JP2001314880A - 水処理装置 - Google Patents

水処理装置

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JP2001314880A
JP2001314880A JP2000136687A JP2000136687A JP2001314880A JP 2001314880 A JP2001314880 A JP 2001314880A JP 2000136687 A JP2000136687 A JP 2000136687A JP 2000136687 A JP2000136687 A JP 2000136687A JP 2001314880 A JP2001314880 A JP 2001314880A
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Japan
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water
treated
ozone
tank
flow path
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JP2000136687A
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English (en)
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Takeshi Kaburagi
毅 鏑木
Itsuo Uragami
逸男 浦上
Koji Ishida
宏司 石田
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Chiyoda Kohan Co Ltd
Original Assignee
Chiyoda Kohan Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 浄化処理能力を向上した水処理装置を提供す
る。 【解決手段】 紫外線ランプ5と、内部に紫外線ランプ
5が配設された槽3と、この槽3の底部に連通し、被処
理水1が槽3に向けて通流する被処理水流路9と、この
被処理水流路9を通流する被処理水1にオゾンを注入す
るオゾン注入手段5,7,13とを含み、被処理水流路
9は、上下方向に延在して被処理水1が下降する下降流
部49を有し、オゾン注入手段5,7,13は、被処理
水流路9にオゾンを注入するためのオゾン注入管13を
備え、このオゾン注入管13のオゾンが排出される側の
端部63は、被処理水流路9の下降流部49の上部び開
口した水処理装置とする。オゾンの吸収は、被処理水流
路9の下降流部49と槽3内の両方で行われるため、オ
ゾンの被処理水への溶存量を増すことができ、浄化処理
能力を向上できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水処理装置に係
り、特に、オゾンと紫外線とにより水処理を行う水処理
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】上水、下水、工場排水、産業廃棄物の処
理工程で生じた排水などの種々の有害物質や有害微生物
などを含む水の浄化処理において、オゾンと紫外線を組
み合わせた処理を行うことにより、有害物質の分解作用
を向上できることが知られている。このオゾンと紫外線
を組み合わせた水処理方法では、水に溶存しているオゾ
ンに紫外線が照射されることで、オゾンに比べて強い酸
化作用を有するヒドロキシラジカル(OHラジカル)が
発生し、このOHラジカルの酸化分解作用により、オゾ
ンまたは紫外線単独で水処理を行った場合よりも高い有
害物質の分解作用を得ることができる。
【0003】このようなオゾンと紫外線を組み合わせて
水処理を行う従来の水処理装置では、内部に紫外線ラン
プが設置されており、被処理水に紫外線を照射する槽の
底部にオゾンを含む気体を注入するか、または、槽の底
部にに連通する流路内を槽に向けて通流する被処理水に
オゾンを含む気体を注入し、オゾンを含む気泡を同伴し
た被処理水を槽の底部から槽内に流入させている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、槽内で被処
理水の気泡中のオゾンに紫外線が照射された場合、オゾ
ンの分解によりOHラジカルは生成するが、生成したO
Hラジカルは直ちにオゾンと反応して消滅するため、被
処理水中の有機物の分解や微生物の殺滅など被処理水の
