JP3500132B2 - フリップチップ実装方法 - Google Patents

フリップチップ実装方法

Info

Publication number
JP3500132B2
JP3500132B2 JP2001182000A JP2001182000A JP3500132B2 JP 3500132 B2 JP3500132 B2 JP 3500132B2 JP 2001182000 A JP2001182000 A JP 2001182000A JP 2001182000 A JP2001182000 A JP 2001182000A JP 3500132 B2 JP3500132 B2 JP 3500132B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bump
gold
column
tip
semiconductor bare
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2001182000A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002373911A (ja
Inventor
直人 中谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Avionics Co Ltd
Original Assignee
Nippon Avionics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Avionics Co Ltd filed Critical Nippon Avionics Co Ltd
Priority to JP2001182000A priority Critical patent/JP3500132B2/ja
Publication of JP2002373911A publication Critical patent/JP2002373911A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3500132B2 publication Critical patent/JP3500132B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00011Not relevant to the scope of the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/0132Binary Alloys
    • H01L2924/01322Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/156Material
    • H01L2924/15786Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
    • H01L2924/15787Ceramics, e.g. crystalline carbides, nitrides or oxides

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明はフリップチップ実装
方法に係り、特に金バンプによるフリップチップ実装方
法に関するものである。 【0002】 【従来の技術】近年、電子機器の高速化と小型軽量化が
進み、それに伴い電子部品の実装において半導体ベアチ
ップを基板上に直接搭載する半導体ベアチップ実装が注
目され、その中でも、実装サイズが最小で接続部の電気
的特性に優れている等の利点を有するフリップチップ実
装が増加してきている。 【0003】フリップチップ実装するためには半導体ベ
アチップ電極上に金属バンプを形成するが、金属バンプ
には金バンプとはんだバンプが使用されている。もとも
と、半導体ベアチップはワイヤボンディング用に設計さ
れているので、アルミニウムの電極を有している。この
半導体ベアチップの電極上に高融点はんだのバンプを形
成するには、アルミニウム電極上に真空蒸着等でクロ
ム、銅、金等の金属薄膜層を形成する必要がある。その
ため、一般にコスト高となる真空プロセスが必要で、設
備投資的な問題から半導体ベアチップの供給元が限られ
てしまう。それに対し、ワイヤボンディングにより電極
上に金バンプを形成するのは、半導体ベアチップのアル
ミニウム電極に直接行なうことが可能であり、半導体ベ
アチップの供給元を選ばないという利点がある。 【0004】一方、金属バンプ形成済みの半導体ベアチ
ップを基板にフリップチップ実装する場合には、高融点
はんだバンプはSn−37Pb共晶はんだによるはんだ
付けが可能であるのに対し、金バンプははんだ付けの
際、金がはんだへ拡散してはんだが脆くなるという問題
がある。この、はんだ脆性化対策として、In−Sn−
Pbインジウム系三元はんだを用いることで金のはんだ
への拡散が低減でき、良好な結果が得られたという報告
もある(Microjointing and Ass
embly Technology in Elect
ronics−2nd Symposium、199
6.2.1〜2、Yokohama、「ワイヤボンド用
チップを用いたフリップチップアタッチ(FCA)実装
技術」日本アイ・ビー・エム株式会社)。前記報告にお
いては、FR4をコア層とし、80μmビルドアップ層
を持つ0.7mm厚の基板を使用し、テスト用に搭載す
る半導体ベアチップは、6mm角および7.7mm角の
ものが使用されている。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、セラミ
ック等の硬性が高い基材の基板を用いる場合やチップサ
イズが大きい場合は、はんだ付け部分の疲労破壊が避け
られず、接続信頼性を低下させてしまうという問題があ
った。本発明は、上記課題を解決するためになされたも
ので、ワイヤボンディング用に設計された半導体ベアチ
ップのアルミニウム電極に金バンプを形成し、基板上に
はんだ付け接合するフリップチップ実装において、基板
の種類によらず、また、チップサイズが大きくなっても
接続信頼性が低下しないフリップチップ実装方法を提供
することを目的とする。 【0006】 【課題を解決するための手段】本発明になるフリップチ
ップ実装方法は、半導体ベアチップを基板に直接実装す
るフリップチップ実装において、ワイヤボンダーにより
半導体ベアチップの電極に形成する金バンプは、台座部
を除くバンプ先端までのカラム部長さが使用する金ワイ
ヤ径の2倍以上ある引きちぎりバンプであること;
記金バンプ形成後にレベリングを行い、この金バンプの
カラムの高さを平均化すると共にこの金バンプの先端部
