JP2006044194A - 光造形装置と光造形方法 - Google Patents

光造形装置と光造形方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006044194A
JP2006044194A JP2004232243A JP2004232243A JP2006044194A JP 2006044194 A JP2006044194 A JP 2006044194A JP 2004232243 A JP2004232243 A JP 2004232243A JP 2004232243 A JP2004232243 A JP 2004232243A JP 2006044194 A JP2006044194 A JP 2006044194A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recoater
liquid
photocurable liquid
photocurable
storing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004232243A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4474230B2 (ja
Inventor
Koichi Oba
好一 大場
Tatsuo Inubushi
龍夫 犬伏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CMET Inc
Original Assignee
CMET Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CMET Inc filed Critical CMET Inc
Priority to JP2004232243A priority Critical patent/JP4474230B2/ja
Publication of JP2006044194A publication Critical patent/JP2006044194A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4474230B2 publication Critical patent/JP4474230B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】 リコータで導入した液層の厚みが均一とならないという問題に効果的に対処できる技術を提供する。
【解決手段】 光造形装置10は、液槽12に貯留している光硬化性液14の液面14aに光を選択的に照射する手段16と、光の照射によって形成された硬化層を下降させる手段19と、リコータ18を備えている。リコータ18は、一対のブレードを備えており、その一対のブレード間に光硬化性液14を貯蔵可能であり、液面14aに沿って移動可能である。その他に、リコータ18に光硬化性液14を貯蔵している状態と貯蔵していない状態を切換える手段と、リコータ移動手段を備えている。リコータ移動手段は、光硬化性液14を貯蔵している状態でリコータ18を移動させ、次いで光硬化性液14を貯蔵しない状態でリコータ18を移動させる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、光造形装置と光造形方法に関する。詳しくは、リコータが硬化層の上に光硬化性液を導入したときに生じる液面の盛り上がり(過剰な厚みの液層)を除去する技術に関する。
光照射手段と下降手段とリコータを備えている光造形装置が知られている。光照射手段は、液槽に貯留している光硬化性液の液面に光を選択的に照射する。下降手段は、光の照射によって形成された硬化層を下降させる。リコータは、液面に沿って移動可能であり、移動することによって硬化層の上に光硬化性液を導入する。
光造形装置によると、光照射工程と下降工程とリコート工程が繰返し実行される。光照射工程では、液槽に貯留している光硬化性液の液面に光を選択的に照射する。この結果、照射範囲において硬化層が形成され、形成された硬化層は直下の硬化層に積層される。下降工程では、光の照射によって形成された硬化層を下降させる。リコート工程では、リコータを液面に沿って移動させることによって硬化層の上に光硬化性液を導入する。光造形方法では、光照射工程と下降工程とリコート工程を繰返すことによって、硬化層を積層して任意形状の物体を造形する。
広範囲に拡がる硬化層の上に液層を導入する場合、リコータが硬化層の上方を移動している間に、光硬化性液が枯渇してしまうことがある。それを防ぐために、一対のブレードを備えており、その間に光硬化性液を貯蔵可能なリコータが開発されている。その光造形装置が特許文献1に記載されている。
特許第3441241号公報
硬化層の上をリコータが移動して硬化層の上に液層を導入する場合、導入される液層の厚みは必ずしも一定にならない。例えば広範囲に拡がる硬化層の上に液層を導入する場合と、液状に残す範囲(通常は池と称される)を取囲む硬化層の上に液層を導入する場合を比較すると、前者の液層の厚みよりも後者の液層の厚みの方が厚くなりやすい。その原因は必ずしも明らかではないが、池の範囲をリコータが移動する場合には、リコータの下方が大きく開いていて液体が比較的に自由に流通できる状態にあるのに対し、硬化層の上をリコータが移動する場合には、リコータの下方に硬化層が存在しているために液体の流通が制約される状態にあるのが影響しているものと推測されている。その理由はともかく、現実に、リコータによって導入される液層の厚みは一定にならない。例えば水平に広がっている範囲の一部に液状に残る池を有する硬化層の上に液層を導入する場合、水平に一様に広がっている範囲の液層に比して、液状に残る池の範囲とその池を取囲む硬化層上の範囲では液層が盛り上がってしまう。その状態のままで光硬化性液に光を照射すると、池を取囲む範囲では硬化層が盛り上がってしまう。それを繰返していくと、池を取囲む範囲では造形形状が盛り上がることになり、造形物の高さ方向の形状精度が悪化する他、盛り上がった硬化層とリコータと干渉して造形不能となることもある。
上記の問題を解決するために、種々の工夫がなされている。一つの方法では、リコータの移動直後には池とその池を取囲む範囲で液層が盛り上がっていても、時間が経過すると液面が水平に復帰することから、それを待って光を照射し始める。他の一つの方法では、硬化層の上に液層を導入するリコータの移動速度を低速化する。原因は不明であるが、リコータの移動速度を低速化すると、リコータで導入された液が池とその池を取囲む範囲で盛り上がる現象を抑制することができる。
しかしながら、リコータの移動速度を低速化する方法や、光照射の開始タイミングをリコータの移動完了タイミングから遅延させる方法では、光造形に要する時間が長時間化してしまう。
本発明は、上記課題を解決するために創作されたものであり、リコータで導入した液層の厚みが均一とならないという問題に効果的に対処できる技術を創作した。
本発明で創作された光造形装置は、液槽に貯留している光硬化性液の液面に光を選択的に照射する手段と、光の照射によって形成された硬化層を下降させる手段と、リコータを備えている。リコータは、一対のブレードを備えており、その一対のブレード間に光硬化性液を貯蔵可能であり、液面に沿って移動可能である。その他に、リコータに光硬化性液を貯蔵している状態と貯蔵していない状態を切換える手段と、リコータ移動手段を備えている。リコータ移動手段は、光硬化性液を貯蔵している状態でリコータを移動させ、次いで光硬化性液を貯蔵しない状態でリコータを移動させる。
上記の光造形装置では、リコータ移動手段が光硬化性液を貯蔵している状態でリコータを移動させるので、硬化層の上に液層が導入される。ただしそれだけであると、リコータで導入された液層の厚みが均一とならないことがある。上記の光造形装置では、それに続けて、リコータ移動手段が光硬化性液を貯蔵していない状態でリコータを移動させるので、過剰な厚みの液が除去され、液層の厚みが均一化される。
この技術によると、光照射の開始タイミングをリコータの移動完了から遅延させる必要がない。また硬化層の上に液層を導入するためのリコータの移動速度を低速化する必要もない。この技術によると、硬化層の上方をリコータが少なくとも1往復することになる。それでも、リコータの移動速度を低速化することによって導入される液層の厚みを均一化する技術や、光照射の開始タイミングをリコータの移動完了から遅延させることによって厚みが均一化された液層に光照射する技術に比して、光造形に要する時間を短縮することができる。
リコータ移動手段は、硬化層の上に過剰な厚みの液層が導入される速度で、光硬化性液を貯蔵しているリコータを移動させることが好ましい。
本技術では、光硬化性液を貯蔵していない状態でリコータを移動させることによって液層の厚みを均一化することから、リコータで導入する段階では、液層の厚みを均一化する必要がない。均一化の制約を受けることなくリコータの移動速度を設定できることから、リコータの移動速度を極めて高速化することができる。その後に光硬化性液を貯蔵していない状態でリコータを移動させなければ硬化層の上に過剰な厚みの液層が導入される程の高速度でリコータを移動させることができるので、光造形を高速化することができる。
リコータ移動手段は、光硬化性液を貯蔵している状態よりも光硬化性液を貯蔵していない状態で、リコータを高速に移動させることが好ましい。
そのようにしても、光硬化性液の液面の盛り上がりを除去することができる。光造形をさらに高速化することができる。
光造形装置が、光硬化性液の液面の高さを調整する手段を備えており、その液面調整手段が、光硬化性液を貯蔵している状態でリコータが移動した後に液面の高さを変動させ、光硬化性液を貯蔵しない状態でリコータが移動した後に液面を元の高さに戻すことが好ましい。
光造形する物体の形状によっては、光硬化性液を貯蔵していない状態のリコータを移動させても、液面の盛り上がりを除去しきれないことがある。例えば、池を囲む壁の高さが低く、その外側に平面が広がっているような形状を造形する場合には、壁の上部に導入された過剰の厚みの液を除去しきれないことがある。
このような場合でも、例えば、液面を下げた状態で光硬化性液を貯蔵していないリコータが移動すると、過剰の厚みの液を効果的に除去することができる。液面の盛り上がりを除去してから液面を元に戻すことによって、光造形を正常に継続することができる。
液面調整手段の作動と不作動を選択する手段を備えていることが好ましい。
液面を下げなければ液面の盛り上がりを除去できないか、あるいは液面を下げなくても液面の盛り上がりを除去できるかに応じて、液面調整手段が作動したり作動しなかったりを選択できるようにしておくと、無駄な作業時間を要しない。
ここで、選択とは、手動選択と、自動選択の双方の意を含んでいる。
「光硬化性液を貯蔵している状態でリコータを移動させ、次いで光を照射する態様」と「光硬化性液を貯蔵している状態でリコータを移動させ、光硬化性液を貯蔵しない状態でリコータを移動させ、次いで光を照射する態様」を選択する手段を備えていることが好ましい。
層によっては、光硬化性液を貯蔵している状態でリコータを移動させるだけで適正な厚みの液層が導入され、その後に液面の盛り上がりを除去する必要がない場合がある。上記の態様の間で選択できるようにしておくと、無駄な作業時間を要しない。
ここで、選択手とは、手動選択と、自動選択の双方の意を含んでいる。
本発明で創作された光造形方法は、液槽に貯留している光硬化性液の液面に光を選択的に照射する工程と、光の照射によって形成された硬化層を下降させる工程と、一対のブレード間に光硬化性液を貯蔵しているリコータを液面に沿って移動させる工程と、一対のブレード間に光硬化性液を貯蔵していないリコータを液面に沿って移動させる工程を備えている。
上記工程を備える光造形方法によれば、光硬化性液を貯蔵していないリコータを液面に沿って移動させることによって、液面の盛り上がりを除去することができる。光照射の開始タイミングをリコータの移動完了から遅延させる必要がない。また硬化層の上に液層を導入するためのリコータの移動速度を低速化する必要もない。光造形に要する時間を短縮することができる。
同一層において、光硬化性液を貯蔵しているリコータを少なくとも1回移動させ、光硬化性液を貯蔵していないリコータを少なくとも1回移動させることが好ましい。
リコータを1回移動させるだけでは硬化層の上に液層を導入しきれない場合には、光硬化性液を貯蔵しているリコータを2回以上移動させることが有用である。
リコータを1回移動させるだけでは液面の盛り上がりを除去しきれない場合には、光硬化性液を貯蔵していないリコータを2回以上移動させることが有用である。
層によっては、光硬化性液を貯蔵している状態でリコータを移動させるだけで適正な厚みの液層が導入され、その後に液面の盛り上がりを除去する必要がない場合がある。そのような層では、光硬化性液を貯蔵していないリコータを移動させる工程を実行する必要がない。
本発明の方法は、全層において実行されるとは限られない。一部の層のみで、光硬化性液を貯蔵しているリコータを移動させる工程と、光硬化性液を貯蔵していないリコータを移動させる工程が実行されることがある。
後述する実施例の主要な特徴を記載する。
(1)光造形装置のリコータは、サポート、第1ブレード、第2ブレード、ボードを備えている。サポートは、第1ブレードと第2ブレードを平行に維持し、かつ短手方向が垂直方向を向くように支持する。ボードは、サポートに装着された状態でブレード間に配置され、昇降機構に駆動されて昇降する。リコータは、ボードが下方位置に配置されると、表面張力によってブレード間に光硬化性液に貯蔵する。ボードが上方位置に配置された状態では、ブレード間に光硬化性液を貯蔵しない。
(2)光造形によって形成するモデルは、硬化層が硬化される毎に下降する。下降したモデルの上面は、光硬化性液の液面よりも下方に配置される。リコータは、ブレード間に光硬化性液を貯蔵した状態で、モデルの上方を水平方向に移動することによって、モデルの上面を光硬化性液で被覆する。さらにリコータは、ブレード間に光硬化性液を貯蔵しない状態でモデルの上方を移動して、光硬化性液の液面が盛り上がった部分を除去する。
(3)モデルの形状によっては、ブレード間に光硬化性液を貯蔵しない状態のリコータが光硬化性液で被覆されているモデルの上方を移動しても、液面の盛り上がった部分を除去できないことがある。この場合には、ブレード間に光硬化性液を貯蔵したリコータがモデルの上方を移動してから、光硬化性液の液面を一旦低くする。光硬化性液の液面を低くしてから、ブレード間に光硬化性液を貯蔵していない状態のリコータがモデルの上方を移動する。すると、光硬化性液の液面を低くしなかった場合には除去できなかった液面の盛り上がった部分を除去することができる。その後に液面を元に戻す。
(4)層によって、液面の上下調整を実施したり、実施しなかったりする。その選択は、予め選択しておく。
(5)層によって、ブレード間に光硬化性液を貯蔵していない状態のリコータがモデルの上方を移動する工程を実施したり、実施しなかったりする。その選択は、予め選択しておく。
本発明の光造形装置に係る一実施例について、図面を参照しながら説明する。
図1に示すように、光造形装置10は、液槽12、レーザ発振器16、ガルバノミラー15、テーブル19、リコータ18、液面調整体20を備えている。液槽12には、光硬化性液14が貯留されている。ガルバノミラー15は、液槽12の上方に配置されており、レーザ発振器16から照射されたレーザ光を硬化性液14に向けて反射する。ガルバノミラー15がレーザ光の照射方向を変化させると、硬化性液14の液面14aが選択的に走査され、造形するモデル17の一層分の硬化層が形成される。硬化層が形成されてから、テーブル19は硬化層の一層厚さ分だけ下降する。
光造形装置19が形成する硬化層の一層分の厚さが小さい場合、すなわち、テーブル19の一回毎の下降量が小さい場合には、光硬化性液14の表面張力によって、モデル17の上面に光硬化性液14が流れ込みにくくなる。リコータ18は、このような場合であっても、モデル17の上面を光硬化性液14で確実に被覆するために設けられている。リコータ18はレール2に沿って移動可能であり、レール2に沿って移動するとリコータ18の下端が液面14aに沿って移動する。造形時には、テーブル19が下降することによって硬化層が液面から沈められた後に、リコータ18がモデル17の上方を水平方向に移動する。すると、リコータ18によって光硬化性液14の液面14aが掃引され、モデル17の上面が光硬化性液14によって被覆される。
液面調整体20は、部分的に光硬化性液14に浸けられている。液面調整体20が上昇すると、光硬化性液14の液面14aは低くなる。液面調整体20が下降すると、光硬化性液14の液面14aは高くなる。
図2に示すように、リコータ18は、サポート21、第1ブレード22、第2ブレード23、ボード24、走行装置6、昇降装置4を有している。図3に良く示すように、サポート21は、連結部材25を介して第1ブレード22を支持している。また、サポート21は、連結部材26を介して第2ブレード23を支持している。第1ブレード22の下端部には、外方を向く切刃22aが形成されている。第2ブレード23の下端部にも、外方を向く切刃23aが形成されている。ボード24は、サポート21に装着されており、昇降装置4によって、図3に示す下方位置と、図4に示す上方位置と、図3に示す下方位置よりもさらに低い吸着位置のいずれかに切換えられる。
図21は、昇降装置4の構成を具体的に図示している。昇降装置4は、昇降機構50と、昇降制御回路51を備えている。昇降機構50は、本体52、第1ステップモータ53、第2ステップモータ54、ボード24を有している。第1ステップモータ53と第2ステップモータ54は、本体52の下面に装着されている。第1ステップモータ53の回転軸であるボールネジ55は、その軸が垂直方向を向いている。同様に、第2ステップモータ54のボールネジ56の軸も垂直方向を向いている。ボード24の上面には、第1フィッティング57と第2フィッティング58が設けられている。フィッティング57、58には、その上面に開口するネジ孔が形成されている。そして、第1ステップモータ53のボールネジ55は、第1フィッティング57のネジ孔に螺合している。第2ステップモータ54のボールネジ56も、第2フィッティング58のネジ孔に螺合している。ボールネジ55、56がフィッティング57、58に螺合している状態で、ボード24は水平に配置される。
昇降制御回路51は、パルス発生器60、第1モータドライバ61、第2モータドライバ62有している。パルス発生器60には、コントローラ8からの制御信号が入力される。パルス発生器60は、第1モータドライバ61を介して第1ステップモータ53に接続されている。また、パルス発生器60は、第2モータドライバ62を介して第2ステップモータ54にも接続されている。パルス発生器60は、コントローラ8からの制御信号に従って、ステップモータ53、54のボールネジ55、56の回転方向と回転数を制御する。ボールネジ55、56の回転方向が切り換えられることによって、ボード24は上昇したり下降したりする。第1ステップモータ53と第2ステップモータ54の回転は、同期をとって行われる。このため、ボード24は、水平な姿勢を維持しながら昇降する。このような構成によれば、ガイドポストを設けることなく、ボード24を水平姿勢に維持したまま昇降することができる。
走行装置6は、リコータ18をレール2に沿って走行させる。
図5に示すように、リコータ18は、レール2に沿って走行すると、ブレード22、23の下端面が光硬化性液14の液面14aに接して走行する高さに調整されている。
昇降装置4がボード24を吸着位置に下降させると、ボード24の下面は液面14aよりも低くなり、光硬化性液14の中に浸入する。この状態から、昇降装置4がボード24を下方位置にまで引上げると、光硬化性液14がボード24の下面に吸着して持ち上がられ、第1ブレード22とボード24と第2ブレード23に囲まれた空間に光硬化性液14が吸入される(吸い上げられる)。この状態を、リコータ18に光硬化性液14が貯蔵されているという。図5は、リコータ18に光硬化性液14が貯蔵されている状態を示す。昇降装置4がボード24を上方位置にまで引上げると、光硬化性液14をボード24の下面に吸着できなくなり、第1ブレード22とボード24と第2ブレード23に囲まれた空間から光硬化性液14が流出する。この状態を、リコータ18に光硬化性液14が貯蔵されていないという。図12は、リコータ18に光硬化性液14が貯蔵されていない状態を示す。ボード24を上方位置に上昇させると、リコータ18は、光硬化性液14が貯蔵されていない状態に切換えられる。ボード24を吸着位置に沈めてから下方位置にまで上昇させると、リコータ18に光硬化性液14が貯蔵されている状態に切換えられる。
図5は、テーブル19が下降することによって、造形途中のモデル30の上面30aが光硬化性液14の液面14aの下方に配置された状態を図示している。この状態では、光硬化性液14は、その表面張力によって、モデル30の上面30aの周縁から内側に入り込むことができない。従って、モデル30の上面30aは、光硬化性液14で被覆(コート)されていない。
モデル30の上面30aに光硬化性液14を導入する場合は、図6に示すように、昇降装置4がボード24を下方位置におき、リコータ18に光硬化性液14が貯蔵されている状態に切換え、走行装置6によってリコータ18をレール2に沿って移動させる。リコータ18に光硬化性液14が貯蔵されている状態でモデル30の上方を移動すると、リコータ18は、モデル30の上面30aを光硬化性液14で被覆していく。そして、図7に示すように、リコータ18がモデル30の上方を通り過ぎると、モデル30の上面30aは光硬化性液14によって完全に被覆される。
図2に示すように、光造形装置10には、レーザ発振器16、ガルバノミラー15、テーブル19、液面調整体20、リコータ18の走行装置6、リコータ18の昇降装置4の動作を制御するコントローラ8が設けられている。
図8に示すような、凹部(池)32を有するモデル31を光造形する場合について説明する。テーブル19(図示省略)が下降すると、図9に示すように、造形途中のモデル31の上面33は、光硬化性液14の液面14aの下方に配置される。このときには、モデル31の上面33は、光硬化性液14によって被覆されていない。
リコータ18の昇降装置4によってリコータ18に光硬化性液14が貯蔵されている状態に切換え、走行装置6によってリコータ18をモデル31の上方を移動させて光硬化性液14の液面14aを掃引すると、図10に示すように、モデル31の上面33が光硬化性液14によって被覆される。モデル31のように、周りが囲まれた凹部(中海または池と通称される)32を有する形状の場合、凹部32の上方の液面14aが盛り上がる現象が生じる(以下、盛り上がった部分を「盛り上り部36」と言う)。盛り上り部36の高さは、モデル31の上方を移動するリコータ18の速度が早いほど大きくなる。盛り上り部36の高さは、モデル31の上面33が被覆されてから時間が経過すると次第に低くなる。よって、リコータ18の速度を遅くしたり、被覆されてから時間が経過するのを待ったりすれば、盛り上り部36の高さを低くすることができる。しかし、それではモデル31を光造形する時間がかかりすぎてしまう。
光硬化性液14の液面14aが盛り上がった状態のままで、レーザ発振器16からレーザ光を照射すると、盛り上がった部分もそのまま硬化してしまう。従って、モデル31を精度良く造形することができなくなってしまう。また、液面14aに盛り上り部36が形成されたまま硬化層を造形することを繰り返すと、硬化した盛り上り部36(以下、「盛り上り硬化部34」と言う)が積層されて次第に高くなる。すると、図11に示すように、リコータ18のブレード22、23の下端よりも、盛り上り硬化部34の方が高くなる。この状態でリコータ18がモデル31の上方を移動すると、リコータ18のブレード22、23と盛り上り硬化部位34が干渉してしまう。
上述したように、リコータ18のボード24は、上方位置と下方位置の間で切換え可能である。ボード24の上方位置では、ボード24の下面に光硬化性液が吸着しない高さに設定されている。図12は、リコータ18が光硬化性液14を吸着していない状態を図示している。
図13に示すように、光硬化性液14を貯蔵していない状態のリコータ18が、モデル31の上面を被覆している光硬化性液14の液面14aを掃引すると、光硬化性液14の盛り上り部36が第1ブレード22によって除去される。図13では、リコータ18が右から左に向かって掃引しているが、もちろん、左から右に向かって掃引し、光硬化性液14の盛り上り部36を第2ブレード23で除去することもできる。図14は、リコータ18によって光硬化性液14の盛り上り部36が完全に除去され、モデル31の上方の液面14aがフラットになった状態を図示している。
このように、光硬化性液14を貯蔵していない状態のリコータ18で掃引することによって、モデル31の凹部32の上方に形成された光硬化性液14の盛り上り部36を除去することができる。
本実施例では、テーブル19が下降し、モデル31の上面33が液面14aの下方に配置された状態(図9参照)では、昇降装置4がボード24を下方位置におき、リコータ18に光硬化性液14が貯蔵されている状態に切換え、走行装置6によってリコータ18を移動させる。これによってモデル31の上面33に光硬化性液14を導入する(図10参照)。導入のための掃引が終わると、昇降装置4がボード24を上方位置に上昇させ、リコータ18に光硬化性液14が貯蔵されていない状態に切換える(図12参照)。この状態で、走行装置6によってリコータ18を逆方向に移動させる(図13参照)。この結果、光硬化性液14の導入時に盛り上り部36が形成されていても、その盛り上り部36を除去することができる。
本実施例では、その後に光硬化性液を貯蔵していない状態でリコータ18を移動させなければモデル31の上面33に過剰な厚みの液層が導入されて盛り上り部36が形成される高速度で、光硬化性液を貯蔵しているリコータ18を移動させてモデル31の上面33に光硬化性液14を導入する。
その後に、リコータ18を光硬化性液を貯蔵していない状態に切換えて、モデル31の上面33を再度掃引する。このときにはさらに高速度でリコータ18を移動させる。盛り上り部36を除去するための掃引は高速度で行うことができる。本実施例では、光硬化性液を貯蔵している状態よりも光硬化性液を貯蔵していない状態で、リコータ18を高速に移動させる。
本実施例では、昇降装置4とコントローラ8によって、リコータ18に光硬化性液14を貯蔵している状態と貯蔵していない状態を切換える手段が構成されている。また、昇降装置4と走行装置6とコントローラ8によって、光硬化性液14を貯蔵している状態でリコータ18を移動させ、次いで光硬化性液14を貯蔵していない状態でリコータ18を移動させる手段が構成されている。
本実施例のように、光硬化性液14の表面張力を利用して第1ブレード22と第2ブレード23との間に光硬化性液14を貯蔵するのではなく、ブレード間にサクション(負圧)を加えて、ブレード間に光硬化性液を貯蔵する技術も知られている。この技術でも、ブレード間に加えるサクションを中断し、ブレード間に光硬化性液を吸引しない状態とし、その状態のリコータで光硬化性液の液面を掃引することによって、光硬化性液の盛り上り部を除去することができる。
