JP3458326B2 - 直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置 - Google Patents
直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、処理容器内におい
て処理対象物を保持する保持手段を移動させる直動機構
を持つ処理容器を備えた処理装置に関する。この種の処
理装置は、特に、レーザアニーリング装置のように、処
理容器内の真空あるいは不活性ガスの雰囲気中でガラス
等の処理対象物に対してレーザ光による処理を行う装置
に適している。
て処理対象物を保持する保持手段を移動させる直動機構
を持つ処理容器を備えた処理装置に関する。この種の処
理装置は、特に、レーザアニーリング装置のように、処
理容器内の真空あるいは不活性ガスの雰囲気中でガラス
等の処理対象物に対してレーザ光による処理を行う装置
に適している。
【０００２】
【従来の技術】この種の処理装置の一例として、レーザ
アニーリング装置について説明する。レーザアニーリン
グ装置によりレーザアニールをおこなう際には、処理対
象物を保持台で保持して真空容器内に配置し、石英窓を
通して処理対象物表面にレーザ光を照射する。真空容器
内で保持台を移動させることにより、処理対象物表面の
広い領域に順次レーザ光を照射することができる。
アニーリング装置について説明する。レーザアニーリン
グ装置によりレーザアニールをおこなう際には、処理対
象物を保持台で保持して真空容器内に配置し、石英窓を
通して処理対象物表面にレーザ光を照射する。真空容器
内で保持台を移動させることにより、処理対象物表面の
広い領域に順次レーザ光を照射することができる。
【０００３】保持台には、真空容器の外部まで導出され
た駆動軸が取り付けられており、真空容器内に配置され
たリニアガイド機構により移動可能にされている。駆動
軸を軸方向に往復駆動することにより、保持台を移動さ
せることができる。なお、真空容器の外側の駆動軸と真
空容器の壁との間には、気密機構としてベローズが取り
付けられ、真空容器の気密性が保たれている。
た駆動軸が取り付けられており、真空容器内に配置され
たリニアガイド機構により移動可能にされている。駆動
軸を軸方向に往復駆動することにより、保持台を移動さ
せることができる。なお、真空容器の外側の駆動軸と真
空容器の壁との間には、気密機構としてベローズが取り
付けられ、真空容器の気密性が保たれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】レーザアニールの効果
を安定して得るために、処理対象物を加熱する場合があ
る。このため、保持台にはヒータが埋め込まれている。
保持台を加熱すると、熱歪により、リニアガイド機構の
摺動部に余分な力が加わる。この余分な力のために、保
持台が移動しにくくなり、極端な場合には移動不能にな
る。
を安定して得るために、処理対象物を加熱する場合があ
る。このため、保持台にはヒータが埋め込まれている。
保持台を加熱すると、熱歪により、リニアガイド機構の
摺動部に余分な力が加わる。この余分な力のために、保
持台が移動しにくくなり、極端な場合には移動不能にな
る。
【０００５】また、真空容器内にリニアガイド機構の摺
動部が配置されるため、摩擦により摺動部から微小なご
みが発生し、真空容器内を汚染する。
動部が配置されるため、摩擦により摺動部から微小なご
みが発生し、真空容器内を汚染する。
【０００６】本発明の課題は、処理容器内のガイド機構
を省略できるようにして、処理対象物の加熱による熱歪
の影響を受けにくく、処理容器内における微小なごみの
発生を抑制できる処理容器を備えた処理装置を提供する
ことにある。
を省略できるようにして、処理対象物の加熱による熱歪
の影響を受けにくく、処理容器内における微小なごみの
発生を抑制できる処理容器を備えた処理装置を提供する
ことにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、気密状
態を維持される処理容器と、前記処理容器内に配置さ
れ、一端が前記処理容器の壁を貫通して外部まで導出さ
れた少なくとも２本の駆動用支軸と、前記駆動用支軸が
前記処理容器の壁を貫通する箇所において、前記駆動用
支軸がその軸方向に並進移動可能なように、かつ前記処
理容器内の気密性が保たれるように、前記処理容器内と
外部とを隔離する気密機構と、前記処理容器の外に設け
られ、前記駆動用支軸が前記処理容器に対して軸方向に
並進移動可能なように駆動用支軸を支持するガイド機構
と、前記駆動用支軸の一端側に連結されて、前記駆動用
支軸と共に移動可能なように前記処理容器外に設置され
たステージベースと、前記ステージベースを介して前記
駆動用支軸を前記処理容器に対して軸方向に並進移動さ
せるために前記処理容器外に設置された駆動機構と、前
記処理容器内において、前記駆動用支軸の他端側で支え
られ、処理対象物を保持する保持手段とを有することを
特徴とする直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置が
提供される。
態を維持される処理容器と、前記処理容器内に配置さ
れ、一端が前記処理容器の壁を貫通して外部まで導出さ
れた少なくとも２本の駆動用支軸と、前記駆動用支軸が
前記処理容器の壁を貫通する箇所において、前記駆動用
支軸がその軸方向に並進移動可能なように、かつ前記処
理容器内の気密性が保たれるように、前記処理容器内と
外部とを隔離する気密機構と、前記処理容器の外に設け
られ、前記駆動用支軸が前記処理容器に対して軸方向に
並進移動可能なように駆動用支軸を支持するガイド機構
と、前記駆動用支軸の一端側に連結されて、前記駆動用
支軸と共に移動可能なように前記処理容器外に設置され
たステージベースと、前記ステージベースを介して前記
駆動用支軸を前記処理容器に対して軸方向に並進移動さ
せるために前記処理容器外に設置された駆動機構と、前
記処理容器内において、前記駆動用支軸の他端側で支え
られ、処理対象物を保持する保持手段とを有することを
特徴とする直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置が
提供される。
【０００８】なお、前記駆動機構は、前記処理容器の下
部域に配置されていることが好ましい。
部域に配置されていることが好ましい。
【０００９】前記保持手段は、前記処理対象物を加熱す
るための加熱手段を有する。
るための加熱手段を有する。
【００１０】一方、前記処理容器の内壁に、前記処理対
象物を加熱するための加熱手段が設けられていても良
い。
象物を加熱するための加熱手段が設けられていても良
い。
【００１１】前記駆動機構は、前記ステージベースの幅
方向両側に配置された２組のリニアモータで構成され
る。
方向両側に配置された２組のリニアモータで構成され
る。
【００１２】前記２組のリニアモータは定盤上に配置さ
れ、前記ステージベースは前記定盤上を移動し、前記ス
テージベースはエアベアリングを備えている。
れ、前記ステージベースは前記定盤上を移動し、前記ス
テージベースはエアベアリングを備えている。
【００１３】前記ステージベースは、前記定盤上に設け
られたガイドレールに沿って案内され、前記エアベアリ
ングは、前記ガイドレールを挟むように設けられたガイ
ド用のエアベアリングと、前記定盤との間でベアリング
を構成するように前記ステージベース側に設けられた少
なくとも３つのリフト用のエアベアリングとから成る。
られたガイドレールに沿って案内され、前記エアベアリ
ングは、前記ガイドレールを挟むように設けられたガイ
ド用のエアベアリングと、前記定盤との間でベアリング
を構成するように前記ステージベース側に設けられた少
なくとも３つのリフト用のエアベアリングとから成る。
【００１４】前記駆動用支軸としては、上側に２本、下
側に１本の合計３本の軸を備えていることが好ましい。
側に１本の合計３本の軸を備えていることが好ましい。
【００１５】
【作用】駆動機構により、駆動用支軸をその軸方向に並
進移動させることができ、駆動用支軸に固定された保持
手段も移動する。処理容器内に摺動部がないため、摺動
部における摩擦に起因した微小なごみによる処理容器内
の汚染を防止することができる。
進移動させることができ、駆動用支軸に固定された保持
手段も移動する。処理容器内に摺動部がないため、摺動
部における摩擦に起因した微小なごみによる処理容器内
の汚染を防止することができる。
【００１６】また、保持手段が加熱されて熱歪を生じて