浄化処理に利用できない。したがって、オゾンに紫外線
を照射して被処理水の浄化処理に利用できるOHラジカ
ルを得るためには、オゾンが被処理水に溶存している必
要がある。
【0005】紫外線を照射するランプが設置された槽の
下部からオゾンを含む気体や、オゾンを含む気泡を同伴
した被処理水を槽の底部から槽内に流入させる従来の水
処理装置などでは、オゾンの被処理水への吸収は、ほと
んど槽内で起こる。このため、オゾンを被処理水に十分
に溶解、吸収させて、オゾンの被処理水への溶存量を多
くするためには、槽を深くする必要がある。しかし、紫
外線照射による被処理水の浄化処理に有効な照射強度を
得るためには、紫外線ランプから槽を画成する壁までの
距離を所定の範囲内にしなければならず、十分なオゾン
の溶存量を得られるような深さに設計することは難しい
場合がある。したがって、従来の水処理装置では、気泡
中に含まれるオゾンにも紫外線を照射することになり、
気泡中のオゾンが被処理水に溶解することなく分解され
てしまう場合があり、被処理水に注入したオゾンを効率
的に利用することができない。このため、被処理水に注
入されたオゾンから効率よくOHラジカルを得て、有害
物質などの酸化分解や微生物の殺滅など、被処理水の浄
化処理能力を向上した水処理装置が要望されている。
【0006】本発明の課題は、水処理装置の浄化処理能
力を向上することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の水処理装置は、
紫外線ランプと、内部に紫外線ランプが配設された槽
と、この槽の底部に連通し、被処理水が槽に向けて通流
する被処理水流路と、この被処理水流路を通流する被処
理水にオゾンを注入するオゾン注入手段とを含み、被処
理水流路は、上下方向に延在して被処理水が下降する下
降流部を有し、オゾン注入手段は、被処理水流路にオゾ
ンを注入するためのオゾン注入管を備え、このオゾン注
入管のオゾンが排出される側の端部は、被処理水流路の
下降流部の上部に開口した構成とするこよにより上記課
題を解決する。
【0008】このような構成とすれば、オゾンは、被処
理水流路の下降流部の上側部分に注入されるため、被処
理水に注入されたオゾンは、この被処理水が被処理水流
路の下降流部を下降する間に被処理水中に吸収される。
したがって、オゾンの吸収は、被処理水流路の下降流部
と槽内の両方で行われる。さらに、被処理水流路の下降
流部の長さや、オゾン注入管の開口位置を変えることに
より、オゾンの被処理水への溶存量を調整できる。した
がって、オゾンの被処理水への溶存量を増し、被処理水
に注入されたオゾンから効率よくOHラジカルを得るこ
とができるため、浄化処理能力を向上できる。
【0009】さらに、被処理水流路にポンプを設け、オ
ゾン注入管のオゾンが排出される側の端部が、被処理水
流路の下降流部内の、槽内の被処理水の水位よりも高い
位置で開口していれば、ポンプにより被処理水流路内を
被処理水が通流すると、槽内の被処理水の水位よりも高
い位置にある被処理水流路の下降流部分はサイホンの原
理により負圧になる。したがって、オゾン注入手段が、
オゾンを含む気体を送気するためのポンプなどを有して
いなくても、オゾンを含む気体が被処理水流路を通流す
る被処理液中に注入されることになり、装置を簡素化で
きるので好ましい。
【0010】また、オゾン注入管は、被処理水流路を形
成する管よりも径が細い管であり、被処理水流路の下降
流部に被処理水の流れ方向に沿ってほぼ同軸に延在し、
下方に向けて開口している構成であれば、オゾンの被処
理水への注入効率を向上できるので好ましい。
【0011】さらに、オゾン注入手段は、槽の両端部に
設けられた2つの気体室と、紫外線ランプと、紫外線ラ
ンプの周囲に設けられ、かつ2つの気体室を連結し、被
処理水から紫外線ランプを隔離して酸素または酸素含有
気体が通流する紫外線透過性の筒体とを含み、2つの気
体室のうち、気体の流れに対して下流側に位置する気体
室内の気体を被処理水流路内の被処理水中に注入する構
成、または、槽内には、被処理水が通流する紫外線透過
性の管からなる反応流路と、槽内の酸素または酸素含有
気体中に配置されて反応流路内を通流する被処理水に紫
外線を照射する紫外線ランプとが設けられ、オゾン注入
手段は、紫外線ランプを含み、槽内の気体を被処理水流
路内の被処理水中に注入する構成とする。このような構
成とすれば、紫外線ランプからの紫外線が酸素または酸
素含有気体に照射されることにより発生したオゾンを被
処理水に注入することができるため、オゾン発生器など
を用いる必要がなく、装置を簡素化できるので好まし
い。
