JP3460952B2 - 残留オゾンを含む排水の処理方法及び装置 - Google Patents
残留オゾンを含む排水の処理方法及び装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、残留オゾンを含む
排水の処理方法及び装置に関し、例えば半導体やＬＣＤ
等の精密電子部品をオゾン水で洗浄した後の残留オゾン
を含む排水の処理に利用される。
排水の処理方法及び装置に関し、例えば半導体やＬＣＤ
等の精密電子部品をオゾン水で洗浄した後の残留オゾン
を含む排水の処理に利用される。
【０００２】
【従来の技術】オゾンを含む排水では、オゾンが時間と
共に自然分解して酸素に変わるが、これを一般の排水と
して流すと、周囲に異臭を発散させたり、有用な微生物
に対しても殺菌作用を及ぼす等により、周辺環境に悪影
響を与えるおそれがある。又、オゾン水を流す排水管は
期間の経過と共に劣化する。更に、オゾン水による洗浄
等の処理を行う装置では、排水を回収して再利用するこ
とも多く、そのときには、配管装置の保護等の点から残
留オゾンを強制的に分解することが望ましい。
共に自然分解して酸素に変わるが、これを一般の排水と
して流すと、周囲に異臭を発散させたり、有用な微生物
に対しても殺菌作用を及ぼす等により、周辺環境に悪影
響を与えるおそれがある。又、オゾン水を流す排水管は
期間の経過と共に劣化する。更に、オゾン水による洗浄
等の処理を行う装置では、排水を回収して再利用するこ
とも多く、そのときには、配管装置の保護等の点から残
留オゾンを強制的に分解することが望ましい。
【０００３】排水の残留オゾンを分解する方法として
は、オゾンを含む排水を活性炭層に通す方法が従来から
知られている。しかしこの方法によると、特に高濃度の
オゾン水の場合には活性炭の劣化が早く、その取り替え
コストが高いと共に、取替に付随して廃棄物が発生する
という問題がある。又、オゾン水中に空気を吹き込んで
オゾンを気相に移動させ、オゾンを含む空気をオゾン分
解触媒層に通して分解させる方法も考えられる。しかし
この方法では、希薄なオゾンを含む空気が多量に発生
し、その処理のために大きな触媒層が必要になると共
に、触媒内への水滴の随伴が避けられず、水濡れによっ
て触媒が劣化するおそれがあるという問題がある。
は、オゾンを含む排水を活性炭層に通す方法が従来から
知られている。しかしこの方法によると、特に高濃度の
オゾン水の場合には活性炭の劣化が早く、その取り替え
コストが高いと共に、取替に付随して廃棄物が発生する
という問題がある。又、オゾン水中に空気を吹き込んで
オゾンを気相に移動させ、オゾンを含む空気をオゾン分
解触媒層に通して分解させる方法も考えられる。しかし
この方法では、希薄なオゾンを含む空気が多量に発生
し、その処理のために大きな触媒層が必要になると共
に、触媒内への水滴の随伴が避けられず、水濡れによっ
て触媒が劣化するおそれがあるという問題がある。
【０００４】上記のような一般的方法に対して、低圧紫
外線オゾン分解装置によって低濃度オゾンによる副次的
不利影響を抑制するようにした超純水製造供給装置が提
案されている（特許公報第２６０６９１０号参照）。し
かしながら、この装置は、２０ｐｐｂ〜１００ｐｐｂ程
度の極めて低濃度のオゾン水のオゾンを分解するもので
あり、ある程度高い濃度のオゾン水を対象としてない。
従って、このような装置によって比較的高い濃度のオゾ
ン水中のオゾンを分解するとすれば、装置が大型化する
と共に長い処理時間を必要とする。
外線オゾン分解装置によって低濃度オゾンによる副次的
不利影響を抑制するようにした超純水製造供給装置が提
案されている（特許公報第２６０６９１０号参照）。し
かしながら、この装置は、２０ｐｐｂ〜１００ｐｐｂ程
度の極めて低濃度のオゾン水のオゾンを分解するもので
あり、ある程度高い濃度のオゾン水を対象としてない。
