JP3438880B2 - 殺菌消臭水の製造装置 - Google Patents
殺菌消臭水の製造装置Info
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Description
有する殺菌消臭水の製造装置に関するものである。
ナトリウムと塩酸などの酸性液を添加・混合させて、優
れた殺菌能力を有する次亜塩素酸混入水を製造すること
は公知である。
には、原水管路の途中に、流路内に多数の邪魔板を有す
る混合筒を設けて、この混合筒内で次亜塩素酸ナトリウ
ムと酸性液を混合させるようにしたものが開示されてい
る。
内の上流側で酸性液を原水中に注入添加して希釈させた
後、同じ混合筒内のそれよりも下流側で次亜塩素酸ナト
リウムを混合させるともに、原水の流量を測定すること
により、その流量に応じて次亜塩素酸ナトリウムと酸性
液の添加量を制御して、pH値が3〜8で、残留塩素濃
度が1〜1000ppmの弱酸性の生成水を得るように
している。
素酸ナトリウムと酸性液を原水中に混合・添加すること
によって、強力な殺菌効果を備えた次亜塩素酸混入水を
生成することができる。しかしながら、次亜塩素酸ナト
リウムと酸が反応すると塩素ガス発生の危険がある。
同時に添加するのではなく、混合筒内にまず酸を注入
し、しかる後次亜塩素酸ナトリウムを混合することで、
それらが互いに反応するのを防止するようにしている。
この場合、従来のものでは、先に注入添加した酸を含む
原水が、混合筒内の邪魔板によって蛇行しながら流れる
ことで、酸の希釈反応を促進させ、酸がある程度希釈さ
れた状態で次亜塩素酸ナトリウムを添加するようにして
いる。
は、混合筒内で邪魔板の作用によって比較的急速に行わ
れるため、塩素ガスの発生を充分に抑えることができ
ず、例えば、二次側の取り出し部から塩素ガスが出たり
或いはヌルっとした液が出るなどの問題があり、特に、
長期間装置を停止した場合、管路中の塩素ガス濃度が上
昇して危険であるとともに、これらを防ぐためには、上
記の公報にも記載されているように、ガスの吸収装置を
設けることが必須となる。
塩素酸濃度が1〜1000ppmで、pHが3〜8好ま
しくは5〜7の範囲であって、就中pH6において最も
高い殺菌消臭効果を発揮することが出来る。しかし、上
記従来の装置では、原水の流量のみによって次亜塩素酸
ナトリウムと酸性液の注入量を制御しており、このよう
な制御ではせいぜいpHが3〜8の範囲に収まる程度で
あって、特に充分な消臭効果のあるものが安定して得ら
れず、また、長期間に渡って効果を維持できない欠点が
ある。
を解消して、次亜塩素酸ナトリウムと塩酸などの酸性液
を添加混合して得られる塩素酸含有殺菌消臭水を、安全
にしかも安定して得ることのできる製造装置を提供する
ことを目的とするものである。
め、この発明の製造装置は、原水に次亜塩素酸ナトリウ
ム水溶液と塩酸などの酸性水溶液を添加して所定のpH
値及び残留塩素濃度の殺菌消臭水を生成する装置であっ
て、次亜塩素酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液のうち一
方の水溶液の原水への注入部から他方の水溶液の注入部
に至る流路中に、添加された水溶液を徐々に若しくは段
階的に希釈速度を速める希釈速度変更手段を備え、且
つ、この希釈速度変更手段は、緩やかな希釈反応が得ら
れるようにした大脈流発生管路と、その下流であって且
つより速い希釈反応が得られるようにした小脈流発生管
路と、更にその下流であって且つ更に速い希釈反応が得
られるようにした極小脈流発生管路とからなることを特
徴とするものである。
記の希釈速度変更手段を、後から添加される水溶液注入
部の下流側にも設けたものである。
水に次亜塩素酸ナトリウム水溶液と塩酸などの酸性水溶
液を添加して所定のpH値及び残留塩素濃度の殺菌消臭
水を生成する装置であって、前記一方の水溶液である次
亜塩素酸ナトリウムの原水への注入部の下流に、添加さ
れた水溶液を徐々に若しくは段階的に希釈速度を速める
希釈速度変更手段を備え、且つ、この希釈速度変更手段
は、緩やかな希釈反応が得られるようにした大脈流発生
管路と、その下流であって且つより速い希釈反応が得ら
れる小脈流発生管路と、更にその下流であって且つ更に
速い希釈反応が得られる極小脈流発生管路とからなるこ
とを特徴とする殺菌消臭水の製造装置が提供される。
では、前記大脈流発生管路を、管路径を大きくすること
によって構成するものである。
求項5では、前記小脈流発生管路は管路中に比較的急角
度の複数の曲がり部を設けることによって構成するもの
である。
の発明では、前記極小脈流発生管路を、流路内に1又は
複数のネットを張って構成するものである。
いて、次亜塩素酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液が添加
される前の原水流路中の原水のpH値を安定させる安定
槽と次亜塩素酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液が添加さ
れた後の生成水のpH値を安定させる安定槽を設けるも
のが得られる。
は、次亜塩素酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液を添加す
る前の原水の流量と同じく次亜塩素酸ナトリウム水溶液
と酸性水溶液を添加する前の原水のpH値とを測定する
測定手段を備え、その測定手段の測定結果に応じて次亜
塩素酸ナトリウム水溶液又は酸性水溶液の添加量を加減
する制御手段を備えていることを特徴とするものが得ら
れる。
態を図面を参照して説明する。図1において、(1)は原
水供給管路であり、その途中に、その原水供給管路(1)
の流路を開閉する原水供給元バルブ(2)が設けられてい
る。この原水供給元バルブ(2)の下流には、その管路
(1)の原水流量を測定する流量計(3)が設けられてい
る。
れた原水pH安定槽で、原水供給管路(1)を通って流れ
てきた原水は、この安定槽(4)において一時的に滞留
し、且つ僅かな脈流を生じることによって一種の攪拌効
果が得られる。これによって、pH値の変化の少ない、
安定したpH値の原水を下流側に供給することができ
る。
(4)内の原水のpH値を測定する原水pHセンサー(23)
が設置されている。
は、原水の逆流を防止するチェック弁(7)が設けられる
とともに、その下流に第1の薬液注入部(8)が設けられ
ている。(9)は、次亜塩素酸ナトリウム貯留タンクであ
り、このタンク(8)内には、所定割合の次亜塩素酸ナト
リウムを含む次亜塩素酸ナトリウム水溶液が貯留されて
いる。具体的には、この水溶液は、次亜塩素酸ナトリウ
ムを12パーセント含むものが好適に用いられる。
記次亜塩素酸ナトリウム貯留タンク(8)内の次亜塩素酸
ナトリウム水溶液を、前記注入部へ(8)へ向けて送り出
し、この注入部(8)より原水中に添加混合させる。
を大きくした大脈流発生管路(11)が設けられ、前記第1
の薬液注入部(8)で次亜塩素酸ナトリウム水溶液を注入
添加された混合水は、この大脈流発生管路(11)内へ流入
することによって、大きな脈流となって緩やかに流れ、
これによって、次亜塩素酸ナトリウムと原水との希釈反
応が緩やかに行われる。
に、小脈流発生管路(12)内に流れ、この小脈流発生管路
(12)で更に希釈反応を促進される。この小脈流発生管路
(12)は、具体的には、管路(12)に比較的急角度の複数の
曲がり部(13)(13)…を設けたもので、これらの曲がり部
(13)(13)…で発生する流れの速い小さな脈流によって激
しく攪拌されることによって行われるものである。
応速度を更に高めるための極小脈流発生管路(14)が設け
られている。この極小脈流発生管路(14)は、例えば流路
内に1又は複数のネットを張ったもので、混合水がその
ネットを通過する際に極小の脈流を発生させ、これによ
り、前記の小脈流発生管路(12)よりも更に急速度で希釈
反応が行われることになる。
を希釈させた後の管路中には、混合水の逆流を防止する
ためのチェック弁(15)を介して、塩酸水溶液などの酸性
水溶液をその管路中に注入するための第2の薬液注入部
(16)が設けられている。酸性水溶液としては、例えば塩
酸の6パーセント水溶液が用いられ、(17)がその塩酸水
溶液の貯留タンク、(18)が、その貯留タンク(17)内の塩
酸水溶液を前記第2の薬液注入部(16)へ供給する第2の
薬液注入ポンプを示している。すなわち、この第2の薬
液注入ポンプ(18)から送り出された塩酸水溶液は、第2
の薬液注入部(16)から次亜塩素酸ナトリウムが既に希釈
された状態で存在する混合水中に添加される。
た混合水は、前記次亜塩素酸ナトリウムを添加した後の
混合水と同様に、第2の薬液注入部(16)下流に配置され
た別の大脈流発生管路(11)、小脈流発生管路(13)及び極
小脈流発生管路(14)を通って、3段階に分けて希釈反応
速度を速めながら希釈された後、最終的に略完全に希釈
された状態の生成水が得られる。そして、得られた生成
水は、その下流に設けられた生成水のpH安定槽(19)内
に一時的に滞留した後、生成水取り出し管路(20)より取
り出される。
と極小脈流発生管路(14)との間には、ドレン管路(21)が
分岐して設けられ、そのドレン管路(21)中に設けた排水
バルブ(22)を開くことで、長時間停止する際に、管路の
混合水を抜き出すようにしている。また、このドレン管
路(21)は、生成水のサンプリングを行う場合にも用いら
れる。
ウムを注入するようにしているが、酸性水溶液の注入を
先に行うこととしても良い。また、この実施形態は、希
釈反応速度を段階的に速めるようにしているが、徐々に
連続的に速めるようにしても良い。
H安定槽(19)内には、それらの槽(4)(19)内のpH値を
測定する測定手段(23)、(24)が設けられておりそれらの
測定結果が、信号線(25)を介して、1つの制御手段(26)
へ入力される。なお、このように、安定槽(4)(19)内で
pH値を測定することにより、上記と同じ理由で、比較
的平均値に近い値を得ることができる。また、制御手段
(26)には、原水管路(1)中に設けた原水流量測定手段
(3)からの測定結果も入力される。
(9)及び塩酸水溶液貯留タンク(17)には、それらの貯留
タンク(9)(17)内の薬液レベルを測定するレベルセンサ
ー(27)(28)が、設けられており、その測定結果が、信号
線(29)によって前記の制御手段(26)へ送られる。
8)は、いずれも、信号線(30)を介して送られる制御手段
(26)からの制御信号によって、それぞれの薬液注入部
(8)(16)への薬液の注入量を制御するよう構成されてい
る。他方、原水供給元バルブ(2)及び排水バルブ(22)に
ついても、信号線(29)(30)によって送られる制御手段か
らの制御信号によって開閉されるようになっている。
すると、まず、制御手段(26)は、原水流量測定手段(3)
と原水pH測定手段(23)からの測定値を取込み、原水の
pH値が高くなると、塩酸水溶液の注入添加量を増加さ
せるよう、第2の薬液注入ポンプ(18)へ制御信号を出力
し、これによって、原水のpH値に見合うように塩酸水
溶液の注入添加量が増加される。逆に、原水pH値が低
くなると、薬液注入添加量を減量するように制御され
る。
が基準値より高いときは、同様に、塩酸水溶液に注入添
加量を増加させ、低いときは減量させるように、第2の
薬液注入ポンプ(18)へ制御信号が送られる。そして、こ
れらの制御により生成水のpH値が安定した値に維持さ
れることとなる。
液の注入添加量を制御することに代えて、次亜塩素酸ナ
トリウム水溶液の注入添加量を加減することで制御する
ことも可能であるが、塩酸水溶液の加減量を制御するこ
とが望ましい。
測定する測定手段(24)は、原則として、装置全体の異常
を監視するために用いられており、制御手段(26)は、そ
の値が設定値より外れている場合に、一応、正常なpH
値となるよう塩酸水溶液の注入量を増減するよう第2の
薬液注入ポンプ(18)へ指令を出すが、一定時間経っても
pH値が正常にならない場合には、装置の異常として、
警報を出すか装置を停止させる。
イクロコンピュータが好適に用いられるが、これに限ら
れるものではない。
亜塩素酸ナトリウムと酸性水溶液の一方を先に添加した
後に他方の薬液を添加するのみならず、緩やかな希釈反
応が得られるようにした大脈流発生管路と、その下流で
あって且つより速い希釈反応が得られる小脈流発生管路
と、更にその下流であって且つ更に速い希釈反応が得ら
れる極小脈流発生管路とからなる希釈速度変更手段を設
けているから、安定したpH値の生成水を得るのみなら
ず、次亜塩素酸ナトリウムと酸性液が直接反応す る可能
性が非常に少なく、塩素ガスの発生の可能性の少ない、
安全性の高い装置を得ることができる。このため、ガス
吸収装置は必ずしも必要ない。
からの薬液の添加後にも同じ構成の希釈反応速度変更手
段を設けているから、より安全性が高く、また、更に安
定したpH値の生成水を得ることができる。
トリウム水溶液と酸性水溶液が添加される前の原水流路
中の原水のpH値を安定させる安定槽と次亜塩素酸ナト
リウム水溶液と酸性水溶液が添加された後の生成水のp
H値を安定させる安定槽を設けてあるからより安定した
pH値の生成水を得ることが出来る。
酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液を添加する前の原水の