【0012】また、被処理水流路を通流する被処理水中
に過酸化水素を注入する過酸化水素注入手段を含む構成
とすれば、浄化処理能力をさらに向上できるので好まし
【発明の実施の形態】(第1の実施形態)本発明を適用
してなる水処理装置の第1の実施形態について図1を参
照して説明する。図1は、本発明を適用してなる水処理
装置の概略構成と動作を示す図である。すなわち、本実
施形態の水処理装置は、図1に示すように、被処理水1
を収容する槽3、槽3内に設置された複数の紫外線ラン
プ5、各々の紫外線ランプ5を囲むように設置された紫
外線透過性の筒体7、槽3の側壁上部と側壁下部とに連
通する被処理水流路9、この被処理水流路9に設けられ
たポンプ11、そして、槽3の上面と被処理水流路9と
に連通するオゾン注入管13などで構成されている。
【0013】槽3は、両端にフランジ15、17が形成
された胴部19を有している。この胴部19の上側に
は、紫外線ランプ5の本数に対応した数の貫通孔が形成
された天板21と、開口部周囲にフランジ23が形成さ
れた上部キャップ25とが設けられている。天板21と
上部キャップ25とは、天板21の下面周縁部と胴部1
9の上側のフランジ15との間に図示していないO−リ
ングやガスケットなどのシール部材を挟んで天板21を
設置し、この天板21の上面に、天板21の上面周縁部
と上部キャップ25のフランジ23との間にO−リング
やガスケットなどのシール部材を挟んで上部キャップ2
5を設置し、胴部19のフランジ15と上部キャップ2
5のフランジ23とを図示していないボルトまたはクラ
ンプなどで固定することにより取り付けられている。上
部キャップ25と天板21との間には空間があり、上側
の空気室27を形成している。
【0014】胴部19の下側には、槽3を支持する架台
29が設けられている。架台29は、架台29の上部に
設けられ槽3の底面となる底板31、底板31を支持す
る側壁または支柱33、そして、側壁または支柱33が
固定されたベース35などで構成されている。底板31
には、紫外線ランプ5の本数に対応した数の貫通孔が形
成されている。架台29は、胴部19の下側のフランジ
17と架台29の底板31の上面周縁部との間にO−リ
ングやガスケットなどのシール部材を挟んで、これらを
図示していないボルトやクランプなどで固定することに
より胴部19に取り付けられている。底板31の下面に
は、開口部周囲にフランジ37が形成された下部キャッ
プ39が設けられている。この下部キャップ39は、底
板31の下面と下部キャップ39のフランジ37との間
にO−リングやガスケットなどのシール部材を挟んで図
示していないボルトなどで固定することにより底板31
の下面に取り付けられている。下部キャップ39と底板
31との間には空間があり、下側の空気室41を形成し
ている。また、下部キャップ39のには空気を取り入れ
るための貫通孔43が形成されている。筒体7は、天板
21に形成された貫通孔と底板31に形成された貫通孔
に、筒体7の両端に設けられたシールナット部44を螺
合させることで、天板21と底板31の間に水密状態で
取り付けられている。
【0015】被処理水流路9は、槽3の上部から流出し
た被処理水1を槽3の下部に戻す循環路を形成してい
る。被処理水流路9は、導出部45、上昇流部47、下
降流部49、導入部51などで構成されている。被処理
水流路9の導出部45は、槽3の側壁上部に連通する部
分から地面に対してほぼ水平に延在し、途中で屈曲して
下方に延在する略L字状になっている。被処理水流路9
の最低部分には、ポンプ11が設けられている。ポンプ
11の吐出口に連通する被処理水流路9の上昇流部47
は、上方に向けて延在しており、導出部45よりも径が
細くなっている。被処理水流路9の上昇流部47は、こ
の上昇流部47の上部に設けられたレジューサ53によ
り漸次拡径して導出部45とほぼ同じ径になっている。
被処理水流路9の上昇流部47のレジューサ53よりも
上流側、すなわち下側には、流量計55が設けられてい
る。また、被処理水流路9の上昇流部47のレジューサ
53よりも下流側、すなわち上側には、循環路である被
処理水流路9に外部から被処理水1を供給するための被
処理水供給流路57が連通している。また、被処理水供
給流路57には、被処理水1に過酸化水素を注入するた
めのポンプ59を備えた過酸化水素注入流路61が連通
している。
【0016】被処理水流路9の上昇流部47と下降流部
49との連通部分である被処理水流路9の最高部分は、
略U字状になっている。被処理水流路9の下降流部49
は、下方に向けて延在しており、被処理水流路9の下降
流部49には、オゾン注入管13が、下降流部49の最
高部分から下方に向けて同軸に挿通された状態で固定さ
れている。オゾン注入管13の開口端部63は、槽3内
の被処理水1の水位よりも高い位置に配設されている。
被処理水流路9の導入部51は、被処理水流路9の下降
流部49から屈曲して、ほぼ水平に槽3の側壁下部に向
かって延在し、槽3の側壁下部に連通している。また、
被処理水流路9の導入部51にも、循環路である被処理
水流路9に外部から被処理水1を供給するための別の被
処理水供給流路65が連通している。なお、図1では、
被処理水流路9は、一連の流路として描かれているが、
端部にフランジを有する単管、エルボ、U字管、レジュ
ーサ、T字管または分岐管などを適宜連結して構成する
ことができる。
【0017】オゾン注入管13は、一端が槽3の上側の
空気室27に連通しており、他端が、被処理水流路9の
下降流部49の最高部分から下方に向けて同軸に挿通さ
れた状態で固定されている。また、オゾン注入管13に
は、下流側、すなわち上側の空気室27への連通部側か
ら流量調整弁67と流量計69とが順次設けられてい
る。
【0018】被処理水流路9の導出部45が連通する槽
3の胴部19の側壁上方部分に対向する位置には、排気
管71と排水管73とが連通しており、槽3には、排気
管71と排水管73を介して水位調整槽75が連結され
ている。排気管71は、排水管73の上方にほぼ平行に
設けられている。水位調整槽75内には、水位調整槽7
5の底面から上方に延在する越流堰77が設けられてい
る。越流堰77より下流側の水位調整槽75の底面に
は、処理後の被処理水1の出口となる出水流路79が連
通している。水位調整槽75の上面には、図示していな
い排オゾン処理装置に連結された排気流路81が連通し
ている。
【0019】なお、本実施形態の槽3、被処理水流路
9、オゾン注入流路13、水位調整槽75などは、例え
ばステンレス鋼などの金属や樹脂などの防食性の材質で
形成されており、筒体7は、例えば石英ガラスやテフロ
ン(登録商標)などの紫外線透過性の材料で形成されて
いる。また、紫外線ランプ5、筒体7、空気室27、4
1、オゾン注入管13などは、オゾン注入手段を構成し
ている。
【0020】このような構成の本実施形態の水処理装置
では、紫外線ランプ5を点灯した状態で、槽3内などに
被処理水1が収容された状態でポンプ11を運転する
と、槽3内の被処理水1の水位よりも高い位置にある被
処理水流路9の下降流部49の部分内はサイホンの原理
により負圧になる。筒体7内に下側キャップ39の貫通
孔43から取り入れられた空気は、紫外線ランプ5が放
射する波長185nmと254nmの紫外線のうち、波
長185nmの紫外線の照射を受けて、例えば1W当た
り約20mgのオゾンを発生する。この状態でオゾン注
入管13の流量調整弁67を開くと、筒体7内で発生し
たオゾンを含む気体が、上側の空気室27からオゾン注
入管13内に吸引され、オゾン注入管13の開口端部6
3から被処理水流路9の下降流部49を下降する被処理
水1中に注入される。このとき、オゾン注入管19の開
口端部63の位置は、被処理水流路9の下降流部49の
流れて以降で決まり、例えば、槽3の水深が1mでは、
槽3内の被処理水1の水位よりも15cm程度高い位置
に、槽3の水深が約1.5mでは、槽3内の被処理水1
の水位よりも20cm程度高い位置にする。また、オゾ
ンの被処理水1への注入量は、オゾン注入管13に備え
られた流量調整弁67の開度と、被処理水流路9に備え
られたポンプ11の流量とのいずれか一方、または両方
を調整することで行える。
【0021】被処理水流路9の下降流部49を下降する
被処理水1中に注入されたオゾンを含む気体は、被処理
水流路9の下降流部49を下降する被処理水1に同伴さ
れて気泡流を形成し、被処理水流路9の下降流部49を
下降している間に、オゾンは、被処理水1中に溶解、吸
収される。ここで、被処理水1中の有機物や微生物など
の被処理水1中に吸収されたオゾンによる酸化分解や殺
滅などの反応が起こる。被処理水流路9の下降流部49
で生成されたオゾンが溶存している被処理水1と、被処
理水1に吸収されなかったオゾンを含む気泡とからなる
被処理水1の気泡流は、被処理水流路9の導入部51を
通って槽3内へ戻り、槽3内の底部から上方に向けて流
れる。槽3内の底部で、オゾンが溶存した被処理水1に
紫外線ランプ5からの紫外線が照射されることにより、
オゾン、紫外線、そしてOHラジカルによる有機物の酸
化分解反応や微生物の殺滅などが進行する。
【0022】さらに、槽3の中央部から上部へ被処理水
が上昇する間に、被処理水1の気泡流中の残留していた
オゾンを含む気泡が被処理水1へ溶解し、この槽3の中
央部から上部へ被処理水が上昇する被処理水1に紫外線
ランプ5からの紫外線が照射されることにより、オゾ
ン、紫外線、そしてOHラジカルによる有機物の酸化分
解反応や微生物の殺滅などが一層進行する。槽3の上部
に達した被処理水1は、被処理水流路9の導出部45ま
たは排水管73に流れ込む。被処理水流路9の導出部4
5に流れ込んだ被処理水1は、被処理水流路9の導出部
45、上昇流部47、下降流部49、そして導入部51
を通って槽3内へ循環することによって、オゾン、紫外
線、そしてOHラジカルによる有機物の酸化分解反応や
微生物の殺滅などが必要に応じ繰り返される。また、排
水管73に流れ込んだ浄化処理後の被処理水1は、水位
調整槽75の槽3内の水位を決める越流堰77の上流側
に溜まり、越流堰77をオーバーフローした浄化処理後
の被処理水1は、出水流路79から水処理装置外へ排出
または供給される。なお、槽3内を上昇した被処理水1
に残存するオゾンを含む気泡は、槽3内の水位調整槽7
5によって一定の水位に保たれている被処理水1の水面
と天板21の下面との間に形成されている気体層83に
達し、排気管71、水位調整槽75、排気流路81を通
って図示していない排オゾン処理装置へ導かれ、オゾン
を分解除去などした後、外部へ排気される。
【0023】本実施形態の水処理装置内に被処理水1を
供給する場合、必要とされる浄化処理レベルや被処理水
1の反応特性に応じ2つの被処理水供給流路57、65
を選択することができる。被処理水1を被処理水流路9
の上昇流部57のレジューサ53下流側に連通する被処
理水供給流路57から供給した場合、被処理水流路9の
下降流部49で被処理水1中の有機物や微生物などのオ
ゾンによる酸化分解や殺滅がおこり、槽3内に流入する
と、オゾン、紫外線、そしてOHラジカルによる有機物
の酸化分解反応や微生物の殺滅などが行われる。また、
このとき、ポンプ59と過酸化水素注入流路61によ
り、被処理水供給流路57から供給される被処理水1に
過酸化水素を注入すると、被処理水流路9の下降流部4
9でオゾンと過酸化水素による有機物や微生物などの酸
化分解や殺滅が、槽3内でオゾン、紫外線、OHラジカ
ル、そして過酸化水素による有機物の酸化分解や微生物
の殺滅などが行われる。
【0024】被処理水1を被処理水流路9の導入部51
に連通する被処理水供給流路65から供給した場合、槽
3内でオゾン、紫外線、そしてOHラジカルによる有機
物の酸化分解や微生物の殺滅などが行われる。また、ポ
ンプ59と過酸化水素注入流路61、そして被処理水供
給流路57により、被処理水流路9の上昇流部47を通
流する被処理水1に過酸化水素を注入すると、槽3内で
オゾン、紫外線、OHラジカル、そして過酸化水素によ
る有機物の酸化分解や微生物の殺滅などが行われる。
【0025】ところで、被処理水の気泡中のオゾンに紫
外線が照射された場合、オゾンの分解によりOHラジカ
ルが生成されるが、生成したOHラジカルは、直ちにオ
ゾンと反応して酸素になり消滅してしまう。このため、
気泡中のオゾンは、被処理水中の有機物の分解や微生物
の殺滅などの被処理水の浄化処理に利用できない。ま
た、気泡中のオゾンの紫外線による分解は、オゾンの濃
度が高いほど大きく、例えば、気泡中のオゾン濃度が2
5g/m、紫外線強度が100W/mでは、約20
%のオゾンが分解され酸素になってしまう。したがっ
て、オゾンに紫外線を照射して被処理水の浄化処理に利
用できるOHラジカルの量を増大させるためには、被処
理水のオゾンの溶存量をできるだけ多くする必要があ
る。
【0026】しかし、従来のオゾンの被処理水への溶解
が槽内で行われる水処理装置では、被処理水へのオゾン
溶解が十分に行われていない状態で紫外線が照射される
ため、気泡中で分解されるオゾンが多い。すなわち、被
処理水に注入したオゾンの利用効率が悪く、十分な浄化
処理能力が得られない場合がある。従来の水処理装置で
のオゾンの溶解率と利用効率を試験した結果の一例を示
すと、水深が1〜1.5mの槽では、オゾンの被処理水
への溶解率は、40〜50%程度であった。言い換えれ
ば、50%〜60%近いオゾンが気泡中に含まれている
ことになる。また、オゾン濃度が50g/m、紫外線
平均照度100W/mでは、オゾンの利用効率、つま
り、注入したオゾン量に対する被処理水に溶解したオゾ
ンの割合は、約40%であった。言い換えれば、残りの
約60%近いオゾンは、気泡中で分解されたと考えられ
る。
【0027】これに対し、本実施形態の水処理装置で
は、従来の水処理装置のように、紫外線ランプの長さに
