JP3487356B2 - シクロヘキサン誘導体 - Google Patents

シクロヘキサン誘導体

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JP3487356B2
JP3487356B2 JP10414493A JP10414493A JP3487356B2 JP 3487356 B2 JP3487356 B2 JP 3487356B2 JP 10414493 A JP10414493 A JP 10414493A JP 10414493 A JP10414493 A JP 10414493A JP 3487356 B2 JP3487356 B2 JP 3487356B2
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貞夫 竹原
晴義 高津
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  • Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
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  • Liquid Crystal Substances (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電気光学的液晶表示材料
として有用な、新規液晶性化合物である重水素置換され
たシクロヘキサン誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子は、時計、電卓をはじめと
して、各種測定機器、自動車用パネル、ワープロ、電子
手帳、プリンター、コンピューター、テレビ等に用いら
れるようになっている。液晶表示方式としては、その代
表的なものにＴＮ（捩れネマチック）型、ＳＴＮ（超捩
れネマチック）型、ＤＳ（動的光散乱）型、ＧＨ（ゲス
ト・ホスト）型あるいはＦＬＣ（強誘電性液晶）等があ
り、また駆動方式としても従来のスタティック駆動から
マルチプレックス駆動が一般的になり、更に単純マトリ
ックス方式、最近ではアクティブマトリックス方式が実
用化されている。
【０００３】これらの表示方式、駆動方式に応じて、液
晶材料としても種々の特性が要求されているが、（１）
液晶相の温度範囲が広いこと、及び（２）粘性が小さい
ことはすべての方式に共通して重要な要求特性である。
このうち（１）の特性には（１ａ）ネマチック相上限温
度（ＴN-I）が高いこと、及び（１ｂ）融点が低く、結
晶化あるいは析出等の相分離を生じ難いことが含まれ
る。
【０００４】現在までのところ、こうした要求特性を単
独で満たす液晶化合物は知られておらず、多種の液晶化
合物の混合物として用いられているのが実情である。こ
れまで開発されてきた液晶化合物は多岐に及ぶが、上記
（１）、（２）の条件を比較的満足できる化合物とし
て、シクロヘキサン骨格を有する化合物が比較的よく用
いられている。
【０００５】このシクロヘキサン骨格は、他の環構造と
比較して、その粘性が比較的小さいという特徴を有す
る。しかしながら、その低温特性に関しては、他の骨格
を有する液晶化合物と比較して特に優れていたわけでは
なかった。
【０００６】液晶材料の融点を低下させるには多数の化
合物を混合し、その成分数を多くすることが効果的であ
り、例えば環及び連結基からなる中心骨格が同一であ
り、末端基の炭素原子数のみが異なる同族体を種々添加
して成分数を増加させる方法が用いられている。しかし
ながら、このような方法によって液晶材料の融点を低下
させ、低温域でも結晶を析出しにくくすることは極めて
困難であるのが現状である。
【０００７】従って、シクロヘキサン環等の骨格を有す
ることにより比較的低粘性であり、しかも他の特性に悪
影響を与えることなく、融点が低下するか、あるいは低
温域でも結晶が析出しにくく、他の液晶化合物との相溶
性が改善された液晶性化合物が望まれていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、以上の目的に応じるため、シクロヘキサン
環の骨格を有する新規液晶化合物であり、液晶材料の粘
性を低下させ、液晶相の温度範囲を狭くせず、特に低温
域でも析出、相分離等を生じさせない液晶化合物を提供
することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、一般式（Ｉ）
【００１０】
【化３３】
【００１１】（式中、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立的に、
フッ素原子、塩素原子、シアノ基、シアナト基（ＯＣ
Ｎ）、チオシアナト基（ＳＣＮ）、トリフルオロメトキ
シ基（ＯＣＦ3）、ジフルオロメトキシ基（ＯＣＦ
2Ｈ）、２，２，２−トリフルオロエトキシ基（ＯＣＨ2
ＣＦ3）、トリフルオロメチル基（ＣＦ3）、−ＯＲ、−
ＣＯＯＲ、−ＯＣＯＲ又はＲを表わし、Ｒは炭素原子数
１〜２０のアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニ
ル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシアルキル基を表
わすが、Ｙ1及びＹ2のうち少なくとも一方は−ＯＲ、−
ＣＯＯＲ、−ＯＣＯＲ又はＲを表わし、Ｚ、Ｚ1、Ｚ2、
Ｚ3及びＺ4はそれぞれ独立的に単結合、−ＣＨ2ＣＨ
2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）4−、
−（ＣＨ2）3−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ2）3−を表わし、
環Ａは一般式（ＩＩ）
【００１２】
【化３４】
【００１３】を表わし、Ｘ1〜Ｘ10はそれぞれ独立的
に、水素原子（Ｈ）又は重水素原子（Ｄ）を表わすが、
このうち少なくとも１個は重水素原子（Ｄ）を表わし、
環Ｋ、環Ｌ、環Ｊ、環Ｍ及び環Ｎはそれぞれ独立的に、
トランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シク
ロヘキセニレン基、フッ素原子若しくはシアノ基により
置換されたトランス−１，４−シクロヘキシレン基、
１，４−フェニレン基、フッ素原子、塩素原子シアノ基
若しくはメチル基により置換された１，４−フェニレン
基、１，３−ジオキサン−２，６−ジイル基、ピリミジ
ン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、
ピラジン−２，５−ジイル基又は一般式（ＩＩＩ）
【００１４】
【化３５】
【００１５】を表わし、Ｘ11〜Ｘ20はそれぞれ独立的
に、水素原子（Ｈ）又は重水素原子（Ｄ）を表わすが、
このうち少なくとも１個は重水素原子（Ｄ）を表わし、
前記環Ａと互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｋ、ｌ、ｍ及びｎはそれぞれ独立的に、０又は１を表わ
すが、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎは０、１又は２である。）で表わ
される重水素置換されたシクロヘキサン環を有する化合
物を提供する。
【００１６】上述のように、一般式（ＩＩ）又は一般式
（ＩＩＩ）で表わされる重水素置換されたシクロヘキサ
ン環において、各環におけるＸ1〜Ｘ10あるいはＸ11〜
Ｘ20はそれぞれ独立的に、水素原子（Ｈ）又は重水素原
子（Ｄ）を表わし、且つＸ1〜Ｘ10のうち少なくとも１
個、Ｘ11〜Ｘ20のうち少なくとも１個は重水素原子
（Ｄ）を表わす。従って、一般式（Ｉ）において、環Ａ
以外の他の環構造や、連結基、末端基を固定して考えて
も、環Ａの重水素原子（Ｄ）の置換位置と置換数によ
り、非常に多くの化合物が存在することになる。
【００１７】液晶化合物において、水素原子（Ｈ）を重
水素原子（Ｄ）で置換することは知られていなかったわ
けではなく、既に数例の報告がある。 1) H.Gasparoux等，Ann.ReV.Phys.Chem.,27, 175(1976) 2) G.W.Gray等, Mol.Cryst.Liq.Cryst.,41, 75(1977) 3) A.J.Leadbetter等, J.Phys.［Paris］coll C3, 40,
125(1979) 4) A.Kolbe等, Z.Naturforsch.,23a, 1237(1968) 5) J.D.Rowell等, J.Chem.Phys.,43, 3442(1965) 6) W.D.Philips等, J.Chem.Phys.,41, 2551(1964) 7) A.F.Martins等, Mol.Cryst.Liq.Cryst.,14, 85(197
1) 8) E.T.Samulski等, Phys.Rev.Lett.,29, 340(1972)
【００１８】これらの報告において、４−アルコキシ安
息香酸のカルボキシル基における水素原子（Ｈ）を重水
素原子（Ｄ）で置換した例（文献(1)）以外はすべて、
末端基中の水素原子（Ｈ）を重水素原子（Ｄ）で置換す
るか、あるいはベンゼン環に結合する水素原子（Ｈ）を
重水素原子（Ｄ）で置換した例であり、本発明の一般式
（Ｉ）の化合物のように、シクロヘキサン環に結合する
水素原子（Ｈ）を重水素原子（Ｄ）で置換した例は知ら
れていなかった。
【００１９】上記一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、
環Ａ、環Ｊ、環Ｋ、環Ｌ、環Ｍ、環Ｎ、Ｚ、Ｚ1、Ｚ2、
Ｚ3、Ｚ4、Ｙ1、Ｙ2、ｋ、ｌ、ｍ及びｎを選択し、組み
合わせることにより、多くの種類の化合物を得ることが
できる。これらはいずれも重水素原子（Ｄ）により置換
されたシクロヘキサン環を有することにより、上記の望
ましい性質を示し得るものである。
【００２０】本発明の一般式（Ｉ）の化合物の中でも好
ましい化合物として、例えば、以下の化合物を挙げるこ
とができる。２環性の化合物としては、下記一般式（Ｉ
−１）
【００２１】
【化３６】
【００２２】（式中、環Ｊはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４
−フェニレン基、フッ素原子により置換された１，４−
フェニレン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表
わされる基を表わし、Ｚは単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を
表わす）で表わされる化合物が好ましい。
【００２３】更に詳しくは、下記一般式（Ｉ−１ａ）〜
（Ｉ−１ｃ）で表わされる化合物が好ましい。一般式
（Ｉ−１ａ）
【００２４】
【化３７】
【００２５】（式中、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3はそれぞれ独立
的に、水素原子又はフッ素原子を表わす。）一般式（Ｉ
−１ｂ）
【００２６】
【化３８】
【００２７】（式中、環Ｃは
【００２８】
【化３９】
【００２９】を表わす。）一般式（Ｉ−１ｃ）
【００３０】
【化４０】
【００３１】（式中、環Ｄはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表
わされる基を表わす。）その中でも特に、下記一般式
（Ｉａ−１）〜（Ｉａ−１０）で表わされる化合物が好
ましい。
【００３２】
【化４１】
【００３３】
【化４２】
【００３４】（式中、環Ｂは環Ａと同じ意味を表わす
が、互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ1及
びＲ2はそれぞれ独立的に、炭素原子数１〜１２のアル
キル基、炭素原子数２〜１２のアルケニル基又は炭素原
子数２〜２０のアルコキシアルキル基を表わし、Ｒ3は
フッ素原子、塩素原子、シアノ基、シアナト基（ＯＣ
Ｎ）、トリフルオロメトキシ基（ＯＣＦ3）、ジフルオ
ロメトキシ基（ＯＣＦ2Ｈ）、２，２，２−トリフルオ
ロエトキシ基（ＯＣＨ2ＣＦ3）、トリフルオロメチル基
（ＣＦ3）、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原
子数２〜１２のアルケニル基、炭素原子数２〜２０のア
ルコキシアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ
ル基又は炭素原子数２〜１２のアルケニルオキシ基を表
わす。）次に、３環性の化合物としては、下記一般式
（Ｉ−２）
【００３５】
【化４３】
【００３６】（式中、環Ｊはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４
−フェニレン基、フッ素原子若しくはメチル基により置
換された１，４−フェニレン基又は請求項１記載の一般
式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わし、環Ｍは１，４−
フェニレン基、フッ素原子若しくはメチル基により置換
された１，４−フェニレン基を表わし、Ｚ及びＺ3はそ
れぞれ独立的に、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−又は−Ｃ≡Ｃ
−を表わす。）で表わされる化合物及び一般式（Ｉ−
３）
【００３７】
【化４４】
【００３８】（式中、環Ｋはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基又は１，４−シクロヘキセニレン基を表わ
