JP3392399B2 - セリウム系研摩材、その品質検査方法および製造方法 - Google Patents
セリウム系研摩材、その品質検査方法および製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、セリウム系研摩材
の品質検査方法、セリウム系研摩材の製造方法およびセ
リウム系研摩材に関する。
の品質検査方法、セリウム系研摩材の製造方法およびセ
リウム系研摩材に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、様々な用途にガラス材料が用いら
れている。この中でも特に光ディスクや磁気ディスク用
ガラス基板、アクティブマトリックス型ＬＣＤ(Liquid
Crystal Display)、液晶ＴＶ用カラーフィルター、時
計、電卓、カメラ用ＬＣＤ、太陽電池等のディスプレイ
用ガラス基板、ＬＳＩフォトマスク用ガラス基板、ある
いは光学用レンズ等のガラス基板や光学用レンズ等にお
いては、高精度に表面研摩することが要求されている。
れている。この中でも特に光ディスクや磁気ディスク用
ガラス基板、アクティブマトリックス型ＬＣＤ(Liquid
Crystal Display)、液晶ＴＶ用カラーフィルター、時
計、電卓、カメラ用ＬＣＤ、太陽電池等のディスプレイ
用ガラス基板、ＬＳＩフォトマスク用ガラス基板、ある
いは光学用レンズ等のガラス基板や光学用レンズ等にお
いては、高精度に表面研摩することが要求されている。
【０００３】通常、これらのガラス基板の表面研摩に
は、希土類酸化物、特に酸化セリウムを主成分とするセ
リウム系研摩材が用いられている。酸化セリウムはガラ
ス研摩において酸化ジルコニウムや二酸化ケイ素に比べ
て研摩効率が数倍優れているためである。
は、希土類酸化物、特に酸化セリウムを主成分とするセ
リウム系研摩材が用いられている。酸化セリウムはガラ
ス研摩において酸化ジルコニウムや二酸化ケイ素に比べ
て研摩効率が数倍優れているためである。
【０００４】セリウム系研摩材に用いられる原料として
は、炭酸希土、水酸化希土、シュウ酸希土等の希土原
料、あるいはそれらを焼成することによって得られる酸
化希土原料が一般に用いられる。これらの希土原料は、
一般にバストネサイト系希土原料あるいはセリウム含有
希土類原料から、一部の希土（Ｎｄ，Ｐｒ）および放射
性物質等を公知の化学的処理によって除去することによ
り製造されている。
は、炭酸希土、水酸化希土、シュウ酸希土等の希土原
料、あるいはそれらを焼成することによって得られる酸
化希土原料が一般に用いられる。これらの希土原料は、
一般にバストネサイト系希土原料あるいはセリウム含有
希土類原料から、一部の希土（Ｎｄ，Ｐｒ）および放射
性物質等を公知の化学的処理によって除去することによ
り製造されている。
【０００５】この炭酸希土や酸化希土を原料とするセリ
ウム系研摩材は次のようにして製造されている。すなわ
ち、まず、原料をスラリー化あるいは湿式粉砕し、鉱酸
で処理し、次いで必要に応じてフッ酸あるいはフッ化ア
ンモニウム等で処理する。得られたスラリーを濾過し
て、乾燥した後、焙焼する。最後に、粉砕および分級
し、所定の粒径の研摩材を得る。
ウム系研摩材は次のようにして製造されている。すなわ
ち、まず、原料をスラリー化あるいは湿式粉砕し、鉱酸
で処理し、次いで必要に応じてフッ酸あるいはフッ化ア
ンモニウム等で処理する。得られたスラリーを濾過し
て、乾燥した後、焙焼する。最後に、粉砕および分級
し、所定の粒径の研摩材を得る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、製造された
研摩材が所定の研摩特性を有しているかどうかを検査す
る必要がある。すなわち、製造された研摩材によりガラ
ス面等を研摩したときに、所定の研摩値が得られ、また
傷の発生がないことを保証する必要がある。研摩材のこ
のような品質検査のために、従来は実際に研摩試験を行
う必要があり、手間がかかっている。また、用途に応じ
た所定の研摩特性が得られるセリウム系研摩材を製造す
ることが要求されている。また、用途に応じた所定の研
摩特性を有するセリウム系研摩材が要求されている。
研摩材が所定の研摩特性を有しているかどうかを検査す
る必要がある。すなわち、製造された研摩材によりガラ
ス面等を研摩したときに、所定の研摩値が得られ、また
傷の発生がないことを保証する必要がある。研摩材のこ
のような品質検査のために、従来は実際に研摩試験を行
う必要があり、手間がかかっている。また、用途に応じ
た所定の研摩特性が得られるセリウム系研摩材を製造す
ることが要求されている。また、用途に応じた所定の研
摩特性を有するセリウム系研摩材が要求されている。
【０００７】本発明は、上記事情に鑑みて為されたもの
で、セリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査を簡
便に行うことができるセリウム系研摩材の品質検査方法
を提供することを目的とする。また、本発明は、所定の
研摩特性を有するセリウム系研摩材を得ることができる
セリウム系研摩材の製造方法を提供することを目的とす
る。また、本発明は、用途に応じた所定の研摩特性を有
するセリウム系研摩材を提供することを目的とする。
で、セリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査を簡
便に行うことができるセリウム系研摩材の品質検査方法
を提供することを目的とする。また、本発明は、所定の
研摩特性を有するセリウム系研摩材を得ることができる
セリウム系研摩材の製造方法を提供することを目的とす
る。また、本発明は、用途に応じた所定の研摩特性を有
するセリウム系研摩材を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】セリウム系研摩材の切削
性を向上させるためにフッ素（Ｆ）を含有させることが
従来から行われている。このフッ素は、含有量や焙焼温
度によって研摩材中で決まった結晶構造を形成する。本
発明者らは、この点に着目して鋭意研究した結果、本発
明を完成するに至った。すなわち、セリウム系研摩材に
おいて、フッ素含有化合物の結晶構造は、ＸＲＤ（Ｘ線
回折）測定によると次のような変化を示す。 （１）フッ素添加時には、酸化物を原料とした場合には
ＬｎＦ3（例えば、ＬａＦ3）として、また炭酸塩を原料
とした場合にはＬｎＣＯ3Ｆとして存在する。 （２）焙焼により、イオン半径が大きいＬｎは固溶量が
小さくなりＬｎＦ3として吐き出され、そしてＬｎxＯy
の格子は縮み、結晶相が変化する。例えば、焙焼によ
り、イオン半径が大きいＬａは固溶量が小さくなりＬａ
Ｆ3として吐き出されて、ＬｎxＯyの格子は縮み、例え
ば、Ｘ線回折によりＣｅ0.5Ｎｄ0.5Ｏ1.75と同定される
ものから、Ｃｅ0.75Ｎｄ0.25Ｏ1.875と同定されるもの
へと結晶相が変化する。ただし、Ｃｅ0.5Ｎｄ0.5Ｏ1.75
またはＣｅ0.75Ｎｄ0.25Ｏ1.875と同定されるものは、
Ｎｄ含有量が少ない場合においてもメインピークとなる
ため、セリウム系研摩材中Ｃｅに対して通常数十％原子
含まれるＬａをも含む酸化物であると推定される。 （３）焙焼温度が高温の場合、吐き出されたＬｎＦ3は
ＬｎＯＦ相として成長する（例えば、吐き出されたＬａ
Ｆ3はＬａＯＦ相として成長する）。この変化は、フッ
素含有量が多いほど焙焼温度をより高温にしないとＬｎ
ＯＦ相として成長せず、フッ素含有量が少ないほどより
低温の焙焼温度でＬｎＯＦ相として成長する。 ここで、Ｌｎは、Ｌａ（ランタン），Ｃｅ（セリウ
ム），Ｎｄ（ネオジム）の少なくとも１つ以上の元素を
含むものである。また、ＬｎＦ3は、例えばＬａＦ3ある
いはＣｅＦ3であり、ＬｎＯＦは、例えばＬａＯＦある
いはＣｅＯＦであり、ＬｎxＯyは、通常は３／２≦ｙ／
ｘ≦２であって、例えばＬａ2Ｏ3，ＣｅＯ2，Ｃｅ0.5Ｎ
ｄ0.5Ｏ1.75あるいはＣｅ0.75Ｎｄ0.25Ｏ1.875である。
性を向上させるためにフッ素（Ｆ）を含有させることが
従来から行われている。このフッ素は、含有量や焙焼温
度によって研摩材中で決まった結晶構造を形成する。本
発明者らは、この点に着目して鋭意研究した結果、本発
明を完成するに至った。すなわち、セリウム系研摩材に
おいて、フッ素含有化合物の結晶構造は、ＸＲＤ（Ｘ線
回折）測定によると次のような変化を示す。 （１）フッ素添加時には、酸化物を原料とした場合には
ＬｎＦ3（例えば、ＬａＦ3）として、また炭酸塩を原料
とした場合にはＬｎＣＯ3Ｆとして存在する。 （２）焙焼により、イオン半径が大きいＬｎは固溶量が
小さくなりＬｎＦ3として吐き出され、そしてＬｎxＯy
の格子は縮み、結晶相が変化する。例えば、焙焼によ
り、イオン半径が大きいＬａは固溶量が小さくなりＬａ
Ｆ3として吐き出されて、ＬｎxＯyの格子は縮み、例え
ば、Ｘ線回折によりＣｅ0.5Ｎｄ0.5Ｏ1.75と同定される
ものから、Ｃｅ0.75Ｎｄ0.25Ｏ1.875と同定されるもの
へと結晶相が変化する。ただし、Ｃｅ0.5Ｎｄ0.5Ｏ1.75
またはＣｅ0.75Ｎｄ0.25Ｏ1.875と同定されるものは、
Ｎｄ含有量が少ない場合においてもメインピークとなる
ため、セリウム系研摩材中Ｃｅに対して通常数十％原子
含まれるＬａをも含む酸化物であると推定される。 （３）焙焼温度が高温の場合、吐き出されたＬｎＦ3は
ＬｎＯＦ相として成長する（例えば、吐き出されたＬａ
Ｆ3はＬａＯＦ相として成長する）。この変化は、フッ
素含有量が多いほど焙焼温度をより高温にしないとＬｎ
ＯＦ相として成長せず、フッ素含有量が少ないほどより
低温の焙焼温度でＬｎＯＦ相として成長する。 ここで、Ｌｎは、Ｌａ（ランタン），Ｃｅ（セリウ
ム），Ｎｄ（ネオジム）の少なくとも１つ以上の元素を
含むものである。また、ＬｎＦ3は、例えばＬａＦ3ある
いはＣｅＦ3であり、ＬｎＯＦは、例えばＬａＯＦある
いはＣｅＯＦであり、ＬｎxＯyは、通常は３／２≦ｙ／
ｘ≦２であって、例えばＬａ2Ｏ3，ＣｅＯ2，Ｃｅ0.5Ｎ
ｄ0.5Ｏ1.75あるいはＣｅ0.75Ｎｄ0.25Ｏ1.875である。
【０００９】また、このような焼結過程において、微細
粒子の焼結という現象も見られ、結晶相の成長とともに
比表面積が低下してくる。さらには、研摩特性で重要な
研摩値と呼ばれる研摩速度については、粒子の成長とと
もに大きくなることが知られているが、一般に行われて
いる粒度分布などの測定から求められる平均粒径だけで
は、研摩特性を推定できなかったが、本発明者らは、Ｘ
線回折と比表面積とを調整しながら、研摩特性に優れた
研摩材を提供できることを見出した。すなわち、フッ素
成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．
５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であ
るセリウム系研摩材であり、さらに、銅ターゲットを使
用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、２θ
＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、その
ピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５における最大
ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±
０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度
をＣとしたとき、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値がそれぞ
れ、セリウム系研摩材の研摩特性である研摩値および傷
の発生と一定の関係があることを本発明者らは見出し、
本発明に到達した。
粒子の焼結という現象も見られ、結晶相の成長とともに
比表面積が低下してくる。さらには、研摩特性で重要な
研摩値と呼ばれる研摩速度については、粒子の成長とと
もに大きくなることが知られているが、一般に行われて
いる粒度分布などの測定から求められる平均粒径だけで
は、研摩特性を推定できなかったが、本発明者らは、Ｘ
線回折と比表面積とを調整しながら、研摩特性に優れた
研摩材を提供できることを見出した。すなわち、フッ素
成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．
５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であ
るセリウム系研摩材であり、さらに、銅ターゲットを使
用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、２θ
＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、その
ピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５における最大
ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±
０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度
をＣとしたとき、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値がそれぞ
れ、セリウム系研摩材の研摩特性である研摩値および傷
の発生と一定の関係があることを本発明者らは見出し、
本発明に到達した。
【００１０】本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａ
およびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比
表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研
摩特性に関する品質検査方法であって、銅ターゲットを
使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、２
θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そ
のピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５における最
大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、Ｂ／Ａ
の値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウ
ム系研摩材の品質検査方法を提供する。また、本発明
は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに
対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／
ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質
検査方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα
1線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０
ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢとしたとき、０．０４≦Ｂ／Ａであるセ
リウム系研摩材を不合格と判定することを特徴とするセ
リウム系研摩材の品質検査方法を提供する。
およびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比
表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研
摩特性に関する品質検査方法であって、銅ターゲットを
使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、２
θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そ
のピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５における最
大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、Ｂ／Ａ
の値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウ
ム系研摩材の品質検査方法を提供する。また、本発明
は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに
対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／
ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質
検査方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα
1線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０
ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢとしたとき、０．０４≦Ｂ／Ａであるセ
リウム系研摩材を不合格と判定することを特徴とするセ
リウム系研摩材の品質検査方法を提供する。
【００１１】また、本発明は、フッ素成分を含有し、か
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材の研摩特性に関する品質検査方法であって、銅ターゲ
ットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折におい
て、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークを
ａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５にお
ける最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２
６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピ
ーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値
に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系
研摩材の品質検査方法を提供する。
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材の研摩特性に関する品質検査方法であって、銅ターゲ
ットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折におい
て、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークを
ａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５にお
ける最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２
６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピ
ーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値
に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系
研摩材の品質検査方法を提供する。
【００１２】また、本発明は、フッ素成分を含有し、か
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材の製造方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−
Ｋα1線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜
８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度を
Ａ、２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、
そのピーク強度をＢとしたとき、Ｂ／Ａの値に基づいて
フッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とす
るセリウム系研摩材の製造方法を提供する。また、本発
明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅ
に対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2
／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、
銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大
ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±
０．５における最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢと
したとき、０．０４≦Ｂ／Ａにならないようにフッ素含
有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウ
ム系研摩材の製造方法を提供する。
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材の製造方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−
Ｋα1線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜
８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度を
Ａ、２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、
そのピーク強度をＢとしたとき、Ｂ／Ａの値に基づいて
フッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とす
るセリウム系研摩材の製造方法を提供する。また、本発
明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅ
に対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2
／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、
銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大
ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±
０．５における最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢと
したとき、０．０４≦Ｂ／Ａにならないようにフッ素含
有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウ
ム系研摩材の製造方法を提供する。
【００１３】また、本発明は、フッ素成分を含有し、か
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材の製造方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−
Ｋα1線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜
８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度を
