JP3318735B2 - 直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置 - Google Patents
直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置Info
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- JP3318735B2 JP3318735B2 JP8393397A JP8393397A JP3318735B2 JP 3318735 B2 JP3318735 B2 JP 3318735B2 JP 8393397 A JP8393397 A JP 8393397A JP 8393397 A JP8393397 A JP 8393397A JP 3318735 B2 JP3318735 B2 JP 3318735B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、処理容器内におい
て処理対象物を保持する保持手段を移動させる直動機構
を持つ処理容器を備えた処理装置に関する。この種の処
理装置は、特に、レーザアニーリング装置のように、処
理容器内の真空あるいは不活性ガスの雰囲気中でガラス
等の処理対象物に対してレーザ光による処理を行う装置
に適している。
て処理対象物を保持する保持手段を移動させる直動機構
を持つ処理容器を備えた処理装置に関する。この種の処
理装置は、特に、レーザアニーリング装置のように、処
理容器内の真空あるいは不活性ガスの雰囲気中でガラス
等の処理対象物に対してレーザ光による処理を行う装置
に適している。
【０００２】
【従来の技術】この種の処理装置の一例として、レーザ
アニーリング装置について説明する。レーザアニーリン
グ装置によりレーザアニールをおこなう際には、処理対
象物を保持台で保持して真空容器内に配置し、石英窓を
通して処理対象物表面にレーザ光を照射する。真空容器
内で保持台を移動させることにより、処理対象物表面の
広い領域に順次レーザ光を照射することができる。
アニーリング装置について説明する。レーザアニーリン
グ装置によりレーザアニールをおこなう際には、処理対
象物を保持台で保持して真空容器内に配置し、石英窓を
通して処理対象物表面にレーザ光を照射する。真空容器
内で保持台を移動させることにより、処理対象物表面の
広い領域に順次レーザ光を照射することができる。
【０００３】保持台には、真空容器の外部まで導出され
た駆動軸が取り付けられており、真空容器内に配置され
たリニアガイド機構により移動可能にされている。駆動
軸を軸方向に往復駆動することにより、保持台を移動さ
せることができる。なお、真空容器の外側の駆動軸と真
空容器の壁との間には、気密機構としてベローズが取り
付けられ、真空容器の気密性が保たれている。
た駆動軸が取り付けられており、真空容器内に配置され
たリニアガイド機構により移動可能にされている。駆動
軸を軸方向に往復駆動することにより、保持台を移動さ
せることができる。なお、真空容器の外側の駆動軸と真
空容器の壁との間には、気密機構としてベローズが取り
付けられ、真空容器の気密性が保たれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】レーザアニールの効果
を安定して得るために、処理対象物を加熱する場合があ
る。このため、保持台にはヒータが埋め込まれている。
保持台を加熱すると、熱歪により、リニアガイド機構の
摺動部に余分な力が加わる。この余分な力のために、保
持台が移動しにくくなり、極端な場合には移動不能にな
る。
を安定して得るために、処理対象物を加熱する場合があ
る。このため、保持台にはヒータが埋め込まれている。
保持台を加熱すると、熱歪により、リニアガイド機構の
摺動部に余分な力が加わる。この余分な力のために、保
持台が移動しにくくなり、極端な場合には移動不能にな
る。
【０００５】また、真空容器内にリニアガイド機構の摺
動部が配置されるため、摩擦により摺動部から微小なご
みが発生し、真空容器内を汚染する。
動部が配置されるため、摩擦により摺動部から微小なご
みが発生し、真空容器内を汚染する。
【０００６】本発明の課題は、処理容器内のガイド機構
を省略できるようにして、処理対象物の加熱による熱歪
の影響を受けにくく、処理容器内における微小なごみの
発生を抑制できる処理容器を備えた処理装置を提供する
ことにある。
を省略できるようにして、処理対象物の加熱による熱歪
の影響を受けにくく、処理容器内における微小なごみの
発生を抑制できる処理容器を備えた処理装置を提供する
ことにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、気密状
態を維持される処理容器と、前記処理容器内に配置さ
れ、一端側が前記処理容器の壁を貫通して外部まで導出
された少なくとも２本の駆動用支軸と、前記駆動用支軸
が前記処理容器の壁を貫通する箇所において、前記駆動
用支軸がその軸方向に並進移動可能なように、かつ前記
処理容器内の気密性が保たれるように、前記処理容器内
と外部とを隔離する気密機構と、前記少なくとも２本の
駆動用支軸をそれらの一端部において結合している結合
部材と、前記結合部材を前記駆動用支軸の軸方向に駆動
することにより前記駆動用支軸を前記処理容器に対して
軸方向に並進移動させる駆動機構と、前記処理容器内に
配置され、前記駆動用支軸の他端部で支持されると共に
処理対象物を保持する保持手段とを有することを特徴と
する直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置が提供さ
れる。
態を維持される処理容器と、前記処理容器内に配置さ
れ、一端側が前記処理容器の壁を貫通して外部まで導出
された少なくとも２本の駆動用支軸と、前記駆動用支軸
が前記処理容器の壁を貫通する箇所において、前記駆動
用支軸がその軸方向に並進移動可能なように、かつ前記
処理容器内の気密性が保たれるように、前記処理容器内
と外部とを隔離する気密機構と、前記少なくとも２本の
駆動用支軸をそれらの一端部において結合している結合
部材と、前記結合部材を前記駆動用支軸の軸方向に駆動
することにより前記駆動用支軸を前記処理容器に対して
軸方向に並進移動させる駆動機構と、前記処理容器内に
配置され、前記駆動用支軸の他端部で支持されると共に
処理対象物を保持する保持手段とを有することを特徴と
する直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置が提供さ
れる。
【０００８】前記保持手段は、前記処理対象物を加熱す
るための加熱手段を有するが、この加熱手段は、前記処
理容器の内壁に設けられていても良い。
るための加熱手段を有するが、この加熱手段は、前記処
理容器の内壁に設けられていても良い。
【０００９】また、前記駆動機構は、リニアガイド機構
を備えたリニアモータで構成されることが好ましい。
を備えたリニアモータで構成されることが好ましい。
【００１０】
【作用】駆動機構により、駆動用支軸をその軸方向に並
進移動させることができ、駆動用支軸に固定された保持
手段も移動する。処理容器内に摺動部がないため、摺動
部における摩擦に起因した微小なごみによる処理容器内
の汚染を防止することができる。
進移動させることができ、駆動用支軸に固定された保持
手段も移動する。処理容器内に摺動部がないため、摺動
部における摩擦に起因した微小なごみによる処理容器内
の汚染を防止することができる。
【００１１】また、保持手段が加熱されて熱歪を生じて
も、処理容器内に摺動部がないため、摺動部が熱歪の影
響を受けない。このため、保持手段を加熱しても、保持
手段をスムーズに移動させることができる。
も、処理容器内に摺動部がないため、摺動部が熱歪の影
響を受けない。このため、保持手段を加熱しても、保持
手段をスムーズに移動させることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の好ましい実施の
形態による処理容器の概略平断面図を示し、図２は、図
１の線Ａ−Ａによる概略断面図を示す。
形態による処理容器の概略平断面図を示し、図２は、図
１の線Ａ−Ａによる概略断面図を示す。
【００１３】内部を真空排気可能な処理容器１の内部
に、直動機構を構成するための駆動用支軸２ａ及び２ｂ
が互いに平行に配置されている。駆動用支軸２ａ及び２
ｂの一端側は、処理容器１の側壁を貫通して外部まで導
出されている。処理容器１は真空排気され、場合によっ
てはその後に不活性ガスが導入される。
に、直動機構を構成するための駆動用支軸２ａ及び２ｂ
が互いに平行に配置されている。駆動用支軸２ａ及び２
ｂの一端側は、処理容器１の側壁を貫通して外部まで導
出されている。処理容器１は真空排気され、場合によっ
てはその後に不活性ガスが導入される。
【００１４】駆動用支軸２ａ及び２ｂの一端部は、結合
部材３により相互に結合されている。結合部材３は、リ
ニアガイド機構を備えたリニアモータ４ａ、４ｂにより
駆動用支軸２ａ及び２ｂの軸方向に駆動される。リニア
モータ４ａ、４ｂを駆動することにより、駆動用支軸２
ａ及び２ｂを、その軸方向に並進移動させることができ
る。
部材３により相互に結合されている。結合部材３は、リ
ニアガイド機構を備えたリニアモータ４ａ、４ｂにより
駆動用支軸２ａ及び２ｂの軸方向に駆動される。リニア
モータ４ａ、４ｂを駆動することにより、駆動用支軸２
ａ及び２ｂを、その軸方向に並進移動させることができ
る。
【００１５】駆動用支軸２ａ及び２ｂの各々の処理容器
１の外に導出された部分には、気密機構として真空ベロ
ーズ５ａ、５ｂが被せられている。真空ベローズ５ａ、
５ｂの一端はそれぞれ処理容器１の側壁に取り付けら
れ、他端は結合部材３に取り付けられている。このよう
な真空べローズ５ａ、５ｂにより、処理容器１の気密性
が保たれる。
１の外に導出された部分には、気密機構として真空ベロ
ーズ５ａ、５ｂが被せられている。真空ベローズ５ａ、
５ｂの一端はそれぞれ処理容器１の側壁に取り付けら
れ、他端は結合部材３に取り付けられている。このよう
な真空べローズ５ａ、５ｂにより、処理容器１の気密性
が保たれる。
【００１６】処理容器１内には保持台６が配置されてい
る。保持台６は、駆動用支軸２ａ及び２ｂの他端側に固
定され、いわゆる片持ち支持構造により支持されてい
る。保持台６の上面には複数のピン７が突出しており、
アニール処理されるガラス等の基板８がピン７の上に載
置される。
る。保持台６は、駆動用支軸２ａ及び２ｂの他端側に固
定され、いわゆる片持ち支持構造により支持されてい
る。保持台６の上面には複数のピン７が突出しており、
アニール処理されるガラス等の基板８がピン７の上に載
置される。
【００１７】保持台６の内部にはヒータ９が埋め込まれ
ており、保持台６を加熱することができる。保持台６か
らの熱輻射により基板８が加熱される。処理容器１の上
面には石英窓１−１が設けられており、石英窓１−１を
通して処理容器１内に光学系１０からのレーザ光が導入
される。
ており、保持台６を加熱することができる。保持台６か
らの熱輻射により基板８が加熱される。処理容器１の上
面には石英窓１−１が設けられており、石英窓１−１を
通して処理容器１内に光学系１０からのレーザ光が導入
される。
【００１８】リニアモータ４ａ、４ｂを駆動して駆動用
支軸２ａ及び２ｂをその軸方向に並進移動させることに
より、処理容器１内で基板８を移動させることができ
る。保持台６を移動させるためのリニアモータ４ａ、４
ｂの駆動制御については詳しい説明を省略するが、リニ
アモータ４ａ、４ｂの側面にはそれぞれリニアエンコー
ダ１１ａ、１１ｂが設けられる。これらのリニアエンコ
ーダ１１ａ、１１ｂからの位置検出信号をリニアモータ
４ａ、４ｂの駆動制御系にフィードバックし、保持台６
の位置目標値に追随するような制御を行う。
支軸２ａ及び２ｂをその軸方向に並進移動させることに
より、処理容器１内で基板８を移動させることができ
る。保持台６を移動させるためのリニアモータ４ａ、４
ｂの駆動制御については詳しい説明を省略するが、リニ
