JP3433894B2 - グラビアシリンダの表面処理装置および方法 - Google Patents
グラビアシリンダの表面処理装置および方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、保持されたグラビ
アシリンダを処理槽内で回転させながら、当該グラビア
シリンダの周面に処理ノズルから表面処理液を吹付けつ
つ、表面処理を行うグラビアシリンダの表面処理装置お
よび方法に関する。
アシリンダを処理槽内で回転させながら、当該グラビア
シリンダの周面に処理ノズルから表面処理液を吹付けつ
つ、表面処理を行うグラビアシリンダの表面処理装置お
よび方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】グラビア印刷・製版に用いられるグラビ
アシリンダの完成までには各種の表面処理を施さなけれ
ばならない。例えば、グラビアシリンダが鉄系素材の場
合には脱脂,酸洗,めっき,防錆,エッチング,レジスト剥
離等の各表面処理や品質向上等のために行われる複数回
の清浄処理である。また、アルミニュウム系素材の場合
には上記鉄系の場合よりも中和アルカリ,アルカリ,中
和,ジンケートおよびジンケート剥離等の各表面処理が
増す。
アシリンダの完成までには各種の表面処理を施さなけれ
ばならない。例えば、グラビアシリンダが鉄系素材の場
合には脱脂,酸洗,めっき,防錆,エッチング,レジスト剥
離等の各表面処理や品質向上等のために行われる複数回
の清浄処理である。また、アルミニュウム系素材の場合
には上記鉄系の場合よりも中和アルカリ,アルカリ,中
和,ジンケートおよびジンケート剥離等の各表面処理が
増す。
【０００３】図８に示すグラビアシリンダ１の表面処理
装置（例えば、エッチング処理装置）は、シャワー処理
槽からなるエッチング処理槽（表面処理槽）１０とエッ
チング処理手段２０（２１，２２，２３，２４）からな
り、ハンガー１００でエッチング処理槽１０内に保持さ
れ、かつＲ方向に回転中のグラビアシリンダ１の周面に
エッチング（表面）ノズル２４からエッチング処理液
（表面処理液）Ｑを吹付けつつエッチング（表面）処理
する。エッチング処理液溜め（表面処理液溜め）２１の
エッチング処理液Ｑは、ポンプ２２，供給管２３を介し
て循環利用される。
装置（例えば、エッチング処理装置）は、シャワー処理
槽からなるエッチング処理槽（表面処理槽）１０とエッ
チング処理手段２０（２１，２２，２３，２４）からな
り、ハンガー１００でエッチング処理槽１０内に保持さ
れ、かつＲ方向に回転中のグラビアシリンダ１の周面に
エッチング（表面）ノズル２４からエッチング処理液
（表面処理液）Ｑを吹付けつつエッチング（表面）処理
する。エッチング処理液溜め（表面処理液溜め）２１の
エッチング処理液Ｑは、ポンプ２２，供給管２３を介し
て循環利用される。
【０００４】エッチング処理後のグラビアシリンダ１
は、搬送手段（図示省略）によってハンガー１００に担
持されたままＵ方向へ上昇され，Ｈ方向に水平搬送さ
れ、しかる後にＤ方向に下降されて清浄処理槽５０内に
位置決めされる。
は、搬送手段（図示省略）によってハンガー１００に担
持されたままＵ方向へ上昇され，Ｈ方向に水平搬送さ
れ、しかる後にＤ方向に下降されて清浄処理槽５０内に
位置決めされる。
【０００５】清浄処理手段６０Ｐは、供給管６１から供
給された清浄処理液（例えば、水洗水Ｗ）を清浄ノズル
６２からグラビアシリンダ１の周面に吹付け、エッチン
グ処理後のグラビアシリンダ１を清浄処理（水洗処理）
する。清浄処理液（Ｗ）は、清浄処理液（水洗水）溜め
６５Ｐに回収され、ピット６６Ｐに排出される。なお、
清浄処理液溜め６５Ｐ内の清浄処理液（Ｗ）の一部を再
循環使用する場合もある。
給された清浄処理液（例えば、水洗水Ｗ）を清浄ノズル
６２からグラビアシリンダ１の周面に吹付け、エッチン
グ処理後のグラビアシリンダ１を清浄処理（水洗処理）
する。清浄処理液（Ｗ）は、清浄処理液（水洗水）溜め
６５Ｐに回収され、ピット６６Ｐに排出される。なお、
清浄処理液溜め６５Ｐ内の清浄処理液（Ｗ）の一部を再
循環使用する場合もある。
【０００６】ところで、Ｕ方向，Ｈ方向およびＤ方向へ
の搬送中は、その構造上、グラビアシリンダ１を回転停
止せざるを得ない。したがって、搬送時間が長引くと、
図９に模式的に現した各エッチングホール３Ｒ，３Ｕ，
３Ｌ，３Ｄが付着残存するエッチング液により浸蝕され
る。浸蝕程度は、ハンガー１００に担持された姿態（方
向）により異なる。例えば、下向きのエッチングホール
３Ｄが正規とすれば、右（左）向きのエッチングホール
３Ｄは下（上）側が大きく抉られて拡大変形する。上向
きのエッチングホール３Ｕは、深さ方向および左右方向
に拡大変形する。
の搬送中は、その構造上、グラビアシリンダ１を回転停
止せざるを得ない。したがって、搬送時間が長引くと、
図９に模式的に現した各エッチングホール３Ｒ，３Ｕ，
３Ｌ，３Ｄが付着残存するエッチング液により浸蝕され
る。浸蝕程度は、ハンガー１００に担持された姿態（方
向）により異なる。例えば、下向きのエッチングホール
３Ｄが正規とすれば、右（左）向きのエッチングホール
３Ｄは下（上）側が大きく抉られて拡大変形する。上向
きのエッチングホール３Ｕは、深さ方向および左右方向
に拡大変形する。
【０００７】かくして、従来は、処理槽１０，５０間の
距離を最小的にレイアウトし、かつ搬送速度を最大にす
る搬送手段を設けている。
距離を最小的にレイアウトし、かつ搬送速度を最大にす
る搬送手段を設けている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一層の
高品質グラビア印刷が求められる現在では、各エッチン
グホール３の変形はもとより、その変形の方向性が印刷
適正上無視できないものとクローズアップされつつあ
る。だからといって、搬送中にグラビアシリンダ１を回
転することは、コスト的，レイアウト的な負担が大きい
割には、実効が低い。
高品質グラビア印刷が求められる現在では、各エッチン
グホール３の変形はもとより、その変形の方向性が印刷
適正上無視できないものとクローズアップされつつあ
る。だからといって、搬送中にグラビアシリンダ１を回
転することは、コスト的，レイアウト的な負担が大きい
割には、実効が低い。
【０００９】また、一層の生産性向上のために、エッチ
ング処理後、グラビアシリンダ１の清浄処理槽５０への
搬送自体を省略したいとの指摘がある。しかし、エッチ
ング処理槽（１０）内で例えば水洗したとすると、エッ
チング液Ｑの濃度が薄まり、エッチング処理に支障を来
たすから、主客転倒であるとの見解が強く実現されてい
ない。
ング処理後、グラビアシリンダ１の清浄処理槽５０への
搬送自体を省略したいとの指摘がある。しかし、エッチ
ング処理槽（１０）内で例えば水洗したとすると、エッ
チング液Ｑの濃度が薄まり、エッチング処理に支障を来
たすから、主客転倒であるとの見解が強く実現されてい
ない。
【００１０】さらに、例えば鉄系素材のグラビアシリン
ダ１の図１０（Ａ）に示す前処理を含むめっき工程およ
び図１０（Ｂ）に示すエッチングを含む完成工程を参照
すれば、表面処理装置全体が非常に大型かつコスト高に
なると理解される。つまり、大幅な小型・低コスト化が
強く求められている。
ダ１の図１０（Ａ）に示す前処理を含むめっき工程およ
び図１０（Ｂ）に示すエッチングを含む完成工程を参照
すれば、表面処理装置全体が非常に大型かつコスト高に
なると理解される。つまり、大幅な小型・低コスト化が
強く求められている。
【００１１】なお、以上では、表面処理をエッチング処
理を例として説明したが、その他の表面処理（例えば、
脱脂,酸洗,めっき,防錆,レジスト剥離等）の場合にも同
様な問題がある。
理を例として説明したが、その他の表面処理（例えば、
脱脂,酸洗,めっき,防錆,レジスト剥離等）の場合にも同
様な問題がある。
【００１２】本発明の目的は、小型化・低コスト化を図
りつつ表面処理直後から清浄処理することのできるグラ
ビアシリンダのエッチング処理装置および方法を提供す
ることにある。
りつつ表面処理直後から清浄処理することのできるグラ
ビアシリンダのエッチング処理装置および方法を提供す
ることにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、保持
されたグラビアシリンダを処理槽内で回転させながら、
当該グラビアシリンダの周面に処理ノズルから表面処理
液を吹付けつつ、表面処理を行うグラビアシリンダの表