流量と同じく次亜塩素酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液
を添加する前の原水のpH値とを測定する測定手段を備
え、その測定手段の測定結果に応じて次亜塩素酸ナトリ
ウム水溶液又は酸性水溶液の添加量を加減する制御手段
を備えているから更に安定したものが得られる。
ある。
Claims (8)
- 【請求項1】 原水に次亜塩素酸ナトリウム水溶液と塩
酸などの酸性水溶液を添加して所定のpH値及び残留塩
素濃度の殺菌消臭水を生成する装置であって、次亜塩素
酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液のうち一方の水溶液の
原水への注入部から他方の水溶液の注入部に至る流路中
に、添加された水溶液を徐々に若しくは段階的に希釈速
度を速める希釈速度変更手段を備え、且つ、この希釈速
度変更手段は、緩やかな希釈反応が得られるようにした
大脈流発生管路と、その下流であって且つより速い希釈
反応が得られるようにした小脈流発生管路と、更にその
下流であって且つ更に速い希釈反応が得られるようにし
た極小脈流発生管路とからなることを特徴とする殺菌消
臭水の製造装置。 - 【請求項2】 前記の希釈速度変更手段を、後から添加
される水溶液注入部の下流側にも設けた請求項1記載の
殺菌消臭水の製造装置。 - 【請求項3】 原水に次亜塩素酸ナトリウム水溶液と塩
酸などの酸性水溶液を添加して所定のpH値及び残留塩
素濃度の殺菌消臭水を生成する装置であって、前記一方
の水溶液である次亜塩素酸ナトリウムの原水への注入部
の下流に、添加された水溶液を徐々に若しくは段階的に
希釈速度を速める希釈速度変更手段を備え、且つ、この
希釈速度変更手段は、緩やかな希釈反応が得られるよう
にした大脈流発生管路と、その下流であって且つより速
い希釈反応が得られるようにした小脈流発生管路と、更
にその下流であって且つ更に速い希釈反応が得られるよ
うにした極小脈流発生管路とからなることを特徴とする
殺菌消臭水の製造装置。 - 【請求項4】前記大脈流発生管路は、管路径を大きくし
たものである請求項1から3のいずれかに記載した殺菌
消臭水の製造装置。 - 【請求項5】前記小脈流発生管路は管路中に比較的急角
度の複数の曲がり部を設けたものである請求項1から4
のいずれかに記載した殺菌消臭水の製造装置。 - 【請求項6】前記極小脈流発生管路は、流路内に1又は
複数のネットを張ったものである請求項1から5のいず
れかに記載の殺菌消臭水の製造装置。 - 【請求項7】次亜塩素酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液
が添加される前の原水流路中の原水のpH値を安定させ
る安定槽と次亜塩素酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液が
添加された後の生成水の pH値を安定させる安定槽を設
けてあることを特徴とする請求項1から6のいずれかに
記載の殺菌消臭水の製造装置。 - 【請求項8】次亜塩素酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液
を添加する前の 原水の流量と同じく次亜塩素酸ナトリウ
ム水溶液と酸性水溶液を添加する前の原水のpH値とを
測定する測定手段を備え、その測定手段の測定結果に応
じて次亜塩素酸ナトリウム水溶液又は酸性水溶液の添加
量を加減する制御手段を備えていることを特徴とする請
求項1から7のいずれかに記載の殺菌消臭水の製造装
置。
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JP2001085430A JP3438880B2 (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | 殺菌消臭水の製造装置 |
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Family Applications (1)
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2001
- 2001-03-23 JP JP2001085430A patent/JP3438880B2/ja not_active Expired - Fee Related
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