従って、このような装置によって比較的高い濃度のオゾ
ン水中のオゾンを分解するとすれば、装置が大型化する
と共に長い処理時間を必要とする。
【０００５】又、他の例として、水素含有ガスを供給し
てオゾン水中の残留オゾンを除去すオゾン水処理方法も
提案されている（特開平７ー１６５８２号公報参照）。
しかしながら、この方法も、その実施例に見られる如
く、３ｍｇ／ｌ程度でかなり低濃度になっているオゾン
水中のオゾンを分解しようとするものである。
てオゾン水中の残留オゾンを除去すオゾン水処理方法も
提案されている（特開平７ー１６５８２号公報参照）。
しかしながら、この方法も、その実施例に見られる如
く、３ｍｇ／ｌ程度でかなり低濃度になっているオゾン
水中のオゾンを分解しようとするものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、上記
のような問題がなく、ある程度高い濃度のオゾン水であ
っても簡単な構造で低コストで処理でき、排水の再利用
も可能にする残留オゾンを含む排水の処理方法及び装置
を提供することを課題とする。
のような問題がなく、ある程度高い濃度のオゾン水であ
っても簡単な構造で低コストで処理でき、排水の再利用
も可能にする残留オゾンを含む排水の処理方法及び装置
を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、請求項１の発明は、残留オゾンを含む排水
の処理方法が、オゾンを含む排水を、外気の流入が少な
くとも制限された容器の水面の下に設けられた水入口か
ら前記容器に導入し、前記容器内に前記水入口から水出
口まで上下方向に多列の流路を形成するように設けられ
た仕切部材であって１枚毎に前記水面を形成して前記排
水を通過可能にする上端と前記排水を通過可能にする下
端とを備えた仕切部材で形成された前記流路を前記水入
口の側から順次経由させて前記容器で所定時間滞留させ
た後前記容器の水出口から排出し、紫外線照射装置に通
して前記排水に紫外線を照射する、ことを特徴とする。
するために、請求項１の発明は、残留オゾンを含む排水
の処理方法が、オゾンを含む排水を、外気の流入が少な
くとも制限された容器の水面の下に設けられた水入口か
ら前記容器に導入し、前記容器内に前記水入口から水出
口まで上下方向に多列の流路を形成するように設けられ
た仕切部材であって１枚毎に前記水面を形成して前記排
水を通過可能にする上端と前記排水を通過可能にする下
端とを備えた仕切部材で形成された前記流路を前記水入
口の側から順次経由させて前記容器で所定時間滞留させ
た後前記容器の水出口から排出し、紫外線照射装置に通
して前記排水に紫外線を照射する、ことを特徴とする。
【０００８】請求項２の発明は、残留オゾンを含む排水
の処理装置が、水面の下に設けられオゾンを含む排水を
導入する水入口と前記排水を排出する水出口と前記水入
口から前記水出口まで上下方向に多列の流路を形成する
ように設けられた仕切部材であって１枚毎に前記水面を
形成して前記排水を通過可能にする上端と前記排水を通
過可能にする下端とを備えた仕切部材とを備え外気の流
入を少なくとも制限するように形成された容器であって
前記排水を前記水入口の側から前記流路を順次経由させ
て所定時間滞留させた後前記水出口から排出可能にした
容器と、前記水出口に接続され導入された前記排水に紫
外線を照射する紫外線射装置と、を有することを特徴と
する。
の処理装置が、水面の下に設けられオゾンを含む排水を
導入する水入口と前記排水を排出する水出口と前記水入
口から前記水出口まで上下方向に多列の流路を形成する
ように設けられた仕切部材であって１枚毎に前記水面を
形成して前記排水を通過可能にする上端と前記排水を通
過可能にする下端とを備えた仕切部材とを備え外気の流
入を少なくとも制限するように形成された容器であって
前記排水を前記水入口の側から前記流路を順次経由させ
て所定時間滞留させた後前記水出口から排出可能にした
容器と、前記水出口に接続され導入された前記排水に紫
外線を照射する紫外線射装置と、を有することを特徴と
する。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は本発明を適用した残留オゾ
ンを含む排水の処理装置の一例を示す。本装置は、容器
としての貯水槽１及び紫外線照射装置２を基本構成とす
る装置である。貯水槽１は、水面Ｌの下に設けられオゾ
ンを含む排水を導入する水入口１１、排水を排出する水
出口１２、水入口１１から水出口１２まで複数の流路Ｐ
を形成するように設けられた仕切部材としての整流板１
３等を備えていて、外気の流入を少なくとも制限するよ
うに上部が通気管１５部分を除いて上蓋１４によって閉
鎖された構造になっている。紫外線照射装置２は水出口
１２に接続され、図示しないランプによって導入された
排水に例えば２６０ｎｍ程度の波長の紫外線を照射す
る。
ンを含む排水の処理装置の一例を示す。本装置は、容器
としての貯水槽１及び紫外線照射装置２を基本構成とす
る装置である。貯水槽１は、水面Ｌの下に設けられオゾ
ンを含む排水を導入する水入口１１、排水を排出する水
出口１２、水入口１１から水出口１２まで複数の流路Ｐ
を形成するように設けられた仕切部材としての整流板１
３等を備えていて、外気の流入を少なくとも制限するよ
うに上部が通気管１５部分を除いて上蓋１４によって閉
鎖された構造になっている。紫外線照射装置２は水出口
１２に接続され、図示しないランプによって導入された
排水に例えば２６０ｎｍ程度の波長の紫外線を照射す
る。
【００１０】本例の装置は更に、排水送水用のポンプ
３、レベルスイッチ４、制御弁である入口弁５、出口弁
６及び循環弁７等を備えていて、上部の空間Ｓをできる
だけ狭くするように水面Ｌを高い位置で一定の狭い範囲
に制御しつつ、排水を貯水槽１内に所定時間以上滞留さ
せるようにしている。
３、レベルスイッチ４、制御弁である入口弁５、出口弁
６及び循環弁７等を備えていて、上部の空間Ｓをできる
だけ狭くするように水面Ｌを高い位置で一定の狭い範囲
に制御しつつ、排水を貯水槽１内に所定時間以上滞留さ
せるようにしている。
【００１１】以上のような残留オゾンを含む排水の処理
装置は次のように運転される。半導体等を高濃度オゾン
水で洗浄した後のオゾンを含む排水が水入口１１から貯
水槽１に導入される。このとき、水入口が貯水槽１の水
面Ｌより十分下に設けられているので、排水は貯水槽へ
の流入時に空気と接触しない。その結果、オゾン水が空
気中に含まれている炭酸ガスと接触せず、溶存オゾンの
自己分解作用が良好に維持される。即ち、オゾンはヒド
ロキシラジカル（ＨＯ・）の作用の下に自己分解する一
方で、炭酸ガスに接触するとＨＯ・が消費されて自己分
解機能が低下するが、この炭酸ガスとの接触が防止され
ている。
装置は次のように運転される。半導体等を高濃度オゾン
水で洗浄した後のオゾンを含む排水が水入口１１から貯
水槽１に導入される。このとき、水入口が貯水槽１の水
面Ｌより十分下に設けられているので、排水は貯水槽へ
の流入時に空気と接触しない。その結果、オゾン水が空
気中に含まれている炭酸ガスと接触せず、溶存オゾンの
自己分解作用が良好に維持される。即ち、オゾンはヒド
ロキシラジカル（ＨＯ・）の作用の下に自己分解する一
方で、炭酸ガスに接触するとＨＯ・が消費されて自己分
解機能が低下するが、この炭酸ガスとの接触が防止され
ている。
【００１２】導入された排水は貯水槽１内で所定時間滞
留した後水出口１２から取り出される。即ち、貯水槽１
の水入口１１から所定の流量Ｑの排水が導入され、多列
に形成された流路Ｐを図１において右側から左側に順次
流れ、時間Ｔだけ滞留した後、水出口１２から排出され
る。
留した後水出口１２から取り出される。即ち、貯水槽１
の水入口１１から所定の流量Ｑの排水が導入され、多列