面処理装置において、前記処理槽内の前記グラビアシリ
ンダとその下方の表面処理液溜めとの間に、介在状態と
非介在状態とを選択切替可能に形成された集液トレイを
装着するとともに、前記表面処理の終了後に、清浄ノズ
ルから前記グラビアシリンダの周面に清浄処理液を吹付
け可能かつ介在状態に選択された集液トレイを通して、
前記グラビアシリンダ側から落下する清浄処理液を表面
処理液溜め以外の場所へ排出可能に形成したグラビアシ
リンダの表面処理装置である。
されたグラビアシリンダを処理槽内で回転させながら、
当該グラビアシリンダの周面に処理ノズルから表面処理
液を吹付けつつ、表面処理を行うグラビアシリンダの表
面処理装置において、前記処理槽内の前記グラビアシリ
ンダとその下方の表面処理液溜めとの間に、介在状態と
非介在状態とを選択切替可能に形成された集液トレイを
装着するとともに、前記表面処理の終了後に、清浄ノズ
ルから前記グラビアシリンダの周面に清浄処理液を吹付
け可能かつ介在状態に選択された集液トレイを通して、
前記グラビアシリンダ側から落下する清浄処理液を表面
処理液溜め以外の場所へ排出可能に形成したグラビアシ
リンダの表面処理装置である。
【００１４】かかる発明では、集液トレイを非介在状態
に選択して表面処理を行う。グラビアシリンダ側から落
下した表面処理液は、表面処理液溜めに落下される。表
面処理終了後に、集液トレイをグラビアシリンダとその
下方の表面処理液溜めとの間に介在状態となるように選
択切替え、清浄ノズルから清浄処理液（例えば、水洗
水）を吹付けてグラビアシリンダを清浄処理する。グラ
ビアシリンダから落下した清浄処理液は、集液トレイを
介して表面処理液溜め以外の場所へ排出される。
に選択して表面処理を行う。グラビアシリンダ側から落
下した表面処理液は、表面処理液溜めに落下される。表
面処理終了後に、集液トレイをグラビアシリンダとその
下方の表面処理液溜めとの間に介在状態となるように選
択切替え、清浄ノズルから清浄処理液（例えば、水洗
水）を吹付けてグラビアシリンダを清浄処理する。グラ
ビアシリンダから落下した清浄処理液は、集液トレイを
介して表面処理液溜め以外の場所へ排出される。
【００１５】したがって、表面処理液の稀薄化を防止し
つつ従来搬送の時間遅れによる品質劣悪化（例えば、エ
ッチングホールの浸蝕による拡大変形および方向性の発
生）を一掃できるとともに、同一の処理槽内で表面処理
とその後の清浄処理とを行えるから、処理槽の数を半減
でき大幅な小型化および低コストを達成することができ
る。
つつ従来搬送の時間遅れによる品質劣悪化（例えば、エ
ッチングホールの浸蝕による拡大変形および方向性の発
生）を一掃できるとともに、同一の処理槽内で表面処理
とその後の清浄処理とを行えるから、処理槽の数を半減
でき大幅な小型化および低コストを達成することができ
る。
【００１６】また、請求項２の発明は、前記グラビアシ
リンダが鉄系素材から形成され、かつ前記表面処理液が
脱脂処理液,酸洗処理液, 防錆処理液,エッチング処理液
およびレジスト剥離処理液の中から選択されたいずれか
１つの選択表面処理液とされているグラビアシリンダの
表面処理装置である。
リンダが鉄系素材から形成され、かつ前記表面処理液が
脱脂処理液,酸洗処理液, 防錆処理液,エッチング処理液
およびレジスト剥離処理液の中から選択されたいずれか
１つの選択表面処理液とされているグラビアシリンダの
表面処理装置である。
【００１７】かかる発明では、同一の処理槽内で表面処
理（例えば、酸洗処理）可能な特定の表面処理とその後
の清浄処理とを連続的に行えるので、請求項１記載の発
明の場合と同様な作用効果を奏することができることに
加え、さらに鉄系素材のグラビアシリンダの品質を一段
と向上できる。
理（例えば、酸洗処理）可能な特定の表面処理とその後
の清浄処理とを連続的に行えるので、請求項１記載の発
明の場合と同様な作用効果を奏することができることに
加え、さらに鉄系素材のグラビアシリンダの品質を一段
と向上できる。
【００１８】また、請求項３の発明は、前記グラビアシ
リンダがアルミニュウム系素材から形成され、かつ前記
表面処理液が中和アルカリ処理液,アルカリ処理液,中和
処理液,ジンケート処理液,ジンケート剥離処理液,エッ
チング処理液およびレジスト剥離処理液の中から選択さ
れたいずれか１つの選択表面処理液とされているグラビ
アシリンダの表面処理装置である。
リンダがアルミニュウム系素材から形成され、かつ前記
表面処理液が中和アルカリ処理液,アルカリ処理液,中和
処理液,ジンケート処理液,ジンケート剥離処理液,エッ
チング処理液およびレジスト剥離処理液の中から選択さ
れたいずれか１つの選択表面処理液とされているグラビ
アシリンダの表面処理装置である。
【００１９】かかる発明では、同一の処理槽内で表面処
理（例えば、中和処理）可能な特定の表面処理とその後
の清浄処理とを連続的に行えるので、請求項１記載の発
明の場合と同様な作用効果を奏することができることに
加え、さらにアルミニュウム系素材のグラビアシリンダ
の品質を一段と向上できる。
理（例えば、中和処理）可能な特定の表面処理とその後
の清浄処理とを連続的に行えるので、請求項１記載の発
明の場合と同様な作用効果を奏することができることに
加え、さらにアルミニュウム系素材のグラビアシリンダ
の品質を一段と向上できる。
【００２０】さらに、請求項４の発明は、保持されたグ
ラビアシリンダを処理槽内で回転させながら、当該グラ
ビアシリンダの周面に処理ノズルから表面処理液を吹付
け、かつ当該グラビアシリンダ側から落下する当該表面
処理液を当該処理槽内下方の表面処理液溜めに回収しつ
つ、表面処理を行うグラビアシリンダの表面処理方法に
おいて、前記表面処理の終了後に当該表面処理液の吹付
けを停止させるとともに、前記処理槽内の前記グラビア
シリンダと前記表面処理液溜めとの間に集液トレイが介
在状態になるように選択切替し、その後に清浄ノズルか
ら前記グラビアシリンダの周面に清浄処理液を吹付け、
かつ前記グラビアシリンダ側から落下する当該清浄処理
液を介在状態に選択切替えられた集液トレイを通して前
記表面処理液溜め以外の場所へ排出しつつ清浄処理を行
い、しかる後に集液トレイを非介在状態に選択切替え
て、交換されたグラビアシリンダに前記表面処理液を吹
付けて前記表面処理を行うグラビアシリンダの表面処理
方法である。
ラビアシリンダを処理槽内で回転させながら、当該グラ
ビアシリンダの周面に処理ノズルから表面処理液を吹付
け、かつ当該グラビアシリンダ側から落下する当該表面
処理液を当該処理槽内下方の表面処理液溜めに回収しつ
つ、表面処理を行うグラビアシリンダの表面処理方法に
おいて、前記表面処理の終了後に当該表面処理液の吹付
けを停止させるとともに、前記処理槽内の前記グラビア
シリンダと前記表面処理液溜めとの間に集液トレイが介
在状態になるように選択切替し、その後に清浄ノズルか
ら前記グラビアシリンダの周面に清浄処理液を吹付け、
かつ前記グラビアシリンダ側から落下する当該清浄処理
液を介在状態に選択切替えられた集液トレイを通して前
記表面処理液溜め以外の場所へ排出しつつ清浄処理を行
い、しかる後に集液トレイを非介在状態に選択切替え
て、交換されたグラビアシリンダに前記表面処理液を吹
付けて前記表面処理を行うグラビアシリンダの表面処理
方法である。
【００２１】かかる発明では、表面処理の終了後に当該
表面処理液の吹付けを停止させ、処理槽内の集液トレイ
の選択切替えを行ってグラビアシリンダと表面処理液溜
めとの間に集液トレイを介在させる。その後に清浄ノズ
ルからグラビアシリンダの周面に清浄処理液を吹付け、
かつグラビアシリンダ側から落下する当該清浄処理液を
介在した集液トレイを通して表面処理液溜め以外の場所
へ排出しつつ清浄処理を行い、しかる後に集液トレイを
非介在状態に選択切替えて交換されたグラビアシリンダ
に表面処理液を吹付けて表面処理を行う。この場合にも
表面処理終了直後から清浄処理を行える。以下、同様に
繰り返して行える。
表面処理液の吹付けを停止させ、処理槽内の集液トレイ
の選択切替えを行ってグラビアシリンダと表面処理液溜
めとの間に集液トレイを介在させる。その後に清浄ノズ
ルからグラビアシリンダの周面に清浄処理液を吹付け、
かつグラビアシリンダ側から落下する当該清浄処理液を
介在した集液トレイを通して表面処理液溜め以外の場所
へ排出しつつ清浄処理を行い、しかる後に集液トレイを
非介在状態に選択切替えて交換されたグラビアシリンダ
に表面処理液を吹付けて表面処理を行う。この場合にも
