JP3454436B2 - 固体電解コンデンサの製造方法 - Google Patents
固体電解コンデンサの製造方法Info
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Description
製造方法に関する。
させ、該誘電体酸化皮膜上に導電性高分子膜を形成させ
て固体電解質とする固体電解コンデンサが提案されてい
る。
解重合による導電性高分子膜を固体電解質として応用す
るため、誘電体酸化皮膜上に導電性プレコート層として
化学酸化重合による導電性高分子膜を形成させた後、該
導電性高分子膜上に電解重合による導電性高分子膜を形
成させて固体電解質とする固体電解コンデンサが開示さ
れている。また、特開昭63−158829号公報で
は、誘電体酸化皮膜上に導電性プレコート層として二酸
化マンガン等の導電性金属酸化物の薄膜を形成させた
後、該薄膜上に電解重合による導電性高分子膜を形成さ
せて固体電解質とする固体電解コンデンサが開示されて
いる。これらのコンデンサは従来のコンデンサに較べ、
周波数特性、電気的特性及び耐熱性が優れている。
て、導電性プレコート層に外部から導電体を接触させて
電解重合による導電性高分子膜を形成させる場合、導電
性プレコート層が薄く物理的に弱いため、導電体が誘電
体酸化皮膜を損傷し、漏れ電流が大きくなる欠点があっ
た。これを防ぐため、特開昭62−261837号公報
に、誘電体酸化皮膜の一部を絶縁性高分子で被覆保護し
て導電体を接触させる方法が開示されているが、導電体
を接触したり外したりする工程が必要であり煩雑であ
る。
いて、アルミニウム電解コンデンサが本来持つ小型大容
量の特徴を生かすために、アルミニウム箔を捲回または
積層して大面積を得る方法が知られているが、いずれも
製造工程が煩雑であったり、また製造中に誘電体酸化皮
膜を損傷してしまう等の欠点があった。小型大容量の固
体電解コンデンサ素子を量産性良く製造する方法とし
て、アルミニウム箔表面にマス目状パターンを多数形成
させ、このマス目内に固体電解質を形成させた後、マス
目毎に切断して一度に多数のコンデンサ素子を作成する
方法が提案されている。
は、マス目状パターン内に一定量のピロール溶液と酸化
剤溶液を交互に滴下して化学酸化重合による導電性高分
子固体電解質を形成させる方法が開示されている。しか
し、化学酸化重合による導電性高分子固体電解質のみで
は、優れたコンデンサ特性は得られない。一方、この化
学酸化重合膜上に電解重合による導電性高分子膜を形成
させるには、電極となる導電体を化学酸化重合膜上に接
触させねばならず、誘電体酸化皮膜を損傷し漏れ電流が
大きくなってしまう欠点がある。また、電解重合時に電
極となる導電体がむき出しのまま電解液に接触するので
導電体表面にもポリピロールが付着し電解効率が悪いと
いう欠点があった。
用金属表面に誘電体酸化皮膜を形成させ、この誘電体酸
化皮膜上に導電性高分子膜を形成させて固体電解質とす
る固体電解コンデンサの製造方法において、コンデンサ
特性を損なわない小型大容量の固体電解コンデンサの製
造方法を提供し、また、簡便な工程で、量産性良く固体
電解コンデンサの製造方法を提供することである。
した結果、上記問題を解決し得る固体電解コンデンサの
製造方法を完成するに至った。
体酸化皮膜上に、所定の大きさのマス目状のパターン
(第1のパターン)を残して第1の絶縁性塗膜を形成さ
せる工程、該パターンの境界から所定の距離をおいて第
1の絶縁性塗膜上に導電性塗膜を形成させる工程、第1
のパターンよりも大きくかつ導電性塗膜の一部を含むパ
ターン(第2のパターン)を残して第2の絶縁性塗膜を
形成させる工程、第2のパターン内に露出した誘電体酸
化皮膜、第1の絶縁性塗膜及び導電性塗膜上に導電性プ
レコート層を形成させる工程、化成修復させる工程、第
2のパターン内に露出した導電性塗膜の一部を電解重合
の陽極とし、導電性プレコート層上に電解重合による導
電性ポリピロール膜を形成させる工程、電解重合による
導電性ポリピロール膜上にカーボン及び銀ペーストで陰
極層を形成させる工程、パターン毎に切り離し製品化さ
せる工程を包括することを特徴とする固体電解コンデン
サの製造方法であり、第1のパターンが第1の絶縁性塗
膜により固体電解質を形成させる部分と陽極引出し部分
とに分離されていることからなる固体電解コンデンサの
製造方法である。
方法について、図面を参照しながら説明する。
タル、チタンまたはこれらの合金を用い、箔状または板
状で用いる。
ウム箔を用いる場合について説明する。
ングした後、アジピン酸アンモニウム等の水溶液中で陽
極化成を行い表面に誘電体酸化皮膜を形成させた後、図
1に示すように、誘電体酸化皮膜2を形成させたアルミ
ニウム箔1の両面に陽極引出部分3と固体電解質を形成
させる部分4を一対とするパターン(第1のパターン)
を残して第1の絶縁性塗膜5を形成させ、該パターンの
境界から所定の距離、具体的には0.1〜3mmの距離をお
いて第1の絶縁性塗膜5上に導電性塗膜6を重ねて形成
させる。
ンより大きくかつ導電性塗膜6の一部7を含むパターン
(第2のパターン)を残して、第2の絶縁性塗膜8を形
成させる。なお、導電性塗膜6の末端部は、塗膜を形成
させず露出しておく。第2の絶縁性塗膜8のパターン内
に誘電体酸化皮膜2、第1の絶縁性塗膜5の一部9及び
導電性塗膜6の一部7が露出する。図3は、図2のa−
bの断面図である。
脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、またはこれらの混
合物、共重合体等の耐熱性高分子材料があげられる。第
2の絶縁性塗膜としては、シリコン樹脂、フッ素樹脂、
またはこれらの混合物、共重合体等の耐熱性高分子材料
があげられる。また、導電塗膜としては、銀ペースト、
カーボンペースト、ニッケルペースト等の導電性材料が
あげられる。
ースコーター、スクリーン印刷等の印刷による方法が、
一度に多数のマス目状パターンが形成でき、量産性が良
い。
ミニウム箔に予め絶縁性塗膜でパターンを形成させた
後、エッチング、化成を行っても、図1と同様の箔が得
られる。
に露出した誘電体酸化皮膜2、第1の絶縁性塗膜5の一
部9及び導電性塗膜6の一部7上に、導電性プレコート
層10を形成させる。なお、陽極引出部分3には、導電
性プレコート層を形成させない。
子モノマーの化学酸化重合により導電性高分子膜を形成
させる方法、マンガン塩の熱分解により導電性二酸化マ
ンガン等の導電性金属酸化物の薄膜を形成させる方法、
ポリアニリン等の溶媒可溶性導電性高分子やテトラシア
ノキノジメタン錯体溶液を含浸乾燥させる方法等があ
る。
性塗膜のパターン内の露出した誘電体酸化皮膜2及び第
1の絶縁性塗膜5の一部9及び導電性塗膜6の一部7上
に、ピロールモノマー溶液及び酸化剤溶液を各々一定量
滴下して化学酸化重合による導電性ポリピロール膜を形
成させる方法が好ましい。
は、ピロールモノマーの有機溶媒溶液を自動ディスペン
サーを用い、パターン内に一定量滴下した後、酸化剤の
水溶液を同様に一定量滴下し、1〜30分間室温で放置し
て、化学酸化反応させた後、洗浄乾燥し、導電性ポリピ
ロール膜を形成させる。
生じた誘電体酸化皮膜の損傷部を化成修復する。化成修
復は、導電性プレコート層を形成させたアルミニウム箔
をアジピン酸アンモニウム等の化成液に浸漬し、陽極化
成する。
による導電性ポリピロール膜を形成させる。図4に示す
ように、導電性塗膜の末端の一部をクリップ等で挟み電
源に接続して陽極とし、支持電解質0.01〜2mol/l及び
ピロールモノマー0.01〜5mol/lを含む電解液中で電解
重合を行い、図5に示すように導電性プレコート層10
上に電解重合による導電性ポリピロール膜11を形成さ
せる。
のアニオンとしては、ヘキサフロロリン、ヘキサフロロ
ヒ素、ヘキサフロロアンチモン、テトラフロロホウ素、
過塩素酸等のハロゲン化物イオン、ヨウ素、臭素、塩素
等のハロゲンイオン、メタンスルホン酸、ドデシルスル
ホン酸等のアルキルスルホン酸イオン、ベンゼンスルホ
ン酸、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、ベンゼンジスルホン酸等のアルキル置換もしく
は無置換のベンゼンモノもしくはジスルホン酸イオン、
2−ナフタレンスルホン酸、1,7−ナフタレンジスル
ホン酸等のスルホン酸基を1〜4個置換したナフタレン
スルホン酸のアルキル置換もしくは無置換イオン、アル
キルビフェニルスルホン酸、ビフェニルジスルホン酸等
のアルキル置換もしくは無置換のビフェニルスルホン酸
イオン、ポリスチレンスルホン酸、ナフタレンスルホン
酸ホルマリン縮合体等の高分子スルホン酸イオン、ビス
サルチレートホウ素、ビスカテコレートホウ素等のホウ
素化合物イオンまたはPMo12O40等のヘテロポリ酸イ
オンがあげられ、好ましくはナフタレンスルホン酸イオ
ンである。
いしはナトリウム等のアルカリ金属イオンまたはアンモ
ニウム、テトラアルキルアンモニウム等の4級アンモニ
ウムイオンがあげられる。
F6、LiBF4、KI、NaPF6、NaClO4、トルエン
スルホン酸ナトリウム、トルエンスルホン酸テトラブチ
ルアンモニウム、1,7−ナフタレンジスルホン酸ナト
リウム、n−オクタデシルナフタレンスルホン酸テトラ
エチルアンモニウムまたはビスサルチレートホウ素テト
ラメチルアンモニウム等があげられる。
ル膜11表面に、カーボンペースト及び銀ペーストによ
り陰極層12を形成させる。
の処理を説明したが、裏面にも同様の処理を行い、両面
に導電性ポリピロール膜を形成させる。
うに、陽極引出部分3と固体電解質を形成する部分4を
残して、第1及び第2の絶縁性塗膜上をカッター等の機
械的手段やYAGレーザー等の熱的手段を用いて切断す
る。レーザーを用いた場合、物理的な損傷を与えること
が少なく、漏れ電流が小さい等特性が安定する。
2同士は陰極リード13を介してリードフレームの陰極
14に接続させる。一方、陽極引出部分は、陽極リード
15を介して直接電気的もしくは熱的手段を用いてリー
ドフレームの陽極16に溶接する。図6は、素子を積層
しリードフレームに接続させた状態を示す。
密封する等の外装を施して、コンデンサを得る。
発明は、実施例によりなんら限定されない。
mm×30mm)をアジピン酸アンモニウム水溶液中40Vで化
成処理し、誘電体酸化皮膜を形成した。図1に示すよう
に、陽極引出部分(3mm×1mm)と固体電解質を形成さ
せる部分(3mm×5mm)の2つに分離されたマス目状の
第1のパターン(縦2列×横8列)を残して、エポキシ
樹脂をスクリーン印刷して、第1の絶縁性塗膜を形成し
た。続いて、この絶縁性塗膜上に、各パターンの境界か
ら0.5mmずつ離して魚の骨状に導電性塗膜を形成した。
させる部分のマス目状の第1のパターンを残して、シリ
コーン樹脂をスクリーン印刷して、第2の絶縁性塗膜を
形成した。第2のパターン内には、誘電体酸化皮膜2、
第1の絶縁性塗膜5の一部9及び導電性塗膜6の一部7
が露出している。裏面にも同様な塗膜を形成した。
チチャンネルマイクロピペット(SOCOREX社製)
を用い、ピロールモノマー30wt%のエタノール溶液5μ
lを滴下し、1分放置した後、さらに8チャンネルのマ
ルチチャンネルマイクロピペットを用い、過硫酸アンモ
ニウム0.1mol/l水溶液10μlを滴下した。その後、5分
間放置した後、水洗、乾燥して、化学重合ポリピロール
膜を形成した。裏面も同様に処理した。
水溶液中40Vで陽極酸化し、誘電体酸化皮膜を化成修復
した。
部の一部分を電源に接続し、ピロールモノマー0.4mol/
l、1,7−ナフタレンスルホン酸テトラエチルアンモニ
ウム0.4mol/l及びアセトニトリルの電解液を含むステ
ンレス容器中に浸漬した。導電性塗膜を陽極とし、ステ
ンレス容器との間に定電流電解重合(0.3mA/ピン,90
分)を行い、図5に示すように、電解重合によるポリピ
ロール膜を形成した。
び銀ペーストを塗布して陰極層12を形成した。その
後、シリコン樹脂上をYAGレーザーで切断して16個の
素子を得た。
を積層し、陰極層12同士は、陰極リード13を介して
リードフレームの陰極14に銀ペーストで接合し、陽極
部同士は、陽極リード15を介してリードフレームの陽
極16にスポット溶接機で溶接した。
て、定格電圧16V、定格静電容量22μFのコンデンサを
8個完成した。
での静電容量が22.4μF、120Hzでの損失角の正接(ta
nδ)が0.93%、100kHzでの等価直列抵抗(ESR)が
32mΩ、16Vでの漏れ電流が0.01μA以下であった。
によると、小型大容量の固体電解コンデンサを、簡便な
工程の組合せで作製でき、特に、外部から電極となる導
電体を接触したり外したりする必要がなく、量産性に優
れている。また、電極となる導電体は、一部分のみが露
出し、残りはマスクされているので、電解重合時の効率
が良い。
ンを形成させた後、導電性塗膜を形成させた平面図であ
る。
図である。
ポリピロール膜の形成箇所を示す断面図である。
図である。
分 5 第1の絶縁性塗膜 6 導電性塗膜 7 導電性塗膜6の一部 8 第2の絶縁性塗膜 9 第1の絶縁性塗膜5の一部 10 導電性プレコート層 11 電解重合ポリピロール膜 12 陰極層 13 陰極リード 14 リードフレームの陰極 15 陽極リード 16 リードフレームの陽極
Claims (3)
- 【請求項1】 弁作用金属の誘電体酸化皮膜上に、所定
の大きさのマス目状のパターン(第1のパターン)を残
して第1の絶縁性塗膜を形成させる工程、該パターンの
境界から所定の距離をおいて第1の絶縁性塗膜上に導電
性塗膜を形成させる工程、第1のパターンよりも大きく
かつ導電性塗膜の一部を含むパターン(第2のパター
ン)を残して第2の絶縁性塗膜を形成させる工程、第2
のパターン内に露出した誘電体酸化皮膜、第1の絶縁性
塗膜及び導電性塗膜上に導電性プレコート層を形成させ
る工程、化成修復させる工程、第2のパターン内に露出
した導電性塗膜の一部を電解重合の陽極とし、導電性プ
レコート層上に電解重合による導電性ポリピロール膜を
形成させる工程、電解重合による導電性ポリピロール膜
上にカーボン及び銀ペーストで陰極層を形成させる工
程、パターン毎に切り離し製品化させる工程を包括する
ことを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。 - 【請求項2】 第1のパターンが、第1の絶縁性塗膜に
より、陽極引出部分と固体電解質を形成させる部分とに
分離されていることを特徴とする請求項1記載の固体電
解コンデンサの製造方法。 - 【請求項3】 導電性プレコート層が、第2のパターン
内に露出させた誘電体酸化皮膜、第1の絶縁性塗膜及び
導電性塗膜上に、ピロールモノマー溶液及び酸化剤溶液
を各々一定量滴下して形成させた化学酸化重合による導
電性ポリピロール膜であることを特徴とする請求項1記
載の固体電解コンデンサの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12326493A JP3454436B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 固体電解コンデンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12326493A JP3454436B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 固体電解コンデンサの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06314639A JPH06314639A (ja) | 1994-11-08 |
JP3454436B2 true JP3454436B2 (ja) | 2003-10-06 |
Family
ID=14856267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12326493A Expired - Lifetime JP3454436B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 固体電解コンデンサの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3454436B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7242573B2 (en) * | 2004-10-19 | 2007-07-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Electroconductive paste composition |
JP7228227B2 (ja) * | 2018-12-11 | 2023-02-24 | 国立大学法人大阪大学 | き裂修復性複合材料及びそれを用いた非加熱電気化学的き裂修復方法 |
-
1993
- 1993-04-28 JP JP12326493A patent/JP3454436B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06314639A (ja) | 1994-11-08 |
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