分を平坦化すること; 実装直前に画像処理を用いた検
査装置を使用することにより、前記金バンプのカラム部
に曲がりが発生していないことを確認すること; 前記
台座部からの距離が少なくとも使用する金ワイヤ径以上
離れた位置からバンプ先端にかけてはんだ付け接続する
こと; を特徴とする。 【0007】 【0008】 【0009】 【0010】 【発明の実施の形態】以下、本発明になるフリップチッ
プ実装方法について図面を参照して具体的に説明する。
図1は本発明に係わる実施の形態を示すフリップチップ
実装の模式図である。図1において、1は半導体ベアチ
ップ、1aは半導体ベアチップ1のアルミ電極、2は金
バンプ、2aは金バンプ2の台座、2bは金バンプ2の
カラム(柱)、3は基板、3aは基板3のパッド、4は
はんだを示す。 【0011】図2はバンプ曲がりを示す図2(a)とバ
ンプ曲がりによる接続不良を示す図2(b)である。図
2において、5は曲がった金バンプ、5bは曲がった金
バンプ5のカラム(柱)を示す。 【0012】まず、半導体ベアチップ1のアルミ電極1
a上にワイヤボンダを使用して金バンプ2を形成する。
使用する金ワイヤは一般的にはバンプ2高さのバラツキ
が少ないパラジウム入り金合金ワイヤが用いられる。た
だし、バンプ2高さのばらつきを抑えることができれ
ば、4ナイン(99.99%)〜5ナイン(99.99
9%)の金ワイヤを用いる方が本発明のカラム2bによ
るストレスリリーフ効果が更に増大するので好ましい。 【0013】金バンプ2形成にあたっては、ワイヤボン
ダを使用し、引き千切りバンプと呼ばれる先の尖った形
状にし、バンプ台座2a部を除くバンプ先端までのカラ
ム2b部分の長さがワイヤ径の2倍以上の長さとする。 【0014】次いで、金バンプ2形成後、レベリングを
行ないバンプ2b先端をつぶすようにする。このレベリ
ングにより、形成した金バンプ2の高さにバラツキがあ
っても高さが平均化される。同時に、バンプ2b先端部
分が平坦になり、光を当てるとその平坦部分で反射して
バンプ2b先端が明るく見えるようになる。金バンプ2
の形状の具体例として、25μmの金ワイヤを使用し、
カラム部75μm前後の高さのバンプを引き千切りによ
り形成し、10〜20μmつぶれるように1バンプあた
り5〜15gの範囲で荷重調整を行ないバンプ先端を平
坦化する。結果、カラム部高さ50〜65μmのバンプ
とする。 【0015】フリップチップ実装する前に、レベリング
を行なった全てのバンプの先端が光を反射して明るく見
えることを利用して、画像処理を用いた検査装置を使用
することにより金バンプ2のカラム2bに曲がりが発生
していないか確認する。このバンプ曲がり検査の必要な
理由は、フリップチップ実装はバンプ先端がまっすぐに
直立していることを前提とした工法であり、仮に図2
(a)の5bのようにバンプに曲がりがあると、図2
(b)のようにフリップチップ接続が正常に行なわれず
断線不良等が発生してしまうからである。 【0016】この画像処理によるバンプ曲がり検査方法
は、全バンプの情報から撮像した金バンプの画像を減算
することで、もしも曲がったバンプがある場合にはその
位置が光った像となって検出することができる。勿論、
目視で検出することも可能ではあるが、効率化と自動化
のためには、上記画像処理によることが好ましい。 【0017】上記バンプ曲がり検査後、フリップチップ
実装を行なうが、実装に供する基板3はセラミック基板
でも樹脂基板でも良い。基板3のパッド3aの表面は、
金・錫はんだ、錫はんだ、インジウム・錫系はんだのめ
っき、あるいは前記何れかの金属成分による予備はんだ
コートを施しておく。上記はんだの種類は、金との濡れ
性が良好で、かつ、脆い合金層を形成しにくいものを使
用する。また、はんだの量は、金バンプ先端だけはんだ
付けされる量に管理する。すなわち、金バンプ2のカラ
ム2b部分が少なくとも金ワイヤ径と同じ高さが、はん
だ付けされずに残ることが必要である。 【0018】フリップチップ実装においては、加圧する
ことでバンプがつぶれ、基板の反りやパッド高さのバラ
ツキを吸収することができる。ただし、加圧を掛けすぎ
るとバンプがつぶれすぎ、本発明のカラム状のバンプ接
続にならなくなってしまう。このため、フリップチップ
実装時の荷重は1バンプ当り最大でも10gとする必要
がある。 【0019】はんだ付けにあたっては、カラム2b部を
少なくとも25μm残し、カラム2b先端20〜30μ
m部分をはんだ接続する。はんだ接合のための加熱温度
は、使用するはんだの融点より30〜50℃高い温度に
半導体ベアチップ1が加熱されるように設定する。はん
だ接合に際して、予めフラックスを塗布しておく方法も
あるが、洗浄残渣が問題となる場合には、フラックスを
使わずに不活性ガスまたは水素を含んだ混合ガスを用い
てもよい。また、はんだ表面の酸化物をプラズマ処理に
より除去する方法を用いてもよい。さらに、はんだ接続
性を向上させるために、荷重をかけた状態で僅かに基板
に水平振動を加えるスクラブ印加の手法を併用してもよ
い。 【0020】以上のような手順により、金バンプ2カラ
ム2b先端のみはんだ接合されたフリップチップ実装が
完了するが、チップサイズが大きい場合や、湿度の影響
から保護を必要とする場合には、アンダーフィル用樹脂
を実装後に注入して硬化することが好ましい。また、こ
のアンダーフィルに使用する樹脂が耐熱性の高い熱硬化
型樹脂の場合には、フリップチップ実装前に予め基板上
にアンダーフィル用樹脂を塗布し、その上にフリップチ
ップを載置押圧し加熱することで、はんだ接合と樹脂硬
化を同時に行なうことも可能である。 【0021】 【発明の効果】本発明によれば、金バンプ形成後にレベ
リングを行うようにしたので、すべての金バンプの先端
部分が平坦になり、光を当てるとその平坦部分で反射し
てすべての金バンプの先端が明るく見えるようになるか
ら画像処理を用いた検査装置で金バンプのカラムが直立
しているか否か容易に検出することができるので金バン
プのカラムに曲がりがあるときは実装対象としては不適
切な半導体ベアチップとして実装対象から排除すること
ができる。したがって、実装不良が低減し、チップの取
外し、再実装の手間が省けるから生産性向上とコスト低
減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明に係わる実施の形態を示すフリップチッ
プ実装の模式図である。 【図2】バンプの曲がり図2(a)とバンプ曲がりによ
るフリップチップ接続不良の例図2(b)である。 【符号の説明】 1 半導体ベアチップ 1a 半導体ベアチップ1のアルミ電極 2 金バンプ 2a 金バンプ2の台座 2b 金バンプ2のカラム(柱) 3 基板 3a 基板3のパッド 4 はんだ 5 曲がった金バンプ 5b 曲がった金バンプ5のカラム(柱)

