JP3451613B2 - アイロン - Google Patents
アイロンInfo
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- JP3451613B2 JP3451613B2 JP01700298A JP1700298A JP3451613B2 JP 3451613 B2 JP3451613 B2 JP 3451613B2 JP 01700298 A JP01700298 A JP 01700298A JP 1700298 A JP1700298 A JP 1700298A JP 3451613 B2 JP3451613 B2 JP 3451613B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、衣類等のしわ延ば
しやプレス仕上げに使用するアイロンに関する。
しやプレス仕上げに使用するアイロンに関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】この種のアイロンは、
ベースとその加熱手段を備えてなり、加熱手段でベース
を加熱し、この加熱したベースの下面のかけ面を布地に
押し当てて滑らせながらアイロンかけを行なうものであ
る。 一般にベースはアルミニウムまたはアルミニウム
合金で形成され、その下面のかけ面には、このかけ面の
耐蝕性および非粘着性を得る目的で四フッ化エチレン樹
脂や四フッ化エチレン樹脂とポリエーテルサルフォン樹
脂との混合物による表面処理被膜が施されている。
ベースとその加熱手段を備えてなり、加熱手段でベース
を加熱し、この加熱したベースの下面のかけ面を布地に
押し当てて滑らせながらアイロンかけを行なうものであ
る。 一般にベースはアルミニウムまたはアルミニウム
合金で形成され、その下面のかけ面には、このかけ面の
耐蝕性および非粘着性を得る目的で四フッ化エチレン樹
脂や四フッ化エチレン樹脂とポリエーテルサルフォン樹
脂との混合物による表面処理被膜が施されている。
【０００３】しかし、従来の四フッ化エチレン樹脂混合
物による表面処理被膜は、表面が粗く、アイロンかけ時
に滑らかなアイロンかけ作業をする上で重要な摺動性が
悪い等の問題があった。
物による表面処理被膜は、表面が粗く、アイロンかけ時
に滑らかなアイロンかけ作業をする上で重要な摺動性が
悪い等の問題があった。
【０００４】そこで近年、摺動性の改善を目的に、フッ
素化合物微粒子を分散含有させた複合めっき被膜をベー
スのかけ面に施したアイロンが提供されている。
素化合物微粒子を分散含有させた複合めっき被膜をベー
スのかけ面に施したアイロンが提供されている。
【０００５】このように複合めっき被膜をベースのかけ
面に施したアイロンにおいては、かけ面の表面も硬く、
滑らかで、アイロンかけ時の滑りも良いが、のり付け作
業時に発生するかけ面における、のりの焦げ付きを防止
する作用（非粘着性）は、殆ど失われてしまい、かけ面
の手入れがわずらわしくなる。
面に施したアイロンにおいては、かけ面の表面も硬く、
滑らかで、アイロンかけ時の滑りも良いが、のり付け作
業時に発生するかけ面における、のりの焦げ付きを防止
する作用（非粘着性）は、殆ど失われてしまい、かけ面
の手入れがわずらわしくなる。
【０００６】さらに、製造性においても、複合めっきの
ためベースを２ピースに分け、かけ面の部分を別ピース
の底基材で設けて、複合めっきを施した底基材をベース
に取り付けるという工程が必要となるため、非常にコス
トが高くなるという問題があった。
ためベースを２ピースに分け、かけ面の部分を別ピース
の底基材で設けて、複合めっきを施した底基材をベース
に取り付けるという工程が必要となるため、非常にコス
トが高くなるという問題があった。
【０００７】以上のように四フッ化エチレン樹脂による
表面処理被膜、および、複合めっき被膜いずれにおいて
も種々の問題があり、改善が望まれていた。
表面処理被膜、および、複合めっき被膜いずれにおいて
も種々の問題があり、改善が望まれていた。
【０００８】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、アイロンかけ時の摺動性が良く、さらに、のり付
け作業時の非粘着性の性能を損なうことなく、既存の製
造設備を生かしながら製造できるアイロンを提供するこ
とを目的とする。
ので、アイロンかけ時の摺動性が良く、さらに、のり付
け作業時の非粘着性の性能を損なうことなく、既存の製
造設備を生かしながら製造できるアイロンを提供するこ
とを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明のアイロ
ンは、前記目的を達成するために、ベースのかけ面の表
面処理被膜を２層コーティングとし、表面処理被膜の下
地の一層目は、ポリエ ーテルサルフォン樹脂を主成分と
し、表層側の二層目は、四フッ化エチレン樹脂を主成分
とする構成とし、この表面処理被膜の表層を平均粗さが
1.0μm以下の精度の鏡面状態に研磨し、表面処理被膜の
研磨による研削量を概ね10μm以下とし、その研削した
表面処理被膜の露出表面で四フッ化エチレン樹脂の含有
割合を30％以上としたものである。
ンは、前記目的を達成するために、ベースのかけ面の表
面処理被膜を２層コーティングとし、表面処理被膜の下
地の一層目は、ポリエ ーテルサルフォン樹脂を主成分と
し、表層側の二層目は、四フッ化エチレン樹脂を主成分
とする構成とし、この表面処理被膜の表層を平均粗さが
1.0μm以下の精度の鏡面状態に研磨し、表面処理被膜の
研磨による研削量を概ね10μm以下とし、その研削した
表面処理被膜の露出表面で四フッ化エチレン樹脂の含有
割合を30％以上としたものである。
【００１０】これにより、アイロンかけ時の摺動性が向
上する。また、表面処理被膜を２層コーティングにする
ことにより、表面処理被膜の下地側および表層側の特性
をそれぞれに適切なものにできる。また、表面処理被膜
の表層側を、四フッ化エチレン樹脂が主成分のものにす
ることにより、ベースのかけ面の非粘着性および耐蝕性
を高くできる。また、表面処理被膜に対する鏡面仕上げ
の精度は、平均粗さが1.0μm以下の精度とすることによ
り、ベースのかけ面の摺動性が確実に向上する。さら
に、表面処理被膜の研磨による研削量を概ね10μm以下
とし、その研削した表面処理被膜の露出表面で四フッ化
エチレン樹脂の含有割合が30％以上とすることにより、
ベースのかけ面の非粘着性を確保できる。
上する。また、表面処理被膜を２層コーティングにする
ことにより、表面処理被膜の下地側および表層側の特性
をそれぞれに適切なものにできる。また、表面処理被膜
の表層側を、四フッ化エチレン樹脂が主成分のものにす
ることにより、ベースのかけ面の非粘着性および耐蝕性
を高くできる。また、表面処理被膜に対する鏡面仕上げ
の精度は、平均粗さが1.0μm以下の精度とすることによ
り、ベースのかけ面の摺動性が確実に向上する。さら
に、表面処理被膜の研磨による研削量を概ね10μm以下
とし、その研削した表面処理被膜の露出表面で四フッ化
エチレン樹脂の含有割合が30％以上とすることにより、
ベースのかけ面の非粘着性を確保できる。
【００１１】請求項２の発明は、請求項１の発明のアイ
ロンにおいて、表面処理被膜に対する鏡面仕上げ用の研
磨材は、微粒子研磨材の付着した研磨シートを用いたも
のである。
ロンにおいて、表面処理被膜に対する鏡面仕上げ用の研
磨材は、微粒子研磨材の付着した研磨シートを用いたも
のである。
【００１２】請求項３の発明は、請求項１または２の発
明のアイロンにおいて、ベースの材料がアルミニウム、
アルミニウム合金、鉄および鉄合金のいずれかであるも
のである。
明のアイロンにおいて、ベースの材料がアルミニウム、
アルミニウム合金、鉄および鉄合金のいずれかであるも
のである。
【００１３】請求項４の発明は、請求項１〜３のいずれ
かの発明のアイロンにおいて、ベースの表面処理被膜の
加工面には、シボ加工が施されているものである。
かの発明のアイロンにおいて、ベースの表面処理被膜の
加工面には、シボ加工が施されているものである。
【００１４】これにより、ベースと表面処理被膜との密
着強度が高まる。
着強度が高まる。
【００１５】請求項５の発明は、請求項１〜４のいずれ
かの発明のアイロンにおいて、表面処理被膜は、ベース
の外周面において、その他の面より厚くなっているもの
である。
かの発明のアイロンにおいて、表面処理被膜は、ベース
の外周面において、その他の面より厚くなっているもの
である。
【００１６】ベースの外周面は使用に伴って最も摩耗し
やすい部分であるが、この部分の表面処理被膜を予め厚
くしておくことにより、摩耗分を補償できる。
やすい部分であるが、この部分の表面処理被膜を予め厚
くしておくことにより、摩耗分を補償できる。
【００１７】
【発明の実施形態】以下、本発明のアイロンの一実施例
について図面を参照しながら説明する。図３にはアイロ
ンの全体を示してある。同図において、１が例えばアル
ミニウムで形成されたベースで、このベース１の上面側
にカバー2を介して例えば合成樹脂で形成されたハンド
ル３が取付けられ、このハンドル３の上端前端部にベー
ス１の温度を設定する温度調節つまみ４が設けられてい
る。
について図面を参照しながら説明する。図３にはアイロ
ンの全体を示してある。同図において、１が例えばアル
ミニウムで形成されたベースで、このベース１の上面側
にカバー2を介して例えば合成樹脂で形成されたハンド
ル３が取付けられ、このハンドル３の上端前端部にベー
ス１の温度を設定する温度調節つまみ４が設けられてい
る。
【００１８】さらに、ハンドル３の前部には水タンク５
が構成され、この水タンク５の前面に注排水口６が形成
され、この注排水ロ６を通して水タンク５内に水が収容
され、この水が適宜、ベース１内の蒸発室（図示せず）
に滴下されてスチームとなり、このスチームがベース１
の下面のかけ面1aに形成された噴出孔（図示せず）から
噴出するようになっている。なお、6aは水タンク５の注
排水ロ６に装着された開閉蓋である。
が構成され、この水タンク５の前面に注排水口６が形成
され、この注排水ロ６を通して水タンク５内に水が収容
され、この水が適宜、ベース１内の蒸発室（図示せず）
に滴下されてスチームとなり、このスチームがベース１
の下面のかけ面1aに形成された噴出孔（図示せず）から
噴出するようになっている。なお、6aは水タンク５の注
排水ロ６に装着された開閉蓋である。
【００１９】ベース１には、図２に示すように、加熱手
段としてのヒータ７が埋め込まれ、このヒータ７の発熱
に基づいてベース１が上記温度調節つまみ４により設定
された所定温度に保持されるものである。
段としてのヒータ７が埋め込まれ、このヒータ７の発熱
に基づいてベース１が上記温度調節つまみ４により設定
された所定温度に保持されるものである。
【００２０】そして、このべ一ス１の下面のかけ面1aに
は均一に表面処理被膜８が施されている。この表面処理
被膜８は、図１に示すように、２層コーティングからな
っており、かけ面1a側の下地をなす一層目8aは、ポリエ
ーテルサルフォン樹脂を主成分、例えばポリエーテルサ
ルフォン樹脂を90％、四フッ化エチレン樹脂を10％とし
た樹脂からなり、表層側の二層目8bは、四フッ化エチレ
ン樹脂を主成分、例えば四フッ化エチレン樹脂を80％、
ポリエーテルサルフォン樹脂を20％とした樹脂からなっ
ている。表面処理被膜８を形成する工程においては、一
層目8aの材料の樹脂に溶剤を加えて液状にし、これを例
えばスプレー手段によりベース１のかけ面1aにコーティ
ングし、その上に、二層目8bの材料の樹脂に溶剤を加え
て液状にし、これを例えばスプレー手段によりコーティ
ングし、さらに約400℃に加熱焼成して表面処理被膜８
を得る。
は均一に表面処理被膜８が施されている。この表面処理
被膜８は、図１に示すように、２層コーティングからな
っており、かけ面1a側の下地をなす一層目8aは、ポリエ
ーテルサルフォン樹脂を主成分、例えばポリエーテルサ
ルフォン樹脂を90％、四フッ化エチレン樹脂を10％とし
た樹脂からなり、表層側の二層目8bは、四フッ化エチレ
ン樹脂を主成分、例えば四フッ化エチレン樹脂を80％、
ポリエーテルサルフォン樹脂を20％とした樹脂からなっ
ている。表面処理被膜８を形成する工程においては、一
層目8aの材料の樹脂に溶剤を加えて液状にし、これを例
えばスプレー手段によりベース１のかけ面1aにコーティ
ングし、その上に、二層目8bの材料の樹脂に溶剤を加え
て液状にし、これを例えばスプレー手段によりコーティ
ングし、さらに約400℃に加熱焼成して表面処理被膜８
を得る。
【００２１】このような表面処理被膜８においては、ポ
リエーテルサルフォン樹脂がプライマーとなり、四フッ
化エチレン樹脂とで、かけ面1aの耐蝕性および非粘着性
が良好に保たれる。
リエーテルサルフォン樹脂がプライマーとなり、四フッ
化エチレン樹脂とで、かけ面1aの耐蝕性および非粘着性
が良好に保たれる。
【００２２】さらに、この表面処理被膜８の表層面を精
密に研磨することにより、この表面処理被膜８の表層面
は鏡面仕上げとしてある。図１(b)に示す研磨前の表面
処理被膜８の表層面の中心線(ベースの長手方向に沿う
中心線)平均粗さが一般的に1.5〜2.0μmであるのに対し
て、図１(a)に示す精密研磨後では、通常、0.5〜1.0μm
程度に改善される。摺動性の面からは、より粗さが細か
いことが望まれるが、精密に表層面が滑らかに仕上げる
ことにより、アイロンかけ時の摺動性が向上する。
密に研磨することにより、この表面処理被膜８の表層面
は鏡面仕上げとしてある。図１(b)に示す研磨前の表面
処理被膜８の表層面の中心線(ベースの長手方向に沿う
中心線)平均粗さが一般的に1.5〜2.0μmであるのに対し
て、図１(a)に示す精密研磨後では、通常、0.5〜1.0μm
程度に改善される。摺動性の面からは、より粗さが細か
いことが望まれるが、精密に表層面が滑らかに仕上げる
ことにより、アイロンかけ時の摺動性が向上する。
【００２３】ここで、ベース１の表面処理被膜８の精密
研磨方法の一例を説明する。ベース１の表面処理被膜８
を研磨する研磨材としては、ラッピングシートまたはラ
ッピングテープ等の、微粒子研磨材（２〜８μm）の付
着した研磨シートを用いる。そして、ウレタン樹脂等の
柔らかく、適当な弾力性を持つ材質で前記ラッピングシ
ートの裏面を保持してベース１表面処理被膜８に押し当
てベース１を移動させて表面処理被膜８を研磨する。
研磨方法の一例を説明する。ベース１の表面処理被膜８
を研磨する研磨材としては、ラッピングシートまたはラ
ッピングテープ等の、微粒子研磨材（２〜８μm）の付
着した研磨シートを用いる。そして、ウレタン樹脂等の
柔らかく、適当な弾力性を持つ材質で前記ラッピングシ
ートの裏面を保持してベース１表面処理被膜８に押し当
てベース１を移動させて表面処理被膜８を研磨する。
【００２４】本実施例における研磨後の、表面処理被膜
８の表層面状態で、表層面粗さについては、前段に説明
してあるので省略するが、その他の必要条件について説
明する。
８の表層面状態で、表層面粗さについては、前段に説明
してあるので省略するが、その他の必要条件について説
明する。
【００２５】表層面は、滑らかになっているので当然の
如く鏡面状態に仕上がっている。また、研磨によって研
削される研削量は、５〜10μmにとどめることが望まし
い。なぜならば通常、表面処理被膜８の膜厚は、一層目
8aが10〜15μmあり、二層目8bが15〜20μmである。した
がって、表面処理被膜８は、二層目8bの四フッ化エチレ
ン樹脂が主成分の表層面を極薄く精密に研磨することに
よって、表面処理被膜８の元々の構成を損なわないの
で、非粘着性の性能を従来と同じ性能に維持できる。
如く鏡面状態に仕上がっている。また、研磨によって研
削される研削量は、５〜10μmにとどめることが望まし
い。なぜならば通常、表面処理被膜８の膜厚は、一層目
8aが10〜15μmあり、二層目8bが15〜20μmである。した
がって、表面処理被膜８は、二層目8bの四フッ化エチレ
ン樹脂が主成分の表層面を極薄く精密に研磨することに
よって、表面処理被膜８の元々の構成を損なわないの
で、非粘着性の性能を従来と同じ性能に維持できる。
【００２６】また、四フッ化エチレン樹脂とポリエーテ
ルサルフォン樹脂との混合物からなる表面処理被膜は、
その膜厚各層における四フッ化エチレン樹脂とポリエー
テルサルフォン樹脂との含有割合が均一ではなく、ベー
ス側の層ではポリエーテルサルフォン樹脂の含有量が多
く、その反対側の表面に露出する側に向かうに従ってポ
リエーテルサルフォン樹脂の含有量が減少して四フッ化
エチレン樹脂の含有量が増加する。したがって研磨によ
る研削量が多すぎると、その研削で露出する表面での四
フッ化エチレン樹脂の含有量が少なくなり、その四フッ
化エチレン樹脂に基づく非粘着性の性能が低下してしま
う。
ルサルフォン樹脂との混合物からなる表面処理被膜は、
その膜厚各層における四フッ化エチレン樹脂とポリエー
テルサルフォン樹脂との含有割合が均一ではなく、ベー
ス側の層ではポリエーテルサルフォン樹脂の含有量が多
く、その反対側の表面に露出する側に向かうに従ってポ
リエーテルサルフォン樹脂の含有量が減少して四フッ化
エチレン樹脂の含有量が増加する。したがって研磨によ
る研削量が多すぎると、その研削で露出する表面での四
フッ化エチレン樹脂の含有量が少なくなり、その四フッ
化エチレン樹脂に基づく非粘着性の性能が低下してしま
う。
【００２７】図４には、四フッ化エチレン樹脂とポリエ
ーテルサルフォン樹脂との含有割合が50：50の場合の、
表面処理被膜の研削量（μm）と、その研削に伴う表面
処理被膜の平均粗さ（μm）、およびその研削で露出し
た表面での四フッ化エチレン樹脂の含有量（％）との関
係を示してある。なお、表面処理被膜の平均粗さはベー
スの長手方向に沿う中心線部分での平均粗さである。
ーテルサルフォン樹脂との含有割合が50：50の場合の、
表面処理被膜の研削量（μm）と、その研削に伴う表面
処理被膜の平均粗さ（μm）、およびその研削で露出し
た表面での四フッ化エチレン樹脂の含有量（％）との関
係を示してある。なお、表面処理被膜の平均粗さはベー
スの長手方向に沿う中心線部分での平均粗さである。
【００２８】この図４から明らかなように、研削量が増
すに従って平均粗さが緻密となり、それだけ表面処理被
膜の滑りがよくなる。しかし研削量が多すぎると、表面
処理膜の露出面での四フッ化エチレン樹脂の含有量が減
少してしまう。
すに従って平均粗さが緻密となり、それだけ表面処理被
膜の滑りがよくなる。しかし研削量が多すぎると、表面
処理膜の露出面での四フッ化エチレン樹脂の含有量が減
少してしまう。
【００２９】研削量が５〜10μmの範囲内であると、表
面処理被膜の露出表面の平均粗さをほぼ1.0μm以下の滑
らかな鏡面状態に保つことができるとともに、四フッ化
エチレン樹脂の含有量をほぼ30％以上に保ってその四フ
ッ化エチレン樹脂による良好な非粘着性を得ることがで
き、したがって研削量としては５〜10μmの範囲が望ま
しい。
面処理被膜の露出表面の平均粗さをほぼ1.0μm以下の滑
らかな鏡面状態に保つことができるとともに、四フッ化
エチレン樹脂の含有量をほぼ30％以上に保ってその四フ
ッ化エチレン樹脂による良好な非粘着性を得ることがで
き、したがって研削量としては５〜10μmの範囲が望ま
しい。
【００３０】しかも、前記実施例においては、表面処理
被膜８を２層にし、下地の一層目8aはポリエーテルサル
フォン樹脂を主成分とし、表層側の二層目8bは四フッ化
エチレン樹脂を主成分とするものにしたので、この二層
目8bのみを研磨することにより、表面処理膜８の露出表
面での四フッ化エチレン樹脂の含有量を非常に大きくで
きる。したがって、四フッ化エチレン樹脂に基づく非粘
着性の性能を良好なものにでき、のりの焦げ付きも確実
に防止できる。
被膜８を２層にし、下地の一層目8aはポリエーテルサル
フォン樹脂を主成分とし、表層側の二層目8bは四フッ化
エチレン樹脂を主成分とするものにしたので、この二層
目8bのみを研磨することにより、表面処理膜８の露出表
面での四フッ化エチレン樹脂の含有量を非常に大きくで
きる。したがって、四フッ化エチレン樹脂に基づく非粘
着性の性能を良好なものにでき、のりの焦げ付きも確実
に防止できる。
【００３１】これとともに、表面処理被膜８の硬度を、
温度の上昇に伴う低下をほとんど招くことなく高い値に
保て、したがって表面処理被膜８の損耗を長期に亙って
防止できる。
温度の上昇に伴う低下をほとんど招くことなく高い値に
保て、したがって表面処理被膜８の損耗を長期に亙って
防止できる。
【００３２】以上のように、前記実施例の構成によれ
ば、非粘着性および耐蝕性に優れ、かつ滑らかな動きを
するベース１のかけ面1aを持ったアイロンを、現行の製
造設備をうまく生かして能率よく製造することができ
る。
ば、非粘着性および耐蝕性に優れ、かつ滑らかな動きを
するベース１のかけ面1aを持ったアイロンを、現行の製
造設備をうまく生かして能率よく製造することができ
る。
【００３３】なお、前記実施例においては、ベースの材
料をアルミニウムとしたが、これに限らず、アルミニウ
ム合金、鉄、鉄合金、亜鉛合金、ステンレス鋼、セラミ
ックス等であってもよい。
料をアルミニウムとしたが、これに限らず、アルミニウ
ム合金、鉄、鉄合金、亜鉛合金、ステンレス鋼、セラミ
ックス等であってもよい。
【００３４】また、精密研磨でラッピングテープを用い
たが、従来技術のバフ研磨等を応用しても同等の効果が
得られる。
たが、従来技術のバフ研磨等を応用しても同等の効果が
得られる。
【００３５】さらに、図５に示すように、ベース１にお
ける表面処理被膜８の加工面にシボ加工を施し、塗装前
のブラスト加工を廃止しても、同様の塗装密着強度が得
られる。すなわち、シボ９による粗面化によって、ベー
ス１と表面処理被膜８とを確実に密着させることがで
き、ブラスト加工を不要にできる。
ける表面処理被膜８の加工面にシボ加工を施し、塗装前
のブラスト加工を廃止しても、同様の塗装密着強度が得
られる。すなわち、シボ９による粗面化によって、ベー
ス１と表面処理被膜８とを確実に密着させることがで
き、ブラスト加工を不要にできる。
【００３６】また、一層目と二層目のポリエーテルサル
フォン樹脂と四フッ化エチレン樹脂の混合比を変えても
よい。一例としては、一層目を80：20や70：30、二層目
を40：60や50：50にしてもよい。
フォン樹脂と四フッ化エチレン樹脂の混合比を変えても
よい。一例としては、一層目を80：20や70：30、二層目
を40：60や50：50にしてもよい。
【００３７】また、前記実施例は、２層コートで説明し
てあるが、３層以上の多層コートとしてもよく、その場
合は、最外層の表層の一層を研磨する。また、図6に示
すように、表面処理被膜８を、ベース１の外周面1bにお
いてその他の面より厚く塗布することより、一番摩耗し
やすい箇所を補強して、かけ面1aの寿命を延ばすことが
できる。
てあるが、３層以上の多層コートとしてもよく、その場
合は、最外層の表層の一層を研磨する。また、図6に示
すように、表面処理被膜８を、ベース１の外周面1bにお
いてその他の面より厚く塗布することより、一番摩耗し
やすい箇所を補強して、かけ面1aの寿命を延ばすことが
できる。
【００３８】さらに、表面処理被膜中に例えば微粒子の
アルミナを混合して遷移金属を存在させることにより、
アイロン掛けに際しての静電気の発生を抑制できる。
アルミナを混合して遷移金属を存在させることにより、
アイロン掛けに際しての静電気の発生を抑制できる。
【００３９】
【発明の効果】本発明の請求項１のアイロンによれば、
ベースのかけ面の表面処理被膜を２層コーティングと
し、表面処理被膜の下地の一層目は、ポリエーテルサル
フォン樹脂を主成分とし、表層側の二層目は、四フッ化
エチレン樹脂を主成分とする構成とし、この表面処理被
膜の表層を平均粗さが1.0μm以下の精度の鏡面状態に研
磨し、表面処理被膜の研磨による研削量を概ね10μm以
下とし、その研削した表面処理被膜の露出表面で四フッ
化エチレン樹脂の含有割合を30％以上としたものである
ので、表面処理被膜の下地側および表層側の特性をそれ
ぞれに適切なものにできるとともに、アイロンかけ時の
摺動性を向上できて、非粘着性の性能を損なうことがな
く、しかも、既存の製造設備を生かしてアイロンを製造
できる。また、２層コーティングからなる表面処理被膜
の下地の一層目は、ポリエーテルサルフォン樹脂を主成
分とし、表層側の二層目は、四フッ化エチレン樹脂を主
成分とする構成としたので、ベースのかけ面の耐蝕性お
よび非粘着性を高くでき、のりの焦げ付きも確実に防止
できる。しかも、表面処理被膜が２層になっていること
により、鏡面仕上げされた表面処理被膜の表面における
四フッ化エチレン樹脂の含有量を多くでき、非粘着性を
確実に確保できる。また、表面処理被膜に対する鏡面仕
上げの精度を、平均粗さが1.0μm以下の精度とすること
により、ベースのかけ面の摺動性を確実に向上できる。
また、表面処理被膜の研磨による研削量を概ね10μm以
下として、その研削した表面処理被膜の露出表面で四フ
ッ化エチレン樹脂の含有割合を30％以上とすることによ
り、ベースのかけ面の非粘着性を確保できる。
ベースのかけ面の表面処理被膜を２層コーティングと
し、表面処理被膜の下地の一層目は、ポリエーテルサル
フォン樹脂を主成分とし、表層側の二層目は、四フッ化
エチレン樹脂を主成分とする構成とし、この表面処理被
膜の表層を平均粗さが1.0μm以下の精度の鏡面状態に研
磨し、表面処理被膜の研磨による研削量を概ね10μm以
下とし、その研削した表面処理被膜の露出表面で四フッ
化エチレン樹脂の含有割合を30％以上としたものである
ので、表面処理被膜の下地側および表層側の特性をそれ
ぞれに適切なものにできるとともに、アイロンかけ時の
摺動性を向上できて、非粘着性の性能を損なうことがな
く、しかも、既存の製造設備を生かしてアイロンを製造
できる。また、２層コーティングからなる表面処理被膜
の下地の一層目は、ポリエーテルサルフォン樹脂を主成
分とし、表層側の二層目は、四フッ化エチレン樹脂を主
成分とする構成としたので、ベースのかけ面の耐蝕性お
よび非粘着性を高くでき、のりの焦げ付きも確実に防止
できる。しかも、表面処理被膜が２層になっていること
により、鏡面仕上げされた表面処理被膜の表面における
四フッ化エチレン樹脂の含有量を多くでき、非粘着性を
確実に確保できる。また、表面処理被膜に対する鏡面仕
上げの精度を、平均粗さが1.0μm以下の精度とすること
により、ベースのかけ面の摺動性を確実に向上できる。
また、表面処理被膜の研磨による研削量を概ね10μm以
下として、その研削した表面処理被膜の露出表面で四フ
ッ化エチレン樹脂の含有割合を30％以上とすることによ
り、ベースのかけ面の非粘着性を確保できる。
【００４０】また、請求項４の発明のアイロンによれ
ば、ベースの表面処理被膜の加工面にシボ加工を施した
ので、ベースと表面処理被膜との密着強度を高めること
ができる。
ば、ベースの表面処理被膜の加工面にシボ加工を施した
ので、ベースと表面処理被膜との密着強度を高めること
ができる。
【００４１】さらに、請求項５の発明のアイロンによれ
ば、表面処理被膜をベースの外周面においてその他の面
より厚くしたので、使用に伴って最も摩耗しやすいベー
スの外周面を補強でき、かけ面の寿命を延ばすことがで
きる。
ば、表面処理被膜をベースの外周面においてその他の面
より厚くしたので、使用に伴って最も摩耗しやすいベー
スの外周面を補強でき、かけ面の寿命を延ばすことがで
きる。
【図１】本発明のアイロンの一実施例を示すベースの表
面処理被膜付近の拡大断面図で、(a)は研磨後、(b)は研
磨前を示している。
面処理被膜付近の拡大断面図で、(a)は研磨後、(b)は研
磨前を示している。
【図２】同上ベースの一部の断面図である。
【図３】同上アイロン全体の斜視図である。
【図４】表面処理被膜の四フッ化エチレン樹脂の含有量
と研削量と平均粗さとの関係を示すグラフである。
と研削量と平均粗さとの関係を示すグラフである。
【図５】本発明の他の実施例を示すベースの表面処理被
膜付近の拡大断面図である。
膜付近の拡大断面図である。
【図６】本発明のさらに他の実施例を示すベースの断面
図である。
図である。
１ ベース
1a かけ面
1b 外周面
８ 表面処理被膜
8a 一層目
8b 二層目
９ シボ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平８−309100（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−138567（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−150799（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−270200（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−47499（ＪＰ，Ａ)
特許2537496（ＪＰ，Ｂ２)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
D06F 75/38
Claims (5)
- 【請求項１】 ベースのかけ面の表面処理被膜を２層コ
ーティングとし、表面処理被膜の下地の一層目は、ポリ
エーテルサルフォン樹脂を主成分とし、表層側の二層目
は、四フッ化エチレン樹脂を主成分とする構成とし、こ
の表面処理被膜の表層を平均粗さが1.0μm以下の精度の
鏡面状態に研磨し、表面処理被膜の研磨による研削量を
概ね10μm以下とし、その研削した表面処理被膜の露出
表面で四フッ化エチレン樹脂の含有割合を30％以上とし
たことを特徴とするアイロン。 - 【請求項２】 表面処理被膜に対する鏡面仕上げ用の研
磨材は、微粒子研磨材の付着した研磨シートを用いたこ
とを特徴とする請求項１記載のアイロン。 - 【請求項３】 ベースの材料がアルミニウム、アルミニ
ウム合金、鉄および鉄合金のいずれかであることを特徴
とする請求項１または２記載のアイロン。 - 【請求項４】 ベースの表面処理被膜の加工面には、シ
ボ加工が施されていることを特徴とする請求項１〜３の
いずれか１項に記載のアイロン。 - 【請求項５】 表面処理被膜は、ベースの外周面におい
て、その他の面より厚くなっていることを特徴とする請
求項１〜４のいずれか１項に記載のアイロン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01700298A JP3451613B2 (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | アイロン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01700298A JP3451613B2 (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | アイロン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11207100A JPH11207100A (ja) | 1999-08-03 |
| JP3451613B2 true JP3451613B2 (ja) | 2003-09-29 |
Family
ID=11931811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01700298A Expired - Lifetime JP3451613B2 (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | アイロン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3451613B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011239963A (ja) * | 2010-05-18 | 2011-12-01 | Toshiba Home Technology Corp | アイロン |
-
1998
- 1998-01-29 JP JP01700298A patent/JP3451613B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11207100A (ja) | 1999-08-03 |
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