JP3429479B2 - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の層からなり
長手方向に搬送される帯状の試料の少なくとも１層の付
着量または厚さを、試料の幅方向に区分けされた区画ご
とに求める蛍光Ｘ線分析装置に関する。
長手方向に搬送される帯状の試料の少なくとも１層の付
着量または厚さを、試料の幅方向に区分けされた区画ご
とに求める蛍光Ｘ線分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、紙を長手方向に搬送しながらシ
リコーンをコーティングしてはく離紙とし、長手方向と
直交する幅方向に均等に区分けした区画ごとに（または
連続する数区画ごとに）長手方向（搬送方向）に沿って
裁断して、それぞれ製品としてのはく離紙とする製造ラ
インにおいては、各製品の品質管理のため、コーティン
グされたシリコーンの層の付着量を、前記区画ごとに求
めるのが望ましい。
リコーンをコーティングしてはく離紙とし、長手方向と
直交する幅方向に均等に区分けした区画ごとに（または
連続する数区画ごとに）長手方向（搬送方向）に沿って
裁断して、それぞれ製品としてのはく離紙とする製造ラ
インにおいては、各製品の品質管理のため、コーティン
グされたシリコーンの層の付着量を、前記区画ごとに求
めるのが望ましい。
【０００３】そこで、従来より、これに対応した蛍光Ｘ
線分析装置では、裁断前に、長手方向に搬送される帯状
のはく離紙である試料に対し、移動測定手段が、試料の
幅方向に所定速度で往復移動しながら１次Ｘ線を照射し
て、発生するけい素の蛍光Ｘ線の強度に応じた数のパル
スを単位時間に発生する。そして、演出手段が、前記所
定速度で移動測定手段が１区画を移動するのに要する移
動時間ごとに、移動測定手段で発生したパルス数を前記
移動時間で除して区画ごとの測定強度とし、その区画ご
との測定強度に基づいて、コーティングされたシリコー
ンの層の付着量を区画ごとに求める。ここで、移動測定
手段の移動速度は一定で、移動測定手段が１区画を移動
するのに要する移動時間も一定であるとしている。
線分析装置では、裁断前に、長手方向に搬送される帯状
のはく離紙である試料に対し、移動測定手段が、試料の
幅方向に所定速度で往復移動しながら１次Ｘ線を照射し
て、発生するけい素の蛍光Ｘ線の強度に応じた数のパル
スを単位時間に発生する。そして、演出手段が、前記所
定速度で移動測定手段が１区画を移動するのに要する移
動時間ごとに、移動測定手段で発生したパルス数を前記
移動時間で除して区画ごとの測定強度とし、その区画ご
との測定強度に基づいて、コーティングされたシリコー
ンの層の付着量を区画ごとに求める。ここで、移動測定
手段の移動速度は一定で、移動測定手段が１区画を移動
するのに要する移動時間も一定であるとしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、移動測定手段
の移動速度を厳密に一定に維持するのは実際には容易で
なく、ある程度は変動するので、その結果、測定強度と
区画との対応付け、ひいてはシリコーンの層の付着量と
区画との対応付けがずれてきて、シリコーンの層の付着
量を区画ごとに今一つ正確に求めることができない。
の移動速度を厳密に一定に維持するのは実際には容易で
なく、ある程度は変動するので、その結果、測定強度と
区画との対応付け、ひいてはシリコーンの層の付着量と
区画との対応付けがずれてきて、シリコーンの層の付着
量を区画ごとに今一つ正確に求めることができない。
【０００５】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、複数の層からなり長手方向に搬送される帯状の
試料の少なくとも１層の付着量または厚さを、試料の幅
方向に区分けされた区画ごとに正確に求めることのでき
る蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。
もので、複数の層からなり長手方向に搬送される帯状の
試料の少なくとも１層の付着量または厚さを、試料の幅
方向に区分けされた区画ごとに正確に求めることのでき
る蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の蛍光Ｘ線分析装置は、移動測定手段と、位
置検出手段と、演算手段とを備える。移動測定手段は、
複数の層からなり長手方向に搬送される帯状の試料に、
前記長手方向と直交する試料の幅方向に往復移動しなが
ら１次Ｘ線を照射して、発生する蛍光Ｘ線の強度に応じ
た数のパルスを単位時間に発生する。位置検出手段は、
移動測定手段の位置を検出する。演算手段は、位置検出
手段で検出した移動測定手段の位置に基づいて、試料の
幅方向に区分けされた区画ごとに移動測定手段で発生し
たパルス数および移動測定手段の移動時間を求め、区画
ごとにパルス数を移動時間で除した測定強度に基づい
て、前記複数の層のうちの少なくとも１層の付着量また
は厚さを区画ごとに求める。
に、本発明の蛍光Ｘ線分析装置は、移動測定手段と、位
置検出手段と、演算手段とを備える。移動測定手段は、
複数の層からなり長手方向に搬送される帯状の試料に、
前記長手方向と直交する試料の幅方向に往復移動しなが
ら１次Ｘ線を照射して、発生する蛍光Ｘ線の強度に応じ
た数のパルスを単位時間に発生する。位置検出手段は、
移動測定手段の位置を検出する。演算手段は、位置検出
手段で検出した移動測定手段の位置に基づいて、試料の
幅方向に区分けされた区画ごとに移動測定手段で発生し
たパルス数および移動測定手段の移動時間を求め、区画
ごとにパルス数を移動時間で除した測定強度に基づい
て、前記複数の層のうちの少なくとも１層の付着量また
は厚さを区画ごとに求める。
【０００７】本発明の装置によれば、演算手段が、位置
検出手段で検出した移動測定手段の位置に基づいて、区
画ごとに移動測定手段で実際に発生したパルス数および
移動測定手段の実際の移動時間を求め、区画ごとにパル
ス数を移動時間で除した測定強度に基づいて、前記複数
の層のうちの少なくとも１層の付着量または厚さを区画
ごとに求めるので、移動測定手段の移動速度に変動があ
っても測定強度ひいては付着量等と区画との対応付けが
ずれることがなく、区画ごとに正確に求めることができ
る。
検出手段で検出した移動測定手段の位置に基づいて、区
画ごとに移動測定手段で実際に発生したパルス数および
移動測定手段の実際の移動時間を求め、区画ごとにパル
ス数を移動時間で除した測定強度に基づいて、前記複数
の層のうちの少なくとも１層の付着量または厚さを区画
ごとに求めるので、移動測定手段の移動速度に変動があ
っても測定強度ひいては付着量等と区画との対応付けが
ずれることがなく、区画ごとに正確に求めることができ
る。
【０００８】本発明の装置は、試料が、紙にシリコーン
をコーティングしたはく離紙であって、前記付着量また
は厚さを求める層が、前記コーティングされたシリコー
ンの層である場合や、試料が、樹脂フィルムに磁性体を
コーティングした磁気テープであって、前記付着量また
は厚さを求める層が、前記コーティングされた磁性体の
層である場合に適用できる。また、前記位置検出手段
が、試料の幅方向における端からの移動測定手段の移動
距離を移動測定手段の位置として検出することが好まし
い。 〔発明の詳細な説明〕
をコーティングしたはく離紙であって、前記付着量また
は厚さを求める層が、前記コーティングされたシリコー
ンの層である場合や、試料が、樹脂フィルムに磁性体を
コーティングした磁気テープであって、前記付着量また
は厚さを求める層が、前記コーティングされた磁性体の
層である場合に適用できる。また、前記位置検出手段
が、試料の幅方向における端からの移動測定手段の移動