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 半導体ベアチップを基板に直接実装する
    フリップチップ実装において、 ワイヤボンダーにより半導体ベアチップの電極に形成す
    る金バンプは、台座部を除くバンプ先端までのカラム部
    長さが使用する金ワイヤ径の2倍以上ある引きちぎりバ
    ンプであること; 前記金バンプ形成後にレベリングを
    行い、この金バンプのカラムの高さを平均化すると共に
    この金バンプの先端部分を平坦化すること; 実装直前
    に画像処理を用いた検査装置を使用することにより、前
    記金バンプのカラム部に曲がりが発生していないことを
    確認すること; 前記台座部からの距離が少なくとも使
    用する金ワイヤ径以上離れた位置からバンプ先端にかけ
    てはんだ付け接続すること; を特徴とするフリップチップ実装方法。
JP2001182000A 2001-06-15 2001-06-15 フリップチップ実装方法 Expired - Lifetime JP3500132B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001182000A JP3500132B2 (ja) 2001-06-15 2001-06-15 フリップチップ実装方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001182000A JP3500132B2 (ja) 2001-06-15 2001-06-15 フリップチップ実装方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002373911A JP2002373911A (ja) 2002-12-26
JP3500132B2 true JP3500132B2 (ja) 2004-02-23

Family

ID=19022179

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001182000A Expired - Lifetime JP3500132B2 (ja) 2001-06-15 2001-06-15 フリップチップ実装方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3500132B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4398225B2 (ja) * 2003-11-06 2010-01-13 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002373911A (ja) 2002-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100555354B1 (ko) 단일화된 칩을 기판 패키지에 연결하는 방법, 플립 칩 방법, 및 칩 상에 접촉점을 형성하는 방법
KR20030092026A (ko) 무세척 플럭스를 사용한 플립칩 상호 접속
JPH04280443A (ja) 熱硬化可能な接着剤およびこれを用いた電気的コンポーネント組立体
JPH08236654A (ja) チップキャリアとその製造方法
US5877079A (en) Method for manufacturing a semiconductor device and a method for mounting a semiconductor device for eliminating a void
JPH10270498A (ja) 電子装置の製造方法
CN1956177A (zh) 芯片结构、芯片封装结构及其工艺
JP2010219507A (ja) はんだバンプ、半導体チップ、半導体チップの製造方法、導電接続構造体、および導電接続構造体の製造方法
KR20010093705A (ko) 땜납 범프 형성 방법, 플립 칩 장착 방법과 장착구조체
TW201225196A (en) Electronic-component mounted body, electronic component, and circuit board
JPH10294337A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP5560713B2 (ja) 電子部品の実装方法等
JP3500132B2 (ja) フリップチップ実装方法
TW201411793A (zh) 半導體裝置及其製造方法
JPH09246319A (ja) フリップチップ実装方法
JP2755696B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
Zama et al. Flip chip interconnect systems using copper wire stud bump and lead free solder
JP2010123676A (ja) 半導体装置の製造方法、半導体装置
TWI665774B (zh) 電子封裝件及其製法
WO1998058409A1 (en) Process for mounting semiconductor chip, process for manufacturing chip-on-chip structure, and process for manufacturing chip-on-board structure
JP3591344B2 (ja) バンプ付電子部品の実装方法
JPH05218136A (ja) フリップチップ・ボンディング方法
JPH1123656A (ja) フリップチップicの検査方法及び検査用基板
JPH03200343A (ja) 半田バンプの形成方法
JP2008091650A (ja) フリップチップ実装方法、および半導体パッケージ

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3500132

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081205

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081205

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091205

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101205

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101205

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111205

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111205

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121205

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121205

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131205

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term