加算画像
FA (x、y)を算出する(ステップ804)。第3段
階では、加算画像FA(x、y)に平滑化フィルターを
かけてミクロフィルター画像FM (x、y)を得る(ス
テップ805)。
の一例を示すものである。すなわち、同図(a)は、処
理対象画像を示すものであり、同図(b)は水平微分画
像を示すものであり、同図(c)は垂直微分画像を示す
ものであり、同図(d)は水平微分画像と垂直微分画像
との加算画像を示すものであり、同図(e)はミクロフ
ィルター画像を示すものである。同図(e)から、表1
及び表2で説明したように、まゆ毛の中や服の折目の線
等で濃淡の変化はあるが、変化の急激ではない箇所が検
出されていることが分る。
成方法を、図10を用いて説明する。なお、ここでの説
明は、すき入れ検査前の手入力(例えばマウス操作によ
る)による準備作業である。ここで、ミクロフィルター
のマスク画像は、正規化相関法で定義された、16分割
の分割基準パターン毎に作成されるものである。まず、
16分割された分割画像にミクロフィルターを作用させ
た後、2値化処理を行う(ステップ1001,100
2)ことで、良品画像に含まれるエッジ等を抽出した画
像が得られる。エッジの位置は画像毎にばらつくため、
確実にこれをマスクするためには、エッジ等を抽出した
画像に膨張処理を指定回数施す(ステップ1003)。
このように膨張処理を施すことで、エッジ部分を強調す
ることができる。この状態を図11に示す。同図に示す
ものは、図6で説明した分割パターン〜(16)に対応し
ているものである。
〜(ステップ1004)の詳細について説明する。ま
ず、(ステップ1001)において、正規化相関法で定
義した分割画像を取り出す。
y (i) } { i=1〜16 :分割パターン番号}
施し、分割ミクロフィルタ画像FW M (i)(x、y)を得
る。計算は前節の定義にしたがう。
y (i) } { i=1〜16 :分割パターン番号}
割ミクロフィルタ画像の2値化処理を行う。分割ミクロ
フィルタ画像FWM (i)(x、y)をしきい値TM1で2値
化して、分割ミクロフィルタ2値化画像BWM (i)(x、
y)をもとめる。
る2値化しきい値TM2より小さくとることにより、検査
においてマスクを確実に行うことができる。次に、(ス
テップ1003)において、分割ミクロフィルタの2値
化画像の膨張処理を行う。ミクロフィルタでは画像中の
エッジが強調されるため、マスク画像でこの部分をマス
クするのであるが、入力画像のサンプリングによるエッ
ジ位置のずれとエッジそのもののずれ、さらに位置検出
のずれ等により、基準画像のエッジからずれることが考
えられる。そこで分割ミクロフィルターの2値化画像に
膨張処理を指定回数NM かけることにより、確実にマス
クできる分割ミクロフィルターマスク画像を得る。
N)は、画像F(x、y)をN回膨張処理を行うことを
意味する。膨張処理は以下のように計算される。
NOTはビット論理否定をとることを示す。さらに、
(ステップ1004)において、マスク画像の修正と登
録を行う場合、MWM (i)(X、y)を、手入力(例えば
マウス操作による)によりマスクする画素の値を0に設
定する。この処理は、実際のソフトウェアにおいては、
マスク画像を塗りつぶす操作で行う。基準パターン自動
作成した場合、正規化相関法のマスク同様、いま作成し
たマスク画像をそのままコピーして用いる。
について説明する。モホロジー処理においては、オープ
ニング処理とクロージング処理とが用いられる。オープ
ニング処理は、暗い欠点を検出するために用いる処理で
あり、クロージング処理は、明るい欠陥を検出するため
の処理である。
る。この処理の目的は、微小な明るい変動を画像から除
去することである。すなわち、図12に示すリング状の
画像を例にすると、同図(a)は本来のあるべき画像を
示し、同図(b)は欠陥が発生している画像を示してい
る。この場合、同図(b)の画像から、リングの切れを
繋いでいる細かい部分を除去すると、同図(a)の画像
を、つまり良品の画像を得ることができる。言い換えれ
ぱ、この処理は繋がったリングを切り開く、オープンす
る処理である。オープニング処理は3段階の処理で構成
される。
(x、y)とし、処理対象画像にNomin回MINフ
ィルターをかけたMIN画像、FMIN (Nomin) を算出す
る。 処理対象画像:F(x、y){(x、y)|0≦x≦5
11、0≦y≦511}
MIN (Nomin)(x、y)にMAXフィルターをNoma
x回施したオープニング画像Fop(x、y)を得る。
らオープニング画像Fop(x、y)を引いて明欠陥画像
FBRIGHT(x、y)を得る。
y)−Fop(x、y) {(x、y)|0≦x≦511、0≦y≦511}
る。この処理の目的は、微小な暗い変動を画像から除去
することであり、前述のオープニング処理の正反対の処
理である。すなわち、図13に示すリング状の画像を例
にすると、同図(a)は本来のあるべき画像を示し、同
図(b)は欠陥が発生している画像を示している。この
場合、同図(b)の画像から、リングの切れを埋める
と、同図(a)の画像を、つまり良品の画像を得ること
ができる。言い換えれぱ、この処理は切れたリングを埋
めて閉じる、クローズする処理である。
様に、3段階の処理で構成される。まず、第1段階で
は、画像F(x、y)とした処理対象画像にNcmax
回MAXフィルターをかけたMAX画像、FMAX
(Ncmax) (x、y)を算出する。
MAX (Ncmax) (x、y)にMlNフィルターをNcmi
n回施したクロージング画像Fc1(x、y)を得る。
c1(x、y)から、もとの画像F(x、y)をひいて暗
欠陥画像FDARK(x、y)を得る。
c1(x、y)−F(x、y) {(x、y)|0≦x≦511、0≦y≦511}
画像の作成につき、図14〜図17を用いて説明する。
モホロジー処理のマスク画像は、上述したミクロフィル
ターのマスク画像と同様に、正規化相関法で定義され
た、16分割の分割基準パターン毎に作成されるもので
ある。さらに、オープニング処理、クロージング処理毎
に、マスク画像が用意される。
17において、(a)は元画像、(b)はミニマム画
像、(c)はオープニング画像、(d)は明欠陥画像を
示している。
てオープニング処理及びクロージング処理を作用させた
後、2値化処理を施す(ステップ1401〜140
4)。このように、オープニング処理及びクロージング
処理の後、2値化処理を施したものには、明るく急激な
変動部分及び暗く急激な変動部分が抽出される。
毎にばらつくため、確実にこれをマスクするためには、
2値化処理を施した画像に対して膨張処理を指定回数施
す(ステップ1405,1406)。このような処理に
より、オープニング処理及びクロージング処理毎のマス
ク画像が得られるが、実際にすき入れ検査を行った場
合、マスクもれが発生する場合がある。これは、単一の
基準画像からでは、予測することが困難な良品のばらつ
きに起因するものであり、この場合、手入力(例えばマ
ウス操作による)によってマスク画像の修正を行う(ス
テップ1407,1408)。
れぞれのマスク画像を、図15及び図16に示す。ここ
で、図15は、オープニング処理のマスク画像であり、
図16は、クロージング処理のマスク画像である。これ
らの図に示すものは、図6で説明した分割パターン〜
(16)に対応しているものである。
1408)の詳細について説明する。まず、(ステップ
1401,1402)において、正規化相関法で定義し
た16分割の分割画像を取り出す。
y (i) } { i=1〜16 :分割パターン番号}
WOP (i)(x、y)及び分割クロージング処理画像FWc1
(i)(x、y)を得る。
y (1) } { i=1〜16 :分割パターン番号}
において、分割オープニング処理画像FWOP (i)(x、
y)をしきい値TOP1 で2値化して、分割オープニング
処理2値化画像BWOP (1)(x、y)を求める。同様に、
分割クロージング処理画像FwC 1 (i)(x、y)をしきい
値Tcl1 で2値化して、分割クロージング処理2値化画
像BwC1 (i)(x、y)を求める。
節で定義する2値化しきい値Top2、Tcl2 より小さく
とることにより、検査においてマスクを確実に行うこと
ができる。次いで、(ステップ1405,1406)に
おいて、膨張処理を施す。ここでは、分割オープニング
処理2値化画像と分割クロージング処理2値化画像に膨
張処理を指定回数Nopかけることにより、確実にマスク
できるオープニング処理マスク画像と分割クロージング
処理マスク画像が得られる。
において、マスク画像の修正を行う。Mwop (i)(x、
y)及びMwcl (i)(x、y)を、手入力によりマスクす
る画素の値を0に設定する。この処理は、実際のソフト
ウェアにおいては、マスク画像を塗りつぶす操作で行
う。基準パターンを自動作成した場合、ミクロフィルタ
ー処理のマスク同様、ここで作成したマスク画像をコピ
ーする。
処理、濃淡モホロジー処理における準備作業である。次
に、上述した画像処理検査部20によるすき入れ部位
(透かし)6のすき入れ検査方法について説明する。説
明に先立ち、正規化相関処理、ミクロフィルター処理、
濃淡モホロジー処理における全体の処理手順の概略を、
図18を用いて説明する。
及び分割パターン毎に正規化相関処理が行われ、それぞ
れのパータン毎の良否判定が行われる(ステップ180
1〜1804)。次いで、ミクロフィルター処理に移行
し、2値化処理、マスク処理、ラベリング処理、特徴量
算出処理、良否判定処理が順次行われる(ステップ18
05〜1810)。これらの処理は、後述する16分割
された分割パターンのそれぞれに対して行われる(ステ
ップ1811)。
濃淡モホロジー処理には、オープニング処理とクロージ
ング処理とがあり、まず、オープニング処理では、2値
化処理、マスク処理、ラベリング処理、特徴量算出処
理、良否判定処理が順次行われる(ステップ1812〜
1817)。これらの処理も、上記同様に、後述する1
6分割れた分割パターンのそれぞれに対して行われる
(ステップ1818)。
と同様に、2値化処理、マスク処理、ラベリング処理、
特徴量算出処理、良否判定処理が順次行われる(ステッ
プ1819〜1824)。これらの処理も、上記同様
に、後述する16分割された分割パターンのそれぞれに
対して行われる(ステップ1825)。
処理、濃淡モホロジー処理のそれぞれによるすき入れ検
査方法の詳細を順を追って説明する。(正規化相関によ
る検査フロー)まず、正規化相関法による検査アルゴリ
ズムを、図19を用いて説明する。なお、以下の説明
は、図18の(ステップ1801)〜(ステップ180
4)に相当するものである。
1901)。この検査対象の画像は、例えば図4に示し
た画像に相当する。この取込んだ画像のデータを下式の
ように定義する。
で、まず全体パターンFW (x、y)を検索し、その位
置(X0 、Y0 )を求める(ステップ902〜90
4)。次いで、いま求めた全体パターンの位置と、各分
割パターンの全体パターンとの相対位置(Xr (i) 、Y
r (i) )から位置(X0 +Xr (i) 、Y0 +Yr (i) )
の近傍領域において、各分割パターンFW (i) (x、
y)を検索し、一致度C(i) と分割パターンの位置(X
0 ( i)、Y0 (i) )を求める(ステップ903,90
5,906)。
<Ww y (i) } { i=1〜16 :分割パターン番号}
数データ及び位置データと、それぞれの判定しきい値と
を比較し良否の判定を行う(ステップ1907〜191
1)。ここで、良否の判定結果は、後述する図22,2
3の(c)のc−1に示すように、x,y方向の位置ず
れとマッチ度として表示される。また、ここで相関の判
定を式で表すと、次のようになる。
は不良個所を含む。T1 (i) ≦C(i) <T2 (i) なら
ば、その分割パターンは半良個所を含む。その他の場
合、良品とする。 位置の判定 :|X0 (i)(X0 +Xr (i) )|>T3 な
らば、その分割パターンは不良個所を含む。|Y
0 (i)(Y0 +Yr (i) )|>T4 ならば、その分割パタ
ーンは不良個所を含む。その他の場合、良品とする。
{i=1〜16 :分割パターン番号}
3 は、あらかじめ設定されるものであり、その設定値も