も、処理容器内に摺動部がないため、摺動部が熱歪の影
響を受けない。このため、保持手段を加熱しても、保持
手段をスムーズに移動させることができる。
も、処理容器内に摺動部がないため、摺動部が熱歪の影
響を受けない。このため、保持手段を加熱しても、保持
手段をスムーズに移動させることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の好ましい実施の
形態による処理容器の横断面図を示し、図２は、図１の
縦断面図、図３は図２の線Ａ−Ａによる断面図を示す。
形態による処理容器の横断面図を示し、図２は、図１の
縦断面図、図３は図２の線Ａ−Ａによる断面図を示す。
【００１８】架台１００上に、内部を真空排気可能な処
理容器１が装着されている。処理容器１は、後述する構
造により、架台１００に対してその幅方向、及び上下方
向に位置の微調整が可能である。処理容器１の内部に、
直動機構を構成するための駆動用支軸２ａ、２ｂ、及び
２ｃが互いに平行に配置されている。駆動用支軸２ａ〜
２ｃの一端側は、処理容器１の側壁を貫通して外部まで
導出されている。処理容器１内には保持台としてのワー
クテーブル３が配置されている。ワークテーブル３は、
駆動用支軸２ａ〜２ｃの他端側に固定され、いわゆる片
持ち支持構造により支持されている。処理容器１は真空
排気され、場合によってはその後に不活性ガスが導入さ
れる。
理容器１が装着されている。処理容器１は、後述する構
造により、架台１００に対してその幅方向、及び上下方
向に位置の微調整が可能である。処理容器１の内部に、
直動機構を構成するための駆動用支軸２ａ、２ｂ、及び
２ｃが互いに平行に配置されている。駆動用支軸２ａ〜
２ｃの一端側は、処理容器１の側壁を貫通して外部まで
導出されている。処理容器１内には保持台としてのワー
クテーブル３が配置されている。ワークテーブル３は、
駆動用支軸２ａ〜２ｃの他端側に固定され、いわゆる片
持ち支持構造により支持されている。処理容器１は真空
排気され、場合によってはその後に不活性ガスが導入さ
れる。
【００１９】駆動用支軸２ａ〜２ｃの一端側は、結合ブ
ロック４に固定されている。結合ブロック４にはまた、
駆動用支軸２ａ〜２ｃと平行に処理容器１の下側にまで
延びるようなステージベース５の一端部が固定されてい
る。ステージベース５は、石定盤６上に設置されたガイ
ドレール７に沿ってスライド可能に構成される。ガイド
レール７は、ステージベース５の中心線に沿うように配
置されている。ステージベース５の他端部の両側にはそ
れぞれリニアモータ部８が組み合わされる。
ロック４に固定されている。結合ブロック４にはまた、
駆動用支軸２ａ〜２ｃと平行に処理容器１の下側にまで
延びるようなステージベース５の一端部が固定されてい
る。ステージベース５は、石定盤６上に設置されたガイ
ドレール７に沿ってスライド可能に構成される。ガイド
レール７は、ステージベース５の中心線に沿うように配
置されている。ステージベース５の他端部の両側にはそ
れぞれリニアモータ部８が組み合わされる。
【００２０】リニアモータ部８は、ステージベース５、
結合ブロック４、駆動用支軸２ａ〜２ｃ、及びワークテ
ーブル３を一体に駆動するためのものである。特に、リ
ニアモータ部８を処理容器１の下部域に配置している。
これは、ステージベース５の一端に結合ブロック４及び
駆動用支軸２ａ〜２ｃを介してワークテーブル３が片持
ち式に支持されているのに対し、ステージベース５は後
述するエアベアリングにより静圧式に支持されており、
このような支持構造でも重量の比較的大きいワークテー
ブル３を支え易くするためである。
結合ブロック４、駆動用支軸２ａ〜２ｃ、及びワークテ
ーブル３を一体に駆動するためのものである。特に、リ
ニアモータ部８を処理容器１の下部域に配置している。
これは、ステージベース５の一端に結合ブロック４及び
駆動用支軸２ａ〜２ｃを介してワークテーブル３が片持
ち式に支持されているのに対し、ステージベース５は後
述するエアベアリングにより静圧式に支持されており、
このような支持構造でも重量の比較的大きいワークテー
ブル３を支え易くするためである。
【００２１】なお、必要な出力トルクを得るために、こ
の例では片側に２本ずつ、合計４本のリニアモータが配
置されるが、出力トルクの大きなリニアモータを使用す
るのであれば、片側に１本ずつでも良い。２組のリニア
モータ部８を同期駆動することにより、駆動用支軸２ａ
〜２ｃを、その軸方向に並進移動させることができる。
その結果、ワークテーブル３を処理容器１内で移動させ
ることができる。
の例では片側に２本ずつ、合計４本のリニアモータが配
置されるが、出力トルクの大きなリニアモータを使用す
るのであれば、片側に１本ずつでも良い。２組のリニア
モータ部８を同期駆動することにより、駆動用支軸２ａ
〜２ｃを、その軸方向に並進移動させることができる。
その結果、ワークテーブル３を処理容器１内で移動させ
ることができる。
【００２２】駆動用支軸２ａ〜２ｃの各々の処理容器１
の外に導出された部分にはそれぞれ、気密機構として真
空ベローズ９が被せられている。真空ベローズ９の一端
はそれぞれ結合ブロック４に取り付けられ、他端は処理
容器１の側壁に取り付けられている。このような真空べ
ローズ９により、処理容器１の気密性が保たれる。
の外に導出された部分にはそれぞれ、気密機構として真
空ベローズ９が被せられている。真空ベローズ９の一端
はそれぞれ結合ブロック４に取り付けられ、他端は処理
容器１の側壁に取り付けられている。このような真空べ
ローズ９により、処理容器１の気密性が保たれる。
【００２３】ワークテーブル３の上面には複数のピン１
１が突出しており、アニール処理されるガラス板等の基
板１０がピン１１の上に載置される。ワークテーブル３
には加熱用ヒータ１２が組み合わされており、熱輻射に
より基板１０を加熱することができる。処理容器１の上
面には石英窓１−１が設けられており、石英窓１−１を
通して処理容器１内に光学系２０からのレーザ光が導入
される。
１が突出しており、アニール処理されるガラス板等の基
板１０がピン１１の上に載置される。ワークテーブル３
には加熱用ヒータ１２が組み合わされており、熱輻射に
より基板１０を加熱することができる。処理容器１の上
面には石英窓１−１が設けられており、石英窓１−１を
通して処理容器１内に光学系２０からのレーザ光が導入
される。
【００２４】２組のリニアモータ部８を駆動して駆動用
支軸２ａ〜２ｃをその軸方向に並進移動させることによ
り、処理容器１内で基板１０を移動させることができ
る。リニアモータ部８の駆動制御については詳しい説明
を省略するが、ガイドレール７にはリニアエンコーダ１
３が設けられる。このリニアエンコーダ１３からの位置
検出信号をリニアモータ部８の駆動制御系にフィードバ
ックし、ワークテーブル３、すなわち基板１０の位置目
標値に追随するような制御を行う。
支軸２ａ〜２ｃをその軸方向に並進移動させることによ
り、処理容器１内で基板１０を移動させることができ
る。リニアモータ部８の駆動制御については詳しい説明
を省略するが、ガイドレール７にはリニアエンコーダ１
３が設けられる。このリニアエンコーダ１３からの位置
検出信号をリニアモータ部８の駆動制御系にフィードバ
ックし、ワークテーブル３、すなわち基板１０の位置目
標値に追随するような制御を行う。
【００２５】ステージベース５を円滑にスライドさせる
ために、ステージベース５にはリフト用エアベアリング
１４とガイド用エアベアリング１５が組み込まれてい
る。リフト用エアベアリング１４は、この例では、３点
支持とするためにステージベース５の一端側の中間部
と、他端側の両側の合計３個所に配置されている。エア
ベアリングは、周知のように、圧縮空気を吹き付けるこ
とでベアリングの機能を持たせるものである。特に、ス
テージベース５の一端側の中間部に配置されるリフト用
エアベアリング１４について言えば、図４に示されるよ
うに、２個１組でステージベース５を安定に支持できる
ようにしている。一方、ガイド用エアベアリング１５
は、ガイドレール７との間でベアリングを構成するもの
である。図５に示すように、ガイドレール７に沿った複
数箇所（ここでは、２箇所）でしかもその両側にガイド
レール７を挟み込むようにガイド用エアベアリング１５
が配置される。図６は、ステージベース５の他端側の幅
方向両側に配置されるリフト用エアベアリング１４を示
している。
ために、ステージベース５にはリフト用エアベアリング
１４とガイド用エアベアリング１５が組み込まれてい
る。リフト用エアベアリング１４は、この例では、３点
