JP3454625B2 - 電子写真感光体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電子写真感光体に関
し、詳しくは耐ガス性に優れ、高耐久かつ繰り返し使用
時の静電特性の劣化の無い電子写真感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子写真感光体用の光導電性素材
として、Ｓｅ、ＣｄＳ、ＺｎＯ等の無機材料が用いられ
てきたが、感度、熱安定性、毒性等の問題を持つことか
ら、近年では有機光導電性材料を用いた電子写真感光体
の開発が盛んに行われており、多くの複写機およびプリ
ンターにおいては、有機光導電性材料を用いた電子写真
感光体が搭載されるに到っている。

【０００３】一般に、カールソンプロセスにおいて使用
される電子写真感光体は、帯電−露光−現像−転写−除
電−クリーニングのプロセスを繰り返し受けることによ
りその機能を果たすが、これら電子写真感光体には常に
良好な画像を提供できることが可能な、高耐久性という
特性を有することが要求される。

【０００４】これは、有機光導電性材料を用いた電子写
真感光体に関しても同様であり、高耐久かつ繰り返し使
用時に画像劣化のないことが要求される。また感光体を
構成する物質が有機物であるが故にオゾン、ＮＯ_x等の
ガスによる劣化も考えられるため、これらガスに対する
耐ガス性の向上も要求されている。

【０００５】このうち高耐久性の電子写真感光体を得る
方法として、従来、感光層と支持体との間に中間層を設
けることにより、帯電電位または暗部電位低下の抑制を
行うことが提案されている。このような中間層として
は、ポリアミド（特開昭４６−４７３４４号公報、特開
昭５２−２５６３８号公報記載）、ポリエステル（特開
昭５２−２０８３６号公報、特開昭５４−２６７３８号
公報記載）、ポリウレタン（特開昭４９−１００４４号
公報、特開昭５３−８９４３５号公報記載）、カゼイン
（特開昭５５−１０３５５５６号公報記載）、ポリビニ
ルアルコール（特開昭５２−１００２４０号公報記
載）、ポリビニルピロリドン（特開昭４８−３０９３６
号公報記載）、ポリビニルブチラール（特開昭５７−９
０６３９号公報、特開昭５８−１０６５４９号公報記
載）、酢酸ビニル−エチレン共重合体（特開昭４８−２
６１４１号公報記載）、エチルセルロース（特開昭５５
−１４３５６４号公報記載）、Ｎ−メトキシメチル化ナ
イロン（特開平２−１０８０６４号公報記載）等の樹脂
を用いることが知られている。

【０００６】しかしながら、これら材料の中間層を用い
た電子写真感光体は、帯電電位の低下は低減するものの
残留電位が上昇してしまう、また反対に残留電位上昇は
生じないものの帯電電位は低下するといった問題や、環
境による静電特性の変動が大きくなるといった問題があ
り、中間層を設けることではなお十分なものは得られて
いない。

【０００７】また、耐ガス性の向上に関しては特開昭５
７−１２２４４４号公報、特開昭６３−１８３５５号公
報等に示されるように酸化防止剤（ヒンダードフェノー
ル化合物、燐系化合物、硫黄系化合物、アミン系化合
物、ヒンダードアミン系化合物等）を感光層中に添加す
ることが提案されている。しかしながら、これら酸化防
止剤は耐ガス性に対する効果が低かったり、また効果的
には十分であっても、その他の特性（感度、残留電位
等）を著しく劣化させてしまうといった問題があり、今
なお満足のいく電子写真感光体は得られていない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は前記従来の問題点を解決し、オゾンやＮＯ_x等の
ガスに対する対ガス性を改善した電子写真感光体を提供
することにある。本発明の他の目的は、繰り返し使用時
においても、明部電位の上昇や暗部電位の低下といった
電位の変動を改善した電子写真感光体を提供することに
ある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、下記一般式
（Ｉ）及び一般式（II）に示す化合物が前記従来の問題
点である、耐ガス性や繰り返し使用時の静電特性劣化の
問題を改善するのに有効であることを見いだし、これを
電子写真感光体に利用すべく、鋭意検討の結果本発明を
完成した。