任意とすることができる。
に、ミクロフィルタ処理によるすき入れ検査を、図20
を用いて説明する。また、同図に示すフローは、図18
の(ステップ1805)〜(ステップ1810)の詳細
を示すものである。すなわち、正規化相関法で得られる
分割パターンの位置データから、被検査画像の16分割
分の分割画像を切出す(ステップ2001〜200
4)。この切出した分割画像のそれぞれに対してミクロ
フィルター処理を施した後、2値化処理を行う(ステッ
プ2005,2006)。2値化処理を行うに際して
は、予め定められている2値化しきい値を用いる。
るので、分割ミクロフィルタのマスク画像と論理積をと
ることにより、エッジ等をマスクする(ステップ200
7)。すなわち、図10で説明した作成手順によって得
られるミクロフィルター処理用のマスク画像が用いられ
る。
ラベリング処理及び特徴量の算出処理を行う(ステップ
2008)。ここで、ラベリング処理は、2値化された
画像データの連結性の解析を行うものである。また、特
徴量の算出処理は、前述ラベリング処理で得られる、連
結した塊ごとの面積と平均濃度を計算することによって
行われるものである。これらの処理によって面積及び平
均濃度が求められ、結果として特徴量が算出される。最
後に、ラベリング処理及び特徴量の算出処理が行われた
画像に対して、その画素数及び平均濃度としきい値とを
比較して、判定結果を得る(ステップ2009〜201
2)。
2,23の(c)のc−2に示すように、面積と濃度と
して表示され、例えば図23の(c)のc−2に示すよ
うに、(面積−15)とした部分が欠陥として表示され
る。
に、モホロジー処理によるすき入れ検査方法を、図21
を用いて説明する。なお、以下の説明は、図18の(ス
テップ1812)〜(ステップ1825)に相当するも
のである。すなわち、正規化相関法で得られる分割パタ
ーンの位置データから、被検査画像の16分割分の分割
画像を切出す(ステップ2101〜2104)。この切
出した分割画像のそれぞれに対してモホロジー処理を施
した後、2値化処理を行う(ステップ2105,210
6)。ここで、モホロジー処理は、上述したように、オ
ープニング処理及びクロージング処理である。
でているので、分割オープニング処理マスク画像及び分
割クロージング処理マスク画像との論理積をとることに
より、エッジ等をマスクする(ステップ2107)。す
なわち、図14で説明した作成手順によって得られるオ
ープニング処理及びクロージング処理用のマスク画像が
用いられる。
各かたまりごとの画素数と平均濃度をもとめる(ステッ
プ2108)。この面素数と平均濃度と判定しきい値と
を比較して、判定結果を得る。ここで、ラベリング処理
は、2値化された画像データの連結性の解析を行うもの
である。また、特徴量の算出処理は、前述ラベリング処
理で得られる、連結した塊ごとの面積と平均濃度を計算
することによって行われるものである。これらの処理に
よって面積及び平均濃度が求められ、結果として特徴量
が算出される。
処理が行われた画像に対して、その画素数及び平均濃度
としきい値とを比較して、判定結果を得る(ステップ2
109〜2112)。良否の判定結果は、図22,23
の(c)のc−3,c−4に示すように、面積と濃度と
して表示される。ここで、c−3は、オープニング処理
結果を示し、c−4はクロージング処理結果を示してい
る。
示すように、(濃度−52)とした部分が欠陥として表
示される。また、例えば図23の(c)のc−4に示す
ように、(濃度−47)とした部分が欠陥として表示さ
れる。なお、図22,23の(a),(b)は、それぞ
れ入力した画像を示している。
に記載のすき入れ検査装置によれば、検査対象透かし画
像に対して、第1のアルゴリズムにより、画像パターン
のコントラストの高い部分の欠陥検査が行われ、第2の
アルゴリズムにより、画像パターンの無い部分及びコン
トラストの低い部分の欠陥検査が行われ、第3のアルゴ
リズムにより、画像パターンのコントラストの変化が緩
やかな部分の欠陥検査が行われる。これにより、第1〜
3のアルゴリズムによって、それぞれの不得意部分が補