支持とするためにステージベース５の一端側の中間部
と、他端側の両側の合計３個所に配置されている。エア
ベアリングは、周知のように、圧縮空気を吹き付けるこ
とでベアリングの機能を持たせるものである。特に、ス
テージベース５の一端側の中間部に配置されるリフト用
エアベアリング１４について言えば、図４に示されるよ
うに、２個１組でステージベース５を安定に支持できる
ようにしている。一方、ガイド用エアベアリング１５
は、ガイドレール７との間でベアリングを構成するもの
である。図５に示すように、ガイドレール７に沿った複
数箇所（ここでは、２箇所）でしかもその両側にガイド
レール７を挟み込むようにガイド用エアベアリング１５
が配置される。図６は、ステージベース５の他端側の幅
方向両側に配置されるリフト用エアベアリング１４を示
している。
【００２６】なお、ステージベース５はできるだけ軽量
化することが望ましいが、所定の剛性を確保する必要も
ある。このために、ステージベース５の肉厚をできるだ
け薄くする一方、ステージベース５の下面側には、複数
箇所にその長さ方向に沿うよにリブ５−１（図４、図
５）が設けられている。
化することが望ましいが、所定の剛性を確保する必要も
ある。このために、ステージベース５の肉厚をできるだ
け薄くする一方、ステージベース５の下面側には、複数
箇所にその長さ方向に沿うよにリブ５−１（図４、図
５）が設けられている。
【００２７】処理容器１の４隅に対応する架台１００の
４箇所にはそれぞれ、位置調整用のねじ機構１０１、１
０２が設けられている。ねじ機構１０１は、ねじの先端
が処理容器１の側壁に当接していることで、ねじの押し
込み量を調整することにより、処理容器１の幅方向に関
する位置を微調整できる。ねじ機構１０２は、ねじの先
端が処理容器１の底壁に当接していることで、ねじの押
し込み量を調整することにより、処理容器１の上下方向
に関する位置を微調整できる。
４箇所にはそれぞれ、位置調整用のねじ機構１０１、１
０２が設けられている。ねじ機構１０１は、ねじの先端
が処理容器１の側壁に当接していることで、ねじの押し
込み量を調整することにより、処理容器１の幅方向に関
する位置を微調整できる。ねじ機構１０２は、ねじの先
端が処理容器１の底壁に当接していることで、ねじの押
し込み量を調整することにより、処理容器１の上下方向
に関する位置を微調整できる。
【００２８】図７は、上記の処理容器を備えたレーザア
ニーリング装置全体の概略平面図を示す。レーザアニー
リング装置は、処理容器１に加えて、基板１０の搬送チ
ャンバ２２、搬入チャンバ２３、搬出チャンバ２４を有
している。光学系２０は、ホモジナイザ４１、ＣＣＤカ
メラ４２及びビデオモニタ４３を含んで構成されてい
る。
ニーリング装置全体の概略平面図を示す。レーザアニー
リング装置は、処理容器１に加えて、基板１０の搬送チ
ャンバ２２、搬入チャンバ２３、搬出チャンバ２４を有
している。光学系２０は、ホモジナイザ４１、ＣＣＤカ
メラ４２及びビデオモニタ４３を含んで構成されてい
る。
【００２９】処理容器１と搬送チャンバ２２はゲートバ
ルブ２５を介して結合されている。同様に、搬送チャン
バ２２と搬入チャンバ２３、搬送チャンバ２２と搬出チ
ャンバ２４は、それぞれゲートバルブ２６、２７を介し
て結合されている。処理容器１、搬入チャンバ２３及び
搬出チャンバ２４には、それぞれ真空ポンプ３１、３２
及び３３が設けられ、基板１０の移し替えに際して各チ
ャンバの内部が真空排気される。
ルブ２５を介して結合されている。同様に、搬送チャン
バ２２と搬入チャンバ２３、搬送チャンバ２２と搬出チ
ャンバ２４は、それぞれゲートバルブ２６、２７を介し
て結合されている。処理容器１、搬入チャンバ２３及び
搬出チャンバ２４には、それぞれ真空ポンプ３１、３２
及び３３が設けられ、基板１０の移し替えに際して各チ
ャンバの内部が真空排気される。
【００３０】搬送チャンバ２２内には、搬送用ロボット
２８が収容されている。搬送用ロボット２８は、処理容
器１、搬入チャンバ２３及び搬出チャンバ２４の相互間
で処理済みの基板あるいは処理前の基板を移送する。
２８が収容されている。搬送用ロボット２８は、処理容
器１、搬入チャンバ２３及び搬出チャンバ２４の相互間
で処理済みの基板あるいは処理前の基板を移送する。
【００３１】光学系２０においては、パルス発振したエ
