JP3482769B2 - 低硬度ゴム組成物 - Google Patents
低硬度ゴム組成物Info
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- JP3482769B2 JP3482769B2 JP15482796A JP15482796A JP3482769B2 JP 3482769 B2 JP3482769 B2 JP 3482769B2 JP 15482796 A JP15482796 A JP 15482796A JP 15482796 A JP15482796 A JP 15482796A JP 3482769 B2 JP3482769 B2 JP 3482769B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、低硬度ゴム組成物
に関する。更に詳しくは、磁気または光ハードディスク
装置用シール材の成形材料などとして好適に用いられる
低硬度ゴム組成物に関する。
に関する。更に詳しくは、磁気または光ハードディスク
装置用シール材の成形材料などとして好適に用いられる
低硬度ゴム組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータ、ワードプロセッサを始め
とする磁気または光ディスクを利用した装置には、デー
ターメモリーのためにそれぞれにハードディスク装置を
備えている。このようなハードディスクを収納するユニ
ットは、それの機能上外部からのゴミ、埃、ガス等を遮
断する必要がある。
とする磁気または光ディスクを利用した装置には、デー
ターメモリーのためにそれぞれにハードディスク装置を
備えている。このようなハードディスクを収納するユニ
ットは、それの機能上外部からのゴミ、埃、ガス等を遮
断する必要がある。
【０００３】そのため、ガスケット、パッキン、Oリン
グを始めとする種々のシール材料が用いられているが、
いずれも電子部品と接して用いられるために、適用でき
るシール材料は非常に制限を受けている。その制限と
は、ゴミや埃などに対するシール性が完全であることは
当然であるが、装置内部の磁気または光ディスクを汚染
させないように、シールゴム材料からのアウトガス(イ
オウ、臭素、塩素等の腐食性ガス、シロキサン、オレフ
ィン等の有機ガス)の発生のないこと、更にシール組込
み性の点から低硬度ゴム材であることなどである。
グを始めとする種々のシール材料が用いられているが、
いずれも電子部品と接して用いられるために、適用でき
るシール材料は非常に制限を受けている。その制限と
は、ゴミや埃などに対するシール性が完全であることは
当然であるが、装置内部の磁気または光ディスクを汚染
させないように、シールゴム材料からのアウトガス(イ
オウ、臭素、塩素等の腐食性ガス、シロキサン、オレフ
ィン等の有機ガス)の発生のないこと、更にシール組込
み性の点から低硬度ゴム材であることなどである。
【０００４】ところで、電気部品材料として汎用のシリ
コーンゴムの場合にはシロキサンガスの発生がみられ、
また低硬度ゴムとするために一般に使用されているゴム
用軟化剤配合ゴムを用いると有機ガスが発生し、いずれ
もディスクの曇り汚染の原因となる。更に、発泡ウレタ
ンゴムを用いるとへたり性が悪く、ディスクを交換した
際などに再度そのままシールとして使用できないなどの
問題がみられる。
コーンゴムの場合にはシロキサンガスの発生がみられ、
また低硬度ゴムとするために一般に使用されているゴム
用軟化剤配合ゴムを用いると有機ガスが発生し、いずれ
もディスクの曇り汚染の原因となる。更に、発泡ウレタ
ンゴムを用いるとへたり性が悪く、ディスクを交換した
際などに再度そのままシールとして使用できないなどの
問題がみられる。
【０００５】より具体的には、低硬度(50IRHD以下)のゴ
ム成形品を加硫成形する場合には実用強度も必要なこと
から、カーボンブラック等の補強剤を加えると同時に多
量の可塑剤を添加することが必要となり、その場合可塑
剤が加熱によって揮発成分となり、アウトガスを発生さ
せる。エチレン・プロピレン系共重合ゴムの場合にあっ
ても、従来はパラフィン系またはナフテン系の可塑剤を
多量に含有せしめた油展タイプの成形材料で低硬度加硫
成形品を成形していたが、この場合には発生する有機ガ
スによるディスクの曇り汚染という問題がしばしば生じ
ていた。
ム成形品を加硫成形する場合には実用強度も必要なこと
から、カーボンブラック等の補強剤を加えると同時に多
量の可塑剤を添加することが必要となり、その場合可塑
剤が加熱によって揮発成分となり、アウトガスを発生さ
せる。エチレン・プロピレン系共重合ゴムの場合にあっ
ても、従来はパラフィン系またはナフテン系の可塑剤を
多量に含有せしめた油展タイプの成形材料で低硬度加硫
成形品を成形していたが、この場合には発生する有機ガ
スによるディスクの曇り汚染という問題がしばしば生じ
ていた。
【０００６】一方、可塑剤を用いないで低硬度加硫成形
品を得るために、エチレン・プロピレン共重合ゴム100
重量部に分子量3000〜10000の液状ＥＰＤＭを1〜50重量
部配合したゴム組成物が提案されているが(特開平7-33
0,991号公報)、このゴム組成物からは有機ガスの発生な
しに可塑化低硬度加硫成形品を得ることができるもの
の、50IRHD以下の低硬度材料を得るためには、多量の液
状ＥＰＤＭを用いる必要があり、混練加工性、ゴム強度
の低下を免れない。更に、イオウ加硫されるため、ジエ
ン成分を含有する液状ＥＰＤＭが用いられている。
品を得るために、エチレン・プロピレン共重合ゴム100
重量部に分子量3000〜10000の液状ＥＰＤＭを1〜50重量
部配合したゴム組成物が提案されているが(特開平7-33
0,991号公報)、このゴム組成物からは有機ガスの発生な
しに可塑化低硬度加硫成形品を得ることができるもの
の、50IRHD以下の低硬度材料を得るためには、多量の液
状ＥＰＤＭを用いる必要があり、混練加工性、ゴム強度
の低下を免れない。更に、イオウ加硫されるため、ジエ
ン成分を含有する液状ＥＰＤＭが用いられている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低硬
度でしかもアウトガスの発生もなく、従って磁気または
光ハードディスク装置用シール材の成形材料などとして
好適に用いられるゴム組成物を提供することにある。
度でしかもアウトガスの発生もなく、従って磁気または
光ハードディスク装置用シール材の成形材料などとして
好適に用いられるゴム組成物を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
エチレン・プロピレン・ジエン３元共重合ゴム１００重
量部、数平均分子量１０４〜１０５のエチレン・α―オ
レフィン共重合ゴム２０〜１００重量部、数平均分子量
１０３〜１０５のポリオクテネマー１０〜８０重量部お
よび有機過酸化物よりなり、ＩＲＨＤ硬度（ＡＳＴＭＤ
―１４１５準拠）が３０〜５０の加硫成形品を与える低
硬度ゴム組成物によって達成される。
エチレン・プロピレン・ジエン３元共重合ゴム１００重
量部、数平均分子量１０４〜１０５のエチレン・α―オ
レフィン共重合ゴム２０〜１００重量部、数平均分子量
１０３〜１０５のポリオクテネマー１０〜８０重量部お
よび有機過酸化物よりなり、ＩＲＨＤ硬度（ＡＳＴＭＤ
―１４１５準拠）が３０〜５０の加硫成形品を与える低
硬度ゴム組成物によって達成される。
【０００９】
【発明の実施の形態】エチレン・プロピレン・ジエン３
元共重合ゴムとしては、各種のジエン成分を少量共重合
させたもの、実際には各種の市販ＥＰＤＭを用いること
ができる。
元共重合ゴムとしては、各種のジエン成分を少量共重合
させたもの、実際には各種の市販ＥＰＤＭを用いること
ができる。
【００１０】エチレン・α-オレフィン共重合ゴムとし
ては、エチレンにプロピレン、ブテン-1、ペンテン-1、
ヘキセン-1、ヘプテン-1、オクテン-1等を共重合させた
共重合ゴムであって、共重合されるα-オレフィンはこ
れらの混合物であってもよく、一般にはエチレン・プロ
ピレン共重合ゴム(ＥＰＲ)が用いられる。これらのエチ
レン・α-オレフィン共重合ゴムは、数平均分子量が104
〜105のものが、ＥＰＤＭ 100重量部当り約20〜100重量
部、好ましくは約30〜80重量部の割合で用いられる。分
子量範囲がこのように限定されるのは、必要な可塑化効
果を得るためであり、また混合割合がこのような範囲に
限定されるのは低硬度化および混練加工性の観点からで
ある。