よって水深が制限される槽内のみでオゾンの被処理水へ
の溶解を行わず、被処理水流路9の下降流部49の上部
にオゾンを注入することで、被処理水流路9の下降流部
49と槽3内との両方でオゾンの被処理水への溶解を行
うことができる。さらに、被処理水流路9の下降流部4
9の長さ、すなわち、オゾン注入管13の開口端部63
から被処理水流路9の下降流部49の最低部までの長さ
を変えることで、被処理水1へのオゾンの溶解率を調整
できる。また、被処理水流路9の下降流部49内を通流
する被処理水1は紫外線の照射を受けないので、紫外線
照射による気泡中のオゾンの分解が起こらない。したが
って、被処理水のオゾン溶存量を増すことができるた
め、紫外線の照射により被処理水に注入されたオゾンか
ら効率よくOHラジカルを得ることができる。すなわ
ち、OHラジカルによる有機物の酸化分解や微生物の殺
滅などの作用を増大でき、浄化処理能力を向上できる。
【0028】ここで、本実施形態の水処理装置でのオゾ
ンの溶解率と利用効率を試験した結果の一例を示すと、
全オゾンの溶存量の約50%以上が被処理水流路9の下
降流部49で被処理水1に吸収されていた。これに加え
て、従来の水処理装置と同様に、槽3内での被処理水1
へのオゾンの溶解、吸収が行われる。このため、本実施
形態の水処理装置のオゾンの利用効率は、従来の水処理
装置の約1.5倍以上に高めることができた。
【0029】さらに、本実施形態では、オゾン注入管1
3の開口端部63が、被処理水流路9の下降流部49内
の、槽3内の被処理水1の水位よりも高い位置に開口し
ている。このため、被処理水流路9のポンプ11の運転
により被処理水流路9内を被処理水1が通流すると、被
処理水流路9の下降流部49の、槽3内の被処理水1の
水位よりも高い位置にある部分は、サイホンの原理によ
り負圧になる。したがって、オゾンを含む気体は、オゾ
ンを含む気体を送気するためのポンプなどを用いなくて
も、オゾン注入管13の開口端部63から吸引されて被
処理水流路9を通流する被処理液1中に注入される。す
なわち、オゾン注入用のポンプなどが必要ないため、ポ
ンプなどの駆動に要するエネルギーを省力化でき、さら
に、装置の簡素化、装置コストの低減などが可能にな
る。ただし、オゾン注入手段が、オゾンを注入するため
のポンプを備えた構成とすることもできる。
【0030】加えて、本実施形態では、筒体7内の空気
が紫外線ランプ5からの紫外線を照射されることで生成
されたオゾンを被処理水1に注入しているため、オゾン
発生装置などを用いる必要がない。したがって、オゾン
発生装置などの駆動に要するエネルギーを省力化でき、
さらに、装置の簡素化、装置コストの低減などが可能に
なる。ただし、使用する紫外線ランプの種類により、紫
外線ランプが波長185nmの紫外線を放射しないオゾ
ンレスランプなどを用いるため、槽内の紫外線ランプに
よるオゾンの生成ができない場合、または紫外線ランプ
の放射強度などによりオゾンの生成量が十分でない場合
などには、図2に示すように、オゾン注入手段がオゾン
発生器85を備えた構成とすることもできる。本実施形
態に示した水処理装置と同様の構成の水処理装置でオゾ
ン注入手段にオゾン発生器85を備えた構成とする場合
には、上側の空気室27内のオゾンを含む気体は、上側
の空気室27に連通し、排気流路81に合流する排気流
路87により、図示していない排オゾン処理装置に送ら
れるようにすればよい。また、この場合、槽3の気体層
83内の気体を水位調整槽75に送るための排気管71
や、下側の空気室41の貫通孔43は設けなくてもよ
い。
【0031】さらに、本実施形態では、被処理水流路9
の上昇流部57のレジューサ53下流側に連通する被処
理水供給流路57、すなわち被処理水流路9の下降流部
49の上流側に被処理水を供給する被処理水供給管57
を有しているので、水処理装置に供給された被処理水1
に含まれる有機物は、被処理水流路9の下降流部49を
下降する間に被処理水に吸収されたオゾンにより分解さ
れる。したがって、被処理水流路9の下降流部49での
有機物の分解により、被処理水1の紫外線の吸光度が減
少した状態で槽3内での紫外線照射を受けることにな
る。このため、オゾンの光分解に利用される光量子数が
増加する。すなわち、紫外線吸光度の高い被処理水、例
えば染色廃水などの水処理において、浄化処理能力を向
上することができる。
【0032】また、本実施形態では、複数の紫外線ラン
プ5の各々を複数の筒体7中に設置した構成としている
が、複数の紫外線ランプ5を1つの筒体で覆う構成や、
数本ずつの紫外線ランプ5の組毎に筒体で覆う構成とす
ることもできる。