アモータ４ａ、４ｂの側面にはそれぞれリニアエンコー
ダ１１ａ、１１ｂが設けられる。これらのリニアエンコ
ーダ１１ａ、１１ｂからの位置検出信号をリニアモータ
４ａ、４ｂの駆動制御系にフィードバックし、保持台６
の位置目標値に追随するような制御を行う。
【００１９】図３は、上記の処理容器を備えたレーザア
ニーリング装置全体の概略平面図を示す。レーザアニー
リング装置は、処理容器１に加えて、基板８の搬送チャ
ンバ２２、搬入チャンバ２３、搬出チャンバ２４を有し
ている。光学系１０は、ホモジナイザ４１、ＣＣＤカメ
ラ４２及びビデオモニタ４３を含んで構成される。
ニーリング装置全体の概略平面図を示す。レーザアニー
リング装置は、処理容器１に加えて、基板８の搬送チャ
ンバ２２、搬入チャンバ２３、搬出チャンバ２４を有し
ている。光学系１０は、ホモジナイザ４１、ＣＣＤカメ
ラ４２及びビデオモニタ４３を含んで構成される。
【００２０】処理容器１と搬送チャンバ２２はゲートバ
ルブ２５を介して結合されている。同様に、搬送チャン
バ２２と搬入チャンバ２３、搬送チャンバ２２と搬出チ
ャンバ２４は、それぞれゲートバルブ２６、２７を介し
て結合されている。処理容器１、搬入チャンバ２３及び
搬出チャンバ２４には、それぞれ真空ポンプ３１、３２
及び３３が設けられ、基板８の移し替えに際して各チャ
ンバの内部が真空排気される。
ルブ２５を介して結合されている。同様に、搬送チャン
バ２２と搬入チャンバ２３、搬送チャンバ２２と搬出チ
ャンバ２４は、それぞれゲートバルブ２６、２７を介し
て結合されている。処理容器１、搬入チャンバ２３及び
搬出チャンバ２４には、それぞれ真空ポンプ３１、３２
及び３３が設けられ、基板８の移し替えに際して各チャ
ンバの内部が真空排気される。
【００２１】搬送チャンバ２２内には、搬送用ロボット
２８が収容されている。搬送用ロボット２８は、処理容
器１、搬入チャンバ２３及び搬出チャンバ２４の相互間
で処理済みの基板あるいは処理前の基板を移送する。
２８が収容されている。搬送用ロボット２８は、処理容
器１、搬入チャンバ２３及び搬出チャンバ２４の相互間
で処理済みの基板あるいは処理前の基板を移送する。
【００２２】光学系１０においては、パルス発振したエ
キシマレーザ装置４４から出力されたレーザビームがア
ッテネータ４５を通ってホモジナイザ４１に入射する。
ホモジナイザ４１は、レーザビームの断面形状を細長い
形状にする。ホモジナイザ４１を通過したレーザビーム
は、レーザ光の断面形状に対応した細長い石英窓１−１
を透過して処理容器１内の基板を照射する。基板の表面
がホモジナイズ面に一致するように、ホモジナイザ４１
と基板との相対位置が調節されている。
キシマレーザ装置４４から出力されたレーザビームがア
ッテネータ４５を通ってホモジナイザ４１に入射する。
ホモジナイザ４１は、レーザビームの断面形状を細長い
形状にする。ホモジナイザ４１を通過したレーザビーム
は、レーザ光の断面形状に対応した細長い石英窓１−１
を透過して処理容器１内の基板を照射する。基板の表面
がホモジナイズ面に一致するように、ホモジナイザ４１
と基板との相対位置が調節されている。
【００２３】基板は、図１で説明した直動機構により石
英窓１−１の長軸方向に直交する向きに移動する。１シ
ョット分の照射領域の一部が前回のショットにおける照
射領域の一部と重なるような速さで基板を移動させるこ
とにより、基板表面の広い領域を照射することができ
る。基板表面はＣＣＤカメラ４２により撮影され、処理
中の基板表面をビデオモニタ４３で観察することができ
る。
英窓１−１の長軸方向に直交する向きに移動する。１シ
ョット分の照射領域の一部が前回のショットにおける照
射領域の一部と重なるような速さで基板を移動させるこ
とにより、基板表面の広い領域を照射することができ
る。基板表面はＣＣＤカメラ４２により撮影され、処理
中の基板表面をビデオモニタ４３で観察することができ
る。
【００２４】リニアモータ４ａ、４ｂ、ゲートバルブ２
５〜２７、搬送用ロボット２８、ホモジナイザ４１、及
びエキシマレーザ装置４４の動作は、制御装置４０によ
って制御される。
５〜２７、搬送用ロボット２８、ホモジナイザ４１、及
びエキシマレーザ装置４４の動作は、制御装置４０によ
って制御される。
【００２５】図１、図２に戻って、基板８の移動方向に
対して直交する方向に長い断面形状を有するレーザ光を
照射しながら、基板８を移動させることにより、基板８
の表面の広い領域をアニールすることができる。特に、
基板８を加熱しておくことにより、レーザアニールの効
果を安定させることができる。
対して直交する方向に長い断面形状を有するレーザ光を
照射しながら、基板８を移動させることにより、基板８
の表面の広い領域をアニールすることができる。特に、
基板８を加熱しておくことにより、レーザアニールの効
果を安定させることができる。
【００２６】本形態による直動機構では、処理容器１内
に摺動部が無い。このため、摺動部における摩擦に起因
した微小なごみによる処理容器１内の汚染を防止するこ
とができる。また、保持台６が加熱されて熱歪が生じた
としても、リニアガイド機構はリニアモータ４ａ、４ｂ
に備えられており、処理容器１の外にあるので熱歪の影
響を受けない。このため、保持台６を加熱した状態でも
安定して保持台６を移動させることができる。なお、ヒ
ータ９を保持台６に内蔵させているが、保持台６はでき
るだけ軽量化することが望ましいので、このヒータを処
理容器１の天井内壁に設けるようにしても良い。
に摺動部が無い。このため、摺動部における摩擦に起因
した微小なごみによる処理容器１内の汚染を防止するこ
とができる。また、保持台６が加熱されて熱歪が生じた
としても、リニアガイド機構はリニアモータ４ａ、４ｂ
に備えられており、処理容器１の外にあるので熱歪の影
響を受けない。このため、保持台６を加熱した状態でも
安定して保持台６を移動させることができる。なお、ヒ
ータ９を保持台６に内蔵させているが、保持台６はでき
るだけ軽量化することが望ましいので、このヒータを処
理容器１の天井内壁に設けるようにしても良い。
【００２７】上記の形態では、駆動源としてリニアモー
タを使用したが、その他の直動駆動源を用いてもよい。
例えば、回転モータとボールねじの組み合わせを用いて
もよい。また、上記形態では、レーザアニール装置を例
にして説明したが、図１、図２に示された処理容器をそ
の他の装置に適用することも可能である。例えば、特殊
な薬品を使用する場合のように、外界と遮断する必要の
ある環境下において直動機構が必要な処理容器の場合に
も有効である。
タを使用したが、その他の直動駆動源を用いてもよい。
例えば、回転モータとボールねじの組み合わせを用いて
もよい。また、上記形態では、レーザアニール装置を例
にして説明したが、図１、図２に示された処理容器をそ
の他の装置に適用することも可能である。例えば、特殊
な薬品を使用する場合のように、外界と遮断する必要の
ある環境下において直動機構が必要な処理容器の場合に
も有効である。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
処理容器内に摺動部分のない直動機構が得られるため、
処理容器内の汚染を抑制することができる。また、処理
対象物を保持する保持手段を加熱することにより熱歪が
発生しても、摺動部分が熱歪の影響を受けにくいため、
安定した移動を行うことが可能になる。
処理容器内に摺動部分のない直動機構が得られるため、
処理容器内の汚染を抑制することができる。また、処理
対象物を保持する保持手段を加熱することにより熱歪が
発生しても、摺動部分が熱歪の影響を受けにくいため、
安定した移動を行うことが可能になる。
【図１】本発明の好ましい実施の形態による処理容器の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図２】図１の線Ａ−Ａによる断面図である。
【図３】図１の処理容器をレーザアニーリング装置に適
用した場合の概略構成を示す平面図である。
用した場合の概略構成を示す平面図である。
１ 処理容器 １−１ 石英窓 ２ａ、２ｂ 駆動用支軸 ３ 結合部材 ４ａ、４ｂ リニアモータ ５ａ、５ｂ 真空ベローズ ６ 保持台 ７ ピン ８ 基板 ９ ヒータ １０ 光学系 １１ａ、１１ｂ リニアエンコーダ ２２ 搬送チャンバ ２３ 搬入チャンバ ２４ 搬出チャンバ ２５〜２７ ゲートバルブ ２８ 搬送ロボット ３１〜３３ 真空ポンプ ４０ 制御装置 ４１ ホモジナイザ ４２ ＣＣＤカメラ ４３ ビデオモニタ ４４ エキシマレーザ装置 ４５ アッテネータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01J 3/00 - 3/02 H01L 21/00 - 21/98 B23Q 5/00 - 5/58
Claims (4)
- 【請求項１】 気密状態を維持される処理容器と、 前記処理容器内に配置され、一端側が前記処理容器の壁
を貫通して外部まで導出された少なくとも２本の駆動用
支軸と、 前記駆動用支軸が前記処理容器の壁を貫通する箇所にお
いて、前記駆動用支軸がその軸方向に並進移動可能なよ
うに、かつ前記処理容器内の気密性が保たれるように、
前記処理容器内と外部とを隔離する気密機構と、前記少なくとも２本の駆動用支軸をそれらの一端部にお
いて結合している結合部材と、 前記結合部材を前記駆動用支軸の軸方向に駆動すること
により 前記駆動用支軸を前記処理容器に対して軸方向に
並進移動させる駆動機構と、 前記処理容器内に配置され、前記駆動用支軸の他端部で
支持されると共に処理対象物を保持する保持手段とを有
することを特徴とする直動機構を持つ処理容器を備えた
処理装置。 - 【請求項２】 前記保持手段は、前記処理対象物を加熱
するための加熱手段を有することを特徴とする請求項１
に記載の処理装置。 - 【請求項３】 前記処理容器の内壁に、前記処理対象物
を加熱するための加熱手段が設けられていることを特徴
とする請求項１に記載の処理装置。 - 【請求項４】 前記駆動機構は、リニアガイド機構を備
えたリニアモータで構成されることを特徴とする請求項
１に記載の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8393397A JP3318735B2 (ja) | 1997-04-02 | 1997-04-02 | 直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8393397A JP3318735B2 (ja) | 1997-04-02 | 1997-04-02 | 直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10277379A JPH10277379A (ja) | 1998-10-20 |
| JP3318735B2 true JP3318735B2 (ja) | 2002-08-26 |
Family
ID=13816409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8393397A Expired - Fee Related JP3318735B2 (ja) | 1997-04-02 | 1997-04-02 | 直動機構を持つ処理容器を備えた処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3318735B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017085875A1 (ja) * | 2015-11-20 | 2017-05-26 | クレイトス アナリティカル リミテッド | 真空処理装置および質量分析装置 |
-
1997
- 1997-04-02 JP JP8393397A patent/JP3318735B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10277379A (ja) | 1998-10-20 |
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