ては、エチレンにプロピレン、ブテン-1、ペンテン-1、
ヘキセン-1、ヘプテン-1、オクテン-1等を共重合させた
共重合ゴムであって、共重合されるα-オレフィンはこ
れらの混合物であってもよく、一般にはエチレン・プロ
ピレン共重合ゴム(ＥＰＲ)が用いられる。これらのエチ
レン・α-オレフィン共重合ゴムは、数平均分子量が104
〜105のものが、ＥＰＤＭ 100重量部当り約20〜100重量
部、好ましくは約30〜80重量部の割合で用いられる。分
子量範囲がこのように限定されるのは、必要な可塑化効
果を得るためであり、また混合割合がこのような範囲に
限定されるのは低硬度化および混練加工性の観点からで
ある。
【００１１】なお、混練加工性および強度を実質的に損
なうことなく可塑化効果を更に高めるために、少量(Ｅ
ＰＤＭ 100重量部当り約20重量部以下、好ましくは約5
〜15重量部)の液状エチレン・α-オレフィン共重合ゴム
を併用することもできる。
なうことなく可塑化効果を更に高めるために、少量(Ｅ
ＰＤＭ 100重量部当り約20重量部以下、好ましくは約5
〜15重量部)の液状エチレン・α-オレフィン共重合ゴム
を併用することもできる。
【００１２】また、ポリオクテネマーとしては、シクロ
オクテン またはシクロオクテンダイマー のメタテーシスポリマー(金属原子を重合触媒とするト
ランス二重結合シクロオクテンのメタテーシス重合法で
得られたポリマー)であって、数平均分子量103〜105の
ものが、ＥＰＤＭ 100重量部当り約10〜80重量部、好ま
しくは約20〜60重量部の割合で用いられる。分子量範囲
がこのように限定されるのは、必要な可塑化効果を得る
ためであり、また混合割合がこのような範囲に限定され
るのは低硬度化、混練加工性および材料強度の観点から
である。
オクテン またはシクロオクテンダイマー のメタテーシスポリマー(金属原子を重合触媒とするト
ランス二重結合シクロオクテンのメタテーシス重合法で
得られたポリマー)であって、数平均分子量103〜105の
ものが、ＥＰＤＭ 100重量部当り約10〜80重量部、好ま
しくは約20〜60重量部の割合で用いられる。分子量範囲
がこのように限定されるのは、必要な可塑化効果を得る
ためであり、また混合割合がこのような範囲に限定され
るのは低硬度化、混練加工性および材料強度の観点から
である。
【００１３】 有機過酸化物としては、一般に用いられ
ているベンゾイルパーオキサイド、ジ第３ブチルパーオ
キサイド、ジクミルパーオキサイド、第３ブチルクミル
パーオキサイド、１，３−ジ（第３ブチルパーオキシ）
イソプロピルベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ
（第３ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル
−２，５−ジ（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、
ｍ−トレイルパーオキサイド、ジプロピオニルパーオキ
サイド等が、ＥＰＤＭ１００重量部当り約０．２〜１０
重量部、好ましくは約０．５〜８重量部程度用いられ
る。
ているベンゾイルパーオキサイド、ジ第３ブチルパーオ
キサイド、ジクミルパーオキサイド、第３ブチルクミル
パーオキサイド、１，３−ジ（第３ブチルパーオキシ）
イソプロピルベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ
（第３ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル
−２，５−ジ（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、
ｍ−トレイルパーオキサイド、ジプロピオニルパーオキ
サイド等が、ＥＰＤＭ１００重量部当り約０．２〜１０
重量部、好ましくは約０．５〜８重量部程度用いられ
る。
【００１４】以上の各成分を必須成分とする組成物の調
製は、ニーダ、バンバリーミキサ、インタミックス、オ
ープンロール等を用いて混練することによって行われ
る。その際、得られるゴムの加硫成形品の硬度がIRHD30
〜50となるのを阻害しない割合において、ゴムの配合剤
として一般的に用いられているカーボンブラック充填
剤、２価金属酸化物または水酸化物受酸剤、滑剤、多官
能性架橋助剤(トリアリルイソシアヌレート、N,N´-m-
フェニレンビスマレイミド等)、加硫促進剤などを適宜
配合することができる。ただし、ゴム用可塑剤、有機系
老化防止剤、イオウ含有加硫促進剤などアウトガス発生
源となるものの添加は行われないことが望ましい。
製は、ニーダ、バンバリーミキサ、インタミックス、オ
ープンロール等を用いて混練することによって行われ
る。その際、得られるゴムの加硫成形品の硬度がIRHD30
〜50となるのを阻害しない割合において、ゴムの配合剤
として一般的に用いられているカーボンブラック充填
剤、２価金属酸化物または水酸化物受酸剤、滑剤、多官
能性架橋助剤(トリアリルイソシアヌレート、N,N´-m-
フェニレンビスマレイミド等)、加硫促進剤などを適宜
配合することができる。ただし、ゴム用可塑剤、有機系
老化防止剤、イオウ含有加硫促進剤などアウトガス発生
源となるものの添加は行われないことが望ましい。
【００１５】組成物の加硫成形は、射出成形機、圧縮成
形機等を用いて、約170〜230℃の温度で一般に行われ
る。
形機等を用いて、約170〜230℃の温度で一般に行われ
る。
【００１６】
【発明の効果】ＥＰＤＭにエチレン・α-オレフィン共
重合ゴムおよびポリオクテネマーの両者を配合すること
により、ゴムの可塑化による低硬度化(IRHD30〜50)が達
成され、また有機過酸化物による架橋構造が形成される
ため、低分子物質の揮発がなく、アウトガスの発生やデ
ィスク曇りのない加硫形成品を得ることができる。ま
た、低分子の液状ＥＰＤＭを用いたときのような混練加
工性や材料強度の低下といった問題もみられない。
重合ゴムおよびポリオクテネマーの両者を配合すること
により、ゴムの可塑化による低硬度化(IRHD30〜50)が達
成され、また有機過酸化物による架橋構造が形成される
ため、低分子物質の揮発がなく、アウトガスの発生やデ
ィスク曇りのない加硫形成品を得ることができる。ま
た、低分子の液状ＥＰＤＭを用いたときのような混練加
工性や材料強度の低下といった問題もみられない。
【００１７】従って、本発明に係る低硬度ゴム組成物
は、磁気または光ハードディスク装置用シール材への加
硫成形が有効に行われるばかりではなく、ビデオカメラ
等の遮光シールやその他の電子装置のダストシール等へ
の有効な利用を図ることができる。
は、磁気または光ハードディスク装置用シール材への加
硫成形が有効に行われるばかりではなく、ビデオカメラ
等の遮光シールやその他の電子装置のダストシール等へ
の有効な利用を図ることができる。
【００１８】
【実施例】次に、実施例について本発明を説明する。
【００１９】実施例１
ＥＰＤＭ(日本合成ゴム製品JSR EP33) 100重量部
エチレン・α-オレフィン共重合ゴム 40 〃
[三井石化製品XLL-10：
数平均分子量5×104、ムーニー粘度ML1+4(100℃) 5]
ポリオクテネマー 30 〃
(ヒュルス社製品ベステネマー8012、数平均分子量5×104)
FTカーボンブラック 25 〃
酸化亜鉛 3 〃
ステアリン酸 0.5 〃
トリアリルイソシアヌレート 2 〃
ジクミルパーオキサイド 2 〃
以上の各配合成分を3Ｌニーダーで混練した後オープン
ロールを用いてシート生地を作製し、これを170℃、10
分間の加硫条件下でゴムシート(150×150×2mm)に圧縮
成形した。
ロールを用いてシート生地を作製し、これを170℃、10
分間の加硫条件下でゴムシート(150×150×2mm)に圧縮
成形した。
【００２０】比較例１
実施例１において、エチレン・α-オレフィン共重合ゴ
ム量が10重量部に、またポリオクテネマー量が5重量部
にそれぞれ変更された。
ム量が10重量部に、またポリオクテネマー量が5重量部
にそれぞれ変更された。
【００２１】比較例２
実施例１において、エチレン・α-オレフィン共重合ゴ
ムおよびポリオクテネマーを用いずに、液状エチレン・
α-オレフィン共重合ゴム(三井石化製品HC-2000：数平
均分子量4×103、動粘度35,000cst)を70重量部用いる
と、混練時にゴムが液状となってまとまらず、加硫ゴム
シートが成形できなかった。
ムおよびポリオクテネマーを用いずに、液状エチレン・
α-オレフィン共重合ゴム(三井石化製品HC-2000：数平
均分子量4×103、動粘度35,000cst)を70重量部用いる
と、混練時にゴムが液状となってまとまらず、加硫ゴム
シートが成形できなかった。
【００２２】実施例２
ＥＰＤＭ(三井石化製品EPT1045) 100重量部
エチレン・α-オレフィン共重合ゴム 60 〃
[三井石化製品XLM-12：
数平均分子量8×104、ムーニー粘度ML1+4(100℃) 10]
ポリオクテネマー 30 〃
(ヒュルス社製品ベステネマー6213、数平均分子量4×104)
SRFカーボンブラック 25 〃
活性亜鉛華 3 〃
パルミチン酸 0.5 〃
トリアリルイソシアヌレート 3 〃
1,3-ジ(第3ブチルパーオキシ)イソプロピルベンゼン 2 〃
以上の各配合成分を１Ｌインタミックスで混練した後オ
ープンロールを用いてシート生地を作製し、これを170
℃、8分間の加硫条件下でゴムシート(150×150×2mm)に
圧縮成形した。
ープンロールを用いてシート生地を作製し、これを170
℃、8分間の加硫条件下でゴムシート(150×150×2mm)に
圧縮成形した。
【００２３】比較例３
実施例２において、エチレン・α-オレフィン共重合ゴ
ム量を120重量部に、またポリオクテネマー量を100重量
部にそれぞれ変更すると、混練時にゴムが液状となって
まとまらず、加硫ゴムシートが成形できなかった。
ム量を120重量部に、またポリオクテネマー量を100重量
部にそれぞれ変更すると、混練時にゴムが液状となって
まとまらず、加硫ゴムシートが成形できなかった。
【００２４】比較例４
実施例２において、エチレン・α-オレフィン共重合ゴ
ムおよびポリオクテネマーを用いずに、油展ＥＰＤＭ
(住友化学製品エスプレン400)50重量部およびパラフィ
ン系可塑剤(アデカアーガス製品アデカサイザー P-380)
20重量部が用いられた。
ムおよびポリオクテネマーを用いずに、油展ＥＰＤＭ
(住友化学製品エスプレン400)50重量部およびパラフィ
ン系可塑剤(アデカアーガス製品アデカサイザー P-380)
20重量部が用いられた。
【００２５】実施例３
ＥＰＤＭ(日本合成ゴム製品JSR EP22) 50重量部
〃 (三井石化製品EPT4045) 50 〃
エチレン・α-オレフィン共重合ゴム(XLL-10) 30 〃
液状エチレン・α-オレフィン共重合ゴム(HC-2000) 10 〃
ポリオクテネマー(ベステネマー8012) 40 〃
FEFカーボンブラック 20 〃
酸化亜鉛 5 〃
ステアリン酸 0.5 〃
N,N´-m-フェニレンビスマレイミド 2 〃
ジクミルパーオキサイド 2.5 〃
以上の各配合成分を用い、実施例１と同様にしてゴムシ
ートを圧縮成形した。
ートを圧縮成形した。
【００２６】比較例５
実施例３において、他のエチレン・α-オレフィン共重
合ゴム[三井石化製品XLH-17：数平均分子量1.5×105、
ムーニー粘度ML1+4(100℃) 15]が30重量部用いられた。
合ゴム[三井石化製品XLH-17：数平均分子量1.5×105、
ムーニー粘度ML1+4(100℃) 15]が30重量部用いられた。
【００２７】比較例６
実施例３において、エチレン・α-オレフィン共重合ゴ
ムが用いられず、液状エチレン・α-オレフィン共重合
ゴム(三井石化製品HC-600：数平均分子量 1.5×103、動
粘度10,000cst)が30重量部用いられた。
ムが用いられず、液状エチレン・α-オレフィン共重合
ゴム(三井石化製品HC-600：数平均分子量 1.5×103、動
粘度10,000cst)が30重量部用いられた。
【００２８】以上の各実施例および比較例で得られた加
硫ゴムシートについて、次の各項目の測定を行った。 硬度(IRHD)：ASTM D-1415準拠 引張強さ、伸び、圧縮永久歪(80℃、70時間)：JIS K-63
01準拠 ディスクの曇り試験：ゴムシートを磁気ハードディスク
の上に置き、50℃、70時間後のディスクの曇りの有無を
目視で観察 アウトガスの有無：ガスクロマトグラフィー-質量分析
計による
硫ゴムシートについて、次の各項目の測定を行った。 硬度(IRHD)：ASTM D-1415準拠 引張強さ、伸び、圧縮永久歪(80℃、70時間)：JIS K-63
01準拠 ディスクの曇り試験：ゴムシートを磁気ハードディスク
の上に置き、50℃、70時間後のディスクの曇りの有無を
目視で観察 アウトガスの有無：ガスクロマトグラフィー-質量分析
計による
【００２９】得られた結果は、次の表に示される。
表
実施例 比較例
測定項目 １ ２ ３ １ ４ ５ ６
硬度 (IRHD) 45 38 40 65 45 60 42
引張強さ (kgf/cm2) 75 65 92 89 26 85 30
伸び (%) 400 420 450 210 180 300 160
圧縮永久歪 (%) 8 9 6 15 35 13 30
ディスクの曇り なし なし なし なし あり なし あり
アウトガスの有無 なし なし なし なし あり なし あり
【００３０】以上の結果から、次のようなことがいえ
る。 実施例１〜３：低硬度でディスクの曇り、アウトガスの
発生がなく、しかも混練加工性、実用物性が共に良好で
ある 比較例１、３：エチレン・α-オレフィン共重合ゴム、
ポリオクテネマー量が規定量以下だと、ディスクの曇
り、アウトガスの発生はないものの、硬度、圧縮永久歪
が共に高くなる(比較例１) 一方、これらを規定量以上で用いると、混練時にゴムが
液状となって加硫成形ができない(比較例３) 比較例２、４：エチレン・α-オレフィン共重合ゴム、
ポリオクテネマーを用いずに、それらの代わりに、液状
エチレン・α-オレフィン共重合ゴムを用いると加硫成
形ができず(比較例２)、油展ＥＰＤＭおよび可塑剤を用
いると、強度が小さくなるばかりではなく圧縮永久歪も
大きく劣化し、ディスクの曇り、アウトガスの発生がみ
られる(比較例４) 比較例５ ：規定された以上の数平均分子量を有する
エチレン・α-オレフィン共重合ゴムを用いると、ディ
スクの曇り、アウトガスの発生はないものの、硬度、圧
縮永久歪が共に高くなる 比較例６ ：ポリオクテネマーが用いられた場合で
も、液状のエチレン・α-オレフィン共重合ゴムが用い
られた場合には可塑化効果がみられ、また硬度は小さい
ものの、強度、圧縮永久歪が悪化し、ディスクの曇り、
アウトガスの発生もみられるようになる
る。 実施例１〜３：低硬度でディスクの曇り、アウトガスの
発生がなく、しかも混練加工性、実用物性が共に良好で
ある 比較例１、３：エチレン・α-オレフィン共重合ゴム、
ポリオクテネマー量が規定量以下だと、ディスクの曇
り、アウトガスの発生はないものの、硬度、圧縮永久歪
が共に高くなる(比較例１) 一方、これらを規定量以上で用いると、混練時にゴムが
液状となって加硫成形ができない(比較例３) 比較例２、４：エチレン・α-オレフィン共重合ゴム、
ポリオクテネマーを用いずに、それらの代わりに、液状
エチレン・α-オレフィン共重合ゴムを用いると加硫成
形ができず(比較例２)、油展ＥＰＤＭおよび可塑剤を用
いると、強度が小さくなるばかりではなく圧縮永久歪も
大きく劣化し、ディスクの曇り、アウトガスの発生がみ
られる(比較例４) 比較例５ ：規定された以上の数平均分子量を有する
エチレン・α-オレフィン共重合ゴムを用いると、ディ
スクの曇り、アウトガスの発生はないものの、硬度、圧
縮永久歪が共に高くなる 比較例６ ：ポリオクテネマーが用いられた場合で
も、液状のエチレン・α-オレフィン共重合ゴムが用い
られた場合には可塑化効果がみられ、また硬度は小さい
ものの、強度、圧縮永久歪が悪化し、ディスクの曇り、
アウトガスの発生もみられるようになる
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C08L 23/04 - 23/24
C08L 45/00
Claims (2)
- 【請求項１】 エチレン・プロピレン・ジエン３元共重
合ゴム１００重量部、数平均分子量１０４〜１０５のエ
チレン・α―オレフィン共重合ゴム２０〜１００重量
部、数平均分子量１０３〜１０５のポリオクテネマー１
０〜８０重量部および有機過酸化物よりなり、ＩＲＨＤ
硬度（ＡＳＴＭＤ―１４１５準拠）が３０〜５０の加硫
成形品を与える低硬度ゴム組成物。 - 【請求項２】 磁気または光ハードディスク装置用シー
ル材の成形材料として用いられる請求項１記載の低硬度
ゴム組成物。
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