に形成された流路Ｐを図１において右側から左側に順次
流れ、時間Ｔだけ滞留した後、水出口１２から排出され
る。
【００１３】貯水槽１における排水の滞留中には、水面
Ｌはできるだけ高い位置で変動が少ないように維持され
ることが望ましい。即ち、水面Ｌ上の空間Ｓには排水中
に溶存していた酸素やオゾンの浮上したものと共に空気
が存在し、空間Ｓが広いと空気の量も多くなり、従って
空気中の炭酸ガスも多くなるので、排水中のオゾンの自
己分解機能が低下する。そのため空間Ｓは小さいことが
望ましい。又、水面Ｌが変動すると、通気管１５からの
外気の出入りが多くなるので、水面Ｌの変動は少ないこ
とが望ましい。更に、オゾン水を使用する洗浄系からの
排水の流量が変化することもある。
Ｌはできるだけ高い位置で変動が少ないように維持され
ることが望ましい。即ち、水面Ｌ上の空間Ｓには排水中
に溶存していた酸素やオゾンの浮上したものと共に空気
が存在し、空間Ｓが広いと空気の量も多くなり、従って
空気中の炭酸ガスも多くなるので、排水中のオゾンの自
己分解機能が低下する。そのため空間Ｓは小さいことが
望ましい。又、水面Ｌが変動すると、通気管１５からの
外気の出入りが多くなるので、水面Ｌの変動は少ないこ
とが望ましい。更に、オゾン水を使用する洗浄系からの
排水の流量が変化することもある。
【００１４】本例では、このような場合にも自動的に対
応でき、且つ水面をできるだけ高い位置で安定して維持
できるように、前記の如く水位制御機構等が設けられて
いる。即ち、ポンプ３を貯水槽１内で排水が所定時間Ｔ
だけ滞留する程度の吐出量のものにして、流入水量がＱ
より少なくなれば、水面Ｌが下がるので、レベルスイッ
チ４で検出したレベルがＬになるように循環弁７が制御
され、排水の一部分が貯水槽１との間で循環しつつ排出
される。このときには、必要に応じて出口弁６が絞られ
る。一方、流入水量がＱより多くなれば、循環弁７が閉
じ、レベルスイッチ４で検出したレベルがＬになるよう
に入口弁５が制御され、ポンプ３の吐出量に相当する量
だけ排水が排出され、所定の滞留時間Ｔが確保される。
なお、このように水面制御をすれば自動運転が可能であ
るが、手動弁等を人が調整するような装置であってもよ
い。
応でき、且つ水面をできるだけ高い位置で安定して維持
できるように、前記の如く水位制御機構等が設けられて
いる。即ち、ポンプ３を貯水槽１内で排水が所定時間Ｔ
だけ滞留する程度の吐出量のものにして、流入水量がＱ
より少なくなれば、水面Ｌが下がるので、レベルスイッ
チ４で検出したレベルがＬになるように循環弁７が制御
され、排水の一部分が貯水槽１との間で循環しつつ排出
される。このときには、必要に応じて出口弁６が絞られ
る。一方、流入水量がＱより多くなれば、循環弁７が閉
じ、レベルスイッチ４で検出したレベルがＬになるよう
に入口弁５が制御され、ポンプ３の吐出量に相当する量
だけ排水が排出され、所定の滞留時間Ｔが確保される。
なお、このように水面制御をすれば自動運転が可能であ
るが、手動弁等を人が調整するような装置であってもよ
い。
【００１５】このように排水が貯水槽１内に所定時間滞
留すると、排水中の溶存オゾンが自己分解し、その濃度
を目的とする濃度として例えば流入時から半減した程度
の濃度にすることができる。この場合、半導体等の洗浄
には超純水が使用されるので、排水中のオゾンは例えば
数分程度の短い時間で半減する程度に分解される。又、
レベル制御によって空間Ｓを小さくすると共に、レベル
変動を抑制して炭酸ガスを含む外気の侵入を抑制するの
で、滞留中の排水は殆ど炭酸ガスと接触せず、オゾンの
自己分解機能が良好に維持される。なお、このように効
率良く溶存オゾンが分解する過程で、水中に含まれてい
る有機物も同時に分解され、排水が一層浄化される。
留すると、排水中の溶存オゾンが自己分解し、その濃度
を目的とする濃度として例えば流入時から半減した程度
の濃度にすることができる。この場合、半導体等の洗浄
には超純水が使用されるので、排水中のオゾンは例えば
数分程度の短い時間で半減する程度に分解される。又、
レベル制御によって空間Ｓを小さくすると共に、レベル
変動を抑制して炭酸ガスを含む外気の侵入を抑制するの
で、滞留中の排水は殆ど炭酸ガスと接触せず、オゾンの
自己分解機能が良好に維持される。なお、このように効
率良く溶存オゾンが分解する過程で、水中に含まれてい
る有機物も同時に分解され、排水が一層浄化される。
【００１６】貯水槽１内に所定時間滞留した排水は、水
出口１２から出て紫外線照射装置２に導入され、紫外線
を照射される。これにより、排水中の溶存オゾンが完全
に分解される。この場合、貯水槽１内への滞留中に、オ
ゾン濃度が元の高濃度時から半減しているので、残りの
溶存オゾンを容量の小さい紫外線照射装置で処理するこ
とができる。
出口１２から出て紫外線照射装置２に導入され、紫外線
を照射される。これにより、排水中の溶存オゾンが完全
に分解される。この場合、貯水槽１内への滞留中に、オ
ゾン濃度が元の高濃度時から半減しているので、残りの
溶存オゾンを容量の小さい紫外線照射装置で処理するこ
とができる。
【００１７】図２は、図１の装置を用いた実施例と、図
１の装置で上蓋１４を取り外すと共に水入口１１を水面
上にした場合の比較例とについて発明者等が行った実験
結果を示す。図では、“空気遮断時”が実施例を示し
“空気混合時”が比較例を示している。なおこれらの実
験では、測定時の滞留時間を可変にするために、貯水槽
１に通常使用時よりも少ない流量を流し、流路Ｐの途中
の複数位置でそれまでに滞留した排水をサンプリング可
能にすると共に、紫外線照射装置２で最終処理した排水
のオゾン濃度を測定する時にも、測定時間まで滞留した
排水をバイパスさせて流せるようにしている。図２の黒
丸及び白丸はそのように方法で測定した位置の値を示し
ている。又、二重丸は紫外線照射装置で最終処理したと
きの測定値である。これらの実験結果を要約すると次の
とおりである。
１の装置で上蓋１４を取り外すと共に水入口１１を水面
上にした場合の比較例とについて発明者等が行った実験
結果を示す。図では、“空気遮断時”が実施例を示し
“空気混合時”が比較例を示している。なおこれらの実
験では、測定時の滞留時間を可変にするために、貯水槽
１に通常使用時よりも少ない流量を流し、流路Ｐの途中
の複数位置でそれまでに滞留した排水をサンプリング可
能にすると共に、紫外線照射装置２で最終処理した排水
のオゾン濃度を測定する時にも、測定時間まで滞留した
排水をバイパスさせて流せるようにしている。図２の黒
丸及び白丸はそのように方法で測定した位置の値を示し
ている。又、二重丸は紫外線照射装置で最終処理したと
きの測定値である。これらの実験結果を要約すると次の
とおりである。
【００１８】
実施例 比較例
貯水槽寸法 幅1m×奥行0.5m×水深1m 同左
使用排水 超純水 同左
流入水量 １５（ｌ／ｍｉｎ．） 同左
流入時オゾン濃度 １５．５（ｍｇ／ｌ） 同左
滞留時間 約４分 約３０分
滞留後オゾン濃度 約７（ｍｇ／ｌ） 約１３
紫外線照射装置出力 ５０Ｗランプ１本 同左
流入水量 １５（ｌ／ｍｉｎ．） 同左
紫外線照射装置出口
の最終オゾン濃度 ０．０（ｍｇ／ｌ） ３．５
【００１９】以上の如く、本発明のように空気を遮断し
た状態にすれば、小さい貯水槽と小さい紫外線照射装置
とから成る簡単で低コストの装置構成により、比較的高
い濃度で含まれている排水中のオゾンを短時間で分解す
ることができる。なお、図２によれば、空気遮断時には
滞留時間を十分長くすることにより、貯水槽１だけでも
溶存オゾン濃度を十分低下させることが可能であるが、
その場合には貯水槽１が大型化し、設置スペース等の点
で不利になる。従って、最初に短い時間で急速にオゾン
濃度が低下する図２のオゾン濃度低下特性と紫外線照射