われつつ欠陥検査が行われるので、透かし画像がもつ全
てのパターンに対しての欠陥検査を確実に行うことがで
きる。
ば、検査領域を複数に分割することで、検査対象透かし
画像の微細な濃淡変動の欠陥検査が可能となるため、透
かし画像がもつ全てのパターンに対しての欠陥検査をよ
り確実に行うことができる。
ば、第1〜3のアルゴリズムのそれぞれに対応させた優
位部分のみを取入れるマスク画像パターンを用いること
で、各アルゴリズムの検査領域が必要最小限とされるた
め、検査精度を高めることができる。
ば、複数の分割した検査領域毎に、第1〜3のアルゴリ
ズムのそれぞれに対応させた優位部分のみを取入れるマ
スク画像パターンを用いることで、微細な濃淡変動の欠
陥検査をより精度よく行うことができる。
すシステム構成図である。
態を示す図である。
すブロック図である。
入力画像の一例を示す図である。
である。
ローチャートである。
である。
図である。
像の作成手順を示すフローチャートである。
像による処理画像の一例を示す図である。
説明するための図である。
説明するための図である。
ージング処理に用いられるマスク画像の作成手順を示す
フローチャートである。
一例を示す図である。
一例を示す図である。
る処理画像の一例を示す図である。
するためのフローチャートである。
のフローチャートである。
ためのフローチャートである。
めのフローチャートである。
示す図である。
示す図である。
図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 検査対象となる検査対象透かし画像を撮
像する撮像手段と、 基準となる基準透かし画像の全体パターンを格納する基
準パターン格納部と、 前記全体パターンに基づき、前記検査対象透かし画像の
検査領域を設定するとともに、前記検査対象透かし画像
の画像パターンのコントラストの高い部分の欠陥検査に
優れ、該コントラストの高い部分の検査を行う第1のア
ルゴリズムと、この第1のアルゴリズムによって設定さ
れた前記検査領域内の画像パターンの無い部分及びコン
トラストの低い部分の欠陥検査に優れ、該画像パターン
の無い部分及びコントラストの低い部分の欠陥検査を行
う第2のアルゴリズムと、前記第1のアルゴリズムによ
って設定された前記検査領域内の画像パターンのコント
ラストの変化が緩やかな部分の欠陥検査に優れ、該コン
トラストの変化が緩やかな部分の欠陥検査を行う第3の
アルゴリズムとを有する画像処理検査部とを備え、 前記第1〜3のアルゴリズムによる前記基準透かし画像
と検査対象透かし画像とのマッチングによって、前記検
査対象透かし画像の欠陥が相互補完的に検査されること
を特徴とするすき入れ検査装置。 - 【請求項2】 前記基準パターン格納部には、前記全体
パターンを分割した複数の分割パターンが格納されてお
り、前記第1のアルゴリズムが前記分割パターンに基づ
き、前記検査対象透かし画像の検査領域を分割設定する
とともに、これら分割設定された領域毎に、前記第1〜
3のアルゴリズムによるマッチングが行われることを特
徴とする請求項1に記載のすき入れ検査装置。 - 【請求項3】 前記全体パターンには、前記第1〜3の
アルゴリズムに対応させて、これらアルゴリズムの相互
に補完すべき優位部分のみを取入れるマスク画像パター
ンが含まれていることを特徴とする請求項1に記載のす
き入れ検査装置。 - 【請求項4】 前記分割パターンのそれぞれには、前記
第1〜3のアルゴリズムに対応させて、これらアルゴリ
ズムの相互に補完すべき優位部分のみを取入れるマスク
画像パターンが含まれていることを特徴とする請求項2
に記載のすき入れ検査装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1998
- 1998-12-21 JP JP36221098A patent/JP3501967B2/ja not_active Expired - Fee Related
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