JP3407271B2 - 重合体結合増感剤 - Google Patents

重合体結合増感剤

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は全般的には半導体集
積回路の製造に使用するためのフォトレジスト組成物に
関するものであり、さらに具体的には(i)紫外線、X
線、イオン・ビーム、電子線などのエネルギー源への露
出を含む、リソグラフィ工程のための増感剤、(ii)
遠紫外線ポジティブまたはネガティブ・フォトレジスト
のための可溶性染料、ならびに(iii)三元重合体の
酸に不安定なフォトレジスト処方における重合体主鎖、
として使用するのに適したフォトレジスト組成物に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】リソグラフィ工程は、集積回路チップな
どの半導体装置の製造に使用されている。この工程は通
常、たとえば露光により反応するフォトレジスト材料の
層を、スピン・コーティングなどの手段により回路チッ
プ・ウェーハなどの装置の基板上に付着させ、装置を通
常は約110℃でベーキングして(140℃を超える温
度で高温ベーキングを行う場合もあるが)フォトレジス
ト層を硬化させ、フォトレジスト層を部分的に、紫外線
(UV)などの光線、またはX線、イオン・ビーム、電
子線などの他のイオン化放射に選択的に露出し、フォト
レジスト層を水酸化テトラメチルアンモニウム(TMA
H)などの塩基性現像液で洗浄して現像して、照射され
ない部分(ネガティブ・フォトレジストの場合)または
照射された部分(ポジティブ・フォトレジストの場合)
を除去する工程が含まれる。この方法は、代表的なフォ
トレジスト材料とともに、本明細書の参考文献である
W.モロー(W. Moreau)著、「Semiconductor Lithogr
aphy」Plenum Press、1989年に記載されている。
【0003】フォトレジスト材料は、重合体樹脂、光化
学的酸発生剤、および架橋剤を注型用溶剤に溶解するこ
とにより処方される。増感用助剤(一般に増感剤と呼ば
れている)を処方に添加して、フォトレジスト処方の感
光度を増大させる。フォトレジストに添加する増感剤の
量を変化させることにより、現像工程の光学的速度を変
化させることができる。
【0004】既存の増感の重要な技術的制限は、増感剤
がフォトレジストの注型用溶剤または現像液に高度に可
溶性ではなく、したがって、フォトレジスト処方で利用
される増感剤の濃度が限定されることである。第二に、
既存の増感剤は、ベーキング工程中に昇華しやすく、こ
のためフォトレジスト処方中の増感剤が減少することで
ある。さらに、昇華した増感剤がベーキング用具をコー
ティングし、後の工程でこれがはがれ落ちて装置に再付
着することがあり、さらに問題を生じる原因となること
がある。
【0005】フォトレジスト処方に使用するための各種
の増感剤が開発されているが、フォトレジストの注型用
溶剤または現像液への溶解度が低いことによる問題は解
決されていない。
【0006】たとえば、米国特許第4371605号明
細書には、光重合が可能な組成物の処方に増感剤として
使用できるいくつかのアントラセン誘導体が開示されて
いる。しかし、この特許は増感剤の溶解度が低いことに
よる問題には触れていない。
【0007】米国特許第5296332号明細書には、
高感度でコントラストが高く、熱に安定な、遠紫外線、
イオン・ビーム、電子線、およびX線リソグラフィに使
用するためのフォトレジスト組成物が開示されている。
開示された組成物は水性塩基現像液で現像が可能である
が、増感剤の昇華と、昇華した増感剤が半導体装置に物
理的に析出する可能性がある問題については、依然解決
されていない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】したがって、フォトレ
ジストの注型用溶剤および現像液への溶解度が高く、フ
ォトレジスト処方中の増感剤の濃度を高めることが可能
で、しかもベーキング工程中の増感剤の昇華がなく、し
たがって昇華した増感剤が現像工程中に析出することの
ない増感剤を開発する必要がある。
【0009】
【課題を解決するための手段】リソグラフィ工程のため
のフォトレジスト処方中の増感剤として使用するのに適
した組成物を開示する。この組成物は、代表的な単量体
増感剤、たとえば9−アントラセンメタノールと、塩基
可溶性長鎖重合体、たとえばポリ−4−ヒドロキシスチ
レン(PHS)からなる。単量体増感剤は、重合体の主
鎖に化学的に結合して、重合体結合増感剤(PBS)を
生成する。重合体の主鎖は塩基可溶性が高いので、得ら
れたPBSはフォトレジストの注型用溶剤および現像液
への溶解度が高い。さらに、各種の量の単量体増感剤を
重合体の主鎖に結合させることができるので、フォトレ
ジスト処方中で使用する増感剤の濃度が限定されなくな
る。さらに、PBSは、結合しない単量体増感剤と、露
出および増感特性が同等である。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明は各種の形態で実施するこ
とができるが、本発明の好ましい実施例について下記に
示す。しかし、この開示は本発明の原理を例示するもの
であり、本発明は説明する実施例に限定されるものでは
ない。
【0011】本発明によるフォトレジスト組成物は、い
くつかの用途がある。第一は、フォトレジスト処方中の
増感剤としての用途である。この組成物は、ポジティブ
・フォトレジストの注型用溶剤にも、ネガティブ・フォ
トレジストの注型用溶剤にも、また水酸化テトラメチル
アンモニウム(TMAH)などの金属イオンを含有しな
い現像液にも溶解性が高く、したがってベーキング工程
中に昇華することなく、昇華した増感剤が後の工程中に
物理的に析出することがない。この組成物は、本出願で
は重合体結合増感剤(PBS)と称するが、分子量が
1,000〜250,000の範囲の塩基可溶性長鎖重
合体に結合した単量体増感剤である。PBSに結合する
単量体増感剤の濃度は、1〜25モル%の範囲、好まし
くは1〜15モル%の範囲である。単量体増感剤と重合
体を結合させる好ましい方法は、水酸基(−OH)は変
化しない、すなわち単量体増感剤によって置換されな
い、フリーデル・クラフト反応によるアルキル化型反応
などの酸触媒アルキル化機構である。
【0012】一般に、フォトレジスト処方は、重合体樹
脂、光化学的酸発生剤(PAG)、および架橋剤が注型
用溶剤に溶解したものからなる。任意で、処方の感光性
を増大させるために増感剤を添加する。本発明の1実施
例によるフォトレジスト処方では、PBSは、増感剤と
して機能する。本発明の代替実施例では、PBSは、増
感剤としても重合体樹脂としても機能する。しかし、重
合体樹脂としての目的は、フォトレジスト材料の現像を
促進し、現像時間を確実に1分未満にするためであるの
で、現実的な現像時間が重合体樹脂を使用しなくても達
成できる場合にはPBSが両方の種類としての機能だけ
を行う。
【0013】集積回路(IC)チップなどの半導体装置
を形成するには、フォトレジスト処方を装置の上に付着
させた後、紫外線、X線、イオン・ビーム、電子線など
の選択したエネルギー源に露出する。フォトレジスト処
方のPAGがエネルギー源と反応して、酸を発生させ、
この酸が重合体樹脂中で重合反応を起こさせる。増感剤
は、この工程でエネルギー源と反応することにより、P
AGの光化学反応を開始するのを助ける。架橋剤は、フ
ォトレジスト処方中で分子量の増大した重合体を形成す
る機能を行う。フォトレジスト処方の重合しなかった部
分は、現像液により装置上のフォトレジスト層から除去
される。
【0014】PBS組成物に結合することができる単量
体増感剤の例には、クリセン類、ピレン類、フルオラン
テン類、アントロン類、ベンゾフェノン類、チオキサン
トン類、およびたとえば9−アントラセンメタノール
(ANME)などのアントラセン類がある。これ以外の
アントラセン誘導体は、本発明に参考文献として添付さ
れている米国特許第4371605号明細書に開示され
ている。増感剤は、酸素またはイオウを含有するもので
あってよいが、アミンまたはフェノチアジン基など窒素
が存在すると、露出工程で発生する遊離酸を封鎖する傾
向があり、処方の感光性が失われるため、窒素を含有し
ないものが好ましい。
【0015】PBS組成物として好ましい重合体主鎖に
は、フォトレジスト処方中の重合体樹脂として使用する
のに適した塩基可溶性長鎖重合体のいずれもが含まれ
る。具体例としては、(i)−OH基を有する芳香族重
合体、たとえばポリ−4−ヒドロキシスチレン(PH
S)(マルゼン・アメリカおよびヘキスト・セラニーズ
(Hoechst Celanese)から市販のもの)などのポリヒド
ロキシスチレン、ノボラック樹脂(シップレイ(Shiple
y)から市販のもの)、フェノール型−OH基を有する
重合体、たとえばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂な
ど、(ii)酸基を有する重合体、たとえばエステル側
鎖を有するポリメタクリル酸、および(iii)アクリ
ルアミド基型の重合体がある。
【0016】重合体樹脂は塩基に可溶性で、金属を含有
しない水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモ
ニウム(TMAH)、水酸化テトラエチルアンモニウ
ム、金属を含有する水酸化カリウム、メタケイ酸ナトリ
ウムなどの現像液に適合する。好ましい重合体樹脂の平
均分子量は、現像液中での溶解性を高めるには、1,0
00〜250,000の範囲であり、さらに好ましくは
1,000〜25,000の範囲である。重合体樹脂の
例には、 p−ヒドロキシスチレンと無水マレイン酸と
の共重合体、ポリヒドロキシスチレンとp−tert−
ブチルカルバナトスチレンとの共重合体、ポリ−4−ヒ
ドロキシスチレン、ポリ−3−ヒドロキシスチレン重合
体、ポリ−3−メチル−4−ヒドロキシスチレン、ポリ
−2−ヒドロキシスチレン共重合体、フェノール・ホル
ムアルデヒド樹脂、ポリメチルメタクリレートとter
t−ブチルメタクリレートとポリメタクリル酸との三元
共重合体、および4−ヒドロキシスチレンとtert−
ブチルメタクリレートとの共重合体がある。選択された
光化学的酸発生剤には、デイケム・ラブス(DaychemLab
s)から市販のMDT、オニウム塩、芳香族ジアゾニウ
ム塩、およびスルホニウム塩などがあるが、これらに限
定されるものではない。
【0017】好ましい架橋剤には、尿素ホルムアルデヒ
ド縮合体、メラミン・ホルムアルデヒド縮合体、および
ヘキサ−N−メトキシメチルメラミン、メトキシ化ジメ
チロール・クレゾール類、ジメチロール−p−クレゾー
ル、1,3,5−メトキシベンゼンなどのメトキシ化メ
ラミン・ホルムアルデヒド縮合体がある。
【0018】好ましい注型用溶剤には、酢酸プロピレン
グリコールモノメチルエーテル(PGMEA)、乳酸エ
チル(EL)、シクロヘキサノンなどがある。
【0019】本発明の1実施例によるフォトレジスト処
方の各成分の好ましい範囲は、PBSは全固形分に対し
て約1〜96重量%、さらに好ましくは約1〜40重量
%、重合体樹脂は全固形分に対して0〜96重量%、さ
らに好ましくは約20〜96重量%、PAGは全固形分
に対して約1〜20重量%、架橋剤は全固形分に対して
約1〜20重量%、注型用溶剤は処方の全重量に対して
50〜90%である。
【0020】
【実施例】本発明の好ましい実施例を、下記の例により
さらに詳細に記載するが、これらは説明のためのもので
あり、本発明を限定するものではない。
【0021】1.重合体結合ANMEの調製 ポリ−4−ヒドロキシスチレン(PHS)24.2gを
アセトニトリル100mlに溶解する。この溶液にAN
ME10.4gを添加する。ANMEが完全に溶液中に
溶解したら、濃塩酸3滴を加え、溶液を17時間還流す
る。反応混合物を冷却し、水酸化アンモニウム水溶液で
中和する。得られた溶液を1リットルの脱イオン水に滴
下してさらに30分間撹拌する。得られた沈殿を濾過
し、脱イオン水で2回洗浄し、真空乾燥する。
【0022】製品をゲル透過クロマトグラフィ(GP
C)および紫外線・可視光線(UV−Vis)分光光度
計で確認した。
【0023】2.GPC分析の手順 PHS0.25gをテトラヒドロフラン100gに溶解
し、この溶液にANME0.025g(10重量%)を
添加した。このGPCをウォーターズ(Waters)150
C装置で、溶離溶媒としてテトラヒドロフランを用いた
ウルトラスタイラゲル・カラムを使用して記録した。単
量体ANMEのピークは重合体の分布から明らかに区別
された。上記の方法により調製された重合体結合ANM
Eにより、他のサンプルを調製した。GPCトレース
は、単量体ANMEの存在は示さなかったが、重合体の
平均分子量の増加を示した。
【0024】3.UV−Vis分光分析の手順 固形分22%のPHSのシクロヘキサノン溶液を調製し
た。この溶液に、全固形分に対して10重量%のANM
Eを添加した。溶液を石英板に皮膜として注型し、20
0〜800nmの範囲でUV−Visスペクトルを記録
した。厚さ1μmの皮膜の365nmにおけるUV吸収
は0.51であった。同一の手順を重合体結合ANME
について繰り返した。厚さ1μmの皮膜の365nmに
おけるUV吸収は0.49であった。
【0025】4.重合体結合ANMEを用いたネガティ
ブ・トーン・フォトレジストの処方 下記により、ネガティブ・トーンのi線フォトレジスト
を、重合体結合ANME(上記1で生成したもの)を用
いて処方した。PHS樹脂13.1g、重合体結合AN
ME4g、ビス(ヒドロキシメチル)p−クレゾール
(i線架橋剤)1.4g、光化学的酸発生剤(たとえば
トリフルオロメチルスルホニルオキソビシクロ(2,
2,1)−ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイ
ミド(MDT、デイケム・ラブス(Daychem Labsから市
販のもの))1.4g、およびFC−430(3−Mカ
ンパニーから市販のフッ素化炭化水素界面活性剤)0.
1gを酢酸ポリプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル溶剤(PGMEA)84gに溶解する。厚み1.08
μmの皮膜を注型し、ベーキングして365nmで露光
する。光化学的速度は100mJ/cm2未満であっ
た。露光したウェーハをホット・プレートでベーキング
した後、塩基水溶液で現像して、解像度0.4μmの像
を得た。
【0026】5.重合体結合ANMEを用いたポジティ
ブ・トーンi線フォトレジストの処方 下記により、ポジティブ・トーンのi線フォトレジスト
を処方した。ヒドロキシスチレンとt−ブチルメタクリ
レートとの共重合体13.5g、光化学的酸発生剤(た
とえばMDT)0.5g、および重合体結合ANME4
gをPGMEA溶剤84gに溶解する。このようにして
得たフォトレジスト処方を1.08μmのシリコン・ウ
ェーハに注型し、ソフト・ベーキングを行い、露光し、
露光後ベーキングを行い、塩基水溶液で現像する。この
フォトレジストの解像度は、同等の光化学的速度で単量
体ANMEを用いた処方と匹敵するものであった。
【0027】6.重合体結合ANMEを用いたネガティ
ブ・フォトレジストの処方 エチル−3−エトキシプロピオネート(EEP)24
g、2−メトキシ−1−プロパノール(ダワノール(Do
wanol)PM)59.7g、PHS(マルゼン・アメリ
カから市販のもの)13.7g、MDT1.73g、
2,6−ジメチル−p−クレゾール12.1g、 AN
ME5.11g、およびFC−430 0.01gで、
ネガティブ・フォトレジストを処方した。毎分3000
回転でスピン・コーティングして、4μmの皮膜を形成
した。ウェーハの上に時計皿で蓋をし、ウェーハを10
0℃で2分間ベーキングした。この方法で連続12枚の
ウェーハをベーキングして、時計皿をメタノールで洗
い、ANMEの分析を行った。UV−Vis分析では、
時計皿にANMEが付着しているのがわかった。
【0028】7.PHSをグラフト重合したANMEを
用いたネガティブ・フォトレジストの処方 別の実験で、上記6の処方を、単量体ANME5.11
gの代わりに、PHSをグラフト重合したANME(A
NME40%含有)6.4gを使用して改良した。同一
の工程パラメータを使用し、連続12枚のウェーハをベ
ーキングして、時計皿の付着物中のアントラセン基を分
析したが、10ppbの検出限界で検出されなかった。
【0029】8.単量体ANMEとPHSをグラフト重
合したANMEとの相対溶解度 単量体ANMEの溶解度とPHSをグラフト重合したA
NMEの溶解度を、0.263N水酸化テトラメチルア
ンモニウム(TMAH)中と、酢酸ポリプロピレングリ
コールモノメチルエーテル溶剤(PGMEA)および乳
酸エチル(EL)の注型用溶剤中で試験を行った。得ら
れた結果を下記の表に示す。
【表1】 0.263N TMAH PGMEA EL ANME 不溶 不溶 可溶(2重量%) PHS-ANME 可溶(10重量%) 可溶(30重量%) 可溶(30重量%)
【0030】本発明による組成物の第二の用途は、遠紫
外線ポジティブ・フォトレジストまたはネガティブ・フ
ォトレジスト処方のための可溶性染料としての用途であ
る。一般に、反射性の基板からの横方向の分散放射によ
り生じる像のひずみの影響を減少させるために、染料を
フォトレジスト処方に添加する。この染料は現像液に可
溶で、基板上に残渣を残さない。この用途は、リソグラ
フィ工程が140℃を超える非常に高いベーキング温度
が関係し、大量の結合しない増感剤の昇華が生じる場合
に特に使用される。
【0031】本発明のPBSの他の用途は、酸に不安定
な三元重合体光学組成物の処方である。このPBSは、
本発明の参考文献である米国特許第4491628号明
細書に記載されているように、酸に不安定な基が結合す
ることのできる主鎖として機能する。たとえば、PBS
がポリ−4−ヒドロキシスチレン(PHS)を重合体の
主鎖として有する場合、酸に不安定な基は重合体のフェ
ノール側に結合する。
【0032】本発明は、詳細に示した特定の実施例につ
いて説明を行った。しかし、本実施例は説明のために示
したにすぎず、本発明はこの実施例に必ずしも限定され
ないことを理解すべきである。当業者には、本発明の原
理および特許請求の範囲内での修正および変更は、本開
示より容易に行うことができる。
【0033】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。
【0034】(1)単量体増感剤と、分子量が1,00
0〜250,000の範囲の塩基可溶性長鎖重合体とか
らなる重合体結合増感剤を含む、フォトレジスト処方に
適した組成物。 (2)単量体増感剤の量が重合体結合増感剤に対して1
〜25モル%であることを特徴とする、上記(1)に記
載の組成物。 (3)単量体増感剤の量が重合体結合増感剤に対して1
〜15モル%であることを特徴とする、上記(1)に記
載の組成物。 (4)単量体増感剤が、クリセン類、ピレン類、フルオ
ランテン類、アントロン類、ベンゾフェノン類、チオキ
サントン類、およびアントラセン類からなるグループか
ら選択されたものであることを特徴とする、上記(1)
に記載の組成物。 (5)単量体増感剤が、9−アントラセンメタノールで
あることを特徴とする、上記(4)に記載の組成物。 (6)塩基可溶性長鎖重合体が、p−ヒドロキシスチレ
ンと無水マレイン酸との共重合体、ポリヒドロキシスチ
レンとp−tert−ブチルカルバナトスチレンとの共
重合体、ポリ−4−ヒドロキシスチレン、ポリ−3−ヒ
ドロキシスチレン重合体、ポリ−3−メチル−4−ヒド
ロキシスチレン、ポリ−2−ヒドロキシスチレン共重合
体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ポリメチルメ
タクリレートとtert−ブチルメタクリレートとポリ
メタクリル酸との三元共重合体、および4−ヒドロキシ
スチレンと、tert−ブチルメタクリレートとの共重
合体からなるグループから選択されたものであることを
特徴とする、上記(1)に記載の組成物。 (7)塩基可溶性長鎖重合体が、ポリ−4−ヒドロキシ
スチレンであることを特徴とする、上記(6)に記載の
組成物。 (8)組成物が塩基性の現像液に可溶であることを特徴
とする、上記(1)に記載の組成物。 (9)組成物が増感剤であることを特徴とする、上記
(1)に記載の組成物。 (10)組成物が染料であることを特徴とする、上記
(1)に記載の組成物。 (11)組成物がさらに、酸に不安定な基を有すること
を特徴とする、上記(1)に記載の組成物。 (12)少なくとも1つの重合体樹脂、光化学的酸発生
剤、架橋剤および注型用溶剤との混合物であることを特
徴とする、上記(1)に記載の組成物。 (13)全固形分に対して、重合体結合増感剤1〜9
6重量%存在し、重合体樹脂が0〜96重量%存在し、
光化学的酸発生剤が1〜20重量%存在し、架橋剤が
〜20重量%存在することを特徴とする、上記(12)
に記載の組成物。 (14)重合体結合増感剤1〜40重量%存在し、重
合体樹脂が10〜96重量%存在することを特徴とす
る、上記(13)に記載の組成物。 (15)上記(1)の組成物を生成し、表面上に上記組
成物の層を付着させる工程からなる、集積回路を形成す
る方法。 (16)上記(15)の方法により製造した集積回路。 (17)クリセン類、ピレン類、フルオランテン類、ア
ントロン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、お
よびアントラセン類からなるグループから選択された単
量体増感剤と、p−ヒドロキシスチレンと無水マレイン
酸との共重合体、ポリヒドロキシスチレンとp−ter
t−ブチルカルバナトスチレンとの共重合体、ポリ−4
−ヒドロキシスチレン、ポリ−3−ヒドロキシスチレン
重合体、ポリ−3−メチル−4−ヒドロキシスチレン、
ポリ−2−ヒドロキシスチレン共重合体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂、ポリメチルメタクリレートとt
ert−ブチルメタクリレートとポリメタクリル酸との
三元共重合体、および4−ヒドロキシスチレンとter
t−ブチルメタクリレートとの共重合体からなるグルー
プから選択された、分子量が1,000〜250,00
0の範囲の塩基可溶性長鎖重合体とからなる重合体結合
増感剤を含む、フォトレジスト処方に適した組成物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レオ・エル・ライナハン アメリカ合衆国12586 ニューヨーク州 ウォールデン ワインディング・ブルッ ク・ドライブ 46 (72)発明者 ウェイン・エム・モロー アメリカ合衆国12590 ニューヨーク州 ワッピンガーズ・フォールズ リディ ア・ドライブ 10 (72)発明者 ランドルフ・ジェイ・スミス アメリカ合衆国12550 ニューヨーク州 ニューバーグ カーター・ストリート 80 (56)参考文献 特開 平5−333562(JP,A) 特開 平7−36189(JP,A) 特開 平7−209868(JP,A) 特開 平3−237106(JP,A) 特開 平5−232707(JP,A) 特開 平8−217815(JP,A) 特開 昭57−85049(JP,A) 特開 平3−87745(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/004 G03F 7/038 G03F 7/039

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】単量体増感剤である9−アントラセンメタ
    ノールと、分子量が1,000〜250,000の範囲
    の塩基可溶性長鎖重合体とからなる重合体結合増感剤を
    含み、 前記塩基可溶性長鎖重合体が、p−ヒドロキシスチレン
    と無水マレイン酸との共重合体、ポリヒドロキシスチレ
    ンとp−tert−ブチルカルバナトスチレンとの共重
    合体、ポリ−4−ヒドロキシスチレン、ポリ−3−ヒド
    ロキシスチレン重合体、ポリ−3−メチル−4−ヒドロ
    キシスチレン、ポリ−2−ヒドロキシスチレン共重合
    体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ポリメチルメ
    タクリレートとtert−ブチルメタクリレートとポリ
    メタクリル酸との三元共重合体、および4−ヒドロキシ
    スチレンと、tert−ブチルメタクリレートとの共重
    合体からなるグループから選択されたものであることを
    特徴とする、フォトレジスト処方に適した組成物。
  2. 【請求項2】単量体増感剤の量が重合体結合増感剤に対
    して1〜25モル%であることを特徴とする、請求項1
    に記載の組成物。
  3. 【請求項3】単量体増感剤の量が重合体結合増感剤に対
    して1〜15モル%であることを特徴とする、請求項1
    に記載の組成物。
  4. 【請求項4】塩基可溶性長鎖重合体が、ポリ−4−ヒド
    ロキシスチレンであることを特徴とする、請求項1に記
    載の組成物。
  5. 【請求項5】組成物が塩基性の現像液に可溶であること
    を特徴とする、請求項1に記載の組成物。
  6. 【請求項6】組成物が増感剤であることを特徴とする、
    請求項1に記載の組成物。
  7. 【請求項7】組成物が染料であることを特徴とする、請
    求項1に記載の組成物。
  8. 【請求項8】組成物がさらに、酸に不安定な基を有する
    ことを特徴とする、請求項1に記載の組成物。
  9. 【請求項9】少なくとも1つの重合体樹脂、光化学的酸
    発生剤、架橋剤および注型用溶剤との混合物であること
    を特徴とする、請求項1に記載の組成物。
  10. 【請求項10】全固形分に対して、重合体結合増感剤が
    1〜96重量%存在し、 重合体樹脂が0〜96重量%存在し、 光化学的酸発生剤が1〜20重量%存在し、 架橋剤が1〜20重量%存在することを特徴とする、請
    求項9に記載の組成物。
  11. 【請求項11】重合体結合増感剤が1〜40重量%存在
    し、 重合体樹脂が10〜96重量%存在することを特徴とす
    る、請求項10に記載の組成物。
  12. 【請求項12】請求項1の組成物を生成し、 表面上に上記組成物の層を付着させる工程を有する、 集積回路を形成する方法。
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