JP3441241B2 - 改良されたリコ−タを有する光硬化造形装置および改良されたリコ−トプロセスを有する光硬化造形方法 - Google Patents
改良されたリコ−タを有する光硬化造形装置および改良されたリコ−トプロセスを有する光硬化造形方法Info
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- JP3441241B2 JP3441241B2 JP14484295A JP14484295A JP3441241B2 JP 3441241 B2 JP3441241 B2 JP 3441241B2 JP 14484295 A JP14484295 A JP 14484295A JP 14484295 A JP14484295 A JP 14484295A JP 3441241 B2 JP3441241 B2 JP 3441241B2
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C41/00—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
- B29C41/02—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of definite length, i.e. discrete articles
- B29C41/12—Spreading-out the material on a substrate, e.g. on the surface of a liquid
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- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光硬化造形装置に関し、
特に硬化層上面を未硬化の光硬化性液で被覆(コ−ト)
するために液面に沿って走行させるリコ−タに関する。
特に硬化層上面を未硬化の光硬化性液で被覆(コ−ト)
するために液面に沿って走行させるリコ−タに関する。
【0002】
【従来の技術】例えばCADシステムで設計された3次
元形状などのように、実存していない3次元形状を備え
た立体物を造形するために光硬化造形装置が開発されて
いる。この光硬化造形装置は、第1工程として、液面の
任意の位置に光を照射して一つの断面に相当する硬化層
を造形する。第2工程として、硬化層を沈降させる。そ
して、第3工程として、硬化層の上面を未硬化の光硬化
性液で被覆(コ−ト)する。この第1〜第3工程を1つ
のサイクルとし、多数回繰返すと、硬化層が積層されて
一体化された3次元物体が造形される。この技術は、特
開昭56−144478号公報や米国特許第2,77
5,758号明細書に記載されている。
元形状などのように、実存していない3次元形状を備え
た立体物を造形するために光硬化造形装置が開発されて
いる。この光硬化造形装置は、第1工程として、液面の
任意の位置に光を照射して一つの断面に相当する硬化層
を造形する。第2工程として、硬化層を沈降させる。そ
して、第3工程として、硬化層の上面を未硬化の光硬化
性液で被覆(コ−ト)する。この第1〜第3工程を1つ
のサイクルとし、多数回繰返すと、硬化層が積層されて
一体化された3次元物体が造形される。この技術は、特
開昭56−144478号公報や米国特許第2,77
5,758号明細書に記載されている。
【0003】このような光硬化造形装置において、硬化
層の一回あたりの沈降量が大きいと、硬化層を沈降させ
るだけで周囲から未硬化液が硬化層上に導入される。し
かしながら、1回あたりの沈降量が小さいと、未硬化液
の粘性ないしは表面張力によって硬化層を沈降させるだ
けでは硬化層上に未硬化液が導入されなくなる。あるい
は、硬化層上に未硬化液が導入されるのに長時間を要す
ることもある。そこで、第3工程を実現するために、あ
るいは第3工程を促進するために各種の提案がなされて
いる。米国特許第4,575,330号明細書には、硬
化層を一旦大きく沈降させることによって硬化層上に未
硬化液を導入し、ついで硬化層を上昇させることによっ
て未硬化液の厚みを減少させる技術が記載されている。
しかしながら、この技術によると、硬化層の下降・上昇
によって液面が波立ってしまい、液面が平静になるまで
に時間を要するため、リコ−ト時間を短縮化することが
難しい。
層の一回あたりの沈降量が大きいと、硬化層を沈降させ
るだけで周囲から未硬化液が硬化層上に導入される。し
かしながら、1回あたりの沈降量が小さいと、未硬化液
の粘性ないしは表面張力によって硬化層を沈降させるだ
けでは硬化層上に未硬化液が導入されなくなる。あるい
は、硬化層上に未硬化液が導入されるのに長時間を要す
ることもある。そこで、第3工程を実現するために、あ
るいは第3工程を促進するために各種の提案がなされて
いる。米国特許第4,575,330号明細書には、硬
化層を一旦大きく沈降させることによって硬化層上に未
硬化液を導入し、ついで硬化層を上昇させることによっ
て未硬化液の厚みを減少させる技術が記載されている。
しかしながら、この技術によると、硬化層の下降・上昇
によって液面が波立ってしまい、液面が平静になるまで
に時間を要するため、リコ−ト時間を短縮化することが
難しい。
【0004】このような問題点を解決するために、硬化
層を沈降させた後、硬化層上をリコ−タを走行させるこ
とによってリコ−タの全面で未硬化液を押し出し、これ
によって未硬化液を硬化層上に導入する技術が開発され
ている。リコ−タを用いた光硬化造形装置の一実施例の
全体構成図を図4に示す。図4において、10は液槽で
あり、光照射を受けると硬化する性質を有する光硬化性
液12が満たされている。この液槽10には、上縁から
オ−バ−フロ−する光硬化性液を回収し、回収液を再度
液槽10に戻す図示しない循環装置が布設されており、
液位が常時上縁に一致するレベルに保たれる。液槽10
の近傍には、光硬化性液12を硬化させる波長のレ−ザ
光を射出するレ−ザ発振器2が配置されている。レ−ザ
発振器2から射出されたレ−ザ光は、液槽10上に配置
されているガルバノミラ−3に入射される。ガルバノミ
ラ−3は、ミラ−角度を変えることによってレ−ザ光を
液面の任意の位置に指向させることができる。液層10
の中には、昇降装置4により液槽10の中を昇降可能な
昇降台11が液面と平行に配置されている。また、走行
装置5により液槽10の上縁(すなわち液面)に沿って
走行可能なリコ−タ14が配置されている。レ−ザ発振
器2、ガルバノミラ−3、駆動機構4および5は、コン
トロ−ラ1により制御される。なお、液位を一定に保つ
方法、あるいはレ−ザ光で照射する方法にはこの他種々
の方法がある。リコ−タとしては、特開昭61−114
818号公報に記載されているような平滑板を用いたも
のが知られている。これを図5に示す。また、特開平3
−246025号公報に記載されているようなブラシを
用いたものも知られている。これを図6に示す。いずれ
の場合も、リコ−タDの下面Aと硬化層上面Bとの間の
間隙に未硬化液が進入してゆく現象(吸入作用G)、リ
コ−タDの走行により未硬化液がリコ−タ下面Aとの間
の粘性抵抗によってひきずられる現象(ひきずり作用
F)によって未硬化液が硬化層上面に導入される。しか
しながら、この方式によると、十分な量の未硬化液を硬
化層上面に導入することが難しく、硬化層が大きく広が
っているとリコ−トされない部分、すなわちリコ−ト残
り面が発生する。これを防止しようとすると、平滑板あ
るいはブラシを何往復もさせなくてはならず、やはりリ
コ−トに時間を要してしまう。
層を沈降させた後、硬化層上をリコ−タを走行させるこ
とによってリコ−タの全面で未硬化液を押し出し、これ
によって未硬化液を硬化層上に導入する技術が開発され
ている。リコ−タを用いた光硬化造形装置の一実施例の
全体構成図を図4に示す。図4において、10は液槽で
あり、光照射を受けると硬化する性質を有する光硬化性
液12が満たされている。この液槽10には、上縁から
オ−バ−フロ−する光硬化性液を回収し、回収液を再度
液槽10に戻す図示しない循環装置が布設されており、
液位が常時上縁に一致するレベルに保たれる。液槽10
の近傍には、光硬化性液12を硬化させる波長のレ−ザ
光を射出するレ−ザ発振器2が配置されている。レ−ザ
発振器2から射出されたレ−ザ光は、液槽10上に配置
されているガルバノミラ−3に入射される。ガルバノミ
ラ−3は、ミラ−角度を変えることによってレ−ザ光を
液面の任意の位置に指向させることができる。液層10
の中には、昇降装置4により液槽10の中を昇降可能な
昇降台11が液面と平行に配置されている。また、走行
装置5により液槽10の上縁(すなわち液面)に沿って
走行可能なリコ−タ14が配置されている。レ−ザ発振
器2、ガルバノミラ−3、駆動機構4および5は、コン
トロ−ラ1により制御される。なお、液位を一定に保つ
方法、あるいはレ−ザ光で照射する方法にはこの他種々
の方法がある。リコ−タとしては、特開昭61−114
818号公報に記載されているような平滑板を用いたも
のが知られている。これを図5に示す。また、特開平3
−246025号公報に記載されているようなブラシを
用いたものも知られている。これを図6に示す。いずれ
の場合も、リコ−タDの下面Aと硬化層上面Bとの間の
間隙に未硬化液が進入してゆく現象(吸入作用G)、リ
コ−タDの走行により未硬化液がリコ−タ下面Aとの間
の粘性抵抗によってひきずられる現象(ひきずり作用
F)によって未硬化液が硬化層上面に導入される。しか
しながら、この方式によると、十分な量の未硬化液を硬
化層上面に導入することが難しく、硬化層が大きく広が
っているとリコ−トされない部分、すなわちリコ−ト残
り面が発生する。これを防止しようとすると、平滑板あ
るいはブラシを何往復もさせなくてはならず、やはりリ
コ−トに時間を要してしまう。
【0005】このような問題点を解決するために、リコ
−タDの下面に凹部を設ける技術が開発されている。こ
れを図7に示す。このようなリコ−タを用いると、リコ
−タの凹部に未硬化液が貯留されることになり、吸入作
用(G)とひきずり作用(F)の他、リコ−タ下面Aと
硬化層上面Bとの間の間隙に貯留された貯留分が減少す
る作用(J)によっても未硬化液が硬化層上面に導入さ
れるので、多量の未硬化液を硬化層上面Bに導入するこ
とができる。なお、図7において、リコ−タDの両外側
面D1、D2の下端を下に向かうほど外方に拡げている
のは、リコ−タDの外側面D、D2で発生する毛細管現
象に類似する吸引現象を抑制することによってリコ−タ
走行直後の液面に波が発生するのを効果的に抑制し、均
一の厚みでリコ−トできるようにするためである。
−タDの下面に凹部を設ける技術が開発されている。こ
れを図7に示す。このようなリコ−タを用いると、リコ
−タの凹部に未硬化液が貯留されることになり、吸入作
用(G)とひきずり作用(F)の他、リコ−タ下面Aと
硬化層上面Bとの間の間隙に貯留された貯留分が減少す
る作用(J)によっても未硬化液が硬化層上面に導入さ
れるので、多量の未硬化液を硬化層上面Bに導入するこ
とができる。なお、図7において、リコ−タDの両外側
面D1、D2の下端を下に向かうほど外方に拡げている
のは、リコ−タDの外側面D、D2で発生する毛細管現
象に類似する吸引現象を抑制することによってリコ−タ
走行直後の液面に波が発生するのを効果的に抑制し、均
一の厚みでリコ−トできるようにするためである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな下面に凹部を有するリコ−タを用いても、光硬化性
液の粘度が高くなるとリコ−タの凹部内の貯留分が減少
し、また、凹部内に未硬化液が補充されるのに時間を要
するため、リコ−トに要する時間が長くなる。そこで、
本発明は、リコ−タの凹部内への未硬化液の補充のため
の時間を短縮できるリコ−タを備えた光硬化造形装置を
提供することを目的とする。また、本発明は、リコ−タ
の凹部内への未硬化液の補充のための時間を短縮できる
リコ−ト工程を備えた光硬化造形方法を提供することを
目的とする。
うな下面に凹部を有するリコ−タを用いても、光硬化性
液の粘度が高くなるとリコ−タの凹部内の貯留分が減少
し、また、凹部内に未硬化液が補充されるのに時間を要
するため、リコ−トに要する時間が長くなる。そこで、
本発明は、リコ−タの凹部内への未硬化液の補充のため
の時間を短縮できるリコ−タを備えた光硬化造形装置を
提供することを目的とする。また、本発明は、リコ−タ
の凹部内への未硬化液の補充のための時間を短縮できる
リコ−ト工程を備えた光硬化造形方法を提供することを
目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、第1発明は、光硬化性液の液面の任意の位置に光を
照射する光照射手段と、光照射によって硬化した層を沈
降させる沈降手段と、沈降した硬化層上を走査して前記
硬化層上面を未硬化液で被覆するリコ−タとを備えた光
硬化造形装置において、前記リコ−タを、前記硬化層上
面と対向する下面に形成された凹部および前記凹部内に
設けられた可動部材とにより構成する。また、第2発明
は、光硬化性液の液面の任意の位置に光を照射して硬化
層を形成する第1工程と、前記硬化層を沈降させる第2
工程と、前記硬化層上をリコ−タにより走査して前記硬
化層の上面を未硬化液で被覆する第3工程を複数回繰り
返して3次元物体を造形する光硬化造形方法において、
前記第3工程に、さらに、前記リコ−タの前記硬化層上
面に対抗する下面に形成された凹部内の可動部材を下降
させて前記可動部材に前記未硬化液を付着させる工程
と、前記未硬化液が付着された可動部材を上昇させる工
程とを設ける。
に、第1発明は、光硬化性液の液面の任意の位置に光を
照射する光照射手段と、光照射によって硬化した層を沈
降させる沈降手段と、沈降した硬化層上を走査して前記
硬化層上面を未硬化液で被覆するリコ−タとを備えた光
硬化造形装置において、前記リコ−タを、前記硬化層上
面と対向する下面に形成された凹部および前記凹部内に
設けられた可動部材とにより構成する。また、第2発明
は、光硬化性液の液面の任意の位置に光を照射して硬化
層を形成する第1工程と、前記硬化層を沈降させる第2
工程と、前記硬化層上をリコ−タにより走査して前記硬
化層の上面を未硬化液で被覆する第3工程を複数回繰り
返して3次元物体を造形する光硬化造形方法において、
前記第3工程に、さらに、前記リコ−タの前記硬化層上
面に対抗する下面に形成された凹部内の可動部材を下降
させて前記可動部材に前記未硬化液を付着させる工程
と、前記未硬化液が付着された可動部材を上昇させる工
程とを設ける。
【0008】
【作用】リコ−タによって硬化層上面を走査した後、リ
コ−タの凹部内の可動部材を下降させて可動部材を未硬
化液に付着させる。次いで、可動プレ−トを上昇させる
と、可動プレ−トに未硬化液が追随するためリコ−タの
凹部内に未硬化液が補充される。これにより、粘性の高
い光硬化性液であってもリコ−タの凹部内への未硬化液
の補充を短時間に行うことができる。
コ−タの凹部内の可動部材を下降させて可動部材を未硬
化液に付着させる。次いで、可動プレ−トを上昇させる
と、可動プレ−トに未硬化液が追随するためリコ−タの
凹部内に未硬化液が補充される。これにより、粘性の高
い光硬化性液であってもリコ−タの凹部内への未硬化液
の補充を短時間に行うことができる。
【0009】
【実施例】以下に、図1、図2、図3を用いて本発明の
一実施例を説明する。図1、図2、図3において、40
はリコ−タの走行方向両端に配置されたブレ−ドであ
り、保持部42にインロ−により取り付けられている。
保持部42には、可動プレ−ト43が取り付けられた可
動部41がブッシュ45により上下動可能に支持されて
いる。可動部41にはスプリング46の弾性力等によっ
て上方向への力が働き、可動プレ−ト43はブレ−ド4
0と可動プレ−ト43により形成される凹部の上部側に
位置している。また、可動部41には電磁ソレノイド4
7等が設けられており、電磁ソレノイド47が付勢され
ると可動部41にスプリング46の弾性力による上方向
への力に打ち勝つ下方向への力が働き、可動プレ−ト4
3は下降する。電磁ソレノイド47の付勢が解除される
と、可動プレ−ト43は再び上昇する。また、可動プレ
−ト43の底部には、可動プレ−ト43を上昇させる際
に凹部内に溜まっている空気をブレ−ド40と可動プレ
−ト43との間の間隙に移動させ易くするためのテ−パ
44が設けられている。ブレ−ド40に設けられた空気
排出孔48は、凹部内の空気を排出するためのものであ
る。なお、ブレ−ド40と液面間の距離は光硬化性液毎
に異なるので、ブレ−ド40と液面間の距離を微調整で
きる装置を設けるとよい。また、空気排出孔48は、ブ
レ−ド40に数箇所設けてもよく、あるいは、凹部内の
空気を排出できる場所であればブレ−ド40以外の場所
に設けてもよい。また、可動部41を上昇、下降させる
機構としては、スプリングおよび電磁ソレノイド以外に
も種々可能である。
一実施例を説明する。図1、図2、図3において、40
はリコ−タの走行方向両端に配置されたブレ−ドであ
り、保持部42にインロ−により取り付けられている。
保持部42には、可動プレ−ト43が取り付けられた可
動部41がブッシュ45により上下動可能に支持されて
いる。可動部41にはスプリング46の弾性力等によっ
て上方向への力が働き、可動プレ−ト43はブレ−ド4
0と可動プレ−ト43により形成される凹部の上部側に
位置している。また、可動部41には電磁ソレノイド4
7等が設けられており、電磁ソレノイド47が付勢され
ると可動部41にスプリング46の弾性力による上方向
への力に打ち勝つ下方向への力が働き、可動プレ−ト4
3は下降する。電磁ソレノイド47の付勢が解除される
と、可動プレ−ト43は再び上昇する。また、可動プレ
−ト43の底部には、可動プレ−ト43を上昇させる際
に凹部内に溜まっている空気をブレ−ド40と可動プレ
−ト43との間の間隙に移動させ易くするためのテ−パ
44が設けられている。ブレ−ド40に設けられた空気
排出孔48は、凹部内の空気を排出するためのものであ
る。なお、ブレ−ド40と液面間の距離は光硬化性液毎
に異なるので、ブレ−ド40と液面間の距離を微調整で
きる装置を設けるとよい。また、空気排出孔48は、ブ
レ−ド40に数箇所設けてもよく、あるいは、凹部内の
空気を排出できる場所であればブレ−ド40以外の場所
に設けてもよい。また、可動部41を上昇、下降させる
機構としては、スプリングおよび電磁ソレノイド以外に
も種々可能である。
【0010】次に、本発明の一実施例の動作を説明す
る。光硬化性液にレ−ザ光を照射して光硬化性液を硬化
させ、その後、硬化層を沈降させるとともに、硬化層上
面をリコ−タを走査して硬化層上面に未硬化液を導入す
る工程は従来と同じであるので省略する。硬化層上面を
リコ−タを走査した後、電磁ソレノイド47を付勢して
可動部41を下降させ、可動プレ−ト43を未硬化液に
付着させる(図2を参照)。次いで、電磁ソレノイド4
7の付勢を解除して可動部41、すなわち可動プレ−ト
43を上昇させる。これにより、可動プレ−ト43に追
随して未硬化液が上昇するので、未効果液が凹部内に補
充される(図3を参照)。このとき、ブレ−ド40、可
動部41、ブレ−ド42および可動プレ−ト43により
形成される空間内の空気は可動プレ−ト43の上昇によ
り空気排出孔48を介して外部に排出される。また、凹
部内の空気は可動プレ−ト43のテ−パ44に沿って可
動プレ−ト43とブレ−ド40との間の間隙に移動し、
可動プレ−ト43とブレ−ド40との間の間隙から空気
排出孔48を介して外部に排出される。これにより、空
気が残留することがなくなり、リコ−タの凹部内への未
硬化液の補充が不十分となるのを防止することができ
る。
る。光硬化性液にレ−ザ光を照射して光硬化性液を硬化
させ、その後、硬化層を沈降させるとともに、硬化層上
面をリコ−タを走査して硬化層上面に未硬化液を導入す
る工程は従来と同じであるので省略する。硬化層上面を
リコ−タを走査した後、電磁ソレノイド47を付勢して
可動部41を下降させ、可動プレ−ト43を未硬化液に
付着させる(図2を参照)。次いで、電磁ソレノイド4
7の付勢を解除して可動部41、すなわち可動プレ−ト
43を上昇させる。これにより、可動プレ−ト43に追
随して未硬化液が上昇するので、未効果液が凹部内に補
充される(図3を参照)。このとき、ブレ−ド40、可
動部41、ブレ−ド42および可動プレ−ト43により
形成される空間内の空気は可動プレ−ト43の上昇によ
り空気排出孔48を介して外部に排出される。また、凹
部内の空気は可動プレ−ト43のテ−パ44に沿って可
動プレ−ト43とブレ−ド40との間の間隙に移動し、
可動プレ−ト43とブレ−ド40との間の間隙から空気
排出孔48を介して外部に排出される。これにより、空
気が残留することがなくなり、リコ−タの凹部内への未
硬化液の補充が不十分となるのを防止することができ
る。
【0011】
【発明の効果】本発明は、以上のような構成としたの
で、粘度が高い光硬化性液を使用した場合でもリコ−タ
内部への未硬化液の補充のための時間を短縮することが
できる。また、リコ−タ内部の空気を外部へ排出する機
構を設けたので、リコ−タ内部への未硬化液の補充が不
十分になることはない。
で、粘度が高い光硬化性液を使用した場合でもリコ−タ
内部への未硬化液の補充のための時間を短縮することが
できる。また、リコ−タ内部の空気を外部へ排出する機
構を設けたので、リコ−タ内部への未硬化液の補充が不
十分になることはない。
【図1】本発明の一実施例のリコ−タの可動プレ−トが
引き上げられているときの図である。
引き上げられているときの図である。
【図2】本発明の一実施例のリコ−タの可動プレ−トが
引き下げられて未効果液と付着しているときの図であ
る。
引き下げられて未効果液と付着しているときの図であ
る。
【図3】本発明の一実施例のリコ−タの可動プレ−トに
未硬化液が追随して引き上げられているときの図であ
る。
未硬化液が追随して引き上げられているときの図であ
る。
【図4】リコ−タを用いた光硬化造形装置の一実施例の
全体構成図である。
全体構成図である。
【図5】平滑板を用いたリコ−タの従来例を示す図であ
る。
る。
【図6】ブラシを用いたリコ−タの従来例を示す図であ
る。
る。
【図7】下面に凹部を設けたリコ−タの従来例を示す図
である。
である。
1;コントロ−ラ
2;レ−ザ発振器
3;ガルバノミラ−
4;昇降装置
5;走行装置
10;液槽
11;昇降台
12;光硬化性液
13;硬化層
14;リコ−タ
40;ブレ−ド
41;可動部
42;保持部
43;可動プレ−ト
44;テ−パ
45;ブッシュ
46;スプリング
47;電磁ソレノイド
48;空気排出孔
Claims (2)
- 【請求項1】 光硬化性液の液面の任意の位置に光を照
射する光照射手段と、光照射によって硬化した層を沈降
させる沈降手段と、沈降した硬化層上を走査して前記硬
化層上面を未硬化液で被覆するリコ−タとを備えた光硬
化造形装置において、前記リコ−タは、前記硬化層上面
と対向する下面に形成された凹部および前記凹部内に設
けられた可動部材とを有することを特徴とする光硬化造
形装置。 - 【請求項2】 光硬化性液の液面の任意の位置に光を照
射して硬化層を形成する第1工程と、前記硬化層を沈降
させる第2工程と、前記硬化層上をリコ−タにより走査
して前記硬化層の上面を未硬化液で被覆する第3工程を
複数回繰り返して3次元物体を造形する光硬化造形方法
において、前記第3工程は、さらに、前記リコ−タの前
記硬化層上面と対抗する下面に形成された凹部内の可動
部材を下降させて前記可動部材に前記未硬化液を付着さ
せる工程と、前記未硬化液が付着された可動部材を上昇
させる工程とを含むことを特徴とする光硬化造形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14484295A JP3441241B2 (ja) | 1995-06-12 | 1995-06-12 | 改良されたリコ−タを有する光硬化造形装置および改良されたリコ−トプロセスを有する光硬化造形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14484295A JP3441241B2 (ja) | 1995-06-12 | 1995-06-12 | 改良されたリコ−タを有する光硬化造形装置および改良されたリコ−トプロセスを有する光硬化造形方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08336901A JPH08336901A (ja) | 1996-12-24 |
| JP3441241B2 true JP3441241B2 (ja) | 2003-08-25 |
Family
ID=15371704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14484295A Expired - Fee Related JP3441241B2 (ja) | 1995-06-12 | 1995-06-12 | 改良されたリコ−タを有する光硬化造形装置および改良されたリコ−トプロセスを有する光硬化造形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3441241B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006044194A (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-16 | Cmet Inc | 光造形装置と光造形方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4925945B2 (ja) * | 2007-07-02 | 2012-05-09 | シーメット株式会社 | 光学的立体造形装置および光学的立体造形方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993024303A1 (fr) | 1992-05-28 | 1993-12-09 | Cmet, Inc. | Appareil de moulage a photodurcissement avec procede de reenduction et methode de moulage a thermodurcissement ameliores |
-
1995
- 1995-06-12 JP JP14484295A patent/JP3441241B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| WO1993024303A1 (fr) | 1992-05-28 | 1993-12-09 | Cmet, Inc. | Appareil de moulage a photodurcissement avec procede de reenduction et methode de moulage a thermodurcissement ameliores |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006044194A (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-16 | Cmet Inc | 光造形装置と光造形方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08336901A (ja) | 1996-12-24 |
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