【0033】(第2の実施形態)第2の実施形態につい
て図3を参照して説明する。図3は、本発明を適用して
なる水処理装置の概略構成と動作を示す図である。な
お、本実施形態では、第1の実施形態と同一のものには
同じ符号を付して説明を省略し、第1の実施形態と相違
する構成及び特徴部などについて説明する。
【0034】本実施形態の水処理装置が、第1の実施形
態の水処理装置と相違する点は、槽の構造と過酸化水素
の注入位置にある。すなわち、本実施形態の水処理装置
では、図3に示すように、槽89は、両端部が天板91
と底板93で閉塞された筒形状に形成されている。槽8
9の内部には、底板93側、つまり槽89の底部側に横
方向に延在する下側ヘッダ管95、天板91側、つまり
槽89の上部側に横方向に延在する上側ヘッダ管97、
そして下側ヘッダ管95と上側ヘッダ管97との間で上
下方向に延在して下側ヘッダ管と上側ヘッダ管とを連結
する複数の連結管99とが設置されている。連結管99
間、または連結管99と槽89の側壁間には、上下方向
に延在させて紫外線ランプ5が配設されている。
【0035】槽89の側壁の底部側には、貫通孔100
が設けられており、槽89の側壁外側には、貫通孔10
0を覆うように下側が開口したカバー101が設けられ
ている。下側ヘッダ管95は、一方の端部は閉塞されて
おり、他方の端部周囲にはフランジ103が形成されて
いる。下側ヘッダ管95は、こフランジ103と被処理
水流路9の導入部51側の端部に形成されたフランジ1
05とを、この間に図示していないO−リングやガスケ
ットなどのシール材を挟んで、図示していないボルトや
クランプなどで固定することにより、被処理水流路9の
導入部51と連結されている。
【0036】上側ヘッダ管97は、両端部に各々フラン
ジ107、109が形成されており、一方のフランジ1
07と被処理水流路9の導出部45側の端部に形成され
たフランジ111とを、この間に図示していないO−リ
ングやガスケットなどのシール材を挟んで、図示してい
ないボルトやクランプなどで固定することにより、被処
理水流路9の導出部45と連結されている。また、上側
ヘッダ管97は、他方のフランジ109と水位調整槽7
5への排水管73の端部に形成されたフランジ113と
を、この間に図示していないO−リングやガスケットな
どのシール材を挟んで、図示していないボルトやクラン
プなどで固定することにより、水位調整槽75と連結さ
れている。被処理水流路9の導入部51に連通する被処
理水供給流路65には、過酸化水素を被処理水1に注入
するためのポンプ59を備えた過酸化水素注入流路61
が連通している。なお、下側ヘッダ管95、上側ヘッダ
管97、そして連結管99は、紫外線透過性の材料、例
えば石英ガラスやテフロンなどで形成されている。
【0037】このような本実施形態の水処理装置では、
貫通孔100から槽89内に入った空気が紫外線ランプ
5の照射を受けることでオゾンが発生する。このオゾン
を、サイフォンの原理で被処理水流路9の下降流部49
内に吸引することで、被処理水流路9の下降流部49内
を通流する被処理水1に注入している。また、被処理水
1は、槽89内の下側ヘッダ管95、連結管99、そし
て上側ヘッダ管97で紫外線の照射を受け、紫外線、オ
ゾン、OHラジカルによる有機物の酸化分解や微生物の
殺滅などの浄化処理を受ける。
【0038】このように、本実施形態の水処理装置で
も、OHラジカルによる有機物の酸化分解や微生物の殺
滅などの作用を増大でき、浄化処理能力を向上できる。
さらに、オゾン発生器や、オゾンを注入するためのポン
プなどが必要ないため、省エネルギー化、装置の簡素
化、コストの低減などができる。
【0039】また、第1及び第2の実施形態では、紫外
線ランプ5は、複数本設けられているが、紫外線ランプ
5は、1本にすることもできる。さらに、第1及び第2
の実施形態では、紫外線ランプ5からの紫外線を空気に
照射することでオゾンを生成しているが、空気以外の酸
素を含有する気体や酸素を下側の空気室41や層89内
に取り込み、これらの気体に紫外線を照射することでオ
ゾンを得ることもできる。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、水処理装置の浄化処理
能力を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用してなる水処理装置の第1の実施
形態の概略構成と動作を示す図である。
【図2】第1の実施形態の水処理装置の変形例を示す図
である。
【図3】本発明を適用してなる水処理装置の第2の実施
形態の概略構成と動作を示す図である。
【符号の説明】
1 被処理水 3 槽 5 紫外線ランプ 7 筒体 9 被処理水流路 13 オゾン注入管 49 下降流部 63 開口端部
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C02F 1/50 560 C02F 1/50 560C (72)発明者 石田 宏司 東京都中央区銀座5丁目2番1号 千代田 工販株式会社内 Fターム(参考) 4D037 AA11 AB02 AB03 BA18 CA12 4D050 AA12 AB06 AB11 BB02 BC09

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 紫外線ランプと、内部に前記紫外線ラン
    プが配設された槽と、該槽の底部に連通し、被処理水が
    前記槽に向けて通流する被処理水流路と、該被処理水流
    路を通流する前記被処理水にオゾンを注入するオゾン注
    入手段とを含み、前記被処理水流路は、上下方向に延在
    して被処理水が下降する下降流部を有し、前記オゾン注
    入手段は、前記被処理水流路にオゾンを注入するための
    オゾン注入管を備え、該オゾン注入管のオゾンが排出さ
    れる側の端部は、前記被処理水流路の前記下降流部の上
    部に開口してなる水処理装置。
  2. 【請求項2】 紫外線ランプと、内部に前記紫外線ラン
    プが配設された槽と、該槽の底部に連通し、被処理水が
    前記槽に向けて通流する被処理水流路と、該被処理水流
    路に設けられたポンプと、前記被処理水流路を通流する
    前記被処理水にオゾンを注入するオゾン注入手段とを含
    み、前記被処理水流路は、上下方向に延在して被処理水
    が下降する下降流部を有し、前記オゾン注入手段は、前
    記被処理水流路にオゾンを注入するためのオゾン注入管
    を備え、該オゾン注入管のオゾンが排出される側の端部
    は、前記被処理水流路の前記下降流部内の、前記槽内の
    被処理水の水位よりも高い位置で開口してなる水処理装
    置。
  3. 【請求項3】 前記オゾン注入管は、前記被処理水流路
    を形成する管よりも径が細い管であり、前記被処理水流
    路の前記下降流部に被処理水の流れ方向に沿ってほぼ同
    軸に延在し、下方に向けて開口していることを特徴とす
    る請求項1または2に記載の水処理装置。
  4. 【請求項4】 前記オゾン注入手段は、前記槽の両端部
    に設けられた2つの気体室と、前記紫外線ランプと、前
    記紫外線ランプの周囲に設けられ、かつ前記2つの気体
    室を連結し、被処理水から前記紫外線ランプを隔離して
    酸素または酸素含有気体が通流する紫外線透過性の筒体
    とを含み、前記2つの気体室のうち、気体の流れに対し
    て下流側に位置する気体室内の気体を前記被処理水流路
    内の被処理水中に注入してなることを特徴とする請求項
    1乃至3のいずれか1項に記載の水処理装置。
  5. 【請求項5】 前記槽内には、被処理水が通流する紫外
    線透過性の管からなる反応流路と、前記槽内の酸素また
    は酸素含有気体中に配置されて前記反応流路内を通流す
    る被処理水に紫外線を照射する前記紫外線ランプとが設
    けられ、前記オゾン注入手段は、前記紫外線ランプを含
    み、前記槽内の気体を前記被処理水流路内の被処理水中
    に注入してなることを特徴とする請求項1乃至3のいず
    れか1項に記載の水処理装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100924738B1 (ko) 2008-05-13 2009-11-05 주식회사 엠아이씨 마이크로웨이브를 이용한 멸균수 및 오존수의 제조장치 및제조방법
KR101583562B1 (ko) * 2014-08-04 2016-01-08 주식회사 하이엔텍 수처리 장치
JP2016117043A (ja) * 2014-12-22 2016-06-30 聡 安斎 オゾンを含む液体の製造装置

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KR100924738B1 (ko) 2008-05-13 2009-11-05 주식회사 엠아이씨 마이크로웨이브를 이용한 멸균수 및 오존수의 제조장치 및제조방법
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