距離を移動測定手段の位置として検出することが好まし
い。 〔発明の詳細な説明〕
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態である
蛍光Ｘ線分析装置を図面にしたがって説明する。まず、
この装置の構成について説明する。図１の正面図に示す
ように、この装置は、移動測定手段１と、位置検出手段
２と、演算手段３とを備える。図２の平面図に示すよう
に、移動測定手段１は、複数の層４ａ，４ｂからなり長
手方向Ｚ（鉛直方向で例えば上向き）に搬送される帯状
の試料４に、前記長手方向Ｚと直交する試料４の幅方向
Ｘ（水平方向）に往復移動しながら１次Ｘ線５を照射し
て、発生する蛍光Ｘ線６の強度に応じた数のパルスを単
位時間に発生する。
蛍光Ｘ線分析装置を図面にしたがって説明する。まず、
この装置の構成について説明する。図１の正面図に示す
ように、この装置は、移動測定手段１と、位置検出手段
２と、演算手段３とを備える。図２の平面図に示すよう
に、移動測定手段１は、複数の層４ａ，４ｂからなり長
手方向Ｚ（鉛直方向で例えば上向き）に搬送される帯状
の試料４に、前記長手方向Ｚと直交する試料４の幅方向
Ｘ（水平方向）に往復移動しながら１次Ｘ線５を照射し
て、発生する蛍光Ｘ線６の強度に応じた数のパルスを単
位時間に発生する。
【００１０】この装置が適用される試料４は、紙４ｂに
シリコーン４ａをコーティング（塗布）したはく離紙４
である。移動測定手段１は、１次Ｘ線５を発生するＸ線
管と入射した蛍光Ｘ線６の強度に応じた数のパルスを単
位時間に発生するＸ線検出器とを含むヘッド部７を有し
ており、図１に示すように、脚８を介して床に固定され
た水平のレール９の上を、レール９に内蔵された図示し
ないパルスモータ、ボールねじ等により、はく離紙４の
幅方向Ｘに往復運動する。移動測定手段１は、移動に支
障がないように、柔軟なケーブルで、演算手段３等と電
気的に接続される。
シリコーン４ａをコーティング（塗布）したはく離紙４
である。移動測定手段１は、１次Ｘ線５を発生するＸ線
管と入射した蛍光Ｘ線６の強度に応じた数のパルスを単
位時間に発生するＸ線検出器とを含むヘッド部７を有し
ており、図１に示すように、脚８を介して床に固定され
た水平のレール９の上を、レール９に内蔵された図示し
ないパルスモータ、ボールねじ等により、はく離紙４の
幅方向Ｘに往復運動する。移動測定手段１は、移動に支
障がないように、柔軟なケーブルで、演算手段３等と電
気的に接続される。
【００１１】位置検出手段２は、はく離紙４の幅方向Ｘ
における端Ａ，Ｗを検出するために移動測定手段１には
く離紙４の幅方向Ｘに並べて取り付けられた１対の反射
型フォトセンサ１０Ａ，１０Ｂ、前記レール９内蔵のパ
ルスモータに連結されてその回転数を検出するロータリ
ーエンコーダ（図示しない）等を含み、はく離紙４の幅
方向Ｘにおける端Ａ，Ｗからの移動測定手段１の移動距
離（より具体的にはパルスモータの回転数）を移動測定
手段１の位置として検出する。
における端Ａ，Ｗを検出するために移動測定手段１には
く離紙４の幅方向Ｘに並べて取り付けられた１対の反射
型フォトセンサ１０Ａ，１０Ｂ、前記レール９内蔵のパ
ルスモータに連結されてその回転数を検出するロータリ
ーエンコーダ（図示しない）等を含み、はく離紙４の幅
方向Ｘにおける端Ａ，Ｗからの移動測定手段１の移動距
離（より具体的にはパルスモータの回転数）を移動測定
手段１の位置として検出する。
【００１２】演算手段３は、位置検出手段２で検出した
移動測定手段１の位置に基づいて、はく離紙４の幅方向
Ｘに区分けされた区画ごとに移動測定手段１で発生した
パルス数および移動測定手段１の移動時間を求め、区画
ごとにパルス数を移動時間で除した測定強度に基づい
て、前記コーティングされたシリコーンの層４ａの付着
量を区画ごとに求める。
移動測定手段１の位置に基づいて、はく離紙４の幅方向
Ｘに区分けされた区画ごとに移動測定手段１で発生した
パルス数および移動測定手段１の移動時間を求め、区画
ごとにパルス数を移動時間で除した測定強度に基づい
て、前記コーティングされたシリコーンの層４ａの付着
量を区画ごとに求める。
【００１３】次に、この装置の動作について説明する。
例えば１００〜６００ｍ／分の範囲の一定速度で下から
上へ搬送されるはく離紙４に対し、移動測定手段１が、
例えば２０ｍｍ／秒の速度で、まず、左から右に向かっ
て移動して、図３に示すように、１対の反射型フォトセ
ンサ１０Ａ，１０Ｂの間にはく離紙４の左端Ａがくる
と、位置検出手段２からの信号により、演算手段３は、
移動測定手段１（のヘッド部７の受光中心）がはく離紙
４の左端Ａに位置することを認識する。
例えば１００〜６００ｍ／分の範囲の一定速度で下から
上へ搬送されるはく離紙４に対し、移動測定手段１が、
例えば２０ｍｍ／秒の速度で、まず、左から右に向かっ
て移動して、図３に示すように、１対の反射型フォトセ
ンサ１０Ａ，１０Ｂの間にはく離紙４の左端Ａがくる
と、位置検出手段２からの信号により、演算手段３は、
移動測定手段１（のヘッド部７の受光中心）がはく離紙
４の左端Ａに位置することを認識する。
【００１４】さて、今、ヘッド部７のＸ方向の幅が２０
ｍｍであるとすると、はく離紙４の左右の端部各２０ｍ
ｍについては、ヘッド部７が移動中はく離紙４に完全に
は対面せず、不正確な測定強度しか得られないので、こ
れらの両端部Ａ−Ｂ，Ｖ−Ｗは、不感帯として測定対象
としないこととする（測定してもデータを採用しな
い）。そして、不感帯Ａ−Ｂ，Ｖ−Ｗを除いたはく離紙
４の部分Ｂ−Ｖを、２０ｍｍずつに区分けして、区画Ｂ
−Ｃ，Ｃ−Ｄ，…Ｔ−Ｕ，Ｕ−Ｖを設定している。した
がって、移動測定手段１が、さらに移動して、図４に示
すように、区画Ｂ−Ｃの左端すなわち境界Ｂに位置した
ときが、実際の測定開始である。移動測定手段１が、そ
のような位置にきたことは、はく離紙４の左端Ａの位置
から区画Ａ−Ｂの幅２０ｍｍを移動する分だけ前記レー
ル内蔵のパルスモータが回転したことを位置検出手段２
のロータリーエンコーダが検出することにより、演算手
段３が認識する。
ｍｍであるとすると、はく離紙４の左右の端部各２０ｍ
ｍについては、ヘッド部７が移動中はく離紙４に完全に
は対面せず、不正確な測定強度しか得られないので、こ
れらの両端部Ａ−Ｂ，Ｖ−Ｗは、不感帯として測定対象
としないこととする（測定してもデータを採用しな
い）。そして、不感帯Ａ−Ｂ，Ｖ−Ｗを除いたはく離紙
４の部分Ｂ−Ｖを、２０ｍｍずつに区分けして、区画Ｂ
−Ｃ，Ｃ−Ｄ，…Ｔ−Ｕ，Ｕ−Ｖを設定している。した
がって、移動測定手段１が、さらに移動して、図４に示
すように、区画Ｂ−Ｃの左端すなわち境界Ｂに位置した
ときが、実際の測定開始である。移動測定手段１が、そ
のような位置にきたことは、はく離紙４の左端Ａの位置
から区画Ａ−Ｂの幅２０ｍｍを移動する分だけ前記レー
ル内蔵のパルスモータが回転したことを位置検出手段２
のロータリーエンコーダが検出することにより、演算手
段３が認識する。
【００１５】移動測定手段１が、さらに移動して、図５
に示すように、区画Ｂ−Ｃの右端すなわち境界Ｃに位置
したときが、区画Ｂ−Ｃの測定終了であり、同時に、区
画Ｃ−Ｄの測定開始である。移動測定手段１が、そのよ
うな位置にきたことは、はく離紙４の左端Ａの位置から
区画Ａ−Ｂおよび区画Ｂ−Ｃの幅４０ｍｍを移動する分
だけ前記レール内蔵のパルスモータが回転したことを位
置検出手段２のロータリーエンコーダが検出することに
より、演算手段３が認識する。そして、演算手段３は、
区画Ｂ−Ｃを移動中に移動測定手段１が発生したパルス
数を求めるとともに、内蔵する時計により区画Ｂ−Ｃを
移動測定手段１が移動するのに要した移動時間を求め、
区画Ｂ−Ｃにおけるパルス数を移動時間で除して区画Ｂ
−Ｃの測定強度とし、その測定強度に基づいて、具体的
には所定の演算式にその測定強度を代入して、区画Ｂ−
Ｃにおけるシリコーンの層４ａの付着量を求める。
に示すように、区画Ｂ−Ｃの右端すなわち境界Ｃに位置
したときが、区画Ｂ−Ｃの測定終了であり、同時に、区
画Ｃ−Ｄの測定開始である。移動測定手段１が、そのよ
うな位置にきたことは、はく離紙４の左端Ａの位置から
区画Ａ−Ｂおよび区画Ｂ−Ｃの幅４０ｍｍを移動する分
だけ前記レール内蔵のパルスモータが回転したことを位
置検出手段２のロータリーエンコーダが検出することに
より、演算手段３が認識する。そして、演算手段３は、
区画Ｂ−Ｃを移動中に移動測定手段１が発生したパルス
数を求めるとともに、内蔵する時計により区画Ｂ−Ｃを
移動測定手段１が移動するのに要した移動時間を求め、
区画Ｂ−Ｃにおけるパルス数を移動時間で除して区画Ｂ
−Ｃの測定強度とし、その測定強度に基づいて、具体的
には所定の演算式にその測定強度を代入して、区画Ｂ−
Ｃにおけるシリコーンの層４ａの付着量を求める。
【００１６】以下同様に、区画Ｃ−Ｄ，…Ｔ−Ｕ，Ｕ−
Ｖにおけるシリコーンの層４ａの付着量をそれぞれ求め
る。区画Ｖ−Ｗは、前述したように、不感帯として測定
対象とせず、反射型フォトセンサ１０Ａ，１０Ｂの間に
はく離紙４の右端Ｗがくると、位置検出手段２からの信
号により、演算手段３は、移動測定手段１がはく離紙４
の右端Ｗに位置することを認識し、移動測定手段１の移
動の方向は右向きから左向きに変更される。
Ｖにおけるシリコーンの層４ａの付着量をそれぞれ求め
る。区画Ｖ−Ｗは、前述したように、不感帯として測定
対象とせず、反射型フォトセンサ１０Ａ，１０Ｂの間に
はく離紙４の右端Ｗがくると、位置検出手段２からの信
号により、演算手段３は、移動測定手段１がはく離紙４
の右端Ｗに位置することを認識し、移動測定手段１の移
動の方向は右向きから左向きに変更される。
【００１７】そして、今度は、左へ移動しながら、区画
Ｕ−Ｖ，Ｔ−Ｕ，…Ｃ−Ｄ，Ｂ−Ｃの順に、前述したの
と同様に区画ごとにシリコーンの層４ａの付着量を求め
る。区画Ａ−Ｂは、前述したように、不感帯として測定
対象とせず、反射型フォトセンサ１０Ａ，１０Ｂの間に
はく離紙４の左端Ａがくると、位置検出手段２からの信
号により、演算手段３は、移動測定手段１がはく離紙４
の左端Ａに位置することを認識し、移動測定手段１の移
動の方向は左向きから右向きに変更される。
Ｕ−Ｖ，Ｔ−Ｕ，…Ｃ−Ｄ，Ｂ−Ｃの順に、前述したの
と同様に区画ごとにシリコーンの層４ａの付着量を求め
る。区画Ａ−Ｂは、前述したように、不感帯として測定
対象とせず、反射型フォトセンサ１０Ａ，１０Ｂの間に
はく離紙４の左端Ａがくると、位置検出手段２からの信
号により、演算手段３は、移動測定手段１がはく離紙４
の左端Ａに位置することを認識し、移動測定手段１の移
動の方向は左向きから右向きに変更される。
【００１８】このようにして、移動測定手段１の往復移
動を続けながら、区画ごとにシリコーンの層４ａの付着
量を求める。なお、測定強度やシリコーンの層４ａの付
着量を求める演算そのものは、区画を移動するたびに行
わず、後でまとめて行ってもよい。また、区画の幅は均
等でなくてもよい。
動を続けながら、区画ごとにシリコーンの層４ａの付着
量を求める。なお、測定強度やシリコーンの層４ａの付
着量を求める演算そのものは、区画を移動するたびに行
わず、後でまとめて行ってもよい。また、区画の幅は均
等でなくてもよい。
【００１９】以上のように、本実施形態の装置によれ
ば、演算手段３が、位置検出手段２で検出した移動測定
手段１の位置に基づいて、区画ごとに移動測定手段１で
実際に発生したパルス数および移動測定手段１の実際の
移動時間を求め、区画ごとにパルス数を移動時間で除し
た測定強度に基づいて、シリコーンの層４ａの付着量を
区画ごとに求めるので、移動測定手段１の移動速度に変
動があっても測定強度ひいては付着量と区画との対応付
けがずれることがなく、区画ごとに正確に求めることが
できる。
ば、演算手段３が、位置検出手段２で検出した移動測定
手段１の位置に基づいて、区画ごとに移動測定手段１で
実際に発生したパルス数および移動測定手段１の実際の
移動時間を求め、区画ごとにパルス数を移動時間で除し
た測定強度に基づいて、シリコーンの層４ａの付着量を
区画ごとに求めるので、移動測定手段１の移動速度に変
動があっても測定強度ひいては付着量と区画との対応付
けがずれることがなく、区画ごとに正確に求めることが
できる。
【００２０】また、前述した従来の技術のように移動測
定手段の位置を試料の端からの移動時間に基づいて推定
すると、移動速度が実際には一定でないことから、推定
した位置と実際の位置とがずれて、不感帯に隣接する区
画において、所定の移動時間すなわち測定時間に満たな
い半端な測定データが得られることがあるが、そのよう
な測定データは、不正確なものとして不感帯における測
定データとともに不採用とせざるを得ず、測定の無駄が
多くなる。これに対し、本実施形態の装置では、位置検
出手段２で検出した移動測定手段１の位置に基づいて、
区画ごとに移動測定手段１で実際に発生したパルス数お
よび移動測定手段１の実際の移動時間を求めるので、そ
のような半端な測定データが生じることはなく、測定に
無駄がない。
定手段の位置を試料の端からの移動時間に基づいて推定
すると、移動速度が実際には一定でないことから、推定
した位置と実際の位置とがずれて、不感帯に隣接する区
画において、所定の移動時間すなわち測定時間に満たな
い半端な測定データが得られることがあるが、そのよう
な測定データは、不正確なものとして不感帯における測
定データとともに不採用とせざるを得ず、測定の無駄が
多くなる。これに対し、本実施形態の装置では、位置検
出手段２で検出した移動測定手段１の位置に基づいて、
区画ごとに移動測定手段１で実際に発生したパルス数お
よび移動測定手段１の実際の移動時間を求めるので、そ
のような半端な測定データが生じることはなく、測定に
無駄がない。
【００２１】なお、本実施形態の装置は、図２で、試料
４が、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）か
らなる樹脂フィルム４ｂにＦe である磁性体４ａとＦe
Ｃoである磁性体４ｃ（４ｃは、図示しないが、４ｂに
対し４ａと同じ側にある）をコーティング（塗布または
蒸着）した磁気テープ４であって、付着量または厚さを
求める層が、コーティングされたＦe の層４ａおよびＦ
e Ｃo の層４ｃである場合にも適用できる。この場合
は、Ｆe およびＣo の蛍光Ｘ線６の強度をそれぞれ前述
したのと同様に測定して、各層４ａ，４ｃの付着量また
は厚さを求める。また、搬送される磁気テープは、幅方
向の両端において磁性体４ａ，４ｃがコーティングされ
ていない透明のＰＥＴフィルムだけの部分を有する場合
があるが、この部分は、本装置の分析対象である試料４
には含めないものとする。すなわち、位置検出手段２が
反射型フォトセンサ１０Ａ，１０Ｂで検出する磁気テー
プ４の幅方向Ｘにおける端は、磁性体４ａ，４ｃがコー
ティングされている部分の端である。
４が、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）か
らなる樹脂フィルム４ｂにＦe である磁性体４ａとＦe
Ｃoである磁性体４ｃ（４ｃは、図示しないが、４ｂに
対し４ａと同じ側にある）をコーティング（塗布または
蒸着）した磁気テープ４であって、付着量または厚さを
求める層が、コーティングされたＦe の層４ａおよびＦ
e Ｃo の層４ｃである場合にも適用できる。この場合
は、Ｆe およびＣo の蛍光Ｘ線６の強度をそれぞれ前述
したのと同様に測定して、各層４ａ，４ｃの付着量また
は厚さを求める。また、搬送される磁気テープは、幅方
向の両端において磁性体４ａ，４ｃがコーティングされ
ていない透明のＰＥＴフィルムだけの部分を有する場合
があるが、この部分は、本装置の分析対象である試料４
には含めないものとする。すなわち、位置検出手段２が
反射型フォトセンサ１０Ａ，１０Ｂで検出する磁気テー
プ４の幅方向Ｘにおける端は、磁性体４ａ，４ｃがコー
ティングされている部分の端である。
【００２２】さらに、本発明の装置は、例えばＰＥＴか
らなる樹脂フィルムにＳi Ｏ2 およびＡl2Ｏ3 をコーテ
ィング（蒸着）した密封用フィルム等のように全体が透
明である試料にも適用できる。この場合には、前記反射
型フォトセンサに代えて超音波センサを用いることによ
り、試料の幅方向における端を検出できる。
らなる樹脂フィルムにＳi Ｏ2 およびＡl2Ｏ3 をコーテ
ィング（蒸着）した密封用フィルム等のように全体が透
明である試料にも適用できる。この場合には、前記反射
型フォトセンサに代えて超音波センサを用いることによ
り、試料の幅方向における端を検出できる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
複数の層からなり長手方向に搬送される帯状の試料の少
なくとも１層の付着量または厚さを、試料の幅方向に区
分けされた区画ごとに求める蛍光Ｘ線分析装置におい
て、演算手段が、位置検出手段で検出した移動測定手段
の位置に基づいて、区画ごとに移動測定手段で実際に発
生したパルス数および移動測定手段の実際の移動時間を
求め、区画ごとにパルス数を移動時間で除した測定強度
に基づいて、前記複数の層のうちの少なくとも１層の付
着量または厚さを区画ごとに求めるので、移動測定手段
の移動速度に変動があっても測定強度ひいては付着量等
と区画との対応付けがずれることがなく、区画ごとに正
確に求めることができる。
複数の層からなり長手方向に搬送される帯状の試料の少
なくとも１層の付着量または厚さを、試料の幅方向に区
分けされた区画ごとに求める蛍光Ｘ線分析装置におい
て、演算手段が、位置検出手段で検出した移動測定手段
の位置に基づいて、区画ごとに移動測定手段で実際に発
生したパルス数および移動測定手段の実際の移動時間を
求め、区画ごとにパルス数を移動時間で除した測定強度
に基づいて、前記複数の層のうちの少なくとも１層の付
着量または厚さを区画ごとに求めるので、移動測定手段
の移動速度に変動があっても測定強度ひいては付着量等
と区画との対応付けがずれることがなく、区画ごとに正
確に求めることができる。
【図１】本発明の一実施形態である蛍光Ｘ線分析装置を
示す正面図である。
示す正面図である。
【図２】同装置の移動測定手段を示す平面図である。
【図３】試料の左端に位置する同装置の移動測定手段を
示す正面図である。
示す正面図である。
【図４】区画Ｂ−Ｃの左端に位置する同装置の移動測定
手段を示す正面図である。
手段を示す正面図である。
【図５】同区画Ｂ−Ｃの右端に位置する同装置の移動測
定手段を示す正面図である。
定手段を示す正面図である。
１…移動測定手段、２…位置検出手段、３…演算手段、
４…試料（はく離紙）、４ａ…付着量または厚さを求め
る層（シリコーンの層）、４ｂ…紙、５…１次Ｘ線、６
…蛍光Ｘ線、Ｘ…試料の幅方向、Ｚ…試料の長手方向
（搬送方向）。
４…試料（はく離紙）、４ａ…付着量または厚さを求め
る層（シリコーンの層）、４ｂ…紙、５…１次Ｘ線、６
…蛍光Ｘ線、Ｘ…試料の幅方向、Ｚ…試料の長手方向
（搬送方向）。
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の層からなり長手方向に搬送される
帯状の試料に、前記長手方向と直交する試料の幅方向に
往復移動しながら１次Ｘ線を照射して、発生する蛍光Ｘ
線の強度に応じた数のパルスを単位時間に発生する移動
測定手段と、 その移動測定手段の位置を検出する位置検出手段と、 その位置検出手段で検出した移動測定手段の位置に基づ
いて、試料の幅方向に区分けされた区画ごとに前記移動
測定手段で発生したパルス数および前記移動測定手段の
移動時間を求め、区画ごとにパルス数を移動時間で除し
た測定強度に基づいて、前記複数の層のうちの少なくと
も１層の付着量または厚さを区画ごとに求める演算手段
とを備えた蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 請求項１において、 前記試料が、紙にシリコーンをコーティングしたはく離
紙であって、前記付着量または厚さを求める層が、前記
コーティングされたシリコーンの層であり、 前記位置検出手段が、試料の幅方向における端からの移
動測定手段の移動距離を移動測定手段の位置として検出
する蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項３】 請求項１において、 前記試料が、樹脂フィルムに磁性体をコーティングした
磁気テープであって、前記付着量または厚さを求める層
が、前記コーティングされた磁性体の層であり、 前記位置検出手段が、試料の幅方向における端からの移
動測定手段の移動距離を移動測定手段の位置として検出
する蛍光Ｘ線分析装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000214278A JP3429479B2 (ja) | 2000-07-14 | 2000-07-14 | 蛍光ｘ線分析装置 |
| US09/672,773 US6404847B1 (en) | 1999-10-01 | 2000-09-29 | Continuously scanning X-ray analyzer having improved readiness and accuracy |
| DE10048398A DE10048398B4 (de) | 1999-10-01 | 2000-09-29 | Kontinuierlich abtastender Röntgenanalysator mit verbesserter Verfügbarkeit und Genauigkeit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000214278A JP3429479B2 (ja) | 2000-07-14 | 2000-07-14 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002031521A JP2002031521A (ja) | 2002-01-31 |
| JP3429479B2 true JP3429479B2 (ja) | 2003-07-22 |
Family
ID=18709885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000214278A Expired - Fee Related JP3429479B2 (ja) | 1999-10-01 | 2000-07-14 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3429479B2 (ja) |
-
2000
- 2000-07-14 JP JP2000214278A patent/JP3429479B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002031521A (ja) | 2002-01-31 |
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