装置の出力との関係から、貯水槽１の容量をオゾン濃度
を半減させる程度の滞留時間に定めることが望ましい。
た状態にすれば、小さい貯水槽と小さい紫外線照射装置
とから成る簡単で低コストの装置構成により、比較的高
い濃度で含まれている排水中のオゾンを短時間で分解す
ることができる。なお、図２によれば、空気遮断時には
滞留時間を十分長くすることにより、貯水槽１だけでも
溶存オゾン濃度を十分低下させることが可能であるが、
その場合には貯水槽１が大型化し、設置スペース等の点
で不利になる。従って、最初に短い時間で急速にオゾン
濃度が低下する図２のオゾン濃度低下特性と紫外線照射
装置の出力との関係から、貯水槽１の容量をオゾン濃度
を半減させる程度の滞留時間に定めることが望ましい。
【００２０】図３は残留オゾンを含む排水の処理装置の
他の例を示す。この例では、貯水槽１と共に必要に応じ
て設けられる前処理槽８が設けられている。この例の貯
水槽１は、通気管１５の反対側に窒素導入管１６を備え
ていて、上部の空間Ｓに少量の窒素を入れて常時排出さ
せることにより、空間Ｓ内を窒素でシールし、外気の流
入をほぼ完全になくしている。その結果、排水と炭酸ガ
スとの接触をほぼ完全になくし、オゾンの分解を一層促
進させることができる。
他の例を示す。この例では、貯水槽１と共に必要に応じ
て設けられる前処理槽８が設けられている。この例の貯
水槽１は、通気管１５の反対側に窒素導入管１６を備え
ていて、上部の空間Ｓに少量の窒素を入れて常時排出さ
せることにより、空間Ｓ内を窒素でシールし、外気の流
入をほぼ完全になくしている。その結果、排水と炭酸ガ
スとの接触をほぼ完全になくし、オゾンの分解を一層促
進させることができる。
【００２１】前処理槽８は、外筒８１、石英等の充填さ
れた内筒８２、蓋８３、排水導入管８４、噴射管８５等
によって構成され、図において点線の矢印で示す如く窒
素を導入して内部をシールすると共に、排水を内筒８２
の水面下になっている排水導入管８４の先端入口から噴
射管８５に入れて上方に噴出させ、水面から主として酸
素を気散させると共に排水をオーバーフローさせ、外筒
８１の底から排出させている。そしてこの排水が上記貯
水槽１に導入される。このような前処理槽を追加装備す
れば、極めて迅速且つ確実にオゾンを分解することがで
きる。
れた内筒８２、蓋８３、排水導入管８４、噴射管８５等
によって構成され、図において点線の矢印で示す如く窒
素を導入して内部をシールすると共に、排水を内筒８２
の水面下になっている排水導入管８４の先端入口から噴
射管８５に入れて上方に噴出させ、水面から主として酸
素を気散させると共に排水をオーバーフローさせ、外筒
８１の底から排出させている。そしてこの排水が上記貯
水槽１に導入される。このような前処理槽を追加装備す
れば、極めて迅速且つ確実にオゾンを分解することがで
きる。
【００２２】
【発明の効果】以上の如く本発明によれば、請求項１の
発明においては、オゾンを含む排水を外気の流入が少な
くとも制限された容器の水面下に設けられた水入口から
容器に導入するので、排水中の溶存オゾンの自己分解反
応を媒介するヒドロキシラジカルのスカベンジャーにな
る空気中の炭酸ガスの排水との接触が防止される。その
結果、排水におけるオゾンの自己分解機能が維持され
る。
発明においては、オゾンを含む排水を外気の流入が少な
くとも制限された容器の水面下に設けられた水入口から
容器に導入するので、排水中の溶存オゾンの自己分解反
応を媒介するヒドロキシラジカルのスカベンジャーにな
る空気中の炭酸ガスの排水との接触が防止される。その
結果、排水におけるオゾンの自己分解機能が維持され
る。
【００２３】このように導入された排水は、容器で所定
時間滞留させた後水出口から排出されるので、この間に
溶存オゾンの自己分解が進行し、良好な自己分解機能の
保持により、最初比較的高い残留オゾン濃度であっても
その値が短時間に大幅に減少する。特に、半導体等の電
子部品の洗浄では通常超純水が使用されるので、オゾン
の分解速度が速くなる。なお、溶存オゾンが分解する過
程で、水中に含まれている有機物も同時に分解され、排
水が一層浄化される効果も生ずる。
時間滞留させた後水出口から排出されるので、この間に
溶存オゾンの自己分解が進行し、良好な自己分解機能の
保持により、最初比較的高い残留オゾン濃度であっても
その値が短時間に大幅に減少する。特に、半導体等の電
子部品の洗浄では通常超純水が使用されるので、オゾン
の分解速度が速くなる。なお、溶存オゾンが分解する過
程で、水中に含まれている有機物も同時に分解され、排
水が一層浄化される効果も生ずる。
【００２４】次に、容器から排出された排水を紫外線照
射装置に通して紫外線を照射するので、元の状態から大
幅に濃度が減少し例えば半減した低濃度オゾンを完全に
分解することができる。その結果、このような排水を廃
棄するときに管系の腐食等を防止することができる。
又、異臭の発生や有用微生物に対する殺菌作用等の環境
に与える悪影響を防止することができる。更に、排水の
再利用が可能になると共に、再利用する装置までの管系
等の腐食の問題が解消される。
射装置に通して紫外線を照射するので、元の状態から大
幅に濃度が減少し例えば半減した低濃度オゾンを完全に
分解することができる。その結果、このような排水を廃
棄するときに管系の腐食等を防止することができる。
又、異臭の発生や有用微生物に対する殺菌作用等の環境
に与える悪影響を防止することができる。更に、排水の
再利用が可能になると共に、再利用する装置までの管系
等の腐食の問題が解消される。
【００２５】請求項２の発明においては、残留オゾンを
含む排水の処理装置を所定の構造を持つ容器と紫外線照
射装置とで構成するので、簡単な構造で安価に排水中の
残留オゾンを分解処理することができる。即ち、容器は
複数の流路を形成する仕切部材を備えているので、排水
の混合を阻止し、大きさの割りに十分な排水滞留時間を
確保できる。そしてこのような容器で溶存オゾン濃度を
大幅に低下させることにより、紫外線照射装置を小容量
のものにして効率良くオゾンを完全に分解することがで
きる。
含む排水の処理装置を所定の構造を持つ容器と紫外線照
射装置とで構成するので、簡単な構造で安価に排水中の
残留オゾンを分解処理することができる。即ち、容器は
複数の流路を形成する仕切部材を備えているので、排水
の混合を阻止し、大きさの割りに十分な排水滞留時間を
確保できる。そしてこのような容器で溶存オゾン濃度を
大幅に低下させることにより、紫外線照射装置を小容量
のものにして効率良くオゾンを完全に分解することがで
きる。
【図１】本発明適用した残留オゾンを含む排水の処理装
置の構造例を示す説明図である。
置の構造例を示す説明図である。
【図２】上記装置を利用した実験及び比較実験の結果を
示す曲線図である。
示す曲線図である。
【図３】本発明適用できる残留オゾンを含む排水の処理
装置の他の構造例を示す説明図である。
装置の他の構造例を示す説明図である。
１ 貯水槽（容器）
２ 紫外線照射装置
１１ 水入口
１２ 水出口
１３ 整流板（仕切部材）
Ｌ 水面
Ｐ 流路
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C02F 1/30 - 1/32
C02F 1/70 - 1/78
C02F 1/58
Claims (2)
- 【請求項１】 オゾンを含む排水を、外気の流入が制限
されるように上部から立ち上げられた通気管部分と他の
部分を閉鎖する上蓋とを備えた容器の水面であって前記
上蓋との空間が一定の狭い範囲に制御される水面の下に
設けられた水入口から前記容器に導入し、前記容器内に
前記水入口から水出口まで上下方向に多列の流路を形成
するように設けられた仕切部材であって１枚毎に前記水
面を形成して前記排水を通過可能にする上端及び前記排
水の通過を遮断する下端が形成された部分と前記排水を
通過可能にする下端及び前記排水の通過を遮断する上端
側であって前記通気管部分と導通するように前記空間を
形成する上端側が形成された他の部分とを備えた仕切部
材で形成された前記流路を前記水入口の側から順次経由
させて前記容器で所定時間滞留させた後前記容器の水出
口から排出し、紫外線照射装置に通して前記排水に紫外
線を照射する、ことを特徴とする残留オゾンを含む排水
の処理方法。 - 【請求項２】 外気の流入が制限されるように上部から
立ち上げられた通気管部分と他の部分を閉鎖する上蓋と
を備え前記上蓋との空間が一定の狭い範囲に制御される
水面の下に設けられオゾンを含む排水を導入する水入口
と前記排水を排出する水出口とを備えた容器と前記水出
口に接続され導入された前記排水に紫外線を照射する紫
外線照射装置とを有し、前記容器は、前記水入口から前
記水出口まで上下方向に多列の流路を形成するように設
けられた仕切部材であって１枚毎に前記水面を形成して
前記排水を通過可能にする上端及び前記排水の通過を遮
断する下端が形成された部分と前記排水を通過可能にす
る下端及び前記排水の通過を遮断する上端側であって前
記通気管部分と導通するように前記空間を形成する上端
側が形成された他の部分とを備えた仕切部材を備えてい
て前記排水を前記水入口の側から前記流路を順次経由さ
せて所定時間滞留させた後前記水出口から排出するよう
に構成されている、ことを特徴とする残留オゾンを含む
排水の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20132298A JP3460952B2 (ja) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | 残留オゾンを含む排水の処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20132298A JP3460952B2 (ja) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | 残留オゾンを含む排水の処理方法及び装置 |
Publications (2)
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|---|---|
| JP2000015255A JP2000015255A (ja) | 2000-01-18 |
| JP3460952B2 true JP3460952B2 (ja) | 2003-10-27 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20132298A Expired - Fee Related JP3460952B2 (ja) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | 残留オゾンを含む排水の処理方法及び装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-06-30 JP JP20132298A patent/JP3460952B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| CN102336463A (zh) * | 2010-07-16 | 2012-02-01 | 福建新大陆科技集团有限公司 | 一种光化学高级氧化流体处理系统 |
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| Publication number | Publication date |
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