図15に示す形状のモデル40を光造形する場合について説明する。モデル40は、本体部41と、本体部41から張出した張出部42を有している。本体部41には、凹部43が形成されている。このような形状のモデル40でも、既に説明したモデル31と同様に、リコータ18で液面14aを掃引すると、凹部43の上方に光硬化性液14の盛り上り部が形成される。
モデル40のような形状では、図16に示すように、リコータ18が光硬化性液14を貯蔵していない状態で、リコータ18が右から左に向かって液面14aを掃引しても、盛り上り部46が除去されない。これは、張出部42の上面45の液面14aからの深さHが浅いためであると推定できる。
そこで、このような場合には、モデル40の上面44を光硬化性液14で被覆してから、図17に示すように、光硬化性液14の液面14aを低下させる。液面14aの低下は、液面調整体20を上昇させることによって行う。次に、光硬化性液14を貯蔵していない状態のリコータ18で、光硬化性液14の盛り上り部46を掃引する。液面14aを低下させたので、図18に示すように、光硬化性液14の盛り上り部46は除去される。最後に、図19に示すように、光硬化性液14の液面14aを元の液位まで戻すと、モデル40の上方にフラットな液面14aが形成される。
光造形による硬化層の積層が進んでゆき、図20に示すように、モデル40の本体部41が高くなった場合には、張出部42の影響がなくなり、光硬化性液14を貯蔵していない状態のリコータ18で盛り上り部46を除去することが可能になる。従って、光硬化性液14の盛り上り部46を除去する際の張出部42の影響がなくなった以降は、液面14aを低下させる処置は中止する。液面14aの低下を中止するタイミングは、モデルの形状によって設定する。
モデル40の上面44を光硬化性液14で被覆してから、光硬化性液14の液面を上昇させ、その後にリコータ18がモデル40の上方を移動してもよい。そして、光硬化性液14の液位を元に戻す。このようにしても、盛り上り部46を除去することができる。
層によっては、ブレード間に光硬化性液を貯蔵している状態のリコータがモデルの上方を移動するだけで適切な厚みの液層が導入され、その後に、ブレード間に光硬化性液を貯蔵していない状態に切換えてリコータでモデルの上方を再度移動させる必要がないこともある。このような層については、ブレード間に光硬化性液を貯蔵していない状態でモデルの上方を移動する工程を省略することができる。本発明は、一部の層にのみ選択的に適用することもでき、選択的に適用することが有用な場合もある。
ブレード間に光硬化性液を貯蔵している状態のリコータがモデルの上方を移動する回数は1回に限られない。複数回に亘ってリコータがモデルの上方を移動することがある。
ブレード間に光硬化性液を貯蔵していない状態のリコータがモデルの上方を移動する回数も1回に限られない。複数回に亘ってリコータがモデルの上方を移動することがある。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時の請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
リコータ18を、その長手方向が移動方向に対して垂直な状態で移動させるのではなく、長手方向が移動方向に対して傾斜した状態で移動させることもできる。長手方向が移動方向に対して傾斜した状態でリコータ18を移動させると、除去した光硬化性液14がリコータ18の端部に向けて流れやすくなる。このため、光硬化性液14を効率的に除去することが可能になる。リコータ18の平面視形状を、V字状とすることもできる。このようにすると、ラッセル車が雪を除去するようにして、光硬化性液14を効率的に除去できる。
光造形装置の模式的断面図。 リコータの斜視図。 図2のII−II線矢視図(ボード下方位置)。 図2のII−II線矢視図(ボード上方位置)。 リコータがモデル上を移動する前の断面図。 リコータがモデル上を移動中の断面図。 リコータがモデル上を通過した後の断面図。 モデルの斜視図。 リコータがモデル上を移動する前の断面図。 リコータがモデル上を通過した後の断面図。 モデル上面が盛り上がった状態の断面図。 リコータが光硬化性液を貯蔵していない状態の断面図。 リコータが盛り上り部を除去している状態の断面図。 リコータが盛り上り部を除去した後の断面図。 モデルの斜視図。 リコータがモデル上を通過した後の断面図。 液面を低下した状態の断面図。 リコータが盛り上り部を除去した後の断面図。 液面を元に戻した状態の断面図。 光造形が進捗したモデルの断面図。 昇降装置の構成図。
符号の説明
2:レール
4:昇降装置
6:走行装置
8:コントローラ
10:光造形装置
12:液槽
14:光硬化性液、14a
15:ガルバノミラー
16:レーザ発振器
17:モデル
18:リコータ
19:テーブル
20:液面調整体
21:サポート
22:第1ブレード、22a:切刃
23:第2ブレード、23a:切刃
24:ボード
25、26:連結部材
30:モデル、30a:上面
31:モデル
32:凹部
33:上面
34:盛り上り硬化部
36:盛り上がり部
40:モデル
41:本体部
42:張出部
43:凹部
44、45:上面
46:盛り上り部
50:昇降機構
51:昇降制御回路
52:本体
53:第1ステップモータ
54:第2ステップモータ
55、56:ボールネジ
57:第1フィッティング
58:第2フィッティング
60:パルス発生器
61:第1モータドライバ
62:第2モータドライバ