【００１０】

【化４】 （式中、Ｒ_１は、炭素数１〜６の低級アルキル基を表わ
し、Ｒ_２、Ｒ_３は、無置換、又はアルキル基、アリール
基若しくはアラルキル基置換のメチレン基又はエチレン
基を表わし、Ａｒ_１、Ａｒ_２は、無置換、又はアルキル
基若しくはアラルキル基置換のアリール基を表わす。）

【００１１】

【化５】 （式中、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₇は、それぞれ水素原子、
ハロゲン原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は
無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアリール基、
置換又は無置換のシクロアルキル基、置換又は無置換の
アルコキシ基、置換又は無置換のアリーロキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリ
ールアミノ基、アシル基、アルキルアシルアミノ基、ア
リールアシルアミノ基、アルキルカルバモイル基、アリ
ールカルバモイル基、アルキルスルホンアミド基、アリ
ールスルホンアミド基、アルキルスルファモイル基、ア
リールスルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アルキルアシルオキシ基、ア
リールアシルオキシ基、シリル基又は複素環基を表わ
す。但し、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇のうち少なくとも１つは
炭素原子数の総和が４以上の基である。）

【００１２】すなわち本発明によれば、導電性支持体上
に少なくとも、感光層を有する電子写真感光体におい
て、該感光層中に前記一般式（Ｉ）に示す化合物と前記
一般式（II）に示すハイドロキノン化合物を含有するこ
とを特徴とする電気写真感光体が提供される。

【００１３】また、導電性支持体上に少なくとも感光層
を有し、感光層が電荷発生層と電荷輸送層からなる電子
写真感光体において、該電荷輸送層中に前記一般式
（Ｉ）に示す化合物と前記一般式（II）に示すハイドロ
キノン化合物を含有することを特徴とする電子写真感光
体が提供される。以下に一般式（Ｉ）で表わされる化合
物の具体例を示すが、本発明はこれら具体例に限定され
るものではない。

【００１４】さらに本発明によれば、前記一般式（Ｉ）
に示される化合物が、後述の一般式（ＩＩＩ）に示され
る化合物であることを特徴とする前記いずれかに記載の
電子写真感光体が提供される。

【００１５】

【表１−１】

【００１６】

【表１−２】

【００１７】

【表１−３】

【００１８】

【表１−４】

【００１９】

【表１−５】

【００２０】

【表１−６】

【００２１】

【表１−７】

【００２２】

【表１−８】

【００２３】

【表１−９】

【００２４】

【表１−１０】

【００２５】本発明における一般式（Ｉ）で表わされる
化合物は、例えば対応するクロロアルキル誘導体と炭化
水素をニトロメタン中に溶解し、撹拌・窒素気流下Ｚｎ
Ｃｌ₂、ＡｌＣｌ₃等の触媒を加え、定温下反応させるこ
とにより得ることができる。本発明一般式（Ｉ）で表わ
される化合物が、耐ガス性の改善に対して効果がある理
由については明らかではないが、一般式（Ｉ）で示す化
合物を感光体中に含有させることにより、感光体中に存
在する微少な空隙が減少し、オゾン，ＮＯ_x等のガスに
対するガス透過率が小さくなることが原因であると考え
られる。また、繰り返し使用時における電位変動の改善
に対して効果がある理由についても同様なことが考えら
れるが、ガス透過率が小さくなり、オゾン、ＮＯ_x等の
酸性ガスが電荷発生物質及び電荷輸送物質等を劣化させ
ることが少なくなることが考えられる。

【００２６】なお一般式（Ｉ）の化合物の内、さらに効
果等の点から下記一般式（III）の化合物を用いること
が好ましい。

【００２７】

【化６】 （この式中、Ｒ₈、Ｒ₉は低級アルキル基を表わす。）

【００２８】本発明の前記一般式（Ｉ）及び（III）に
おいて、式中Ｒ₁、Ｒ₈、Ｒ₉の低級アルキル基として
は、メチル基、エチル基が挙げられ、炭素数１〜６の低
級アルキル基が好ましい。また、Ｒ₂、Ｒ₃はメチレン
基、エチレン基であり、その置換基としては、メチル
基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基等のアラルキ
ル基、フェニル基等のアリール基が挙げられ、Ｒ₂、Ｒ₃
は同一でも異なっていてもよい。更にＡｒ₁、Ａｒ₂のア
リール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチ
ル基等が挙げられ、その置換基としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基等のアルキル基、ベンジル基等のア
ラルキル基が挙げられ、Ａｒ₁、Ａｒ₂は同一であっても
異なっていてもよい。

【００２９】さらに、以下に一般式（II）で表わされる
ハイドロキノン化合物の具体例を示すが、本発明はこれ
ら具体例に限定されるものではない。

【００３０】

【表２−１】

【００３１】

【表２−２】

【００３２】

【表２−３】

【００３３】

【表２−４】

【００３４】

【表２−５】

【００３５】

【表２−６】

【００３６】

【表２−７】

【００３７】

【表２−８】

【００３８】

【表２−９】

【００３９】

【表２−１０】

【００４０】

【表２−１１】

【００４１】

【表２−１２】

【００４２】

【表２−１３】

【００４３】

【表２−１４】

【００４４】

【表２−１５】

【００４５】

【表２−１６】

【００４６】

【表２−１７】

【００４７】

【表２−１８】

【００４８】

【表２−１９】

【００４９】

【表２−２０】

【００５０】

【表２−２１】

【００５１】

【表２−２２】

【００５２】

【表２−２３】

【００５３】

【表２−２４】

【００５４】

【表２−２５】

【００５５】

【表２−２６】

【００５６】

【表２−２７】

【００５７】

【表２−２８】

【００５８】

【表２−２９】

【００５９】

【表２−３０】

【００６０】

【表２−３１】

【００６１】

【表２−３２】

【００６２】

【表２−３３】

【００６３】

【表２−３４】

【００６４】

【表２−３５】

【００６５】

【表２−３６】

【００６６】

【表２−３７】

【００６７】

【表２−３８】

【００６８】本発明において、一般式（Ｉ）の化合物と
一般式（II）のハイドロキノン化合物を組み合わせるこ
とにより耐ガス性および静電的な耐久性が極めて良好と
なる理由は、一般式（Ｉ）の化合物を添加することでガ
ス透過率が低減し、ガスが通過しにくくなり、かつ一般
式（II）のハイドロキノン化合物を添加することで若干
でも透過したガスが、感光層構成物質と反応するのを抑
制することによると考えられる。また、これら２種の化
合物は、片方の化合物の効果を阻害することなく、逆に
一般式（Ｉ）の化合物が一般式（II）のハイドロキノン
化合物の感光層中での相溶性をさらに向上させること
で、効果はより顕著なものとなる。

【００６９】以下、本発明を図面に基いてさらに詳細に
説明する。

【００７０】図１は本発明の電子写真感光体の構成例を
示す断面図であり、導電性支持体１１上に少なくとも感
光層１５を積層した構成をとっている。図２は本発明の
別の構成例を示す断面図であり、導電性支持体１１と感
光層１５の間に中間層１３が設けられている。図３、図
４は本発明の別の構成例を示す断面図であり、感光層１
５が電荷発生層１７と、電荷輸送層１９の積層で構成さ
れている。図５は、本発明のさらに別の構成例を示す断
面図であり、感光層１５の上に保護層２１を設けたもの
である。

【００７１】本発明に示される一般式（Ｉ）で示される
化合物及び一般式（II）に示すハイドロキノン化合物
は、例えば前述の構成にしたがって、感光層、電荷輸送
層に示される感光体中に含有することができる。

【００７２】導電性支持体１１としては、体積抵抗１０
¹⁰Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニ
ウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金
などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化
物を、蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状も
しくは円筒条のプラスチック、紙に被覆したもの、ある
いは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ス
テンレスなどの板およびそれらを、押し出し、引き抜き
などの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨などの表
面処理した管などを使用する事ができる。また、特開昭
５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケ
ルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体
１１として用いることができる。

【００７３】この他、上記支持体上に導電性粉体を適当
な結着樹脂に分散して塗工したものも、本発明の導電性
支持体１１として用いる事ができる。この導電性粉体と
しては、カーボンブラック、アセチレンブラック、また
アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀
などの金属粉、あるいは導電性酸化チタン、導電性酸化
スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉などがあげられる。ま
た、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、ス
チレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジ
エン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポ
リエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
アリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、
酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトル
エン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、
シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタ
ン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑
性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂があげられる。こ
のような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を
適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメ
タン、２−ブタノン、トルエンなどに分散して塗布する
ことにより設けることができる。

【００７４】さらに、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニ
ル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン
などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チュー
ブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電
性支持体１１として良好に用いることができる。まず、
該導電性支持体上１１上に、少なくとも電荷発生層１７
及び電荷輸送層１９を積層した積層構成の場合について
述べる。

【００７５】電荷発生層１７は、電荷発生物質のみから
形成されていても、あるいは電荷発生物質が結着樹脂中
に分散されて形成されていても良い。したがって、電荷
発生層１７はこれら成分を適当な溶剤中にボールミル、
アトライター、サンドミル、超音波などを用いて分散
し、これを導電性支持体１１あるいは中間層１３上に塗
布し、乾燥することにより形成される。

【００７６】電荷発生層１７に用いられる電荷発生物質
としては、チタニルフタロシアニン、バナジルフタロシ
アニン、銅フタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロ
シアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系
顔料、モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、非対称ジスアゾ顔
料、トリスアゾ顔料、テトラアゾ顔料等のアゾ顔料、ピ
ロロピロール顔料、アントラキノン顔料、ペリレン顔
料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、スクエアリウム顔
料、Ｓｅ合金、その他公知の材料を用いることができ
る。

【００７７】電荷発生層１７に用いられる結着樹脂とし
ては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリ
ケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−ビニルカルバ
ゾール、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、
ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリビニル
ピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン等があげられる。

【００７８】結着樹脂の量は、電荷発生物質１００重量
部に対し、０〜５００重量部、好ましくは１０〜３００
重量部が適当である。また、電荷発生層の膜厚は０．０
１〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍである。

【００７９】ここで用いられる溶剤としては、イソプロ
パノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセル
ソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、
トルエン、キシレン、リグロイン等があげられる。塗布
液の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビ
ードコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコ
ート等の方法を用いることができる。

【００８０】電荷輸送層１９は、電荷輸送物質および結
着樹脂、さらに本発明に示される前記一般式（Ｉ）の化
合物及び前記一般式（II）のハイドロキノン化合物を適
当な溶剤に溶解ないし分解し、これを電荷発生層上に塗
布、乾燥することにより形成できる。また、必要により
可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤を添加することもで
きる。

【００８１】電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸
送物質とがある。電子輸送物質としては、例えばクロル
アニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フ
ルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フル
オレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、
２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−
トリニトロ−４Ｈ−インデノ［１，２−ｂ］チオフェン
−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェ
ン−５，５−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等の電
子受容性物質があげられる。

【００８２】正孔輸送物質としては、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリ
ルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホル
ムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレ
ン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾ
ール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘
導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘
導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、
α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジ
アリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９
−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジ
ビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘
導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体、ビススチルベ
ン誘導体、エナミン誘導体、その他ポリマー化された正
孔輸送物質等公知の材料があげられる。これらの電荷輸
送物質は単独、または２種以上混合して用いられる。

【００８３】結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレ
ン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン
共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエ
ステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリ
レート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セル
ロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコー
ン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、
フェノール樹脂、アルキッド樹脂、特開平５−１５８２
５０号公報・特開平６−５１５４４号公報記載の各種ポ
リカーボネート共重合体等の熱可塑性または熱硬化性樹
脂があげられる。

【００８４】電荷輸送物質の量は結着樹脂１００重量部
に対し、２０〜３００重量部、好ましくは４０〜１５０
重量部が適当である。また、電荷輸送層の膜厚は５〜５
０μｍ程度とすることが好ましい。ここで用いられる溶
剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエ
ン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、ジクロロメ
タン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ンなどが用いられる。

【００８５】本発明においては電荷輸送層１９中にレベ
リング剤、酸化防止剤を添加しても良い。レベリング剤
としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニル
シリコーンオイルなどのシリコーンオイル類や、側鎖に
パーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリ
ゴマーが使用でき、その使用量は結着樹脂１００重量部
に対して０〜１重量部が適当である。酸化防止剤として
は、ヒンダードフェノール系化合物、硫黄系化合物、燐
系化合物、ヒンダードアミン系火某物、ピリジン誘導
体、ピペリジン誘導体、モルホリン誘導体等の酸化防止
剤を本発明に示す一般式（II）のハイドロキノン化合物
と併用して使用でき、その使用量は結着樹脂１００重量
部に対して０〜５重量部程度が適当である。

【００８６】次に、感光層１５が単層構造の場合につい
て述べる。この場合も多くは電荷発生物質と電荷輸送物
質が含有される機能分離型のものがあげられる。すなわ
ち、電荷発生物質、電荷輸送物質にはさきに例示した化
合物を用いることができる。

【００８７】単層構造の感光層は、電荷発生物質、電荷
輸送物質、結着樹脂および本発明に示される前記一般式
（Ｉ）の化合物、前記一般式（II）のハイドロキノン化
合物を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾
燥することにより形成できる。また、必要により、レベ
リング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。

【００８８】結着樹脂としては、先に電荷輸送層１９で
例示した結着樹脂を用いることができるが、電荷発生層
１７で例示した結着樹脂を混合して用いても良い。ピリ
リウム系染料、ビスフェノール系ポリカーボネートから
形成される共晶錯体に正孔輸送物質を添加した感光層も
単層の感光層として用いることができる。

【００８９】単層構成の感光層は電荷発生物質、電荷輸
送物質及び結着樹脂等をテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、ジクロロメタ
ン等の溶媒を用いて分散機等で分散した塗工液を、浸漬
塗工法やスプレーコート、ビードコート等の方法で塗工
して形成できる。単層構成の感光層の膜厚は、５〜５０
μｍ程度が適当である。

【００９０】本発明においては、図２に示すように、導
電性支持体１１と感光層１５との間に中間層１３を設け
ることができる。中間層１３は樹脂を主成分としたもの
や、樹脂に金属酸化物等の微粉末顔料を加えたものを用
いることができる。これら樹脂は中間層１３の上に感光
層１５を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶
剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。
このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼ
イン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重
合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール
可溶性樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢
酸ビニル−メタクリル酸共重合体等のエチレン系樹脂、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体等の塩化ビニル系樹脂、
セルロース誘導体樹脂、ポリウレタン、メラメン樹脂、
フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、アクリル
−メラミン樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキ
ッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリイソシアネート化合物等
の三次元網目構造を形成する硬化型樹脂などが挙げられ
る。

【００９１】また、中間層１３にはモアレ防止、残留電
位の低減等のために酸化チタン、酸化アルミニウム、シ
リカ、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化インジウム等の
金属酸化物の微粉末顔料を加えても良い。

【００９２】さらに本発明の中間層１３として、シラン
カップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップ
リング剤、チタニルキレート化合物、ジルコニウムキレ
ート化合物、チタニルアルコキシド化合物、有機チタニ
ル化合物も用いることができる。これらの中間層１３は
前述の感光層のごとく適当な溶媒、分散、塗工法を用い
て形成することができる。

【００９３】このほか、本発明の中間層１３には、Ａｌ
₂Ｏ₃を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン
等の有機物やＳｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＩＴＯ、Ｃ
ｅＯ₂等の無機物を真空薄膜形成法にて設けたものも良
好に使用できる。中間層１３の膜厚は０〜１０μｍが適
当である。

【００９４】保護層２１は感光体の耐久性向上の目的で
設けられ、これに使用される材料としてはＡＢＳ樹脂、
ＡＣＳ樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩
素化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリ
アセタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアク
リレート、ポリアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテ
ルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン、
ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホ
ン、ポリスチレン、ＡＳ樹脂、ブタジエン−スチレン共
重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、エポキシ樹脂等に樹脂が挙げられる。

【００９５】保護層２１には、そのほか耐摩耗性を向上
させる目的でポリテトラフルオロエチレンのようなフッ
素樹脂、シリコーン樹脂、また酸化チタン、酸化錫、チ
タン酸カリウム等の無機材料等を添加することができ
る。保護層２１の形成法としては、通常の塗布法を用い
ることができる。なお、保護層２１の厚さは０．１〜１
０μｍが適当である。

【００９６】また、以上の他に真空薄膜作成法にて形成
したａ−Ｃ、ａ−ＳｉＣなどの公知の材料も保護層２１
として用いることができる。本発明においては感光層１
５と保護層２１との間に別の中間層（図示せず）を設け
ることも可能である。

【００９７】前記別の中間層は一般に樹脂を主成分とし
て用いる。これら樹脂としてはポリアミド、アルコール
可溶性ナイロン樹脂、水溶性ブチラール樹脂、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルアルコール等が挙げられる。
前記別の中間層の形成法としては、前述のごとく通常の
塗布法を用いることができる。なお、膜厚は０．０５〜
２μｍが適当である。

【００９８】前記一般式（Ｉ）に示す化合物は、請求項
に示したように感光層、電荷輸送層に含有させることが
できる。感光層に添加する場合は、結着樹脂１００重量
部に対して、５〜４０重量部添加することが好ましい。
電荷輸送層に添加する場合は、結着樹脂１００重量部に
対して、５〜４０重量部添加することが好ましい。添加
量が下限より少ない場合は、前述した効果が得られず、
また添加量が上限より多い場合は、前述した効果は有す
るものの感度等の静電特性が劣化したり、添加した層の
強度が低下するようになる。

【００９９】前記一般式（II）に示すハイドロキノン化
合物も、請求項に示したように感光層、電荷輸送層に含
有させることができる。感光層に添加する場合は、結着
樹脂１００重量部に対して、０．１〜２重量部添加する
ことが好ましい。電荷輸送層に添加する場合は、電荷輸
送物質１００重量部に対して、０．０５〜１．５重量部
添加することが好ましい。添加量が下限より少ない場合
は、前述した効果が得られず、また添加量が上限より多
い場合は、前述した効果は有するものの感度等の静電特
性が劣化したり、繰り返し使用により残留電位が上昇す
るようになる。

【０１００】

【実施例】次に、本発明を実施例を挙げて説明する。 実施例１ 酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ：石原産業製）７０重量部、ア
ルキッド樹脂（ベッコライトＭ６４０１−５０−Ｓ（固
形分５０％）：大日本インキ化学工業製）１５重量部、
メラミン樹脂（スーパーベッカミンＬ−１２１−６０
（固形分６０％）：大日本インキ化学工業製）１０重量
部、メチルエチルケトン１００重量部からなる混合物を
ボールミルで７２時間分散し、中間層用塗工液を作成し
た。これを厚さ０．２ｍｍのアルミ板（Ａ１０８０：住
友軽金属社製）上に塗布し、１３０℃で２０分間乾燥し
て、膜厚３μｍの中間層を作成した。

【０１０１】次に、下記構造式（IV）に示すトリスアゾ
顔料１０重量部を、ポリビニルブチラール（ＢＭ−２：
積水化学工業社製）４重量部をシクロヘキサノン１５０
重量部に溶解した樹脂液に添加し、ボールミルにて７２
時間分散を行なった。分散終了後、シクロヘキサノン２
１０重量部を加え３時間分散を行ない、電荷発生層用塗
工液を作成した。これを前記中間層上に塗布し、１３０
℃で１０分間乾燥して膜厚０．２μｍの電荷発生層を作
成した。

【０１０２】次に、下記構造式（Ｖ）で示される電荷輸
送物質８重量部、ポリカーボネート（パンライトＣ−１
４００：帝人化成社製）１０重量部、シリコーンオイル
（ＫＦ−５０：信越化学工業社製）０．００２重量部、
例示化合物Ｎｏ．（Ｉ）−１２の化合物２重量部、例示
化合物Ｎｏ．（II）−２６９のハイドロキノン化合物
０．０４重量部をテトラヒドロフラン１００重量部に溶
解し、電荷輸送層用塗工液を作成した。これを前記電荷
発生層上に塗布し、１３０℃で１５分間乾燥して膜厚２
５μｍの電荷輸送層を形成し、実施例１の電子写真感光
体を得た。

【０１０３】

【化７】

【０１０４】

【化８】

【０１０５】実施例２〜１２ 電荷輸送層に添加する一般式（Ｉ）の化合物及び一般式
（II）のハイドロキノン化合物を第１表に示すように代
えた以外は実施例１と同様にして実施例２〜１２の電子
写真感光体を作成した。

【０１０６】比較例１ 実施例１において例示化合物Ｎｏ．（Ｉ）−１２の化合
物を添加しない以外は実施例１と同様にして比較例１の
電子写真感光体を作成した。

【０１０７】比較例２ 実施例１において例示化合物Ｎｏ．（II）−２６９のハ
イドロキノン化合物を添加しない以外は実施例１と同様
にして比較例２の電子写真感光体を作成した。

【０１０８】比較例３ 実施例１において例示化合物Ｎｏ．（Ｉ）−１２の化合
物及び例示化合物Ｎｏ．（II）−２６９のハイドロキノ
ン化合物を添加しない以外は実施例１と同様にして比較
例３の電子写真感光体を作成した。

【０１０９】比較例４〜８ 実施例１における例示化合物Ｎｏ．（Ｉ）−１２の化合
物及び例示化合物Ｎｏ．（II）−２６９のハイドロキノ
ン化合物のかわりに下記に示す化合物（ａ）〜（ｅ）を
第３表に示すように用いた以外は実施例１と同様にして
比較例４〜８の電子写真感光体を作成した。

【０１１０】

【化９】

【０１１１】

【化１０】

【０１１２】

【化１１】

【０１１３】

【化１２】

【０１１４】

【化１３】

【０１１５】以上のようにして得られた電子写真感光体
を、２５℃／５０％ＲＨの環境下、ＥＰＡ−８１００
（川口電気製作所製）を用い、ダイナミックモードにて
静電特性を評価した。まず感光体に−５．２ｋＶのコロ
ナ放電を５秒間行い負帯電させ、２秒後の表面電位Ｖ２
（−Ｖ）を測定、さらに表面電位が−８００Ｖになった
ときにバンドパスフィルターを用いて７８０ｎｍに分光
した光（２．８μＷ／ｃｍ²）を露光して、表面電位が
−４００Ｖに光減衰するに必要な露光量Ｅ１／２（μＪ
／ｃｍ²）と露光３０秒後の表面電位Ｖ３０（−Ｖ）を
測定した。

【０１１６】また、−５ｋＶのコロナ放電と色温度２８
５６Ｋのタングステンランプ４５ｌｕｘの露光の繰り返
しをダイナミックモードにて１２０分間行い、その後同
様の測定を行って疲労後の静電特性を評価した。評価結
果を第３表に示す。

【０１１７】

【表３】

【０１１８】次に耐ガス性の評価として、得られた電子
写真感光体をＮＯｘ濃度（ＮＯ＋ＮＯ₂）５０ｐｐｍ，
温湿度２０℃／３０％ＲＨの環境下に４日間放置し、上
記と同様にして静電特性の評価を行い、ＮＯｘガス暴露
前後での静電特性変化量Δ｜Ｖ２｜、ΔＥ１／２、Δ｜
Ｖ３０｜を測定した。結果を第４表に示す。

【０１１９】

【表４】

【０１２０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子写真
感光体は、耐ガス性に優れ、繰り返し使用による耐久力
に優れ、さらに繰り返しの静電疲労時においても帯電電
位低下や残留電位上昇が極めて少なく、高性能なもので
あり、実用的価値にきわめて優れたものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明電子写真感光体の層構成を例示する断面
図である。

【図２】本発明電子写真感光体の層構成を例示する断面
図である。

【図３】本発明電子写真感光体の層構成を例示する断面
図である。

【図４】本発明電子写真感光体の層構成を例示する断面
図である。

【図５】本発明電子写真感光体の層構成を例示する断面
図である。

【符号の説明】

１１ 導電性支持体 １３ 中間層 １５ 感光層 １７ 電荷発生層 １９ 電荷輸送層 ２１ 保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/05 ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＣＡ（ＳＴＮ)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に少なくとも、感光層を
   有する電子写真感光体において、該感光層中に下記一般
   式（Ｉ）に示す化合物と下記一般式（II）に示すハイド
   ロキノン化合物を含有することを特徴とする電子写真感
   光体。 【化１】 （式中、Ｒ_１は、炭素数１〜６の低級アルキル基を表わ
   し、Ｒ_２、Ｒ_３は、無置換、又はアルキル基、アリール
   基若しくはアラルキル基置換のメチレン基又はエチレン
   基を表わし、Ａｒ_１、Ａｒ_２は、無置換、又はアルキル
   基若しくはアラルキル基置換のアリール基を表わす。） 【化２】 （式中、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６及びＲ_７は、それぞれ水素原
   子、ハロゲン原子、置換又は無置換のアルキル基、置換
   又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアリール
   基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換又は無置
   換のアルコキシ基、置換又は無置換のアリーロキシ基、
   アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、
   アリールアミノ基、アシル基、アルキルアシルアミノ
   基、アリールアシルアミノ基、アルキルカルバモイル
   基、アリールカルバモイル基、アルキルスルホンアミド
   基、アリールスルホンアミド基、アルキルスルファモイ
   ル基、アリールスルファモイル基、アルキルスルホニル
   基、アリールスルホニル基、アルキルオキシカルボニル
   基、アリールオキシカルボニル基、アルキルアシルオキ
   シ基、アリールアシルオキシ基、シリル基又は複素環基
   を表わす。但し、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６、Ｒ_７のうち少なく
   とも１つは炭素原子数の総和が４以上の基である。）
2. 【請求項２】 前記感光層が電荷発生層と電荷輸送層か
   らなり、該電荷輸送層中に前記一般式（Ｉ）に示す化合
   物と前記一般式（II）に示すハイドロキノン化合物を含
   有することを特徴とする請求項１記載の電子写真感光
   体。
3. 【請求項３】 前記一般式（Ｉ）の化合物が、下記一般
   式（III）に示す化合物であることを特徴とする請求項
   １記載または請求項２記載の電子写真感光体。 【化３】 （式中、Ｒ_８，Ｒ_９は、炭素数１〜６の低級アルキルを
   表わす。）