表面処理終了直後から清浄処理を行える。以下、同様に
繰り返して行える。
【００２２】したがって、表面処理とその後の清浄処理
とを同一の処理槽内で連続的に行え、かつ表面処理液と
清浄処理液とを別の場所に排出することができるから、
表面処理液の稀薄化を防止しつつ従来搬送の時間遅れに
よる品質劣悪化（例えば、エッチングホールの浸蝕によ
る拡大変形および方向性の発生）を一掃できるととも
に、処理槽の数を半減でき大幅な小型化および低コスト
を達成することができる。
とを同一の処理槽内で連続的に行え、かつ表面処理液と
清浄処理液とを別の場所に排出することができるから、
表面処理液の稀薄化を防止しつつ従来搬送の時間遅れに
よる品質劣悪化（例えば、エッチングホールの浸蝕によ
る拡大変形および方向性の発生）を一掃できるととも
に、処理槽の数を半減でき大幅な小型化および低コスト
を達成することができる。
【００２３】さらにまた、請求項５の発明は、保持され
たグラビアシリンダを回転させながら当該グラビアシリ
ンダの周面に処理ノズルから表面処理液を吹付けつつ表
面処理を行い、その後に清浄処理液を用いてグラビアシ
リンダに付着した当該表面処理液を清浄する清浄処理を
行うグラビアシリンダの表面処理装置において、前記表
面処理を行う処理槽内の前記グラビアシリンダとその下
方の表面処理液溜めとの間に、介在状態と非介在状態と
を選択切替可能に形成された集液トレイを装着し、複数
種類の表面処理液を選択切替えして前記グラビアシリン
ダの周面に当該選択表面処理液を吹付けつつ、当該各選
択表面処理を行えるように形成するとともに、当該各選
択表面処理が終了する度に、集液トレイを介在状態に選
択切替えて前記グラビアシリンダの周面に清浄ノズルか
ら前記清浄処理液を吹付け、かつ前記グラビアシリンダ
側から落下する当該各清浄処理液を当該集液トレイを通
して表面処理液溜め以外の場所へ排出しつつ、当該各清
浄処理を行なえるように形成し、しかも選択表面処理液
の一部については清浄処理液の場合と同様に集液トレイ
を介在状態に選択切替えしたまま、前記グラビアシリン
ダ側から落下する当該選択表面処理液を集液トレイを通
して表面処理液溜め以外の場所へ排出可能に形成したグ
ラビアシリンダの表面処理装置である。
たグラビアシリンダを回転させながら当該グラビアシリ
ンダの周面に処理ノズルから表面処理液を吹付けつつ表
面処理を行い、その後に清浄処理液を用いてグラビアシ
リンダに付着した当該表面処理液を清浄する清浄処理を
行うグラビアシリンダの表面処理装置において、前記表
面処理を行う処理槽内の前記グラビアシリンダとその下
方の表面処理液溜めとの間に、介在状態と非介在状態と
を選択切替可能に形成された集液トレイを装着し、複数
種類の表面処理液を選択切替えして前記グラビアシリン
ダの周面に当該選択表面処理液を吹付けつつ、当該各選
択表面処理を行えるように形成するとともに、当該各選
択表面処理が終了する度に、集液トレイを介在状態に選
択切替えて前記グラビアシリンダの周面に清浄ノズルか
ら前記清浄処理液を吹付け、かつ前記グラビアシリンダ
側から落下する当該各清浄処理液を当該集液トレイを通
して表面処理液溜め以外の場所へ排出しつつ、当該各清
浄処理を行なえるように形成し、しかも選択表面処理液
の一部については清浄処理液の場合と同様に集液トレイ
を介在状態に選択切替えしたまま、前記グラビアシリン
ダ側から落下する当該選択表面処理液を集液トレイを通
して表面処理液溜め以外の場所へ排出可能に形成したグ
ラビアシリンダの表面処理装置である。
【００２４】かかる発明では、同一の処理槽内におい
て、例えば高価な界面活性剤を含む中性アルカリ処理の
終了後は、集液トレイを介在状態に選択切替えてからグ
ラビアシリンダの周面に清浄ノズルから清浄処理液を吹
付けかつグラビアシリンダ側から落下する清浄処理液を
当該集液トレイを通して表面処理液溜め以外の場所へ排
出しつつ清浄処理を行う。したがって、界面活性剤の消
耗が少なく中性アルカリ処理液の希釈化も抑制できる。
て、例えば高価な界面活性剤を含む中性アルカリ処理の
終了後は、集液トレイを介在状態に選択切替えてからグ
ラビアシリンダの周面に清浄ノズルから清浄処理液を吹
付けかつグラビアシリンダ側から落下する清浄処理液を
当該集液トレイを通して表面処理液溜め以外の場所へ排
出しつつ清浄処理を行う。したがって、界面活性剤の消
耗が少なく中性アルカリ処理液の希釈化も抑制できる。
【００２５】他方、一部の表面処理液（例えば、アルカ
リ処理液）による表面処理後は、先の清浄処理における
清浄処理液の場合と同様に集液トレイを介在状態に選択
切替えしたまま当該表面処理を行う。当該表面処理液
（アルカリ処理液）は集液トレイを通して表面処理液溜
め以外の場所へ排出される。したがって、表面処理液溜
め内の高価な界面活性剤を含む第１の表面処理液（中性
アルカリ処理液）に第２の表面処理液（アルカリ処理
液）が混入してしまうことがない。この第２の表面処理
終了後に集液トレイを介在状態に選択切替えしたまま当
該清浄処理を行う。この清浄処理も表面処理液溜め以外
の場所へ排出されるので、中性アルカリ処理液を希釈す
ることはない。
リ処理液）による表面処理後は、先の清浄処理における
清浄処理液の場合と同様に集液トレイを介在状態に選択
切替えしたまま当該表面処理を行う。当該表面処理液
（アルカリ処理液）は集液トレイを通して表面処理液溜
め以外の場所へ排出される。したがって、表面処理液溜
め内の高価な界面活性剤を含む第１の表面処理液（中性
アルカリ処理液）に第２の表面処理液（アルカリ処理
液）が混入してしまうことがない。この第２の表面処理
終了後に集液トレイを介在状態に選択切替えしたまま当
該清浄処理を行う。この清浄処理も表面処理液溜め以外
の場所へ排出されるので、中性アルカリ処理液を希釈す
ることはない。
【００２６】引続き、集液トレイを介在状態としたまま
次の表面処理液（例えば、酸系の中和処理液）を吹付け
て中和処理（第３の表面処理）を行う。当該表面処理液
（酸系の中和処理液）も集液トレイを通して表面処理液
溜め以外の場所へ排出されるから、表面処理液溜め内の
高価な界面活性剤を含む中性アルカリ処理液に混入しな
い。この第３の表面処理終了後に集液トレイをそのまま
として当該清浄処理をする。この清浄処理も表面処理液
溜め以外の場所へ排出されるので、中性アルカリ処理液
を希釈することはない。
次の表面処理液（例えば、酸系の中和処理液）を吹付け
て中和処理（第３の表面処理）を行う。当該表面処理液
（酸系の中和処理液）も集液トレイを通して表面処理液
溜め以外の場所へ排出されるから、表面処理液溜め内の
高価な界面活性剤を含む中性アルカリ処理液に混入しな
い。この第３の表面処理終了後に集液トレイをそのまま
として当該清浄処理をする。この清浄処理も表面処理液
溜め以外の場所へ排出されるので、中性アルカリ処理液
を希釈することはない。
【００２７】かくして、中性アルカリ処理-清浄処理−
アルカリ処理−清浄処理−中和処理−清浄処理の如く複
数種類の表面処理液を順番に選択切替えてグラビアシリ
ンダの周面に吹付けつつ当該各選択表面処理および各清
浄処理を行うことができる。しかも、アルカリ処理液と
中和処理液と清浄処理液とを例えば同一のプールへ排出
すれば、廃水中和および廃水中和後の希釈を省略するこ
ともできる。
アルカリ処理−清浄処理−中和処理−清浄処理の如く複
数種類の表面処理液を順番に選択切替えてグラビアシリ
ンダの周面に吹付けつつ当該各選択表面処理および各清
浄処理を行うことができる。しかも、アルカリ処理液と
中和処理液と清浄処理液とを例えば同一のプールへ排出
すれば、廃水中和および廃水中和後の希釈を省略するこ
ともできる。
【００２８】したがって、同一の処理槽内で表面処理と
その後の清浄処理を行えるから、処理槽の数を大幅に削
減しつつ小型化および低コストを達成することができる
ことはもとより、生産時間をより大幅に短縮できるので
グラビアシリンダ自体のコスト低減も促進できる。
その後の清浄処理を行えるから、処理槽の数を大幅に削
減しつつ小型化および低コストを達成することができる
ことはもとより、生産時間をより大幅に短縮できるので
グラビアシリンダ自体のコスト低減も促進できる。
【００２９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。 （第１の実施形態）本グラビアシリンダの表面処理方法
を実施するために好適な表面処理装置は、図１に示す脱
脂処理槽１０Ａ１,酸洗処理槽１０Ａ２、銅めっき槽１
０Ｂ１,防錆処理槽１０Ｂ２，エッチング処理槽１０Ｃ
１,レジスト剥離処理槽１０Ｃ２からなる。このうち銅
めっき槽１０Ｂ１はめっき処理液中に浸漬する型でかつ
図示省略した別の清浄処理液（水）槽を有するが、エッ
チング処理槽１０Ｃ１等の他の処理槽はシャワー処理槽
構造とされかつ清浄（水洗）処理機能を具備する。
図面を参照して説明する。 （第１の実施形態）本グラビアシリンダの表面処理方法
を実施するために好適な表面処理装置は、図１に示す脱
脂処理槽１０Ａ１,酸洗処理槽１０Ａ２、銅めっき槽１
０Ｂ１,防錆処理槽１０Ｂ２，エッチング処理槽１０Ｃ
１,レジスト剥離処理槽１０Ｃ２からなる。このうち銅
めっき槽１０Ｂ１はめっき処理液中に浸漬する型でかつ
図示省略した別の清浄処理液（水）槽を有するが、エッ
チング処理槽１０Ｃ１等の他の処理槽はシャワー処理槽
構造とされかつ清浄（水洗）処理機能を具備する。
【００３０】すなわち、各処理槽は、鉄系素材から成る
グラビアシリンダ１についての図２（Ａ）に示す前処理
工程（脱脂−水洗−酸洗−水洗）, 図２（Ｂ）に示すめ
っき処理工程（（銅めっき−水洗−防錆−水洗）および
図２（Ｃ）に示す完成処理工程（（エッチング−水洗−
レジスト剥離−水洗）に使用される。
グラビアシリンダ１についての図２（Ａ）に示す前処理
工程（脱脂−水洗−酸洗−水洗）, 図２（Ｂ）に示すめ
っき処理工程（（銅めっき−水洗−防錆−水洗）および
図２（Ｃ）に示す完成処理工程（（エッチング−水洗−
レジスト剥離−水洗）に使用される。
【００３１】以下では、表面処理槽であってシャワー槽
構造のエッチング処理槽（および水洗処理槽）１０Ｃ１
を例として詳細説明する。
構造のエッチング処理槽（および水洗処理槽）１０Ｃ１
を例として詳細説明する。
【００３２】図３において、エッチング処理（表面処
理）装置は、エッチング処理槽１０Ｃ１にエッチング処
理（表面処理）手段２０の他、集液手段３０，選択切替
手段４０および清浄処理手段６０を設け、グラビアシリ
ンダ１をエッチング処理直後から清浄処理可能に形成さ
れている。
理）装置は、エッチング処理槽１０Ｃ１にエッチング処
理（表面処理）手段２０の他、集液手段３０，選択切替
手段４０および清浄処理手段６０を設け、グラビアシリ
ンダ１をエッチング処理直後から清浄処理可能に形成さ
れている。
【００３３】エッチング処理槽１０Ｃ１の底部には、表
面処理液溜めを形成するエッチング処理液溜め２１と,
このエッチング処理液溜め２１以外の外部たる清浄処理
液溜め６５とが形成され、両者２１，６５は仕切壁１０
Ｓで区画されている。この実施形態における清浄処理液
は、水Ｗである。
面処理液溜めを形成するエッチング処理液溜め２１と,
このエッチング処理液溜め２１以外の外部たる清浄処理
液溜め６５とが形成され、両者２１，６５は仕切壁１０
Ｓで区画されている。この実施形態における清浄処理液
は、水Ｗである。
【００３４】エッチング処理液溜め２１の上方には、集
液管１６付の一方ガイド面１５が形成され、清浄処理液
溜め６５の上方には集液管１９付の他方ガイド面１８が
形成されている。両ガイド面１５，１８は、当該各集液
管１６，１９に向けてそれぞれに傾斜しかつ起立面１７
で区画されている。
液管１６付の一方ガイド面１５が形成され、清浄処理液
溜め６５の上方には集液管１９付の他方ガイド面１８が
形成されている。両ガイド面１５，１８は、当該各集液
管１６，１９に向けてそれぞれに傾斜しかつ起立面１７
で区画されている。
【００３５】さらに、一方ガイド面１５の上方には、空
間Ｓを隔てて一方仕切面１１が形成され、他方ガイド面
１８の上方には他方仕切面１２が形成されている。両仕
切面１１，１２は、非連続とされその間に開口部１４を
形成する。
間Ｓを隔てて一方仕切面１１が形成され、他方ガイド面
１８の上方には他方仕切面１２が形成されている。両仕
切面１１，１２は、非連続とされその間に開口部１４を
形成する。
【００３６】集液手段３０は、支軸３２に左右方向に回
転傾斜可能に装着された集液トレイ３１から形成されて
いる。この集液トレイ３１の上面側には起立側板３３が
設けられかつ図３で左下面側にはフック３４が設けられ
ている。この集液トレイ３１は、グラビアシリンダ１と
エッチング処理液溜め２１との間に非介在状態（図３に
実線で示す状態）および２点鎖線で示す介在状態のいず
れかに選択切替えされる。
転傾斜可能に装着された集液トレイ３１から形成されて
いる。この集液トレイ３１の上面側には起立側板３３が
設けられかつ図３で左下面側にはフック３４が設けられ
ている。この集液トレイ３１は、グラビアシリンダ１と
エッチング処理液溜め２１との間に非介在状態（図３に
実線で示す状態）および２点鎖線で示す介在状態のいず
れかに選択切替えされる。
【００３７】このための選択切替手段４０は、リンク機
構から形成されている。すなわち、支軸４４に回動可能
に装着されかつ先端に球状の係合部４６が設けられたレ
バー４５と，基端部がピン４２で槽壁に回動可能に保持
されかつピストンロッドの先端がピン４３でレバー４５
の基端部に連結されたエアーシリンダ４１とから形成さ
れている。エアーシリンダ４１の動作方向により集液ト
レイ３１の傾斜方向（介在，非介在）を選択切替えるこ
とができる。
構から形成されている。すなわち、支軸４４に回動可能
に装着されかつ先端に球状の係合部４６が設けられたレ
バー４５と，基端部がピン４２で槽壁に回動可能に保持
されかつピストンロッドの先端がピン４３でレバー４５
の基端部に連結されたエアーシリンダ４１とから形成さ
れている。エアーシリンダ４１の動作方向により集液ト
レイ３１の傾斜方向（介在，非介在）を選択切替えるこ
とができる。
【００３８】エッチング処理手段２０は、従来例（図
８）の場合と同様な構成（２１〜２４）とされ、エッチ
ング処理液Ｑは塩化第２銅の水溶液とされている。ま
た、清浄処理手段６０も従来例（図８）の場合と同様な
構成（６１，６２）とされるが、本発明においてはエッ
チング処理槽１０Ｃ１内に設けられている。したがっ
て、従来例（図８）に示す清浄処理槽５０を省略するこ
とができるから、装置コストを大幅に削減でき、エッチ
ング処理後の清浄処理槽５０への搬送遅れという概念・
そのための時間も一掃できる。
８）の場合と同様な構成（２１〜２４）とされ、エッチ
ング処理液Ｑは塩化第２銅の水溶液とされている。ま
た、清浄処理手段６０も従来例（図８）の場合と同様な
構成（６１，６２）とされるが、本発明においてはエッ
チング処理槽１０Ｃ１内に設けられている。したがっ
て、従来例（図８）に示す清浄処理槽５０を省略するこ
とができるから、装置コストを大幅に削減でき、エッチ
ング処理後の清浄処理槽５０への搬送遅れという概念・
そのための時間も一掃できる。
【００３９】さらに、この実施形態では、補給手段７０
（ポンプ７１，補給管７２）を設け、エッチング処理液
Ｑの蒸発分水量を清浄処理液溜め６５内の清浄処理液
（水Ｗ）を再利用可能に形成してある。したがって、金
属塩の回収・再利用を図れるとともにピット６６の先に
配設された廃水処理装置（図示省略）の負担も軽減でき
る。
（ポンプ７１，補給管７２）を設け、エッチング処理液
Ｑの蒸発分水量を清浄処理液溜め６５内の清浄処理液
（水Ｗ）を再利用可能に形成してある。したがって、金
属塩の回収・再利用を図れるとともにピット６６の先に
配設された廃水処理装置（図示省略）の負担も軽減でき
る。
【００４０】かかる構成の第１の実施形態によれば、選
択切替手段４０を働かせて、集液トレイ３１を図１に実
線で示すように非介在状態に選択する。グラビアシリン
ダ１をＲ方向に回転させ、エッチング処理手段２０を駆
動する。エッチング処理ノズル２４から吹付けられたエ
ッチング処理液Ｑは、エッチング処理後にグラビアシリ
ンダ１から落下し、傾斜する一方および他方仕切面１
１，１２を経由して右傾斜した集液トレイ３１を通りか
つ一方ガイド面１５および集液管１６を通って、エッチ
ング処理液溜め２１に回収され、再利用される。
択切替手段４０を働かせて、集液トレイ３１を図１に実
線で示すように非介在状態に選択する。グラビアシリン
ダ１をＲ方向に回転させ、エッチング処理手段２０を駆
動する。エッチング処理ノズル２４から吹付けられたエ
ッチング処理液Ｑは、エッチング処理後にグラビアシリ
ンダ１から落下し、傾斜する一方および他方仕切面１
１，１２を経由して右傾斜した集液トレイ３１を通りか
つ一方ガイド面１５および集液管１６を通って、エッチ
ング処理液溜め２１に回収され、再利用される。
【００４１】エッチング処理後に、選択切替手段４０を
働かせて集液トレイ３１を２点鎖線で示すように介在状
態に選択切替えする。エッチング処理ノズル２４からの
エッチング処理液Ｑの吹付け終了直後に行える。
働かせて集液トレイ３１を２点鎖線で示すように介在状
態に選択切替えする。エッチング処理ノズル２４からの
エッチング処理液Ｑの吹付け終了直後に行える。
【００４２】清浄処理手段６０の清浄ノズル６２から回
転中のグラビアシリンダ１へ水（清浄処理液）Ｗを吹付
けて清浄処理する。したがって、エッチング処理液Ｑの
付着残存による各エッチングホール３の拡大変形および
方向性の発生を確実に防止することができる。
転中のグラビアシリンダ１へ水（清浄処理液）Ｗを吹付
けて清浄処理する。したがって、エッチング処理液Ｑの
付着残存による各エッチングホール３の拡大変形および
方向性の発生を確実に防止することができる。
【００４３】グラビアシリンダ１から落下した水Ｗは、
他方および一方仕切面１２，１１を経由して左傾斜した
集液トレイ３１を通りかつ他方ガイド面１８，集液管１
９を通って、清浄処理液溜め６５に回収される。一部は
補給手段７０によって再利用され、他はピット６６へ排
水される。
他方および一方仕切面１２，１１を経由して左傾斜した
集液トレイ３１を通りかつ他方ガイド面１８，集液管１
９を通って、清浄処理液溜め６５に回収される。一部は
補給手段７０によって再利用され、他はピット６６へ排
水される。
【００４４】集液トレイ３１上のエッチング処理液Ｑお
よび水（清浄処理液）Ｗは、側板３３によって目的方向
以外に飛散しない。また、一方ガイド面１５上のエッチ
ング処理液Ｑと他方ガイド面１８上の水Ｗとは、起立面
１７によって完全分離される。
よび水（清浄処理液）Ｗは、側板３３によって目的方向
以外に飛散しない。また、一方ガイド面１５上のエッチ
ング処理液Ｑと他方ガイド面１８上の水Ｗとは、起立面
１７によって完全分離される。
【００４５】また、集液トレイ３１と選択切替手段４０
との係合部（３４，４６）を集液トレイ３１の図１で左
側に設けてあるので、係合部（３４，４６）に付着する
液は、介在状態における水Ｗである。すなわち、エッチ
ング処理液Ｑの付着がないので、長期に亘る安定動作を
確約できる。
との係合部（３４，４６）を集液トレイ３１の図１で左
側に設けてあるので、係合部（３４，４６）に付着する
液は、介在状態における水Ｗである。すなわち、エッチ
ング処理液Ｑの付着がないので、長期に亘る安定動作を
確約できる。
【００４６】なお、他の表面処理（脱脂処理,酸洗処理,
防錆処理およびレジスト剥離処理）の場合も同様に機能
する。
防錆処理およびレジスト剥離処理）の場合も同様に機能
する。
【００４７】しかして、この第１の実施形態によれば、
シャワー処理槽（１０Ｃ１）内のグラビアシリンダ１と
その下方の表面処理液溜め（２１）との間に、介在状態
と非介在状態とを選択切替可能に形成された集液トレイ
３１を装着するとともに、表面処理（エッチング処理
等）の終了後に、清浄ノズル６２からグラビアシリンダ
１の周面に清浄処理液（水Ｗ）を吹付け可能、かつ介在
状態に選択された集液トレイ３１を通してグラビアシリ
ンダ１側から落下する清浄処理液を表面処理液溜め（２
１）以外の場所（６６）へ排出可能に形成されているの
で、表面処理液（Ｑ）の稀薄化を防止しつつ、従来搬送
の時間遅れによる品質劣悪化（例えば、エッチングホー
ルの浸蝕による拡大変形および方向性の発生）を一掃で
きるとともに、同一のシャワー処理槽（１０Ｃ１）内で
表面処理とその後の清浄処理を行えるから処理槽の数を
半減でき大幅な小型化および低コストを達成することが
できる。
シャワー処理槽（１０Ｃ１）内のグラビアシリンダ１と
その下方の表面処理液溜め（２１）との間に、介在状態
と非介在状態とを選択切替可能に形成された集液トレイ
３１を装着するとともに、表面処理（エッチング処理
等）の終了後に、清浄ノズル６２からグラビアシリンダ
１の周面に清浄処理液（水Ｗ）を吹付け可能、かつ介在
状態に選択された集液トレイ３１を通してグラビアシリ
ンダ１側から落下する清浄処理液を表面処理液溜め（２
１）以外の場所（６６）へ排出可能に形成されているの
で、表面処理液（Ｑ）の稀薄化を防止しつつ、従来搬送
の時間遅れによる品質劣悪化（例えば、エッチングホー
ルの浸蝕による拡大変形および方向性の発生）を一掃で
きるとともに、同一のシャワー処理槽（１０Ｃ１）内で
表面処理とその後の清浄処理を行えるから処理槽の数を
半減でき大幅な小型化および低コストを達成することが
できる。
【００４８】また、グラビアシリンダ１が鉄系素材から
形成され、かつ表面処理液が脱脂処理液,酸洗処理液,
防錆処理液,エッチング処理液およびレジスト剥離処理
液の中から選択されたいずれか１つの選択表面処理液に
も適応するものととされているので、各表面処理とその
後の各清浄処理とを連続的に行えるから、各表面処理品
質を一段と向上できる。
形成され、かつ表面処理液が脱脂処理液,酸洗処理液,
防錆処理液,エッチング処理液およびレジスト剥離処理
液の中から選択されたいずれか１つの選択表面処理液に
も適応するものととされているので、各表面処理とその
後の各清浄処理とを連続的に行えるから、各表面処理品
質を一段と向上できる。
【００４９】なお、グラビアシリンダ１がアルミニュウ
ム系素材から形成され場合の例えば図４（Ａ）に示す前
処理を含むめっき処理および図４（Ｂ）に示すエッチン
グ処理を含む完成処理に関するクロムめっき剥離処理・
水洗処理、エッチング処理・水洗処理やレジスト剥離処
理・水洗処理についても、それぞれ同様に実施すること
ができる。
ム系素材から形成され場合の例えば図４（Ａ）に示す前
処理を含むめっき処理および図４（Ｂ）に示すエッチン
グ処理を含む完成処理に関するクロムめっき剥離処理・
水洗処理、エッチング処理・水洗処理やレジスト剥離処
理・水洗処理についても、それぞれ同様に実施すること
ができる。
【００５０】（第２の実施形態）この第２の実施形態
は、基本的構成・機能は第１の実施形態（図３）の場合
と同様であるが、さらに複数種類の表面処理液を選択切
替えてグラビアシリンダ１の周面に当該選択表面処理液
を吹付けつつ、当該各選択表面処理を行えるように形成
するとともに、当該各選択表面処理が終了する度に、集
液トレイ３１を介在状態に選択切替えて、グラビアシリ
ンダ１の周面に清浄ノズル６２から清浄処理液（Ｗ）を
吹付け、かつグラビアシリンダ１側から落下する清浄処
理液を当該集液トレイ３１を通して表面処理液溜め（２
１）以外の場所（６６）へ排出しつつ、清浄処理を行え
るように形成し、しかも選択表面処理液の一部について
は清浄処理液の場合と同様に集液トレイ３１を介在状態
に選択切替えしたまま、グラビアシリンダ１側から落下
する当該選択表面処理液を集液トレイ３１を通して表面
処理液溜め（２１）以外の場所（６６）へ排出可能に形
成してある。
は、基本的構成・機能は第１の実施形態（図３）の場合
と同様であるが、さらに複数種類の表面処理液を選択切
替えてグラビアシリンダ１の周面に当該選択表面処理液
を吹付けつつ、当該各選択表面処理を行えるように形成
するとともに、当該各選択表面処理が終了する度に、集
液トレイ３１を介在状態に選択切替えて、グラビアシリ
ンダ１の周面に清浄ノズル６２から清浄処理液（Ｗ）を
吹付け、かつグラビアシリンダ１側から落下する清浄処
理液を当該集液トレイ３１を通して表面処理液溜め（２
１）以外の場所（６６）へ排出しつつ、清浄処理を行え
るように形成し、しかも選択表面処理液の一部について
は清浄処理液の場合と同様に集液トレイ３１を介在状態
に選択切替えしたまま、グラビアシリンダ１側から落下
する当該選択表面処理液を集液トレイ３１を通して表面
処理液溜め（２１）以外の場所（６６）へ排出可能に形
成してある。
【００５１】例として、グラビアシリンダ１がアルミニ
ュウム系素材から形成され、かつ図５（Ａ）に示す前処
理工程と図５（Ｂ）に示すエッチング処理を含むめっき
処理工程の場合について説明する。
ュウム系素材から形成され、かつ図５（Ａ）に示す前処
理工程と図５（Ｂ）に示すエッチング処理を含むめっき
処理工程の場合について説明する。
【００５２】すなわち、第１のシャワー処理槽（図３の
１０Ｃ１を参照）内において、例えば高価な界面活性剤
を含む図５（Ａ）の“１”に示す第１の中性アルカリ処
理の終了後は、集液トレイ３１を介在状態に選択切替え
てからグラビアシリンダ１の周面に清浄ノズル６２から
清浄処理液（Ｗ）を吹付け、かつグラビアシリンダ１側
から落下する清浄処理液（Ｗ）を当該集液トレイ３１を
通して表面処理液溜め（２１）以外の場所（６６）へ排
出しつつ、“２”に示す清浄処理（水洗処理）を行う。
したがって、界面活性剤の消耗が少なく中性アルカリ処
理液の希釈化も抑制できる。
１０Ｃ１を参照）内において、例えば高価な界面活性剤
を含む図５（Ａ）の“１”に示す第１の中性アルカリ処
理の終了後は、集液トレイ３１を介在状態に選択切替え
てからグラビアシリンダ１の周面に清浄ノズル６２から
清浄処理液（Ｗ）を吹付け、かつグラビアシリンダ１側
から落下する清浄処理液（Ｗ）を当該集液トレイ３１を
通して表面処理液溜め（２１）以外の場所（６６）へ排
出しつつ、“２”に示す清浄処理（水洗処理）を行う。
したがって、界面活性剤の消耗が少なく中性アルカリ処
理液の希釈化も抑制できる。
【００５３】次に、一部の表面処理液であるアルカリ処
理液（例えば、苛性ソーダ水溶液）を用いた“３”に示
すアルカリ処理（第２の表面処理）を行う。このアルカ
リ処理は、先の清浄処理（“２”）における清浄処理液
（Ｗ）の場合と同様に集液トレイ３１を介在状態に選択
切替えたままの状態で行う。当該表面処理液（アルカリ
処理液）は、集液トレイ３１を通して表面処理液溜め
（２１）以外の場所（６６）へ排出される。
理液（例えば、苛性ソーダ水溶液）を用いた“３”に示
すアルカリ処理（第２の表面処理）を行う。このアルカ
リ処理は、先の清浄処理（“２”）における清浄処理液
（Ｗ）の場合と同様に集液トレイ３１を介在状態に選択
切替えたままの状態で行う。当該表面処理液（アルカリ
処理液）は、集液トレイ３１を通して表面処理液溜め
（２１）以外の場所（６６）へ排出される。
【００５４】したがって、表面処理液溜め（２１）内の
高価な界面活性剤を含む中性アルカリ処理液にアルカリ
処理液が混入してしまうことがない。このアルカリ処理
終了後に、集液トレイ３１を介在状態にしたまま“４”
に示す清浄処理（水洗処理）をする。この清浄処理液
（水Ｗ）も表面処理液溜め以外の場所へ排出されるの
で、中性アルカリ処理液を希釈することはない。
高価な界面活性剤を含む中性アルカリ処理液にアルカリ
処理液が混入してしまうことがない。このアルカリ処理
終了後に、集液トレイ３１を介在状態にしたまま“４”
に示す清浄処理（水洗処理）をする。この清浄処理液
（水Ｗ）も表面処理液溜め以外の場所へ排出されるの
で、中性アルカリ処理液を希釈することはない。
【００５５】引続き、集液トレイ３１を介在状態とした
まま“５”に示す中和処理液（例えば、硝酸系水溶液）
を吹付けて中和処理（第３の表面処理）を行う。当該中
和処理液も集液トレイ３１を通して表面処理液溜め以外
の場所へ排出されるから、表面処理液溜め内の高価な界
面活性剤を含む中性アルカリ処理液に混入しない。この
中和処理終了後に集液トレイ３１をそのままとして
“６”に示す清浄処理（水洗処理）をする。この清浄処
理液も表面処理液溜め以外の場所へ排出されるので、中
性アルカリ処理液を希釈することはない。
まま“５”に示す中和処理液（例えば、硝酸系水溶液）
を吹付けて中和処理（第３の表面処理）を行う。当該中
和処理液も集液トレイ３１を通して表面処理液溜め以外
の場所へ排出されるから、表面処理液溜め内の高価な界
面活性剤を含む中性アルカリ処理液に混入しない。この
中和処理終了後に集液トレイ３１をそのままとして
“６”に示す清浄処理（水洗処理）をする。この清浄処
理液も表面処理液溜め以外の場所へ排出されるので、中
性アルカリ処理液を希釈することはない。
【００５６】かくして、中性アルカリ処理-清浄処理−
アルカリ処理−清浄処理−中和処理−清浄処理の如く複
数（３）種類の表面処理液を選択切替えしてグラビアシ
リンダ１の周面に吹付けつつ、各選択表面処理および当
該各清浄処理を順番に行える。しかも、アルカリ処理液
と中和処理液と清浄処理液とを、例えば同一のプール
（６６の先）へ排出すれば、廃水中和および中和後希釈
を省略することもできる。
アルカリ処理−清浄処理−中和処理−清浄処理の如く複
数（３）種類の表面処理液を選択切替えしてグラビアシ
リンダ１の周面に吹付けつつ、各選択表面処理および当
該各清浄処理を順番に行える。しかも、アルカリ処理液
と中和処理液と清浄処理液とを、例えば同一のプール
（６６の先）へ排出すれば、廃水中和および中和後希釈
を省略することもできる。
【００５７】また、図５（Ａ）の“７”に示すジンケー
ト処理（第４の表面処理）の場合には、グラビアシリン
ダ１を後置された第２のシャワー処理槽（図３の１０Ｃ
１を参照）へ移動させて、当該ジンケート処理−水洗処
理−ジンケート剥離処理−水洗処理−ジンケート処理−
水洗処理を同一シャワー処理槽内で行う。ジンケート剥
離処理は、集液トレイ３１を介在状態としたまま行う。
ト処理（第４の表面処理）の場合には、グラビアシリン
ダ１を後置された第２のシャワー処理槽（図３の１０Ｃ
１を参照）へ移動させて、当該ジンケート処理−水洗処
理−ジンケート剥離処理−水洗処理−ジンケート処理−
水洗処理を同一シャワー処理槽内で行う。ジンケート剥
離処理は、集液トレイ３１を介在状態としたまま行う。
【００５８】したがって、この第２の実施形態によれ
ば、同一のシャワー処理槽（１０Ｃ１）内で複数種類の
各表面処理とその後の当該各清浄処理を行えるから処理
槽の数を第１の実施形態の場合に比較してより大幅に削
減でき、かつ一層の小型化および低コストを達成するこ
とができることはもとより、生産時間をより大幅に短縮
できるからグラビアシリンダ１自体のコスト低減も促進
できる。
ば、同一のシャワー処理槽（１０Ｃ１）内で複数種類の
各表面処理とその後の当該各清浄処理を行えるから処理
槽の数を第１の実施形態の場合に比較してより大幅に削
減でき、かつ一層の小型化および低コストを達成するこ
とができることはもとより、生産時間をより大幅に短縮
できるからグラビアシリンダ１自体のコスト低減も促進
できる。
【００５９】すなわち、例えば図５（Ａ）に示す“１”
〜“１６”の工程において、従来例の場合は１６処理槽
が必要であったのに対して、本発明によれば“１”〜
“６”の１槽と,“７”〜“１２”の１槽と,“１３”お
よび“１４”の１槽と,“１５”および“１６”の２槽
との５処理槽ですむと理解される。
〜“１６”の工程において、従来例の場合は１６処理槽
が必要であったのに対して、本発明によれば“１”〜
“６”の１槽と,“７”〜“１２”の１槽と,“１３”お
よび“１４”の１槽と,“１５”および“１６”の２槽
との５処理槽ですむと理解される。
【００６０】（第３の実施形態）第１（および第２）の
実施形態においても、処理ノズル（例えば、エッチング
処理ノズル２４）と清浄ノズル６２とを一体的に形成し
てノズル（２４）の付着残存表面処理液（例えば、エッ
チング処理液）Ｑの乾きによる目詰を防止することがで
きるが、この第３の実施形態ではさらに図６に示すよう
にエッチング処理液Ｑ用のノズル（２４）と第１の清浄
処理液（例えば、希塩酸水溶液）Ｃ用のノズルと第２の
清浄処理液（水洗水）Ｗ用のノズルとを一体化形成して
ある。
実施形態においても、処理ノズル（例えば、エッチング
処理ノズル２４）と清浄ノズル６２とを一体的に形成し
てノズル（２４）の付着残存表面処理液（例えば、エッ
チング処理液）Ｑの乾きによる目詰を防止することがで
きるが、この第３の実施形態ではさらに図６に示すよう
にエッチング処理液Ｑ用のノズル（２４）と第１の清浄
処理液（例えば、希塩酸水溶液）Ｃ用のノズルと第２の
清浄処理液（水洗水）Ｗ用のノズルとを一体化形成して
ある。
【００６１】図６において、エッチング処理ノズル２４
には、エッチング処理液Ｑ用の供給管２３をその開閉弁
２９を介して接続される他、希塩酸水溶液（第１の清浄
処理液）Ｃ用の供給管２３Ａをその開閉弁２９Ａを介し
て接続するとともに、水（第２の清浄処理液）Ｗの供給
管６１もその開閉弁６９を介して接続されている。
には、エッチング処理液Ｑ用の供給管２３をその開閉弁
２９を介して接続される他、希塩酸水溶液（第１の清浄
処理液）Ｃ用の供給管２３Ａをその開閉弁２９Ａを介し
て接続するとともに、水（第２の清浄処理液）Ｗの供給
管６１もその開閉弁６９を介して接続されている。
【００６２】したがって、エッチング処理後に第１の清
浄処理液（Ｃ）を用いて清浄できるから、清浄効率を一
段と向上できるばかりか、最終的に第２の清浄処理液
（Ｗ）で水洗するので清浄品質を保証することができ
る。しかも、エッチング処理ノズル２４を水で毎回クリ
ーニングすることができるから、その目詰を一掃するこ
とができる。
浄処理液（Ｃ）を用いて清浄できるから、清浄効率を一
段と向上できるばかりか、最終的に第２の清浄処理液
（Ｗ）で水洗するので清浄品質を保証することができ
る。しかも、エッチング処理ノズル２４を水で毎回クリ
ーニングすることができるから、その目詰を一掃するこ
とができる。
【００６３】なお、以上の第１〜第３の実施形態では、
清浄処理液溜め６５をエッチング処理槽（シャワー処理
槽）１０Ｃ１内に配設したが、槽（１０Ｃ１）外に配設
してもよい。例えば図７に示す如く配管便宜等のための
小さな液溜めボックス６４を設け、ピット（清浄処理液
溜め）６６に直接排出するように形成してもよい。ま
た、集液トレイ３１は複数のトレイ要素３１Ａを実線で
示す介在状態と２点鎖線で示す非介在状態とに選択切替
可能に形成してもよい。処理槽の高さをより低くでき
る。
清浄処理液溜め６５をエッチング処理槽（シャワー処理
槽）１０Ｃ１内に配設したが、槽（１０Ｃ１）外に配設
してもよい。例えば図７に示す如く配管便宜等のための
小さな液溜めボックス６４を設け、ピット（清浄処理液
溜め）６６に直接排出するように形成してもよい。ま
た、集液トレイ３１は複数のトレイ要素３１Ａを実線で
示す介在状態と２点鎖線で示す非介在状態とに選択切替
可能に形成してもよい。処理槽の高さをより低くでき
る。
【００６４】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、処理槽内のグ
ラビアシリンダとその下方の表面処理液溜めとの間に、
介在状態と非介在状態とを選択切替可能な集液トレイを
装着し、表面処理の終了後に清浄ノズルから清浄処理液
を吹付け、かつ介在状態の集液トレイを通して清浄処理
液を表面処理液溜め以外の場所へ排出するグラビアシリ
ンダの表面処理装置であるから、次のような優れた効果
を奏することができる。 (１)表面処理直後からグラビアシンリンダを清浄処理す
ることができるから、表面処理品質を高められる。例え
ば、エッチング処理の場合、方向性がなく印刷適性に優
れたエッチング品質を得られる。よって、高品位印刷に
大きく貢献できる。 (２)各別の清浄処理槽自体を一掃できかつ表面処理槽か
ら従来清浄処理槽への搬送時間遅れを一掃できるので、
処理槽の数を半減できかつ装置コストの大幅な低減およ
びレイアウトスペースの縮小化を図れるとともに、生産
性を大幅に向上できる。 (３)表面ノズルと清浄ノズルとを一体的に形成でき得る
ので、ノズル詰りを防止できかつこの点からも表面処理
品質を確実に保証できかつ装置コストを低減できる。 (４)表面処理液の付着したグラビアシリンダを当該表面
処理槽外へ搬送する必要がないので、当該表面処理液の
落下による装置的，人的防護策を一掃することができ
る。
ラビアシリンダとその下方の表面処理液溜めとの間に、
介在状態と非介在状態とを選択切替可能な集液トレイを
装着し、表面処理の終了後に清浄ノズルから清浄処理液
を吹付け、かつ介在状態の集液トレイを通して清浄処理
液を表面処理液溜め以外の場所へ排出するグラビアシリ
ンダの表面処理装置であるから、次のような優れた効果
を奏することができる。 (１)表面処理直後からグラビアシンリンダを清浄処理す
ることができるから、表面処理品質を高められる。例え
ば、エッチング処理の場合、方向性がなく印刷適性に優
れたエッチング品質を得られる。よって、高品位印刷に
大きく貢献できる。 (２)各別の清浄処理槽自体を一掃できかつ表面処理槽か
ら従来清浄処理槽への搬送時間遅れを一掃できるので、
処理槽の数を半減できかつ装置コストの大幅な低減およ
びレイアウトスペースの縮小化を図れるとともに、生産
性を大幅に向上できる。 (３)表面ノズルと清浄ノズルとを一体的に形成でき得る
ので、ノズル詰りを防止できかつこの点からも表面処理
品質を確実に保証できかつ装置コストを低減できる。 (４)表面処理液の付着したグラビアシリンダを当該表面
処理槽外へ搬送する必要がないので、当該表面処理液の
落下による装置的，人的防護策を一掃することができ
る。
【００６５】(５)集液トレイの切替えによって表面処理
液と清浄処理液とを別の場所に排出できるから、表面処
理液の稀薄化を防止することができる。また、請求項２
の発明によれば、グラビアシリンダが鉄系素材から形成
されかつ表面処理液が脱脂処理液,酸洗処理液, 防錆処
理液,エッチング処理液およびレジスト剥離処理液の中
から選択されたいずれでもよいグラビアシリンダの表面
処理装置であるから、請求項１記載の発明の場合と同様
な効果を奏することができることに加え、さらに鉄系素
材のグラビアシリンダの表面処理品質を一段と向上でき
る。
液と清浄処理液とを別の場所に排出できるから、表面処
理液の稀薄化を防止することができる。また、請求項２
の発明によれば、グラビアシリンダが鉄系素材から形成
されかつ表面処理液が脱脂処理液,酸洗処理液, 防錆処
理液,エッチング処理液およびレジスト剥離処理液の中
から選択されたいずれでもよいグラビアシリンダの表面
処理装置であるから、請求項１記載の発明の場合と同様
な効果を奏することができることに加え、さらに鉄系素
材のグラビアシリンダの表面処理品質を一段と向上でき
る。
【００６６】また、請求項３の発明によれば、グラビア
シリンダがアルミニュウム系素材から形成されかつ表面
処理液が中和アルカリ処理液,アルカリ処理液,中和処理
液,ジンケート処理液,ジンケート剥離処理液,エッチン
グ処理液およびレジスト剥離処理液の中から選択された
いずれでもよいグラビアシリンダの表面処理装置である
から、請求項１記載の発明の場合と同様な効果を奏する
ことができることに加え、さらにアルミニュウム系素材
のグラビアシリンダの表面処理品質を一段と向上でき
る。
シリンダがアルミニュウム系素材から形成されかつ表面
処理液が中和アルカリ処理液,アルカリ処理液,中和処理
液,ジンケート処理液,ジンケート剥離処理液,エッチン
グ処理液およびレジスト剥離処理液の中から選択された
いずれでもよいグラビアシリンダの表面処理装置である
から、請求項１記載の発明の場合と同様な効果を奏する
ことができることに加え、さらにアルミニュウム系素材
のグラビアシリンダの表面処理品質を一段と向上でき
る。
【００６７】さらに、請求項４の発明によれば、表面処
理の終了後に集液トレイを介在状態に選択切替し、その
後に清浄ノズルから清浄処理液を吹付けかつ落下する当
該清浄処理液を集液トレイを通して表面処理液溜め以外
の場所へ排出しつつ清浄処理を行うグラビアシリンダの
表面処理方法であるから、表面処理とその後の清浄処理
とを同一の処理槽内で連続的に行える。したがって、表
面処理液の稀薄化を防止しつつ従来搬送時間遅れによる
品質劣悪化（例えば、エッチングホールの浸蝕による拡
大変形および方向性の発生）を一掃できるとともに、槽
数を半減でき大幅な小型化および低コストを達成するこ
とができる。
理の終了後に集液トレイを介在状態に選択切替し、その
後に清浄ノズルから清浄処理液を吹付けかつ落下する当
該清浄処理液を集液トレイを通して表面処理液溜め以外
の場所へ排出しつつ清浄処理を行うグラビアシリンダの
表面処理方法であるから、表面処理とその後の清浄処理
とを同一の処理槽内で連続的に行える。したがって、表
面処理液の稀薄化を防止しつつ従来搬送時間遅れによる
品質劣悪化（例えば、エッチングホールの浸蝕による拡
大変形および方向性の発生）を一掃できるとともに、槽
数を半減でき大幅な小型化および低コストを達成するこ
とができる。
【００６８】さらにまた、請求項５の発明によれば、請
求項１の発明の場合と同様な構成・機能に加え、さらに
複数種類の表面処理液を選択切替えてグラビアシリンダ
の周面に当該選択表面処理液を吹付けつつ、当該各選択
表面処理を行えるとともに、選択表面処理液の一部につ
いては清浄処理液の場合と同様に集液トレイを介在状態
に選択切替えたまま当該選択表面処理液を集液トレイを
通して表面処理液溜め以外の場所へ排出可能に形成され
たグラビアシリンダの表面処理装置であるから、同一の
処理槽内で複数種類の表面処理と当該各清浄処理とを連
続的に行える。したがって、処理槽の数をより大幅に削
減しつつ一層の小型化および低コストを達成することが
できることはもとより、生産時間をより大幅に短縮でき
るからグラビアシリンダ自体のコスト低減も飛躍的に促
進できる。
求項１の発明の場合と同様な構成・機能に加え、さらに
複数種類の表面処理液を選択切替えてグラビアシリンダ
の周面に当該選択表面処理液を吹付けつつ、当該各選択
表面処理を行えるとともに、選択表面処理液の一部につ
いては清浄処理液の場合と同様に集液トレイを介在状態
に選択切替えたまま当該選択表面処理液を集液トレイを
通して表面処理液溜め以外の場所へ排出可能に形成され
たグラビアシリンダの表面処理装置であるから、同一の
処理槽内で複数種類の表面処理と当該各清浄処理とを連
続的に行える。したがって、処理槽の数をより大幅に削
減しつつ一層の小型化および低コストを達成することが
できることはもとより、生産時間をより大幅に短縮でき
るからグラビアシリンダ自体のコスト低減も飛躍的に促
進できる。
【図１】本発明の第１の実施形態を示す概略図である。
【図２】同じく、鉄系素材製グラビアシリンダについて
の表面処理工程例（Ａ）,（Ｂ）,（Ｃ）を説明するため
の図である。
の表面処理工程例（Ａ）,（Ｂ）,（Ｃ）を説明するため
の図である。
【図３】同じく、処理槽の側断面図である。
【図４】同じく、アルミニュウム系素材製グラビアシリ
ンダについての表面処理工程例（Ａ）,（Ｂ）を説明す
るための図である。
ンダについての表面処理工程例（Ａ）,（Ｂ）を説明す
るための図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係るアルミニュウム
系素材製グラビアシリンダについての表面処理工程例
（Ａ）,（Ｂ）を説明するための図である。
系素材製グラビアシリンダについての表面処理工程例
（Ａ）,（Ｂ）を説明するための図である。
【図６】本発明の第３の実施形態を示す図である。
【図７】本発明の第１〜第３の実施形態に係る集液トレ
イの変形例を説明するための図である。
イの変形例を説明するための図である。
【図８】従来例を説明するための図である。
【図９】従来例による問題点を説明するための図であ
る。
る。
【図１０】従来例による鉄系素材製グラビアシリンダに
ついての表面処理工程例（Ａ）,（Ｂ）を説明するため
の図である。
ついての表面処理工程例（Ａ）,（Ｂ）を説明するため
の図である。
１ グラビアシリンダ
１０Ｃ１ エッチング処理槽（処理槽）
１１ 一方仕切面
１２ 他方仕切面
１４ 開口部
１５ 一方ガイド面
１７ 起立面
１８ 他方ガイド面
２０ エッチング処理手段（表面処理手段）
２１ エッチング処理液溜め（表面処理液溜め）
２４ エッチング処理ノズル（処理ノズル）
３０ 集液手段
３１ 集液トレイ
３４ フック
４０ 選択切替手段
４１ エアーシリンダ
４６ 係合部
５０ 従来の清浄処理槽
６０ 清浄処理手段
６２ 清浄ノズル
６５ 清浄処理液溜め（表面処理液溜め以外の場所）
７０ 補給手段
１００ ハンガー
Ｑ エッチング処理液（表面処理液）
Ｗ 水（清浄処理液）
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｃ２３Ｇ 5/04 Ｃ２３Ｇ 5/04
(72)発明者 薄田 仁志
東京都台東区雷門２丁目19番17号 株式
会社アルメックス内
(72)発明者 宇賀神 能文
東京都台東区雷門２丁目19番17号 株式
会社アルメックス内
(56)参考文献 特開 平６−114349（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−329567（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−310685（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B41N 3/03 501
B41N 3/08
B41F 35/00
C23F 1/00
C23G 3/00
C23G 5/04
Claims (5)
- 【請求項１】 保持されたグラビアシリンダを処理槽内
で回転させながら、当該グラビアシリンダの周面に処理
ノズルから表面処理液を吹付けつつ、表面処理を行うグ
ラビアシリンダの表面処理装置において、 前記処理槽内の前記グラビアシリンダとその下方の表面
処理液溜めとの間に、介在状態と非介在状態とを選択切
替可能に形成された集液トレイを装着するとともに、 前記表面処理の終了後に、清浄ノズルから前記グラビア
シリンダの周面に清浄処理液を吹付け可能かつ介在状態
に選択された集液トレイを通して、前記グラビアシリン
ダ側から落下する清浄処理液を表面処理液溜め以外の場
所へ排出可能に形成したグラビアシリンダの表面処理装
置。 - 【請求項２】 前記グラビアシリンダが鉄系素材から形
成され、かつ前記表面処理液が脱脂処理液,酸洗処理液,
防錆処理液,エッチング処理液およびレジスト剥離処理
液の中から選択されたいずれか１つの選択表面処理液と
されている請求項１記載のグラビアシリンダの表面処理
装置。 - 【請求項３】 前記グラビアシリンダがアルミニュウム
系素材から形成され、かつ前記表面処理液が中和アルカ
リ処理液,アルカリ処理液,中和処理液,ジンケート処理
液,ジンケート剥離処理液,エッチング処理液およびレジ
スト剥離処理液の中から選択されたいずれか１つの選択
表面処理液とされている請求項１記載のグラビアシリン
ダの表面処理装置。 - 【請求項４】 保持されたグラビアシリンダを処理槽内
で回転させながら、当該グラビアシリンダの周面に処理
ノズルから表面処理液を吹付け、かつ当該グラビアシリ
ンダ側から落下する当該表面処理液を当該処理槽内下方
の表面処理液溜めに回収しつつ、表面処理を行なうグラ
ビアシリンダの表面処理方法において、 前記表面処理の終了後に当該表面処理液の吹付けを停止
させるとともに、前記処理槽内の前記グラビアシリンダ
と前記表面処理液溜めとの間に集液トレイが介在状態に
なるように選択切替し、 その後に清浄ノズルから前記グラビアシリンダの周面に
清浄処理液を吹付け、かつ前記グラビアシリンダ側から
落下する当該清浄処理液を介在状態に選択切替えられた
集液トレイを通して前記表面処理液溜め以外の場所へ排
出しつつ清浄処理を行い、 しかる後に集液トレイを非介在状態に選択切替えて、交
換されたグラビアシリンダに前記表面処理液を吹付けて
前記表面処理を行うグラビアシリンダの表面処理方法。 - 【請求項５】 保持されたグラビアシリンダを回転させ
ながら当該グラビアシリンダの周面に処理ノズルから表
面処理液を吹付けつつ表面処理を行い、その後に清浄処
理液を用いてグラビアシリンダに付着した当該表面処理
液を清浄する清浄処理を行うグラビアシリンダの表面処
理装置において、 前記表面処理を行う処理槽内の前記グラビアシリンダと
その下方の表面処理液溜めとの間に、介在状態と非介在
状態とを選択切替可能に形成された集液トレイを装着
し、複数種類の表面処理液を選択切替えして前記グラビ
アシリンダの周面に当該選択表面処理液を吹付けつつ、
当該各選択表面処理を行えるように形成するとともに、 当該各選択表面処理が終了する度に、集液トレイを介在
状態に選択切替えて、前記グラビアシリンダの周面に清
浄ノズルから前記清浄処理液を吹付け、かつ前記グラビ
アシリンダ側から落下する当該各清浄処理液を当該集液
トレイを通して表面処理液溜め以外の場所へ排出しつ
つ、当該各清浄処理を行えるように形成し、しかも選択
表面処理液の一部については清浄処理液の場合と同様に
集液トレイを介在状態に選択切替えしたまま、前記グラ
ビアシリンダ側から落下する当該選択表面処理液を集液
トレイを通して表面処理液溜め以外の場所へ排出可能に
形成したグラビアシリンダの表面処理装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29460697A JP3433894B2 (ja) | 1997-03-21 | 1997-10-27 | グラビアシリンダの表面処理装置および方法 |
| KR1019970074563A KR19980079550A (ko) | 1997-03-21 | 1997-12-26 | 그라비어 실린더의 표면처리장치 및 방법 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-67644 | 1997-03-21 | ||
| JP6764497 | 1997-03-21 | ||
| JP29460697A JP3433894B2 (ja) | 1997-03-21 | 1997-10-27 | グラビアシリンダの表面処理装置および方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10324075A JPH10324075A (ja) | 1998-12-08 |
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