Claims (9)

  1. 液槽に貯留している光硬化性液の液面に光を選択的に照射する手段、
    光の照射によって形成された硬化層を下降させる手段、
    一対のブレードを備え、その間に光硬化性液を貯蔵可能であり、液面に沿って移動可能なリコータ、
    リコータに光硬化性液を貯蔵している状態と貯蔵していない状態を切換える手段、
    光硬化性液を貯蔵している状態でリコータを移動させ、次いで光硬化性液を貯蔵しない状態でリコータを移動させる手段、
    を備えている光造形装置。
  2. リコータ移動手段は、硬化層の上に過剰な厚みの液層が導入される速度で、光硬化性液を貯蔵しているリコータを移動させることを特徴とする請求項1の光造形装置。
  3. リコータ移動手段は、光硬化性液を貯蔵している状態よりも光硬化性液を貯蔵していない状態で、リコータを高速に移動させることを特徴とする請求項1又は2の光造形装置。
  4. 光硬化性液の液面の高さを調整する手段をさらに備えており、
    液面調整手段は、光硬化性液を貯蔵している状態でリコータが移動した後に液面の高さを変動させ、光硬化性液を貯蔵しない状態でリコータが移動した後に液面を元の高さに戻すことを特徴とする請求項1〜3のいずれかの光造形装置。
  5. 液面調整手段の作動と不作動を選択する手段を備えていることを特徴とする請求項4の光造形装置。
  6. 「光硬化性液を貯蔵している状態でリコータを移動させ、次いで光を照射する態様」と「光硬化性液を貯蔵している状態でリコータを移動させ、光硬化性液を貯蔵しない状態でリコータを移動させ、次いで光を照射する態様」を選択する手段を備えていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかの光造形装置。
  7. 液槽に貯留している光硬化性液の液面に光を選択的に照射する工程、
    光の照射によって形成された硬化層を下降させる工程、
    一対のブレード間に光硬化性液を貯蔵しているリコータを液面に沿って移動させる工程、
    一対のブレード間に光硬化性液を貯蔵していないリコータを液面に沿って移動させる工程、
    を備えている光造形方法。
  8. 同一層において、光硬化性液を貯蔵しているリコータを少なくとも1回移動させ、光硬化性液を貯蔵していないリコータを少なくとも1回移動させることを特徴とする請求項7の光造形方法。
  9. 少なくとも一部の層では、光硬化性液を貯蔵しているリコータを移動させる工程と、光硬化性液を貯蔵していないリコータを移動させる工程を実行することを特徴とする請求項7又は8の光造形方法。
JP2004232243A 2004-08-09 2004-08-09 光造形装置と光造形方法 Expired - Fee Related JP4474230B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004232243A JP4474230B2 (ja) 2004-08-09 2004-08-09 光造形装置と光造形方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004232243A JP4474230B2 (ja) 2004-08-09 2004-08-09 光造形装置と光造形方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006044194A true JP2006044194A (ja) 2006-02-16
JP4474230B2 JP4474230B2 (ja) 2010-06-02

Family

ID=36023295

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004232243A Expired - Fee Related JP4474230B2 (ja) 2004-08-09 2004-08-09 光造形装置と光造形方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4474230B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009012208A (ja) * 2007-07-02 2009-01-22 Cmet Inc 光学的立体造形装置および光学的立体造形方法
JP2011051332A (ja) * 2009-06-23 2011-03-17 Cmet Inc 光造形装置および光造形方法
CN104708817A (zh) * 2013-12-13 2015-06-17 三纬国际立体列印科技股份有限公司 立体打印装置
WO2019187108A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 シーメット株式会社 ブレード、3次元積層造形装置、3次元積層造形装置の制御方法および3次元積層造形装置の制御プログラム

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0788966A (ja) * 1993-09-22 1995-04-04 Matsushita Electric Works Ltd 三次元形状の形成方法
JPH0976354A (ja) * 1995-09-18 1997-03-25 Teijin Seiki Co Ltd 立体造形装置
JPH09267398A (ja) * 1996-04-01 1997-10-14 Teijin Seiki Co Ltd 光造形装置及び光造形方法
JP2000202915A (ja) * 1999-01-08 2000-07-25 Sanyo Electric Co Ltd 光造形装置のスキ―ジ装置及びその方法
JP2000218707A (ja) * 1999-01-29 2000-08-08 Yukito Yamazaki 光造形装置のリコータ
JP3441241B2 (ja) * 1995-06-12 2003-08-25 シーメット株式会社 改良されたリコ−タを有する光硬化造形装置および改良されたリコ−トプロセスを有する光硬化造形方法
JP2003334863A (ja) * 2002-05-20 2003-11-25 Cmet Inc 光造形装置とリコータ

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0788966A (ja) * 1993-09-22 1995-04-04 Matsushita Electric Works Ltd 三次元形状の形成方法
JP3441241B2 (ja) * 1995-06-12 2003-08-25 シーメット株式会社 改良されたリコ−タを有する光硬化造形装置および改良されたリコ−トプロセスを有する光硬化造形方法
JPH0976354A (ja) * 1995-09-18 1997-03-25 Teijin Seiki Co Ltd 立体造形装置
JPH09267398A (ja) * 1996-04-01 1997-10-14 Teijin Seiki Co Ltd 光造形装置及び光造形方法
JP2000202915A (ja) * 1999-01-08 2000-07-25 Sanyo Electric Co Ltd 光造形装置のスキ―ジ装置及びその方法
JP2000218707A (ja) * 1999-01-29 2000-08-08 Yukito Yamazaki 光造形装置のリコータ
JP2003334863A (ja) * 2002-05-20 2003-11-25 Cmet Inc 光造形装置とリコータ

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009012208A (ja) * 2007-07-02 2009-01-22 Cmet Inc 光学的立体造形装置および光学的立体造形方法
JP2011051332A (ja) * 2009-06-23 2011-03-17 Cmet Inc 光造形装置および光造形方法
CN104708817A (zh) * 2013-12-13 2015-06-17 三纬国际立体列印科技股份有限公司 立体打印装置
WO2019187108A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 シーメット株式会社 ブレード、3次元積層造形装置、3次元積層造形装置の制御方法および3次元積層造形装置の制御プログラム
JPWO2019187108A1 (ja) * 2018-03-30 2021-03-25 シーメット株式会社 ブレード、3次元積層造形装置、3次元積層造形装置の制御方法および3次元積層造形装置の制御プログラム
JP7093936B2 (ja) 2018-03-30 2022-07-01 シーメット株式会社 ブレード、3次元積層造形装置、3次元積層造形装置の制御方法および3次元積層造形装置の制御プログラム

Also Published As

Publication number Publication date
JP4474230B2 (ja) 2010-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI832166B (zh) 用於形成材料層之列印機壓抵總成及實體自由成形體製造方法及系統
JP2805674B2 (ja) 光学的造形方法および光学的造形装置
US20180071978A1 (en) Method for the layered construction of a shaped body
US20180117835A1 (en) Method for the layered construction of a shaped body
JP4474230B2 (ja) 光造形装置と光造形方法
JP2000158546A (ja) 光造形装置
JP2009274338A (ja) 光造形装置
JPH11221864A (ja) 三次元形状の形成方法
JP2959281B2 (ja) 光学的造形装置
JP5993224B2 (ja) 三次元造形装置
JP2019019364A (ja) 積層造形装置
JPH07214675A (ja) 樹脂造形体の形成方法および形成装置
JP2004322106A (ja) レーザ加工方法およびレーザ加工装置
JP2000202915A (ja) 光造形装置のスキ―ジ装置及びその方法
JP2010046800A (ja) 光造形装置
JP2011218821A (ja) 光造形装置
JP3761759B2 (ja) 光造形装置及びワイパ装置
JP4833673B2 (ja) 光造形装置
JPH07171899A (ja) 光造形装置
JPH08290475A (ja) 光学的造形装置
JP4820181B2 (ja) 光造形装置
JP2010094938A (ja) 光造形装置
JPH05305673A (ja) 光学的造形装置
JP3458437B2 (ja) 光学的造形方法および光学的造形装置
JP3694970B2 (ja) 光造形装置及び光造形方法

Legal Events

Date Code Title Description
A625 Written request for application examination (by other person)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625

Effective date: 20070705

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091113

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091124

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100122

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100302

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100308

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4474230

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees