JP3473950B2 - ホログラム媒体およびプロセス - Google Patents
ホログラム媒体およびプロセスInfo
- Publication number
- JP3473950B2 JP3473950B2 JP2000521416A JP2000521416A JP3473950B2 JP 3473950 B2 JP3473950 B2 JP 3473950B2 JP 2000521416 A JP2000521416 A JP 2000521416A JP 2000521416 A JP2000521416 A JP 2000521416A JP 3473950 B2 JP3473950 B2 JP 3473950B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- oligomer
- epoxide monomer
- independently
- unsubstituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 30
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 22
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 88
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 claims description 41
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 38
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 31
- -1 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Chemical group 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 16
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 12
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N cyclotetrasiloxane Chemical compound O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 19
- 230000008859 change Effects 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 9
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;iron(3+) Chemical compound [Fe+3].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OUHYGBCAEPBUNA-UHFFFAOYSA-N 5,12-bis(phenylethynyl)naphthacene Chemical compound C1=CC=CC=C1C#CC(C1=CC2=CC=CC=C2C=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C#CC1=CC=CC=C1 OUHYGBCAEPBUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012656 cationic ring opening polymerization Methods 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- IDLFZVILOHSSID-OVLDLUHVSA-N corticotropin Chemical compound C([C@@H](C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](CCSC)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC=1NC=NC=1)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H](CC=1C2=CC=CC=C2NC=1)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC(O)=CC=1)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](CC(N)=O)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(O)=O)NC(=O)[C@@H](N)CO)C1=CC=C(O)C=C1 IDLFZVILOHSSID-OVLDLUHVSA-N 0.000 description 2
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical group C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 2
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- CNOHWNUIQSHFEJ-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopenta-2,4-dien-1-yl-2-propan-2-ylbenzene;iron Chemical compound [Fe].CC(C)C1=CC=CC=C1C1C=CC=C1 CNOHWNUIQSHFEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000703 Cerium Chemical class 0.000 description 1
- 235000013175 Crataegus laevigata Nutrition 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001268 Ferrocerium Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 101100463797 Rattus norvegicus Pgrmc1 gene Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000347391 Umbrina cirrosa Species 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- CRAWONLWQCFZRH-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylphenyl)iodanium Chemical compound CC1=CC=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1C CRAWONLWQCFZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZANIVSBRPQCSNV-UHFFFAOYSA-N bis(diphenylsilyloxy)-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SiH](C=1C=CC=CC=1)O[SiH](C=1C=CC=CC=1)O[SiH](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZANIVSBRPQCSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000003340 mental effect Effects 0.000 description 1
- PHLASVAENYNAOW-UHFFFAOYSA-N methyl-bis[[methyl(diphenyl)silyl]oxy]-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C)(C=1C=CC=CC=1)O[Si](C=1C=CC=CC=1)(C)O[Si](C)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PHLASVAENYNAOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003930 superacid Substances 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Description
【０００１】本発明は、ホログラム記録媒体およびこの
媒体を用いるためのプロセスに関する。
媒体を用いるためのプロセスに関する。
【０００２】体積相（ｖｏｌｕｍｅ−ｐｈａｓｅ）ホロ
グラム形成についての従来技術のプロセスにおいて、干
渉縞が、ホログラム記録媒体の内部で形成され、この媒
体は、少なくとも一つの重合可能モノマーまたはオリゴ
マーと、高分子のバインダーとの均一混合物を含有し；
重合可能モノマーまたはオリゴマーは、干渉縞を形成す
るために用いられる放射に対し、もちろん感応性である
か感受性でなければならない。干渉縞の照射された領域
において、モノマーまたはオリゴマーは重合を起こし
て、バインダーの屈折率とは異なる屈折率を有するポリ
マーを形成する。モノマーまたはオリゴマーの照射され
た領域への拡散は、結果的にこれらの領域からバインダ
ーが化学的に分離し、および非照射領域でのその濃縮
が、モノマーまたはオリゴマーから形成されたポリマー
とバインダーとの間で、空間的な分離を引き起こし、そ
れによって、ホログラム形成に必要な屈折率変調を提供
する。典型的には、このホログラムの露光後、化学線放
射に対する媒体の結像後全面露光が、モノマーまたはオ
リゴマーの重合を完了させるため、およびホログラムを
固定するために必要である。
グラム形成についての従来技術のプロセスにおいて、干
渉縞が、ホログラム記録媒体の内部で形成され、この媒
体は、少なくとも一つの重合可能モノマーまたはオリゴ
マーと、高分子のバインダーとの均一混合物を含有し；
重合可能モノマーまたはオリゴマーは、干渉縞を形成す
るために用いられる放射に対し、もちろん感応性である
か感受性でなければならない。干渉縞の照射された領域
において、モノマーまたはオリゴマーは重合を起こし
て、バインダーの屈折率とは異なる屈折率を有するポリ
マーを形成する。モノマーまたはオリゴマーの照射され
た領域への拡散は、結果的にこれらの領域からバインダ
ーが化学的に分離し、および非照射領域でのその濃縮
が、モノマーまたはオリゴマーから形成されたポリマー
とバインダーとの間で、空間的な分離を引き起こし、そ
れによって、ホログラム形成に必要な屈折率変調を提供
する。典型的には、このホログラムの露光後、化学線放
射に対する媒体の結像後全面露光が、モノマーまたはオ
リゴマーの重合を完了させるため、およびホログラムを
固定するために必要である。
【０００３】例えば、ＪＰ−Ａ−０５−０４０１４は、
ホログラム記録媒体が、エチレン性不飽和重合可能モノ
マー（単数または複数）、少ない割合で光ラジカル重合
開始剤およびエポキシ樹脂（これがバインダーのようで
ある）を含むことを記載する。ホログラム露光の際にこ
の媒体は、モノマーおよびエポキシ樹脂から誘導された
ポリマーの効果的な分離を起こし、そして、この露光さ
れた媒体は、紫外線照射または熱処理とともに後露光に
よって完全に硬化し得ると述べられている。
ホログラム記録媒体が、エチレン性不飽和重合可能モノ
マー（単数または複数）、少ない割合で光ラジカル重合
開始剤およびエポキシ樹脂（これがバインダーのようで
ある）を含むことを記載する。ホログラム露光の際にこ
の媒体は、モノマーおよびエポキシ樹脂から誘導された
ポリマーの効果的な分離を起こし、そして、この露光さ
れた媒体は、紫外線照射または熱処理とともに後露光に
よって完全に硬化し得ると述べられている。
【０００４】さらに、公知のホログラム記録のための乾
式法媒体（Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔｄｅ Ｎｅｍｏｕｒ
ｓ，Ｉｎｃ．，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌａｗａｒ
ｅ、Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃ
ａによって市販されている）は、ポリマー状バインダ
ー、ラジカル開始重合可能モノマー、および光開始剤
（本明細書で使用される用語は、重合開始剤を含み、こ
れは、可視領域外照射、例えば紫外線照射に対して感応
性である）を含む。このようなラジカル重合した媒体
は、多くの不利（これは大気中の酸素によるこのラジカ
ル重合の厳しい阻害を含む）を被り、これの予防として
ホログラム媒体からの酸素除去が必要とされる。さらに
ラジカル重合は、しばしば実質的な媒体の収縮をもたら
し、これはホログラム像のゆがみという結果を伴う。さ
らに、ラジカル重合の結果、しばしば、高強度相反不全
（ｈｉｇｈ ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ ｒｅｃｉｐｒｏｃｉ
ｔｙｆａｉｌｕｒｅ）が起こり、そして低い空間的振動
数成分を有するホログラムを有効に記録することは困難
である。前記の市販デュポン媒体は、長い熱的後露光処
理を必要とし、ホログラムの屈折率変調をさらに発展し
得、この熱処理はホログラム収縮を増加し、そして縞模
様を歪ます。最終的に、このデュポン媒体は、光学的不
均一性を被り、これは材料の信号−ノイズ比を減少さ
せ、そして、この半固体性はコーティング厚の変化をも
たらす傾向がある。
式法媒体（Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔｄｅ Ｎｅｍｏｕｒ
ｓ，Ｉｎｃ．，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌａｗａｒ
ｅ、Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃ
ａによって市販されている）は、ポリマー状バインダ
ー、ラジカル開始重合可能モノマー、および光開始剤
（本明細書で使用される用語は、重合開始剤を含み、こ
れは、可視領域外照射、例えば紫外線照射に対して感応
性である）を含む。このようなラジカル重合した媒体
は、多くの不利（これは大気中の酸素によるこのラジカ
ル重合の厳しい阻害を含む）を被り、これの予防として
ホログラム媒体からの酸素除去が必要とされる。さらに
ラジカル重合は、しばしば実質的な媒体の収縮をもたら
し、これはホログラム像のゆがみという結果を伴う。さ
らに、ラジカル重合の結果、しばしば、高強度相反不全
（ｈｉｇｈ ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ ｒｅｃｉｐｒｏｃｉ
ｔｙｆａｉｌｕｒｅ）が起こり、そして低い空間的振動
数成分を有するホログラムを有効に記録することは困難
である。前記の市販デュポン媒体は、長い熱的後露光処
理を必要とし、ホログラムの屈折率変調をさらに発展し
得、この熱処理はホログラム収縮を増加し、そして縞模
様を歪ます。最終的に、このデュポン媒体は、光学的不
均一性を被り、これは材料の信号−ノイズ比を減少さ
せ、そして、この半固体性はコーティング厚の変化をも
たらす傾向がある。
【０００５】体積ホログラムの重要な可能性の一つは、
デジタルデータ記憶にあり、体積ホログラムの三次元的
性質（これは、高い情報密度および達成されうるパラレ
ル読み込み／書き込みの能力に結びついている）は、大
容量のデジタルデータ記憶の用途に大変適した体積ホロ
グラムを与え、理論上、テラバイト（１０12バイト）範
囲における記憶容量を有するコンパクトデバイスが、容
易に達成されるべきである。しかし、ラジカル重合した
ホログラム媒体の前記のこれらの不利（特に深刻なこと
として、この媒体がデジタルデータ記憶に用いられよう
とする場合の特に長い熱処理）は、今までホログラムデ
ータ記憶デバイスの発展を妨げていた。
デジタルデータ記憶にあり、体積ホログラムの三次元的
性質（これは、高い情報密度および達成されうるパラレ
ル読み込み／書き込みの能力に結びついている）は、大
容量のデジタルデータ記憶の用途に大変適した体積ホロ
グラムを与え、理論上、テラバイト（１０12バイト）範
囲における記憶容量を有するコンパクトデバイスが、容
易に達成されるべきである。しかし、ラジカル重合した
ホログラム媒体の前記のこれらの不利（特に深刻なこと
として、この媒体がデジタルデータ記憶に用いられよう
とする場合の特に長い熱処理）は、今までホログラムデ
ータ記憶デバイスの発展を妨げていた。
【０００６】ＷＯ ９７／１３１８３は、フリーラジカ
ル重合を必要とせずに、カチオン重合によるホログラム
記録媒体を記載し、それによって、フリーラジカル重合
を用いる媒体の前記の問題を除去している。しかし、デ
ジタルデータ記憶用ホログラム記録媒体におけるもう一
つの重要な検討事項は、露光中の媒体の収縮である。デ
ジタルデータの体積相ホログラム（これは、ランダム化
したフェーズマスク（ｒａｎｄｏｍｉｚｅｄ ｐｈａｓ
ｅ ｍａｓｋ）と必要に応じて関連して、透明度または
アドレス可能空間光変調器を用いて記録された；例え
ば、Ｆ．Ｍ．Ｓｍｉｔｓ ａｎｄ Ｌ．Ｅ．Ｇａｌｌａ
ｇｈｅｒ，Ｄｅｓｉｇｎ ｃｏｎｓｉｄｅｒａｔｉｏｎ
ｓ ｆｏｒ ａ ｓｅｍｉｐｅｒｍａｎｅｎｔ ｏｐｔ
ｉｃａｌｍｅｍｏｒｙ，Ｂｅｌｌ Ｓｙｓｔ．Ｔｅｃ
ｈ．Ｊ．， ４６，１２６７（１９６７），Ｃ．Ｂ．Ｂ
ｕｒｃｋｈａｒｄｔ ａｎｄ Ｅ．Ｔ．Ｄｏｈｅｒｔ
ｙ，Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．，８，２４７９（１９６９），
Ｌ．ｄ’Ａｕｒｉａ，Ｊ．Ｐ．Ｈｕｉｇｎａｒｄ，Ｃ．
Ｓｌｅｚａｋ，ａｎｄ Ｅ．Ｓｐｉｔｚ，Ｅｘｐｅｒｉ
ｍｅｎｔａｌ ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ ｒｅａｄ−ｗ
ｒｉｔｅ ｍｅｍｏｒｙｕｓｉｎｇ ３-Ｄ ｓｔｏｒ
ａｇｅ，Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．，１３（４），８０８
（１９７４），ａｎｄ Ｆ．Ｈ．Ｍｏｋ，Ａｎｇｌｅ−
ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｅｄ ｓｔｏｒａｇｅ ｏｆ ５０
００ ｈｏｌｏｇｒａｍｓ ｉｎ ｌｉｔｈｉｕｍ ｎ
ｉｏｂａｔｅ，Ｏｐｔ．Ｌｅｔｔ．，１８（１１），９
１５（１９９３）を参照のこと）は、ページに整理さ
れ、格子傾斜角度（ｇｒａｔｉｎｇｓｌａｎｔ ａｎｇ
ｌｅｓ）の範囲を構成し、各角度は、参照ビームを伴う
シグナルビームの異なる空間的振動数成分の干渉から形
成されている。パラフェイズコーディング、二進法のラ
ンダム化配列に基づくデータコーディング、およびＨａ
ｍｍｉｎｇ、Ｒｅｅｄ−Ｓｏｌｏｍｏｎにおけるデータ
表示、およびチャンネルコードの使用といったコード化
スキーム（ｅｎｃｏｇｉｎｇ ｓｃｈｅｍｅ）は、回折
効率（ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃ
ｙ）における不均一性の効果を最小化することにより体
積ホログラムデータ記憶の信頼性を向上させる。しか
し、エラー訂正コードが、さまざまなノイズ寄与の影響
を減少させるが、エラー訂正コードは、記憶容量におけ
るいくらかの減少を本質的に含む。よって、デジタルデ
ータ記憶の使用のためにホログラム記録材料を設計する
場合、結像中媒体の体積収縮から生じるもののようなノ
イズに対する物理的な材料の寄与を最小化することが重
要である。
ル重合を必要とせずに、カチオン重合によるホログラム
記録媒体を記載し、それによって、フリーラジカル重合
を用いる媒体の前記の問題を除去している。しかし、デ
ジタルデータ記憶用ホログラム記録媒体におけるもう一
つの重要な検討事項は、露光中の媒体の収縮である。デ
ジタルデータの体積相ホログラム（これは、ランダム化
したフェーズマスク（ｒａｎｄｏｍｉｚｅｄ ｐｈａｓ
ｅ ｍａｓｋ）と必要に応じて関連して、透明度または
アドレス可能空間光変調器を用いて記録された；例え
ば、Ｆ．Ｍ．Ｓｍｉｔｓ ａｎｄ Ｌ．Ｅ．Ｇａｌｌａ
ｇｈｅｒ，Ｄｅｓｉｇｎ ｃｏｎｓｉｄｅｒａｔｉｏｎ
ｓ ｆｏｒ ａ ｓｅｍｉｐｅｒｍａｎｅｎｔ ｏｐｔ
ｉｃａｌｍｅｍｏｒｙ，Ｂｅｌｌ Ｓｙｓｔ．Ｔｅｃ
ｈ．Ｊ．， ４６，１２６７（１９６７），Ｃ．Ｂ．Ｂ
ｕｒｃｋｈａｒｄｔ ａｎｄ Ｅ．Ｔ．Ｄｏｈｅｒｔ
ｙ，Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．，８，２４７９（１９６９），
Ｌ．ｄ’Ａｕｒｉａ，Ｊ．Ｐ．Ｈｕｉｇｎａｒｄ，Ｃ．
Ｓｌｅｚａｋ，ａｎｄ Ｅ．Ｓｐｉｔｚ，Ｅｘｐｅｒｉ
ｍｅｎｔａｌ ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ ｒｅａｄ−ｗ
ｒｉｔｅ ｍｅｍｏｒｙｕｓｉｎｇ ３-Ｄ ｓｔｏｒ
ａｇｅ，Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．，１３（４），８０８
（１９７４），ａｎｄ Ｆ．Ｈ．Ｍｏｋ，Ａｎｇｌｅ−
ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｅｄ ｓｔｏｒａｇｅ ｏｆ ５０
００ ｈｏｌｏｇｒａｍｓ ｉｎ ｌｉｔｈｉｕｍ ｎ
ｉｏｂａｔｅ，Ｏｐｔ．Ｌｅｔｔ．，１８（１１），９
１５（１９９３）を参照のこと）は、ページに整理さ
れ、格子傾斜角度（ｇｒａｔｉｎｇｓｌａｎｔ ａｎｇ
ｌｅｓ）の範囲を構成し、各角度は、参照ビームを伴う
シグナルビームの異なる空間的振動数成分の干渉から形
成されている。パラフェイズコーディング、二進法のラ
ンダム化配列に基づくデータコーディング、およびＨａ
ｍｍｉｎｇ、Ｒｅｅｄ−Ｓｏｌｏｍｏｎにおけるデータ
表示、およびチャンネルコードの使用といったコード化
スキーム（ｅｎｃｏｇｉｎｇ ｓｃｈｅｍｅ）は、回折
効率（ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃ
ｙ）における不均一性の効果を最小化することにより体
積ホログラムデータ記憶の信頼性を向上させる。しか
し、エラー訂正コードが、さまざまなノイズ寄与の影響
を減少させるが、エラー訂正コードは、記憶容量におけ
るいくらかの減少を本質的に含む。よって、デジタルデ
ータ記憶の使用のためにホログラム記録材料を設計する
場合、結像中媒体の体積収縮から生じるもののようなノ
イズに対する物理的な材料の寄与を最小化することが重
要である。
【０００７】光重合ポリマーに記録された体積相ホログ
ラムの傾斜角度は、異方性体積収縮によって変換される
（この特徴は、光重合反応中に起こる密度の増加に起因
する）。この収縮により、Ｂｒａｇｇプロフィール（こ
れは、適度な傾斜角であっても、角度バンド幅を超える
ことができる）における角度偏位（ａｎｇｕｌａｒｄｅ
ｖｉａｔｉｏｎｓ）が起こる。例えば、体積相平面波伝
達ホログラム（これは、厚さが約１００μｍで、そして
無傾斜構成（ｎｏｎ−ｓｌａｎｔ ｇｅｏｍｅｔｒｙ）
でもって、記憶される）は、約０．４７°の高さの半分
で、全幅を有するＢｒａｇｇピークを有する角度分布を
示す。もし、記録媒体が、横断（厚さ）方向に収縮を受
けるのみの場合、無傾斜ホログラムのＢｒａｇｇピーク
角におけるシフトは起こらない。しかし、傾斜−縞伝達
ホログラムについては、Ｂｒａｇｇピーク角におけるシ
フトは、収縮方向に関係なく、収縮によって観測され
る。角シフトの大きさは、傾斜角および収縮量に依存し
ている。ｄｕ Ｐｏｎｔ製フォトポリマーフィルム（Ｈ
ＲＦ−１５０−３８）は、中程度の傾斜角度（φは１８
°である）をもつホログラムに対して、約２．５°のＢ
ｒａｇｇ角シフトを示す（Ｕ．−Ｓ．Ｒｈｅｅ，Ｈ．
Ｊ．Ｃａｕｌｆｉｅｌｄ，Ｃ．Ｓ．Ｖｉｋｒａｍ，ａｎ
ｄ Ｊ．Ｓｈａｍｉｒ，Ｄｙｎａｍｉｃｓ ｏｆ ｈｏ
ｌｏｇｌａｍｒｅｃｏｒｄｉｎｇ ｉｎ ｄｕ Ｐｏｎ
ｔ ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ，Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．，
３４（５），８４６（１９９５）を参照のこと）。この
傾斜角度を有する厚さ１００μｍのホログラムについ
て、Ｂｒａｇｇピーク半分の高さでの全幅は、面に垂直
な方向からのリードビーム角１２．５°に対して、約
０．７°である。厚さ２００μｍのホログラムについ
て、半分の高さでの全幅は、厚さ１００μｍのホログラ
ムと対比して、半分の値である。よって、もし、この収
縮が極端に低いレベルへと減少されなければ、複数の格
子を含む信号イメージの像復元（リードアウト）は、お
そらく、像の忠実度の欠如、および／または歪みをもた
らす。
ラムの傾斜角度は、異方性体積収縮によって変換される
（この特徴は、光重合反応中に起こる密度の増加に起因
する）。この収縮により、Ｂｒａｇｇプロフィール（こ
れは、適度な傾斜角であっても、角度バンド幅を超える
ことができる）における角度偏位（ａｎｇｕｌａｒｄｅ
ｖｉａｔｉｏｎｓ）が起こる。例えば、体積相平面波伝
達ホログラム（これは、厚さが約１００μｍで、そして
無傾斜構成（ｎｏｎ−ｓｌａｎｔ ｇｅｏｍｅｔｒｙ）
でもって、記憶される）は、約０．４７°の高さの半分
で、全幅を有するＢｒａｇｇピークを有する角度分布を
示す。もし、記録媒体が、横断（厚さ）方向に収縮を受
けるのみの場合、無傾斜ホログラムのＢｒａｇｇピーク
角におけるシフトは起こらない。しかし、傾斜−縞伝達
ホログラムについては、Ｂｒａｇｇピーク角におけるシ
フトは、収縮方向に関係なく、収縮によって観測され
る。角シフトの大きさは、傾斜角および収縮量に依存し
ている。ｄｕ Ｐｏｎｔ製フォトポリマーフィルム（Ｈ
ＲＦ−１５０−３８）は、中程度の傾斜角度（φは１８
°である）をもつホログラムに対して、約２．５°のＢ
ｒａｇｇ角シフトを示す（Ｕ．−Ｓ．Ｒｈｅｅ，Ｈ．
Ｊ．Ｃａｕｌｆｉｅｌｄ，Ｃ．Ｓ．Ｖｉｋｒａｍ，ａｎ
ｄ Ｊ．Ｓｈａｍｉｒ，Ｄｙｎａｍｉｃｓ ｏｆ ｈｏ
ｌｏｇｌａｍｒｅｃｏｒｄｉｎｇ ｉｎ ｄｕ Ｐｏｎ
ｔ ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ，Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．，
３４（５），８４６（１９９５）を参照のこと）。この
傾斜角度を有する厚さ１００μｍのホログラムについ
て、Ｂｒａｇｇピーク半分の高さでの全幅は、面に垂直
な方向からのリードビーム角１２．５°に対して、約
０．７°である。厚さ２００μｍのホログラムについ
て、半分の高さでの全幅は、厚さ１００μｍのホログラ
ムと対比して、半分の値である。よって、もし、この収
縮が極端に低いレベルへと減少されなければ、複数の格
子を含む信号イメージの像復元（リードアウト）は、お
そらく、像の忠実度の欠如、および／または歪みをもた
らす。
【０００８】現在、エポキシドモノマー混合物に基づい
たホログラム記録媒体が発見され、これはとりわけデジ
タルデータ記憶用途の使用に適した媒体を提供する。ま
た、これらの記録媒体は低い閾値の露光エネルギー要求
を有し、それによって、データ記憶用途における書込み
スピードの増加を可能にする。
たホログラム記録媒体が発見され、これはとりわけデジ
タルデータ記憶用途の使用に適した媒体を提供する。ま
た、これらの記録媒体は低い閾値の露光エネルギー要求
を有し、それによって、データ記憶用途における書込み
スピードの増加を可能にする。
【０００９】よって、本発明はホログラムを調製するプ
ロセスを提供し、このプロセスは、以下を含む：化学線
照射に対する露光時に酸を生成することができる酸発生
剤；バインダー；および酸発生剤から生成する酸によっ
て開始されるカチオン重合を受けることが可能な材料を
含むホログラム記録媒体を提供する工程；および酸発生
剤が感知するコヒーレント性の化学線照射の参照ビーム
と同じコヒーレント性化学線である対照ビームを媒体中
に通過させ、それによって媒体内で干渉縞を形成し、そ
してそれによって媒体内でホログラムを形成する工程。
本発明のプロセスはカチオン重合を受けることが可能な
材料が（二官能性エポキシドモノマーまたはオリゴマ
ー、および多官能性エポキシドモノマーまたはオリゴマ
ーを含むこと）を特徴とする。
ロセスを提供し、このプロセスは、以下を含む：化学線
照射に対する露光時に酸を生成することができる酸発生
剤；バインダー；および酸発生剤から生成する酸によっ
て開始されるカチオン重合を受けることが可能な材料を
含むホログラム記録媒体を提供する工程；および酸発生
剤が感知するコヒーレント性の化学線照射の参照ビーム
と同じコヒーレント性化学線である対照ビームを媒体中
に通過させ、それによって媒体内で干渉縞を形成し、そ
してそれによって媒体内でホログラムを形成する工程。
本発明のプロセスはカチオン重合を受けることが可能な
材料が（二官能性エポキシドモノマーまたはオリゴマ
ー、および多官能性エポキシドモノマーまたはオリゴマ
ーを含むこと）を特徴とする。
【００１０】「多官能性」という用語は、化学の当該分
野における従来の用法に従って本明細中で使用され、各
分子が、特定の官能性を有する官能基を少なくとも３個
有する物質を意味し、この場合は少なくとも３個のエポ
キシ基を有する。
野における従来の用法に従って本明細中で使用され、各
分子が、特定の官能性を有する官能基を少なくとも３個
有する物質を意味し、この場合は少なくとも３個のエポ
キシ基を有する。
【００１１】また、本発明は、化学線照射に対する露光
時に酸を生成することができる酸発生剤；バインダー；
および酸発生剤から生成した酸により開始されるカチオ
ン重合を受けることが可能な材料を含むホログラム記録
媒体を提供する。この媒体は、カチオン重合を受けるこ
とが可能な材料が、二官能性エポキシドモノマーまたは
オリゴマー、および多官能性エポキシドモノマーまたは
オリゴマーを含むことを特徴とする。
時に酸を生成することができる酸発生剤；バインダー；
および酸発生剤から生成した酸により開始されるカチオ
ン重合を受けることが可能な材料を含むホログラム記録
媒体を提供する。この媒体は、カチオン重合を受けるこ
とが可能な材料が、二官能性エポキシドモノマーまたは
オリゴマー、および多官能性エポキシドモノマーまたは
オリゴマーを含むことを特徴とする。
【００１２】下記の実施例４に記載されるように、添付
の図面は、本発明のホログラムのｘｚ−平面における格
子ベクトル成分を模式的に示す。
の図面は、本発明のホログラムのｘｚ−平面における格
子ベクトル成分を模式的に示す。
【００１３】すでに述べたように、本発明のホログラム
記録媒体は、二官能性エポキシドモノマーまたはオリゴ
マー、および多官能性エポキシドモノマーまたはオリゴ
マーをその重合可能成分として用いている。便利さおよ
び簡略さのために、下記の記載は、モノマーについての
み普通に言及している。しかし、所望するならば、オリ
ゴマーはモノマーと置換され得ることが理解されるべき
である。同様に、本発明は、主に、ホログラム記録媒体
に、唯一の二官能性モノマーおよび一つの多官能性モノ
マーが示されることを想定して、本明細中に記載されて
いるが、もし、所望するのなら、モノマーの各タイプの
一つより多い混合物が、一個のバインダーより多く有り
得るものとして使用され得る。最終的に、二官能性モノ
マーおよび本多官能性モノマーの両方においてさまざま
なエポキシ官能基が全て同じである必要はないというこ
とに留意すべきである。
記録媒体は、二官能性エポキシドモノマーまたはオリゴ
マー、および多官能性エポキシドモノマーまたはオリゴ
マーをその重合可能成分として用いている。便利さおよ
び簡略さのために、下記の記載は、モノマーについての
み普通に言及している。しかし、所望するならば、オリ
ゴマーはモノマーと置換され得ることが理解されるべき
である。同様に、本発明は、主に、ホログラム記録媒体
に、唯一の二官能性モノマーおよび一つの多官能性モノ
マーが示されることを想定して、本明細中に記載されて
いるが、もし、所望するのなら、モノマーの各タイプの
一つより多い混合物が、一個のバインダーより多く有り
得るものとして使用され得る。最終的に、二官能性モノ
マーおよび本多官能性モノマーの両方においてさまざま
なエポキシ官能基が全て同じである必要はないというこ
とに留意すべきである。
【００１４】本発明において、用いられた二官能性エポ
キシドモノマーおよび多官能性エポキシドモノマーの少
なくとも一つ、好ましくは両方がシロキサンであること
が好ましいが、これは、シロキサンは一般に長期保存に
おいて安定な化合物であるが、迅速かつ、よく理解され
たカチオン重合を受けることができるためである。両方
のモノマーにおける好ましいエポキシ基の型は、シクロ
アルケンオキシド基であり、特にシクロヘキセンオキシ
ド基である。それは、このタイプの基を調製するために
必要な試薬が、市販されて容易に入手可能であり、かつ
安価であるからである。二官能性モノマーのうちで特に
好ましい基は、二つのシクロヘキセンオキシド基がＳｉ
−Ｏ−Ｓｉ基に連結されているものであり、これらのモ
ノマーはポリシロキサンバインダーと相溶できる利点を
有する。このようなモノマーの例として、以下の式のも
のが挙げられる：
キシドモノマーおよび多官能性エポキシドモノマーの少
なくとも一つ、好ましくは両方がシロキサンであること
が好ましいが、これは、シロキサンは一般に長期保存に
おいて安定な化合物であるが、迅速かつ、よく理解され
たカチオン重合を受けることができるためである。両方
のモノマーにおける好ましいエポキシ基の型は、シクロ
アルケンオキシド基であり、特にシクロヘキセンオキシ
ド基である。それは、このタイプの基を調製するために
必要な試薬が、市販されて容易に入手可能であり、かつ
安価であるからである。二官能性モノマーのうちで特に
好ましい基は、二つのシクロヘキセンオキシド基がＳｉ
−Ｏ−Ｓｉ基に連結されているものであり、これらのモ
ノマーはポリシロキサンバインダーと相溶できる利点を
有する。このようなモノマーの例として、以下の式のも
のが挙げられる：
【００１５】
【化３】
ここで、各Ｒは、独立して約６個以下の炭素原子を含む
アルキル基である。各Ｒ基がメチル基である化合物は、
Ｐｏｌｙｓｅｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｉｎｃ．，
Ｍｅｃｈａｎｉｃｓｖｉｌｌｅ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，Ｕ
ｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａから
商品名ＰＣ−１０００で入手でき、そしてこの特定の化
合物の調製は、とりわけ、ＵＳ−Ａ−５３８７６９８お
よびＵＳ−Ａ−５４４２０２６に記載されている。
アルキル基である。各Ｒ基がメチル基である化合物は、
Ｐｏｌｙｓｅｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｉｎｃ．，
Ｍｅｃｈａｎｉｃｓｖｉｌｌｅ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，Ｕ
ｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａから
商品名ＰＣ−１０００で入手でき、そしてこの特定の化
合物の調製は、とりわけ、ＵＳ−Ａ−５３８７６９８お
よびＵＳ−Ａ−５４４２０２６に記載されている。
【００１６】種々のトリ−、テトラ−およびそれ以上の
ポリエポキシシロキサンは、多官能性モノマーとして本
発明の媒体およびプロセスにおいて有用であることが見
出されている。このようなポリエポキシシロキサンの一
つの基は、以下の式の環状化合物である：
ポリエポキシシロキサンは、多官能性モノマーとして本
発明の媒体およびプロセスにおいて有用であることが見
出されている。このようなポリエポキシシロキサンの一
つの基は、以下の式の環状化合物である：
【００１７】
【化４】
ここで、各基Ｒ1は、独立して一価の置換されたまたは
非置換のＣ1-12アルキル基、Ｃ1-12シクロアルキル基、
アラルキル基、またはアリール基であり；各Ｒ2基は、
独立して、Ｒ１または２〜１０個の炭素原子を有する一
価のエポキシ官能基であって、ただし、少なくとも３個
のＲ2基はエポキシ官能基であり；そして、ｎは、３〜
１０である。これら環状化合物の調製は、とりわけ、Ｕ
Ｓ−Ａ−５０３７８６１；ＵＳ−Ａ−５２６０３９９；
ＵＳ−Ａ−５３８７６９８；およびＵＳ−Ａ−５５８３
１９４に記載されている。このタイプで有用な特定のポ
リマーの一つは、１，３，５，７，−テトラキス（２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル）−１，
３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンであ
る。
非置換のＣ1-12アルキル基、Ｃ1-12シクロアルキル基、
アラルキル基、またはアリール基であり；各Ｒ2基は、
独立して、Ｒ１または２〜１０個の炭素原子を有する一
価のエポキシ官能基であって、ただし、少なくとも３個
のＲ2基はエポキシ官能基であり；そして、ｎは、３〜
１０である。これら環状化合物の調製は、とりわけ、Ｕ
Ｓ−Ａ−５０３７８６１；ＵＳ−Ａ−５２６０３９９；
ＵＳ−Ａ−５３８７６９８；およびＵＳ−Ａ−５５８３
１９４に記載されている。このタイプで有用な特定のポ
リマーの一つは、１，３，５，７，−テトラキス（２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル）−１，
３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンであ
る。
【００１８】好ましい多官能性エポキシドモノマーは、
以下の式のものである： Ｒ3Ｓｉ（ＯＳｉ（Ｒ4）2Ｒ5）3 （ＩＩＩ） Ｒ3は、ＯＳｉ（Ｒ4）2Ｒ5基、あるいは一価の置換され
たまたは非置換のＣ1-12アルキル基、Ｃ1-12シクロアル
キル基、アラルキル基またはアリール基であり；各基Ｒ
4は、独立して、一価の置換されたまたは非置換のＣ
1-12アルキル基、Ｃ1-12シクロアルキル基、アラルキル
基またはアリール基であり；各基Ｒ5は、独立して、２
〜１０個の炭素原子を有する一価のエポキシ官能基であ
り；この型のモノマーは、本明細書の以後「スタータイ
プ」モノマーと呼ばれ得る。これらのモノマーの調製
は、とりわけ、ＵＳ−Ａ−５１６９９６２；ＵＳ−Ａ−
５２６０３９９；ＵＳ−Ａ−５３８７６９８；およびＵ
Ｓ−Ａ−５４４２０２６に記載されている。本発明のプ
ロセスで有用であることが見出されたこの型の一つの特
定のモノマーは、Ｒ3がメチル基またはＯＳｉ（Ｒ4）2
Ｒ5基であり、各Ｒ4基は、メチル基であり、そして各基
Ｒ5は、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ル基である。
以下の式のものである： Ｒ3Ｓｉ（ＯＳｉ（Ｒ4）2Ｒ5）3 （ＩＩＩ） Ｒ3は、ＯＳｉ（Ｒ4）2Ｒ5基、あるいは一価の置換され
たまたは非置換のＣ1-12アルキル基、Ｃ1-12シクロアル
キル基、アラルキル基またはアリール基であり；各基Ｒ
4は、独立して、一価の置換されたまたは非置換のＣ
1-12アルキル基、Ｃ1-12シクロアルキル基、アラルキル
基またはアリール基であり；各基Ｒ5は、独立して、２
〜１０個の炭素原子を有する一価のエポキシ官能基であ
り；この型のモノマーは、本明細書の以後「スタータイ
プ」モノマーと呼ばれ得る。これらのモノマーの調製
は、とりわけ、ＵＳ−Ａ−５１６９９６２；ＵＳ−Ａ−
５２６０３９９；ＵＳ−Ａ−５３８７６９８；およびＵ
Ｓ−Ａ−５４４２０２６に記載されている。本発明のプ
ロセスで有用であることが見出されたこの型の一つの特
定のモノマーは、Ｒ3がメチル基またはＯＳｉ（Ｒ4）2
Ｒ5基であり、各Ｒ4基は、メチル基であり、そして各基
Ｒ5は、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ル基である。
【００１９】本発明の媒体およびプロセスで使用するた
めの多官能性モノマーの、第２の好ましい基は、以下の
式のものである： （Ｒ６）３ＳｉＯ［ＳｉＲ７Ｒ８Ｏ］Ｐ［Ｓｉ（Ｒ７）２Ｏ］ｑＳｉ（Ｒ６）３ （ＩＶ） 各基Ｒ６は、独立して、一価の置換されたまたは非置換
のＣ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２シクロアルキル
基、またはフェニル基であり；各基Ｒ７は、独立して、
一価の置換されたまたは非置換のＣ１−１２アルキル
基、Ｃ１−１２シクロアルキル基、アラルキル基または
アリール基であり；各基Ｒ８は、独立して、２〜１０個
の炭素原子を有する一価のエポキシ官能基であり、そし
てｐおよびｑは整数であり、ここで、ｐは２を超える整
数である。これらのモノマーは、ＵＳ−Ａ−５５２３３
７４（これは、白金またはロジウム触媒を用いる適切な
アルケン酸化物での対応するヒドロシランのヒドロシリ
ル化を含む）に記載のプロセスと類似のプロセスで調製
され得る。本発明のプロセスにおいて有用であることが
見出されたこのタイプの特定のモノマーは、各基Ｒ６お
よびＲ７がアルキル基であるもの、そしてこれらのうち
特に好ましいモノマーの一つは、Ｒ８が２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）エチル基で、ｐおよびｑがほ
ぼ等しいものである。
めの多官能性モノマーの、第２の好ましい基は、以下の
式のものである： （Ｒ６）３ＳｉＯ［ＳｉＲ７Ｒ８Ｏ］Ｐ［Ｓｉ（Ｒ７）２Ｏ］ｑＳｉ（Ｒ６）３ （ＩＶ） 各基Ｒ６は、独立して、一価の置換されたまたは非置換
のＣ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２シクロアルキル
基、またはフェニル基であり；各基Ｒ７は、独立して、
一価の置換されたまたは非置換のＣ１−１２アルキル
基、Ｃ１−１２シクロアルキル基、アラルキル基または
アリール基であり；各基Ｒ８は、独立して、２〜１０個
の炭素原子を有する一価のエポキシ官能基であり、そし
てｐおよびｑは整数であり、ここで、ｐは２を超える整
数である。これらのモノマーは、ＵＳ−Ａ−５５２３３
７４（これは、白金またはロジウム触媒を用いる適切な
アルケン酸化物での対応するヒドロシランのヒドロシリ
ル化を含む）に記載のプロセスと類似のプロセスで調製
され得る。本発明のプロセスにおいて有用であることが
見出されたこのタイプの特定のモノマーは、各基Ｒ６お
よびＲ７がアルキル基であるもの、そしてこれらのうち
特に好ましいモノマーの一つは、Ｒ８が２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）エチル基で、ｐおよびｑがほ
ぼ等しいものである。
【００２０】もちろん、本発明の媒体およびプロセスで
用いられるバインダーは、用いられたモノマーのカチオ
ン重合を阻害せず、かつ屈折率が、重合されたモノマー
またはオリゴマーの屈折率とかなり異なるように選ばれ
るべきである。本発明のプロセスおける使用に好ましい
バインダーは、ポリシロキサンおよびポリスチレンであ
る。広範な種類のポリシロキサンが入手でき、そしてこ
れらのポリマーの特性がよく実証されているので、ポリ
シロキサンバインダーの物理的、光学的、および化学的
特性は、記録媒体における最適性能として調整され得
る。
用いられるバインダーは、用いられたモノマーのカチオ
ン重合を阻害せず、かつ屈折率が、重合されたモノマー
またはオリゴマーの屈折率とかなり異なるように選ばれ
るべきである。本発明のプロセスおける使用に好ましい
バインダーは、ポリシロキサンおよびポリスチレンであ
る。広範な種類のポリシロキサンが入手でき、そしてこ
れらのポリマーの特性がよく実証されているので、ポリ
シロキサンバインダーの物理的、光学的、および化学的
特性は、記録媒体における最適性能として調整され得
る。
【００２１】本発明のプロセスにより生成されるホログ
ラムの有効性は、用いる特定のバインダーに顕著に依存
している。ホログラム分野の当業者にとって、適切なバ
インダーを選択することは慣用的、経験的な試験により
困難ではない。一般に、ポリ（メチルフェニルシロキサ
ン）およびそのオリゴマー（例えば、Ｄｏｗ７０５とい
う商品名でＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ
から市販されているトリマー）が、有効なホログラムを
与えることが見出されていることが述べられ得る。
ラムの有効性は、用いる特定のバインダーに顕著に依存
している。ホログラム分野の当業者にとって、適切なバ
インダーを選択することは慣用的、経験的な試験により
困難ではない。一般に、ポリ（メチルフェニルシロキサ
ン）およびそのオリゴマー（例えば、Ｄｏｗ７０５とい
う商品名でＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ
から市販されているトリマー）が、有効なホログラムを
与えることが見出されていることが述べられ得る。
【００２２】本発明の記録媒体において用いられる酸発
生剤は、化学線照射に対する露光の際に酸を生成する。
本明細書中で用いられるこの「酸発生剤」という用語
は、媒体の成分（単数または複数）（これは、照射−誘
起された酸形成の原因である）を言及するものである。
よって、この酸発生剤は、酸を直接生成する唯一の化合
物を含み得る。あるいは、この酸発生剤は、以下で更に
詳細に記載されるように酸を生成する酸生成成分、およ
び化学線照射の特定波長に対して感受性である酸生成成
分を与える一個以上の増感剤を含み得る。酸発生剤から
生成された酸は、Ｂｒｏｎｓｔｅａｄ酸またはＬｅｗｉ
ｓ酸のどちらかであり得、ただし、もちろんこの酸は、
モノマーのカチオン重合を誘起するタイプおよび強度の
ものである。酸発生剤がＢｒｏｎｓｔｅａｄ酸を生成す
る場合、好ましくは、この酸が約０より少ないｐＫａを
有する。公知の超酸前駆体（例えば、ジアゾニウム塩、
スルホニウム塩、ホスホニウム塩、およびヨードニウム
塩）が本発明の媒体に使用され得るが、ヨードニウム塩
が、一般的に好ましい。ジアリールヨードニウム塩は、
本発明の媒体中で良好に作用ことが見出されていて、特
に好ましいのは、ジアリールヨードニウム塩は、（４−
オクチルオキシフェニル）フェニルヨードニウムヘキサ
フルオロアンチモネートおよびジトリルヨードニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
ルイス酸発生剤のうちで、フェロセニウム（ｆｅｒｒｏ
ｃｅｎｉｕｍ）塩が、本発明の媒体中において良い結果
を与えることが見出されており、特定の好ましいフェロ
セニウム塩は、シクロペンタジエニルクメン鉄（ＩＩ）
ヘキサフルオロホスフェートであり、これは、Ｃｉｂａ
−Ｇｅｉｇｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（７ Ｓｋｙｌ
ｉｎｅ Ｄｒｉｖｅ，Ｈａｗｔｈｏｒｎｅ Ｎｅｗ Ｙ
ｏｒｋ １０５３２−２１８８，Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａ
ｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ）から商品名Ｉｒｇａｃ
ｕｒｅ ２６１で市販されている。この材料は、任意の
増感剤なしで、４７６ｎｍまたは４８８ｎｍの可視光照
射に対して感受性を持つという利点を有し、以下に示し
たような他の可視波長に対して感受性であり得る。
生剤は、化学線照射に対する露光の際に酸を生成する。
本明細書中で用いられるこの「酸発生剤」という用語
は、媒体の成分（単数または複数）（これは、照射−誘
起された酸形成の原因である）を言及するものである。
よって、この酸発生剤は、酸を直接生成する唯一の化合
物を含み得る。あるいは、この酸発生剤は、以下で更に
詳細に記載されるように酸を生成する酸生成成分、およ
び化学線照射の特定波長に対して感受性である酸生成成
分を与える一個以上の増感剤を含み得る。酸発生剤から
生成された酸は、Ｂｒｏｎｓｔｅａｄ酸またはＬｅｗｉ
ｓ酸のどちらかであり得、ただし、もちろんこの酸は、
モノマーのカチオン重合を誘起するタイプおよび強度の
ものである。酸発生剤がＢｒｏｎｓｔｅａｄ酸を生成す
る場合、好ましくは、この酸が約０より少ないｐＫａを
有する。公知の超酸前駆体（例えば、ジアゾニウム塩、
スルホニウム塩、ホスホニウム塩、およびヨードニウム
塩）が本発明の媒体に使用され得るが、ヨードニウム塩
が、一般的に好ましい。ジアリールヨードニウム塩は、
本発明の媒体中で良好に作用ことが見出されていて、特
に好ましいのは、ジアリールヨードニウム塩は、（４−
オクチルオキシフェニル）フェニルヨードニウムヘキサ
フルオロアンチモネートおよびジトリルヨードニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
ルイス酸発生剤のうちで、フェロセニウム（ｆｅｒｒｏ
ｃｅｎｉｕｍ）塩が、本発明の媒体中において良い結果
を与えることが見出されており、特定の好ましいフェロ
セニウム塩は、シクロペンタジエニルクメン鉄（ＩＩ）
ヘキサフルオロホスフェートであり、これは、Ｃｉｂａ
−Ｇｅｉｇｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（７ Ｓｋｙｌ
ｉｎｅ Ｄｒｉｖｅ，Ｈａｗｔｈｏｒｎｅ Ｎｅｗ Ｙ
ｏｒｋ １０５３２−２１８８，Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａ
ｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ）から商品名Ｉｒｇａｃ
ｕｒｅ ２６１で市販されている。この材料は、任意の
増感剤なしで、４７６ｎｍまたは４８８ｎｍの可視光照
射に対して感受性を持つという利点を有し、以下に示し
たような他の可視波長に対して感受性であり得る。
【００２３】任意の増感剤が存在しない場合、ヨードニ
ウム塩は、典型的に遠紫外領域（約３００ｎｍ以下）で
の照射に対してのみ感受性であり、そして遠紫外照射の
使用は、ホログラム生成にとって不都合である。それ
は、所定の性能のレベルでは、紫外レーザーは、実質的
に、可視レーザーよりも高価であるためである。しか
し、さまざまな増感剤の添加により、その塩が、増感剤
なしでは、実質的に感光的ではないヨードニウム塩が、
化学線のさまざまな波長に対して感受性となり得るとい
うことは周知である。特に、ヨードニウム塩は、少なく
とも２つアルキニル基で置換された、特定の芳香族炭化
水素を用いる増感剤を伴って、可視照射に対して感受性
であり得、この型の特定の好ましい増感剤は、５，１２
−ビス（フェニルエチニル）ナフタセンである。この増
感剤は、アルゴンイオンレーザーからの５１４ｎｍ照射
および二倍周波数（ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ−ｄｏｕｂｌｅ
ｄ）ＹＡＧレーザーからの５３２ｎｍ照射(その両方
が、ホログラム生成のために都合の良い発生源である)
に対して感受性であるヨードニウム塩を与える。
ウム塩は、典型的に遠紫外領域（約３００ｎｍ以下）で
の照射に対してのみ感受性であり、そして遠紫外照射の
使用は、ホログラム生成にとって不都合である。それ
は、所定の性能のレベルでは、紫外レーザーは、実質的
に、可視レーザーよりも高価であるためである。しか
し、さまざまな増感剤の添加により、その塩が、増感剤
なしでは、実質的に感光的ではないヨードニウム塩が、
化学線のさまざまな波長に対して感受性となり得るとい
うことは周知である。特に、ヨードニウム塩は、少なく
とも２つアルキニル基で置換された、特定の芳香族炭化
水素を用いる増感剤を伴って、可視照射に対して感受性
であり得、この型の特定の好ましい増感剤は、５，１２
−ビス（フェニルエチニル）ナフタセンである。この増
感剤は、アルゴンイオンレーザーからの５１４ｎｍ照射
および二倍周波数（ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ−ｄｏｕｂｌｅ
ｄ）ＹＡＧレーザーからの５３２ｎｍ照射(その両方
が、ホログラム生成のために都合の良い発生源である)
に対して感受性であるヨードニウム塩を与える。
【００２４】この好ましい増感剤はまた、同波長に対し
てフェロセニウム塩に感受性であり、そして光漂白可能
（ｐｈｏｔｏｂｌｅａｃｈａｂｌｅ）であるという利点
を有し、その結果、露光中にホログラム媒体の可視光吸
収が減少し、よってホログラム中の最小限の光学密度
（Ｄmin）を生成する助けとなる。
てフェロセニウム塩に感受性であり、そして光漂白可能
（ｐｈｏｔｏｂｌｅａｃｈａｂｌｅ）であるという利点
を有し、その結果、露光中にホログラム媒体の可視光吸
収が減少し、よってホログラム中の最小限の光学密度
（Ｄmin）を生成する助けとなる。
【００２５】本発明のホログラム記録媒体における酸発
生剤、バインダーおよびモノマーの比率は、かなり大き
く変化し得、そして特定の成分についての最適比および
使用方法は、当業者によって経験的に容易に決定され得
る。しかし一般に、本発明の媒体は、多官能性エポキシ
ドモノマーの重量部あたり二官能性エポキシドモノマー
０．２〜５重量部含有することが好ましく、また、媒体
が、二官能性エポキシドモノマーおよび多官能性エポキ
シドモノマーの全重量部あたりバインダー０．１６〜５
重量部含有することも好ましい。
生剤、バインダーおよびモノマーの比率は、かなり大き
く変化し得、そして特定の成分についての最適比および
使用方法は、当業者によって経験的に容易に決定され得
る。しかし一般に、本発明の媒体は、多官能性エポキシ
ドモノマーの重量部あたり二官能性エポキシドモノマー
０．２〜５重量部含有することが好ましく、また、媒体
が、二官能性エポキシドモノマーおよび多官能性エポキ
シドモノマーの全重量部あたりバインダー０．１６〜５
重量部含有することも好ましい。
【００２６】既に上で説明された理由に関し、媒体の体
積収縮ができる限り小さく保たれたれるように（この収
縮が、約１％を超えないものが望ましい）、本発明のホ
ログラム記録媒体の成分が選択されることが望ましい。
積収縮ができる限り小さく保たれたれるように（この収
縮が、約１％を超えないものが望ましい）、本発明のホ
ログラム記録媒体の成分が選択されることが望ましい。
【００２７】本発明の好ましい媒体およびプロセスにお
いて用いられる特に好ましい試薬、条件、および方法の
詳細を示すために、例示によってのみ、以下の実施例が
示される。
いて用いられる特に好ましい試薬、条件、および方法の
詳細を示すために、例示によってのみ、以下の実施例が
示される。
【００２８】（実施例１）
（４−オクチルオキシフェニル）フェニルヨードニウム
ヘキサフルオロアンチモネート（酸発生剤）、５，１２
−ビス−（フェニルエチニル）ナフタセン（これは、本
明細書中以後で「ＢＰＥＮ」と呼ばれ、この物質は、緑
色の可視照射に対してヨードニウム塩に感作的であ
る）、および、バインダーとしてポリ(メチルフェニル
シロキサン)（これは屈折率が、１．５３６５であり、
Ｄｏｗ ７１０ ｓｉｌｉｃｏｎｅ ｆｌｕｉｄという
商品名でＤｏｗ ＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｍｐａｎｙ，Ｍ
ｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔ
ａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａから入手可能である）
を含む一連のホログラム記録媒体を調製した。この媒体
は、さらに上記式Ｉの二官能性エポキシドモノマー（各
基Ｒはメチル基である）、および四官能基性モノマーで
ある１，３，５，７−テトラキス（２−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）エチル）−１，３，５，７−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン、または上記式ＩＩＩ
の三官能基性モノマー（ここで、Ｒ基３はメチル基であ
り、各基Ｒ４はメチル基であり、そして各基Ｒ５が２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基のどちら
かを含む。ここで、処方されたこの媒体の正確な組成お
よびその中の多官能性モノマーに対する二官能性モノマ
ーのモル比を以下の表１に記載する。
ヘキサフルオロアンチモネート（酸発生剤）、５，１２
−ビス−（フェニルエチニル）ナフタセン（これは、本
明細書中以後で「ＢＰＥＮ」と呼ばれ、この物質は、緑
色の可視照射に対してヨードニウム塩に感作的であ
る）、および、バインダーとしてポリ(メチルフェニル
シロキサン)（これは屈折率が、１．５３６５であり、
Ｄｏｗ ７１０ ｓｉｌｉｃｏｎｅ ｆｌｕｉｄという
商品名でＤｏｗ ＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｍｐａｎｙ，Ｍ
ｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔ
ａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａから入手可能である）
を含む一連のホログラム記録媒体を調製した。この媒体
は、さらに上記式Ｉの二官能性エポキシドモノマー（各
基Ｒはメチル基である）、および四官能基性モノマーで
ある１，３，５，７−テトラキス（２−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）エチル）−１，３，５，７−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン、または上記式ＩＩＩ
の三官能基性モノマー（ここで、Ｒ基３はメチル基であ
り、各基Ｒ４はメチル基であり、そして各基Ｒ５が２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基のどちら
かを含む。ここで、処方されたこの媒体の正確な組成お
よびその中の多官能性モノマーに対する二官能性モノマ
ーのモル比を以下の表１に記載する。
【００２９】それぞれのホログラム記録媒体は、最初に
指定重量の二官能性エポキシドを十分な量のヨードニウ
ム塩に加えることによって調製し、最終の記録媒体のヨ
ードニウム塩の含有量を４．８重量％にした。ヨードニ
ウム塩は、攪拌することで溶解した。次いで指定量の三
もしくは四官能性モノマーを加え、均一な混合物が得ら
れるまでこの混合物を攪拌した。得られた混合物にＤＯ
Ｗ ７１０バインダーを加え、そして攪拌したのち均一
な混合物を得た。最後に約３００μＬの塩化メチレンに
溶かした十分な量のＢＰＥＮ増感剤を混合物に加え、増
感剤の重量に対して０．０４８重量％を含有する最終混
合物を形成した。最終混合物を攪拌し、アルゴンガスで
媒体をパージすることで塩化メチレンを除去して、ホロ
グラム記録媒体を形成し、これは溶液の形態を有した。
指定重量の二官能性エポキシドを十分な量のヨードニウ
ム塩に加えることによって調製し、最終の記録媒体のヨ
ードニウム塩の含有量を４．８重量％にした。ヨードニ
ウム塩は、攪拌することで溶解した。次いで指定量の三
もしくは四官能性モノマーを加え、均一な混合物が得ら
れるまでこの混合物を攪拌した。得られた混合物にＤＯ
Ｗ ７１０バインダーを加え、そして攪拌したのち均一
な混合物を得た。最後に約３００μＬの塩化メチレンに
溶かした十分な量のＢＰＥＮ増感剤を混合物に加え、増
感剤の重量に対して０．０４８重量％を含有する最終混
合物を形成した。最終混合物を攪拌し、アルゴンガスで
媒体をパージすることで塩化メチレンを除去して、ホロ
グラム記録媒体を形成し、これは溶液の形態を有した。
【００３０】
【表１】
これらの媒体のホログラム記録の特質を試験するため
に、それぞれの媒体の試料を１００μｍのポリテトラフ
ルオロエチレンのスペーサーによって分けられた二枚の
ガラススライドの間に配置した。傾斜のない平面波伝達
ホログラムを、通常の方法で記録させた。この通常の方
法は、二本の空間的にフィルターを透過され、そして平
行な５１４．５ｎｍのアルゴンレーザーライティングビ
ームを用いた。このライティングビームは、垂線に対し
て２５°の等しい半角度で試料に向けられた等しい照射
レベル（±２％）を有した。これらの媒体は、赤色光に
対する感応性がないので、ビーム拡張ヘリウムネオンレ
ーザープローブビーム（λ＝６３２．８ｎｍ）（適切な
Ｂｒａｇｇ角度で入射）を使用して、暴露している間の
ホログラム活性の発生を検出した。実時間回折強度のデ
ータは、Ｎｅｗｐｏｒｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製の
８１８−ＳＬフォトダイオードおよび２重チャンネル多
機能光学メータＭｏｄｅｌ ２８３５−Ｃの２つのモデ
ルを用いてホログラム暴露の前、間および後に得られ
た。格子から０次および1次の回折強度を測定し、ホロ
グラム効率を決定した。
に、それぞれの媒体の試料を１００μｍのポリテトラフ
ルオロエチレンのスペーサーによって分けられた二枚の
ガラススライドの間に配置した。傾斜のない平面波伝達
ホログラムを、通常の方法で記録させた。この通常の方
法は、二本の空間的にフィルターを透過され、そして平
行な５１４．５ｎｍのアルゴンレーザーライティングビ
ームを用いた。このライティングビームは、垂線に対し
て２５°の等しい半角度で試料に向けられた等しい照射
レベル（±２％）を有した。これらの媒体は、赤色光に
対する感応性がないので、ビーム拡張ヘリウムネオンレ
ーザープローブビーム（λ＝６３２．８ｎｍ）（適切な
Ｂｒａｇｇ角度で入射）を使用して、暴露している間の
ホログラム活性の発生を検出した。実時間回折強度のデ
ータは、Ｎｅｗｐｏｒｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製の
８１８−ＳＬフォトダイオードおよび２重チャンネル多
機能光学メータＭｏｄｅｌ ２８３５−Ｃの２つのモデ
ルを用いてホログラム暴露の前、間および後に得られ
た。格子から０次および1次の回折強度を測定し、ホロ
グラム効率を決定した。
【００３１】四官能性モノマーを含有する試料は、全ホ
ログラム暴露流束量９３ｍＪ／ｃｍ2で画像処理した。
この画像処理は、２５秒の待ち時間をおいた２回の５秒
間の暴露を使用した。限界エネルギー（約１％の安定な
回折効率の観察について必要な流束量として定義され
る）は、７７：２３および６３：３７のモル比の媒体に
ついては、それぞれ約１８．９および２０．５ｍＪ／ｃ
ｍ2であった。高い回折効率を達成し、ホログラムは後
画像処理暴露なしで安定であった。
ログラム暴露流束量９３ｍＪ／ｃｍ2で画像処理した。
この画像処理は、２５秒の待ち時間をおいた２回の５秒
間の暴露を使用した。限界エネルギー（約１％の安定な
回折効率の観察について必要な流束量として定義され
る）は、７７：２３および６３：３７のモル比の媒体に
ついては、それぞれ約１８．９および２０．５ｍＪ／ｃ
ｍ2であった。高い回折効率を達成し、ホログラムは後
画像処理暴露なしで安定であった。
【００３２】三官能性モノマーを含有する試料は、連続
して８または５秒暴露を使用して７５ｍＪ／ｃｍ2もし
くは４７ｍＪ／ｃｍ2のいずれかのホログラム暴露流束
量（８３：１７）で画像処理し、７５ｍＪ／ｃｍ2（６
３：３７の媒体）では，連続した８秒の暴露を使用し
た。８３：１７および６３：３７のモル比の媒体につい
ての限界エネルギーは、それぞれ約２１および３３ ｍ
Ｊ／ｃｍ2であった。高い回折効率を達成し、ホログラ
ムは、後画像処理暴露なしで安定であった。
して８または５秒暴露を使用して７５ｍＪ／ｃｍ2もし
くは４７ｍＪ／ｃｍ2のいずれかのホログラム暴露流束
量（８３：１７）で画像処理し、７５ｍＪ／ｃｍ2（６
３：３７の媒体）では，連続した８秒の暴露を使用し
た。８３：１７および６３：３７のモル比の媒体につい
ての限界エネルギーは、それぞれ約２１および３３ ｍ
Ｊ／ｃｍ2であった。高い回折効率を達成し、ホログラ
ムは、後画像処理暴露なしで安定であった。
【００３３】（実施例２）
上記実施例１のような同様の酸発生剤、増感剤、バイン
ダーおよび二官能基を持つエポキシドモノマーを含有し
た一連のホログラム記録媒体を調製した。しかしなが
ら、使用した多官能性モノマーは、上記式ＩＩＩの四官
能性モノマーであり、ここでＲ３は、ＯＳｉ（ＣＨ３）
２−２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基
であり；各基Ｒ４はメチル基であり、そして各基Ｒ
５は、２−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチル
基である。その処方した媒体の正確な組成とそれに関す
る多官能性モノマーに対する二官能性モノマーのモル比
を以下の表２に示す。媒体は、上記の実施例１と同じ方
法で処方した。
ダーおよび二官能基を持つエポキシドモノマーを含有し
た一連のホログラム記録媒体を調製した。しかしなが
ら、使用した多官能性モノマーは、上記式ＩＩＩの四官
能性モノマーであり、ここでＲ３は、ＯＳｉ（ＣＨ３）
２−２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基
であり；各基Ｒ４はメチル基であり、そして各基Ｒ
５は、２−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチル
基である。その処方した媒体の正確な組成とそれに関す
る多官能性モノマーに対する二官能性モノマーのモル比
を以下の表２に示す。媒体は、上記の実施例１と同じ方
法で処方した。
【００３４】
【表２】
これらの媒体の画像処理の特性を、上記の実施例１と同
じ方法で９３．３ｍＪ／ｃｍ2の流束量を用いて試験し
た。２種類の異なった暴露スケジュールすなわち連続し
た１０秒間の暴露と３０秒の待ち時間をおいた２回の５
秒間の暴露、を用いた。これらの条件において記録され
た最も低い限界エネルギーは、８４：１６、７７：２
３、６４：３６、５０：５０および３３：６６の処方物
において、それぞれ３４．２、３０．１、３２．２、１
７．２および２６．１ｍＪ／ｃｍ2であった。
じ方法で９３．３ｍＪ／ｃｍ2の流束量を用いて試験し
た。２種類の異なった暴露スケジュールすなわち連続し
た１０秒間の暴露と３０秒の待ち時間をおいた２回の５
秒間の暴露、を用いた。これらの条件において記録され
た最も低い限界エネルギーは、８４：１６、７７：２
３、６４：３６、５０：５０および３３：６６の処方物
において、それぞれ３４．２、３０．１、３２．２、１
７．２および２６．１ｍＪ／ｃｍ2であった。
【００３５】（実施例３）
上記実施例１のような同様の酸発生器、増感剤および二
官能性エポキシドモノマーを含有したホログラム記録媒
体を調製した。その媒体はまた、上記式ＩＶの多官能性
エポキシドモノマーを含有し、
官能性エポキシドモノマーを含有したホログラム記録媒
体を調製した。その媒体はまた、上記式ＩＶの多官能性
エポキシドモノマーを含有し、
【００３６】ここで。各々のＲ ６ はメチルであり、多官
能性基のＲ ７ はメチルであり、多官能性基のＲ ８ は２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルであり、他
の基の１つのＲ ７ はメチルであり、他のＲ ７ はヘキシル
であり、ｐおよびｑはほぼ等しく、バインダーとして
１，３，５−トリメチル−１，１，３，５，５−ペンタ
フェニルトリシロキサン（屈折率１．５７９、商標名Ｄ
ＯＷ ７０５ ｓｉｌｉｃｏｎｅ ｆｌｕｉｄとしてＤ
ｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｍｉｄｌａ
ｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ
ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａから入手可能）も含有した。そ
の媒体はヨードニウム塩４．６重量％、増感剤０．０９
重量％を含有し、バインダーに対するモノマーのモル比
（多官能性モノマーのセグメント値を基準とした）は、
２．７８であった。その媒体は、上記実施例１と同じ方
法で調製した。
能性基のＲ ７ はメチルであり、多官能性基のＲ ８ は２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルであり、他
の基の１つのＲ ７ はメチルであり、他のＲ ７ はヘキシル
であり、ｐおよびｑはほぼ等しく、バインダーとして
１，３，５−トリメチル−１，１，３，５，５−ペンタ
フェニルトリシロキサン（屈折率１．５７９、商標名Ｄ
ＯＷ ７０５ ｓｉｌｉｃｏｎｅ ｆｌｕｉｄとしてＤ
ｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｍｉｄｌａ
ｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ
ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａから入手可能）も含有した。そ
の媒体はヨードニウム塩４．６重量％、増感剤０．０９
重量％を含有し、バインダーに対するモノマーのモル比
（多官能性モノマーのセグメント値を基準とした）は、
２．７８であった。その媒体は、上記実施例１と同じ方
法で調製した。
【００３７】
【化５】
であり、バインダーとして１，３，５−トリメチル−
１，１，３，５，５−ペンタフェニルトリシロキサン
（屈折率１．５７９、商標名ＤＯＷ ７０５ ｓｉｌｉ
ｃｏｎｅ ｆｌｕｉｄとしてＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａ
ｎ，Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃ
ａから入手可能）も含有した。その媒体はヨードニウム
塩４．６重量％、増感剤０．０９重量％を含有し、バイ
ンダーに対するモノマーのモル比（多官能性モノマーの
セグメント値を基準とした）は、２．７８であった。そ
の媒体は、上記実施例１と同じ方法で調製した。
１，１，３，５，５−ペンタフェニルトリシロキサン
（屈折率１．５７９、商標名ＤＯＷ ７０５ ｓｉｌｉ
ｃｏｎｅ ｆｌｕｉｄとしてＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａ
ｎ，Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃ
ａから入手可能）も含有した。その媒体はヨードニウム
塩４．６重量％、増感剤０．０９重量％を含有し、バイ
ンダーに対するモノマーのモル比（多官能性モノマーの
セグメント値を基準とした）は、２．７８であった。そ
の媒体は、上記実施例１と同じ方法で調製した。
【００３８】この媒体の試料は、それぞれ連続して３ま
たは２秒暴露を使用して２８ｍＪ／ｃｍ2もしくは１
８．７ｍＪ／ｃｍ2のいずれかのホログラム暴露流束量
で実施例１と同じ方法で画像処理した。限界エネルギー
は、約１．５ｍＪ／ｃｍ2しかなく、感応性は、同じヨ
ードニウム塩の濃度について実施例２記述した媒体の約
４倍高かった。高い回折効率を達成し、ホログラムは、
後画像処理暴露なしで安定であった。
たは２秒暴露を使用して２８ｍＪ／ｃｍ2もしくは１
８．７ｍＪ／ｃｍ2のいずれかのホログラム暴露流束量
で実施例１と同じ方法で画像処理した。限界エネルギー
は、約１．５ｍＪ／ｃｍ2しかなく、感応性は、同じヨ
ードニウム塩の濃度について実施例２記述した媒体の約
４倍高かった。高い回折効率を達成し、ホログラムは、
後画像処理暴露なしで安定であった。
【００３９】（実施例４）
この実施例では、本発明のホログラム記録媒体を画像処
理する間に達成され得る低い収縮を例示する。
理する間に達成され得る低い収縮を例示する。
【００４０】上記実施例１のような同様の二官能性エポ
キシドモノマーおよび増感剤を含有したホログラム記録
媒体を調製した。その四官能性モノマーの式は：
キシドモノマーおよび増感剤を含有したホログラム記録
媒体を調製した。その四官能性モノマーの式は：
【００４１】
【化６】
である。これは、上記の式ＩＩＩの範囲内にある。二官
能性および四官能性モノマーにおけるエポキシ基の割合
は、０．７３であった。使用したバインダーは、上記の
実施例３と同じであり、それと当量のモノマーと重量比
を基準としたバインダーのセグメントの比は、６８．
０：３２．０であった。使用したヨードニウム塩は，ビ
ス（メチルフェニル）ヨードニウム テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボラート（Ｒｈｏｎｅ Ｐｏｕｌ
ｅｎｃからＳｉｌｃｏｌｅａｓｅ ＵＶ Ｃａｔａ Ｐ
ｏｕｄｒｅ（登録商標）２００として得られ、塩化メチ
レン：ヘキサンからの再結晶によって精製し、使用する
前に乾燥させた。）である。ホログラム媒体は、上記の
実施例１と同じ方法で調製した。その媒体は、ヨードニ
ウム塩７．０重量％および増感剤０．０３６重量％を含
有した。
能性および四官能性モノマーにおけるエポキシ基の割合
は、０．７３であった。使用したバインダーは、上記の
実施例３と同じであり、それと当量のモノマーと重量比
を基準としたバインダーのセグメントの比は、６８．
０：３２．０であった。使用したヨードニウム塩は，ビ
ス（メチルフェニル）ヨードニウム テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボラート（Ｒｈｏｎｅ Ｐｏｕｌ
ｅｎｃからＳｉｌｃｏｌｅａｓｅ ＵＶ Ｃａｔａ Ｐ
ｏｕｄｒｅ（登録商標）２００として得られ、塩化メチ
レン：ヘキサンからの再結晶によって精製し、使用する
前に乾燥させた。）である。ホログラム媒体は、上記の
実施例１と同じ方法で調製した。その媒体は、ヨードニ
ウム塩７．０重量％および増感剤０．０３６重量％を含
有した。
【００４２】傾斜縞平面波（ｓｌａｎｔ ｆｒｉｎｇｅ
ｐｌａｎｅ−ｗａｖｅ）伝達ホログラムを、振動数が
二重のＮｄ：ＹＡＧのレーザー（５３２ｎｍ）で、記録
した。そのレーザーには、二本の空間的にフィルターを
透過され、そして平行なレーザーライティングビーム
（ビーム間角度３４°１０°で、この媒体の試料に直接
当てる）を使用した。この２本のビームの強度は、相対
角度コサイン因子を補正するために調整した。その試料
を、Ｎｅｗｐｏｒｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＭｏ
ｄｅｌ ４９５の動力化回転ステージ上に取り付けた。
ステージの回転位置、そしてそれによりライティングビ
ームに関する試料面の角度を、Ｎｅｗｐｏｒｔ Ｃｏｒ
ｐｏｒａｔｉｏｎ製のＭｏｄｅｌ ＰＭＣ２００Ｐモー
ションコントローラーを介して、コンピュータ制御し
た。従って、ホログラム暴露の間、信号と参照ビーム経
路のビーム間角度を固定したままにして、その間に、ホ
ログラム記録媒体の試料を、その結果の傾斜縞ホログラ
ムの格子角度を変更するために回転させた。
ｐｌａｎｅ−ｗａｖｅ）伝達ホログラムを、振動数が
二重のＮｄ：ＹＡＧのレーザー（５３２ｎｍ）で、記録
した。そのレーザーには、二本の空間的にフィルターを
透過され、そして平行なレーザーライティングビーム
（ビーム間角度３４°１０°で、この媒体の試料に直接
当てる）を使用した。この２本のビームの強度は、相対
角度コサイン因子を補正するために調整した。その試料
を、Ｎｅｗｐｏｒｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＭｏ
ｄｅｌ ４９５の動力化回転ステージ上に取り付けた。
ステージの回転位置、そしてそれによりライティングビ
ームに関する試料面の角度を、Ｎｅｗｐｏｒｔ Ｃｏｒ
ｐｏｒａｔｉｏｎ製のＭｏｄｅｌ ＰＭＣ２００Ｐモー
ションコントローラーを介して、コンピュータ制御し
た。従って、ホログラム暴露の間、信号と参照ビーム経
路のビーム間角度を固定したままにして、その間に、ホ
ログラム記録媒体の試料を、その結果の傾斜縞ホログラ
ムの格子角度を変更するために回転させた。
【００４３】角度選択性測定を、振動数が二重のＮｄ：
ＹＡＧのレーザー（５３２ｎｍ）からの空間的にフィル
ターを透過され、および平行なレーザーリーディングビ
ーム（約２０μＷの入射電力）を使って行った。記録の
間、試料を動力化回転ステージ上に取り付け、それによ
って、参照もしくは信号ビームどちらかに関する試料面
の角度をＮｅｗｐｏｒｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製の
Ｍｏｄｅｌ ＰＭＣ２００Ｐモーションコントローラー
を介して、コンピュータ制御した。このリード角度を、
最初の取り付け位置に試料を保ったままの記録状態から
調節（ｄｅｔｕｎｅ）し、そしてこの回折効率を、Ｎｅ
ｗｐｏｒｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のフォトダイオ
ードおよび光学メータ（上記参照）を使用して、それぞ
れの角度における増加分を測定した。この角度分解能
は、０．００１°であり、そして実験的に決定される再
現性は、０．００５°以下であった。この分解能は、測
定の間じゅう一方向性の回転を使用することで達成さ
れ、それにより準拠しているウォームギアのバックラッ
シからのいかなる効果をも除外した。従って、これらの
測定では、信号および参照ビームの経路をビーム間角度
３４°１０´に固定し、一方で体積ホログラムの表面
を、信号および参照リードビーム経路の入射角を変更す
るために回転させた。角度選択性の測定を、０．００１
°≦Δθ≦０．０２°の増加分での記録位置からの正お
よび負のいくつかの程度の範囲にわたるホログラムの回
転により、それぞれビーム経路１〜２´（読み出し２
´）および１〜２´（読み出し１´）に沿って、信号お
よび参照ビームに対して独立して行った。これと同じ方
法で、体積ホログラムの再構築の間、Ｂｒａｇｇ整合を
成し遂げるために必要な記録状態からの角度偏向、ΔΩ
1およびΔΩ2（添付図を参照）を、それぞれの傾斜縞構
造に対する信号および参照ビームについて明白に得た。
ＹＡＧのレーザー（５３２ｎｍ）からの空間的にフィル
ターを透過され、および平行なレーザーリーディングビ
ーム（約２０μＷの入射電力）を使って行った。記録の
間、試料を動力化回転ステージ上に取り付け、それによ
って、参照もしくは信号ビームどちらかに関する試料面
の角度をＮｅｗｐｏｒｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製の
Ｍｏｄｅｌ ＰＭＣ２００Ｐモーションコントローラー
を介して、コンピュータ制御した。このリード角度を、
最初の取り付け位置に試料を保ったままの記録状態から
調節（ｄｅｔｕｎｅ）し、そしてこの回折効率を、Ｎｅ
ｗｐｏｒｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のフォトダイオ
ードおよび光学メータ（上記参照）を使用して、それぞ
れの角度における増加分を測定した。この角度分解能
は、０．００１°であり、そして実験的に決定される再
現性は、０．００５°以下であった。この分解能は、測
定の間じゅう一方向性の回転を使用することで達成さ
れ、それにより準拠しているウォームギアのバックラッ
シからのいかなる効果をも除外した。従って、これらの
測定では、信号および参照ビームの経路をビーム間角度
３４°１０´に固定し、一方で体積ホログラムの表面
を、信号および参照リードビーム経路の入射角を変更す
るために回転させた。角度選択性の測定を、０．００１
°≦Δθ≦０．０２°の増加分での記録位置からの正お
よび負のいくつかの程度の範囲にわたるホログラムの回
転により、それぞれビーム経路１〜２´（読み出し２
´）および１〜２´（読み出し１´）に沿って、信号お
よび参照ビームに対して独立して行った。これと同じ方
法で、体積ホログラムの再構築の間、Ｂｒａｇｇ整合を
成し遂げるために必要な記録状態からの角度偏向、ΔΩ
1およびΔΩ2（添付図を参照）を、それぞれの傾斜縞構
造に対する信号および参照ビームについて明白に得た。
【００４４】記録の初期状態において、トランスバース
方向（ｚ−軸）およびラテラル方向（ｘ−軸）、それぞ
れＫz,iおよびＫx,iに沿った格子ベクトル成分は、以下
のように記録媒体の平均屈折率（ｎ）、ならびにホログ
ラム記録の間用いた外部信号および参照ライトビーム角
度（それぞれΩ1extおよびΩ2ext）に関して表現され得
る。
方向（ｚ−軸）およびラテラル方向（ｘ−軸）、それぞ
れＫz,iおよびＫx,iに沿った格子ベクトル成分は、以下
のように記録媒体の平均屈折率（ｎ）、ならびにホログ
ラム記録の間用いた外部信号および参照ライトビーム角
度（それぞれΩ1extおよびΩ2ext）に関して表現され得
る。
【００４５】
【数１】
トランスバースおよびラテラル方向、それぞれΔＫzお
よびΔＫxに沿った格子ベクトル成分における、収縮の
ために生じる増分の変化は、
よびΔＫxに沿った格子ベクトル成分における、収縮の
ために生じる増分の変化は、
【００４６】
【数２】
という測定量に関して表現され得る。ここでΔΩ1extお
よびΔΩ2extは、二本のライトビームのＢｒａｇｇ整合
状態からのそれぞれの角度偏向であり、およびΔｎは、
記録の間に起こる屈折率の変化である。
よびΔΩ2extは、二本のライトビームのＢｒａｇｇ整合
状態からのそれぞれの角度偏向であり、およびΔｎは、
記録の間に起こる屈折率の変化である。
【００４７】内部傾斜角度変化、Δφは、以下のように
初期のラテラルおよびトランスバースの格子成分（Ｋ
x,iおよびＫz,i）ならびにこのそれぞれの変化（ΔＫz
およびΔＫz）に関して表現され得る。
初期のラテラルおよびトランスバースの格子成分（Ｋ
x,iおよびＫz,i）ならびにこのそれぞれの変化（ΔＫz
およびΔＫz）に関して表現され得る。
【００４８】
【数３】
ここで収縮の間に、この格子周期成分（Λx）は、格子
傾斜角が縞回転モデルの境界条件とは反対に、増加した
角度に対して回転する場合固定されると仮定されない。
格子ベクトルのトランスバース（フィルム面に対して垂
直）成分およびラテラル（フィルム面に対して平行）成
分における相対変化（それぞれ−ΔＫz／Ｋz,iおよび−
ΔＫx／Ｋx,i）は、傾斜角度（φ）の独立したそれぞれ
の方向に沿った物理物質収縮に等しい。付随の図面を参
照し、および一軸収縮であると仮定すると、トランスバ
ース方向の格子周期（Λz）は、記録の前および後で
は、
傾斜角が縞回転モデルの境界条件とは反対に、増加した
角度に対して回転する場合固定されると仮定されない。
格子ベクトルのトランスバース（フィルム面に対して垂
直）成分およびラテラル（フィルム面に対して平行）成
分における相対変化（それぞれ−ΔＫz／Ｋz,iおよび−
ΔＫx／Ｋx,i）は、傾斜角度（φ）の独立したそれぞれ
の方向に沿った物理物質収縮に等しい。付随の図面を参
照し、および一軸収縮であると仮定すると、トランスバ
ース方向の格子周期（Λz）は、記録の前および後で
は、
【００４９】
【数４】
である。ここで、Ｋz＝２π／ΛzおよびΔＫz/Ｋz＝−
ΔΛz／Λzである。一般に、収縮が一軸であるかどうか
に関係なく、ΔＫx/Ｋx＝−ΔΛx／Λxである。傾斜角
度に依存して、明らかにΔＫ/Ｋiは、変化する。しか
し、ΔＫ/Ｋiの大きさは、格子ベクトル方向に沿った寸
法の変化量を直接表すにもかかわらず、それは、方向の
情報を与えず、そしてラテラルｙ方向からの寄与は含ま
ない。記録の間の相対体積変化、ΔＶ／Ｖを評価するこ
とは、ラテラル方向において均一性であるという仮定を
必要とする（すなわちΔｘ／ｘ＝Δｙ／ｙ）。最終の記
録状態がガラス状の物質であることを考えると、そのこ
とは、フォトポリマーにおける体積ホログラム形成にお
いて合理的である。従って、相対体積収縮は、
ΔΛz／Λzである。一般に、収縮が一軸であるかどうか
に関係なく、ΔＫx/Ｋx＝−ΔΛx／Λxである。傾斜角
度に依存して、明らかにΔＫ/Ｋiは、変化する。しか
し、ΔＫ/Ｋiの大きさは、格子ベクトル方向に沿った寸
法の変化量を直接表すにもかかわらず、それは、方向の
情報を与えず、そしてラテラルｙ方向からの寄与は含ま
ない。記録の間の相対体積変化、ΔＶ／Ｖを評価するこ
とは、ラテラル方向において均一性であるという仮定を
必要とする（すなわちΔｘ／ｘ＝Δｙ／ｙ）。最終の記
録状態がガラス状の物質であることを考えると、そのこ
とは、フォトポリマーにおける体積ホログラム形成にお
いて合理的である。従って、相対体積収縮は、
【００５０】
【数５】
と表現され得る。
【００５１】（１.角度シフト）
ｘ（ラテラル）およびｚ（トランスバース）方向に沿っ
た格子周期での、ホログラム形成の間に起こる、寸法変
化の大きさ（−ΔＫx／Ｋx,iおよび−ΔＫz／Ｋz,i）
を、以下により上記の式３、４、６、および７を用いた
格子ベクトル成分のシフトから明示的に計算した：
（１）外部の信号および参照ビームライト角度（それぞ
れΔΩ1extおよびΔΩ2ext）によるＢｒａｇｇ角度の偏
向を測定すること；および（２）ホログラム記録媒体の
平均屈折率（ｎ）の変化を決定すること。前者は、Ｂｒ
ａｇｇ整合を達成するために必要な参照および信号ビー
ムの角度での角度変化の差を、試料の回転（すなわち、
記録する相対位置は、変更しない）により直接測定する
ことで得た。後者は、Ｂａｕｓｃｈ ＆ Ｌｏｍｂ Ｒ
ｅｆｒａｃｔｏｍｅｔｅｒを用いて、２×１０-4の範囲
以内で測定した。カチオン開環重合の間、結合次数は、
変化しないので、記録媒体への暴露の間に起こる屈折率
の増加は、主にこの物質の密度が増加したためである。
た格子周期での、ホログラム形成の間に起こる、寸法変
化の大きさ（−ΔＫx／Ｋx,iおよび−ΔＫz／Ｋz,i）
を、以下により上記の式３、４、６、および７を用いた
格子ベクトル成分のシフトから明示的に計算した：
（１）外部の信号および参照ビームライト角度（それぞ
れΔΩ1extおよびΔΩ2ext）によるＢｒａｇｇ角度の偏
向を測定すること；および（２）ホログラム記録媒体の
平均屈折率（ｎ）の変化を決定すること。前者は、Ｂｒ
ａｇｇ整合を達成するために必要な参照および信号ビー
ムの角度での角度変化の差を、試料の回転（すなわち、
記録する相対位置は、変更しない）により直接測定する
ことで得た。後者は、Ｂａｕｓｃｈ ＆ Ｌｏｍｂ Ｒ
ｅｆｒａｃｔｏｍｅｔｅｒを用いて、２×１０-4の範囲
以内で測定した。カチオン開環重合の間、結合次数は、
変化しないので、記録媒体への暴露の間に起こる屈折率
の増加は、主にこの物質の密度が増加したためである。
【００５２】この結果を、本実施例の記録媒体での飽和
（回折効率９０％）近くまで記録させた傾斜縞平面波ホ
ログラムとして、表３および４に示す。内部格子角度φ
＝５°を有する傾斜縞ホログラムに対する試料面の反時
計回転は、記録直後にＢｒａｇｇ整合（Ω1extおよびΩ
2ext）を必要とした。それゆえに、この角度変化の差
（ΔΩ1extおよびΔΩ2ext）は、信号および参照ビーム
記録角度が、同じもしくは異なった象現にあるかどうか
に関係なく、それぞれ負（−）および正（＋）であっ
た。必要とする反時計回転は、安定なプラトー値を得る
ために必要な待ち時間の間にわずかに増加した。従っ
て、φ＝５°に対するΔΩ1extおよびΔΩ2extの最終符
号は、それぞれ（−）および（＋）であった。そのこと
は、格子傾斜角度が増加したことおよび格子周期が減少
したことを指し示す。
（回折効率９０％）近くまで記録させた傾斜縞平面波ホ
ログラムとして、表３および４に示す。内部格子角度φ
＝５°を有する傾斜縞ホログラムに対する試料面の反時
計回転は、記録直後にＢｒａｇｇ整合（Ω1extおよびΩ
2ext）を必要とした。それゆえに、この角度変化の差
（ΔΩ1extおよびΔΩ2ext）は、信号および参照ビーム
記録角度が、同じもしくは異なった象現にあるかどうか
に関係なく、それぞれ負（−）および正（＋）であっ
た。必要とする反時計回転は、安定なプラトー値を得る
ために必要な待ち時間の間にわずかに増加した。従っ
て、φ＝５°に対するΔΩ1extおよびΔΩ2extの最終符
号は、それぞれ（−）および（＋）であった。そのこと
は、格子傾斜角度が増加したことおよび格子周期が減少
したことを指し示す。
【００５３】表３に、Ω1ext、Ω2ext、ΔΩ1extおよび
ΔΩ2extの測定値、ならびにそれに対応する記録の開始
での内部の格子傾斜角φ0、安定な回折効率が最初に得
られる初期状態での内部の格子傾斜角φi、およびホロ
グラム記録媒体の最終の物理状態での内部の格子傾斜角
φfを記載する。記載したΔΩ1extおよびΔΩ2extの値
は、約０．０３°および３０°の間の格子傾斜角度で記
録した個々のホログラムで観測した最終シフト（プラト
ー値）である。記録の開始においてこの物質は、流体で
あるのに対して、最初に安定な格子形成が起こる時、こ
の物質はプレゲル状態になり、そして記録されそして硬
化の十分な程度に達した後、この物質はガラス状態にな
る。従って、表３で用い、および表４に記載したΔＫx
／Ｋx,iおよびΔＫz／Ｋz,iの計算に用いた屈折率の初
期値は、安定な回折効率（すなわちη〜０．２５％）の
観測に必要な流束に等しい暴露で画像処理した後に、記
録媒体の測定から確認した。そのような暴露後の記録媒
体の物理状態は、定義した空間的振動数を有する安定な
縞構造を明らかにするための十分な微細構造の整合性を
含有する。この暴露は、ここで限界暴露流束（ホログラ
ム活性を最初に検出するために必要な流束とここでは定
義される）を数ｍＪ／ｃｍ2だけ超える。物理物質収縮
（ΔＶ／Ｖ）を計算する目的のためにこの方法は、記録
開始での値よりも飽和近くまで記録した場合のホログラ
ム形成の間の初期屈折率のより正当な見積もりを与え
る。屈折率で重要な変化が、ホログラムの形成の初期の
段階の間に起こる場合、前者の使用は、おそらく物理物
質収縮の保存的見積りという結果になるのに対して、後
者の使用は、ΔＫz／Ｋz,i（ΔＫx／Ｋx,iは、Δｎとは
無関係である）の結果的な過少評価に影響を与え得る。
表３および４において使用した屈折率の最終値は、フォ
トポリマー記録媒体を、全ダイナミック・レンジを費や
すのに必要なものと釣り合った非ホログラム流束で暴露
した後に測定したものに対応する。
ΔΩ2extの測定値、ならびにそれに対応する記録の開始
での内部の格子傾斜角φ0、安定な回折効率が最初に得
られる初期状態での内部の格子傾斜角φi、およびホロ
グラム記録媒体の最終の物理状態での内部の格子傾斜角
φfを記載する。記載したΔΩ1extおよびΔΩ2extの値
は、約０．０３°および３０°の間の格子傾斜角度で記
録した個々のホログラムで観測した最終シフト（プラト
ー値）である。記録の開始においてこの物質は、流体で
あるのに対して、最初に安定な格子形成が起こる時、こ
の物質はプレゲル状態になり、そして記録されそして硬
化の十分な程度に達した後、この物質はガラス状態にな
る。従って、表３で用い、および表４に記載したΔＫx
／Ｋx,iおよびΔＫz／Ｋz,iの計算に用いた屈折率の初
期値は、安定な回折効率（すなわちη〜０．２５％）の
観測に必要な流束に等しい暴露で画像処理した後に、記
録媒体の測定から確認した。そのような暴露後の記録媒
体の物理状態は、定義した空間的振動数を有する安定な
縞構造を明らかにするための十分な微細構造の整合性を
含有する。この暴露は、ここで限界暴露流束（ホログラ
ム活性を最初に検出するために必要な流束とここでは定
義される）を数ｍＪ／ｃｍ2だけ超える。物理物質収縮
（ΔＶ／Ｖ）を計算する目的のためにこの方法は、記録
開始での値よりも飽和近くまで記録した場合のホログラ
ム形成の間の初期屈折率のより正当な見積もりを与え
る。屈折率で重要な変化が、ホログラムの形成の初期の
段階の間に起こる場合、前者の使用は、おそらく物理物
質収縮の保存的見積りという結果になるのに対して、後
者の使用は、ΔＫz／Ｋz,i（ΔＫx／Ｋx,iは、Δｎとは
無関係である）の結果的な過少評価に影響を与え得る。
表３および４において使用した屈折率の最終値は、フォ
トポリマー記録媒体を、全ダイナミック・レンジを費や
すのに必要なものと釣り合った非ホログラム流束で暴露
した後に測定したものに対応する。
【００５４】表３に記載した角度偏向の大きさは、ラジ
カル化学を基礎とする従来のフォトポリマーにおいて類
似の格子角で記録された傾斜縞ホログラムについて最近
報告されたものの約１／５であった。；上述のＲｈｅｅ
ら、論文を参照のこと。上記に記載のように、光重合と
同時に高密化に寄与する緩やかな収縮のレベルは、緩や
かな傾斜角度でさえ角度帯域幅を超え得るＢｒａｇｇプ
ロフィールにおいて、典型的な角度偏向を引き起こし
た。しかしながら、本実施例の記録媒体によって示され
るこの角度シフトは、内部の格子傾斜角度≦３０°、お
よび約１３０μｍの厚さを有するホログラムに対する角
度プロフィールの角度帯域幅未満である。これらの結果
はまた、体積ホログラムを格子傾斜角度を増加しながら
記録した場合、共存物の増加が、Ｂｒａｇｇ整合状態か
らのそれぞれの角度シフトで示されることを表す。上記
の式５から明らかなように、この増加は、増加した傾斜
角度とより大きな格子ベクトルのトランスバース成分と
の間の関係から生じる物理収縮への寄与と一致する。格
子傾斜角度の関数としての角度シフトでの相対差の大き
さは、例えば光学データの記憶のような応用としてホロ
グラム物質を考える際、重要な性能基準となる。例え
ば、フーリエ画像のような多重格子を含有する単一の画
像について、その差が大きくなる場合、画像の再構成
は、画像の忠実度の欠如および結果的収縮を示し、それ
によって達成される未加工のビット誤り率を減らす。
カル化学を基礎とする従来のフォトポリマーにおいて類
似の格子角で記録された傾斜縞ホログラムについて最近
報告されたものの約１／５であった。；上述のＲｈｅｅ
ら、論文を参照のこと。上記に記載のように、光重合と
同時に高密化に寄与する緩やかな収縮のレベルは、緩や
かな傾斜角度でさえ角度帯域幅を超え得るＢｒａｇｇプ
ロフィールにおいて、典型的な角度偏向を引き起こし
た。しかしながら、本実施例の記録媒体によって示され
るこの角度シフトは、内部の格子傾斜角度≦３０°、お
よび約１３０μｍの厚さを有するホログラムに対する角
度プロフィールの角度帯域幅未満である。これらの結果
はまた、体積ホログラムを格子傾斜角度を増加しながら
記録した場合、共存物の増加が、Ｂｒａｇｇ整合状態か
らのそれぞれの角度シフトで示されることを表す。上記
の式５から明らかなように、この増加は、増加した傾斜
角度とより大きな格子ベクトルのトランスバース成分と
の間の関係から生じる物理収縮への寄与と一致する。格
子傾斜角度の関数としての角度シフトでの相対差の大き
さは、例えば光学データの記憶のような応用としてホロ
グラム物質を考える際、重要な性能基準となる。例え
ば、フーリエ画像のような多重格子を含有する単一の画
像について、その差が大きくなる場合、画像の再構成
は、画像の忠実度の欠如および結果的収縮を示し、それ
によって達成される未加工のビット誤り率を減らす。
【００５５】
【表３】
*傾斜縞ホログラムを、内部傾斜角度φ（約５°、１０
°、２０°、および３０°）で飽和近くまで記録した。 †Ω1extおよびΩ2extは、それぞれ外部の信号および参
照記録角度である。この外部ビーム間角度φ＝５°で
は、３２．０°であり、ならびにφ≧１０°では、３
４．０５°であった。 ‡ΔΩ1extおよびΔΩ2extは、Ｂｒａｇｇ整合状態から
の外部信号および参照ビームリード角度の偏向である。 §φ0は、記録開始（ｎ0,532＝１．５１３３）での内部
傾斜角度である。 ‖φiは、安定な回折効率が、最初に観測されたとき
（ｎi,532＝１．５２０６）での内部傾斜角度である。 ¶φf'は、フォトポリマーが完全に硬化した後の、最終
内部傾斜角度であり、ΔΩ1extをΩ1extに、およびΔΩ
2extをΩ2extに加え、次いでｎf,532＝１．５３０５を
用いて傾斜角度を決定することにより計算される。** φfは、フォトポリマーが完全に硬化した後の最終内
部傾斜角度であり、Δφ（Ω1ext、Ω2ext、ΔΩ1ext、
ΔΩ2extおよびΔｎ＝ｎf−ｎiの関数）を第一次近似
し、次いでΔφにφを加えることによって計算される
（上記の式５を参照のこと）。
°、２０°、および３０°）で飽和近くまで記録した。 †Ω1extおよびΩ2extは、それぞれ外部の信号および参
照記録角度である。この外部ビーム間角度φ＝５°で
は、３２．０°であり、ならびにφ≧１０°では、３
４．０５°であった。 ‡ΔΩ1extおよびΔΩ2extは、Ｂｒａｇｇ整合状態から
の外部信号および参照ビームリード角度の偏向である。 §φ0は、記録開始（ｎ0,532＝１．５１３３）での内部
傾斜角度である。 ‖φiは、安定な回折効率が、最初に観測されたとき
（ｎi,532＝１．５２０６）での内部傾斜角度である。 ¶φf'は、フォトポリマーが完全に硬化した後の、最終
内部傾斜角度であり、ΔΩ1extをΩ1extに、およびΔΩ
2extをΩ2extに加え、次いでｎf,532＝１．５３０５を
用いて傾斜角度を決定することにより計算される。** φfは、フォトポリマーが完全に硬化した後の最終内
部傾斜角度であり、Δφ（Ω1ext、Ω2ext、ΔΩ1ext、
ΔΩ2extおよびΔｎ＝ｎf−ｎiの関数）を第一次近似
し、次いでΔφにφを加えることによって計算される
（上記の式５を参照のこと）。
【００５６】（２．格子ベクトル成分）
表４にΔＫx／ＫxおよびΔＫz／Ｋzの計算した値を記載
する。それは、約５°と３０°の間の格子傾斜角度の範
囲を有する飽和近くまで記録されたホログラムにおい
て、ラテラルおよびトランスバース方向（それぞれ−Δ
Λx／Λxおよび−ΔΛz／Λz）での格子周期における負
の相対変化に等しい。トランスバース方向に沿った物理
物質収縮の大きさは、内部格子傾斜角度φ≧１０°以上
で０．８％オーダーにあり、そして同様に平均体積変化
は約０．８％であった。このことは、高い回折効率を有
するホログラムの形成の間の記録媒体によって示され、
ならびに流体状態と十分に重合したガラス状態との間の
全増加１．１４％（Δｎ532＝＋０．０１７２）以下で
ある、屈折率の増加（Δｎ＝０．６５％）とほぼ一致す
る。カチオン性開環重合は、結合次数の変化によって達
成されない、従って重合の間に起こる屈折率の増加は、
直接記録物質の高密化に関係する。φ＝５°でのトラン
スバース方向に沿った収縮の大きさは、１．６１％まで
に増大するのに対して、体積収縮（１．３１％）は、ラ
テラル方向での少しの正の寸法変化のためにトランスバ
ース体積よりもわずかに下回った。ΔΛxの大きさがゼ
ロに近づき、そして結果的にラテラル方向でのわずかな
膨張が、Λxの全増大を表す。それに対してΔΛzの大き
さは、約１０倍大きくなり、従ってほとんど影響されな
い。
する。それは、約５°と３０°の間の格子傾斜角度の範
囲を有する飽和近くまで記録されたホログラムにおい
て、ラテラルおよびトランスバース方向（それぞれ−Δ
Λx／Λxおよび−ΔΛz／Λz）での格子周期における負
の相対変化に等しい。トランスバース方向に沿った物理
物質収縮の大きさは、内部格子傾斜角度φ≧１０°以上
で０．８％オーダーにあり、そして同様に平均体積変化
は約０．８％であった。このことは、高い回折効率を有
するホログラムの形成の間の記録媒体によって示され、
ならびに流体状態と十分に重合したガラス状態との間の
全増加１．１４％（Δｎ532＝＋０．０１７２）以下で
ある、屈折率の増加（Δｎ＝０．６５％）とほぼ一致す
る。カチオン性開環重合は、結合次数の変化によって達
成されない、従って重合の間に起こる屈折率の増加は、
直接記録物質の高密化に関係する。φ＝５°でのトラン
スバース方向に沿った収縮の大きさは、１．６１％まで
に増大するのに対して、体積収縮（１．３１％）は、ラ
テラル方向での少しの正の寸法変化のためにトランスバ
ース体積よりもわずかに下回った。ΔΛxの大きさがゼ
ロに近づき、そして結果的にラテラル方向でのわずかな
膨張が、Λxの全増大を表す。それに対してΔΛzの大き
さは、約１０倍大きくなり、従ってほとんど影響されな
い。
【００５７】内部の傾斜角度の変化をまた、角度率およ
び屈折率の差を測定するために上記の方法を用いて決定
したものとして、表４に記載する。このホログラム形成
の間に起こる格子傾斜角度の増加は、小さかった。この
大きさは、単調な方法でより大きな傾斜角度（φ>５
°）で、増加したにもかかわらず、割合の変化は、１％
以下であった。ほとんど傾斜していない平面波ホログラ
ム（例えばφ＝−０．０３°）は、極端に小さなＢｒａ
ｇｇ整合状態からの角度偏向（ΔΩ1ext＝−０．０３°
およびΔΩ2ext＝０．００３°）を示した。これらは、
これらの記録状態下で、ラテラル方向に沿って起こる無
視できる寸法変化しか起こらないことを示す。しかしな
がら格子ベクトル成分の相対変化から物理体積変化を決
定するのに関連した誤差は、傾斜角度が、約３°以下の
場合には、かなり大きくなる。小さな傾斜角度で、Ｋ
z,iの値（これらは、端数でありそしてφより小さい１
０の因子に関してである）は、ΔＫz／Ｋz,iの決定を支
配する。結果的に、φならびにそれによるΩ1extおよび
Ω2extにおける小さな誤差でさえ、上記の実施例３およ
び４から明らかなように、ΔＫz／Ｋz,iの大きさに重大
な影響を持つ。従って、ΔΩ1extおよびΔΩ2extにおけ
る実験誤差は、小さな格子傾斜角度に対して増幅され、
そしてそのような場合において、物理体積における変化
の最終計算値に、大きな不確実性をもたらす。
び屈折率の差を測定するために上記の方法を用いて決定
したものとして、表４に記載する。このホログラム形成
の間に起こる格子傾斜角度の増加は、小さかった。この
大きさは、単調な方法でより大きな傾斜角度（φ>５
°）で、増加したにもかかわらず、割合の変化は、１％
以下であった。ほとんど傾斜していない平面波ホログラ
ム（例えばφ＝−０．０３°）は、極端に小さなＢｒａ
ｇｇ整合状態からの角度偏向（ΔΩ1ext＝−０．０３°
およびΔΩ2ext＝０．００３°）を示した。これらは、
これらの記録状態下で、ラテラル方向に沿って起こる無
視できる寸法変化しか起こらないことを示す。しかしな
がら格子ベクトル成分の相対変化から物理体積変化を決
定するのに関連した誤差は、傾斜角度が、約３°以下の
場合には、かなり大きくなる。小さな傾斜角度で、Ｋ
z,iの値（これらは、端数でありそしてφより小さい１
０の因子に関してである）は、ΔＫz／Ｋz,iの決定を支
配する。結果的に、φならびにそれによるΩ1extおよび
Ω2extにおける小さな誤差でさえ、上記の実施例３およ
び４から明らかなように、ΔＫz／Ｋz,iの大きさに重大
な影響を持つ。従って、ΔΩ1extおよびΔΩ2extにおけ
る実験誤差は、小さな格子傾斜角度に対して増幅され、
そしてそのような場合において、物理体積における変化
の最終計算値に、大きな不確実性をもたらす。
【００５８】記録後ＫxおよびＫzを得るために、ΔΩ
1extをΩ1extに、ΔΩ2extをΩ2extに、そしてΔｎをｎ
に加えることによって、正確な解を、上記の式１および
２を用いて決定した、ΔＫx／Ｋx,i、ΔＫz／Ｋz,iおよ
びΔＶ／Ｖの値をまた、表４に記載した。上記の式３お
よび４を用いて得られた、第一次近似による結果は、≦
２０°の格子傾斜角度で記録したホログラムに対する正
確な解の結果にほぼ一致する。しかしながら、第一次近
似は、内部格子傾斜角度φ≒３０°の場合、トランスバ
ース方向に沿った収縮の大きさに対して過剰評価につな
がる。収縮は小さいにもかかわらず、φ≒３０°に対す
るＢｒａｇｇ不整合の大きさが、十分に大きく、著しい
差となる。表３および４で得られたデータは、Ｂｒａｇ
ｇ整合条件からのそれぞれ角度シフトでの付随的増加を
示す。これらの表は、だんだん増加するより大きな格子
傾斜角で記録し、そしてホログラム形成の間のトランス
バース方向における基本的に等しい量の収縮を行う体積
ホログラムを確立する。従って、収縮量が小さい場合、
第一近似方法は、Ｂｒａｇｇ不整合が大きくあり得る、
大きな格子傾斜角度を含む場合を除くと、収縮の決定に
対して満足な方法を提供する。逆に、収縮が穏やかな場
合（すなわち数パーセントもしくはそれ以上）、Ｂｒａ
ｇｇ不整合の大きさは、小さな格子角度でさえ必ず大き
くなり、従って、小さな格子角度という狭い範囲を除い
て、正確な解決方法が適用されるべきである。
1extをΩ1extに、ΔΩ2extをΩ2extに、そしてΔｎをｎ
に加えることによって、正確な解を、上記の式１および
２を用いて決定した、ΔＫx／Ｋx,i、ΔＫz／Ｋz,iおよ
びΔＶ／Ｖの値をまた、表４に記載した。上記の式３お
よび４を用いて得られた、第一次近似による結果は、≦
２０°の格子傾斜角度で記録したホログラムに対する正
確な解の結果にほぼ一致する。しかしながら、第一次近
似は、内部格子傾斜角度φ≒３０°の場合、トランスバ
ース方向に沿った収縮の大きさに対して過剰評価につな
がる。収縮は小さいにもかかわらず、φ≒３０°に対す
るＢｒａｇｇ不整合の大きさが、十分に大きく、著しい
差となる。表３および４で得られたデータは、Ｂｒａｇ
ｇ整合条件からのそれぞれ角度シフトでの付随的増加を
示す。これらの表は、だんだん増加するより大きな格子
傾斜角で記録し、そしてホログラム形成の間のトランス
バース方向における基本的に等しい量の収縮を行う体積
ホログラムを確立する。従って、収縮量が小さい場合、
第一近似方法は、Ｂｒａｇｇ不整合が大きくあり得る、
大きな格子傾斜角度を含む場合を除くと、収縮の決定に
対して満足な方法を提供する。逆に、収縮が穏やかな場
合（すなわち数パーセントもしくはそれ以上）、Ｂｒａ
ｇｇ不整合の大きさは、小さな格子角度でさえ必ず大き
くなり、従って、小さな格子角度という狭い範囲を除い
て、正確な解決方法が適用されるべきである。
【００５９】
【表４】
†Δφは、第一次近似によって決定した（上記の式５を
参照）。ここでラテラルおよびトランスバース方向にお
けるＫおよびΔＫの成分を、表３と同様に式１、２、
３、および４、ならびにΔｎ＝ｎf,532−ｎi,532で規定
する。 ‡ΔＫz／Ｋz,iおよびΔＫx／Ｋx,iは、トランスバース
およびラテラル方向に沿った格子ベクトル成分における
相対変化（ｚおよびｘ方向における負の物質収縮、−Δ
Λz／Λzおよび−ΔΛx／Λx、傾斜角度に独立）であ
り、そして式３および４から第１次近似を用いて計算さ
れる。 §−ΔＶ／Ｖは、式８ならびにΔＫz／Ｋz,iおよびΔＫ
x／Ｋx,iの第一次近似を用い、そしてｘならびにｙの寸
法変化が等しいと仮定して決定した。 ［図面の簡単な説明］
参照）。ここでラテラルおよびトランスバース方向にお
けるＫおよびΔＫの成分を、表３と同様に式１、２、
３、および４、ならびにΔｎ＝ｎf,532−ｎi,532で規定
する。 ‡ΔＫz／Ｋz,iおよびΔＫx／Ｋx,iは、トランスバース
およびラテラル方向に沿った格子ベクトル成分における
相対変化（ｚおよびｘ方向における負の物質収縮、−Δ
Λz／Λzおよび−ΔΛx／Λx、傾斜角度に独立）であ
り、そして式３および４から第１次近似を用いて計算さ
れる。 §−ΔＶ／Ｖは、式８ならびにΔＫz／Ｋz,iおよびΔＫ
x／Ｋx,iの第一次近似を用い、そしてｘならびにｙの寸
法変化が等しいと仮定して決定した。 ［図面の簡単な説明］
【図１】図１は、本発明のホログラムのｘｚ−平面にお
ける格子ベクトル成分を模式的に示す。
ける格子ベクトル成分を模式的に示す。
フロントページの続き
(72)発明者 イングウォール， リチャード ティ
ー.
アメリカ合衆国 マセチューセッツ
02165， ニュートン， ダートマウス
ストリート 115
(72)発明者 コルブ， エリック エス.
アメリカ合衆国 マサチューセッツ
01720， アクトン， テニー サーク
ル ６
(72)発明者 リ， シン ユ
アメリカ合衆国 マサチューセッツ
02173， レキシントン， クレセント
ロード 22
(72)発明者 ウォルドマン， デイビッド エイ.
アメリカ合衆国 マサチューセッツ
01720， アクトン， ジアコンダ ア
ベニュー 11
(56)参考文献 特開 平８−160842（ＪＰ，Ａ)
特開 昭59−184220（ＪＰ，Ａ)
特開 昭50−3161（ＪＰ，Ａ)
国際公開97／013183（ＷＯ，Ａ１)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03F 7/00 - 7/42
G03H 1/00 - 5/00
Claims (11)
- 【請求項１】 体積ホログラム（ｖｏｌｕｍｅ ｈｏｌ
ｏｇｒａｍ）を調製するためのプロセスであって、該プ
ロセスは以下：体積ホログラム記録媒体を提供する工程
であって、該媒体は化学線の照射に曝す際に酸を生成し
得る酸発生剤；バインダー；および該酸発生剤から生成
する酸により開始するカチオン重合を起こし得る材料を
含む、工程；および 該酸発生剤が感知するコヒーレント性の化学線照射の標
準ビームを該媒体に通過させ、そして、それによって、
目的ビームである同じコヒーレント性の化学線照射が、
該媒体中にて干渉パターンを形成し、そして、それによ
って、該媒体中にて体積ホログラムを形成する工程を包
含するプロセスであって、 カチオン重合を起こし得る該材料が、二官能性のエポキ
シドモノマー、またはオリゴマー；および、多官能性エ
ポキシドモノマー、またはオリゴマーを含むことを特徴
とし、そして、 該多官能性エポキシドモノマーが以下の式： 【化１】 ここで、各基Ｒ１が、独立して、一価の置換された、ま
たは無置換のＣ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２シクロ
アルキル基、アラルキル基、またはアリール基であり；
各基Ｒ２が、独立して、Ｒ１または２〜10個の炭素原子
を有する一価のエポキシ官能基であり、ただし、該基Ｒ
２のうち少なくとも３つはエポキシ官能基であり；そし
てｎが３〜１０である、式； Ｒ３Ｓｉ（ＯＳｉ（Ｒ４）２Ｒ５）３ （ＩＩＩ） ここで、Ｒ３がＯＳｉ（Ｒ４）２Ｒ５群、または一価の
置換された、もしくは無置換のＣ１−１２アルキル基、
Ｃ１−１２シクロアルキル基、またはアリール基であ
り；各基Ｒ４が、独立して、一価の置換された、または
無置換のＣ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２シクロアル
キル基、アラルキル基、またはアリール基であり；そし
て各基Ｒ５は、独立して、２〜１０個の炭素原子を有す
る一価のエポキシ官能基である式；ならびに、 （Ｒ６）３ＳｉＯ［ＳｉＲ７Ｒ８Ｏ］ｐ［Ｓｉ（Ｒ７）２Ｏ］ｑＳｉ（Ｒ６）３ （ＩＶ） ここで、各基Ｒ６が、独立して、一価の置換された、ま
たは無置換のＣ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２シクロ
アルキル基、アラルキル基、またはアリール基であり；
各基Ｒ７が、独立して、一価の置換された、または無置
換のＣ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２シクロアルキル
基、アラルキル基またはアリール基であり；各基Ｒ
８は、独立して、２〜１０個の炭素原子を有する一価の
エポキシ官能基であり、そしてｐおよびｑが整数であ
り、ここで、ｐは２を超える整数である、式、 の一つ以上の材料を包含することを特徴とする、プロセ
ス。 - 【請求項２】 前記二官能性エポキシドモノマーまたは
オリゴマー、および前記多官能性エポキシドモノマーま
たはオリゴマーの少なくとも一つが、シロキサン、およ
び／またはシクロアルケンオキシドを含むことを特徴と
する、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項３】 前記二官能性エポキシドモノマーが以下
の式： 【化２】 （ここで、各Ｒは独立してアルキル基、またはシクロア
ルキル基である） であることを特徴とする、請求項２に記載のプロセス。 - 【請求項４】 前記多官能性エポキシドモノマーが以
下： （ａ）１，３，５，７−テトラキス（２−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチル）−１，３，５，７−テ
トラメチルシクロテトラシロキサン； （ｂ）式（ＩＩＩ）の化合物であって、ここで、Ｒ
３は、メチル基またはＯＳｉ（Ｒ４）２Ｒ５群であり；
各基Ｒ４はメチル基であり、および各基Ｒ５は２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル群である； （ｃ）式(ＩＶ）の化合物であって、ここで、各基Ｒ６
およびＲ７は、アルキル基である；および （ｄ）式（ＩＶ）の化合物であって、ここで、各基Ｒ８
は、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル群
であり、そしてｐおよびｑはほぼ等しい； の一つ以上を包含する、請求項１〜３のいずれか１項に
記載のプロセス。 - 【請求項５】 前記ホログラム媒体が、前記多官能性エ
ポキシドモノマーまたはオリゴマーの１重量部につき、
前記二官能性エポキシドモノマーまたはオリゴマーの
０．２〜５重量部を含有することを特徴とする、請求項
１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。 - 【請求項６】 前記ホログラム媒体が、前記二官能性エ
ポキシドモノマーまたはオリゴマー、および前記多官能
性エポキシドモノマーまたはオリゴマーの全重量部につ
き、前記バインダーの０．１６〜５重量部を含有するこ
とを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の
プロセス。 - 【請求項７】 前記ホログラムの形成中、該ホログラム
媒体の体積収縮が１パーセントを超えないことを特徴と
する、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。 - 【請求項８】 化学線の照射に曝す際に酸を生成し得る
酸発生剤；バインダー；および該酸発生剤から生成する
酸により開始するカチオン重合を起こし得る材料を包含
する体積ホログラム記録媒体であって、該カチオン重合
を起こし得る材料が、二官能性エポキシドモノマーまた
はオリゴマー；および多官能性エポキシドモノマーまた
はオリゴマーを含むことを特徴とし、そして、 該多官能性エポキシドモノマーが以下の式： 【化３】 ここで、各基Ｒ１が、独立して、一価の置換された、ま
たは無置換のＣ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２シクロ
アルキル基、アラルキル基、またはアリール基であり；
各基Ｒ２が、独立して、Ｒ１または２〜10個の炭素原子
を有する一価のエポキシ官能基であり、ただし、該基Ｒ
２のうち少なくとも三つはエポキシ官能基であり；およ
びｎが３〜１０である、式； Ｒ３Ｓｉ（ＯＳｉ（Ｒ４）２Ｒ５）３ （ＩＩＩ） ここで、Ｒ３がＯＳｉ（Ｒ４）２Ｒ５群、または一価の
置換された、もしくは無置換のＣ１−１２アルキル基、
Ｃ１−１２シクロアルキル基、またはアリール基であ
り；各基Ｒ４が、独立して、一価の置換された、または
無置換のＣ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２シクロアル
キル基、アラルキル基、またはアリール基であり；およ
び各基Ｒ５が、独立して、２〜１０個の炭素原子を有す
る一価のエポキシ官能基である、式；ならびに、 （Ｒ６）３ＳｉＯ［ＳｉＲ７Ｒ８Ｏ］ｐ［Ｓｉ（Ｒ７）２Ｏ］ｑＳｉ（Ｒ６）３ （ＩＶ） ここで、各基Ｒ６が、独立して、一価の置換された、ま
たは無置換のＣ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２シクロ
アルキル基、アラルキル基、またはアリール基であり；
各基Ｒ７が、独立して、一価の置換された、または無置
換のＣ１−１２アルキル基、Ｃ１−１２シクロアルキル
基、アラルキル基またはアリール基であり；各基Ｒ
８が、独立して、２〜１０個の炭素原子を有する一価の
エポキシ官能基であり、そしてｐおよびｑが整数であ
り、ここで、ｐは２を超える整数である、式、 の一つ以上の材料を包含することを特徴とする、体積ホ
ログラム記録媒体。 - 【請求項９】 前記二官能性エポキシドモノマーまたは
オリゴマー、および前記多官能性エポキシドモノマーま
たはオリゴマーが、請求項２〜４のいずれか１項で規定
されることを特徴とする請求項８に記載の体積ホログラ
ム記録媒体。 - 【請求項１０】 前記体積ホログラム記録媒体が、前記
多官能性エポキシドモノマーまたはオリゴマーの１重量
部につき、前記二官能性エポキシドモノマーまたはオリ
ゴマーの０．２〜５重量部を含有することを特徴とす
る、請求項８または９に記載の体積ホログラム記録媒
体。 - 【請求項１１】 前記体積ホログラム記録媒体が、前記
二官能性エポキシドモノマーまたはオリゴマー、および
前記多官能性エポキシドモノマーまたはオリゴマーの全
重量部につき、前記バインダーの０．１６〜５重量部を
含有することを特徴とする、請求項８〜１０のいずれか
１項に記載の体積ホログラム記録媒体。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/970,066 | 1997-11-13 | ||
| US08/970,066 US20030157414A1 (en) | 1997-11-13 | 1997-11-13 | Holographic medium and process for use thereof |
| PCT/US1998/024318 WO1999026112A1 (en) | 1997-11-13 | 1998-11-13 | Holographic medium and process |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001523842A JP2001523842A (ja) | 2001-11-27 |
| JP3473950B2 true JP3473950B2 (ja) | 2003-12-08 |
Family
ID=25516394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000521416A Expired - Fee Related JP3473950B2 (ja) | 1997-11-13 | 1998-11-13 | ホログラム媒体およびプロセス |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20030157414A1 (ja) |
| EP (1) | EP1029258B1 (ja) |
| JP (1) | JP3473950B2 (ja) |
| DE (1) | DE69823860T2 (ja) |
| WO (1) | WO1999026112A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8349524B2 (en) | 2005-11-11 | 2013-01-08 | Tdk Corporation | Hologram recording material and hologram recording medium |
Families Citing this family (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6322933B1 (en) | 1999-01-12 | 2001-11-27 | Siros Technologies, Inc. | Volumetric track definition for data storage media used to record data by selective alteration of a format hologram |
| US6450642B1 (en) | 1999-01-12 | 2002-09-17 | California Institute Of Technology | Lenses capable of post-fabrication power modification |
| US6512606B1 (en) | 1999-07-29 | 2003-01-28 | Siros Technologies, Inc. | Optical storage media and method for optical data storage via local changes in reflectivity of a format grating |
| US6310850B1 (en) | 1999-07-29 | 2001-10-30 | Siros Technologies, Inc. | Method and apparatus for optical data storage and/or retrieval by selective alteration of a holographic storage medium |
| US6322931B1 (en) | 1999-07-29 | 2001-11-27 | Siros Technologies, Inc. | Method and apparatus for optical data storage using non-linear heating by excited state absorption for the alteration of pre-formatted holographic gratings |
| EP2042125A3 (en) | 2000-03-20 | 2009-04-15 | California Institute of Technology | Application of wavefront sensor to lenses capable of post-fabrication power modification |
| CN1440551A (zh) * | 2000-05-10 | 2003-09-03 | 加利福尼亚技术学院 | 光诱导的折射材料的相位差变化 |
| JP2003534569A (ja) * | 2000-05-23 | 2003-11-18 | アプリリス，インコーポレイテッド | コロイド状金属を含むデータ保存媒体とその製造方法 |
| TWI251000B (en) * | 2000-08-28 | 2006-03-11 | Aprilis Inc | Holographic storage medium comprising polyfunctional epoxy monomers capable of undergoing cationic polymerization |
| AU2258302A (en) * | 2000-12-11 | 2002-06-24 | Jsr Corp | Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index |
| US7115305B2 (en) | 2002-02-01 | 2006-10-03 | California Institute Of Technology | Method of producing regular arrays of nano-scale objects using nano-structured block-copolymeric materials |
| EP1550677B1 (en) * | 2002-07-30 | 2007-02-28 | Toagosei Co., Ltd. | Composition for holography, method of curing the same, and cured article |
| AU2003301206A1 (en) * | 2002-12-23 | 2004-07-22 | Aprilis, Inc. | Sensitizer dyes for photoacid generating systems |
| EP1510862A3 (en) | 2003-08-25 | 2006-08-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Hologram recording method and hologram recording material |
| US7066129B2 (en) * | 2003-10-06 | 2006-06-27 | General Motors Corporation | Intake manifold and runner apparatus |
| JP2005309359A (ja) | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ホログラム記録材料、ホログラム記録方法、光記録媒体、３次元ディスプレイホログラムおよびホログラフィック光学素子。 |
| JP2005275273A (ja) | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ホログラム記録材料、ホログラム記録方法及び光記録媒体 |
| EP1747576A2 (en) | 2004-05-05 | 2007-01-31 | California Institute of Technology | Capillary lithography of nanofiber arrays |
| CN101084468B (zh) | 2004-06-01 | 2012-11-07 | 道康宁公司 | 纳米光刻术和微光刻术用物质组合物 |
| US7122290B2 (en) * | 2004-06-15 | 2006-10-17 | General Electric Company | Holographic storage medium |
| US8071260B1 (en) * | 2004-06-15 | 2011-12-06 | Inphase Technologies, Inc. | Thermoplastic holographic media |
| US7897296B2 (en) | 2004-09-30 | 2011-03-01 | General Electric Company | Method for holographic storage |
| JP4649158B2 (ja) | 2004-09-30 | 2011-03-09 | 富士フイルム株式会社 | ホログラム記録方法 |
| US8021967B2 (en) | 2004-11-01 | 2011-09-20 | California Institute Of Technology | Nanoscale wicking methods and devices |
| JP2006195009A (ja) | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | ホログラム記録方法、ホログラム記録装置及びホログラム記録媒体 |
| JP2006301171A (ja) | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光記録媒体及びその製造方法、並びに、光記録媒体の記録方法及び光記録媒体の再生方法 |
| JP4373383B2 (ja) | 2005-08-24 | 2009-11-25 | 富士フイルム株式会社 | 光記録方法、光記録装置、光記録媒体及び光記録再生方法 |
| JP4636469B2 (ja) * | 2005-09-02 | 2011-02-23 | ダイセル化学工業株式会社 | 体積型ホログラム記録用感光性組成物 |
| JP2007072192A (ja) | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Fujifilm Corp | 光記録媒体及びその製造方法 |
| WO2007047840A2 (en) * | 2005-10-18 | 2007-04-26 | Dce Aprilis, Inc. | Photopolymerizable medium comprising siloxane compounds that support cationic polymerization for holographic storage |
| US8367274B2 (en) | 2005-11-11 | 2013-02-05 | Tdk Corporation | Hologram recording material, and hologram recording medium |
| TWI432904B (zh) * | 2006-01-25 | 2014-04-01 | Dow Corning | 用於微影技術之環氧樹脂調配物 |
| JPWO2007111075A1 (ja) | 2006-03-24 | 2009-08-06 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
| JPWO2007111074A1 (ja) | 2006-03-24 | 2009-08-06 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111092A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
| EP2000300A4 (en) | 2006-03-24 | 2009-08-05 | Konica Minolta Med & Graphic | TRANSPARENT BARRIER SHEET AND METHOD FOR PRODUCING SAME |
| WO2008123302A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Daikin Industries, Ltd. | 含フッ素体積型ホログラム記録用感光性組成物ならびにそれを用いた含フッ素体積型ホログラム記録用感光性媒体および含フッ素体積型ホログラム |
| US8192898B2 (en) * | 2007-03-30 | 2012-06-05 | Daikin Industries, Ltd. | Composition for fluorine-containing volume holographic data recording material and fluorine-containing volume holographic data recording media made of same |
| JP2009048066A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Fujifilm Corp | ホログラフィック記録媒体およびホログラフィック記録装置 |
| DE102008009332A1 (de) * | 2008-02-14 | 2009-08-20 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Optische Elemente mit Gradientenstruktur |
| US9354518B2 (en) | 2011-05-25 | 2016-05-31 | Dow Corning Corporation | Epoxy-functional radiation-curable composition containing an epoxy-functional siloxane oligomer for enhanced film retention and adhesion during solvent development |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE755251A (fr) * | 1969-08-25 | 1971-02-25 | Du Pont | Enregistrement holographique dans des couches photopoly- merisables |
| US3936557A (en) * | 1971-05-18 | 1976-02-03 | American Can Company | Epoxide blend for polymerizable coating compositions and process |
| GB2137626B (en) * | 1983-03-31 | 1986-10-15 | Sericol Group Ltd | Water based photopolymerisable compositions and their use |
| DE3888400D1 (de) * | 1987-06-12 | 1994-04-21 | Ciba Geigy | Photoresistzusammensetzungen. |
| US5418016A (en) * | 1991-03-03 | 1995-05-23 | Air Products And Chemicals, Inc. | Coating process using radiation curable compositions |
| AU684891B2 (en) * | 1994-03-17 | 1998-01-08 | Toppan Printing Co. Ltd. | Photosensitive recording material, photosensitive recording medium, and process for producing hologram using this photosensitive recording medium |
| US5877229A (en) * | 1995-07-26 | 1999-03-02 | Lockheed Martin Energy Systems, Inc. | High energy electron beam curing of epoxy resin systems incorporating cationic photoinitiators |
| DE69616813T2 (de) * | 1995-10-06 | 2002-07-18 | Polaroid Corp., Cambridge | Halographisches aufzeichnungsmaterial und verfahren |
| US5804301A (en) * | 1996-01-11 | 1998-09-08 | Avery Dennison Corporation | Radiation-curable coating compositions |
| WO1997042549A1 (en) * | 1996-05-09 | 1997-11-13 | Dsm N.V. | Photosensitive resin composition for rapid prototyping and a process for the manufacture of 3-dimensional objects |
| US5874187A (en) * | 1996-08-15 | 1999-02-23 | Lucent Technologies Incorporated | Photo recording medium |
-
1997
- 1997-11-13 US US08/970,066 patent/US20030157414A1/en not_active Abandoned
-
1998
- 1998-11-13 WO PCT/US1998/024318 patent/WO1999026112A1/en active IP Right Grant
- 1998-11-13 EP EP98957951A patent/EP1029258B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-13 DE DE69823860T patent/DE69823860T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-13 JP JP2000521416A patent/JP3473950B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8349524B2 (en) | 2005-11-11 | 2013-01-08 | Tdk Corporation | Hologram recording material and hologram recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1029258A1 (en) | 2000-08-23 |
| US20030157414A1 (en) | 2003-08-21 |
| WO1999026112A1 (en) | 1999-05-27 |
| EP1029258B1 (en) | 2004-05-12 |
| DE69823860D1 (de) | 2004-06-17 |
| JP2001523842A (ja) | 2001-11-27 |
| DE69823860T2 (de) | 2005-05-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3473950B2 (ja) | ホログラム媒体およびプロセス | |
| EP0853774B1 (en) | Holographic medium and process | |
| US6268089B1 (en) | Photorecording medium and process for forming medium | |
| US7070886B2 (en) | Holographic storage medium comprising polyfunctional epoxy monomers capable of undergoing cationic polymerization | |
| JP3504884B2 (ja) | 重合誘発収縮を補償する材料及びそれから形成された記録媒体 | |
| US8343691B2 (en) | Hologram recording material and hologram recording medium | |
| US20100039684A1 (en) | Sensitizer dyes for photoacid generating systems using short visible wavelengths | |
| US7892702B2 (en) | Sensitizer dyes for photoacid generating systems | |
| JP2009092891A (ja) | ホログラム記録媒体 | |
| US20030152842A1 (en) | Data storage medium comprising colloidal metal and preparation process thereof | |
| CN101002259A (zh) | 全息存储介质 | |
| US7163769B2 (en) | Photosensitive material and process of making same | |
| US20060199081A1 (en) | Holographic storage medium, article and method | |
| JP2009186515A (ja) | ホログラム記録媒体、ホログラム記録媒体の製造方法、および光情報記録再生装置 | |
| KR20070022321A (ko) | 홀로그램 저장 매체 | |
| Cho et al. | High performance holographic polymer dispersed liquid crystal systems using multi-functional acrylates and siloxane-containing epoxides as matrix components | |
| Waldman et al. | Determination of low-transverse shrinkage in slant fringe gratings of a cationic ring-opening volume hologram recording material | |
| Shelkovnikov et al. | Production and properties of holographic photopolymeric material in a hybrid sol-gel matrix | |
| JP2007225657A (ja) | 光記録媒体、並びに光記録方法及び光記録装置 | |
| CA2375959A1 (en) | Photosensitive material and method of making same | |
| Kowalski | Quantitative modeling of the reaction/diffusion kinetics of two-chemistry photopolymers | |
| EP1598699A2 (en) | Data storage medium comprising colloidal metal and preparation process thereof |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030905 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919 Year of fee payment: 5 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919 Year of fee payment: 5 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919 Year of fee payment: 5 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100919 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120919 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120919 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130919 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |