JP3447041B2 - 半導体装置および半導体装置の検査方法 - Google Patents
半導体装置および半導体装置の検査方法Info
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置および半
導体装置の検査方法に関し、特に半導体装置の検査の時
間を削減することができ、しかも検査の確実性を高める
ことができる半導体装置および半導体装置の検査方法に
関する。
導体装置の検査方法に関し、特に半導体装置の検査の時
間を削減することができ、しかも検査の確実性を高める
ことができる半導体装置および半導体装置の検査方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリは、多数のメモリセルを有
して構成されている。これらのメモリセルはマトリック
ス状に配置され、接続ラインでそれぞれ接続されてい
る。そして、行ライン、列ラインに選択信号を与えるこ
とによって特定のメモリセルに対し、データの書き込
み、読み出しを行なう。図5は行デコーダ69の回路図
である。入力ラインAn、入力ラインAn+1へ与える信号の
組み合わせによってワードラインを特定する。
して構成されている。これらのメモリセルはマトリック
ス状に配置され、接続ラインでそれぞれ接続されてい
る。そして、行ライン、列ラインに選択信号を与えるこ
とによって特定のメモリセルに対し、データの書き込
み、読み出しを行なう。図5は行デコーダ69の回路図
である。入力ラインAn、入力ラインAn+1へ与える信号の
組み合わせによってワードラインを特定する。
【0003】半導体メモリは、製造工程において適正に
動作するか否かの検査が行なわれる(EDS:Electric
Die Sort)。この場合、行ライン、列ラインに選択信
号を与えてそれぞれのメモリセルを特定しながら、各メ
モリセルごとに検査を行なう。
動作するか否かの検査が行なわれる(EDS:Electric
Die Sort)。この場合、行ライン、列ラインに選択信
号を与えてそれぞれのメモリセルを特定しながら、各メ
モリセルごとに検査を行なう。
【0004】また、半導体ウエハの切断ラインとなるス
クライブラインに予め検査用素子を形成しておく方法も
ある。図6Aは半導体ウエハ60を示しており、この半
導体ウエハ60はスクライブライン61に沿って切断さ
れる。切断されたものが図6Bであり、さらにスクライ
ブライン63に沿って切断され、チップ62が形成され
る。このチップ62上に多数のメモリセルが形成されて
いる。
クライブラインに予め検査用素子を形成しておく方法も
ある。図6Aは半導体ウエハ60を示しており、この半
導体ウエハ60はスクライブライン61に沿って切断さ
れる。切断されたものが図6Bであり、さらにスクライ
ブライン63に沿って切断され、チップ62が形成され
る。このチップ62上に多数のメモリセルが形成されて
いる。
【0005】図6Bに示すスクライブライン63の拡大
図が図6Cであり、このスクライブライン63上に検査
用素子64、65等を設けておく。検査用素子64は抵
抗、検査用素子65は強誘電体コンデンサである。検査
用素子64、65は、各チップ62上のメモリセルと同
一の工程を経て形成される。
図が図6Cであり、このスクライブライン63上に検査
用素子64、65等を設けておく。検査用素子64は抵
抗、検査用素子65は強誘電体コンデンサである。検査
用素子64、65は、各チップ62上のメモリセルと同
一の工程を経て形成される。
【0006】そして、スクライブライン63に沿って切
断する前に、検査用素子64、65の検査を行なう。検
査用素子64、65は、チップ62上のメモリセルと同
一の工程を経ているため、検査用素子64、65を検査
することによって、間接的にメモリセルが適正に形成さ
れているか否かを検査することができる。
断する前に、検査用素子64、65の検査を行なう。検
査用素子64、65は、チップ62上のメモリセルと同
一の工程を経ているため、検査用素子64、65を検査
することによって、間接的にメモリセルが適正に形成さ
れているか否かを検査することができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の半導体装置
の検査には次のような問題があった。まず、各メモリセ
ルごとに検査を行なった場合、検査時間がかかるという
問題がある。特に、耐久性を検査するため、繰り返しメ
モリセルの書き換えを行なうサイクルテストにおいて
は、多くの時間を要し検査時間の効率が低下してしま
う。
の検査には次のような問題があった。まず、各メモリセ
ルごとに検査を行なった場合、検査時間がかかるという
問題がある。特に、耐久性を検査するため、繰り返しメ
モリセルの書き換えを行なうサイクルテストにおいて
は、多くの時間を要し検査時間の効率が低下してしま
う。
【0008】これに対して、スクライブラインに検査用
素子64、65を形成しておく方法によれば、各メモリ
セルごとに検査を行なう必要がなく、検査時間を短縮す
ることができる。しかしこの検査用素子64、65は、
特性を確実に検知するため、メモリセルよりも大きく形
成されている。また、メモリセルが密集して配置されて
いるに対して、検査用素子64、65はスクライブライ
ン上に単独で設けられており、素子周辺の状況が全く異
なる。
素子64、65を形成しておく方法によれば、各メモリ
セルごとに検査を行なう必要がなく、検査時間を短縮す
ることができる。しかしこの検査用素子64、65は、
特性を確実に検知するため、メモリセルよりも大きく形
成されている。また、メモリセルが密集して配置されて
いるに対して、検査用素子64、65はスクライブライ
ン上に単独で設けられており、素子周辺の状況が全く異
なる。
【0009】このように検査用素子64、65とメモリ
セルとは、大きさや周辺の状況が異なるため、検査用素
子64、65の検査を通じてメモリセルの適正を判定す
るのは不正確であり、メモリセルの検査の確実性が低
い。
セルとは、大きさや周辺の状況が異なるため、検査用素
子64、65の検査を通じてメモリセルの適正を判定す
るのは不正確であり、メモリセルの検査の確実性が低
い。
【0010】さらに、半導体ウエハを切断して得た各チ
ップは、プラスチック樹脂で封止されてパッケージされ
るため、この封止の際の影響によって製品化した段階で
メモリセルの特性が変化することがある。特に、強誘電
体コンデンサを用いたメモリセルの場合は特性が不安定
で特性変化によるずれが大きい。
ップは、プラスチック樹脂で封止されてパッケージされ
るため、この封止の際の影響によって製品化した段階で
メモリセルの特性が変化することがある。特に、強誘電
体コンデンサを用いたメモリセルの場合は特性が不安定
で特性変化によるずれが大きい。
【0011】検査用メモリセルを用いる場合、半導体ウ
エハを切断する前、すなわち製品化前の工程で検査しな
ければならず、製品化されたメモリセルの検査を行なう
ことができない。このため検査の確実性が低下してしま
う。
エハを切断する前、すなわち製品化前の工程で検査しな
ければならず、製品化されたメモリセルの検査を行なう
ことができない。このため検査の確実性が低下してしま
う。
【0012】そこで本発明は、半導体装置の検査の時間
を削減することができ、しかも検査の確実性を高めるこ
とができる半導体装置および半導体装置の検査方法の提
供を目的としている。
を削減することができ、しかも検査の確実性を高めるこ
とができる半導体装置および半導体装置の検査方法の提
供を目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体装
置は、マトリックス状に配置された多数の半導体素子か
ら構成される半導体素子部を有しており、特定の半導体
素子を選択して電気的処理を施す半導体装置において、
通常動作時に半導体素子部に対して選択信号を与えるこ
とにより、特定の半導体素子を選択するデコーダであっ
て、検査時に全部の半導体素子を選択するための全選択
用の第1のラインを含むデコーダと、通常動作時にデコ
ーダにより選択された半導体素子にデータの書き込み・
読み出しを行う信号を、当該半導体素子に与えるための
第2のラインと、を備えており、デコーダは、切り換え
信号が与えられると、前記全選択用の第1のラインによ
って半導体素子部に対して検査用の選択信号を与え、選
択された半導体素子を所定の導通状態として検査用素子
群を形成し、前記第2のラインを用いて、検査用素子群
に対し、検査のためにデータの書き換えを行い、その後
にデータの書き込み・読み出しを行う、ことを特徴とし
ている。請求項2に係る半導体装置は、請求項1に係る
半導体装置において、制御指令を受けて、前記デコーダ
に対してアドレス信号を与えるアドレスデコーダを備
え、アドレスデコーダは、前記全選択用の第1のライン
に、切り換え信号を出力する、ことを特徴としている。
置は、マトリックス状に配置された多数の半導体素子か
ら構成される半導体素子部を有しており、特定の半導体
素子を選択して電気的処理を施す半導体装置において、
通常動作時に半導体素子部に対して選択信号を与えるこ
とにより、特定の半導体素子を選択するデコーダであっ
て、検査時に全部の半導体素子を選択するための全選択
用の第1のラインを含むデコーダと、通常動作時にデコ
ーダにより選択された半導体素子にデータの書き込み・
読み出しを行う信号を、当該半導体素子に与えるための
第2のラインと、を備えており、デコーダは、切り換え
信号が与えられると、前記全選択用の第1のラインによ
って半導体素子部に対して検査用の選択信号を与え、選
択された半導体素子を所定の導通状態として検査用素子
群を形成し、前記第2のラインを用いて、検査用素子群
に対し、検査のためにデータの書き換えを行い、その後
にデータの書き込み・読み出しを行う、ことを特徴とし
ている。請求項2に係る半導体装置は、請求項1に係る
半導体装置において、制御指令を受けて、前記デコーダ
に対してアドレス信号を与えるアドレスデコーダを備
え、アドレスデコーダは、前記全選択用の第1のライン
に、切り換え信号を出力する、ことを特徴としている。
【0014】請求項3に係る半導体装置は、マトリック
ス状に配置された多数の半導体素子から構成される半導
体素子部を有しており、特定の半導体素子を選択して電
気的処理を施す半導体装置において、通常動作時に半導
体素子部に対して選択信号を与え、特定の半導体素子を
選択する行デコーダであって、検査時に全行の半導体素
子を選択するための全行選択用のラインを含む行デコー
ダと、通常動作時に半導体素子部に対して選択信号を与
え、特定の半導体素子を選択する列デコーダであって、
検査時に全列の半導体素子を選択するための全列選択用
のラインを含む列デコーダと、通常動作時に行デコーダ
および列デコーダにより選択された半導体素子にデータ
の書き込み・読み出しを行う信号を、当該半導体素子に
与えるための第2のラインと、を備えており、行デコー
ダは、与えられた切り換え信号に基づいて、全行選択用
のラインによって半導体素子部に対して検査用の選択信
号を与え、列デコーダは、与えられた切り換え信号に基
づいて、全列選択用のラインによって半導体素子部に対
して検査用の選択信号を与え、全部のデコーダ出力を所
定の状態として検査用素子群を形成し、前記第2のライ
ンを用いて、検査用素子群に対し、検査のためにデータ
の書き換えを行い、その後にデータの書き込み・読み出
しを行う、ことを特徴としている。請求項4に係る半導
体装置は、請求項3に係る半導体装置において、制御指
令を受けて、前記行デコーダおよび前記列デコーダに対
してアドレス信号を与えるアドレスデコーダを備え、前
記アドレスデコーダは、前記全行選択用のラインおよび
全列選択用のラインに、切り換え信号を出力する、こと
を特徴としている。
ス状に配置された多数の半導体素子から構成される半導
体素子部を有しており、特定の半導体素子を選択して電
気的処理を施す半導体装置において、通常動作時に半導
体素子部に対して選択信号を与え、特定の半導体素子を
選択する行デコーダであって、検査時に全行の半導体素
子を選択するための全行選択用のラインを含む行デコー
ダと、通常動作時に半導体素子部に対して選択信号を与
え、特定の半導体素子を選択する列デコーダであって、
検査時に全列の半導体素子を選択するための全列選択用
のラインを含む列デコーダと、通常動作時に行デコーダ
および列デコーダにより選択された半導体素子にデータ
の書き込み・読み出しを行う信号を、当該半導体素子に
与えるための第2のラインと、を備えており、行デコー
ダは、与えられた切り換え信号に基づいて、全行選択用
のラインによって半導体素子部に対して検査用の選択信
号を与え、列デコーダは、与えられた切り換え信号に基
づいて、全列選択用のラインによって半導体素子部に対
して検査用の選択信号を与え、全部のデコーダ出力を所
定の状態として検査用素子群を形成し、前記第2のライ
ンを用いて、検査用素子群に対し、検査のためにデータ
の書き換えを行い、その後にデータの書き込み・読み出
しを行う、ことを特徴としている。請求項4に係る半導
体装置は、請求項3に係る半導体装置において、制御指
令を受けて、前記行デコーダおよび前記列デコーダに対
してアドレス信号を与えるアドレスデコーダを備え、前
記アドレスデコーダは、前記全行選択用のラインおよび
全列選択用のラインに、切り換え信号を出力する、こと
を特徴としている。
【0015】請求項5に係る半導体装置は、請求項3ま
たは請求項4の半導体装置において、前記行デコーダ
は、前記半導体素子部の各行の半導体素子に接続するゲ
ート回路であって、前記全行選択用のラインを共通の入
力とするゲート回路を複数備え、前記列デコーダは、前
記半導体素子部の各列の半導体素子に接続するゲート回
路であって、前記全列選択用のラインを共通の入力とす
るゲート回路を複数備え、前記全行選択用のラインおよ
び前記全列選択用のラインに所定レベルの信号を与える
ことにより、全部のデコーダ出力を所定の状態として検
査用素子群を形成する、ことを特徴としている。
たは請求項4の半導体装置において、前記行デコーダ
は、前記半導体素子部の各行の半導体素子に接続するゲ
ート回路であって、前記全行選択用のラインを共通の入
力とするゲート回路を複数備え、前記列デコーダは、前
記半導体素子部の各列の半導体素子に接続するゲート回
路であって、前記全列選択用のラインを共通の入力とす
るゲート回路を複数備え、前記全行選択用のラインおよ
び前記全列選択用のラインに所定レベルの信号を与える
ことにより、全部のデコーダ出力を所定の状態として検
査用素子群を形成する、ことを特徴としている。
【0016】請求項6に係る半導体装置は、請求項1な
いし請求項5のいずれかの半導体装置において、半導体
素子は強誘電体を備えている、ことを特徴としている。
請求項7に係る半導体装置は、請求項1ないし請求項6
のいずれかの半導体装置において、前記デコーダは、パ
ッケージされた後、前記半導体素子部に前記検査用の選
択信号を与え、前記検査用素子群に対し、検査のために
データの書き換えを行い、その後にデータの書き込み・
読み出しを行う、ことを特徴としている。
いし請求項5のいずれかの半導体装置において、半導体
素子は強誘電体を備えている、ことを特徴としている。
請求項7に係る半導体装置は、請求項1ないし請求項6
のいずれかの半導体装置において、前記デコーダは、パ
ッケージされた後、前記半導体素子部に前記検査用の選
択信号を与え、前記検査用素子群に対し、検査のために
データの書き換えを行い、その後にデータの書き込み・
読み出しを行う、ことを特徴としている。
【0017】請求項8に係る半導体装置の検査方法は、
多数の半導体素子を有しており、通常動作時に特定の半
導体素子を選択するデコーダ、および通常動作時にデコ
ーダにより選択された半導体素子にデータの書き込み・
読み出しを行う信号を、当該半導体素子に与えるための
ラインを備えた半導体装置に対する検査方法であって、
検査時に前記デコーダに全部の半導体素子を選択させ、
全部の半導体素子を所定の状態として検査用素子群を形
成し、半導体素子にデータの書き込み・読み出しを行う
信号を、当該半導体素子に与えるための前記ラインを用
いて、検査用素子群に対し、検査のためにデータの書き
換えを行い、その後にデータの書き込み・読み出しを行
う、ことを特徴としている。
多数の半導体素子を有しており、通常動作時に特定の半
導体素子を選択するデコーダ、および通常動作時にデコ
ーダにより選択された半導体素子にデータの書き込み・
読み出しを行う信号を、当該半導体素子に与えるための
ラインを備えた半導体装置に対する検査方法であって、
検査時に前記デコーダに全部の半導体素子を選択させ、
全部の半導体素子を所定の状態として検査用素子群を形
成し、半導体素子にデータの書き込み・読み出しを行う
信号を、当該半導体素子に与えるための前記ラインを用
いて、検査用素子群に対し、検査のためにデータの書き
換えを行い、その後にデータの書き込み・読み出しを行
う、ことを特徴としている。
【0018】
【発明の効果】請求項1に係る半導体装置においては、
デコーダは、切り換え信号が与えられると、全選択用の
第1のラインによって半導体素子部に対して検査用の選
択信号を与え、選択された半導体素子を所定の導通状態
として検査用素子群を形成し、第2のラインを用いて、
検査用素子群に対し、検査のためにデータの書き換えを
行い、その後にデータの書き込み・読み出しを行う。請
求項2に係る半導体装置においては、アドレスデコーダ
は、全選択用の第1のラインに、切り換え信号を出力す
る。
デコーダは、切り換え信号が与えられると、全選択用の
第1のラインによって半導体素子部に対して検査用の選
択信号を与え、選択された半導体素子を所定の導通状態
として検査用素子群を形成し、第2のラインを用いて、
検査用素子群に対し、検査のためにデータの書き換えを
行い、その後にデータの書き込み・読み出しを行う。請
求項2に係る半導体装置においては、アドレスデコーダ
は、全選択用の第1のラインに、切り換え信号を出力す
る。
【0019】すなわち、所定の導通状態となった検査用
素子群に対して検査のためにデータの書き換えを行うこ
とによって、検査用素子群全体を一度に検査することが
可能となる。このため、それぞれの半導体素子に対し、
個別に検査のためにデータの書き換えを行って検査する
必要がなく、半導体装置の検査の時間を削減することが
できる。
素子群に対して検査のためにデータの書き換えを行うこ
とによって、検査用素子群全体を一度に検査することが
可能となる。このため、それぞれの半導体素子に対し、
個別に検査のためにデータの書き換えを行って検査する
必要がなく、半導体装置の検査の時間を削減することが
できる。
【0020】また、直接的に半導体素子群を検査するこ
とができる。すなわち、たとえば製造工程において検査
用の素子を形成しておき、製造工程中において、この検
査用の素子によって間接的に半導体素子の検査を行なう
ものではない。このため、完成品としての半導体装置が
備える半導体素子群を検査することができ、検査の確実
性を高めることができる。さらに、アドレスデコーダが
全選択用の第1のラインに検査用の選択信号を与えるこ
とによって、一部または全部の半導体素子を所定の導通
状態とし、検査用素子群を形成している。このように、
全選択用の第1のラインを利用し、この全選択用の第1
のラインに検査用の選択信号を与えて検査用素子群を形
成しているため、簡易な構成で容易かつ確実に検査用素
子群を形成することができる。
とができる。すなわち、たとえば製造工程において検査
用の素子を形成しておき、製造工程中において、この検
査用の素子によって間接的に半導体素子の検査を行なう
ものではない。このため、完成品としての半導体装置が
備える半導体素子群を検査することができ、検査の確実
性を高めることができる。さらに、アドレスデコーダが
全選択用の第1のラインに検査用の選択信号を与えるこ
とによって、一部または全部の半導体素子を所定の導通
状態とし、検査用素子群を形成している。このように、
全選択用の第1のラインを利用し、この全選択用の第1
のラインに検査用の選択信号を与えて検査用素子群を形
成しているため、簡易な構成で容易かつ確実に検査用素
子群を形成することができる。
【0021】請求項3に係る半導体装置においては、行
デコーダは、与えられた切り換え信号に基づいて、全行
選択用のラインによって半導体素子部に対して検査用の
選択信号を与え、列デコーダは、与えられた切り換え信
号に基づいて、全列選択用のラインによって半導体素子
部に対して検査用の選択信号を与え、全部のデコーダ出
力を所定の状態として検査用素子群を形成し、第2のラ
インを用いて、検査用素子群に対し、検査のためにデー
タの書き換えを行い、その後にデータの書き込み・読み
出しを行う。請求項4に係る半導体装置においては、ア
ドレスデコーダは、全行選択用のラインおよび全列選択
用のラインに、切り換え信号を出力する。
デコーダは、与えられた切り換え信号に基づいて、全行
選択用のラインによって半導体素子部に対して検査用の
選択信号を与え、列デコーダは、与えられた切り換え信
号に基づいて、全列選択用のラインによって半導体素子
部に対して検査用の選択信号を与え、全部のデコーダ出
力を所定の状態として検査用素子群を形成し、第2のラ
インを用いて、検査用素子群に対し、検査のためにデー
タの書き換えを行い、その後にデータの書き込み・読み
出しを行う。請求項4に係る半導体装置においては、ア
ドレスデコーダは、全行選択用のラインおよび全列選択
用のラインに、切り換え信号を出力する。
【0022】すなわち、検査用素子群に対して検査のた
めにデータの書き換えを行うことによって、検査用素子
群全体を一度に検査することが可能となる。このため、
それぞれの半導体素子に対し、個別に検査のためにデー
タの書き換えを行って検査する必要がなく、半導体装置
の検査の時間を削減することができる。
めにデータの書き換えを行うことによって、検査用素子
群全体を一度に検査することが可能となる。このため、
それぞれの半導体素子に対し、個別に検査のためにデー
タの書き換えを行って検査する必要がなく、半導体装置
の検査の時間を削減することができる。
【0023】また、直接的に半導体素子群を検査するこ
とができる。すなわち、たとえば製造工程において検査
用の素子を形成しておき、製造工程中において、この検
査用の素子によって間接的に半導体素子の検査を行なう
ものではない。このため、完成品としての半導体装置が
備える半導体素子群を検査することができ、検査の確実
性を高めることができる。
とができる。すなわち、たとえば製造工程において検査
用の素子を形成しておき、製造工程中において、この検
査用の素子によって間接的に半導体素子の検査を行なう
ものではない。このため、完成品としての半導体装置が
備える半導体素子群を検査することができ、検査の確実
性を高めることができる。
【0024】さらに、アドレスデコーダが全行選択用の
ラインおよび全列選択用のラインに検査用の選択信号を
与えることによって、全部のデコーダ出力を所定の状態
として、検査用素子群を形成している。このように、全
行選択用のラインおよび全列選択用のラインを利用し、
この全行選択用のラインおよび全列選択用のラインに検
査用の選択信号を与えて検査用素子群を形成しているた
め、簡易な構成で容易かつ確実に検査用素子群を形成す
ることができる。
ラインおよび全列選択用のラインに検査用の選択信号を
与えることによって、全部のデコーダ出力を所定の状態
として、検査用素子群を形成している。このように、全
行選択用のラインおよび全列選択用のラインを利用し、
この全行選択用のラインおよび全列選択用のラインに検
査用の選択信号を与えて検査用素子群を形成しているた
め、簡易な構成で容易かつ確実に検査用素子群を形成す
ることができる。
【0025】請求項5に係る半導体装置において、行デ
コーダは、半導体素子部の各行の半導体素子に接続する
ゲート回路であって、全行選択用のラインを共通の入力
とするゲート回路を複数備え、列デコーダは、半導体素
子部の各列の半導体素子に接続するゲート回路であっ
て、全列選択用のラインを共通の入力とするゲート回路
を複数備え、全行選択用のラインおよび全列選択用のラ
インに所定レベルの信号を与えることにより、全部のデ
コーダ出力を所定の状態として検査用素子群を形成す
る。
コーダは、半導体素子部の各行の半導体素子に接続する
ゲート回路であって、全行選択用のラインを共通の入力
とするゲート回路を複数備え、列デコーダは、半導体素
子部の各列の半導体素子に接続するゲート回路であっ
て、全列選択用のラインを共通の入力とするゲート回路
を複数備え、全行選択用のラインおよび全列選択用のラ
インに所定レベルの信号を与えることにより、全部のデ
コーダ出力を所定の状態として検査用素子群を形成す
る。
【0026】すなわち、検査用素子群に対して検査のた
めにデータの書き換えを行うことによって、検査用素子
群全体を一度に検査することが可能となる。このため、
それぞれの半導体素子に対し、個別に検査のためにデー
タの書き換えを行って検査する必要がなく、半導体装置
の検査の時間を削減することができる。
めにデータの書き換えを行うことによって、検査用素子
群全体を一度に検査することが可能となる。このため、
それぞれの半導体素子に対し、個別に検査のためにデー
タの書き換えを行って検査する必要がなく、半導体装置
の検査の時間を削減することができる。
【0027】また、直接的に半導体素子群を検査するこ
とができる。すなわち、たとえば製造工程において検査
用の素子を形成しておき、製造工程中において、この検
査用の素子によって間接的に半導体素子の検査を行なう
ものではない。このため、完成品としての半導体装置が
備える半導体素子群を検査することができ、検査の確実
性を高めることができる。
とができる。すなわち、たとえば製造工程において検査
用の素子を形成しておき、製造工程中において、この検
査用の素子によって間接的に半導体素子の検査を行なう
ものではない。このため、完成品としての半導体装置が
備える半導体素子群を検査することができ、検査の確実
性を高めることができる。
【0028】さらに、アドレスデコーダが全行選択用の
ラインおよび全列選択用のラインに検査用の選択信号を
与えることによって、全部のデコーダ出力を所定の状態
として、検査用素子群を形成している。このため、簡易
な構成で容易かつ確実に検査用素子群を形成することが
できる。
ラインおよび全列選択用のラインに検査用の選択信号を
与えることによって、全部のデコーダ出力を所定の状態
として、検査用素子群を形成している。このため、簡易
な構成で容易かつ確実に検査用素子群を形成することが
できる。
【0029】請求項6に係る半導体装置においては、半
導体素子は強誘電体を備えている。請求項7に係る半導
体装置においては、デコーダは、パッケージされた後、
半導体素子部に検査用の選択信号を与え、検査用素子群
に対し、検査のためにデータの書き換えを行い、その後
にデータの書き込み・読み出しを行う。この強誘電体は
特性が不安定であるため、特に正確な検査が要求され
る。このため、半導体装置の検査の時間を削減すること
によって、繰り返し検査を行なうサイクルテストを効率
的に行なうことができ、強誘電体を備えた半導体素子を
有する半導体装置を正確に検査することができる。
導体素子は強誘電体を備えている。請求項7に係る半導
体装置においては、デコーダは、パッケージされた後、
半導体素子部に検査用の選択信号を与え、検査用素子群
に対し、検査のためにデータの書き換えを行い、その後
にデータの書き込み・読み出しを行う。この強誘電体は
特性が不安定であるため、特に正確な検査が要求され
る。このため、半導体装置の検査の時間を削減すること
によって、繰り返し検査を行なうサイクルテストを効率
的に行なうことができ、強誘電体を備えた半導体素子を
有する半導体装置を正確に検査することができる。
【0030】請求項8に係る半導体装置の検査方法にお
いては、検査時にデコーダに全部の半導体素子を選択さ
せ、全部の半導体素子を所定の状態として検査用素子群
を形成し、半導体素子にデータの書き込み・読み出しを
行う信号を、当該半導体素子に与えるためのラインを用
いて、検査用素子群に対し、検査のためにデータの書き
換えを行い、その後にデータの書き込み・読み出しを行
う。
いては、検査時にデコーダに全部の半導体素子を選択さ
せ、全部の半導体素子を所定の状態として検査用素子群
を形成し、半導体素子にデータの書き込み・読み出しを
行う信号を、当該半導体素子に与えるためのラインを用
いて、検査用素子群に対し、検査のためにデータの書き
換えを行い、その後にデータの書き込み・読み出しを行
う。
【0031】すなわち、所定の状態となった検査用素子
群に対して検査のためにデータの書き換えを行うことに
よって、検査用素子群全体を一度に検査することが可能
となる。このため、それぞれの半導体素子に対し、個別
に検査のためにデータの書き換えを行って検査する必要
がなく、半導体装置の検査の時間を削減することができ
る。
群に対して検査のためにデータの書き換えを行うことに
よって、検査用素子群全体を一度に検査することが可能
となる。このため、それぞれの半導体素子に対し、個別
に検査のためにデータの書き換えを行って検査する必要
がなく、半導体装置の検査の時間を削減することができ
る。
【0032】また、直接的に半導体素子群を検査するこ
とができる。すなわち、たとえば製造工程において検査
用の素子を形成しておき、製造工程中において、この検
査用の素子によって間接的に半導体素子の検査を行なう
ものではない。このため、完成品としての半導体装置が
備える半導体素子群を検査することができ、検査の確実
性を高めることができる。
とができる。すなわち、たとえば製造工程において検査
用の素子を形成しておき、製造工程中において、この検
査用の素子によって間接的に半導体素子の検査を行なう
ものではない。このため、完成品としての半導体装置が
備える半導体素子群を検査することができ、検査の確実
性を高めることができる。
【0033】
1.第1の実施形態
本発明に係る半導体装置および半導体装置の検査方法の
第1の実施形態を図1、図2、図3に基づいて説明す
る。図1は本実施形態における半導体メモリのブロック
図である。また、図2はメモリセルアレー、行デコーダ
6、列デコーダ8の回路構成を示す図であり、図3はセ
ンスアンプ10、I/Oコントローラ12の回路構成を
示す図である。
第1の実施形態を図1、図2、図3に基づいて説明す
る。図1は本実施形態における半導体メモリのブロック
図である。また、図2はメモリセルアレー、行デコーダ
6、列デコーダ8の回路構成を示す図であり、図3はセ
ンスアンプ10、I/Oコントローラ12の回路構成を
示す図である。
【0034】[半導体メモリの全体構成]半導体素子部
であるメモリセルアレー2はマトリックス状に接続され
た多数の半導体素子である強誘電体メモリセルを備えて
おり、この中から特定の強誘電体メモリセルが指定され
てデータの書き込み、または読み出しが行なわれる。
であるメモリセルアレー2はマトリックス状に接続され
た多数の半導体素子である強誘電体メモリセルを備えて
おり、この中から特定の強誘電体メモリセルが指定され
てデータの書き込み、または読み出しが行なわれる。
【0035】データの書き込み、または読み出しを行な
う場合、アドレスデコーダ4には制御部(図示せず)か
ら特定のアドレス信号が与えられる。アドレスデコーダ
4は、受けたアドレス信号に基づいて、選択回路として
の行デコーダ6、選択回路としての列デコーダ8に向け
てそれぞれ信号を出力し、ワードライン(選択用ライ
ン)、ビットライン(選択用ライン)の組み合わせによ
って、メモリセルアレー2中の特定の強誘電体メモリセ
ルを指定する。
う場合、アドレスデコーダ4には制御部(図示せず)か
ら特定のアドレス信号が与えられる。アドレスデコーダ
4は、受けたアドレス信号に基づいて、選択回路として
の行デコーダ6、選択回路としての列デコーダ8に向け
てそれぞれ信号を出力し、ワードライン(選択用ライ
ン)、ビットライン(選択用ライン)の組み合わせによ
って、メモリセルアレー2中の特定の強誘電体メモリセ
ルを指定する。
【0036】こうして指定した強誘電体メモリセルに対
し、I/Oコントローラ12、センスアンプ10を通じ
てデータの書き込み、または読み出しが実行される。I
/Oコントローラ12、センスアンプ10は、シーケン
サ16からの信号を受けて動作し、このシーケンサ16
は制御部によって制御される。
し、I/Oコントローラ12、センスアンプ10を通じ
てデータの書き込み、または読み出しが実行される。I
/Oコントローラ12、センスアンプ10は、シーケン
サ16からの信号を受けて動作し、このシーケンサ16
は制御部によって制御される。
【0037】なお、データの書き込み、または読み出し
を行なう際、ワードラインと対になったプレートライン
(後述)が入力に応じて振幅するようになっており、こ
のプレートラインには、シーケンサ16からの信号に基
づいてプレートラインコントローラ14が所定の信号を
与える。
を行なう際、ワードラインと対になったプレートライン
(後述)が入力に応じて振幅するようになっており、こ
のプレートラインには、シーケンサ16からの信号に基
づいてプレートラインコントローラ14が所定の信号を
与える。
【0038】[データの書き込みまたは読み出しの詳
細]図2に示すように、本実施形態においては、行デコ
ーダ6に導通手段または切り換え手段としてのオア回路
21、22、23、24が設けられており、列デコーダ
8に導通手段または切り換え手段としてのオア回路3
1、33、35、37が設けられている。
細]図2に示すように、本実施形態においては、行デコ
ーダ6に導通手段または切り換え手段としてのオア回路
21、22、23、24が設けられており、列デコーダ
8に導通手段または切り換え手段としてのオア回路3
1、33、35、37が設けられている。
【0039】メモリアレー2内の強誘電体メモリセルに
対してデータの書き込み、または読み出しを行なう場
合、上述のようにアドレスデコーダ4(図1)から行デ
コーダ6に信号が与えられる。アドレスデコーダ4は、
制御部から指定された強誘電体メモリセルのアドレスに
応じて、入力ラインAn、入力ラインAn+1に信号を与え、
この信号の組み合わせに応じてアンド回路41、42、
43、44のいずれか1つから信号が出力される。この
信号はオア回路21、22、23、24を介して選択信
号として出力され、いずれかのワードラインが選択され
る。
対してデータの書き込み、または読み出しを行なう場
合、上述のようにアドレスデコーダ4(図1)から行デ
コーダ6に信号が与えられる。アドレスデコーダ4は、
制御部から指定された強誘電体メモリセルのアドレスに
応じて、入力ラインAn、入力ラインAn+1に信号を与え、
この信号の組み合わせに応じてアンド回路41、42、
43、44のいずれか1つから信号が出力される。この
信号はオア回路21、22、23、24を介して選択信
号として出力され、いずれかのワードラインが選択され
る。
【0040】また、アドレスデコーダ4(図1)からは
列デコーダ8にも信号が与えられる。アドレスデコーダ
4は、制御部から指定される強誘電体メモリセルのアド
レスに応じて、入力ラインBn、入力ラインBn+1に信号を
与え、この信号の組み合わせに応じてアンド回路51、
52、53、54のいずれか1つから信号を出力する。
この信号はオア回路31、33、35、37を介して選
択信号として出力され、I/Oコントローラ12に与え
られる。
列デコーダ8にも信号が与えられる。アドレスデコーダ
4は、制御部から指定される強誘電体メモリセルのアド
レスに応じて、入力ラインBn、入力ラインBn+1に信号を
与え、この信号の組み合わせに応じてアンド回路51、
52、53、54のいずれか1つから信号を出力する。
この信号はオア回路31、33、35、37を介して選
択信号として出力され、I/Oコントローラ12に与え
られる。
【0041】図3に示すように、列デコーダ8からの信
号によってI/Oコントローラ12内のスイッチ12
a、12b、12c、12dのいずれかが開き、開かれ
たスイッチに対応するラインを通じてデータ書き込み、
読み出しが可能になる。
号によってI/Oコントローラ12内のスイッチ12
a、12b、12c、12dのいずれかが開き、開かれ
たスイッチに対応するラインを通じてデータ書き込み、
読み出しが可能になる。
【0042】書き込み、読み出しを行なう場合、シーケ
ンサからセンスアンプ10に信号が与えられている。シ
ーケンサからの信号を受けて、センスアンプ10内のア
ンプ回路10a、10b、10c、10dのスイッチが
開く。たとえば、アンプ回路10aについては、スイッ
チ58、59が開くことになる。
ンサからセンスアンプ10に信号が与えられている。シ
ーケンサからの信号を受けて、センスアンプ10内のア
ンプ回路10a、10b、10c、10dのスイッチが
開く。たとえば、アンプ回路10aについては、スイッ
チ58、59が開くことになる。
【0043】そして、I/Oコントローラ12を介して
与えられたデータと反転したデータとがメモリセルアレ
ー2のビットライン対に出力される。これによって、メ
モリセルアレー2のいずれかのビットライン対が選択さ
れる。なお、アンプ回路10b、10c、10dは、ア
ンプ回路10aと同様の構成を備えている。
与えられたデータと反転したデータとがメモリセルアレ
ー2のビットライン対に出力される。これによって、メ
モリセルアレー2のいずれかのビットライン対が選択さ
れる。なお、アンプ回路10b、10c、10dは、ア
ンプ回路10aと同様の構成を備えている。
【0044】このように、選択されたワードラインとビ
ットライン対との組み合わせによって、特定の強誘電体
メモリセルが指定され、上述のようにI/Oコントロー
ラ12、センスアンプ10を介してデータの書き込み、
または読み出しが行なわれる。
ットライン対との組み合わせによって、特定の強誘電体
メモリセルが指定され、上述のようにI/Oコントロー
ラ12、センスアンプ10を介してデータの書き込み、
または読み出しが行なわれる。
【0045】なお、書き込み、読み出しの際には、プレ
ートラインコントローラ14(図1)から、プレートラ
インPLに所定の信号が与えられる。そして、この信号は
アンド回路45、46、47、48を介して出力され、
選択されているワードラインに対応するプレートライン
が振幅してデータの書き込み、読み出しが行なわれる。
ートラインコントローラ14(図1)から、プレートラ
インPLに所定の信号が与えられる。そして、この信号は
アンド回路45、46、47、48を介して出力され、
選択されているワードラインに対応するプレートライン
が振幅してデータの書き込み、読み出しが行なわれる。
【0046】[半導体メモリの検査]次に本発明の特徴
である半導体メモリの検査について説明する。製造段階
において、半導体ウエハから切り出されたチップは、プ
ラスチック樹脂によって封止されてパッケージされた
後、たとえば半導体メモリの書き込みの耐久性を検査す
るサイクルテストが行なわれる。特に強誘電体は特性が
不安定なため、より確実かつ正確な検査が要求される。
である半導体メモリの検査について説明する。製造段階
において、半導体ウエハから切り出されたチップは、プ
ラスチック樹脂によって封止されてパッケージされた
後、たとえば半導体メモリの書き込みの耐久性を検査す
るサイクルテストが行なわれる。特に強誘電体は特性が
不安定なため、より確実かつ正確な検査が要求される。
【0047】サイクルテストを行なう場合、アドレスデ
コーダ4(図1)は、制御部からの指令にしたがって、
全選択ラインAall、Ballに切り換え信号である信号を出
力する。
コーダ4(図1)は、制御部からの指令にしたがって、
全選択ラインAall、Ballに切り換え信号である信号を出
力する。
【0048】全選択ラインAallに与えられた信号は、行
デコーダ6内のオア回路21、22、23、24を通じ
て全てのワードラインに仮想選択信号として出力され
る。また、全選択ラインBallに与えられた信号は、列デ
コーダ8内のオア回路31、33、35、37を通じて
出力され、I/Oコントローラ12、センスアンプ10
を会して全てのビットラインに仮想選択信号として出力
される。
デコーダ6内のオア回路21、22、23、24を通じ
て全てのワードラインに仮想選択信号として出力され
る。また、全選択ラインBallに与えられた信号は、列デ
コーダ8内のオア回路31、33、35、37を通じて
出力され、I/Oコントローラ12、センスアンプ10
を会して全てのビットラインに仮想選択信号として出力
される。
【0049】すなわち、ワードライン、ビットライン上
にオア回路21、22、23、24、オア回路31、3
3、35、37が設けられていることによって、入力ラ
インAn、An+1、Bn、Bn+1の入力にかかわらず、全てのワ
ードライン、ビットラインに信号が与えられることにな
る。これによって、メモリセルアレー2内の全ての強誘
電体メモリセルが選択された状態になる。本実施形態に
おいては、この検査時に選択され、導通状態となった全
ての強誘電体メモリセルが検査用素子群である。
にオア回路21、22、23、24、オア回路31、3
3、35、37が設けられていることによって、入力ラ
インAn、An+1、Bn、Bn+1の入力にかかわらず、全てのワ
ードライン、ビットラインに信号が与えられることにな
る。これによって、メモリセルアレー2内の全ての強誘
電体メモリセルが選択された状態になる。本実施形態に
おいては、この検査時に選択され、導通状態となった全
ての強誘電体メモリセルが検査用素子群である。
【0050】この状態で全ての強誘電体メモリセルに対
して書き換えが繰り返され、サイクルテストが行なわれ
る。書き換えは、制御部からの指令に基づいてシーケン
サ16(図1)が検査用信号である信号を繰り返し出力
することによって実行される。
して書き換えが繰り返され、サイクルテストが行なわれ
る。書き換えは、制御部からの指令に基づいてシーケン
サ16(図1)が検査用信号である信号を繰り返し出力
することによって実行される。
【0051】以上のように、導通状態となって全ての強
誘電体メモリセルに対して書き換えの信号が与えられて
サイクルテストが実行されるため、全ての強誘電体メモ
リセルを一度に検査することが可能となる。このため、
それぞれの強誘電体メモリに対し、個別に信号を与えて
検査する必要がなく、半導体メモリの検査の時間を削減
することができる。
誘電体メモリセルに対して書き換えの信号が与えられて
サイクルテストが実行されるため、全ての強誘電体メモ
リセルを一度に検査することが可能となる。このため、
それぞれの強誘電体メモリに対し、個別に信号を与えて
検査する必要がなく、半導体メモリの検査の時間を削減
することができる。
【0052】また、図6に示した従来の半導体メモリの
検査のように、スクライブライン63に検査用素子6
4、65を形成しておき、チップの切り出しの前工程に
おいて検査用素子64、65によって間接的に半導体素
子の検査を行なうものではない。このため、完成品とし
ての半導体メモリが備える強誘電体メモリセルを検査す
ることができ、検査の確実性を高めることができる。
検査のように、スクライブライン63に検査用素子6
4、65を形成しておき、チップの切り出しの前工程に
おいて検査用素子64、65によって間接的に半導体素
子の検査を行なうものではない。このため、完成品とし
ての半導体メモリが備える強誘電体メモリセルを検査す
ることができ、検査の確実性を高めることができる。
【0053】さらに、ワードライン、ビットライン上に
オア回路21、22、23、24、オア回路31、3
3、35、37を設けることによって、検査を行なう
際、全てのワードライン、ビットラインに信号を与えて
いる。このため、簡易な構成で容易かつ確実に全ての強
誘電体メモリセルを選択することができる。
オア回路21、22、23、24、オア回路31、3
3、35、37を設けることによって、検査を行なう
際、全てのワードライン、ビットラインに信号を与えて
いる。このため、簡易な構成で容易かつ確実に全ての強
誘電体メモリセルを選択することができる。
【0054】2.第2の実施形態
次に、本発明に係る半導体装置および半導体装置の検査
方法の第2の実施形態を図4Aに基づいて説明する。本
実施形態においては、上記第1の実施形態において示し
たアンド回路41、42、43、44、アンド回路5
1、52、53、54の代りに導通手段または切り換え
手段としてのナンド回路を設ける。また、上記第1の実
施形態において示したオア回路21、22、23、2
4、オア回路31、33、35、37の代りに導通手段
または切り換え手段としてのナンド回路を設ける。
方法の第2の実施形態を図4Aに基づいて説明する。本
実施形態においては、上記第1の実施形態において示し
たアンド回路41、42、43、44、アンド回路5
1、52、53、54の代りに導通手段または切り換え
手段としてのナンド回路を設ける。また、上記第1の実
施形態において示したオア回路21、22、23、2
4、オア回路31、33、35、37の代りに導通手段
または切り換え手段としてのナンド回路を設ける。
【0055】図4Aは行デコーダ6の回路の一部を示し
ている。列デコーダ8についても、図4Aと同様の回路
構成が採用されている。データの読み出しや書き込みを
行なう場合、全選択ラインAallにはH信号を与えてお
く。このH信号はナンド回路72、…の一方側の入力に
与えられ、他方側の入力に与えられるナンド回路71、
…からのL信号またはH信号に応じて、各ナンド回路7
2、…の出力信号が決定されることになる。
ている。列デコーダ8についても、図4Aと同様の回路
構成が採用されている。データの読み出しや書き込みを
行なう場合、全選択ラインAallにはH信号を与えてお
く。このH信号はナンド回路72、…の一方側の入力に
与えられ、他方側の入力に与えられるナンド回路71、
…からのL信号またはH信号に応じて、各ナンド回路7
2、…の出力信号が決定されることになる。
【0056】すなわち、入力ラインAn、入力ラインAn+1
に与えられる信号の組み合わせに応じてナンド回路7
1、…のいずれか1つから信号が出力される。この信号
はオア回路72、…を介して選択信号として出力され、
いずれかのワードラインが選択される。
に与えられる信号の組み合わせに応じてナンド回路7
1、…のいずれか1つから信号が出力される。この信号
はオア回路72、…を介して選択信号として出力され、
いずれかのワードラインが選択される。
【0057】また、列デコーダ8における同様の回路構
成にしたがって、いずれかのビットライン対も選択され
る。こうして選択されたワードラインとビットライン対
との組み合わせによって、特定の強誘電体メモリセルが
指定され、データの読み出し、書き込みが行なわれる。
成にしたがって、いずれかのビットライン対も選択され
る。こうして選択されたワードラインとビットライン対
との組み合わせによって、特定の強誘電体メモリセルが
指定され、データの読み出し、書き込みが行なわれる。
【0058】半導体メモリの検査を行なう場合、全選択
ラインAallにL信号を与える。このL信号はナンド回路
72、…の一方側の入力に取り込まれるため、他方側の
入力に与えられるナンド回路71、…からの信号、すな
わち入力ラインAn、入力ラインAn+1に与えられる信号に
かかわらず、全てのワードラインに信号が与えられるこ
とになる。
ラインAallにL信号を与える。このL信号はナンド回路
72、…の一方側の入力に取り込まれるため、他方側の
入力に与えられるナンド回路71、…からの信号、すな
わち入力ラインAn、入力ラインAn+1に与えられる信号に
かかわらず、全てのワードラインに信号が与えられるこ
とになる。
【0059】また、全選択ラインBall(図2参照)にも
L信号が与えられ、列デコーダ8における同様の回路構
成にしたがって、全てのビットラインライン対に信号が
与えられる。このように全てのワードライン、ビットラ
イン対に信号が与えられるため、メモリセルアレー2内
の全ての強誘電体メモリセルが選択された状態になる。
L信号が与えられ、列デコーダ8における同様の回路構
成にしたがって、全てのビットラインライン対に信号が
与えられる。このように全てのワードライン、ビットラ
イン対に信号が与えられるため、メモリセルアレー2内
の全ての強誘電体メモリセルが選択された状態になる。
【0060】この状態で全ての強誘電体メモリセルに対
して書き換えが繰り返され、サイクルテストが行なわれ
る。その他の構成については上記第1の実施形態におい
て示したものと同様である。
して書き換えが繰り返され、サイクルテストが行なわれ
る。その他の構成については上記第1の実施形態におい
て示したものと同様である。
【0061】3.第3の実施形態
続いて、本発明に係る半導体装置および半導体装置の検
査方法の第3の実施形態を図4Bに基づいて説明する。
本実施形態においては、上記第1の実施形態において示
したオア回路21、22、23、24、オア回路31、
33、35、37の代りに導通手段または切り換え手段
としてのトランスファーゲートを設ける。また、ワード
ライン上、ビットライン上に電源を接続する。
査方法の第3の実施形態を図4Bに基づいて説明する。
本実施形態においては、上記第1の実施形態において示
したオア回路21、22、23、24、オア回路31、
33、35、37の代りに導通手段または切り換え手段
としてのトランスファーゲートを設ける。また、ワード
ライン上、ビットライン上に電源を接続する。
【0062】図4Bは行デコーダ6の回路の一部を示し
ている。列デコーダ8についても、図4Bと同様の回路
構成が採用されている。データの読み出しや書き込みを
行なう場合、全選択ラインAallにはL信号を与えてお
く。このL信号はトランスファーゲート73、…の制御
入力に与えられ、トランスファーゲート73、…はON
状態になる。したがって、トランスファーゲート73、
…アンド回路41、…からのL信号またはH信号に応じ
て、ワードライン信号が決定されることになる。
ている。列デコーダ8についても、図4Bと同様の回路
構成が採用されている。データの読み出しや書き込みを
行なう場合、全選択ラインAallにはL信号を与えてお
く。このL信号はトランスファーゲート73、…の制御
入力に与えられ、トランスファーゲート73、…はON
状態になる。したがって、トランスファーゲート73、
…アンド回路41、…からのL信号またはH信号に応じ
て、ワードライン信号が決定されることになる。
【0063】すなわち、入力ラインAn、入力ラインAn+1
に与えられる信号の組み合わせに応じてアンド回路4
1、…のいずれか1つから信号が出力され、いずれかの
ワードラインが選択される。
に与えられる信号の組み合わせに応じてアンド回路4
1、…のいずれか1つから信号が出力され、いずれかの
ワードラインが選択される。
【0064】また、列デコーダ8における同様の回路構
成にしたがって、いずれかのビットライン対も選択され
る。こうして選択されたワードラインとビットライン対
との組み合わせによって、特定の強誘電体メモリセルが
指定され、データの読み出し、書き込みが行なわれる。
成にしたがって、いずれかのビットライン対も選択され
る。こうして選択されたワードラインとビットライン対
との組み合わせによって、特定の強誘電体メモリセルが
指定され、データの読み出し、書き込みが行なわれる。
【0065】半導体メモリの検査を行なう場合、全選択
ラインAallにH信号を与える。このH信号はトランスフ
ァーゲート73、…の制御入力に与えられ、トランスフ
ァーゲート73、…はOFF状態になる。したがって、
電源74からの電圧が与えられアンド回路41、…から
の信号、すなわち入力ラインAn、入力ラインAn+1に与え
られる信号にかかわらず、全てのワードラインにH信号
が与えられることになる。
ラインAallにH信号を与える。このH信号はトランスフ
ァーゲート73、…の制御入力に与えられ、トランスフ
ァーゲート73、…はOFF状態になる。したがって、
電源74からの電圧が与えられアンド回路41、…から
の信号、すなわち入力ラインAn、入力ラインAn+1に与え
られる信号にかかわらず、全てのワードラインにH信号
が与えられることになる。
【0066】また、全選択ラインBall(図2参照)にも
H信号が与えられ、列デコーダ8における同様の回路構
成にしたがって、全てのビットラインライン対にH信号
が与えられる。このように全てのワードライン、ビット
ライン対にH信号が与えられるため、メモリセルアレー
2内の全ての強誘電体メモリセルが選択された状態にな
る。
H信号が与えられ、列デコーダ8における同様の回路構
成にしたがって、全てのビットラインライン対にH信号
が与えられる。このように全てのワードライン、ビット
ライン対にH信号が与えられるため、メモリセルアレー
2内の全ての強誘電体メモリセルが選択された状態にな
る。
【0067】この状態で全ての強誘電体メモリセルに対
して書き換えが繰り返され、サイクルテストが行なわれ
る。その他の構成については上記第1の実施形態におい
て示したものと同様である。
して書き換えが繰り返され、サイクルテストが行なわれ
る。その他の構成については上記第1の実施形態におい
て示したものと同様である。
【0068】4.第4の実施形態
次に、本発明に係る半導体装置および半導体装置の検査
方法の第4の実施形態を図4Cに基づいて説明する。本
実施形態においては、上記第1の実施形態において示し
たオア回路21、22、23、24、オア回路31、3
3、35、37の代りに導通手段または切り換え手段と
してのトランジスタを設ける。また、ワードライン上、
ビットライン上に電源を接続する。
方法の第4の実施形態を図4Cに基づいて説明する。本
実施形態においては、上記第1の実施形態において示し
たオア回路21、22、23、24、オア回路31、3
3、35、37の代りに導通手段または切り換え手段と
してのトランジスタを設ける。また、ワードライン上、
ビットライン上に電源を接続する。
【0069】図4Cは行デコーダ6の回路の一部を示し
ている。列デコーダ8についても、図4Cと同様の回路
構成が採用されている。データの読み出しや書き込みを
行なう場合、全選択ラインAallにはL信号を与えてお
く。このL信号はトランジスタ75、…のゲートに与え
られ、トランジスタ75、…はON状態になる。したが
って、アンド回路41、…からのL信号またはH信号に
応じて、ワードライン信号が決定されることになる。
ている。列デコーダ8についても、図4Cと同様の回路
構成が採用されている。データの読み出しや書き込みを
行なう場合、全選択ラインAallにはL信号を与えてお
く。このL信号はトランジスタ75、…のゲートに与え
られ、トランジスタ75、…はON状態になる。したが
って、アンド回路41、…からのL信号またはH信号に
応じて、ワードライン信号が決定されることになる。
【0070】すなわち、入力ラインAn、入力ラインAn+1
に与えられる信号の組み合わせに応じてアンド回路4
1、…のいずれか1つから信号が出力され、いずれかの
ワードラインが選択される。
に与えられる信号の組み合わせに応じてアンド回路4
1、…のいずれか1つから信号が出力され、いずれかの
ワードラインが選択される。
【0071】また、列デコーダ8における同様の回路構
成にしたがって、いずれかのビットライン対も選択され
る。こうして選択されたワードラインとビットライン対
との組み合わせによって、特定の強誘電体メモリセルが
指定され、データの読み出し、書き込みが行なわれる。
成にしたがって、いずれかのビットライン対も選択され
る。こうして選択されたワードラインとビットライン対
との組み合わせによって、特定の強誘電体メモリセルが
指定され、データの読み出し、書き込みが行なわれる。
【0072】半導体メモリの検査を行なう場合、全選択
ラインAallにH信号を与える。このH信号はトランジス
タ75、…のゲートに与えられ、トランジスタ75、…
はOFF状態になる。したがって、電源74からの電圧
が与えられアンド回路41、…からの信号、すなわち入
力ラインAn、入力ラインAn+1に与えられる信号にかかわ
らず、全てのワードラインに信号が与えられることにな
る。
ラインAallにH信号を与える。このH信号はトランジス
タ75、…のゲートに与えられ、トランジスタ75、…
はOFF状態になる。したがって、電源74からの電圧
が与えられアンド回路41、…からの信号、すなわち入
力ラインAn、入力ラインAn+1に与えられる信号にかかわ
らず、全てのワードラインに信号が与えられることにな
る。
【0073】また、全選択ラインBall(図2参照)にも
H信号が与えられ、列デコーダ8における同様の回路構
成にしたがって、全てのビットラインライン対に信号が
与えられる。このように全てのワードライン、ビットラ
イン対に信号が与えられるため、メモリセルアレー2内
の全ての強誘電体メモリセルが選択された状態になる。
H信号が与えられ、列デコーダ8における同様の回路構
成にしたがって、全てのビットラインライン対に信号が
与えられる。このように全てのワードライン、ビットラ
イン対に信号が与えられるため、メモリセルアレー2内
の全ての強誘電体メモリセルが選択された状態になる。
【0074】この状態で全ての強誘電体メモリセルに対
して書き換えが繰り返され、サイクルテストが行なわれ
る。その他の構成については上記第1の実施形態におい
て示したものと同様である。
して書き換えが繰り返され、サイクルテストが行なわれ
る。その他の構成については上記第1の実施形態におい
て示したものと同様である。
【0075】5.その他の実施形態
本発明に係る半導体装置および半導体装置の検査方法
は、上記実施形態で示したものに限定されない。たとえ
ば、上記実施形態では半導体メモリを例に掲げたが、こ
れ以外の半導体装置に対して本発明を適用してもよい。
は、上記実施形態で示したものに限定されない。たとえ
ば、上記実施形態では半導体メモリを例に掲げたが、こ
れ以外の半導体装置に対して本発明を適用してもよい。
【0076】また、上記実施形態では、半導体素子とし
て強誘電体コンデンサを備えた強誘電体メモリセルを例
示したが、強誘電体を備えた他の半導体素子を用いても
よい。たとえば強誘電体トランジスタを備えた強誘電体
メモリセルを用いることもできる。さらに、強誘電体を
備えていない半導体素子を採用することもできる。
て強誘電体コンデンサを備えた強誘電体メモリセルを例
示したが、強誘電体を備えた他の半導体素子を用いても
よい。たとえば強誘電体トランジスタを備えた強誘電体
メモリセルを用いることもできる。さらに、強誘電体を
備えていない半導体素子を採用することもできる。
【0077】また、上記実施形態では、導通手段または
切り換え手段としてオア回路、ナンド回路、トランスフ
ァーゲート、トランジスタを例示したが、与えられた切
り換え信号に基づいて、一部または全部の半導体素子を
所定の導通状態として検査用素子群を形成するものであ
れば、他の構成を採用してもよい。たとえば、アンド回
路やノア回路を用いて実現することもできる。
切り換え手段としてオア回路、ナンド回路、トランスフ
ァーゲート、トランジスタを例示したが、与えられた切
り換え信号に基づいて、一部または全部の半導体素子を
所定の導通状態として検査用素子群を形成するものであ
れば、他の構成を採用してもよい。たとえば、アンド回
路やノア回路を用いて実現することもできる。
【0078】また、上記実施形態では、オア回路、ナン
ド回路、トランスファーゲート、トランジスタに切り換
え信号を与えることによって全ての強誘電体メモリセル
を非導通状態から導通状態に自在に切り換えて検査用素
子群を形成する例を示した。しかし、一部の強誘電体メ
モリセルのみを導通状態から導通状態に自在に切り換え
て検査用素子群を形成するようにしてもよい。
ド回路、トランスファーゲート、トランジスタに切り換
え信号を与えることによって全ての強誘電体メモリセル
を非導通状態から導通状態に自在に切り換えて検査用素
子群を形成する例を示した。しかし、一部の強誘電体メ
モリセルのみを導通状態から導通状態に自在に切り換え
て検査用素子群を形成するようにしてもよい。
【0079】さらに、一部の半導体素子を固定的に導通
状態として検査用素子群を形成し、この一部の検査用素
子群を半導体装置の検査専用に用いるようにしてもよ
い。たとえば、半導体装置の製造工程において、アルミ
配線を形成する際、一部の半導体素子が導通状態になる
ようにアルミ配線を施すこともできる。
状態として検査用素子群を形成し、この一部の検査用素
子群を半導体装置の検査専用に用いるようにしてもよ
い。たとえば、半導体装置の製造工程において、アルミ
配線を形成する際、一部の半導体素子が導通状態になる
ようにアルミ配線を施すこともできる。
【図1】本発明に係る半導体装置の第1の実施形態であ
る半導体メモリのブロック図である。
る半導体メモリのブロック図である。
【図2】図1に示すメモリセルアレー2、行デコーダ
6、列デコーダ8の回路構成を示す図である。
6、列デコーダ8の回路構成を示す図である。
【図3】図1に示すセンスアンプ10、I/Oコントロ
ーラ12の回路構成を示す図である。
ーラ12の回路構成を示す図である。
【図4】Aは本発明に係る半導体装置の第2の実施形態
における行デコーダの一部ブロック図、Bは本発明に係
る半導体装置の第3の実施形態における行デコーダの一
部ブロック図、Cは本発明に係る半導体装置の第4の実
施形態における行デコーダの一部ブロック図である。
における行デコーダの一部ブロック図、Bは本発明に係
る半導体装置の第3の実施形態における行デコーダの一
部ブロック図、Cは本発明に係る半導体装置の第4の実
施形態における行デコーダの一部ブロック図である。
【図5】従来の半導体メモリにおける行デコーダ69の
回路図である。
回路図である。
【図6】Aは半導体ウエハ60を示す図、Bは半導体ウ
エハ60がスクライブライン61に沿って切断されたも
のを示す図、Cはスクライブライン63の拡大図であ
る。
エハ60がスクライブライン61に沿って切断されたも
のを示す図、Cはスクライブライン63の拡大図であ
る。
2・・・・・メモリセルアレー
6・・・・・行デコーダ
8・・・・・列デコーダ
21、22、23、24・・・・・オア回路
31、33、35、37・・・・・オア回路
Claims (8)
- 【請求項1】マトリックス状に配置された多数の半導体
素子から構成される半導体素子部を有しており、特定の
半導体素子を選択して電気的処理を施す半導体装置にお
いて、 通常動作時に半導体素子部に対して選択信号を与えるこ
とにより、特定の半導体素子を選択するデコーダであっ
て、検査時に全部の半導体素子を選択するための全選択
用の第1のラインを含むデコーダと、 通常動作時にデコーダにより選択された半導体素子にデ
ータの書き込み・読み出しを行う信号を、当該半導体素
子に与えるための第2のラインと、 を備えており、 デコーダは、切り換え信号が与えられると、前記全選択
用の第1のラインによって半導体素子部に対して検査用
の選択信号を与え、選択された半導体素子を所定の導通
状態として検査用素子群を形成し、 前記第2のラインを用いて、検査用素子群に対し、検査
のためにデータの書き換えを行い、その後にデータの書
き込み・読み出しを行う、 ことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】請求項1の半導体装置において、 制御指令を受けて、前記デコーダに対してアドレス信号
を与えるアドレスデコーダを備え、 アドレスデコーダは、前記全選択用の第1のラインに、
切り換え信号を出力する、 ことを特徴とするもの。 - 【請求項3】マトリックス状に配置された多数の半導体
素子から構成される半導体素子部を有しており、特定の
半導体素子を選択して電気的処理を施す半導体装置にお
いて、 通常動作時に半導体素子部に対して選択信号を与え、特
定の半導体素子を選択する行デコーダであって、検査時
に全行の半導体素子を選択するための全行選択用のライ
ンを含む行デコーダと、 通常動作時に半導体素子部に対して選択信号を与え、特
定の半導体素子を選択する列デコーダであって、検査時
に全列の半導体素子を選択するための全列選択用のライ
ンを含む列デコーダと、 通常動作時に行デコーダおよび列デコーダにより選択さ
れた半導体素子にデータの書き込み・読み出しを行う信
号を、当該半導体素子に与えるための第2のラインと、 を備えており、 行デコーダは、与えられた切り換え信号に基づいて、全
行選択用のラインによって半導体素子部に対して検査用
の選択信号を与え、 列デコーダは、与えられた切り換え信号に基づいて、全
列選択用のラインによって半導体素子部に対して検査用
の選択信号を与え、 全部のデコーダ出力を所定の状態として検査用素子群を
形成し、 前記第2のラインを用いて、検査用素子群に対し、検査
のためにデータの書き換えを行い、その後にデータの書
き込み・読み出しを行う、 ことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項4】請求項3の半導体装置において、 制御指令を受けて、前記行デコーダおよび前記列デコー
ダに対してアドレス信号を与えるアドレスデコーダを備
え、 前記アドレスデコーダは、前記全行選択用のラインおよ
び全列選択用のラインに、切り換え信号を出力する、 ことを特徴とするもの。 - 【請求項5】請求項3または請求項4の半導体装置にお
いて、 前記行デコーダは、前記半導体素子部の各行の半導体素
子に接続するゲート回路であって、前記全行選択用のラ
インを共通の入力とするゲート回路を複数備え、 前記列デコーダは、前記半導体素子部の各列の半導体素
子に接続するゲート回路であって、前記全列選択用のラ
インを共通の入力とするゲート回路を複数備え、 前記全行選択用のラインおよび前記全列選択用のライン
に所定レベルの信号を与えることにより、全部のデコー
ダ出力を所定の状態として検査用素子群を形成する、 ことを特徴とするもの。 - 【請求項6】請求項1ないし請求項5のいずれかの半導
体装置において、 半導体素子は強誘電体を備えている、ことを特徴とする
半導体装置。 - 【請求項7】請求項1ないし請求項6のいずれかの半導
体装置において、 前記デコーダは、パッケージされた後、前記半導体素子
部に前記検査用の選択信号を与え、 前記検査用素子群に対し、検査のためにデータの書き換
えを行い、その後にデータの書き込み・読み出しを行
う、 ことを特徴とするもの。 - 【請求項8】多数の半導体素子を有しており、通常動作
時に特定の半導体素子を選択するデコーダ、および通常
動作時にデコーダにより選択された半導体素子にデータ
の書き込み・読み出しを行う信号を、当該半導体素子に
与えるためのラインを備えた半導体装置に対する検査方
法において、 検査時に前記デコーダに全部の半導体素子を選択させ、
全部の半導体素子を所定の状態として検査用素子群を形
成し、 半導体素子にデータの書き込み・読み出しを行う信号
を、当該半導体素子に与えるための前記ラインを用い
て、検査用素子群に対し、検査のためにデータの書き換
えを行い、その後にデータの書き込み・読み出しを行
う、 ことを特徴とする半導体装置の検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28365697A JP3447041B2 (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 半導体装置および半導体装置の検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28365697A JP3447041B2 (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 半導体装置および半導体装置の検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11120795A JPH11120795A (ja) | 1999-04-30 |
JP3447041B2 true JP3447041B2 (ja) | 2003-09-16 |
Family
ID=17668364
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28365697A Expired - Fee Related JP3447041B2 (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 半導体装置および半導体装置の検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3447041B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10102430A1 (de) * | 2001-01-19 | 2002-08-08 | Infineon Technologies Ag | Testschaltung zum Zykeln ferroelektrischer Speicherzellen eines integrierten ferroelektrischen Speicherbausteins |
JP2009176375A (ja) * | 2008-01-25 | 2009-08-06 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
CN114758713B (zh) * | 2022-06-14 | 2022-10-14 | 之江实验室 | 一种加速铁电存储器耐久性测试的电路和方法 |
-
1997
- 1997-10-16 JP JP28365697A patent/JP3447041B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11120795A (ja) | 1999-04-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |