JP3406700B2 - 身体用洗浄剤組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は頭髪や皮膚等に対して低
刺激性で、優れた起泡性、洗浄性を有し、且つ使用時、
すすぎ時及び乾燥時に指通りやすべりが良く、しっとり
としてぱさつかない良好な感触を与える身体用洗浄剤組
成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
頭髪や皮膚等に使用される身体用洗浄剤の洗浄剤主成分
は、起泡性や洗浄性に優れていることが当然に要求され
る他に、安全性、皮膚や眼粘膜等に対する低刺激性に優
れていることが要求される。

【０００３】一般に洗浄剤の主成分として使用されてい
るアニオン性界面活性剤（石鹸、直鎖アルキルベンゼン
スルホン酸塩（ＬＡＳ）、アルキル硫酸エステル塩（Ａ
Ｓ）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩（ＡＥＳ）、α−オレフィンスルホン酸塩（ＡＯ
Ｓ）等）は洗浄性・起泡性は良好であるが、反面いずれ
も眼、皮膚に対して刺激がある。一方、低刺激性活性剤
として提案されているモノアルキルリン酸塩やＮ−アシ
ルグルタミン酸塩、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキル−β−ア
ラニン塩、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルグリシン塩などの
Ｎ−アシルアミノ酸塩類は、刺激性は低いものの耐硬水
性、起泡性、洗浄性といった洗浄剤本来の性能に劣ると
いう欠点がある。

【０００４】従って、頭髪や皮膚等に対して低刺激性で
あり、且つ洗浄性、起泡性に優れるという両者を兼ね備
えた洗浄剤主成分を含有し、頭髪や皮膚等に対して指通
りやすべりが良く、しっとりとしてぱさつかない良好な
感触が得られる身体用洗浄剤が切望されていた。

【０００５】

【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者は鋭意検討を行った結果、後記一般式（１）で表
わされる２−ヒドロキシプロパンジアミン誘導体、その
塩又はその４級化物、後記一般式（３）で表わされるア
ミド化合物及び後記一般式（４）で表わされるアミン誘
導体から選ばれる界面活性剤とカチオン性コンディショ
ニング剤を組み合わせて用いれば、頭髪や皮膚等に対し
て低刺激性で、優れた起泡性及び洗浄性を有し、且つ使
用時、すすぎ時及び乾燥時に指通りやすべりが良く、し
っとりとしてぱさつかない良好な感触を与える洗浄剤が
得られることを見出し、本発明を完成するに至った。

【０００６】すなわち本発明は、次の成分（Ａ）及び
（Ｂ）： （Ａ）（ａ）下記一般式（１）；

【０００７】

【化５】

【０００８】〔式中、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって
炭素数６〜３６の直鎖又は分岐鎖のアルキル又はアルケ
ニル基を示し、Ｘはヒドロキシル基、スルホン酸基又は
カルボキシル基で置換していてもよい炭素数１〜６のア
ルキレン又はアルケニレン基を示し、Ｙ¹ はスルホン酸
基、硫酸残基もしくはカルボキシル基又はその塩を示
し、Ｙ² はヒドロキシル基、硫酸残基もしくはその塩又
は下記式（２）；

【０００９】

【化６】

【００１０】で表わされる基を示し、ｎは０又は１を示
す。〕で表わされる２−ヒドロキシプロパンジアミン誘
導体、その塩又はその４級化物、（ｂ）下記一般式
（３）；

【００１１】

【化７】

【００１２】〔式中、Ｘ、Ｙ¹ 及びＹ² は上記と同様の
意味を示し、Ｒ³ 及びＲ⁴ は同一又は異なって、ヒドロ
キシル基で置換していてもよい炭素数１〜２４の直鎖又
は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基を示し、Ｚはアス
パラギン、アスパラギン酸、アラニン、アルギニン、イ
ソロイシン、グリシン、グルタミン、グルタミン酸、シ
スチン、システイン、セリン、チロシン、トリプトファ
ン、トレオニン、バリン、ヒスチジン、ヒドロキシプロ
リン、ヒドロキシリシン、フェニルアラニン、プロリ
ン、メチオニン、リシン、ロイシン、β−アラニン、タ
ウリン、α−アミノ酪酸、イソセリン、オルニチン、グ
ルタチオン、グリシルグリシン、γ−アミノ酪酸、ε−
アミノカプロン酸、シトルリン又はその塩から１つのア
ミノ基を除いた基を示す。〕で表わされるアミド化合
物、及び （ｃ）下記一般式（４）；

【００１３】

【化８】

【００１４】〔式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 及びＺは上記と同様の
意味を示し、Ａはヒドロキシル基で置換していてもよい
炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、
Ｙ³ はカルボキシル基又はスルホン酸基を示す。〕で表
わされるアミン誘導体、から選ばれる界面活性剤の１種
又は２種以上、 （Ｂ）カチオン界面活性剤及び水溶性カチオンポリマー
から選ばれるカチオン性コンディショニング剤の１種又
は２種以上を含有する身体用洗浄剤組成物を提供するも
のである。

【００１５】本発明で用いられる成分（Ａ）は洗浄活性
成分として用いられるものである。成分（Ａ）のうち
（ａ）２−ヒドロキシプロパンジアミン誘導体、その塩
又はその４級化物は前記一般式（１）で表わされるもの
であり、式（１）中、Ｒ¹ 及びＲ² で示される炭素数６
〜３６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基としては、ヘキシ
ル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、
ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシ
ル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル
基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ヘ
ンエイコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコ
シル基などの直鎖アルキル基及びこれらの分岐鎖アルキ
ル基を挙げることができる。また、炭素数６〜３６の直
鎖又は分岐鎖のアルケニル基としては、ヘキセニル基、
ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル
基、ドデセニル基、ウンデセニル基、トリデセニル基、
テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル
基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニ
ル基、エイコセニル基、ヘンエイコセニル基、ドコセニ
ル基、トリコセニル基、テトラコセニル基などの直鎖ア
ルケニル基及びこれらの分岐鎖アルケニル基を挙げるこ
とができる。Ｒ¹ 及びＲ² としては、これらのなかでも
炭素数６〜２４のアルキル基又はアルケニル基が、特に
炭素数６〜２４のアルキル基が、更には炭素数６〜１８
のアルキル基が好ましい。

【００１６】式（１）中、Ｘで示される炭素数１〜６の
アルキレン又はアルケニレン基としては、例えばメチレ
ン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン
基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、メチルエチ
レン基、エチルエチレン基、エテニレン基、プロペニレ
ン基、ブテニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基
等が挙げられる。このうち炭素数１〜４のものが好まし
く、炭素数１〜３のものがより好ましく、メチレン基、
エチレン基、トリメチレン基、エテニレン基が特に好ま
しい。

【００１７】これらのアルキレン又はアルケニレン基に
は、ヒドロキシル基(-OH)、スルホン酸基（-SO₃H）又は
カルボキシル基（-COOH）が置換し得る（ただし、後述
するＸ¹はヒドロキシル基又はカルボキシル基が置換し
得る）が、これらの置換基は１種又は２種以上を組み合
わせて１〜４個置換していてもよい。

【００１８】ヒドロキシル置換アルキレン又はアルケニ
レン基としては、１−ヒドロキシエチレン基、２−ヒド
ロキシエチレン基、１，２−ジヒドロキシエチレン基、
１−ヒドロキシトリメチレン基、２−ヒドロキシトリメ
チレン基、３−ヒドロキシトリメチレン基、１，２−ジ
ヒドロキシトリメチレン基、１，３−ジヒドロキシトリ
メチレン基、１，２，３−トリヒドロキシトリメチレン
基、１−ヒドロキシテトラメチレン基、２−ヒドロキシ
テトラメチレン基、３−ヒドロキシテトラメチレン基、
４−ヒドロキシテトラメチレン基、１，２−ジヒドロキ
シテトラメチレン基、１，３−ジヒドロキシテトラメチ
レン基、１，４−ジヒドロキシテトラメチレン基、２，
３−ジヒドロキシテトラメチレン基、２，４−ジヒドロ
キシテトラメチレン基、３，４−ジヒドロキシテトラメ
チレン基、１，２，３−トリヒドロキシテトラメチレン
基、２，３，４−トリヒドロキシテトラメチレン基、
１，３，４−トリヒドロキシテトラメチレン基、１，
２，３，４−テトラヒドロキシテトラメチレン基等が挙
げられるが、このうち１，２−ジヒドロキシエチレン
基、１−ヒドロキシエチレン基、２−ヒドロキシエチレ
ン基、２−ヒドロキシトリメチレン基が特に好ましい。

【００１９】スルホン酸基置換アルキレン又はアルケニ
レン基としては、１−スルホエチレン基、２−スルホエ
チレン基、１−スルホトリメチレン基、２−スルホトリ
メチレン基、３−スルホトリメチレン基、１−スルホテ
トラメチレン基、２−スルホテトラメチレン基、３−ス
ルホテトラメチレン基、４−スルホテトラメチレン基、
１，３−ジスルホテトラメチレン基、１，４−ジスルホ
テトラメチレン基、２，３−ジスルホテトラメチレン
基、２，４−ジスルホテトラメチレン基等が挙げられる
が、このうち特に１−スルホエチレン基、２−スルホエ
チレン基が特に好ましい。

【００２０】カルボキシル基が置換したアルキレン又は
アルケニレン基としては、１−カルボキシエチレン基、
２−カルボキシエチレン基、１−カルボキシトリメチレ
ン基、２−カルボキシトリメチレン基、３−カルボキシ
トリメチレン基、１−カルボキシテトラメチレン基等が
挙げられる。

【００２１】ヒドロキシル基及びカルボキシル基が置換
したアルキレン又はアルケニレン基としては、２−カル
ボキシ−１−ヒドロキシトリメチレン基、２−カルボキ
シ−１，３−ジヒドロキシトリメチレン基、２−カルボ
キシ−２−ヒドロキシトリメチレン基、３−カルボキシ
−２，４−ジヒドロキシテトラメチレン基等を挙げるこ
とができる。これらのなかでも２−カルボキシ−２−ヒ
ドロキシトリメチレン基が好ましい。

【００２２】ヒドロキシル基及びスルホン酸基が置換し
たアルキレン又はアルケニレン基としては、１−ヒドロ
キシ−２−スルホエチレン基、２−ヒドロキシ−１−ス
ルホエチレン基、１−ヒドロキシ−２−スルホトリメチ
レン基、１−ヒドロキシ−３−スルホトリメチレン基、
２−ヒドロキシ−１−スルホトリメチレン基、２−ヒド
ロキシ−３−スルホトリメチレン基、１，２−ジヒドロ
キシ−３−スルホトリメチレン基、１，３−ジヒドロキ
シ−２−スルホトリメチレン基、１−ヒドロキシ−２−
スルホテトラメチレン基、１−ヒドロキシ−４−スルホ
テトラメチレン基、２−ヒドロキシ−４−スルホテトラ
メチレン基、３−ヒドロキシ−４−スルホテトラメチレ
ン基等が挙げられる。

【００２３】上記一般式（１）で表わされる化合物は、
スルホン酸基（-SO₃H）、硫酸残基（-OSO₃H）又はカル
ボキシル基（-COOH）を有するので種々の塩基性物質と
の間に塩を形成し得る。例えばアルカリ金属塩、アルカ
リ土類金属塩、アミン塩、塩基性アミノ酸塩、アンモニ
ウム塩等を挙げることができる。具体的には、ナトリウ
ム、カリウム、リチウム、マグネシウム、カルシウム、
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、リジン、アルギニン、コリン、アン
モニア等との塩を挙げることができ、これらのなかでも
アルカリ金属塩、特にナトリウム塩が好ましい。なお、
化合物（１）は、第３級アミノ基を有するので、プロト
ンが第３級アミノ基の窒素原子上に配位して当該第３級
アミノ基がアンモニウムカチオンとなり、スルホン酸
基、硫酸残基又はカルボキシル基がスルホン酸アニオ
ン、硫酸アニオン又はカルボキシアニオンとなった４級
塩構造をとっていることもある。

【００２４】また、化合物（１）は、必要により第４級
化物とすることもでき、具体的には式（１）中の２個の
窒素原子が第４級化された化合物（１ｆ）が挙げられ
る。

【００２５】

【化９】

【００２６】〔式中、Ｒ¹′及びＲ²′はスルホン酸基、
カルボキシル基もしくはヒドロキシル基が置換してもよ
い炭素数１〜６のアルキル又はアルケニル基、ベンジル
基又は-(R⁵O)_mH（ここでＲ⁵ は炭素数２〜４のアルキレ
ン基を、ｍは１〜５０の数を示す）を示す〕

【００２７】ここで、ヒドロキシル基、カルボキシル
基、スルホン酸基が置換していてもよい炭素数１〜６の
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、ヒドロキシエチル基、１，２−ジヒドロキシプ
ロピル基、カルボキシメチル基、２−ヒドロキシ−３−
スルホプロピル基等が挙げられる。基-(R⁵O)_mHで示され
る基としては、具体的には、ポリオキシエチレン基、ポ
リオキシプロピレン基等が例示され、就中ｍ＝１〜２０
のものが好ましい。なお、化合物（１）の第４級化物
は、式（１）中のｎが０の場合に存在し得るものであ
る。

【００２８】化合物（１）は、例えば次の反応ａ〜反応
ｄに従って製造される。

【００２９】

【化１０】

【００３０】〔式中、Ａ¹ 及びＡ² はハロゲン原子を示
し、Ｘ¹ はヒドロキシル基又はカルボキシル基が置換し
ていてもよい炭素数１〜６のアルキレン又はアルケニレ
ン基を示し、Ｙ⁴ はスルホン酸基又はカルボキシル基を
示し、Ｒ¹ 及びＲ² は前記と同じ〕

【００３１】すなわち、２つのアミン（（５）及び
（６））とエピハロヒドリン（７）との反応により得ら
れるアミン誘導体（８）に、化合物（９）又はその塩を
反応させれば化合物（１ａ）が製造される。

【００３２】２つのアミンとエピハロヒドリンとの反応
は、例えば米国特許第３０１７２５８号又は同第３６５
４１５８号に従って行えばよい。

【００３３】アミン誘導体（８）と化合物（９）又はそ
の塩との反応は、例えば不活性溶媒の存在下２０〜１５
０℃、好ましくは４０〜１００℃で、アミン誘導体
（８）に対し、１〜１０倍モル、好ましくは２〜５倍モ
ルの化合物（９）又はその塩を反応させることによって
行われる。ここで化合物（９）のＡ² で示されるハロゲ
ン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子が挙げられ、このうち塩素原子がより好ましい。化合
物（９）又はその塩の具体例としては、クロロ酢酸ナト
リウム、３−クロロ−２−ヒドロキシプロパンスルホン
酸ナトリウム、３−クロロプロピオン酸ナトリウム、４
−クロロ−ｎ−酪酸ナトリウム等が挙げられ、このうち
クロロ酢酸ナトリウム、３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロパンスルホン酸ナトリウムがより好ましい。また、こ
こで用いる不活性溶媒としては、例えば、水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒等が挙げら
れ、これらは１種又は２種以上を組み合わせて用いるこ
とができるが、就中、水、低級アルコール又は水と低級
アルコールの混合溶媒が好ましい。

【００３４】なお、本反応においてアミン誘導体（８）
に対して化合物（９）を過剰に使用すると下記の第４級
化物（１ｆ′）が生成する。

【００３５】

【化１１】

【００３６】〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｘ¹ 及びＹ⁴ は前記
と同じ〕

【００３７】この反応終了後、反応混合物中には目的と
する化合物（１ａ）の他、無機塩、未反応のアミン誘導
体（８）、アミン誘導体（８）に化合物（９）が１モル
付加した化合物及び未反応の化合物（９）が含まれてい
る場合がある。この際には、反応混合物をそのまま使用
できる場合を除き、次の方法により精製することができ
る。精製方法は、例えば溶媒分別法、イオン交換クロマ
トグラフィー法、再結晶法、電気透析法等の常法を採用
できる。また、得られた目的物は遊離塩基として単離し
てもよいが、所望の塩基物質で中和する等の通常の手段
により塩交換を行い、所望の塩の形態で単離してもよ
い。

【００３８】

【化１２】

【００３９】〔式中、Ｒ⁶ 及びＲ⁷ は同一又は異なっ
て、水素原子、ヒドロキシル基又はカルボキシル基が置
換していてもよいアルキル基又はアルケニル基を示し、
Ｙ²′はヒドロキシル基又は硫酸残基を示し、Ｒ¹ 、Ｒ
² 及びＸ¹ は前記と同じ〕

【００４０】すなわち、アミン誘導体（８）にエポキシ
化合物（１０）を反応させ、得られるアミノアルコール
（１１）に硫酸エステル化剤（１２）を反応させ、所望
により塩基性物質で中和することにより、化合物（１
ｂ）が製造される。

【００４１】アミン誘導体（８）とエポキシ化合物（１
０）との反応は、例えば不活性溶媒中、好ましくは１０
０〜２００℃、特に好ましくは１３０〜１８０℃で、ア
ミン誘導体（８）に対して、エポキシ化合物（１０）を
２〜５倍モル反応させることにより行うのが好ましい。
この反応で使用する不活性溶媒としては、非プロトン性
の溶媒であれば特に制限されるものではないが、価格や
溶解性の点を考慮すると、低級炭化水素類、芳香族炭化
水素類、エーテル類、ハロ炭化水素類などが好ましい。
また、この反応は、エポキシ化合物（１０）及び使用し
た不活性溶媒の沸点を考慮して、オートクレーブなどの
耐圧容器内で行うことが好ましい。エポキシ化合物（１
０）としては、安価であることからエチレンオキシド、
プロピレンオキシド、ブチレンオキシドが好ましく、特
にエチレンオキシドが好ましい。

【００４２】次に、このようにして得られたアミノアル
コール（１１）とClSO₃HやSO₃等の硫酸エステル化剤
（１２）との反応は、不活性溶媒中又は無溶媒で、−７
５℃〜１５０℃の温度範囲で行うのが好ましい。ClSO₃H
やSO₃の使用量は、アミノアルコール（１１）に対して
１〜３倍モルであるのが好ましい。また、この反応終了
後、必要に応じて行う中和反応では、目的とする中和度
に応じて所望量の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、アルカノールアミン（モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等）、リジン、アルギニン、コリンなどの塩基物
質、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
アルカリ金属の水酸化物を反応させることにより行うこ
とができる。

【００４３】なお、上記反応中、アミン誘導体（８）と
エポキシ化合物（１０）との反応においては、少量の次
式；

【００４４】

【化１３】

【００４５】で表わされる化合物が副生し、更にアミノ
アルコール（１１）と硫酸エステル化剤（１２）との反
応においては、次式；

【００４６】

【化１４】

【００４７】で表わされる化合物が副生する場合があ
る。この反応生成物はそのまま各種の用途に使用するこ
ともできるが、より高純度のものが必要な場合には、通
常の方法、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー、
蒸留等により精製して用いることもできる。

【００４８】

【化１５】

【００４９】〔式中、Ｒ⁸ は水素原子又は置換基を有し
ていてもよいアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ² 、Ｘ¹ 及び
Ｙ²′は前記と同じ〕

【００５０】すなわち、アミン誘導体（８）にラクトン
類又はオキシカルボン酸類を反応させ、得られるアミド
アルコール（１３）に硫酸エステル化剤（１２）を反応
させ、所望により塩基性物質で中和することにより化合
物（１ｃ）が製造される。

【００５１】アミン誘導体（８）とラクトン類又はオキ
シカルボン酸類との反応は、例えば不活性溶媒中又は無
溶媒で、好ましくは２０〜１８０℃、特に好ましくは４
０〜１５０℃で、アミン誘導体（８）に対して、ラクト
ン類又はオキシカルボン酸類を２〜５倍モル反応させる
ことにより行うのが好ましい。この反応で使用する不活
性溶媒としては、非プロトン性の溶媒であれば特に制限
されるものではないが、価格や溶解性の点を考慮する
と、低級炭化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類、
ハロ炭化水素類等が好ましい。この反応に用いるラクト
ン類及びオキシカルボン酸類としては、安価であること
から、γ−ラクトン、δ−ラクトン、グリコール酸、乳
酸、α−ヒドロキシ酸及びこれらのメチルエステル、エ
チルエステルなどが好ましい。

【００５２】このようにして得られたアミドアルコール
（１３）とClSO₃HやSO₃等の硫酸エステル化剤（１２）
との反応は、不活性溶媒中又は無溶媒で、−７５℃〜１
５０℃の温度範囲で行うのが好ましい。ClSO₃HやSO₃の
使用量は、アミドアルコール（１３）に対して１〜３倍
モルであるのが好ましい。また、この反応終了後、必要
に応じて行う中和反応は、前記反応ｂの場合と同様に行
うことができる。

【００５３】なお、上記反応中、アミン誘導体（８）と
ラクトン類又はオキシカルボン酸類との反応において
は、少量の次式；

【００５４】

【化１６】

【００５５】で表わされる化合物が副生し、更にアミド
アルコール（１３）と硫酸エステル化剤との反応におい
ては、次式；

【００５６】

【化１７】

【００５７】で表わされる化合物が副生する場合があ
る。この反応生成物はそのまま各種の用途に使用するこ
ともできるが、より高純度のものが必要な場合には、通
常の方法、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー、
蒸留等により精製して用いることもできる。

【００５８】

【化１８】

【００５９】〔式中、Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰は水素原子、置換基
を有していてもよいアルキル基又はアルケニル基を示
し、Ｘ² はヒドロキシル基又はカルボキシル基が置換し
ていてもよくスルホン酸基が置換している炭素数１〜６
のアルキレン基を示し、Ｙ²″はヒドロキシル基又は下
記式（１４）；

【００６０】

【化１９】

【００６１】で表わされる基を示し、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｘ及
びＸ¹ は前記と同じ〕

【００６２】すなわち、アミン誘導体（８）に酸無水
物、ジカルボン酸又はそのエステルを反応させ、エステ
ルを用いた場合は更に加水分解し、必要に応じて塩基性
物質で中和することにより、化合物（１ｄ）を製造する
ことができる。また、得られた化合物（１ｄ）のＸ¹ 中
に-CH=CH-がある場合には、これにSO₃、亜硫酸ナトリウ
ム、亜硫酸水素ナトリウム等のスルホン化剤を反応さ
せ、必要に応じて塩基性物質で中和することにより化合
物（１ｄ）′が製造される。

【００６３】アミン誘導体（８）と酸無水物との反応
は、例えば無水不活性溶媒の存在下、２０〜１５０℃、
好ましくは４０〜１００℃で、アミン誘導体（８）に対
して、好ましくは１．０〜５．０倍モルの酸無水物を反
応させることにより行うのが好ましい。ここで用いられ
る無水不活性溶媒としては、例えばエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ベンゼン、ピリジン等が挙げられる。この
反応においてはアミン誘導体（８）のヒドロキシル基と
酸無水物が反応し、式（１ｄ）においてＹ²″が上記式
（１４）で示す基である化合物が得られる。

【００６４】また、アミン誘導体（８）とジカルボン酸
又はそのエステルとの反応は、例えば、不活性溶媒中、
４０〜１８０℃、好ましくは８０〜１５０℃で、アミン
誘導体（８）に対して、好ましくは２．０〜５．０倍モ
ルのジカルボン酸又はそのエステルを反応させることに
より行うのが好ましい。この反応は、生成してくるアル
コール又は水を除去しながら行うのが好ましい。この反
応で用いる不活性溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン等を挙げることができる。

【００６５】なお、ジカルボン酸エステルにおいて、式
中、Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰で示されるアルキル基又はアルケニル
基としては、炭素数１〜５のものを挙げることができる
が、これらのなかでも、メチル基、エチル基が好まし
い。

【００６６】なお、ここでジカルボン酸エステルを用い
た場合には、一般式（１６）で表わされる製造中間体が
得られることになり、次いでこれを例えば含水アルコー
ル中、酸又は塩基触媒下、加水分解することが必要とな
る。

【００６７】

【化２０】

【００６８】〔式中、Ｒ¹¹及びＲ¹²はＲ⁹ 又はＲ¹⁰に対
応するアルキル又はアルケニル基を示し、Ｒ¹ 、Ｒ² 及
びＸ¹ は前記と同じ〕

【００６９】次に、Ｘ¹ 中に-CH=CH-を有する化合物
（１ｄ）とSO₃、亜硫酸ナトリウムや亜硫酸水素ナトリ
ウム等のスルホン化剤との反応は、例えば、水中におい
て、３０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃で、化合
物（１ｄ）に対して１．０〜６．０倍モル、好ましくは
２．０〜５．０倍モルのSO₃、亜硫酸ナトリウムや亜硫
酸水素ナトリウムを、pH４．０〜１１．０、好ましくは
５．０〜８．０で反応させることにより行うのが好まし
い。

【００７０】得られた化合物（１ｄ）及び（１ｄ）′の
中和反応は前記反応ｂと同様にして行うことができる。
また、これらの反応においては、前記反応ｂ及び反応ｃ
と同様に一方のアミノ基のみがアミド化された化合物等
が副生するが、反応生成物はそのまま各種の用途に使用
することもできる。しかし、より高純度のものが必要な
場合には、通常の方法、例えば再結晶、カラムクロマト
グラフィー、電気透析等により精製して用いることもで
きる。

【００７１】一般式（１）において、ｎ＝０の場合に
は、これに４級化剤を反応させることにより、化合物
（１）中の２個の窒素原子が第４級化された化合物（１
ｆ）が得られる。４級化剤としては、スルホン酸基、カ
ルボキシル基もしくはヒドロキシル基が置換していても
よい炭素数１〜６のアルキル（アルケニル）ハライド、
ベンジルハライド、アルキレンオキサイド又はその塩等
が挙げられる。このうち、アルキルハライドがより好ま
しい。ここでアルキル基としてはメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基等が挙
げられ、ハロゲンとしては塩素、臭素、ヨウ素が挙げら
れる。このうちメチルクロライドが特に好ましい。

【００７２】このようにして製造される化合物（１）の
具体例としては、次のものが挙げられる。

【００７３】

【化２１】

【００７４】

【化２２】

【００７５】

【化２３】

【００７６】成分（Ａ）のうちアニオン界面活性剤とし
ての（ｂ）アミド化合物は、前記一般式（３）で表わさ
れるものであり、式中、Ｘ、Ｙ¹ 及びＹ² は式（１）と
同様の意味を示す。Ｒ³ 及びＲ⁴ で示されるヒドロキシ
ル基で置換していてもよい炭素数１〜２４の直鎖又は分
岐鎖のアルキル基及びアルケニル基の具体例としては、
以下のものを挙げることができる。

【００７７】直鎖アルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサ
デシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、エ
イコシル、ヘンエイコシル、ドコシル、トリコシル、テ
トラコシルなどの基を挙げることができ、分岐鎖アルキ
ル基としては、例えばメチルヘキシル、エチルヘキシ
ル、メチルヘプチル、エチルヘプチル、メチルノニル、
メチルウンデシル、メチルヘプタデシル、ヘキシルデシ
ル、オクチルデシルなどの基を挙げることができる。

【００７８】直鎖アルケニル基としては、例えばエテニ
ル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、
ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデ
セニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、
ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オ
クタデセニル、ノナデセニル、エイコセニル、ヘンエイ
コセニル、ドコセニル、トリコセニル、テトラコセニル
などの基を挙げることができ、分岐鎖アルケニル基とし
ては、例えばメチルヘキセニル、エチルヘキセニル、メ
チルヘプテニル、エチルヘプテニル、メチルノネニル、
メチルウンデセニル、メチルヘプタデセニル、ヘキシル
デセニル、オクチルデセニルなどの基を挙げることがで
きる。

【００７９】ヒドロキシル基で置換された直鎖又は分岐
鎖のアルキル基としては、ヒドロキシル基の置換位置は
特に限定されず、例えばヒドロキシメチル、ヒドロキシ
エチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、ヒド
ロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシヘプ
チル、ヒドロキシオクチル、ヒドロキシノニル、ヒドロ
キシデシル、ヒドロキシウンデシル、ヒドロキシドデシ
ル、ヒドロキシトリデシル、ヒドロキシテトラデシル、
ヒドロキシペンタデシル、ヒドロキシヘキサデシル、ヒ
ドロキシヘプタデシル、ヒドロキシオクタデシル、ヒド
ロキシノナデシル、ヒドロキシエイコシル、ヒドロキシ
ヘンエイコシル、ヒドロキシドコシル、ヒドロキシトリ
コシル、ヒドロキシテトラコシル、ヒドロキシメチルヘ
キシル、ヒドロキシエチルヘキシル、ヒドロキシメチル
ヘプチル、ヒドロキシエチルヘプチル、ヒドロキシメチ
ルノニル、ヒドロキシメチルウンデシル、ヒドロキシメ
チルヘプタデシル、ヒドロキシヘキシルデシル、ヒドロ
キシオクチルデシルブチルなどの基を挙げることができ
る。

【００８０】ヒドロキシル基で置換された直鎖又は分岐
鎖のアルケニル基としては、ヒドロキシル基の置換位置
は特に限定されず、例えばヒドロキシエテニル、ヒドロ
キシプロペニル、ヒドロキシブテニル、ヒドロキシペン
テニル、ヒドロキシヘキセニル、ヒドロキシヘプテニ
ル、ヒドロキシオクテニル、ヒドロキシノネニル、ヒド
ロキシデセニル、ヒドロキシウンデセニル、ヒドロキシ
ドデセニル、ヒドロキシトリデセニル、ヒドロキシテト
ラデセニル、ヒドロキシペンタデセニル、ヒドロキシヘ
キサデセニル、ヒドロキシヘプタデセニル、ヒドロキシ
オクタデセニル、ヒドロキシノナデセニル、ヒドロキシ
エイコセニル、ヒドロキシヘンエイコセニル、ヒドロキ
シドコセニル、ヒドロキシトリコセニル、ヒドロキシテ
トラコセニル、ヒドロキシメチルヘキセニル、ヒドロキ
シエチルヘキセニル、ヒドロキシメチルヘプテニル、ヒ
ドロキシエチルヘプテニル、ヒドロキシメチルノネニ
ル、ヒドロキシメチルウンデセニル、ヒドロキシメチル
ヘプタデセニル、ヒドロキシヘキシルデセニル、ヒドロ
キシオクチルデセニルなどの基を挙げることができる。

【００８１】Ｒ³ 及びＲ⁴ としては、これらの中で直鎖
又は分岐鎖の炭素数６〜２４のアルキル基又はアルケニ
ル基が好ましく、特に炭素数６〜１２のアルキル基が好
ましい。

【００８２】

【００８３】Ｚとしては、タンパク質を構成するアミノ
酸（アスパラギン、アスパラギン酸、アラニン、アルギ
ニン、イソロイシン、グリシン、グルタミン、グルタミ
ン酸、シスチン、システイン、セリン、チロシン、トリ
プトファン、トレオニン、バリン、ヒスチジン、ヒドロ
キシプロリン、ヒドロキシリシン、フェニルアラニン、
プロリン、メチオニン、リシン、ロイシン）、β−アラ
ニン、タウリン又はそれらの塩から１つのアミノ基を除
いた基が好ましく、特にタウリン又はその塩からアミノ
基を除いた基が好ましい。

【００８４】式（３）のアミド化合物は、例えば次の反
応ｅ〜反応ｇに従って製造することができる。

【００８５】

【化２４】

【００８６】〔式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 及びＺは前記と同じ意
味を示し、Ｒ³′は水素原子又は炭素数１〜４の直鎖も
しくは分岐鎖のアルキル基を示し、Ｘ¹′はヒドロキシ
ル基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数
１〜６のアルキレン基又はアルケニレン基を示し、
Ｙ²′はヒドロキシル基又は硫酸残基を示す。〕

【００８７】すなわち、アミン誘導体（１８）にラクト
ン類（１９）又はオキシカルボン酸類（２０）を反応さ
せ、得られるアミドアルコール（１７）に硫酸エステル
化剤を反応させ、所望により塩基性物質で中和すること
により、化合物（３ｅ）又はその塩が製造される。

【００８８】アミン誘導体（１８）とラクトン類（１
９）又はオキシカルボン酸類（２０）との反応は、例え
ば不活性溶媒中又は無溶媒で、好ましくは２０〜１８０
℃、特に好ましくは４０〜１５０℃で、アミン誘導体
（１８）に対して、ラクトン類（１９）又はオキシカル
ボン酸類（２０）を２〜５倍モル反応させることにより
行うのが好ましい。この反応で使用する不活性溶媒とし
ては、非プロトン性の溶媒であれば特に制限されるもの
ではないが、価格や溶解性の点を考慮すると、低級炭化
水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ハロ炭化水素
類などが好ましい。この反応に用いるラクトン類（１
９）及びオキシカルボン酸類（２０）としては、安価で
あることから、ラクトン類（１９）としてはγ−ラクト
ン、δ−ラクトンなど、オキシカルボン酸類（２０）と
してはグリコール酸、乳酸、α−ヒドロキシ酸及びこれ
らのメチルエステル、エチルエステルなどが好ましい。

【００８９】このようにして得られたアミドアルコール
（１７）と硫酸エステル化剤との反応は、不活性溶媒中
又は無溶媒で、−７５〜１５０℃の温度範囲で行うのが
好ましい。硫酸エステル化剤としてはClSO₃H、SO₃等が
用いられ、その使用量はアミドアルコール（１７）に対
して１〜１０倍モル、特に２〜５倍モルとするのが好ま
しい。また、この反応終了後、必要に応じて行う中和反
応では、目的とする中和度に応じて所望量の水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化マグ
ネシウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、アルカ
ノールアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミンなど）、リジン、アルギニ
ン、コリンなどの塩基物質、好ましくは水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物を反応
させることにより行うことができる。

【００９０】なお、上記反応中、アミン誘導体（１８）
とラクトン類（１９）又はオキシカルボン酸類（２０）
との反応においては、少量の次式；

【００９１】

【化２５】

【００９２】で表される化合物が副生し、更にアミドア
ルコール（１７）と硫酸エステル化剤との反応において
は、次式；

【００９３】

【化２６】

【００９４】で表される化合物が副生する場合がある。
この反応生成物はそのまま各種の用途に使用することも
できるが、より高純度のものが必要な場合には、通常の
方法、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留
等により精製して用いることもできる。

【００９５】

【化２７】

【００９６】〔式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｚ及びＭは前記と同
じ意味を示し、Ｘ²′はヒドロキシル基もしくはカルボ
キシル基が置換していてもよい炭素数２〜４のアルキレ
ン基又はアルケニレン基を示し、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は同一又
は異なって水素原子又は炭素数１〜４の直鎖もしくは分
岐鎖のアルキル基もしくはアルケニル基を示し、Ｙ²″
はヒドロキシル基又は基-OCO-X²′-COOHを示し、Ｍは水
素原子又は陽イオン原子を示す。〕

【００９７】

【化２８】

【００９８】〔式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｚ及びＭは前記と同
じ意味を示し、Ｘ³ はヒドロキシル基が置換していても
よい炭素数２〜４のアルケニレン基を示し、Ｘ⁴ はヒド
ロキシル基が置換していてもよく、スルホン酸基が置換
している炭素数２〜４のアルキレン基を示し、
Ｙ²′′′はヒドロキシル基又は基-OCO-X³-COOHを示
し、Ｙ²′′′′はヒドロキシル基又は基-OCO-X⁴-COOH
を示す。〕

【００９９】すなわち、アミン誘導体（１８）に酸無水
物（２１）又はジカルボン酸もしくはそのエステル（２
２）を反応させ、エステルを用いた場合は加水分解し、
必要に応じて塩基性物質で中和することにより、アミド
カルボン酸（３ｆ）又はその塩を製造することができ
る。

【０１００】また、アミドカルボン酸（３ｆ）のうち、
Ｘ²′がヒドロキシル基が置換していてもよい炭素数２
〜４のアルケニレン基（Ｘ³ ）である本発明アミドカル
ボン酸（３ｇ）にスルホン化剤を反応させ、必要に応じ
て塩基性物質で中和することにより本発明アミドスルホ
カルボン酸（３ｇ）′又はその塩を製造することができ
る。

【０１０１】アミン誘導体（１８）と酸無水物（２１）
又は（２１′）との反応は、例えば無水不活性溶媒の存
在下、２０〜１５０℃、好ましくは４０〜１００℃で、
アミン誘導体（１８）に対して、好ましくは１．０〜
５．０倍モルの酸無水物（２１）又は（２１′）を反応
させることにより行うのが好ましい。ここで用いられる
無水不活性溶媒としては、例えばエーテル、テトラヒド
ロフラン、ベンゼン、ピリジン等が挙げられる。この反
応においては、アミン誘導体（１８）のヒドロキシル基
と酸無水物が反応した化合物も生成する。

【０１０２】また、アミン誘導体（１８）とジカルボン
酸又はそのエステル（２２）との反応は、例えば、不活
性溶媒中、４０〜１８０℃、好ましくは８０〜１５０℃
で、アミン誘導体（１８）に対して、好ましくは２．０
〜５．０倍モルのジカルボン酸又はそのエステル（２
２）を反応させることにより行うのが好ましい。この反
応は、生成してくるアルコール又は水を除去しながら行
うのが好ましい。この反応で用いる不活性溶媒として
は、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを挙
げることができる。

【０１０３】なお、ジカルボン酸エステルにおいて、式
（２２）中、Ｒ¹³及びＲ¹⁴で示されるアルキル基又はア
ルケニル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。

【０１０４】なお、ここでジカルボン酸エステルを用い
た場合には、一般式（２３）で表される製造中間体が得
られることになり、次いでこれを例えば含水アルコール
中、酸又は塩基触媒下、加水分解することが必要とな
る。

【０１０５】

【化２９】

【０１０６】〔式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｘ²′及びＺは前記
と同じ意味を示し、Ｒ¹³′及びＲ¹⁴′はそれぞれＲ¹³及
びＲ¹⁴に対応するアルキル基又はアルケニル基を示
す。〕

【０１０７】次に、アルケニレン基Ｘ³ を有するアミド
カルボン酸（３ｇ）とエステル化剤との反応は、例え
ば、水中において、３０〜１００℃、好ましくは４０〜
８０℃で、化合物（３ｇ）に対して１．０〜６．０倍モ
ル、好ましくは２．０〜５．０倍モルのスルホン化剤
を、pH４．０〜１１．０、好ましくは５．０〜８．０で
反応させることにより行うのが好ましい。スルホン化剤
としては、SO₃、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリ
ウム等が用いられる。

【０１０８】得られた化合物（３ｆ）、（３ｇ）及び
（３ｇ）′の中和反応は前記反応ｅと同様にして行うこ
とができる。また、これらの反応においては、前記反応
ｆ及び反応ｇと同様に一方のアミノ基のみがアミド化さ
れた化合物等が副生するが、反応生成物はそのまま各種
の用途に使用することもできる。しかし、より高純度の
ものが必要な場合には、通常の方法、例えば再結晶、カ
ラムクロマトグラフィー、電気透析等により精製して用
いることもできる。

【０１０９】このようにして製造される化合物（３）の
具体例としては、次のものが挙げられる。

【０１１０】

【化３０】

【０１１１】成分（Ａ）のうち、（ｃ）アミン誘導体は
前記一般式（４）で表わされるものであり、式中、
Ｒ³ 、Ｒ⁴ 及びＺは式（３）と同様の意味を示す。Ａで
示されるヒドロキシル基が置換していてもよい炭素数１
〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基としては、例えば
メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチ
レン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、メチル
エチレン基、エチルエチレン基等が挙げられる。このう
ち炭素数１〜４のものが好ましく、炭素数１〜３のもの
がより好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレ
ン基が特に好ましい。

【０１１２】式（４）のアミン誘導体は例えば以下の反
応ｈに従って製造することができる。

【０１１３】

【化３１】

【０１１４】〔式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 及びＺは前記と同じ意
味を示し、Ｘ⁵ はハロゲン原子を示す。〕

【０１１５】すなわち、アミノアルキルスルホン酸もし
くはアミノ酸又はそれらの塩（２４）とエピハロヒドリ
ン（２５）とを反応させて得られるハロヒドリン化合物
（２６）、又はこれに塩基性化合物を作用させて得られ
るエポキシ化合物（２７）と、一級アミン化合物（２
８）とを反応させると、アミン化合物（２９）が得られ
る。更に化合物（３０）を反応させることにより目的と
する化合物（４ｈ）を製造することができる。

【０１１６】ハロヒドリン化合物（２６）の合成に用い
られるエピハロヒドリン（２５）のハロゲン原子、すな
わち式（２５）中のＸ⁵ としては、塩素、臭素及びヨウ
素が挙げられ、好ましくは塩素である。アミノアルキル
スルホン酸もしくはアミノ酸又はそれらの塩（２４）と
エピハロヒドリン（２５）との反応は、例えば水もしく
は低級アルコール又はこれらの混合物等の反応に不活性
な溶媒中、好ましくは−２０〜１００℃、特に好ましく
は０〜６０℃で行うことができる。また用いる化合物
（２４）とエピハロヒドロリン（２５）の量比は適宜設
定することができるが、エピハロヒドリン（２５）を化
合物（２４）に対して２〜５倍モル使用するのが好まし
い。

【０１１７】得られたハロヒドリン化合物（２６）は、
塩基性化合物を作用させることによりエポキシ化合物
（２７）とすることができるが、かかる塩基性化合物と
しては、例えばアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭
酸塩、アミン類等が好ましく、特に水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムが好ましい。ハロヒドリン化合物（２
６）と塩基性化合物との反応は、例えば水もしくは低級
アルコール又はこれらの混合物等の反応に不活性な溶媒
中、好ましくは０〜８０℃、特に好ましくは２０〜６０
℃で行うことができる。また用いるハロヒドリン化合物
（２６）と塩基性化合物の量比は適宜設定することがで
きるが、塩基性化合物をハロヒドリン化合物（２６）に
対して２〜５倍モル使用するのが好ましい。

【０１１８】次に、得られたハロヒドリン化合物（２
６）又はエポキシ化合物（２７）とアミン化合物（２
８）との反応は、例えば水、低級アルコール、エーテル
もしくは芳香族炭化水素又はこれらの混合物等の反応に
不活性な溶媒中、好ましくは４０〜１５０℃、特に好ま
しくは７０〜１２０℃で行うことができる。また、用い
る各化合物の量比は適宜設定することができるが、一般
にはアミン化合物（２８）をハロヒドリン化合物（２
６）又はエポキシ化合物（２７）に対して２〜２０倍モ
ル、特に２〜１０倍モル使用するのが好ましい。

【０１１９】上記のようにして得られたアミン化合物
（２９）と、化合物（３０）の反応は例えば水又は低級
アルコールなど反応に不活性な溶媒中、好ましくは４０
〜１５０℃、特に好ましくは７０〜１００℃で行うこと
ができる。反応に使用する化合物の量比は、適宜設定す
ることができるが、一般には、アミン化合物に対して２
〜２０倍モル、特に２〜１０倍モル使用するのが好まし
い。

【０１２０】このような反応により、本発明で用いる化
合物（４ｈ）を得ることができるが、反応条件等によっ
ては、この他にアミンと酸の塩、無機塩、未反応の各化
合物やその塩も各反応において二箇所ある反応点の一方
だけが反応した下記式（３１）で示す副生物等が副生、
残存することがある。

【０１２１】

【化３２】

【０１２２】本発明においては、反応生成物をそのまま
使用することも可能であるが、必要に応じて、溶媒分別
法、透析法、再結晶法、蒸留法、分配クロマトグラフィ
ー法、ゲル濾過法など公知の方法により更に精製処理し
たものを用いることもできる。

【０１２３】このようにして製造される化合物（４）の
具体例としては、次のものが挙げられる。

【０１２４】

【化３３】

【０１２５】成分（Ａ）の界面活性剤としては、これら
（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）から選ばれる１種又は２種以
上を用いることができ、本発明の洗浄剤組成物中に１〜
９０重量％配合するのが好ましく、特に１〜８０重量
％、更に１〜５０重量％配合すると起泡性及び洗浄性が
高くなるので好ましい。

【０１２６】本発明で用いられる成分（Ｂ）のカチオン
性コンディショニング剤としては、第４級アンモニウム
塩等のカチオン界面活性剤；水溶性カチオンポリマーな
どが挙げられる。これらのうち、カチオン界面活性剤と
しては、例えば次の一般式（３２）又は（３３）で表わ
される第４級アンモニウム塩が挙げられる。

【０１２７】

【化３４】

【０１２８】〔式中、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³及びＲ²⁴のう
ち、少なくとも１個は総炭素数８〜２８のアルコキシ、
アルケニルオキシ、アルカノイルアミノ又はアルケノイ
ルアミノ基で置換されていてもよいアルキル又はアルケ
ニル基を示し、残余はベンジル基、炭素数１〜５のアル
キル基又はヒドロキシアルキル基を示す。Ｒ²⁵は炭素数
２〜３のアルキレン基を示し、Ｚ^- はハロゲンイオン又
は有機アニオンを示し、ｎ ₄ は１〜２０の整数を示す〕

【０１２９】斯かるカチオン界面活性剤の中でも一般式
（３２）で表わされる第４級アンモニウム塩が好まし
く、更に一般式（３２）で表わされる第４級アンモニウ
ム塩の好ましいものとしては、例えば次の一般式（３
４）〜（３６）で表わされる分岐第４級アンモニウム塩
が挙げられる。

【０１３０】

【化３５】

【０１３１】一般式（３４）で表わされる分岐第４級ア
ンモニウム塩は、例えば通常炭素数８〜１６のオキソア
ルコールを原料として合成されるものであり、その例と
しては、オキソアルコールから導かれるアルキル基を有
するジアルキルジメチルアンモニウム塩、ジアルキルメ
チルヒドロキシエチルアンモニウム塩、ジアルキルメチ
ルベンジルアンモニウム塩等が挙げられる。

【０１３２】本発明では、（３４）式中のＲ²⁶の分岐率
が、通常１０〜１００％のものが用いられるが、特に１
０〜５０％のものが好ましい。また、Ｒ²⁶の合計炭素数
が８〜１６のものが用いられるが、一定の分布を持った
ものが好ましく、特に以下に示す分布を有するものが好
ましい。

【０１３３】Ｃ₈ 〜Ｃ₁₁：５％以下。Ｃ₁₂ ：１０
〜３５％。Ｃ₁₃ ：１５〜４０％。Ｃ₁₄ ：２
０〜４５％。Ｃ₁₅ ：５〜３０％。Ｃ₁₆ ：５
％以下。

【０１３４】斯かる分岐第４級アンモニウム塩の具体例
としては、炭素数８〜１６の分岐率１０〜５０％のアル
キル基を有する、ジアルキルジメチルアンモニウムクロ
リドが挙げられる。

【０１３５】また、一般式（３５）で表わされる分岐第
４級アンモニウム塩は通常、炭素数８〜２８のゲルベア
ルコール

【０１３６】

【化３６】

【０１３７】を原料として合成されるものである。この
分岐第４級アンモニウム塩の好ましい例としては、ゲル
ベアルコールから導かれるアルキル基を有するアルキル
トリメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベンジル
アンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、
ジアルキルメチルヒドロキシエチルアンモニウム塩、ジ
アルキルメチルベンジルアンモニウム塩等が挙げられ
る。更にこれらのうちで特に好ましい具体例としては、
２−デシルテトラデシルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、２−ドデシルヘキサデシルトリメチルアンモニウム
クロリド、ジ−２−ヘキシルデシルジメチルアンモニウ
ムクロリド、ジ−２−オクチルドデシルジメチルアンモ
ニウムクロリド等を挙げることができる。

【０１３８】一般式（３６）で表わされるメチル分岐第
４級アンモニウム塩はｓとｔの和が１５となるものが好
適な例として挙げられる。また、一般式（３２）、（３
３）、（３４）、（３５）及び（３６）で表わされる第
４級アンモニウム塩の対イオンであるＺの具体例として
は、塩素、ヨウ素、臭素等のハロゲンイオン；メトサル
フェート、エトサルフェート、メトフォスフェート、エ
トフォスフェート等の有機アニオンが挙げられる。以上
のようなカチオン界面活性剤は、単独又は二種以上を組
合わせて用いることができ、本発明の洗浄剤組成物中
に、０．０５〜１０重量％、特に０．１〜５重量％配合
するのが好ましい。

【０１３９】また、カチオン性コンディショニング剤の
うち、水溶性カチオンポリマーは、ポリマー鎖に結合し
てアミノ基又はアンモニウム基を含むか、又は少なくと
もジメチルジアリルアンモニウムハライドを構成単位と
して含む水溶性のものであり、例えばカチオン化セルロ
ース誘導体、カチオン性澱粉、カチオン化グアーガム誘
導体、ジアリル第４級アンモニウム塩／アクリルアミド
共重合物、第４級化ポリビニルピロリドン誘導体などが
挙げられる。

【０１４０】カチオン化セルロース誘導体としては、例
えば次の一般式（３７）で表わされるものが好ましい。

【０１４１】

【化３７】

【０１４２】〔式（３７）中、Ａ′はアンヒドログルコ
ース単位の残基を示し、ｆは５０〜２０，０００の整数
であり、各Ｒ³⁴は、それぞれ次の一般式（３８）で表わ
される置換基を示す。

【０１４３】

【化３８】

【０１４４】式（３８）中、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶は炭素数２又は
３のアルキレン基、ｇは０〜１０の整数、ｈは０〜３の
整数、ｉは０〜１０の整数、Ｒ³⁷は炭素数１〜３のアル
キレン基又はヒドロキシアルキレン基、Ｒ³⁸、Ｒ³⁹、Ｒ
⁴⁰は同じか又は異なっており、炭素数１８までのアルキ
ル基、アリール基又はアラルキル基を示し、また式中の
窒素原子を含んで複素環を形成してもよい。Ｘ₁ ^-は陰イ
オン（塩素、臭素、ヨウ素、硫酸、スルホン酸、メチル
硫酸、リン酸、硝酸等）を示す〕

【０１４５】これらのカチオン化セルロース誘導体のカ
チオン置換度は、０．０１〜１、即ちアンヒドログルコ
ース単位当たりのｈの平均値は、０．０１〜１が好まし
く、更に好ましくは０．０２〜０．５である。又、ｇ＋
ｉの合計は平均１〜３である。カチオン置換度は、０．
０１未満では十分でなく、また１を超えてもかまわない
が反応収率の点より１以下が好ましい。ここで用いるカ
チオン化セルロース誘導体の分子量は約１００，０００
〜３，０００，０００の間が好ましい。

【０１４６】カチオン性澱粉としては、次の一般式（３
９）で表わされるものが好ましい。

【０１４７】

【化３９】

【０１４８】〔式（３９）中、Ｂは澱粉残基、Ｒ⁴¹はア
ルキレン基又はヒドロキシアルキレン基、Ｒ⁴²、Ｒ⁴³、
Ｒ⁴⁴は同じか又は異なっており、炭素数１０以下のアル
キル基、アリール基又はアラルキル基を示し、また式中
の窒素原子を含んで複素環を形成してもよい。Ｘ₂ ^-は陰
イオン（塩素、臭素、ヨウ素、硫酸、スルホン酸、メチ
ル硫酸、リン酸、硝酸等）、ｊは正の整数を示す〕

【０１４９】これらのカチオン性澱粉のカチオン置換度
は０．０１〜１、即ち無水グルコース単位当たり０．０
１〜１、好ましくは０．０２〜０．５個のカチオン基が
導入されたものが好ましい。カチオン置換度が０．０１
未満では十分でなく、また１を超えてもかまわないが反
応収率の点より１以下が好ましい。

【０１５０】カチオン化グアーガム誘導体としては、次
の一般式（４０）で表わされるものが好ましい。

【０１５１】

【化４０】

【０１５２】〔式（４０）中、Ｄはグアーガム残基、Ｒ
⁴⁵はアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基、Ｒ⁴⁶、
Ｒ⁴⁷、Ｒ⁴⁸は同じか又は異なっており、炭素数１０以下
のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、ま
た式中の窒素原子を含んで複素環を形成してもよい。Ｘ
₃ ^-は陰イオン（塩素、臭素、ヨウ素、硫酸、スルホン
酸、メチル硫酸、リン酸、硝酸等）、ｋは正の整数を示
す〕

【０１５３】これらのカチオン化グアーガム誘導体のカ
チオン置換度は、０．０１〜１が好ましく、特に０．０
２〜０．５個のカチオン基が、糖単位に導入されたもの
が好ましい。この型のカチオンポリマーは、例えば特公
昭５８−３５６４０号、特公昭６０−４６１５８号及び
特開昭５８−５３９９６号公報に記載され、ジャグアー
ル（セラニーズ シュタイン・ホール社）として市販さ
れている。

【０１５４】カチオン性のジアリル第４級アンモニウム
塩／アクリルアミド共重合物としては、次の一般式（４
１）又は（４２）で示されるものが好ましい。

【０１５５】

【化４１】

【０１５６】〔式（４１）及び（４２）中、Ｒ⁴⁹、Ｒ⁵⁰
は同じか又は異なっており、水素、アルキル基（炭素数
１〜１８）、フェニル基、アリール基、ヒドロキシアル
キル基、アミドアルキル基、シアノアルキル基、アルコ
キシアルキル基又はカルボアルコキシアルキル基、
Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³、Ｒ⁵⁴は同じか又は異なっており、水
素、低級アルキル基（炭素数１〜３）又はフェニル基、
Ｘ₄ ^-は陰イオン（塩素、臭素、ヨウ素、硫酸、スルホン
酸、メチル硫酸、硝酸等）、ｄは１〜５０の整数、ｅは
０〜５０の整数、ｒは１５０〜８，０００の整数を示
す〕

【０１５７】これらのジアリル第４級アンモニウム塩／
アクリルアミド共重合物の分子量としては約３万〜２０
０万が好ましく、更に好ましくは１０万〜１００万の範
囲である。

【０１５８】４級化ポリビニルピロリドン誘導体として
は、次の一般式（４３）で示されるものが好ましい。

【０１５９】

【化４２】

【０１６０】〔式（４３）中、Ｒ⁵⁵は水素原子又は炭素
数１〜３のアルキル基、Ｒ⁵⁶、Ｒ⁵⁷、Ｒ⁵⁸は同じか又は
異なっており、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、
ヒドロキシアルキル基、アミドアルキル基、シアノアル
キル基、アルコキシアルキル基又はカルボアルコキシア
ルキル基、Ｙ₁ は酸素原子又はアミド結合中のＮＨ基、
Ｘ₅ ^-は陰イオン（塩素、臭素、ヨウ素、硫酸、スルホン
酸、炭素数１〜４のアルキル硫酸、リン酸、硝酸等）、
ｕは１〜１０の整数、ｖ＋ｗ＝２０〜８，０００の整数
を示す〕

【０１６１】これらの第４級化ポリビニルピロリドン誘
導体の分子量としては１万〜２００万が好ましく、更に
好ましくは５万〜１５０万である。

【０１６２】以上のようなカチオンポリマーは、単独又
は２種以上を組合わせて用いることができ、本発明の洗
浄剤組成物中に、０．０１〜３重量％、特に０．１〜
０．８重量％配合するのが好ましい。また、成分（Ａ）
と成分（Ｂ）とは重量比で１／１〜１００／１、特に１
／１〜５０／１、更に１／１〜２０／１とすることが好
ましい。

【０１６３】本発明の身体用洗浄剤組成物には、上記必
須成分の他に、本発明の効果を損なわない範囲内におい
て、従来のシャンプー、身体洗浄剤などの洗浄剤中に用
いられている成分を必要に応じて併用することができ
る。このような併用成分としては、パール化剤、乳化
剤、香料、色素、防腐剤、酸化防止剤、増粘剤及び抗フ
ケ剤、殺菌剤、消炎剤、ビタミン類の薬効剤、紫外線吸
収剤等があり、その他「Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏ
ｆ Ｓｈａｍｐｏｏ Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔｓ（Ｍｉｃ
ｅｌｌｅ ｐｒｅｓｓ，１９８５年）」に収載されてい
る成分などを添加することもできる。

【０１６４】本発明の身体用洗浄剤組成物は、通常の方
法に従って製造することができ、例えば、シャンプー、
リンスインシャンプー、ボディシャンプー、洗顔料、ハ
ンドウォッシュ、歯磨等の頭髪、皮膚、口腔内などの各
種身体用洗浄剤に幅広く適用することができる。

【０１６５】

【発明の効果】本発明の身体用洗浄剤組成物は、頭髪、
皮膚等に対して低刺激性であり、且つ高起泡性、高洗浄
性を有し、使用時、すすぎ時及び乾燥時に指通りが良
く、しっとりとしてぱさつかない良好な感触が得られ
る。

【０１６６】

【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例の説明に先立ち、各実施例で使用する成分（Ａ）
の合成例について説明する。なお、合成例１〜２２は式
（１）で表わされる２−ヒドロキシプロパンジアミン誘
導体、その塩又はその４級化物の合成例を、合成例２３
〜２７は式（３）で表わされるアニオン界面活性剤の合
成例を、合成例２８〜３２は式（４）で表わされる両性
界面活性剤の合成例を示す。

【０１６７】合成例１ 反応容器にビス−（１，３−デシルアミノ）プロパン−
２−オール４０．２ｇ（０．１０８モル）、エタノール
２６０ｇ、水１００ｇを入れ、５０℃に昇温した。これ
に、モノクロロ酢酸ナトリウム５０．３ｇ（０．４３２
モル）を１００ｇのエタノール７０ｇの水に溶解させた
溶液を加え、水酸化ナトリウム水溶液でpHを８〜１０に
保ちながら還流下２０時間反応させた。反応終了後、溶
媒を留去しクロロホルムに溶解し、不溶の未反応のモノ
クロロ酢酸ナトリウム、副生する塩化ナトリウム等の塩
類を除いた。この後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより、薄層クロマトグラフィーで単一のスポット
を与えるまで精製し、２，６−ジデシル−４−ヒドロキ
シ−２，６−ジアザ−１，７−ヘプタンジカルボン酸２
３ｇを白色粉末として得た（単離収率４４％）。

【０１６８】このものは、ＨＰＬＣ（カラム：ＲＰ−１
８（メルク社製））、溶離液メタノール／H₂O＝８０／
２０測定に於いて単一のピークを与えた。以下に¹Ｈ−
ＮＭＲデータを示す。

【０１６９】

【化４３】

【０１７０】合成例２ 反応容器にビス−（１，３−オクチルアミノ）プロパン
−２−オール４０ｇ（０．１３モル）、エタノール１５
０ｇ、水７０ｇを入れ５０℃に昇温した。これにモノク
ロロ酢酸ナトリウム５２ｇ（０．４４モル）を１００ｇ
のエタノール及び７０ｇの水に溶解させた溶液を加え、
水酸化ナトリウム水溶液でpHを８〜１０に保ちながら還
流下２６時間反応させた。反応終了後、溶媒を留去し、
クロロホルムに溶解し、不溶の未反応のモノクロロ酢酸
ナトリウム、副生する塩化ナトリウム等の塩類を除い
た。この後シリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り、薄層クロマトグラフィーで単一のスポットを与える
まで精製し、２，６−ジオクチル−４−ヒドロキシ−
２，６−ジアザ−１，７−ヘプタンジカルボン酸１９ｇ
（単離収率３４％）を白色粉末として得た。

【０１７１】このものは、ＨＰＬＣ（カラム：ＲＰ−１
８（メルク社製））、溶離液メタノール／H₂O＝８０／
２０測定に於いて単一のピークを与えた。以下に¹Ｈ−
ＮＭＲデータを示す。

【０１７２】

【化４４】

【０１７３】合成例３ 反応容器にビス−（１，３−デシルアミノ）プロパン−
２−オール３１．８ｇ（０．０８６モル）、エタノール
２４４ｇ、水５１ｇを入れ、７５℃に昇温した。これに
ソジウム３−クロロ−２−ヒドロキシプロパン−１−ス
ルホネート７６．７ｇ（０．３９０モル）を３６１ｇの
水に溶解させた溶液を加え、水酸化ナトリウム水溶液で
pHを８〜１０に保ちながら、７５℃を２０時間維持し
た。反応終了後、溶媒を減圧下留去し、水−エタノール
より結晶化し、これをアセトンで洗浄し、電気透析にて
脱塩し、凍結乾燥することにより、４，８−ジデシル−
２，６，１０−トリヒドロキシ−４，８−ジアザ−１，
１１−ウンデカンジスルホン酸３７．３ｇ（０．０５７
モル）を白色粉末として得た。

【０１７４】このものは、ＨＰＬＣ（カラム：ＲＰ−１
８（メルク社製））；溶離液；メタノール／水＝８０／
２０測定に於いて、単一のピークを与えた。以下に¹Ｈ
−ＮＭＲデータを示す（なお、ａ−ｉは、それぞれのシ
グナルをもたらす下記化学式中の部位を示す）。

【０１７５】

【化４５】

【０１７６】合成例４ ３，７−ジドデシル−３，７−ジアザ−１，５，９−ノ
ナントリオールの製造：容量１リットルのオートクレー
ブに、１５−ヒドロキシ−１３，１７−ジアザノナコサ
ン５０．２ｇ（０．１２モル）及びキシレン５００mlを
入れ、１５５℃に昇温した。これにエチレンオキシド２
２ｇ（０．５モル）を注入し、１５５℃で６時間保持し
て反応させた。反応終了後、溶媒を減圧下で留去し、標
記化合物６０ｇ（収率９９％）を粘稠な液体として得
た。

【０１７７】質量分析（ＦＡＢイオン化法） ｍ／ｚ＝５１５（Ｍ＋Ｈ）+ （Ｍ＝Ｃ₃₁Ｈ₆₆Ｏ
₃Ｎ₂ ），¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ（ｐｐｍ）， ０．８５（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２１（幅広い一重線，３６Ｈ，ｂ）， １．４５（五重線，４Ｈ，ｃ）， ２．４１〜２．７０（複雑な多重線，１２Ｈ，ｄ．ｅ．
ｇ）， ３．５７（三重線，４Ｈ，ｈ）， ３．７５（五重線，１Ｈ，ｆ），

【０１７８】

【化４６】

【０１７９】合成例５ ３，７−ジドデシル−５−ヒドロキシ−３，７−ジアザ
−１，９−ノナンジサルフェートの製造：反応容器に合
成例４で得た３，７−ジドデシル−３，７−ジアザ−
１，５，９−ノナントリオール１８ｇ（０．０３５モ
ル）及びジクロロメタン１３５mlを入れ、窒素気流下、
氷冷しながらクロロスルホン酸５．１ml（０．０７７モ
ル）を滴下した。その後、徐々に室温まで戻し、窒素を
用いて発生する塩酸及びジクロロメタンを除去した。残
渣にｎ−ブタノールを加えて溶解し、水洗後、減圧下で
溶媒を留去して２４．８ｇの固体を得た。次に、この固
体を水に溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を用いて
pH７に調整した。その後、脱塩装置（マイクロアシライ
ザーＧ３，旭化成社製）により脱塩し、更にそれを凍結
乾燥機により乾燥し、標記化合物１７．２ｇ（収率８５
％）を白色粉末として得た。

【０１８０】この化合物は薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：クロロホルム／メタノール＝３／１）により単
一スポット（Ｒｆ＝０．５）であることを確認した。ま
た、この化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃ ）チ
ャートを図１に示す。更に、この化合物のＩＲスペクト
ルは次のとおりであった。

【０１８１】ＩＲ（ＫＢｒ錠剤法，cm^-1）：３６００〜
３２００（ν_O-H ）、１３９０、１１９２（ν_S=O ）

【０１８２】合成例６ ソディウム３，７−ジドデシル−３，７−ジアザ−１，
５，９−ノナントリサルフェートの製造：反応容器に合
成例４で得た３，７−ジドデシル−３，７−ジアザ−
１，５，９−ノナントリオール１８ｇ（０．０３５モ
ル）及びジクロロメタン１５０mlを入れ、窒素気流下、
氷冷しながらクロロスルホン酸７．７ml（０．１１５モ
ル）を滴下した。その後、徐々に室温まで戻し、窒素を
用いて発生する塩酸及びジクロロメタンを除去した。残
渣に水を加えて溶解し、更に１Ｎ水酸化ナトリウム水溶
液を用いてpH７に調整した。その後、脱塩装置（マイク
ロアシライザーＧ３，旭化成社製）により脱塩し、更に
それを凍結乾燥機により乾燥し、標記化合物２６．７ｇ
（収率９７％）を白色粉末として得た。

【０１８３】この化合物は薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：クロロホルム／メタノール＝１／１）による測
定の結果、単一スポット（Ｒｆ＝０．３）であることを
確認した。また、この化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：Ｄ₂
Ｏ）チャートを図２に示す。更に、この化合物のＩＲス
ペクトルは次のとおりであった。

【０１８４】ＩＲ（ＫＢｒ錠剤法，cm^-1）：１３９０、
１１８６（ν_S=O ）

【０１８５】合成例７ ５，９−ジドデシル−４，１０−ジオキソ−５，９−ジ
アザ−１，７，１３−トリデカントリオールの製造：反
応容器に、１５−ヒドロキシ−１３，１７−ジアザノナ
コサン９．５ｇ（０．０２モル）及びγ−ブチロラクト
ン１１．７ｇ（０．１３モル）を入れ、１６０℃に昇温
し、この温度で５時間保持して反応させた。反応終了
後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル５００ｇ，
展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝９７／３）によ
り精製し、標記化合物６ｇ（収率４５％）を粘稠な液体
として得た。

【０１８６】質量分析（ＦＡＢイオン化法） ｍ／ｚ＝６００（Ｍ＋Ｈ）+ （Ｍ＝Ｃ₃₅Ｈ₇₀Ｏ₅Ｎ₂）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ（ｐｐｍ） ０．８７（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２３（幅広い一重線，３６Ｈ，ｂ）， １．５３（五重線，４Ｈ，ｃ）， １．８５（五重線，４Ｈ，ｈ）， ２．４０〜２．５２（幅広い多重線，４Ｈ，ｇ）， ３．２８〜３．４０（幅広い多重線，８Ｈ，ｄ．ｅ）， ３．６５（三重線，４Ｈ，ｉ）， ４．０３（幅広い多重線，１Ｈ，ｆ）

【０１８７】

【化４７】

【０１８８】合成例８ ジソディウム５，９−ジドデシル−７−ヒドロキシ−
４，１０−ジオキソ−５，９−ジアザ−１，１３−トリ
デカンジサルフェートの製造：反応容器に合成例７で得
た５，９−ジドデシル−４，１０−ジオキソ−５，９−
ジアザ−１，７，１３−トリデカントリオール６ｇ
（０．０１モル）、ピリジン４．５ｇ（０．０６モル）
及びジクロロメタン５０mlを入れ、窒素気流下、氷冷し
ながらクロロスルホン酸３ml（０．０２モル）を滴下し
た。その後、０〜５℃を維持し、４時間攪拌を続けた。
反応終了後、ナトリウムメチラート（２８％メタノール
溶液）１１ｇ（０．０６モル）により処理した。次に、
溶媒を減圧下留去して、残渣を水に溶解し、電気透析に
より脱塩処理した。この水溶液を凍結乾燥することによ
り、標記化合物３．３ｇ（収率４１％）を白色粉末とし
て得た。

【０１８９】この化合物は薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：クロロホルム／メタノール＝２／１）による測
定の結果、単一スポット（Ｒｆ＝０．３）であることを
確認した。また、この化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：Ｃ
ＤＣｌ₃）チャートを図３に示す。更に、この化合物の
ＩＲスペクトルは次のとおりであった。

【０１９０】ＩＲ（ＫＢｒ錠剤法，ｃｍ^-1）：３６２０
〜３３００（ν_O-H ）、１６９０、（ν_C=O ）、１３９
２、１１８８（ν_S=O ）

【０１９１】合成例９ ３，７−ジドデシル−２，８−ジオキソ−３，７−ジア
ザ−１，５，９−ノナントリオールの製造：反応容器に
１５−ヒドロキシ−１３，１７−ジアザノナコサン１
０．７ｇ（０．０３モル）、トルエン５０ml及びグリコ
ール酸エチル７．１ml（０．０７モル）を入れ、１００
℃に昇温し、窒素気流により生成するエタノールを追い
出しながら、７．５時間攪拌を続けた。反応終了後、減
圧下溶媒を留去して、残渣をカラムクロマトグラフィー
（シリカゲル２００ｇ，展開溶媒：クロロホルム／メタ
ノール＝１００／１）により精製し、標記化合物１３ｇ
（収率９６％）を粘稠な液体として得た。

【０１９２】質量分析（ＦＡＢイオン化法） ｍ／ｚ＝５４３（Ｍ＋Ｈ）+ （Ｍ＝Ｃ₃₁Ｈ₆₂Ｏ₅Ｎ₂）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ（ｐｐｍ） ０．８２（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２８（幅広い一重線，３６Ｈ，ｂ）， １．４９〜１．６０（幅広い多重線，４Ｈ，ｃ）， ３．１８（三重線，４Ｈ，ｄ）， ３．４８（多重線，４Ｈ，ｅ）， ４．０５（幅広い多重線，１Ｈ，ｆ）， ４．２０（一重線，４Ｈ，ｇ）

【０１９３】

【化４８】

【０１９４】合成例１０ ジソディウム３，７−ジドデシル−５−ヒドロキシ−
２，８−ジオキソ−３，７−ジアザ−１，９−ノナンジ
サルフェートの製造：反応容器に合成例９で得た３，７
−ジドデシル−２，８−ジオキソ−３，７−ジアザ−
１，５，９−ノナントリオール１０．８ｇ（０．０２モ
ル）及びジクロロメタン５０mlを入れ、窒素気流下、氷
冷しながらクロロスルホン酸３ml（０．０４モル）を２
０分かけて滴下した。その後、徐々に室温に戻し、窒素
気流により発生する塩酸及びジクロロメタンを除去し
た。残渣に水を加えて溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液によりpHを７に調整した。この水溶液を電気透析に
より脱塩処理したのち、凍結乾燥することにより、標記
化合物１１．８ｇ（収率７９％）を白色粉末として得
た。

【０１９５】この化合物は薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：クロロホルム／メタノール＝３／１）による測
定の結果、単一スポット（Ｒｆ＝０．２）であることを
確認した。また、この化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：Ｄ₂
Ｏ）チャートを図４に示す。更に、この化合物のＩＲス
ペクトルは次のとおりであった。

【０１９６】ＩＲ（ＫＢｒ錠剤法，ｃｍ^-1）：３６００
〜３２００（ν_O-H ）、１６５８（ν_C=O ）、１３８
５、１１９５（ν_S=O ）

【０１９７】合成例１１ トリソディウム３，７−ジドデシル−２，８−ジオキソ
−３，７−ジアザ−１，５，９−ノナントリサルフェー
トの製造：反応容器に合成例９で得た３，７−ジドデシ
ル−２，８−ジオキソ−３，７−ジアザ−１，５，９−
ノナントリオール２８ｇ（０．０５モル）及びジクロロ
メタン１００mlを入れ、窒素気流下、氷冷しながらクロ
ロスルホン酸１１ml（０．１６モル）を滴下した。その
後、徐々に室温に戻し、窒素気流により発生する塩酸及
びジクロロメタンを除去した。残渣に水を加えて溶解
し、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液によりpHを７に調整し
た。この水溶液を電気透析により脱塩処理したのち、凍
結乾燥することにより、標記化合物２８ｇ（収率６６
％）を白色粉末として得た。

【０１９８】この化合物は薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：クロロホルム／メタノール＝１／１）による測
定の結果、単一スポット（Ｒｆ＝０．３）であることを
確認した。また、この化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：Ｄ₂
Ｏ）チャートを図５に示す。更に、この化合物のＩＲス
ペクトルは次のとおりであった。

【０１９９】ＩＲ（ＫＢｒ錠剤法，ｃｍ^-1）：１３９
０、１１８５（ν_S=O ）、１６６０（ν_C=O ）

【０２００】合成例１２ 反応容器に、ビス−（１，３−デシルアミノ）プロパン
−２−オール２２．２ｇ（０．０６モル）、無水コハク
酸１３．２ｇ（０．１２モル）及び無水エーテル３００
mlを入れ、５時間還流した。反応終了後、エーテルを減
圧下留去することにより、４，８−ジデシル−３，９−
ジオキソ−６−ヒドロキシ−４，８−ジアザ−１，１１
−ウンデカンジカルボン酸３４ｇ（０．０６モル）をガ
ラス状固体として得た。

【０２０１】本化合物を水酸化ナトリウムによりpH１０
に調整したものは、ＨＰＬＣ測定において（カラム：Ｒ
Ｐ−１８（メルク社製））、溶離液メタノール／水＝８
０／２０測定に於いて単一ピークを与えた。以下に、¹
Ｈ−ＮＭＲデータを示す。

【０２０２】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ（ｐｐｍ）
ＴＭＳ基準 ０．８８（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２６（幅広い一重線，２８Ｈ，ｂ）， １．４７（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ２．６４（複雑な多重線，８Ｈ，ｇ．ｈ）， ３．３〜３．９（複雑な多重線，９Ｈ，ｄ．ｅ．ｆ）

【０２０３】

【化４９】

【０２０４】合成例１３ 反応容器に、ビス−（１，３−デシルアミノ）プロパン
−２−オール１７．０４ｇ（０．０４モル）、無水マレ
イン酸７．８ｇ（０．０８モル）及び無水エーテル２０
０mlを入れ、３時間還流した。反応終了後、減圧下、エ
ーテルを留去し、４，８−ジドデシル−３，９−ジオキ
ソ−６−ヒドロキシ−４，８−ジアザ−１，１０−ウン
デケン−１，１１−ジカルボン酸２５ｇ（０．０４モ
ル）をガラス状固体として得た。

【０２０５】本化合物を水酸化ナトリウムによりpH７に
調整したものは、ＨＰＬＣ測定において（カラム：ＲＰ
−１８（メルク社製）），溶離液メタノール／水＝７５
／２５測定に於いて単一ピークを与えた。以下に、¹Ｈ
−ＮＭＲデータを示す。

【０２０６】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ（ｐｐｍ）
ＴＭＳ基準 ０．８９（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２７（幅広い一重線，３６Ｈ，ｂ）， １．５６（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ３．２５〜３．５８（複雑な多重線，８Ｈ，ｄ．ｅ）， ３．８〜３．９５（複雑な多重線，１Ｈ，ｆ）， ６．１〜６．６５（複雑な多重線，４Ｈ，ｇ．ｈ）

【０２０７】

【化５０】

【０２０８】合成例１４ 反応容器にビス−（１，３−ドデシルアミノ）プロパン
−２−オール１０．６５ｇ（０．０２５モル）、トルエ
ン１００ml及び酒石酸ジエチル１７．１ml（０．１モ
ル）を入れ、８０℃で、生成してくるエタノールを除去
しながら２０時間反応させた。反応終了後、水洗により
過剰の酒石酸ジエチルを除去し、トルエン層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。その後、減圧下において乾固す
ることにより、４，８−ジドデシル−３，９−ジオキソ
−１，２，６，１０，１１−ペンタヒドロキシ−４，８
−ジアザ−１，１１−ウンデカンジカルボン酸エチル１
８ｇ（０．０２４モル）（９７％）を粘稠な液体として
得た。以下に、¹Ｈ−ＮＭＲデータを示す。

【０２０９】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ（ｐｐｍ）
ＴＭＳ基準 ０．８９（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２〜１．３（複雑な多重線，４２Ｈ，ｂ．ｊ）， １．６３（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ３．５２（幅広い一重線，８Ｈ，ｄ．ｅ）， ３．７〜４．１（複雑な多重線，５Ｈ，ｉ．ｆ）， ４．６〜４．８５（複雑な多重線，４Ｈ，ｇ．ｈ）

【０２１０】

【化５１】

【０２１１】合成例１５ 合成例１４で得た４，８−ジドデシル−３，９−ジオキ
ソ−１，２，６，１０，１１−ペンタヒドロキシ−４，
８−ジアザ−１，１１−ウンデカンジカルボン酸エチル
を水−エタノール（１：１）５０mlに溶解し、水酸化ナ
トリウム２ｇ（０．０５モル）を加えて、６０℃で１０
時間攪拌した。反応終了後、混合液中のエタノールを減
圧下留去し、水溶液を凍結乾燥することにより、４，８
−ジドデシル−３，９−ジオキソ−１，２，６，１０，
１１−ペンタヒドロキシ−４，８−ジアザ−１，１１−
ウンデカンジカルボン酸ナトリウム（定量的）を白色粉
末として得た。

【０２１２】この化合物はＩＲスペクトル（ＫＢｒ錠剤
法）において、３０００−３７００cm^-1（ν_O-H）、１
５００−１８００cm^-1（ν_C=O）に吸収が認められた。

【０２１３】合成例１６ 反応容器にビス−（１，３−ドデシルアミノ）プロパン
−２−オール１２．７８ｇ（０．０３モル）、トルエン
１００ml及びクエン酸トリエチル３０ml（０．１２モ
ル）を入れ、１００℃で、生成してくるエタノールを除
去しながら２５時間反応させた。反応終了後、トルエン
を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、５，９−ジドデシル−４，１０−
ジオキソ−２，７，１２−トリヒドロキシ−５，９−ジ
アザ−１，２，１２，１３−トリデカンテトラカルボン
酸エチル２５ｇ（０．０２８モル）を白色粉末として得
た。以下に、¹Ｈ−ＮＭＲデータを示す。

【０２１４】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ（ｐｐ
ｍ）ＴＭＳ基準 ０．９（三重線，６Ｈ，ａ）， １．３（複雑な多重線，４８Ｈ，ｂ．ｊ）， １．６５（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ２．７〜２．９（複雑な多重線，８Ｈ，ｇ．ｈ）， ３．４５（幅広い一重線，８Ｈ，ｄ．ｅ）， ３．８５〜４．３（複雑な多重線，９Ｈ，ｉ．ｆ）

【０２１５】

【化５２】

【０２１６】合成例１７ 合成例１６で得た５，９−ジドデシル−４，１０−ジオ
キソ−２，７，１２−トリヒドロキシ−５，９−ジアザ
−１，２，１２，１３−トリデカンテトラカルボン酸エ
チル２２ｇ（０．０２５モル）を水−エタノール（１：
１）５０mlに溶解し、水酸化ナトリウム２ｇ（０．０５
モル）を加えて、６０℃で５時間攪拌した。反応終了
後、混合液中のエタノールを減圧下留去し、水溶液に水
酸化ナトリウム２ｇを更に加え、凍結乾燥することによ
り、５，９−ジドデシル−４，１０−ジオキソ−２，
７，１２−トリヒドロキシ−５，９−ジアザ−１，２，
１２，１３−トリデカンテトラカルボン酸ナトリウム
（定量的）を白色粉末として得た。

【０２１７】この化合物はＩＲスペクトル（ＫＢｒ錠剤
法）において、３０００−３７００cm^-1（ν_O-H）、１
５００−１８００cm^-1（ν_C=O）に吸収が認められた。

【０２１８】合成例１８ 反応容器に、合成例１３で得た４，８−ジドデシル−
３，９−ジオキソ−６−ヒドロキシ−４，８−ジアザ−
１，１０−ウンデケン−１，１１−ジカルボン酸２１．
８ｇ（０．０３５モル）と亜硫酸ナトリウム９．７ｇ
（０．０７７モル）の水溶液７０mlを加え、反応混合物
中のpHを５〜６に保ち、６０℃で２時間攪拌した。反応
終了後、反応液を１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でpH７に
調整し、電気透析により過剰の亜硫酸ナトリウムを除去
した。その後、凍結乾燥処理し、４，８−ジドデシル−
３，９−ジオキソ−６−ヒドロキシ−１，１１−ジカル
ボキシ−４，８−ジアザ−１，１１−ウンデカンジスル
ホン酸ナトリウム３０ｇを白色粉末として得た。この化
合物を１Ｎ塩酸で処理して得られた下記式

【０２１９】

【化５３】

【０２２０】で示される４，８−ジドデシル−３，９−
ジオキソ−６−ヒドロキシ−１，１１−ジカルボキシ−
４，８−ジアザ−１，１１−ウンデカンジスルホン酸
は、質量分析（ＦＡＢイオン化法）の結果、ｍ／ｚ＝７
８３（Ｍ＋Ｈ）のピークを示した。また、その¹Ｈ−Ｎ
ＭＲの結果は次のとおりである。

【０２２１】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ（ｐｐ
ｍ）ＴＭＳ基準 ０．８８（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２６（幅広い一重線，３６Ｈ，ｂ）， １．５４（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ２．７４（複雑な多重線，２Ｈ，ｇ）， ３．２５〜３．９（複雑な多重線，１１Ｈ，ｄ．ｅ．
ｆ．ｈ）

【０２２２】合成例１９ 反応容器に９−ヒドロキシ−７，１１−ジアザ−トリコ
サン２０ｇ（０．０５８モル）、無水コハク酸１３ｇ
（０．１３０モル）及び無水エーテル３００mlを入れ、
５時間還流した。反応終了後、不溶の過剰無水コハク酸
を濾過で除き、エーテル層を水洗した。エーテルを減圧
下、留去することにより、粘稠な透明液体の４−ドデシ
ル−８−ヘキシル−３，９−ジオキソ−６−ヒドロキシ
−４，８−ジアザ−１，１１−ウンデカンジカルボン酸
３０ｇ（０．０５５モル）を得た。

【０２２３】本化合物を水酸化ナトリウムによりpH１０
に調整したものは、ＨＰＬＣ測定において（カラム：Ｒ
Ｐ−１８（メルク社製）），溶離液メタノール／水＝８
０／２０測定に於いて単一ピークを与えた。以下に¹Ｈ
−ＮＭＲデータを示す。

【０２２４】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ（ｐｐ
ｍ）ＴＭＳ基準 ０．８９（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２６（幅広い一重線，２４Ｈ，ｂ）， １．４３（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ２．６０（複雑な多重線，８Ｈ，ｇ．ｈ）， ３．２９〜３．８７（複雑な多重線，９Ｈ，ｄ．ｅ．
ｆ）

【０２２５】

【化５４】

【０２２６】合成例２０ 反応容器にビス−（１，３−ドデシルアミノ）プロパン
−２−オール２１．３ｇ（０．０５モル）、無水コハク
酸１６．５ｇ（０．１５モル）及び無水エーテル３００
mlを入れ、５時間還流した。反応終了後、エーテルを減
圧下留去することにより、６−（３−カルボヒドロキシ
−プロパノキシ）−４，８−ジドデシル−３，９−ジオ
キソ−４，８−ジアザ−１，１１−ウンデカンジカルボ
ン酸３７．８ｇ（定量的）を得た。

【０２２７】本化合物はＨＰＬＣ測定（カラム：ＲＰ−
１８（メルク社製）），溶離液メタノール／水＝９０／
１０，５０mM酢酸アンモニウム測定に於いて単一ピーク
を与えた。

【０２２８】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ（ｐｐ
ｍ）ＴＭＳ基準 ０．８９（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２８（幅広い一重線，２４Ｈ，ｂ）， １．５５（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ２．２４〜２．８２（複雑な多重線，１２Ｈ，ｇ．
ｈ）， ２．９０〜３．８３（複雑な多重線，９Ｈ，ｄ．ｅ．
ｆ）

【０２２９】

【化５５】

【０２３０】ＩＲ（ＫＢｒ）：３５６０，２９４０，２
８６０，１７３０，１６３０，１５６０cm^-1

【０２３１】合成例２１ 反応容器にビス−（１，３−デシルアミノ）プロパン−
２−オール４０．２ｇ（０．１０８モル）、エタノール
２６０ｇ、水１００ｇを入れ、５０℃に昇温した。これ
に、モノクロロ酢酸ナトリウム６２．９ｇ（０．５４０
モル）をイソプロパノール１５０ｇと水１００ｇに溶解
させた溶液を加え、pHを８〜１０に保ちながら、還流下
３０時間反応させた。反応終了後、溶媒を留去しクロロ
ホルムに溶解し、不溶の未反応モノクロロ酢酸ナトリウ
ム、副生する塩化ナトリウム等の塩類を除いた。この
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、薄層
クロマトグラフィーで単一のスポットを与えるまで精製
し、２，６−ジデシル−４−ヒドロキシ−２，６−ジア
ザ−１，１，７，７−ヘプタンテトラカルボン酸２０ｇ
を白色粉末として得た（単離収率３１％）。このもの
は、ＨＰＬＣ（カラム：ＲＰ−１８（メルク社製））、
溶離液メタノール／水＝８０／２０測定に於いて単一の
ピークを与えた。以下に¹Ｈ−ＮＭＲデータを示す。

【０２３２】¹Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ₂Ｏ）：δ（ｐｐｍ）Ｄ₂
Ｏ基準（４．７５） ０．８２（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２４（幅広い一重線，２８Ｈ，ｂ）， １．５７（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ２．９９〜３．３２（複雑な多重線，８Ｈ，ｄ）， ３．５８（幅広い一重線，８Ｈ，ｆ）， ４．０２（幅広い一重線，１Ｈ，ｅ）

【０２３３】

【化５６】

【０２３４】合成例２２ 反応容器に合成例２で得た２，６−ジオクチル−４−ヒ
ドロキシ−２，６−ジアザ−１，７−ヘプタンジカルボ
ン酸１０ｇ（０．０２３モル）及びメタノール２０ｇを
入れ、５０℃に昇温した。これにヨウ化メチル８．４ｇ
（０．０６モル）を加え、６０℃で１４時間反応させ
た。反応終了後、溶媒を留去し、電気透析にて脱塩し、
凍結乾燥することにより、２，６−ジメチル−２，６−
ジオクチル−４−ヒドロキシ−２，６−ジアザ−１，７
−ヘプタンジカルボン酸９．５ｇを（単離収率９０％）
白色粉末として得た。以下に¹Ｈ−ＮＭＲデータを示
す。

【０２３５】¹Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ₂Ｏ）：δ（ｐｐｍ）Ｄ₂
Ｏ基準（４．７５） ０．８２（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２２（幅広い一重線，２０Ｈ，ｂ）， １．５９（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ３．０２（一重線，６Ｈ，ｅ）， ３．０５〜３．３０（複雑な多重線，８Ｈ，ｄ）， ３．９４（一重線，４Ｈ，ｆ）， ４．１１（幅広い一重線，１Ｈ，ｇ），

【０２３６】

【化５７】

【０２３７】合成例２３ 反応容器に、１１，１５−ジヒドロキシ−１３−スルホ
エチル−９，１３，１７−トリアザペンタコサン２７ｇ
（０．０５モル）及びキシレン１００ｇを入れた後、攪
拌しながら、無水コハク酸１２ｇ（０．１２モル）を加
え、５０℃で６時間反応させた。キシレンを減圧下にて
留去した後、水を３００ml加え、更に１０％水酸化ナト
リウムを加えてpH７にした。その後、電気透析を行い、
凍結乾燥して、６，１０−ジヒドロキシ−４，１２−ジ
オクチル−３，１３−ジオキソ−８−スルホエチル−
４，８，１２−トリアザ−１，１５−ペンタデカンジカ
ルボン酸２８ｇ（単離収率７６％）を白色結晶として得
た。以下に¹Ｈ−ＮＭＲデータを示す。

【０２３８】

【化５８】

【０２３９】また水中で上記化合物を分散し、これに同
当量の水酸化ナトリウム水溶液を添加し、凍結乾燥によ
り対応するナトリウム塩を得た。

【０２４０】合成例２４ 反応容器に、１１，１５−ジヒドロキシ−１３−スルホ
エチル−９，１３，１７−トリアザペンタコサン２０ｇ
（０．０４モル）及びキシレン１００ｇを入れた後、攪
拌しながら、無水マレイン酸１０ｇ（０．１モル）を加
え、５０℃で６時間反応させた。キシレンを減圧下にて
留去した後、水を３００ml加え、更に１０％水酸化ナト
リウムを加えてpH７にした。その後、電気透析を行い凍
結乾燥して、６，１０−ジヒドロキシ−４，１２−ジオ
クチル−３，１３−ジオキソ−８−スルホエチル−４，
８，１２−トリアザ−１，１４−ペンタデカジエン−
１，１５−ジカルボン酸２２ｇ（単離収率８０％）を白
色粉末として得た。以下に¹Ｈ−ＮＭＲデータを示す。

【０２４１】

【化５９】

【０２４２】また、水中で上記化合物を分散し、これに
同当量の水酸化ナトリウム水溶液を添加し、凍結乾燥に
より対応するナトリウム塩を得た。

【０２４３】合成例２５ 反応容器に、実施例２で得た６，１０−ジヒドロキシ−
４，１２−ジオクチル−３，１３−ジオキソ−８−スル
ホエチル−４，８，１２−トリアザ−１，１４−ペンタ
デカジエン−１，１５−ジカルボン酸２０ｇ（０．０２
９モル）と亜硫酸ナトリウム８ｇ（０．０６４モル）の
水溶液７０mlを加え、反応混合物中のpHを５〜６に保
ち、６０℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応液を１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でpH７に調整し、電気透析に
より過剰の亜硫酸ナトリウムを除去した。その後、凍結
乾燥し、１，１５−ジカルボキシ−６，１０−ジヒドロ
キシ−４，１２−ジオクチル−３，１３−ジオキソ−８
−スルホエチル−４，８，１２−トリアザペンタデカン
−１，１５−ジスルホン酸ナトリウム２１ｇ（単離収率
８６％）を白色粉末として得た。以下に¹Ｈ−ＮＭＲデ
ータを示す。

【０２４４】

【化６０】

【０２４５】また、水中で上記化合物を分散し、これに
同当量の水酸化ナトリウム水溶液を添加し、凍結乾燥に
より対応するナトリウム塩を得た。

【０２４６】合成例２６ 反応容器に、１１，１５−ジヒドロキシ−１３−スルホ
エチル−９，１３，１７−トリアザペンタコサン１０ｇ
（０．０２モル）、トルエン５０ml、グリコール酸エチ
ル５．１ml（０．０５モル）を入れ、１００℃に昇温
し、窒素気流により生成するエタノールを追い出しなが
ら７．５時間攪拌を続けた。反応終了後、減圧下溶媒を
留去して、残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル２００ｇ，展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝１
００／１→２０／１）により精製し、３，１１−ジオク
チル−２，１２−ジオキソ−７−スルホエチル−３，
７，１１−トリアザ−１，５，９，１３−トリデカンテ
トラオール１０．６ｇ（単離収率９１％）を得た。以下
に¹Ｈ−ＮＭＲデータを示す。

【０２４７】

【化６１】

【０２４８】合成例２７ 反応容器に合成例４で得た３，１１−ジオクチル−２，
１２−ジオキソ−７−スルホエチル−３，７，１１−ト
リアザ−１，５，９，１３−トリデカンテトラオール１
０ｇ（０．０１６モル）及びジクロロメタン１００mlを
入れ、窒素気流下、氷冷しながらクロロスルホン酸２．
２ml（０．０３２モル）を滴下した。その後徐々に室温
に戻し、窒素気流により発生する塩酸及びジクロロメタ
ンを除去した。残渣に水を加えて溶解し、１Ｎ水酸化ナ
トリウム水溶液により、pHを７に調整した。この水溶液
を電気透析により脱塩処理した後、凍結乾燥することに
より、ジソディウム５，９−ジヒドロキシ−７−スルホ
エチル−２，１２−ジオキソ−３，１１−ジオクチル−
３，７，１１−トリアザ−１，１３−トリデカンジサル
フェート９．２ｇを得た（単離収率７５％）。ＩＲ（Ｋ
Ｂｒ錠剤法cm^-1）：１３８８，１１８４（ν_s=o），１
６６０（ν_C=O）

【０２４９】合成例２８ 反応器にグリシン５０ｇ（０．６７モル）、水７０ｇ、
水酸化ナトリウム２７ｇ（０．６７モル）を入れ、５℃
に冷却した。その後エピクロロヒドリン１２４ｇ（１．
３４モル）を１時間３０分かけて滴下し、室温まで昇温
した。６時間攪拌した後、析出した不溶物を濾過により
除去し、乾燥して白色粉末のＮ，Ｎ−ビス−（３−クロ
ロ−２−ヒドロキシプロピル）−グリシンナトリウム塩
１０６ｇを得た（単離収率５６％）。以下に¹Ｈ−ＮＭ
Ｒデータを示す。

【０２５０】¹Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ₂Ｏ）：δ（ｐｐｍ）Ｄ₂
Ｏ基準（４．７５） ２．５８〜２．８５（複雑な多重線，４Ｈ，ａ）， ３．２７（一重線，２Ｈ，ｂ）， ３．４４〜３．７６（複雑な多重線，４Ｈ，ｃ）， ３．８８〜４．０９（複雑な多重線，２Ｈ，ｄ）

【０２５１】

【化６２】

【０２５２】合成例２９ 反応器に合成例２８と同様にして得たＮ，Ｎ−ビス−
（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）−グリシンナ
トリウム塩４０ｇ（０．１４モル）、メタノール１００
ｇ及びオクチルアミン１８１ｇ（１．４モル）を入れ、
９０℃に昇温した。１０時間攪拌し、水酸化ナトリウム
１１ｇ水溶液を加えた。その後、減圧下、メタノール及
び水を留去し、更に１００℃、０．５mmHgで未反応のオ
クチルアミンを留去した。残渣にキシレン７００mlと水
７００mlとの混合物を加え、抽出、洗浄した。キシレン
層を分取し、濃縮して１３−カルボキシメチル−１１，
１５−ジヒドロキシ−９，１３，１７−トリアザペンタ
コサン４７ｇを得た（単離収率７９％）。以下に¹Ｈ−
ＮＭＲデータを示す。

【０２５３】¹Ｈ−ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）ＣＤＣｌ₃ ０．８８（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２５（幅広い一重線，２０Ｈ，ｂ）， １．４５（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ２．３１〜２．７０（複雑な多重線，１２Ｈ，ｄ）， ３．２０（一重線，２Ｈ，ｅ）， ３．７５（幅広い一重線，２Ｈ，ｆ）

【０２５４】

【化６３】

【０２５５】合成例３０ 反応器に合成例２９と同様にして得た１３−カルボキシ
メチル−１１，１５−ジヒドロキシ−９，１３，１７−
トリアザペンタコサン２６．５ｇ（０．０６モル）、エ
タノール４０ｇを入れ５０℃に昇温した。これにモノク
ロロ酢酸ナトリウム４０ｇ（０．３４モル）を水８０
ｇ、エタノール２０ｇに溶解した溶液を加え、３０時間
反応させた。反応終了後、減圧下エタノールを留去した
後、水５００mlに再溶解させ、電気透析により、生成し
た無機塩又は未反応クロロ酢酸ナトリウムを除去し、水
溶液を凍結乾燥することにより、１１，１５−ジヒドロ
キシ−９，１３，１７−トリアザ−９，１３，１７−ト
リカルボキシメチルペンタコサン２２ｇを白色粉末とし
て得た（単離収率６５％）。

【０２５６】¹Ｈ−ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）Ｄ₂Ｏ ０．８６（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２２（幅広い一重線，２０Ｈ，ｂ）， １．４１（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ２．４０〜２．８３（複雑な多重線，１２Ｈ，ｄ）， ３．２０（幅広い一重線，６Ｈ，ｅ）， ３．７２（幅広い一重線，２Ｈ，ｆ）

【０２５７】

【化６４】

【０２５８】合成例３１ 反応容器にタウリン３０ｇ（０．２４モル）、水３０ｇ
及び水酸化ナトリウム９．６５ｇを入れ１０℃に冷却し
た。エピクロロヒドリン４４．７ｇ（０．４８モル）を
３０分かけて滴下し、室温まで昇温した。室温にて５時
間反応させた後、オクチルアミン３４７ｇ（２．７モ
ル）及びメタノール１００ｇを加え、５０℃に昇温し
た。５０℃で１６時間反応させた後、減圧下にて水及び
メタノールを留去した。その後、１００℃、０．５mmHg
で未反応のオクチルアミンを留去し、残渣にクロロホル
ム８００ml、５％水酸化ナトリウム水溶液８００mlを入
れ、抽出、水洗し、クロロホルム層を分取し、溶媒を留
去して、１１，１５−ジヒドロキシ−１３−スルホエチ
ル−９，１３，１７−トリアザペンタコサン９４ｇを得
た（単離収率７９％）。以下に¹Ｈ−ＮＭＲデータを示
す。

【０２５９】¹Ｈ−ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）ＣＤＣｌ₃ ０．８４（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２６（幅広い一重線，２０Ｈ，ｂ）， １．４４（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ２．１５〜２．５０（複雑な多重線，２Ｈ，ｅ）， ２．６１〜２．８７（複雑な多重線，１４Ｈ，ｄ）， ３．４４〜３．６３（複雑な多重線，２Ｈ，ｆ）

【０２６０】

【化６５】

【０２６１】合成例３２ 反応容器に合成例３１と同様にして得た１１，１５−ジ
ヒドロキシ−１３−スルホエチル−９，１３，１７−ト
リアザペンタコサン２０ｇ（０．０４モル）及びエタノ
ール３５ｇを入れ６０℃に昇温した。これに３−クロロ
−２−ヒドロキシ−プロパンスルホン酸２９ｇ（０．１
５モル）を水３５ｇに溶解し、溶液を１時間３０分かけ
て滴下した。６０℃にて３３時間攪拌した後、減圧下、
エタノールを留去した。その後、水５００mlに再溶解さ
せ、電気透析により脱塩処理した後、水溶液を凍結乾燥
することにより、２，６，１０，１４−テトラヒドロキ
シ−４，１２−ジオクチル−８−スルホエチル−４，
８，１２−トリアザ−１，１５−ペンタデカンジスルホ
ン酸２４ｇを白色粉末として得た（単離収率７８％）。
以下に¹Ｈ−ＮＭＲデータを示す。

【０２６２】¹Ｈ−ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）Ｄ₂Ｏ ０．８１（三重線，６Ｈ，ａ）， １．２５（幅広い一重線，２０Ｈ，ｂ）， １．４７（幅広い一重線，４Ｈ，ｃ）， ２．１１〜２．５６（複雑な多重線，６Ｈ，ｆ）， ２．７３〜２．９４（複雑な多重線，１８Ｈ，ｄ）， ３．７０〜３．８５（複雑な多重線，２Ｈ，ｅ）， ３．９８（幅広い一重線，２Ｈ，ｇ）

【０２６３】

【化６６】

【０２６４】実施例１ 表１に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、その皮膚刺激
性、起泡性及び毛髪の感触について、下記の方法で評価
した。

【０２６５】（皮膚刺激性）試料洗浄剤組成物の１％水
溶液０．１mlをしみ込ませたパッチテスト用絆創膏を２
０人の被験者に２４時間貼付し、貼付除去後２４時間後
に刺激性を判定し、次の基準で評価した。

【０２６６】 ○：２０人中紅斑を示した者が２人以下であった。 △：２０人中紅斑を示した者が３人以上１０人以下であ
った。 ×：２０人中紅斑を示した者が１１人以上であった。

【０２６７】（起泡性）長さ２０cm、重さ２０ｇの人毛
から成るかもじに４０℃の温水を含ませた後、試料洗浄
剤組成物１ｇをまんべんなく付け、次いで１分間泡立て
て、その泡立ちの程度を次の基準で評価した。

【０２６８】 ◎：非常に優れている。 ○：普通である。 △：やや不足している。 ×：非常に不足している。

【０２６９】（毛髪のすすぎ時の指通り）長さ２０cm、
重さ２０ｇの人毛から成るかもじに４０℃の温水を含ま
せた後、試料洗浄剤組成物１ｇをまんべんなく付け、次
いで１分間泡立てた後に、水ですすいだ時の毛髪の指通
りを、専門パネラーにより、次の基準で評価した。

【０２７０】 ◎：非常に良い。 ○：普通である。 △：やや悪い。 ×：非常に悪い。

【０２７１】（毛髪乾燥後のしっとり感）長さ２０cm、
重さ２０ｇの人毛から成るかもじに４０℃の温水を含ま
せた後、試料洗浄剤組成物１ｇをまんべんなく付け、次
いで１分間泡立てた後に、水ですすぎ、ドライヤーで乾
燥した毛髪について、専門パネラーにより、次の基準で
評価した。

【０２７２】 ◎：非常にしっとりする。 ○：普通である。 △：ややぱさつく。 ×：非常にぱさつく。

【０２７３】

【表１】

【０２７４】表１より明らかなように、本発明品は、皮
膚に対して低刺激性であり、高い起泡性を有し、すすぎ
時及び乾燥時に指通りが良く、しっとりとしてぱさつか
ない良好な感触が得られることが認められた。

【０２７５】実施例２ 次に示す組成のシャンプーを調製した。得られたシャン
プーは起泡性、洗浄性に優れ、且つすすぎ時及び乾燥時
に指通りが良く、しっとりとしてぱさつかない良好な感
触であった。

【０２７６】

【表２】 （組成） （重量％） 合成例５の化合物 ２０ ラウリン酸 １ カチオン性セルロース （JR−４００：ユニオンカーバイド社製） ０．８ 安息香酸ナトリウム ０．３ 色素 適量 香料 適量 クエン酸 適量精製水 バランス 計１００．０

【０２７７】実施例３ 次に示す組成のシャンプーを調製した。得られたシャン
プーは起泡性、洗浄性に優れ、且つすすぎ時及び乾燥時
に指通りが良く、しっとりとしてぱさつかない良好な感
触であった。

【０２７８】

【表３】 （組成） （重量％） 合成例８の化合物 １５ 合成例２３の化合物 ５ ラウリン酸 １ カチオン性セルロース （JR−４００：ユニオンカーバイド社製） ０．８ 安息香酸ナトリウム ０．３ 色素 適量 香料 適量 クエン酸 適量精製水 バランス 計１００．０

【０２７９】実施例４ 次に示す組成のボディシャンプーを調製した。得られた
ボディシャンプーは起泡性、洗浄性に優れ、且つすすぎ
時及び乾燥時にしっとりとしてぱさつかない良好な感触
であった。

【０２８０】

【表４】 （組成） （重量％） 合成例１２の化合物 １８ ラウリルジメチルアミンオキシド ２ カチオン化グアーガム （ジャグアールＣ−１３−Ｓ，セラニーズシュタイン・ホール 社製） ０．２ グリセリン ４ ショ糖脂肪酸エステル １ メチルパラベン ０．３ 色素 適量 香料 適量 クエン酸 適量精製水 バランス 計１００．０

【０２８１】実施例５ 次に示す組成の洗顔料を調製した。得られた洗顔料は、
起泡性、洗浄性に優れ、且つすすぎ時及び乾燥時にしっ
とりとしてぱさかつない良好な感触であった。

【０２８２】

【表５】 （組成） （重量％） 合成例１８の化合物 １５ ラウリン酸カリウム ３ ミリスチン酸カリウム ２ グリセリン １０ ジアリル第４級アンモニウム塩／アクリルアミド共重合体） （マーコート５５０，ＭＥＲＣＫ社製） ０．３ 色素 適量 香料 適量精製水 バランス 計１００．０

【０２８３】実施例６ 次に示す組成のハンドウォッシュを調製した。得られた
ハンドウォッシュは、起泡性、洗浄性に優れ、且つすす
ぎ時及び乾燥時にしっとりとしてぱさつかない良好な感
触であった。

【０２８４】

【表６】 （組成） （重量％） 合成例３０の化合物 １０ ポリオキシエチレン（20）ソルビタンモノラウリン酸ナトリウム １０ オレイン酸トリエタノールアミン ５ プロピレングリコール ５ パラフィン油 ２ ケイ酸アルミニウム ５ カチオン化セルロース （QUATRISOFT POLYMER LM-200,Amerchol社製） ０．５ 色素 適量 香料 適量精製水 バランス 計１００．０

【０２８５】実施例７ 次に示す組成の歯磨きを調製した。得られた歯磨きは、
起泡性、洗浄性に優れ、且つすすぎ後もしっとりとして
良好な感触であった。

【０２８６】

【表７】 （組成） （重量％） 合成例２７の化合物 １．５ 第二リン酸カルシウム・２水塩 ４５ 無水ケイ酸 ２ グリセリン １５ カチオン性澱粉 （コーンスターチのカチオン化物、カチオン度０．３） ０．５ カラギーナン ０．３ サッカリンナトリウム ０．１ 香料 適量精製水 バランス 計１００．０

【図面の簡単な説明】

【図１】合成例５で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲチャ
ートである。

【図２】合成例６で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲチャ
ートである。

【図３】合成例８で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲチャ
ートである。

【図４】合成例１０で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲチ
ャートである。

【図５】合成例１１で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲチ
ャートである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 233/36 Ｃ０７Ｃ 233/36 235/08 235/08 235/10 235/10 309/13 309/13 309/17 309/17 Ｃ１１Ｄ 1/18 Ｃ１１Ｄ 1/18 1/28 1/28 1/92 1/92 3/37 3/37 (72)発明者 大内 淳子 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606−６ 花王 市貝社宅３−206 (72)発明者 木附 智人 和歌山県和歌山市西浜1450 花王水軒社 宅222号 (56)参考文献 特開 平７−97359（ＪＰ，Ａ) 特表 平９−509402（ＪＰ，Ａ) 国際公開95／01955（ＷＯ，Ａ１) 国際公開96／01805（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) A61K 7/00 - 7/50 C11D 1/00 - 3/60 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次の成分（Ａ）及び（Ｂ）： （Ａ）（ａ）下記一般式（１）； 【化１】 〔式中、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって炭素数６〜３
   ６の直鎖又は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基を示
   し、Ｘはヒドロキシル基、スルホン酸基又はカルボキシ
   ル基で置換していてもよい炭素数１〜６のアルキレン又
   はアルケニレン基を示し、Ｙ¹ はスルホン酸基、硫酸残
   基もしくはカルボキシル基又はその塩を示し、Ｙ² はヒ
   ドロキシル基、硫酸残基もしくはその塩又は下記式
   （２）； 【化２】 で表わされる基を示し、ｎは０又は１を示す。〕で表わ
   される２−ヒドロキシプロパンジアミン誘導体、その塩
   又はその４級化物、 （ｂ）下記一般式（３）； 【化３】 〔式中、Ｘ、Ｙ¹ 及びＹ² は上記と同様の意味を示し、
   Ｒ³ 及びＲ⁴ は同一又は異なって、ヒドロキシル基で置
   換していてもよい炭素数１〜２４の直鎖又は分岐鎖のア
   ルキル又はアルケニル基を示し、Ｚはアスパラギン、ア
   スパラギン酸、アラニン、アルギニン、イソロイシン、
   グリシン、グルタミン、グルタミン酸、シスチン、シス
   テイン、セリン、チロシン、トリプトファン、トレオニ
   ン、バリン、ヒスチジン、ヒドロキシプロリン、ヒドロ
   キシリシン、フェニルアラニン、プロリン、メチオニ
   ン、リシン、ロイシン、β−アラニン、タウリン、α−
   アミノ酪酸、イソセリン、オルニチン、グルタチオン、
   グリシルグリシン、γ−アミノ酪酸、ε−アミノカプロ
   ン酸、シトルリン又はその塩から１つのアミノ基を除い
   た基を示す。〕で表わされるアミド化合物、及び （ｃ）下記一般式（４）； 【化４】 〔式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 及びＺは上記と同様の意味を示し、
   Ａはヒドロキシル基で置換していてもよい炭素数１〜６
   の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｙ³ はカルボ
   キシル基又はスルホン酸基を示す。〕で表わされるアミ
   ン誘導体、 から選ばれる界面活性剤の１種又は２種以上、 （Ｂ）カチオン界面活性剤及び水溶性カチオンポリマー
   から選ばれるカチオン性コンディショニング剤の１種又
   は２種以上を含有する身体用洗浄剤組成物。
2. 【請求項２】 一般式（１）において、Ｙ¹ がスルホン
   酸基又は硫酸残基であり、Ｙ2 がヒドロキシル基又は硫
   酸残基である請求項１記載の身体用洗浄剤組成物。
3. 【請求項３】 一般式（１）において、Ｙ¹ がカルボキ
   シル基であり、Ｙ²がヒドロキシル基又は上記式（２）
   で表わされる基である請求項１記載の身体用洗浄剤組成
   物。
4. 【請求項４】 一般式（１）において、Ｒ¹ 及びＲ²
   が、炭素数６〜２４の直鎖又は分岐鎖のアルキル又はア
   ルケニル基である請求項１〜３のいずれかの項記載の身
   体用洗浄剤組成物。
5. 【請求項５】 一般式（１）の２−ヒドロキシプロパン
   ジアミン誘導体、その塩又はその４級化物が遊離塩基又
   は塩の形態である請求項１〜４のいずれかの項記載の身
   体用洗浄剤組成物。
6. 【請求項６】 一般式（３）において、Ｒ³ 及びＲ⁴ が
   炭素数６〜２４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、
   Ｙ¹ がスルホン酸基もしくはカルボキシル基又はその塩
   であり、Ｙ² がヒドロキシル基であり、Ｚがタンパク質
   を構成するアミノ酸（アスパラギン、アスパラギン酸、
   アラニン、アルギニン、イソロイシン、グリシン、グル
   タミン、グルタミン酸、シスチン、システイン、セリ
   ン、チロシン、トリプトファン、トレオニン、バリン、
   ヒスチジン、ヒドロキシプロリン、ヒドロキシリシン、
   フェニルアラニン、プロリン、メチオニン、リシン、ロ
   イシン）、β−アラニン、タウリン又はその塩から１つ
   のアミノ基を除いた基である請求項１〜５のいずれかの
   項記載の身体用洗浄剤組成物。
7. 【請求項７】 一般式（３）において、Ｒ³ 及びＲ⁴ が
   炭素数６〜２４のアルキル基であり、Ｘがヒドロキシル
   基で置換されていてもよい炭素数１〜６の直鎖又は分岐
   鎖のアルキレン又はアルケニレン基であり、Ｙ¹ が硫酸
   残基であり、Ｙ² がヒドロキシル基又は硫酸残基もしく
   はその塩であり、Ｚがタンパク質を構成するアミノ酸
   （アスパラギン、アスパラギン酸、アラニン、アルギニ
   ン、イソロイシン、グリシン、グルタミン、グルタミン
   酸、シスチン、システイン、セリン、チロシン、トリプ
   トファン、トレオニン、バリン、ヒスチジン、ヒドロキ
   シプロリン、ヒドロキシリシン、フェニルアラニン、プ
   ロリン、メチオニン、リシン、ロイシン）、β−アラニ
   ン、タウリン又はその塩から１つのアミノ基を除いた基
   である請求項１〜５のいずれかの項記載の身体用洗浄剤
   組成物。
8. 【請求項８】 一般式（４）においてＲ³ 及びＲ⁴ が炭
   素数６〜２４のアルキル基であり、Ｚがタンパク質を構
   成するアミノ酸（アスパラギン、アスパラギン酸、アラ
   ニン、アルギニン、イソロイシン、グリシン、グルタミ
   ン、グルタミ ン酸、シスチン、システイン、セリン、チ
   ロシン、トリプトファン、トレオニン、バリン、ヒスチ
   ジン、ヒドロキシプロリン、ヒドロキシリシン、フェニ
   ルアラニン、プロリン、メチオニン、リシン、ロイシ
   ン）、β−アラニン、タウリン又はその塩から１つのア
   ミノ基を除いた基である請求項１〜７のいずれかの項記
   載の身体用洗浄剤組成物。