し、環Ｊは１，４−フェニレン基又はフッ素原子により
置換された１，４−フェニレン基を表わし、Ｚ及びＺ1
はそれぞれ独立的に、単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わ
す。）で表わされる化合物が好ましい。
【００３９】更に詳しくは、下記一般式（Ｉ−２ａ）〜
（Ｉ−３ｂ）で表わされる化合物が好ましい。一般式
（Ｉ−２ａ）
【００４０】
【化４５】
【００４１】（式中、環Ｄはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表
わされる基を表わし、Ｚ及びＺ3はそれぞれ独立的に、
単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わすが、少なくとも一方
は単結合を表わす。）一般式（Ｉ−２ｂ）
【００４２】
【化４６】
【００４３】（式中、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3はそれぞれ独立
的に、水素原子又はフッ素原子を表わす。）一般式（Ｉ
−２ｃ）
【００４４】
【化４７】
【００４５】（式中、Ｚは単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を
表わし、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｗ4及びＷ5はそれぞれ独立的
に、水素原子又はフッ素原子を表わすが、そのうちフッ
素原子は多くとも３個までである。）一般式（Ｉ−２
ｄ）
【００４６】
【化４８】
【００４７】（式中、Ｚは単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を
表わし、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及びＷ4はそれぞれ独立的に、水
素原子又はフッ素原子を表わす。）一般式（Ｉ−２ｅ）
【００４８】
【化４９】
【００４９】（式中、Ｚは単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を
表わし、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、水素原子又は
フッ素原子を表わす。）一般式（Ｉ−２ｆ）
【００５０】
【化５０】
【００５１】（式中、Ｚは単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を
表わし、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、水素原子又は
フッ素原子を表わす。）一般式（Ｉ−３ａ）
【００５２】
【化５１】
【００５３】（式中、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3はそれぞれ独立
的に、水素原子又はフッ素原子を表わし、Ｚ及びＺ1の
うち少なくとも一方は単結合を表わす。）一般式（Ｉ−
３ｂ）
【００５４】
【化５２】
【００５５】（式中、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3はそれぞれ独立
的に、水素原子又はフッ素原子を表わす。）その中でも
特に、下記一般式（Ｉｂ−１）〜（Ｉｂ−２０）で表わ
される化合物が好ましい。
【００５６】
【化５３】
【００５７】
【化５４】
【００５８】
【化５５】
【００５９】（上記中、Ｒ1、Ｒ2及び環Ｂは前述と同じ
意味を表わす。）更に、４環性の化合物としては、下記
一般式（Ｉ−４）
【００６０】
【化５６】
【００６１】（式中、環Ｊはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４
−フェニレン基、フッ素原子により置換された１，４−
フェニレン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表
わされる基を表わし、環Ｍはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基、１，４−フェニレン基、フッ素原子によ
り置換された１，４−フェニレン基又は請求項１記載の
一般式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わし、環Ｎはトラ
ンス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレ
ン基又はフッ素原子により置換された１，４−フェニレ
ン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表わされる
基を表わし、Ｚ、Ｚ3及びＺ4はそれぞれ独立的に、単結
合、−ＣＨ2ＣＨ2−又は−Ｃ≡Ｃ−を表わす。）で表わ
される化合物、一般式（Ｉ−５）
【００６２】
【化５７】
【００６３】（式中、環Ｊは１，４−フェニレン基又は
フッ素原子により置換された１，４−フェニレン基を表
わし、環Ｋ及びＬが共にトランス−１，４−シクロヘキ
シレン基を表わし、Ｚ1及びＺ2が共に単結合を表わし、
Ｚが単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わす。）で表わされ
る化合物及び一般式（Ｉ−６）
【００６４】
【化５８】
【００６５】（式中、環Ｋはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基又は１，４−シクロヘキセニレン基を表わ
し、環Ｊは１，４−フェニレン基又はフッ素原子により
置換された１，４−フェニレン基を表わし、環Ｍは１，
４−フェニレン基又はフッ素原子により置換された１，
４−フェニレン基を表わし、Ｚ、Ｚ1及びＺ3はそれぞれ
独立的に、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−又は−Ｃ≡Ｃ−を表
わす。）で表わされる化合物が好ましい。
【００６６】更に詳しくは、下記一般式（Ｉ−４ａ）〜
（Ｉ−６ｄ）で表わされる化合物が好ましい。一般式
（Ｉ−４ａ）
【００６７】
【化５９】
【００６８】（式中、Ｚ及びＺ4はそれぞれ独立的に、
単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、環Ｄはトランス−
１，４−シクロヘキシレン基又は請求項１記載の一般式
（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす。）一般式（Ｉ−４
ｂ）
【００６９】
【化６０】
【００７０】（式中、Ｚ4は単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−
を表わし、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、水素原子又
はフッ素原子を表わす。）一般式（Ｉ−４ｃ）
【００７１】
【化６１】
【００７２】（式中、環Ｄはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表
わされる基を表わし、Ｚ及びＺ3はそれぞれ独立的に、
単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、Ｗ1及びＷ2は水素
原子又はフッ素原子を表わす。）一般式（Ｉ−４ｄ）
【００７３】
【化６２】
【００７４】（式中、環Ｄはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表
わされる基を表わし、Ｚ及びＺ3はそれぞれ独立的に、
単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及
びＷ4はそれぞれ独立的に、水素原子又はフッ素原子を
表わす。）一般式（Ｉ−４ｅ）
【００７５】
【化６３】
【００７６】（式中、環Ｄはトランス−１，４−シクロ
ヘキシレン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表
わされる基を表わし、Ｚ及びＺ3はそれぞれ独立的に、
単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及
びＷ4はそれぞれ独立的に、水素原子又はフッ素原子を
表わす。）一般式（Ｉ−４ｆ）
【００７７】
【化６４】
【００７８】（式中、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、
水素原子又はフッ素原子を表わす。）一般式（Ｉ−５
ａ）
【００７９】
【化６５】
【００８０】（式中、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、
水素原子又はフッ素原子を表わす。）一般式（Ｉ−６
ａ）
【００８１】
【化６６】
【００８２】（式中、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、
水素原子又はフッ素原子を表わし、Ｚ及びＺ1はそれぞ
れ独立的に、単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わすが、少
なくとも一方は単結合を表わす。）一般式（Ｉ−６ｂ）
【００８３】
【化６７】
【００８４】（式中、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及びＷ4はそれぞれ
独立的に、水素原子又はフッ素原子を表わし、Ｚ及びＺ
1はそれぞれ独立的に、単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表
わすが、少なくとも一方は単結合を表わす。）一般式
（Ｉ−６ｃ）
【００８５】
【化６８】
【００８６】（式中、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及びＷ4はそれぞれ
独立的に、水素原子又はフッ素原子を表わし、Ｚ及びＺ
1はそれぞれ独立的に、単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表
わすが、少なくとも一方は単結合を表わす。）一般式
（Ｉ−６ｄ）
【００８７】
【化６９】
【００８８】（式中、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、
水素原子又はフッ素原子を表わす。）その中でも特に、
下記一般式（Ｉｃ−１）〜（Ｉｃ−３３）で表わされる
化合物が好ましい。
【００８９】
【化７０】
【００９０】
【化７１】
【００９１】
【化７２】
【００９２】
【化７３】
【００９３】
【化７４】
【００９４】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及び環Ｂは前述と
同じ意味を表わす。）上記各化合物における環Ａは、前
述のように一般式（ＩＩ）において、特にＸ 2〜Ｘ9のう
ち２〜８個が重水素原子（Ｄ）であることが好ましく、
また環Ｂは一般式（ＩＩＩ）において、特にＸ12〜Ｘ19
のうち２〜８個が重水素原子（Ｄ）であることが好まし
い。
【００９５】その中でも特に、下記一般式（ＩＩａ）及
び（ＩＩＩａ）
【００９６】
【化７５】
【００９７】（式中、Ｘ2〜Ｘ5のうち少なくとも３個、
Ｘ12〜Ｘ15のうち少なくとも３個は重水素原子（Ｄ）を
表わす。）、一般式（ＩＩｂ）及び（ＩＩＩｂ）
【００９８】
【化７６】
【００９９】（式中、Ｘ6〜Ｘ9のうち少なくとも３個、
Ｘ16〜Ｘ19のうち３個は重水素原子（Ｄ）を表わす。）
あるいは一般式（ＩＩｃ）及び（ＩＩＩｃ）
【０１００】
【化７７】
【０１０１】（式中、Ｘ2〜Ｘ5のうち少なくとも３個及
びＸ6〜Ｘ9のうち少なくとも３個、Ｘ 12〜Ｘ15のうち少
なくとも３個及びＸ16〜Ｘ19のうち少なくとも３個は重
水素原子（Ｄ）を表わす。）で表わされる基であること
が望ましい。
【０１０２】本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、環及び
連結基からなる中心骨格とその環に結合している重水素
原子（Ｄ）の置換位置と置換数によっても異なるが、重
水素置換されたシクロヘキサノン誘導体等を原料として
用いるか、あるいは中間体の段階で重水素置換工程を導
入する以外は、一般式（Ｉ）において、一般式（ＩＩ）
及び（ＩＩＩ）で表わされる基が全く重水素置換されて
いない１，４−シクロヘキシレン基である化合物の場合
と同様にして製造することが可能である。
【０１０３】例えば、２環性の化合物である前述の一般
式（Ｉａ−１）において、Ｒ1＝ｎ−Ｃ3Ｈ7、Ｒ2＝ＯＣ
2Ｈ5、Ｗ1＝Ｗ2＝Ｗ3＝Ｈである一般式（ｐ）
【０１０４】
【化７８】
【０１０５】（式中、環Ａは一般式（Ｉ）におけると同
じ意味を表わす。）で表わされる１−（トランス−４−
プロピルシクロヘキシル）−４−エトキシベンゼンの重
水素置換体の製造方法の例を以下に示す。なお、化合物
名あるいは構造式に添えたｄn−はシクロヘキサン環に
結合している水素原子（Ｈ）がｎ個の重水素原子（Ｄ）
により置換されていることを表わす。
【０１０６】
【化７９】
【０１０７】（イ） ４−プロピルシクロヘキサノンを
ジクロロメタン等の溶媒に溶解し、塩基存在下に重水
（Ｄ2Ｏ）と加熱して、４−プロピルシクロヘキサノン
−２，２，６，６−ｄ4を得る。次に、１−エトキシ−
４−ブロモベンゼンから調製したグリニヤール反応剤を
反応させ、得られたｄ4−フェニルシクロヘキサノール
誘導体を脱水して、ｄ3−フェニルシクロヘキセン誘導
体を得る。これを接触還元し、シス体を分離して、１−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６
−ｄ3）−４−エトキシベンゼンが得られる。
【０１０８】
【化８０】
【０１０９】（ロ） シクロヘキサン−１，４−ジオン
モノエチレンアセタールを１−エトキシ−４−ブロモベ
ンゼンから調製したグリニヤール反応剤と反応させ、上
記（イ）と同様にして脱水（必要に応じてエチレンアセ
タール化を行う。）して、水素添加した後、脱アセター
ルし、４−（４−エトキシフェニル）シクロヘキサノン
を得る。これを（イ）と同様に重水素化し、４−（４−
エトキシフェニル）シクロヘキサノン−２，２，６，６
−ｄ4を得る。これを臭化プロピルから調製したグリニ
ヤール反応剤と反応させ、脱水、水素添加した後、シス
体を分離して、１−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル−３，３，５−ｄ3）−４−エトキシベンゼンが
得られる。
【０１１０】
【化８１】
【０１１１】（ハ） 前述の（ロ）で中間体として得ら
れた４−（４−エトキシフェニル）シクロヘキサノン−
２，２，６，６−ｄ4を、塩化メトキシメチルトリフェ
ニルホスホニウムから調製した一般式（ＩＶ）
【０１１２】
【化８２】
【０１１３】（式中、Phはフェニル基を表わす。）で表
わされるウィッティヒ反応剤と反応させ、次いで酸処理
することにより、４−（４−エトキシフェニル）シクロ
ヘキサン−２，２，６，６−ｄ4−カルバルデヒドを得
る。これをトランス体に異性化した後、エチルトリフェ
ニルホスホニウムから調製したウィッティヒ反応剤と反
応させ、次いで水素添加して、１−（トランス−４−プ
ロピルシクロヘキシル−３，３，５，５−ｄ4）−４−
エトキシベンゼンを得ることができる。
【０１１４】
【化８３】
【０１１５】（ニ） 前述の（ハ）におけるカルバルデ
ヒド誘導体の異性化を、重水（Ｄ2Ｏ）存在下に行い、
４−（４−エトキシフェニル）シクロヘキサン−１，
２，２，６，６−ｄ5−カルバルデヒドを得る。以下
（ハ）と同様にして、１−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル−３，３，４，５，５−ｄ5）−４−エト
キシベンゼンを得ることができる。
【０１１６】
【化８４】
【０１１７】（ホ） 前述の（ロ）で中間体として得ら
れた４−（４−エトキシフェニル）シクロヘキサノンと
一般式（ＩＩＩ）のウィッティヒ反応剤から、４−（４
−エトキシフェニル）シクロヘキサンカルバルデヒドを
得ることができる。前述の（二）と同様にして、４−
（４−エトキシフェニル）シクロヘキサン−１−ｄ−カ
ルバルデヒドを経て、１−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル−４−ｄ）−４−エトキシベンゼンを得る
ことができる。
【０１１８】
【化８５】
【０１１９】（ヘ） シクロヘキサン−１，４−ジオン
を前述の（イ）と同様に重水素化し、ｄ8−シクロヘキ
サン−１，４−ジオンを得る。これをモノエチレンアセ
タールとした後、前述の（ハ）と同様に反応させて、１
−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，
３，３，５，５，６−ｄ7）−４−エトキシベンゼンを
得ることができる。
【０１２０】
【化８６】
【０１２１】（ト） シクロヘキサン−１，４−ジオン
モノエチレンアセタールを重水素化し、これから前述の
（ロ）と同様にして、４−（４−エトキシフェニル）シ
クロヘキサノン−３，３，５−ｄ3が得られる。これか
ら前述の（ホ）と同様にして、１−（トランス−４−プ
ロピルシクロヘキシル−２，２，４，６−ｄ4）−４−
エトキシベンゼンを得ることができる。
【０１２２】
【化８７】
【０１２３】（チ） 前述の一般式（ｐ）の化合物にお
ける環Ａが重水素置換されていないシクロヘキサン環を
有する化合物の製造中間体として用いられている１−
（４−エトキシフェニル）−４−プロピルシクロヘキセ
ンをハイドロボレーションし、次いで、クロム酸等で酸
化して、２−（４−エトキシフェニル）−５−プロピル
シクロヘキサノンを得る。これを前述の（二）と同様に
重水素化及びトランス体への異性化を行い、次いでカル
ボニル基を還元除去して、１−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル−１，３，３−ｄ3）−４−エトキシ
ベンゼンを得ることができる。
【０１２４】
【化８８】
【０１２５】（リ） 前述の（チ）の中間体である２−
（４−エトキシフェニル）−５−プロピルシクロヘキサ
ノンを水素化アルミニウムリチウム−ｄ4で還元し、脱
水した後、水素添加して更にトランス体に異性化して、
１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−２−
ｄ）−４−エトキシベンゼンを得ることができる。
【０１２６】このように一般式（ｐ）の化合物は（イ）
〜（リ）の各方法により得ることができるが、この一般
式（ｐ）以外の他の２環性の重水素置換体も上記方法に
準じて、あるいはこれらを組み合わせることにより容易
に得ることができる。
【０１２７】また、例えば、３環性の化合物である前述
の一般式（Ｉｂ−４）において、Ｒ 1＝ｎ−Ｃ3Ｈ7、Ｒ2
＝Ｗ1＝Ｆ、Ｗ2＝Ｗ3＝Ｈである式（ｑ）
【０１２８】
【化８９】
【０１２９】（式中、環Ａは一般式（Ｉ）におけると同
じ意味を表わす。）で表わされる１−［４−（トランス
−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル］−
３，４−ジフルオロベンゼンの重水素置換体の製造方法
の例を以下に示す。
【０１３０】
【化９０】
【０１３１】（ヌ） ４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）シクロヘキサノンを（イ）と同様に重水
素化して、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシ
ル）シクロヘキサノン−２，２，６，６−ｄ4を得る。
これを１−ブロモ−３，４−ジフルオロベンゼンから調
製したグリニヤール反応剤と反応させ、以下、（イ）と
同様にして、１−［４−（トランス−４−プロピルシク
ロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3］−
３，４−ジフルオロベンゼンを得ることができる。
【０１３２】
【化９１】
【０１３３】（ル） 前述の（ヌ）の中間体である１−
（３，４−ジフルオロフェニル）−４−（トランス−４
−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキセン−２，６，
６−ｄ 3から前述の（チ）と同様にハイドロボレーショ
ン、次いで酸化して、２−（３，４−ジフルオロフェニ
ル）−５−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
シクロヘキサノン−３，３−ｄ2を得る。これを前述の
（二）と同様に重水素化及びトランス体への異性化を行
い、次いでカルボニル基を還元除去して、１−［４−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキ
シル−１，２，２，５，５−ｄ5］−３，４−ジフルオ
ロベンゼンを得ることができる。
【０１３４】
【化９２】
【０１３５】（ヲ） 前述の（ル）においてハイドロボ
レーション後に重水素化を行わず、異性化のみを行った
以外は（ル）と同様にして、１−［４−（トランス−４
−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル−２，２−
ｄ2］−３，４−ジフルオロベンゼンを得ることができ
る。
【０１３６】
【化９３】
【０１３７】（ワ） 臭化４−プロピルシクロヘキシル
から調製したグリニヤール反応剤を前述の（ト）で得ら
れたシクロヘキサン−１，４−ジオンモノエチレンアセ
タールの重水素置換体と反応させ、同様に脱水、水素添
加を行い、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシ
ル）シクロヘキサノン−３，３，５−ｄ3を得る。これ
から前述の（ヌ）と同様にして、１−［４−（トランス
−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル−３，
３，５−ｄ3］−３，４−ジフルオロベンゼンを得るこ
とができる。
【０１３８】
【化９４】
【０１３９】（カ） 前述の（ワ）で得られた４−（ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノ
ン−３，３，５−ｄ3を更に重水素化し、４−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノン−
２，２，３，３，５，６，６−ｄ7を得る。これから、
前述の（ヌ）と同様にして、１−［４−（トランス−４
−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，
３，３，５，６−ｄ6］−３，４−ジフルオロベンゼン
及び１−［４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシ
ル）シクロヘキシル−２，２，３，５，５，６−ｄ6］
−３，４−ジフルオロベンゼンを得ることができる。
【０１４０】このように一般式（ｑ）の化合物は（ヌ）
〜（カ）の各方法により得ることができるが、この一般
式（ｑ）以外の他の３環性の重水素置換体も上記方法に
準じて、あるいはこれらを組み合わせることにより容易
に得ることができる。
【０１４１】斯くして得られる一般式（Ｉ）の化合物の
代表的なものの例と相転移温度を下記第１表〜第３表に
掲げる。
【０１４２】
【表１】
【０１４３】
【表２】
【０１４４】
【表３】
【０１４５】（表中、Ｃｒは結晶相を、Ｓｍはスメクチ
ック相を、Ｎはネマチック相を、Ｉは等方性液体相をそ
れぞれ表わす。）本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、対
応する重水素置換されていない化合物と比較すると、そ
の相転移温度はほぼ等しいかあるいはわずかに低い程度
であり、大きな相違はないようにも考えられる。
【０１４６】しかしながら、本発明の一般式（Ｉ）の化
合物は汎用の液晶材料との相溶性に非常に優れており、
特に低温域における相溶性が極めて優れているので、液
晶材料中に結晶が析出しにくくなるという効果が認めら
れる。
【０１４７】そのような例として、例えば、現在汎用さ
れている母体液晶（Ａ）
【０１４８】
【化９５】
【０１４９】８５重量％及び第１表中の（Ｎｏ．１３）
【０１５０】
【化９６】
【０１５１】の化合物１５重量％からなる混合液晶
（Ｂ）を調製し、これを−２０℃で保存したところ１カ
月経過後も、結晶の析出は観察できなかった。これに対
し、前述の母体液晶（Ａ）８５重量％、及び（Ｎｏ．１
３）の化合物と同一の骨格を有するが、重水素置換され
ていない式（Ｒ−１）
【０１５２】
【化９７】
【０１５３】の化合物１５重量％からなる混合液晶
（Ｃ）を調製し、同様にして−２０℃で保存したとこ
ろ、５日後には結晶の析出が認められた。このことか
ら、本発明の一般式（Ｉ）で表わされる重水素置換され
たシクロヘキサン環を有する化合物は、汎用の液晶材料
との相溶性に非常に優れており、低温域でも結晶が析出
しにくい、実用的な液晶材料として極めて有用であるこ
とが理解できる。
【０１５４】
【実施例】以下に本発明の実施例を示し、本発明を更に
説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。
【０１５５】なお、化合物の構造は、重水素置換されて
いない既知の化合物と、キャピラリーガスクロマトグラ
フ及び薄層クロマトグラフを比較し、同一の保持時間
（あるいはＲｆ値）を示すこと、及び核磁気共鳴スペク
トル（ＮＭＲ）、質量スペクトル（ＭＳ）、赤外吸収ス
ペクトル（ＩＲ）により確認した。
【０１５６】（実施例１） １−シアノ−４−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）
ベンゼンの合成
【０１５７】
【化９８】
【０１５８】（１−ａ） ４−プロピルシクロヘキサノ
ンの重水素化 ナトリウムメトキシド１１．５ｇを重水（重水素化率：
９９．８％）１００ｍｌに溶解した。この溶液にジクロ
ロメタン１００ｍｌに溶解した４−プロピルシクロヘキ
サノン８８．９ｇ及び臭化テトラブチルアンモニウム
１．０ｇを加え、６時間、溶媒の還流温度で加熱攪拌し
た。反応終了後、放冷し、水層を分離して、反応生成物
をジクロロメタン５０ｍｌで抽出した。この抽出液と有
機層を併せ、この混合液を、ナトリウムメトキシド４．
０ｇを溶解した重水（重水素化率：９９．９６％）５０
ｍｌに加え、溶媒還流下で１０時間加熱攪拌した。有機
層を分離し、水層は反応生成物をジクロロメタンで抽出
した後に回収した。この抽出液と有機層を併せ、水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水乾燥した。
【０１５９】溶媒を溜去して、４−プロピルシクロヘキ
サノン−２，２，６，６−ｄ4８８．６ｇを得た。
【０１６０】（１−ｂ） １−フェニル−４−プロピル
−１−シクロヘキセン−２，６，６−ｄ3の合成 乾燥したテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍｌ中に削
り状マグネシウム１０．２ｇを加えた。これにブロモベ
ンゼン５６．０ｇのＴＨＦ２４０ｍｌ溶液を、穏やかな
還流が持続する速度で滴下した。滴下終了後、更に１時
間攪拌した。氷冷下、上記（１−ａ）で得られた４−プ
ロピルシクロヘキサノン−２，２，６，６−ｄ4３３．
０ｇのＴＨＦ１００ｍｌ溶液を、内温が４０℃を超さな
いように注意して１時間で滴下した。室温で更に１時間
攪拌した後、水層が弱酸性となるまで稀塩酸を加えた。
反応生成物を酢酸エチル３００ｍｌで２回抽出し、有機
層を飽和食塩水で洗滌し、無水硫酸ナトリウムで脱水乾
燥した。溶媒を減圧下に溜去して、油状の１−フェニル
−４−プロピル−１−シクロヘキサノール−２，２，
６，６−ｄ4の粗生成物を得た。
【０１６１】この粗生成物全量をトルエン２００ｍｌに
溶解し、硫酸水素カリウム２．５ｇを加え、攪拌下、溜
出する水を除去しながら１時間加熱還流させた。室温ま
で放冷した後、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
水、次いで飽和食塩水で洗滌し、無水硫酸ナトリウムで
脱水乾燥した。溶媒を減圧下に溜去して、１−フェニル
−４−プロピル−１−シクロヘキセン−２，６，６−ｄ
3４７．５ｇを得た。
【０１６２】（１−ｃ） （トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンゼンの合成 オートクレーブ中に上記（１−ｂ）で得られた１−フェ
ニル−４−プロピル−１−シクロヘキセン−２，６，６
−ｄ3４０．０ｇを加え、酢酸エチル３４０ｍｌに溶解
した。この溶液に４．０ｇのパラジウム炭素を加え、水
素圧４Ｋｇ／ｃｍ2で３時間室温で攪拌した。セライト
濾過により触媒を除去し、減圧下に溶媒を溜去して、
（４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベ
ンゼン（シス／トランスの混合物）を得た。これをＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２００ｍｌに溶解
し、ｔ−ブトキシカリウム１７．０ｇを加え、１１０℃
で３時間攪拌した。反応終了後、水１００ｍｌを加え、
稀塩酸で中和し、反応生成物をヘキサンで２回抽出し
た。ヘキサン層を水で洗滌し、無水硫酸ナトリウムで脱
水乾燥した後、溶媒を減圧下に溜去して得られた粗生成
物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン）を用いて精製して、（トランス−４−プロピルシク
ロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンゼン及び（シス−
４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベン
ゼンの重量比８６／１４混合物３４．２ｇを得た。
【０１６３】（１−ｄ） ４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンズアミドの
合成 上記（１−ｃ）で得られた（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンゼン及び（シス
−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベ
ンゼンの重量比８６／１４混合物２０．０ｇを、ジクロ
ロメタン１００ｍｌに溶解し、無水塩化アルミニウム１
７ｇを加え、氷冷した。ジクロロメタン７０ｍｌに溶解
したシュウ酸ジクロリド１４ｇを内温が１０℃を超えな
いよう注意して滴下した。１時間氷冷下に攪拌後、稀塩
酸及び氷中にあけ、ジクロロメタンで抽出した。このジ
クロロメタン溶液を２９％アンモニア水２５０ｍｌに氷
冷下１０℃以下で滴下した。１時間５〜１０℃で攪拌し
た後、析出した結晶を濾取し、減圧下に乾燥して、４−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６
−ｄ3）ベンズアミドの粗結晶（シス体を少量含有す
る）２０．０ｇを得た。
【０１６４】（１−ｅ） １−シアノ−４−（トランス
−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベ
ンゼンの合成 上記（１−ｄ）で得られた４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンズアミドの
全量を塩化チオニル１００ｍｌに加え、還流下１時間加
熱攪拌した。減圧下に過剰の塩化チオニルを溜去し、放
冷後、水及びトルエンを加えて攪拌し、有機層を分離し
た。水層はトルエンで抽出し、この抽出液と有機層を併
せて水で洗滌し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を溜去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（トルエン）を用いて精製し、更にメタノ
ールから再結晶させて、１−シアノ−４−（トランス−
４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベン
ゼン９．４ｇを得た。この相転移温度は以下の通りであ
った。
【０１６５】相転移温度 ４２℃（融点）（Ｃｒ→
Ｎ）、４６℃（Ｎ−Ｉ） なお、全く重水素化されていない１−シアノ−４−（ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼンの文献
（「液晶・基礎編」岡野光治、小林駿介共編、培風館、
１９８５年）記載の相転移温度は以下の通りであった。
【０１６６】相転移温度 ４２℃（融点）（Ｃｒ→
Ｎ）、４５℃（Ｎ−Ｉ）
【０１６７】（実施例２） １−シアノ−４−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル−３，３，５，５−ｄ
4）ベンゼンの合成
【０１６８】
【化９９】
【０１６９】（２−ａ） ４−フェニルシクロヘキサノ
ンの重水素化 市販の４−フェニルシクロヘキサノンを実施例（１−
ａ）と同様に重水素化し、４−フェニルシクロヘキサノ
ン−２，２，６，６−ｄ4を得た。
【０１７０】（２−ｂ） トランス−４−フェニルシク
ロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4カルバルデヒドの合
成 塩化メトキシメチルトリフェニルホスホニウム１４．２
ｇをＴＨＦ３５ｍｌに懸濁し、−５℃に冷却した。これ
にｔ−ブトキシカリウム４．６ｇを加え、室温で１時間
攪拌してウィッティヒ反応剤を調製した。これに上記
（２−ａ）で得られた４−フェニルシクロヘキサノン−
２，２，６，６−ｄ4５．７ｇのＴＨＦ１０ｍｌ溶液を
−５℃で５分間で滴下した。室温で５時間攪拌した後、
水にあけ、ヘキサンを加え、有機層を分離した。トリフ
ェニルホスフィンオキシドの沈澱を濾別し、水で洗滌し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を溜去して
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ヘキサン／酢酸エチル＝５）を用いて精製して、４
−フェニルシクロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4カル
バルデヒドの油状物５．２ｇを得た。これはシクロヘキ
サン環のシス、トランス配置によるジアステレオマー混
合物である。これをエタノール５０ｍｌに溶解し、２０
％水酸化ナトリウム水溶液１ｍｌを加えて室温で３時間
攪拌した。水を加え１Ｎ塩酸で中和した後、反応生成物
を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を溜去して得られた粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸
エチル＝５）を用いて精製し、ヘキサンから再結晶させ
て、トランス−４−フェニルシクロヘキサン−２，２，
６，６−ｄ4カルバルデヒドの白色結晶３．１ｇを得
た。
【０１７１】（２−ｃ） トランス−１−フェニル−４
−（１−プロペニル）シクロヘキサン−３，３，５，５
−ｄ4の合成 ヨウ化エチルトリフェニルホスホニウム１．８ｇをＴＨ
Ｆ３ｍｌとトルエン１０ｍｌに懸濁し１５℃に冷却し
た。これにｔ−ブトキシカリウム０．５２ｇを加え、室
温で１時間攪拌してウィッティヒ反応剤を調製した。こ
れに、上記（２−ｂ）で得られたトランス−４−フェニ
ルシクロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4カルバルデヒ
ド０．６０ｇのトルエン２ｍｌ溶液を１５℃で５分間で
滴下した。室温で２時間攪拌した後、反応液を水にあ
け、トルエンを加え、有機層を分離した。有機層を濃縮
した後、ヘキサンを加え、トリフェニルホスフィンオキ
シドの沈澱を濾別し、水／メタノール混合溶媒（１／
１）で洗滌した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を溜去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン）を用いて精製して、トラン
ス−１−フェニル−４−（１−プロペニル）シクロヘキ
サン−３，３，５，５−ｄ4０．５６ｇを得た。
【０１７２】（２−ｄ） トランス−１−フェニル−４
−プロピルシクロヘキサン−３，３，５，５−ｄ4の合
成 上記（２−ｃ）で得られたトランス−１−フェニル−４
−（１−プロペニル）シクロヘキサン−３，３，５，５
−ｄ4の全量を、実施例（１−ｃ）において用いた触媒
をパラジウム炭素からラネーニッケルに代えて反応させ
た以外は実施例（１−ｃ）と全く同様にして、トランス
−１−フェニル−４−プロピルシクロヘキサン−３，
３，５，５−ｄ4の０．５５ｇを得た。
【０１７３】（２−ｅ） １−シアノ−４−（トランス
−４−プロピルシクロヘキシル−３，３，５，５−
ｄ4）ベンゼンの合成 上記（２−ｄ）で得られたトランス−１−フェニル−４
−プロピルシクロヘキサン−３，３，５，５−ｄ4の全
量を用い、上記（１−ｄ）次いで（１−ｅ）と同様にし
て、１−シアノ−（トランス−４−プロピルシクロヘキ
シル−３，３，５，５−ｄ4）ベンゼン０．２８ｇを得
た。この化合物の相転移温度は第１表に示した。
【０１７４】（実施例３） １−シアノ−２−フルオロ
−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−２，
２，６−ｄ3）ベンゼンの合成 実施例１において、ブロモベンゼンに代えて、３−フル
オロ−１−ブロモベンゼンを用いた以外は実施例１と同
様にして、１−シアノ−２−フルオロ−４−（トランス
−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベ
ンゼンを得た。この化合物の相転移温度は第１表に示し
た。
【０１７５】（実施例４） １−フルオロ−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，６−
ｄ3）ベンゼンの合成 実施例１において、ブロモベンゼンに代えて、４−フル
オロ−１−ブロモベンゼンを用い、４−プロピルシクロ
ヘキサノンに代えて、４−ペンチルシクロヘキサノンを
用いた以外は実施例１と同様にして、１−フルオロ−４
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，
６−ｄ3）ベンゼンを得た。この化合物の相転移温度は
第１表に示した。
【０１７６】（実施例５） １−メトキシ−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，６−
ｄ3）ベンゼンの合成 実施例１において、ブロモベンゼンに代えて、４−ブロ
モアニソールを用い、４−プロピルシクロヘキサノンに
代えて、４−ペンチルシクロヘキサノンを用いた以外は
実施例１と同様にして、１−メトキシ−４−（トランス
−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベ
ンゼンを得た。この化合物の相転移温度は第１表に示し
た。
【０１７７】（実施例６） １，２−ジフルオロ−４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，６
−ｄ3）ベンゼンの合成 実施例１において、ブロモベンゼンに代えて、１−ブロ
モ−３，４−ジフルオロベンゼンを用い、４−プロピル
シクロヘキサノンに代えて、４−ペンチルシクロヘキサ
ノンを用いた以外は実施例１と同様にして、１，２−ジ
フルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル−２，２，６−ｄ3）ベンゼンを得た。この化合物の
相転移温度は第１表に示した。
【０１７８】（実施例７） １−トリフルオロメトキシ
−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，
２，６−ｄ3）ベンゼンの合成 実施例１において、ブロモベンゼンに代えて、４−ブロ
モ−１−トリフルオロメトキシベンゼンを用い、４−プ
ロピルシクロヘキサノンに代えて、４−ペンチルシクロ
ヘキサノンを用いた以外は実施例１と同様にして、１−
トリフルオロメトキシ−４−（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンゼンを得た。
この化合物の相転移温度は第１表に示した。
【０１７９】（実施例８） １−メチル−４−（トラン
ス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）
ベンゼンの合成 実施例１において、ブロモベンゼンに代えて、４−ブロ
モトルエンを用い、４−プロピルシクロヘキサノンに代
えて、４−ペンチルシクロヘキサノンを用いた以外は実
施例１と同様にして、１−メチル−４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンゼ
ンを得た。この化合物の相転移温度は第１表に示した。
【０１８０】（実施例９） トランス−４−（トランス
−４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブチルシクロヘ
キサン−２，２，６，６−ｄ4の合成
【０１８１】
【化１００】
【０１８２】４−（トランス−４−プロピルシクロヘキ
シル）シクロヘキサノンを上記（１−ａ）と同様に重水
素化し、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシ
ル）シクロヘキサノン−２，２，６，６−ｄ4を得た。
これを上記（２−ｂ）と同様にウィッティヒ反応剤と反
応させて、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシ
ル）シクロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4カルバルデ
ヒドを得た。これを臭化プロピルトリフェニルホスホニ
ウムから調製したウィッティヒ反応剤と上記（２−ｃ）
と同様に反応させ、次いで上記（２−ｄ）と同様に水素
添加して、トランス−４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）−１−ブチルシクロヘキサン−２，２，
６，６−ｄ4を得た。この化合物の相転移温度は第１表
にまとめて示した。
【０１８３】（実施例１０） １−シアノ−４−［２−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，
６，６−ｄ4）エチル］ベンゼンの合成
【０１８４】
【化１０１】
【０１８５】上記（１−ａ）で得られた４−プロピルシ
クロヘキサノン−２，２，６，６−ｄ4を、塩化メトキ
シメチルトリフェニルホスホニウムから調製したウィッ
ティヒ反応剤と上記（２−ｂ）と同様に反応させて、ト
ランス−４−プロピルシクロヘキサン−２，２，６，６
−ｄ4カルバルデヒドを得た。これと同じウィッティヒ
反応剤との反応を繰り返し、トランス−４−プロピルシ
クロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4エタナールを得
た。これをトランス−４−プロピルシクロヘキサノン−
２，２，６，６−ｄ4に代えて用いた以外は、（１−
ｂ）〜（１−ｅ）と同様に反応させて、１−シアノ−４
−［２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−
２，２，６，６−ｄ4）エチル］ベンゼンを得た。相転
移温度は第１表にまとめて示した。
【０１８６】（実施例１１） １−シアノ−４−（トラ
ンス−４−エテニルシクロヘキシル−３，３，５，５−
ｄ4）ベンゼンの合成 上記（２−ｂ）で得られたトランス−４−フェニル−シ
クロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4カルバルデヒドを
ヨウ化メチルトリフェニルホスホニウムから調製したウ
ィッティヒ反応剤と上記（２−ｃ）と同様に反応させ
て、トランス−１−エテニル−４−フェニルシクロヘキ
サン−２，２，６，６−ｄ4を得た。これを以下、（１
−ｄ）次いで（１−ｅ）と同様に反応させて、１−シア
ノ−４−（トランス−４−エチニルシクロヘキシル−
３，３，５，５−ｄ4）ベンゼンを得た。この化合物の
相転移温度は第２表に示した。
【０１８７】（実施例１２） １−シアノ−４−［トラ
ンス−４−（トランス−１−プロペニル）シクロヘキシ
ル−３，３，５，５−ｄ4］ベンゼンの合成 実施例１１において、ヨウ化メチルトリフェニルホスホ
ニウムから調製したウィッティヒ反応剤に代えて、臭化
エチルトリフェニルホスホニウムから調製したウィッテ
ィヒ反応剤を用いた以外は実施例１１と同様にして、ト
ランス−１−（シス−１−プロペニル）−４−フェニル
シクロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4を得た。この化
合物１．０ｇをトルエン５ｍｌに溶解し、１０％塩酸１
０ｍｌを加えた。これにベンゼンスルフィン酸ナトリウ
ム０．２５ｇを加え、１０時間加熱還流させた。放冷
後、トルエン５０ｍｌを加えて水層を分離し、不溶物を
除去し、２％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水
で順次洗滌した。溶媒を減圧下に溜去して、トランス−
１−（トランス−１−プロペニル）−４−フェニルシク
ロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4及びトランス−１−
（シス−１−プロペニル）−４−フェニルシクロヘキサ
ン−２，２，６，６−ｄ4の重量比約３／１混合物を得
た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキ
サン／酢酸エチル）を用いて精製し、更にエタノールか
ら再結晶させて、トランス−１−（トランス−１−プロ
ペニル）−４−フェニルシクロヘキサン−２，２，６，
６−ｄ4０．６２ｇを得た。これを以下、（１−ｄ）次
いで（１−ｅ）と同様に反応させて、１−シアノ−４−
［トランス−４−（トランス−１−プロペニル）シクロ
ヘキシル−３，３，５，５−ｄ4］ベンゼンを得た。こ
の化合物の相転移温度は第２表に示した。
【０１８８】（実施例１３） ３，４−ジフルオロ−１
−［トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3］ベンゼン
の合成
【０１８９】
【化１０２】
【０１９０】（１３−ａ） ４−（トランス−４−プロ
ピルシクロヘキシル）シクロヘキサノンの重水素化 実施例（１−ａ）において、トランス−４−プロピルシ
クロヘキサノンに代えて、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノンを用いた以外は
（１−ａ）と同様にして、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン−２，２，６，６
−ｄ4を得た。
【０１９１】（１３−ｂ） ３，４−ジフルオロ−１−
［トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキ
シル）シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3］ベンゼンの
合成 実施例６において、４−ペンチルシクロヘキサノン−
２，２，６，６−ｄ4に代えて、上記（１３−ａ）で得
られた４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
シクロヘキサノン−２，２，６，６−ｄ4を用いた以外
は実施例６と同様にして、３，４−ジフルオロ−１−
［トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキ
シル）シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3］ベンゼンを
得た。この化合物の相転移温度は第２表に示した。
【０１９２】（実施例１４） ３，４−ジフルオロ−１
−［トランス−４−（トランス−４−ブチルシクロヘキ
シル）シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3］ベンゼンの
合成 実施例１３において、４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）シクロヘキサノンに代えて、４−（トラ
ンス−４−ブチルシクロヘキシル）シクロヘキサノンを
用いた以外は実施例１３と同様にして、３，４−ジフル
オロ−１−［トランス−４−（トランス−４−ブチルシ
クロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3］ベ
ンゼンを得た。この化合物の相転移温度は第２表に示し
た。
【０１９３】（実施例１５） ３，４−ジフルオロ−１
−［２−［トランス−４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，６，６−
ｄ4］エチル］ベンゼンの合成 （１５−ａ） ４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）シクロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4エタナ
ールの合成 上記（１３−ａ）で得られた４−（トランス−４−プロ
ピルシクロヘキシル）シクロヘキサノン−２，２，６，
６−ｄ4から、実施例１０の前半と同様にして、４−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキ
サン−２，２，６，６−ｄ4エタナールを得た。
【０１９４】（１５−ｂ） ３，４−ジフルオロ−１−
［２−［トランス−４−（トランス−４−プロピルシク
ロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，６，６−ｄ4］
エチル］ベンゼンの合成 １−ブロモ−３，４−ジフルオロベンゼンからグリニヤ
ール反応剤を調製し、これを上記（１５−ａ）で得られ
た４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シク
ロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4エタナールと、実施
例６と同様に反応させて、３，４−ジフルオロ−１−
［２−［トランス−４−（トランス−４−プロピルシク
ロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，６，６−ｄ4］
エチル］ベンゼンを得た。この化合物の相転移温度は第
２表に示した。
【０１９５】（実施例１６） ３，４−ジフルオロ−１
−［トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル−３，３，５，５−ｄ4）シクロヘキシル］ベン
ゼンの合成
【０１９６】
【化１０３】
【０１９７】（１６−ａ） ４−［トランス−４−
（３，４−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］シク
ロヘキサノン−２，２，６，６−ｄ4の合成 １−ブロモ−３，４−ジフルオロベンゼン及びマグネシ
ウムからＴＨＦ中で調製したグリニャール反応剤に、ビ
シクロヘキサン−４，４’−ジオンのモノエチレンアセ
タールのＴＨＦ溶液を氷冷下で滴下した。室温で１時間
反応させた後、常法通りに後処理して、４−［４−ヒド
ロキシ−４−（３，４−ジフルオロフェニル）シクロヘ
キシル］シクロヘキサノンエチレンアセタールの粗結晶
を得た。この粗結晶のトルエン溶液に少量の硫酸水素カ
リウムを加え、水を除きながら１０時間還流した。水を
加え、反応生成物をトルエンで抽出し、抽出液の溶媒を
溜去し、４−［４−（３，４−ジフルオロフェニル）−
３−シクロヘキセニル］シクロヘキサノンエチレンアセ
タールの白色結晶を得た。この結晶のトルエン溶液にト
リエチルアミンと触媒量のパラジウム炭素を加え、オー
トクレーブ中で水素圧５Ｋｇ／ｃｍ2で３時間反応させ
た。触媒を濾別し濃縮した後、得られた粗生成物をエタ
ノールから再結晶させて、４−［トランス−４−（３，
４−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］シクロヘキ
サノンエチレンアセタールの白色結晶を得た。このトル
エン溶液に蟻酸を加えて室温で４時間攪拌した。水を加
え、有機層を分離し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗滌
し乾燥した後、溶媒を溜去しエタノールから再結晶させ
て、４−［トランス−４−（３，４−ジフルオロフェニ
ル）シクロヘキシル］シクロヘキサノンの白色結晶を得
た。これを実施例（１−ａ）と同様に重水素化して、４
−［トランス−４−（３，４−ジフルオロフェニル）シ
クロヘキシル］シクロヘキサノン−２，２，６，６−ｄ
4の結晶を得た。
【０１９８】（１６−ｂ） ４−［トランス−４−
（３，４−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］シク
ロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4カルバルデヒドの合
成 上記（１６−ａ）で得られた４−［トランス−４−
（３，４−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］シク
ロヘキサノン−２，２，６，６−ｄ4から、実施例（２
−ｂ）と同様にして４−［トランス−４−（３，４−ジ
フルオロフェニル）シクロヘキシル］シクロヘキサン−
２，２，６，６−ｄ4カルバルデヒドを得た。
【０１９９】（１６−ｃ） ３，４−ジフルオロ−１−
［トランス−４−［トランス−４−（シス−１−プロペ
ニル）シクロヘキシル−３，３，５，５−ｄ4］シクロ
ヘキシル］ベンゼンの合成 上記（１６−ｂ）で得られた４−［トランス−４−
（３，４−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］シク
ロヘキサン−２，２，６，６−ｄ4カルバルデヒドか
ら、実施例（２−ｃ）と同様にして、３，４−ジフルオ
ロ−１−［トランス−４−［トランス−４−（シス−１
−プロペニル）シクロヘキシル−３，３，５，５−
ｄ4］シクロヘキシル］ベンゼンを得た。 （１６−ｄ） ３，４−ジフルオロ−１−［トランス−
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−３，
３，５，５−ｄ4）シクロヘキシル］ベンゼンの合成
上記（１６−ｃ）で得られた３，４−ジフルオロ−１−
［トランス−４−［トランス−４−（シス−１−プロペ
ニル）シクロヘキシル−３，３，５，５−ｄ 4］シクロ
ヘキシル］ベンゼンを、実施例（２−ｄ）と同様に水素
添加して、３，４−ジフルオロ−１−［トランス−４−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−３，３，
５，５−ｄ4）シクロヘキシル］ベンゼンを得た。この
化合物の相転移温度は第２表に示した。
【０２００】（実施例１７） ３，４−ジフルオロ−１
−［トランス−４−［トランス−４−（トランス−１−
プロペニル）シクロヘキシル−３，３，５，５−ｄ4］
シクロヘキシル］ベンゼンの合成 実施例（１６−ｃ）で得られた３，４−ジフルオロ−１
−［トランス−４−［トランス−４−（シス−１−プロ
ペニル）シクロヘキシル−３，３，５，５−ｄ 4］シク
ロヘキシル］ベンゼンを実施例１２と同様にして、側鎖
をトランス体に異性化して３，４−ジフルオロ−１−
［トランス−４−［トランス−４−（トランス−１−プ
ロペニル）シクロヘキシル−３，３，５，５−ｄ4］シ
クロヘキシル］ベンゼンを得た。この化合物の相転移温
度は第２表に示した。
【０２０１】（実施例１８） ３，４，５−トリフルオ
ロ−１−［トランス−４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3］ベ
ンゼンの合成 実施例１３において、１−ブロモ−３，４−ジフルオロ
ベンゼンに代えて、１−ブロモ−３，４，５−トリフル
オロベンゼンを用いた以外は実施例１３と同様にして、
３，４，５−トリフルオロ−１−［トランス−４−（ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル
−２，２，６−ｄ3］ベンゼンを得た。この化合物の相
転移温度は第２表に示した。
【０２０２】（実施例１９） ３，４，５−トリフルオ
ロ−１−［トランス−４−（トランス−４−ブチルシク
ロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3］ベン
ゼンの合成 実施例１４において、１−ブロモ−３，４−ジフルオロ
ベンゼンに代えて、１−ブロモ−３，４，５−トリフル
オロベンゼンを用いた以外は実施例１４と同様にして、
３，４，５−トリフルオロ−１−［トランス−４−（ト
ランス−４−ブチルシクロヘキシル）シクロヘキシル−
２，２，６−ｄ3］ベンゼンを得た。この化合物の相転
移温度は第２表に示した。
【０２０３】（実施例２０） ３，４，５−トリフルオ
ロ−１−［２−［トランス−４−（トランス−４−プロ
ピルシクロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，６，６
−ｄ4］エチル］ベンゼンの合成 実施例１５において、１−ブロモ−３，４−ジフルオロ
ベンゼンに代えて、１−ブロモ−３，４，５−トリフル
オロベンゼンを用いた以外は実施例１５と同様にして、
３，４，５−トリフルオロ−１−［２−［トランス−４
−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘ
キシル−２，２，６，６−ｄ4］エチル］ベンゼンを得
た。この化合物の相転移温度は第２表に示した。
【０２０４】（実施例２１） ４−トリフルオロメトキ
シ−１−［トランス−４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3］ベ
ンゼンの合成 実施例１３において、１−ブロモ−３，４−ジフルオロ
ベンゼンに代えて、４−ブロモ−１−トリフルオロメト
キシベンゼンを用いた以外は実施例１３と同様にして、
４−トリフルオロメトキシ−１−［トランス−４−（ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル
−２，２，６−ｄ3］ベンゼンを得た。この化合物の相
転移温度は第２表に示した。
【０２０５】（実施例２２） ３−フルオロ−４−シア
ノ−１−［トランス−４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3］ベ
ンゼンの合成 実施例３において、４−プロピルシクロヘキサノン−
２，２，６，６−ｄ4に代えて、４−（トランス−４−
プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノン−２，２，
６，６−ｄ4を用いた以外は実施例３と同様にして、３
−フルオロ−４−シアノ−１−［トランス−４−（トラ
ンス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル−
２，２，６−ｄ3］ベンゼンを得た。この化合物の相転
移温度は第２表に示した。
【０２０６】（実施例２３） ４−メチル−１−［トラ
ンス−４−［トランス−４−（トランス−１−プロペニ
ル）シクロヘキシル−３，３，５，５−ｄ4］シクロヘ
キシル］ベンゼンの合成 ビシクロヘキサン−４，４’−ジオンのモノエチレンア
セタールと４−ブロモアニソールから、実施例１６と同
様にして４−［トランス−４−（４−メチルフェニル）
シクロヘキシル］シクロヘキサノン−２，２，６，６−
ｄ4を得た。これを実施例１７と同様にして、４−メチ
ル−１−［トランス−４−［トランス−４−（トランス
−１−プロペニル）シクロヘキシル−３，３，５，５−
ｄ4］シクロヘキシル］ベンゼンの白色結晶を得た。こ
の化合物の相転移温度は第３表に示した。
【０２０７】（実施例２４） ４−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）−４’−エ
チルビフェニルの合成
【０２０８】
【化１０４】
【０２０９】（２４−ａ） （トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンゼンの合成 ４−プロピルシクロヘキサノンに代えて、４−ペンチル
シクロヘキサノンを用いた以外は実施例（１−ａ）〜
（１−ｃ）と同様にして、（トランス−４−ペンチルシ
クロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンゼンを得た。
【０２１０】（２４−ｂ） １−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ 3）−４−ヨード
ベンゼンの合成 上記（２４−ａ）で得られた（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンゼン５７ｇ、
ヨウ素３７．５ｇ、過ヨウ素酸２水和物２８．２ｇを酢
酸２００ｍｌ、硫酸７ｍｌ、水４０ｍｌ及び１，２−ジ
クロロエタン２５ｍｌの混合溶媒に溶解し、１時間加熱
攪拌した。放冷後、２０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液
２００ｍｌを加え、しばらく攪拌した後、反応生成物を
ヘキサン５００ｍｌで抽出した。有機層を水洗し乾燥し
た後、溶媒を溜去し、エタノールから再結晶させて、１
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，
６−ｄ3）−４−ヨードベンゼン５８ｇを得た。
【０２１１】（２４−ｃ） ４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ 3）−４’−エチ
ルビフェニルの合成 ４−ブロモエチルベンゼン１５ｇ及びマグネシウム２．
４ｇからＴＨＦ１００ｍｌ中でグリニヤール反応剤を調
製した。これに上記（２４−ｂ）で得た１−（トランス
−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）−
４−ヨードベンゼン１９．５ｇ及びテトラキス（トリフ
ェニルホスフィン）パラジウム（０）１．２５ｇのＴＨ
Ｆ１００ｍｌ溶液を３０℃で滴下した。１時間攪拌した
後、１％塩酸を加え、反応生成物を酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を水で洗滌した後、乾燥し、溶媒を溜去し
て、得られた油状の粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ヘキサン）を用いて精製して、４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ
3）−４’−エチルビフェニル１９．０ｇを得た。この
化合物の相転移温度は第３表に示した。
【０２１２】（実施例２５） ４−（トランス−４−プ
ロピルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）−３’，
４’−ジフルオロビフェニルの合成 実施例（２４−ｂ）において、（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ベンゼンに代え
て、（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−２，
２，６−ｄ3）ベンゼンを用い、更に（２４−ｃ）にお
いて、４−ブロモエチルベンゼンに代えて、１−ブロモ
−３，４−ジフルオロベンゼンを用いた以外は実施例２
４と同様にして、４−（トランス−４−プロピルシクロ
ヘキシル−２，２，６−ｄ3）−３’，４’−ジフルオ
ロビフェニルを得た。この化合物の相転移温度は第３表
に示した。
【０２１３】（実施例２６） ４−（トランス−４−プ
ロピルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）−４’−シ
アノビフェニルの合成 実施例２５において、１−ブロモ−３，４−ジフルオロ
ベンゼンに代えて、ブロモベンゼンを用いた以外は実施
例２５と同様にして、４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ビフェニルを得た。
これを実施例（１−ｄ）、（１−ｅ）と同様にシアノ化
して、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−
２，２，６−ｄ3）−４’−シアノビフェニルを得た。
この化合物の相転移温度は第３表に示した。
【０２１４】（実施例２７） ３，４−ジフルオロ−１
−［４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−
２，２，６−ｄ3）フェニル］エチニルベンゼンの合成
【０２１５】
【化１０５】
【０２１６】（２７−ａ） ４−［４−（トランス−４
−プロピルシクルヘキシル−２，２，６−ｄ3）フェニ
ル］−２−メチル−３−ブチン−２−オールの合成 実施例２５で得られた１−（トランス−４−ペンチルシ
クロヘキシル−２，２，６−ｄ3）−４−ヨードベンゼ
ン１４．４ｇと２−メチル−３−ブチン−２−オール
５．１ｇを、トリエチルアミン４０ｍｌに溶解した。ヨ
ウ化銅（Ｉ）０．１５ｇとジクロロ−ビス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）０．２ｇを加え、室
温で１時間攪拌した。水１００ｍｌを加え、反応生成物
を酢酸エチル１００ｍｌで抽出し、有機層を水、飽和食
塩水で順次洗滌し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（トルエン／酢酸エチル＝４／１）を用いて精製して、
４−［４−（トランス−４−プロピルシクルヘキシル−
２，２，６−ｄ3）フェニル］−２−メチル−３−ブチ
ン−２−オール１２．２ｇを得た。
【０２１７】（２７−ｂ） １−エチニル−４−（トラ
ンス−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６−
ｄ3）ベンゼンの合成 水素化ナトリウム２．０ｇをトルエン３０ｍｌに懸濁
し、上記（２７−ａ）で得られた４−［４−（トランス
−４−プロピルシクルヘキシル−２，２，６−ｄ 3）フ
ェニル］−２−メチル−３−ブチン−２−オール全量の
トルエン７０ｍｌ溶液を、室温で３０分間で滴下した。
更に１時間加熱還流させた後、室温まで放冷した。これ
を水１００ｍｌに加え、有機層を分離した後、水、飽和
食塩水で順次洗滌し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ヘキサン）を用いて精製して、１−エチニル−４−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６
−ｄ3）ベンゼン８．８ｇを得た。
【０２１８】（２７−ｃ） ３，４−ジフルオロ−１−
［４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−２，
２，６−ｄ3）フェニル］エチニルベンゼンの合成 １−エチニル−４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル−２，２，６−ｄ3）ベンゼン３．５ｇと１−ブ
ロモ−３，４−ジフルオロベンゼン３．０ｇをトリエチ
ルアミン１２ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）３０ｍｌに溶解した。ヨウ化銅（Ｉ）０．０
６ｇとジクロロ−ビス（トリフェニルホスフィン）パラ
ジウム（ＩＩ）０．０６ｇを加え、室温で３０分間攪拌
し、更に３時間加熱還流させた。室温まで冷却し、水１
００ｍｌを加え、反応生成物をトルエン１００ｍｌで抽
出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗滌し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン）を用いて精製
し、更にエタノールから再結晶させて、３，４−ジフル
オロ−１−［４−（トランス−４−プロピルシクロヘキ
シル−２，２，６−ｄ 3）フェニル］エチニルベンゼン
３．８ｇを得た。この化合物の相転移温度は第３表に示
した。
【０２１９】（実施例２８） ４−ブチル−１−［４−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル−２，２，６
−ｄ3）フェニル］エチニルベンゼンの合成 実施例（２７−ｃ）において、１−ブロモ−３，４−ジ
フルオロベンゼンに代えて、４−ブロモ−１−エチルベ
ンゼンを用いた以外は実施例２７と同様にして、４−ブ
チル−１−［４−（トランス−４−プロピルシクロヘキ
シル−２，２，６−ｄ3）フェニル］エチニルベンゼン
を得た。この化合物の相転移温度は第３表に示した。
【０２２０】（実施例２９） ４−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−４’−（トランス−４−プロ
ピルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ビフェニルの
合成 （２９−ａ） １−ブロモ−４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）ベンゼンの合成 トランス−４−ペンチルシクロヘキシルベンゼン１１．
１ｇをジクロロメタン３０ｍｌに溶解し、鉄粉０．１ｇ
及びヨウ素０．０５ｇを加えた。これにジクロロメタン
２０ｍｌに溶解した臭素７．７ｇを０℃以下で滴下し
た。−１０℃で６時間攪拌した後、室温に戻した。水、
次いで亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、反応生成物
をヘキサンで抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水
溶液、水、飽和食塩水で洗滌し、乾燥した。溶媒を溜去
した後、得られた粗結晶をエタノールから再結晶させ
て、１−ブロモ−４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）ベンゼン４．８ｇを得た。
【０２２１】（２９−ｂ） ４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−４’−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ3）ビフェニルの合
成 上記（２９−ａ）で得られた１−ブロモ−４−（トラン
ス−４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゼン２．４ｇか
ら、実施例（２４−ｃ）と同様にしてグリニヤール反応
剤を調製した。これを、実施例２５で得られた１−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，６−ｄ
3）−４−ヨードベンゼン２．２ｇと（２４−ｃ）と同
様に反応させて、４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）−４’−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル−２，２，６−ｄ3）ビフェニル２．６ｇを得
た。この化合物の相転移温度は第３表に示した。
【０２２２】（実施例３０） ２−フルオロ−４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４’−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，２，６−
ｄ3）ビフェニルの合成 市販の２−フルオロ−４−ブロモビフェニルからグリニ
ヤール反応剤を調製し、これを−４−ペンチルシクロヘ
キサノンと、実施例（１−ｂ）、（１−ｃ）と同様に反
応させて、２−フルオロ−４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）ビフェニルを得た。これを実施例
（２９−ａ）と同様に臭素化し、２−フルオロ−４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４’−ブ
ロモビフェニルを得た。これからグリニヤール反応剤を
調製し、実施例４と同様に４−ペンチルシクロヘキサノ
ン−２，２，６，６−ｄ4と反応させて、２−フルオロ
−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
４’−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル−２，
２，６−ｄ3）ビフェニルを得た。この化合物の相転移
温度は第３表に示した。
【０２２３】（応用例１） 液晶組成物の調製 以下の組成からなる母体液晶（Ａ）
【０２２４】
【化１０６】
【０２２５】（式中、シクロヘキサン環はトランス配置
を表わす。）を調製したところ、５４．５℃以下でネマ
チック（Ｎ）相を示した。この母体液晶（Ａ）８５重量
％及び実施例１３で得られた第１表中の（Ｎｏ．１３）
【０２２６】
【化１０７】
【０２２７】の３，４−ジフルオロ−１−［トランス−
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロ
ヘキシル−２，２，６−ｄ3］ベンゼン１５重量％から
なる混合液晶（Ｂ）を調製した。この組成物のＮ相の上
限温度は６２．２℃であった。この組成物を−２０℃で
保存したところ、１カ月経過後も、結晶の析出は観察で
きなかった。
【０２２８】（比較例１）母体液晶（Ａ）８５重量％及
び重水素化されていない式（Ｒ−１）
【０２２９】
【化１０８】
【０２３０】の３，４−ジフルオロ−１−［トランス−
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロ
ヘキシル］ベンゼン１５重量％からなる混合液晶（Ｃ）
を調製した。この組成物のＮ相の上限温度は６２．３℃
であった。
【０２３１】次に、この組成物を−２０℃で保存したと
ころ、５日後には結晶の析出が認められた。従って、本
発明の一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、汎用の液晶
材料との相溶性に非常に優れ、得られる液晶組成物は低
温域でも結晶が析出しにくく、実用的な液晶材料である
ことが明らかである。
【０２３２】
【発明の効果】本発明の一般式（Ｉ）で表わされる重水
素置換されたシクロヘキサン環を有する液晶性化合物
は、実施例にも示したように市販の入手容易な化合物か
ら工業的にも容易に製造することができる。また、この
化合物は低粘性でしかも他の液晶化合物あるいは液晶組
成物との相溶性に非常に優れている。しかもこの一般式
（Ｉ）で表わされる化合物を含有する液晶組成物は、低
温でも結晶が析出しにくく、これを用いた液晶表示装置
は駆動可能な温度範囲を特に低温側に拡大することがで
きる。従って、本発明の一般式（Ｉ）で表わされる化合
物は、実用的な液晶材料の構成成分として極めて有用で
ある。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ // Ｃ０９Ｋ 19/30 Ｃ０９Ｋ 19/30 Ｃ０７Ｍ 5:00 Ｃ０７Ｍ 5:00 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C09K 19/30 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (37)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立的に、フッ素原子、
    塩素原子、シアノ基、シアナト基（ＯＣＮ）、チオシア
    ナト基（ＳＣＮ）、トリフルオロメトキシ基（ＯＣ
    Ｆ3）、ジフルオロメトキシ基（ＯＣＦ2Ｈ）、２，２，
    ２−トリフルオロエトキシ基（ＯＣＨ2ＣＦ3）、トリフ
    ルオロメチル基（ＣＦ3）、−ＯＲ、−ＣＯＯＲ、−Ｏ
    ＣＯＲ又はＲを表わし、Ｒは炭素原子数１〜２０のアル
    キル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子
    数２〜２０のアルコキシアルキル基を表わすが、Ｙ1及
    びＹ2のうち少なくとも一方は−ＯＲ、−ＣＯＯＲ、−
    ＯＣＯＲ又はＲを表わし、Ｚ、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3及びＺ4は
    それぞれ独立的に単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝Ｃ
    Ｈ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2
    Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）4−、−（ＣＨ2）3−
    Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ2）3−を表わし、環Ａは一般式
    （ＩＩ） 【化２】 を表わし、Ｘ1〜Ｘ10はそれぞれ独立的に、水素原子
    （Ｈ）又は重水素原子（Ｄ）を表わすが、このうち少な
    くとも１個は重水素原子（Ｄ）を表わし、環Ｋ、環Ｌ、
    環Ｊ、環Ｍ及び環Ｎはそれぞれ独立的に、トランス−
    １，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニ
    レン基、フッ素原子若しくはシアノ基により置換された
    トランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェ
    ニレン基、フッ素原子、塩素原子シアノ基若しくはメチ
    ル基により置換された１，４−フェニレン基、１，３−
    ジオキサン−２，６−ジイル基、ピリミジン−２，５−
    ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピラジン−
    ２，５−ジイル基又は一般式（ＩＩＩ） 【化３】 を表わし、Ｘ11〜Ｘ20はそれぞれ独立的に、水素原子
    （Ｈ）又は重水素原子（Ｄ）を表わすが、このうち少な
    くとも１個は重水素原子（Ｄ）を表わし、前記環Ａと互
    いに同一であっても異なっていてもよく、ｋ、ｌ、ｍ及
    びｎはそれぞれ独立的に、０又は１を表わすが、ｋ＋ｌ
    ＋ｍ＋ｎは０、１又は２である。）で表わされる化合
    物。
  2. 【請求項２】 一般式（Ｉ−１）で表わされる請求項１
    記載の化合物。 【化４】
  3. 【請求項３】 環Ｊはトランス−１，４−シクロヘキシ
    レン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−フェ
    ニレン基、フッ素原子により置換された１，４−フェニ
    レン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表わされ
    る基を表わし、Ｚは単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わす
    ことを特徴とする請求項２記載の化合物。
  4. 【請求項４】 一般式（Ｉ−１ａ） 【化５】 （式中、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3はそれぞれ独立的に、水素原
    子又はフッ素原子を表わす。）で表わされる請求項３記
    載の化合物。
  5. 【請求項５】 一般式（Ｉ−１ｂ） 【化６】 （式中、環Ｃは 【化７】 を表わす。）で表わされる請求項３記載の化合物。
  6. 【請求項６】 一般式（Ｉ−１ｃ） 【化８】 （式中、環Ｄはトランス−１，４−シクロヘキシレン基
    又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表わされる基を
    表わす。）で表わされる請求項３記載の化合物。
  7. 【請求項７】 一般式（Ｉ−２）で表わされる請求項１
    記載の化合物。 【化９】
  8. 【請求項８】 環Ｊはトランス−１，４−シクロヘキシ
    レン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−フェ
    ニレン基、フッ素原子若しくはメチル基により置換され
    た１，４−フェニレン基又は請求項１記載の一般式（Ｉ
    ＩＩ）で表わされる基を表わし、環Ｍは１，４−フェニ
    レン基、フッ素原子若しくはメチル基により置換された
    １，４−フェニレン基を表わし、Ｚ及びＺ3はそれぞれ
    独立的に、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−又は−Ｃ≡Ｃ−を表
    わすことを特徴とする請求項７記載の化合物。
  9. 【請求項９】 一般式（Ｉ−２ａ） 【化１０】 （式中、環Ｄはトランス−１，４−シクロヘキシレン基
    又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表わされる基を
    表わし、Ｚ及びＺ3はそれぞれ独立的に、単結合又は−
    ＣＨ2ＣＨ2−を表わすが、少なくとも一方は単結合を表
    わす。）で表わされる請求項８記載の化合物。
  10. 【請求項１０】 一般式（Ｉ−２ｂ） 【化１１】 （式中、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3はそれぞれ独立的に、水素原
    子又はフッ素原子を表わす。）で表わされる請求項８記
    載の化合物。
  11. 【請求項１１】 一般式（Ｉ−２ｃ） 【化１２】 （式中、Ｚは単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、
    Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｗ4及びＷ5はそれぞれ独立的に、水素
    原子又はフッ素原子を表わすが、そのうちフッ素原子は
    多くとも３個までである。）で表わされる請求項８記載
    の化合物。
  12. 【請求項１２】 一般式（Ｉ−２ｄ） 【化１３】 （式中、Ｚは単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、
    Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及びＷ4はそれぞれ独立的に、水素原子又
    はフッ素原子を表わす。）で表わされる請求項８記載の
    化合物。
  13. 【請求項１３】 一般式（Ｉ−２ｅ） 【化１４】 （式中、Ｚは単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、Ｗ1
    及びＷ2はそれぞれ独立的に、水素原子又はフッ素原子
    を表わす。）で表わされる請求項８記載の化合物。
  14. 【請求項１４】 一般式（Ｉ−２ｆ） 【化１５】 （式中、Ｚは単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、Ｗ1
    及びＷ2はそれぞれ独立的に、水素原子又はフッ素原子
    を表わす。）で表わされる請求項８記載の化合物。
  15. 【請求項１５】 一般式（Ｉ−３）で表わされる請求項
    １記載の化合物。 【化１６】
  16. 【請求項１６】 環Ｋはトランス−１，４−シクロヘキ
    シレン基又は１，４−シクロヘキセニレン基を表わし、
    環Ｊは１，４−フェニレン基又はフッ素原子により置換
    された１，４−フェニレン基を表わし、Ｚ及びＺ1はそ
    れぞれ独立的に、単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わすこ
    とを特徴とする請求項１５記載の化合物。
  17. 【請求項１７】 一般式（Ｉ−３ａ） 【化１７】 （式中、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3はそれぞれ独立的に、水素原
    子又はフッ素原子を表わし、Ｚ及びＺ1のうち少なくと
    も一方は単結合を表わす。）で表わされる請求項１６記
    載の化合物。
  18. 【請求項１８】 一般式（Ｉ−３ｂ） 【化１８】 （式中、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3はそれぞれ独立的に、水素原
    子又はフッ素原子を表わす。）で表わされる請求項１６
    記載の化合物。
  19. 【請求項１９】 一般式（Ｉ−４）で表わされる請求項
    １記載の化合物。 【化１９】
  20. 【請求項２０】 環Ｊはトランス−１，４−シクロヘキ
    シレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−フ
    ェニレン基、フッ素原子により置換された１，４−フェ
    ニレン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表わさ
    れる基を表わし、環Ｍはトランス−１，４−シクロヘキ
    シレン基、１，４−フェニレン基、フッ素原子により置
    換された１，４−フェニレン基又は請求項１記載の一般
    式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わし、環Ｎはトランス
    −１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン
    基、フッ素原子により置換された１，４−フェニレン基
    又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表わされる基を
    表わし、Ｚ、Ｚ3及びＺ4はそれぞれ独立的に、単結合、
    −ＣＨ2ＣＨ2−又は−Ｃ≡Ｃ−を表わすことを特徴とす
    る請求項１９記載の化合物。
  21. 【請求項２１】 一般式（Ｉ−４ａ） 【化２０】 （式中、Ｚ及びＺ4はそれぞれ独立的に、単結合又は−
    ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、環Ｄはトランス−１，４−シク
    ロヘキシレン基又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で
    表わされる基を表わす。）で表わされる請求項２０記載
    の化合物。
  22. 【請求項２２】 一般式（Ｉ−４ｂ） 【化２１】 （式中、Ｚ4は単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、Ｗ1
    及びＷ2はそれぞれ独立的に、水素原子又はフッ素原子
    を表わす。）で表わされる請求項２０記載の化合物。
  23. 【請求項２３】 一般式（Ｉ−４ｃ） 【化２２】 （式中、環Ｄはトランス−１，４−シクロヘキシレン基
    又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表わされる基を
    表わし、Ｚ及びＺ3はそれぞれ独立的に、単結合又は−
    ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、Ｗ1及びＷ2は水素原子又はフッ
    素原子を表わす。）で表わされる請求項２０記載の化合
    物。
  24. 【請求項２４】 一般式（Ｉ−４ｄ） 【化２３】 （式中、環Ｄはトランス−１，４−シクロヘキシレン基
    又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表わされる基を
    表わし、Ｚ及びＺ3はそれぞれ独立的に、単結合又は−
    ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及びＷ4はそれぞ
    れ独立的に、水素原子又はフッ素原子を表わす。）で表
    わされる請求項２０記載の化合物。
  25. 【請求項２５】 一般式（Ｉ−４ｅ） 【化２４】 （式中、環Ｄはトランス−１，４−シクロヘキシレン基
    又は請求項１記載の一般式（ＩＩＩ）で表わされる基を
    表わし、Ｚ及びＺ3はそれぞれ独立的に、単結合又は−
    ＣＨ2ＣＨ2−を表わし、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及びＷ4はそれぞ
    れ独立的に、水素原子又はフッ素原子を表わす。）で表
    わされる請求項２０記載の化合物。
  26. 【請求項２６】 一般式（Ｉ−４ｆ） 【化２５】 （式中、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、水素原子又は
    フッ素原子を表わす。）で表わされる請求項２０記載の
    化合物。
  27. 【請求項２７】 一般式（Ｉ−５）で表わされる請求項
    １記載の化合物。 【化２６】
  28. 【請求項２８】 環Ｊは１，４−フェニレン基又はフッ
    素原子により置換された１，４−フェニレン基を表わ
    し、環Ｋ及びＬが共にトランス−１，４−シクロヘキシ
    レン基を表わし、Ｚ1及びＺ2が共に単結合を表わし、Ｚ
    が単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わすことを特徴とする
    請求項２７記載の化合物。
  29. 【請求項２９】 一般式（Ｉ−５ａ） 【化２７】 （式中、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、水素原子又は
    フッ素原子を表わす。）で表わされる請求項２８記載の
    化合物。
  30. 【請求項３０】 一般式（Ｉ−６）で表わされる請求項
    １記載の化合物。 【化２８】
  31. 【請求項３１】 環Ｋはトランス−１，４−シクロヘキ
    シレン基又は１，４−シクロヘキセニレン基を表わし、
    環Ｊは１，４−フェニレン基又はフッ素原子により置換
    された１，４−フェニレン基を表わし、環Ｍは１，４−
    フェニレン基又はフッ素原子により置換された１，４−
    フェニレン基を表わし、Ｚ、Ｚ1及びＺ3はそれぞれ独立
    的に、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−又は−Ｃ≡Ｃ−を表わす
    ことを特徴とする請求項３０記載の化合物。
  32. 【請求項３２】 一般式（Ｉ−６ａ） 【化２９】 （式中、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、水素原子又は
    フッ素原子を表わし、Ｚ及びＺ1はそれぞれ独立的に、
    単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わすが、少なくとも一方
    は単結合を表わす。）で表わされる請求項３１記載の化
    合物。
  33. 【請求項３３】 一般式（Ｉ−６ｂ） 【化３０】 （式中、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及びＷ4はそれぞれ独立的に、水
    素原子又はフッ素原子を表わし、Ｚ及びＺ1はそれぞれ
    独立的に、単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わすが、少な
    くとも一方は単結合を表わす。）で表わされる請求項３
    １記載の化合物。
  34. 【請求項３４】 一般式（Ｉ−６ｃ） 【化３１】 （式中、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及びＷ4はそれぞれ独立的に、水
    素原子又はフッ素原子を表わし、Ｚ及びＺ1はそれぞれ
    独立的に、単結合又は−ＣＨ2ＣＨ2−を表わすが、少な
    くとも一方は単結合を表わす。）で表わされる請求項３
    １記載の化合物。
  35. 【請求項３５】 一般式（Ｉ−６ｄ） 【化３２】 （式中、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に、水素原子又は
    フッ素原子を表わす。）で表わされる請求項３１記載の
    化合物。
  36. 【請求項３６】 一般式（ＩＩ）で表わされる基におけ
    るＸ1〜Ｘ10のうち多くとも任意の８個まで、及び一般
    式（ＩＩＩ）で表わされる基におけるＸ11〜Ｘ20のうち
    多くとも任意の８個までが重水素原子（Ｄ）を表わすこ
    とを特徴とする請求項４、５、６、９、１０、１１、１
    ２、１３、１４、１７、１８、２１、２２、２３、２
    ４、２５、２６、２９、３２又は３３記載の化合物。
  37. 【請求項３７】 Ｙ1及びＹ2がそれぞれ独立的に、炭素
    原子数１〜１２のアルキル基、アルコキシル基、炭素原
    子数２〜１２のアルケニル基、フッ素原子、シアノ基、
    トリフルオロメチル基を表わすが、Ｙ1及びＹ2のうち少
    なくとも一方は炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭
    素原子数２〜１２のアルケニル基を表わすことを特徴と
    する請求項３６記載の化合物。
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