キシマレーザ装置４４から出力されたレーザビームがア
ッテネータ４５を通ってホモジナイザ４１に入射する。
ホモジナイザ４１は、レーザビームの断面形状を細長い
形状にする。ホモジナイザ４１を通過したレーザビーム
は、レーザ光の断面形状に対応した細長い石英窓１−１
を透過して処理容器１内の基板１０を照射する。基板１
０の表面がホモジナイズ面に一致するように、ホモジナ
イザ４１と基板１０との相対位置が調節されている。
キシマレーザ装置４４から出力されたレーザビームがア
ッテネータ４５を通ってホモジナイザ４１に入射する。
ホモジナイザ４１は、レーザビームの断面形状を細長い
形状にする。ホモジナイザ４１を通過したレーザビーム
は、レーザ光の断面形状に対応した細長い石英窓１−１
を透過して処理容器１内の基板１０を照射する。基板１
０の表面がホモジナイズ面に一致するように、ホモジナ
イザ４１と基板１０との相対位置が調節されている。
【００３２】基板１０は、図１〜図３で説明した直動機
構により石英窓１−１の長軸方向に直交する向きに移動
する。１ショット分の照射領域の一部が前回のショット
における照射領域の一部と重なるような速さで基板１０
を移動させることにより、基板１０表面の広い領域を照
射することができる。基板１０表面はＣＣＤカメラ４２
により撮影され、処理中の基板１０表面をビデオモニタ
４３で観察することができる。
構により石英窓１−１の長軸方向に直交する向きに移動
する。１ショット分の照射領域の一部が前回のショット
における照射領域の一部と重なるような速さで基板１０
を移動させることにより、基板１０表面の広い領域を照
射することができる。基板１０表面はＣＣＤカメラ４２
により撮影され、処理中の基板１０表面をビデオモニタ
４３で観察することができる。
【００３３】リニアモータ８、ゲートバルブ２５〜２
７、搬送用ロボット２８、ホモジナイザ４１、及びエキ
シマレーザ装置４４の動作は、制御装置４０によって制
御される。
７、搬送用ロボット２８、ホモジナイザ４１、及びエキ
シマレーザ装置４４の動作は、制御装置４０によって制
御される。
【００３４】図１〜図３に戻って、基板１０の移動方向
に対して直交する方向に長い断面形状を有するレーザ光
を照射しながら、基板１０を移動させることにより、基
板１０の表面の広い領域をアニールすることができる。
特に、基板１０を加熱しておくことにより、レーザアニ
ールの効果を安定させることができる。
に対して直交する方向に長い断面形状を有するレーザ光
を照射しながら、基板１０を移動させることにより、基
板１０の表面の広い領域をアニールすることができる。
特に、基板１０を加熱しておくことにより、レーザアニ
ールの効果を安定させることができる。
【００３５】本形態による直動機構では、処理容器１内
に摺動部が無い。このため、摺動部における摩擦に起因
した微小なごみによる処理容器１内の汚染を防止するこ
とができる。また、ワークテーブル３が加熱されて熱歪
が生じたとしても、駆動機構は処理容器１の外にあるの
で熱歪の影響を受けない。このため、ワークテーブル３
を加熱した状態でも安定してワークテーブル３を移動さ
せることができる。なお、加熱用ヒータ１２をワークテ
ーブル３に組み込んでいるが、ワークテーブル３はでき
るだけ軽量化することが望ましいので、この加熱用ヒー
タを処理容器１の天井内壁に設けるようにしても良い。
に摺動部が無い。このため、摺動部における摩擦に起因
した微小なごみによる処理容器１内の汚染を防止するこ
とができる。また、ワークテーブル３が加熱されて熱歪
が生じたとしても、駆動機構は処理容器１の外にあるの
で熱歪の影響を受けない。このため、ワークテーブル３
を加熱した状態でも安定してワークテーブル３を移動さ
せることができる。なお、加熱用ヒータ１２をワークテ
ーブル３に組み込んでいるが、ワークテーブル３はでき
るだけ軽量化することが望ましいので、この加熱用ヒー
タを処理容器１の天井内壁に設けるようにしても良い。
【００３６】上記の形態では、駆動源としてリニアモー
タを使用したが、その他の直動駆動源を用いてもよい。
例えば、回転モータとボールねじの組み合わせを用いて
もよい。また、上記形態では、レーザアニール装置を例
にして説明したが、図１〜図３に示された処理容器をそ
の他の装置に適用することも可能である。例えば、特殊
な薬品を使用する場合のように、外界と遮断する必要の
ある環境下において直動機構が必要な処理容器の場合に
も有効である。
タを使用したが、その他の直動駆動源を用いてもよい。
例えば、回転モータとボールねじの組み合わせを用いて
もよい。また、上記形態では、レーザアニール装置を例
にして説明したが、図１〜図３に示された処理容器をそ
の他の装置に適用することも可能である。例えば、特殊
な薬品を使用する場合のように、外界と遮断する必要の
ある環境下において直動機構が必要な処理容器の場合に
も有効である。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
処理容器内に摺動部分のない直動機構が得られるため、
処理容器内の汚染を抑制することができる。また、処理
対象物を保持する保持手段を加熱することにより熱歪が
発生しても、保持手段は熱歪の影響を受けないので、安
定した移動を行うことが可能になる。
処理容器内に摺動部分のない直動機構が得られるため、
処理容器内の汚染を抑制することができる。また、処理
対象物を保持する保持手段を加熱することにより熱歪が
発生しても、保持手段は熱歪の影響を受けないので、安
定した移動を行うことが可能になる。
【図１】本発明の好ましい実施の形態による処理装置の
横断面図である。
横断面図である。
【図２】図１の処理装置の縦断面図である。
【図３】図２の線Ａ−Ａによる断面図である。
【図４】図３に示されたステージベースの一端側のリフ
ト用エアベアリングの構造を示す断面図である。
ト用エアベアリングの構造を示す断面図である。
【図５】図３に示されたガイド用エアベアリングの構造
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図６】図３に示されたステージベースの他端側のリフ
ト用エアベアリングの構造を示す断面図である。
ト用エアベアリングの構造を示す断面図である。
【図７】図１の処理装置をレーザアニーリング装置に適
用した場合の概略構成を示す平面図である。
用した場合の概略構成を示す平面図である。
１ 処理容器
１−１ 石英窓
２ａ〜２ｃ 駆動用支軸
３ ワークテーブル
４ 結合ブロック
５ ステージベース
６ 石定盤
７ ガイドレール
８ リニアモータ部
９ 真空ベローズ
１０ 基板
１１ ピン
１２ 加熱用ヒータ
１３ リニアエンコーダ
１４ リフト用エアベアリング
１５ ガイド用エアベアリング
２０ 光学系
２２ 搬送チャンバ
２３ 搬入チャンバ
２４ 搬出チャンバ
２５〜２７ ゲートバルブ
２８ 搬送ロボット
３１〜３３ 真空ポンプ
４０ 制御装置
４１ ホモジナイザ
４２ ＣＣＤカメラ
４３ ビデオモニタ
４４ エキシマレーザ装置
４５ アッテネータ
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 昭61−267245（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−199826（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−277379（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−286452（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B01J 3/00 - 3/08
H01L 21/68
Claims (8)
- 【請求項１】 気密状態を維持される処理容器と、 前記処理容器内に配置され、一端が前記処理容器の壁を
貫通して外部まで導出された少なくとも２本の駆動用支
軸と、 前記駆動用支軸が前記処理容器の壁を貫通する箇所にお
いて、前記駆動用支軸がその軸方向に並進移動可能なよ
うに、かつ前記処理容器内の気密性が保たれるように、
前記処理容器内と外部とを隔離する気密機構と、 前記処理容器の外に設けられ、前記駆動用支軸が前記処
理容器に対して軸方向に並進移動可能なように駆動用支
軸を支持するガイド機構と、 前記駆動用支軸の一端側に連結されて、前記駆動用支軸
と共に移動可能なように前記処理容器外に設置されたス
テージベースと、 前記ステージベースを介して前記駆動用支軸を前記処理
容器に対して軸方向に並進移動させるために前記処理容
器外に設置された駆動機構と、 前記処理容器内において、前記駆動用支軸の他端側で支
えられ、処理対象物を保持する保持手段とを有すること
を特徴とする直動機構を持つ処理容器を備えた処理装
置。 - 【請求項２】 前記駆動機構は、前記処理容器の下部域
に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の処
理装置。 - 【請求項３】 前記保持手段は、前記処理対象物を加熱
するための加熱手段を有することを特徴とする請求項１
に記載の処理装置。 - 【請求項４】 前記処理容器の内壁に、前記処理対象物
を加熱するための加熱手段が設けられていることを特徴
とする請求項１に記載の処理装置。 - 【請求項５】 前記駆動機構は、前記ステージベースの
幅方向両側に配置された２組のリニアモータで構成され
ることを特徴とする請求項２に記載の処理装置。 - 【請求項６】 前記２組のリニアモータは定盤上に配置
され、前記ステージベースは前記定盤上を移動し、前記
ステージベースはエアベアリングを備えていることを特
徴とする請求項５に記載の処理装置。 - 【請求項７】 前記ステージベースは、前記定盤上に設
けられたガイドレールに沿って案内され、前記エアベア
リングは、前記ガイドレールを挟むように設けられたガ
イド用のエアベアリングと、前記定盤との間でベアリン
グを構成するように前記ステージベース側に設けられた
少なくとも３つのリフト用のエアベアリングとから成る
ことを特徴とする請求項６に記載の処理装置。 - 【請求項８】 前記駆動用支軸として、上側に２本、下
側に１本の合計３本の軸を備えていることを特徴とする
請求項１に記載の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24359798A JP3458326B2 (ja) | 1998-08-28 | 1998-08-28 | 直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24359798A JP3458326B2 (ja) | 1998-08-28 | 1998-08-28 | 直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000070698A JP2000070698A (ja) | 2000-03-07 |
| JP3458326B2 true JP3458326B2 (ja) | 2003-10-20 |
Family
ID=17106191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24359798A Expired - Fee Related JP3458326B2 (ja) | 1998-08-28 | 1998-08-28 | 直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3458326B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002361852A (ja) * | 2001-06-07 | 2002-12-18 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成装置 |
| KR101326133B1 (ko) * | 2005-03-10 | 2013-11-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 평판 표시 장치 제조 시스템 |
| KR101361815B1 (ko) | 2007-08-24 | 2014-02-11 | 세메스 주식회사 | 기판 가열 장치 |
-
1998
- 1998-08-28 JP JP24359798A patent/JP3458326B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000070698A (ja) | 2000-03-07 |
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