Ａ、２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、
そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇに
おける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたと
き、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいてフッ素含有
量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム
系研摩材の製造方法を提供する。
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材の製造方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−
Ｋα1線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜
８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度を
Ａ、２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、
そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇに
おける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたと
き、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいてフッ素含有
量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム
系研摩材の製造方法を提供する。
【００１４】また、本発明は、フッ素成分を含有し、か
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を
用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇ
における最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝
２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク
強度をＢとしたとき、Ｂ／Ａ＜０．０４であることを特
徴とするセリウム系研摩材を提供する。また、本発明
は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに
対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／
ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、銅ターゲット
を使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５における
最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５
±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強
度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ＜０．０４で、かつ０．０５
≦Ｃ／Ａ≦０．６０であることを特徴とするセリウム系
研摩材を提供する。
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を
用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇ
における最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝
２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク
強度をＢとしたとき、Ｂ／Ａ＜０．０４であることを特
徴とするセリウム系研摩材を提供する。また、本発明
は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに
対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／
ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、銅ターゲット
を使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５における
最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５
±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強
度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ＜０．０４で、かつ０．０５
≦Ｃ／Ａ≦０．６０であることを特徴とするセリウム系
研摩材を提供する。
【００１５】また、本発明は、フッ素成分を含有し、か
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を
用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇ
における最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝
２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク
強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大
ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ＜
０．０４で、かつ０．１０≦Ｃ／Ａ≦０．６０であるこ
とを特徴とするセリウム系研摩材を提供する。また、本
発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣ
ｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ
2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、銅ターゲ
ットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折におい
て、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークを
ａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５にお
ける最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２
６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピ
ーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ≦０．００８で、かつ
０．１０≦Ｃ／Ａ≦０．６０であることを特徴とするセ
リウム系研摩材を提供する。
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を
用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇ
における最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝
２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク
強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大
ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ＜
０．０４で、かつ０．１０≦Ｃ／Ａ≦０．６０であるこ
とを特徴とするセリウム系研摩材を提供する。また、本
発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣ
ｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ
2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、銅ターゲ
ットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折におい
て、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークを
ａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５にお
ける最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２
６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピ
ーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ≦０．００８で、かつ
０．１０≦Ｃ／Ａ≦０．６０であることを特徴とするセ
リウム系研摩材を提供する。
【００１６】また、本発明は、フッ素成分を含有し、か
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を
用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇ
における最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝
２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク
強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大
ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ≦
０．００８で、かつ０．０５≦Ｃ／Ａ≦０．１０である
ことを特徴とするセリウム系研摩材を提供する。
つＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有
し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩
材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を
用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇ
における最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝
２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク
強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大
ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ≦
０．００８で、かつ０．０５≦Ｃ／Ａ≦０．１０である
ことを特徴とするセリウム系研摩材を提供する。
【００１７】ここで、炭酸希土あるいは酸化希土のよう
な希土類以外の不純物が少ない原料から製造した研摩材
の場合、通常、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最
大ピークａは、ＬｎxＯy（１≦ｙ／ｘ≦２）の［１１
１］面であり、２θ＝２４．２±０．５における最大ピ
ークｂは、ピークが出現すればＬｎＦ3であり、２θ＝
２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークｃは、Ｌｎ
ＯＦである。一方、バストネサイトのような希土類以外
の不純物を比較的多く含む原料から製造した研摩材の場
合、ＬｎxＯyが最大ピークであることは変わらないが、
ＬｎＦ3あるいはＬｎＯＦのピーク強度が小さいと、上
記指定した角度範囲において他の物質のピークが最大ピ
ークになる場合もある。しかしながら、そのような場合
においても、他の物質のピーク強度はＬｎxＯyのピーク
強度に比べて非常に小さいか、または、ＬｎＦ3あるい
はＬｎＯＦのピーク強度よりわずかに大きいだけである
ため、上記指定角度範囲における最大ピークの強度の比
を指標として用いても問題はない。上記各発明におい
て、ピーク強度は、ピークのトップの強度から一般にバ
ックグラウンドまたは基線と呼ばれているものの強度を
差し引いたものとする。また、ピークは、強度がピーク
強度Ａの０．５％以上のものとし、ピーク強度がピーク
強度Ａの０．５％未満のものはノイズとみなす。したが
って、強度がピーク強度Ａの０．５％以上であれば、ノ
イズと明確に区別できる条件にて測定する必要がある。
このような測定条件としては、例えば、後述する実施例
の測定条件があるが、これに限定されるものではない。
また、ａとして、ＬｎxＯyのピークで本発明で採用した
以外のピークを採用することおよび／または、ｃとし
て、ＬｎＯＦのピークで本発明で採用した以外のピーク
を採用することも考えられるが、判定基準が変わるだけ
で、結局は本発明の方法と同一の内容である。また、本
発明で採用したａおよびｃは、それぞれピーク強度の中
で最大のピークであり、ｃについては、ピーク強度が低
い場合、本発明のピークでは判定可能だが、他のピーク
ではノイズとの区別がつかず判定不能になる場合があ
る。
な希土類以外の不純物が少ない原料から製造した研摩材
の場合、通常、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最
大ピークａは、ＬｎxＯy（１≦ｙ／ｘ≦２）の［１１
１］面であり、２θ＝２４．２±０．５における最大ピ
ークｂは、ピークが出現すればＬｎＦ3であり、２θ＝
２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークｃは、Ｌｎ
ＯＦである。一方、バストネサイトのような希土類以外
の不純物を比較的多く含む原料から製造した研摩材の場
合、ＬｎxＯyが最大ピークであることは変わらないが、
ＬｎＦ3あるいはＬｎＯＦのピーク強度が小さいと、上
記指定した角度範囲において他の物質のピークが最大ピ
ークになる場合もある。しかしながら、そのような場合
においても、他の物質のピーク強度はＬｎxＯyのピーク
強度に比べて非常に小さいか、または、ＬｎＦ3あるい
はＬｎＯＦのピーク強度よりわずかに大きいだけである
ため、上記指定角度範囲における最大ピークの強度の比
を指標として用いても問題はない。上記各発明におい
て、ピーク強度は、ピークのトップの強度から一般にバ
ックグラウンドまたは基線と呼ばれているものの強度を
差し引いたものとする。また、ピークは、強度がピーク
強度Ａの０．５％以上のものとし、ピーク強度がピーク
強度Ａの０．５％未満のものはノイズとみなす。したが
って、強度がピーク強度Ａの０．５％以上であれば、ノ
イズと明確に区別できる条件にて測定する必要がある。
このような測定条件としては、例えば、後述する実施例
の測定条件があるが、これに限定されるものではない。
また、ａとして、ＬｎxＯyのピークで本発明で採用した
以外のピークを採用することおよび／または、ｃとし
て、ＬｎＯＦのピークで本発明で採用した以外のピーク
を採用することも考えられるが、判定基準が変わるだけ
で、結局は本発明の方法と同一の内容である。また、本
発明で採用したａおよびｃは、それぞれピーク強度の中
で最大のピークであり、ｃについては、ピーク強度が低
い場合、本発明のピークでは判定可能だが、他のピーク
ではノイズとの区別がつかず判定不能になる場合があ
る。
【００１８】本発明のセリウム系研摩材の品質検査方法
においては、Ｂ／Ａの値が小さいほど、この研摩材によ
りガラス面等を研摩した場合の傷の発生が少ないと判定
することができ、この値が０．０４以上の場合には傷の
発生が多くなると判定することができる。
においては、Ｂ／Ａの値が小さいほど、この研摩材によ
りガラス面等を研摩した場合の傷の発生が少ないと判定
することができ、この値が０．０４以上の場合には傷の
発生が多くなると判定することができる。
【００１９】したがって、研摩値が多少小さくても傷が
ほとんど発生しなければ良いというセリウム系研摩材が
要求される場合には、Ｂ／Ａの値を判定の基準にすれば
良い。すなわち、Ｂ／Ａの値が０．０４以上のセリウム
系研摩材を不合格にすれば良い。ここで、Ｂ／Ａの値が
０．０３以下であれば、より傷が少ないので好ましく、
さらに０．００８以下であればより好ましい。また、傷
の発生がほとんどないとともに、所定値以上の研摩値が
得られるようなセリウム系研摩材が要求される場合に
は、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値を判定の基準にすれば
良い。すなわち、前者の値が０．０４未満であるととも
に、後者の値が必要な研摩値が得られるような値のセリ
ウム系研摩材を選定するようにすれば良い。
ほとんど発生しなければ良いというセリウム系研摩材が
要求される場合には、Ｂ／Ａの値を判定の基準にすれば
良い。すなわち、Ｂ／Ａの値が０．０４以上のセリウム
系研摩材を不合格にすれば良い。ここで、Ｂ／Ａの値が
０．０３以下であれば、より傷が少ないので好ましく、
さらに０．００８以下であればより好ましい。また、傷
の発生がほとんどないとともに、所定値以上の研摩値が
得られるようなセリウム系研摩材が要求される場合に
は、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値を判定の基準にすれば
良い。すなわち、前者の値が０．０４未満であるととも
に、後者の値が必要な研摩値が得られるような値のセリ
ウム系研摩材を選定するようにすれば良い。
【００２０】本発明のセリウム系研摩材の製造方法にお
いては、フッ酸あるいはフッ化アンモニウム等で処理す
ることによりフッ素の含有量を調整するとともに、焙焼
温度により粒成長を調整する。そして、Ｂ／Ａの値に基
づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することによ
り、ガラス面等を研摩した場合の傷の発生が少ないセリ
ウム系研摩材を製造することができる。また、このＢ／
Ａの値が０．０４以上にならないようにフッ素含有量お
よび焙焼温度を調整して製造することにより、傷の発生
がほとんどないセリウム系研摩材を製造することができ
る。ここで、このＢ／Ａの値が０．０３以下であれば、
より傷が少ないので好ましく、さらに０．００８以下で
あればより好ましい。
いては、フッ酸あるいはフッ化アンモニウム等で処理す
ることによりフッ素の含有量を調整するとともに、焙焼
温度により粒成長を調整する。そして、Ｂ／Ａの値に基
づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することによ
り、ガラス面等を研摩した場合の傷の発生が少ないセリ
ウム系研摩材を製造することができる。また、このＢ／
Ａの値が０．０４以上にならないようにフッ素含有量お
よび焙焼温度を調整して製造することにより、傷の発生
がほとんどないセリウム系研摩材を製造することができ
る。ここで、このＢ／Ａの値が０．０３以下であれば、
より傷が少ないので好ましく、さらに０．００８以下で
あればより好ましい。
【００２１】また、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づ
いて、フッ素含有量および焙焼温度を調整して製造する
ことにより、傷の発生がほとんどないとともに、所定値
以上の研摩値が得られるようなセリウム系研摩材が製造
することができる。すなわち、Ｂ／Ａの値が０．０４以
上とならないとともに、Ｃ／Ａの値が必要な研摩値が得
られるような値になるようにフッ素含有量および焙焼温
度を調整して製造するようにすれば良い。
いて、フッ素含有量および焙焼温度を調整して製造する
ことにより、傷の発生がほとんどないとともに、所定値
以上の研摩値が得られるようなセリウム系研摩材が製造
することができる。すなわち、Ｂ／Ａの値が０．０４以
上とならないとともに、Ｃ／Ａの値が必要な研摩値が得
られるような値になるようにフッ素含有量および焙焼温
度を調整して製造するようにすれば良い。
【００２２】また、本発明のセリウム系研摩材において
は、Ｂ／Ａの値が０．０４未満である場合、傷の発生が
ほとんどないことを保証することができる。ここで、こ
のＢ／Ａの値が０．０３以下であれば、研摩による傷が
より少ないので好ましく、さらに０．００８以下であれ
ばより一層好ましい。また、本発明のセリウム系研摩材
においては、Ｃ／Ａの値から、該セリウム系研摩材がど
の程度の研摩値を有するか知ることができ、そしてこの
Ｃ／Ａの値が０．０５未満の場合には、オレンジピール
が発生しやすく研摩に悪影響を及ぼし、また０．６０を
超える場合には、ＬｎxＯy含有量が少なくなるため研摩
力が低下してくる。
は、Ｂ／Ａの値が０．０４未満である場合、傷の発生が
ほとんどないことを保証することができる。ここで、こ
のＢ／Ａの値が０．０３以下であれば、研摩による傷が
より少ないので好ましく、さらに０．００８以下であれ
ばより一層好ましい。また、本発明のセリウム系研摩材
においては、Ｃ／Ａの値から、該セリウム系研摩材がど
の程度の研摩値を有するか知ることができ、そしてこの
Ｃ／Ａの値が０．０５未満の場合には、オレンジピール
が発生しやすく研摩に悪影響を及ぼし、また０．６０を
超える場合には、ＬｎxＯy含有量が少なくなるため研摩
力が低下してくる。
【００２３】さらに、Ｂ／Ａの値と、Ｃ／Ａの値を選定
することにより、用途に応じた所定の研摩特性を有する
セリウム系研摩材を提供することができる。すなわち、
Ｂ／Ａの値が０．０４未満で、かつＣ／Ａの値が０．０
５〜０．６０の場合、このセリウム系研摩材は研摩によ
る傷の発生がほとんどなく、所定の実用的な研摩値を有
する研摩材として用いることができる。また、Ｂ／Ａの
値が０．０４未満で、かつＣ／Ａの値が０．１０〜０．
６０の場合、このセリウム系研摩材は液晶用ガラスまた
はハードディスクの一次研摩用として好適である。ま
た、Ｂ／Ａの値が０．００８以下で、かつＣ／Ａの値が
０．１０〜０．６０の場合、このセリウム系研摩材は液
晶用ガラスの仕上げ研摩用として好適である。また、Ｂ
／Ａの値が０．００８以下で、かつＣ／Ａの値が０．０
５〜０．１０の場合、このセリウム系研摩材はハードデ
ィスクの仕上げ研摩用として好適である。
することにより、用途に応じた所定の研摩特性を有する
セリウム系研摩材を提供することができる。すなわち、
Ｂ／Ａの値が０．０４未満で、かつＣ／Ａの値が０．０
５〜０．６０の場合、このセリウム系研摩材は研摩によ
る傷の発生がほとんどなく、所定の実用的な研摩値を有
する研摩材として用いることができる。また、Ｂ／Ａの
値が０．０４未満で、かつＣ／Ａの値が０．１０〜０．
６０の場合、このセリウム系研摩材は液晶用ガラスまた
はハードディスクの一次研摩用として好適である。ま
た、Ｂ／Ａの値が０．００８以下で、かつＣ／Ａの値が
０．１０〜０．６０の場合、このセリウム系研摩材は液
晶用ガラスの仕上げ研摩用として好適である。また、Ｂ
／Ａの値が０．００８以下で、かつＣ／Ａの値が０．０
５〜０．１０の場合、このセリウム系研摩材はハードデ
ィスクの仕上げ研摩用として好適である。
【００２４】次に、セリウム系研摩材の製造方法の一例
を詳細に説明する。セリウム含有希土類原料としては、
酸化希土、炭酸希土やバストネサイト等が使用される。
酸化希土は希土類原料の炭酸塩、水酸化物、シュウ酸塩
等を焼成することによって、混合希土酸化物として得ら
れる。また、バストネサイトは、フッ化炭酸希土であっ
て、モース硬度４〜４．５、比重４．９３〜５．１９の
塊状の鉱物である。
を詳細に説明する。セリウム含有希土類原料としては、
酸化希土、炭酸希土やバストネサイト等が使用される。
酸化希土は希土類原料の炭酸塩、水酸化物、シュウ酸塩
等を焼成することによって、混合希土酸化物として得ら
れる。また、バストネサイトは、フッ化炭酸希土であっ
て、モース硬度４〜４．５、比重４．９３〜５．１９の
塊状の鉱物である。
【００２５】このセリウム含有希土類原料は粉砕され、
所定粒径とされたものが使用される。粉砕は湿式ボール
ミル等で行われ、その平均粒径は０．５〜３μｍ程度に
される。次に、この粉砕されたセリウム含有希土類原料
を、バストネサイトを原料にした場合は、通常、塩酸、
硫酸、硝酸等の鉱酸で処理する。鉱酸の濃度は０．１〜
２規定程度に調整される。この鉱酸処理により、Ｎａ，
Ｃａ等のアルカリ金属およびアルカリ土類金属等が低減
するため、後工程の焙焼工程における異常粒成長を防止
することができる。一方、酸化希土あるいは炭酸希土を
原料にした場合は、通常、スラリーにフッ化アンモニウ
ム、フッ酸等のフッ素含有物質またはその水溶液を添加
してフッ化処理する。フッ素濃度は５〜１００ｇ／ｌ程
度が好ましい。なお、バストネサイトを原料にした場合
においても、フッ化処理をしてさらにフッ素含有量を高
める場合もある。また、酸化希土あるいは炭酸希土を原
料にした場合においても、原料中のアルカリ金属および
アルカリ土類金属の含有量によっては、鉱酸処理を実施
する場合もある。
所定粒径とされたものが使用される。粉砕は湿式ボール
ミル等で行われ、その平均粒径は０．５〜３μｍ程度に
される。次に、この粉砕されたセリウム含有希土類原料
を、バストネサイトを原料にした場合は、通常、塩酸、
硫酸、硝酸等の鉱酸で処理する。鉱酸の濃度は０．１〜
２規定程度に調整される。この鉱酸処理により、Ｎａ，
Ｃａ等のアルカリ金属およびアルカリ土類金属等が低減
するため、後工程の焙焼工程における異常粒成長を防止
することができる。一方、酸化希土あるいは炭酸希土を
原料にした場合は、通常、スラリーにフッ化アンモニウ
ム、フッ酸等のフッ素含有物質またはその水溶液を添加
してフッ化処理する。フッ素濃度は５〜１００ｇ／ｌ程
度が好ましい。なお、バストネサイトを原料にした場合
においても、フッ化処理をしてさらにフッ素含有量を高
める場合もある。また、酸化希土あるいは炭酸希土を原
料にした場合においても、原料中のアルカリ金属および
アルカリ土類金属の含有量によっては、鉱酸処理を実施
する場合もある。
【００２６】次に、鉱酸処理またはフッ化処理を実施し
たセリウム含有希土類原料を乾燥した後、電気炉等によ
り焙焼する。焙焼温度は６００〜１１００℃、好ましく
は７００〜１０００℃、焙焼時間は１〜１０時間程度で
ある。次に、放冷、粉砕、分級して研摩材を得る。この
研摩材の平均粒径は０．０５〜３．０μｍ程度が好まし
い。また、この研摩材中のフッ素は０．５〜１５重量
％、好ましくは１〜１０重量％程度が含有される。この
フッ素含有量および焙焼温度によって、研摩材の粒径を
制御することができる。上記フッ素含有量および焙焼温
度は、比表面積、および銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−
Ｋα1線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜
８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度を
Ａ、２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、
そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇに
おける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたと
き、Ｂ／Ａの値、および／またはＣ／Ａの値に基づいて
調整される。比表面積の測定は、一般に行われている窒
素ガスによるＢＥＴ法で行う。比表面積の値としては、
１２ｍ2／ｇ以下が好ましく、さらに好ましくは１０ｍ2
／ｇ以下、より好ましくは８ｍ2／ｇ以下である。比表
面積が１２ｍ2／ｇを超えると、焙焼によって結晶粒が
成長しても、研摩値を高くするために必要な粒径が得ら
れないため、使用に際して問題がある。
たセリウム含有希土類原料を乾燥した後、電気炉等によ
り焙焼する。焙焼温度は６００〜１１００℃、好ましく
は７００〜１０００℃、焙焼時間は１〜１０時間程度で
ある。次に、放冷、粉砕、分級して研摩材を得る。この
研摩材の平均粒径は０．０５〜３．０μｍ程度が好まし
い。また、この研摩材中のフッ素は０．５〜１５重量
％、好ましくは１〜１０重量％程度が含有される。この
フッ素含有量および焙焼温度によって、研摩材の粒径を
制御することができる。上記フッ素含有量および焙焼温
度は、比表面積、および銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−
Ｋα1線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜
８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度を
Ａ、２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、
そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇに
おける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたと
き、Ｂ／Ａの値、および／またはＣ／Ａの値に基づいて
調整される。比表面積の測定は、一般に行われている窒
素ガスによるＢＥＴ法で行う。比表面積の値としては、
１２ｍ2／ｇ以下が好ましく、さらに好ましくは１０ｍ2
／ｇ以下、より好ましくは８ｍ2／ｇ以下である。比表
面積が１２ｍ2／ｇを超えると、焙焼によって結晶粒が
成長しても、研摩値を高くするために必要な粒径が得ら
れないため、使用に際して問題がある。
【００２７】上記セリウム系研摩材は、通常、水等の分
散媒に分散させて５〜３０重量％程度のスラリーの状態
で使用される。分散媒としては、アルコール、多価アル
コール、アセトン、テトラヒドロフラン等の水溶性有機
溶媒も使用できるが、通常は水が使用される。このセリ
ウム系研摩材においては、高分子の有機分散剤を含有す
ることが望ましい。分散剤としては、ポリアクリル酸ナ
トリウム等のポリアクリル酸塩、カルボキシメチルセル
ロース、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアルコー
ル等が使用できる。この有機分散剤を含有させることに
より、研摩中の発泡を防止することができる。有機分散
剤は研摩材中に０．１〜０．８重量％程度含有させる。
これを超えて含有させても使用効果がない。
散媒に分散させて５〜３０重量％程度のスラリーの状態
で使用される。分散媒としては、アルコール、多価アル
コール、アセトン、テトラヒドロフラン等の水溶性有機
溶媒も使用できるが、通常は水が使用される。このセリ
ウム系研摩材においては、高分子の有機分散剤を含有す
ることが望ましい。分散剤としては、ポリアクリル酸ナ
トリウム等のポリアクリル酸塩、カルボキシメチルセル
ロース、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアルコー
ル等が使用できる。この有機分散剤を含有させることに
より、研摩中の発泡を防止することができる。有機分散
剤は研摩材中に０．１〜０．８重量％程度含有させる。
これを超えて含有させても使用効果がない。
【００２８】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。全希土類酸化物（ＴＲＥＯ）含量が９９重量％、Ｔ
ＲＥＯ中のＣｅＯ2含量が５７〜６１重量％、ＴＲＥＯ
中のＬａ2Ｏ3含量が３１〜３４重量％の酸化希土、およ
び全希土類酸化物含量が６７〜７３重量％、ＴＲＥＯ中
のＣｅＯ2含量が４０〜４３重量％、ＴＲＥＯ中のＬａ2
Ｏ3含量が２４〜２６重量％のバストネサイトをそれぞ
れ湿式ボールミルで粉砕して、平均粒径１．０μｍの粉
体とした。これらの粉体を、バストネサイトの場合は、
鉱酸（濃度１規定の塩酸）で処理し、一方酸化希土の場
合は、フッ素含有量が所定の値になるように、フッ素濃
度が１５〜２５ｇ／ｌのフッ化アンモニウム水溶液で処
理した。次いで、このスラリーを濾過、乾燥し、所定の
焙焼温度で２時間電気炉で焙焼した後、放冷、粉砕、分
級して表１に示す研摩材１〜１０を得た。研摩材１〜６
および１０は、酸化希土を原料として製造されたもので
あり、研摩材７〜９はバストネサイトを原料として製造
されたものである。各研摩材１〜１０の焙焼温度および
フッ素の品位（フッ素含有量）は表１に示す通りであ
る。フッ素分析には、アルカリ溶融・温湯抽出・フッ素
イオン電極法を用いた。
る。全希土類酸化物（ＴＲＥＯ）含量が９９重量％、Ｔ
ＲＥＯ中のＣｅＯ2含量が５７〜６１重量％、ＴＲＥＯ
中のＬａ2Ｏ3含量が３１〜３４重量％の酸化希土、およ
び全希土類酸化物含量が６７〜７３重量％、ＴＲＥＯ中
のＣｅＯ2含量が４０〜４３重量％、ＴＲＥＯ中のＬａ2
Ｏ3含量が２４〜２６重量％のバストネサイトをそれぞ
れ湿式ボールミルで粉砕して、平均粒径１．０μｍの粉
体とした。これらの粉体を、バストネサイトの場合は、
鉱酸（濃度１規定の塩酸）で処理し、一方酸化希土の場
合は、フッ素含有量が所定の値になるように、フッ素濃
度が１５〜２５ｇ／ｌのフッ化アンモニウム水溶液で処
理した。次いで、このスラリーを濾過、乾燥し、所定の
焙焼温度で２時間電気炉で焙焼した後、放冷、粉砕、分
級して表１に示す研摩材１〜１０を得た。研摩材１〜６
および１０は、酸化希土を原料として製造されたもので
あり、研摩材７〜９はバストネサイトを原料として製造
されたものである。各研摩材１〜１０の焙焼温度および
フッ素の品位（フッ素含有量）は表１に示す通りであ
る。フッ素分析には、アルカリ溶融・温湯抽出・フッ素
イオン電極法を用いた。
【００２９】次に、得られた研摩材１〜１０を水に分散
させて濃度１０重量％のスラリーとした。このスラリー
状研摩液を用いて、高速研摩機で６５ｍｍφの平面パネ
ル用ガラスを研摩圧力１５．７ｋｇ／ｃｍ2で研摩し
た。研摩後のガラス表面について、研摩値の測定と、傷
の評価を行った。研摩値の測定は、研摩前の平面パネル
用ガラスの重量を予め測定しておき、上記研摩後の平面
パネル用ガラスの重量を測定することにより、研摩によ
る重量の減少量を算出し、それを切削厚に換算した。傷
の評価は、上記研摩後の平面パネル用ガラスの表面に、
光源３０万ルクスのハロゲンランプを照射して、透視法
および反射法により評価した。具体的には、１００点を
満点とし、傷の程度および数により所定の点数を減ずる
減点方式で評価した。その結果を表１に示す。また、得
られた研摩材について、比表面積および凝集度を測定し
た。比表面積は、試料を精秤し、比表面積測定装置（湯
浅アイオニクス（株）製の全自動表面積測定装置 マル
チソーブ１２型）を使用して測定した。凝集度は、ホソ
カワミクロン（株）製のパウダーテスターを用いて測定
した。なお、この測定では、３５５，２５０，４４μｍ
の目開きの篩を使用した。これらの測定結果を表１に示
す。
させて濃度１０重量％のスラリーとした。このスラリー
状研摩液を用いて、高速研摩機で６５ｍｍφの平面パネ
ル用ガラスを研摩圧力１５．７ｋｇ／ｃｍ2で研摩し
た。研摩後のガラス表面について、研摩値の測定と、傷
の評価を行った。研摩値の測定は、研摩前の平面パネル
用ガラスの重量を予め測定しておき、上記研摩後の平面
パネル用ガラスの重量を測定することにより、研摩によ
る重量の減少量を算出し、それを切削厚に換算した。傷
の評価は、上記研摩後の平面パネル用ガラスの表面に、
光源３０万ルクスのハロゲンランプを照射して、透視法
および反射法により評価した。具体的には、１００点を
満点とし、傷の程度および数により所定の点数を減ずる
減点方式で評価した。その結果を表１に示す。また、得
られた研摩材について、比表面積および凝集度を測定し
た。比表面積は、試料を精秤し、比表面積測定装置（湯
浅アイオニクス（株）製の全自動表面積測定装置 マル
チソーブ１２型）を使用して測定した。凝集度は、ホソ
カワミクロン（株）製のパウダーテスターを用いて測定
した。なお、この測定では、３５５，２５０，４４μｍ
の目開きの篩を使用した。これらの測定結果を表１に示
す。
【００３０】また、得られた研摩材１〜１０について、
ＸＲＤ測定を行った。ＸＲＤ測定は、銅ターゲットを使
用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いて、管電圧が４０ｋＶ、管
電流が１５０ｍＡ、測定範囲が２θ＝５〜８０ｄｅｇ、
サンプリング幅が０．０２ｄｅｇ、走査速度が４ｄｅｇ
／ｍｉｎで行った。その結果を表１に示す。また、研摩
材１および研摩材６についてのＸＲＤ測定データをそれ
ぞれ図２および図３に示す。ＸＲＤ強度（Intensity）
は、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークを
ａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５にお
ける最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２
６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピ
ーク強度をＣとしたとき、Ａを１００とし、他のＸＲＤ
強度を相対値として表した。なお、上述したように、強
度がピーク強度Ａの０．５％以上のものをピークと定義
しているため、ピーク強度Ｂおよびピーク強度Ｃについ
ては、０．５未満の場合は、０とした。また、研摩値と
Ｃ／Ａとの関係を図１に示した。
ＸＲＤ測定を行った。ＸＲＤ測定は、銅ターゲットを使
用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いて、管電圧が４０ｋＶ、管
電流が１５０ｍＡ、測定範囲が２θ＝５〜８０ｄｅｇ、
サンプリング幅が０．０２ｄｅｇ、走査速度が４ｄｅｇ
／ｍｉｎで行った。その結果を表１に示す。また、研摩
材１および研摩材６についてのＸＲＤ測定データをそれ
ぞれ図２および図３に示す。ＸＲＤ強度（Intensity）
は、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークを
ａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２４．２±０．５にお
ける最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２
６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピ
ーク強度をＣとしたとき、Ａを１００とし、他のＸＲＤ
強度を相対値として表した。なお、上述したように、強
度がピーク強度Ａの０．５％以上のものをピークと定義
しているため、ピーク強度Ｂおよびピーク強度Ｃについ
ては、０．５未満の場合は、０とした。また、研摩値と
Ｃ／Ａとの関係を図１に示した。
【００３１】
【表１】
【００３２】表１から、研摩材１０は、比表面積が１２
ｍ2／ｇを超えているため、研摩評価はよいものの、研
摩値が極端に低く、また研摩対象物への付着性が大き
く、研摩材としての性能が劣っていることが分かる。表
１および図１から、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下である
研摩材１〜９において、Ｃ／Ａと研摩値との間に相関関
係があることが分かる。すなわち、Ｃ／Ａの値が大きい
方が研摩値はより大きくなる傾向がある。また、このＣ
／Ａの値から、研摩の際の研摩値を知ることができる。
ｍ2／ｇを超えているため、研摩評価はよいものの、研
摩値が極端に低く、また研摩対象物への付着性が大き
く、研摩材としての性能が劣っていることが分かる。表
１および図１から、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下である
研摩材１〜９において、Ｃ／Ａと研摩値との間に相関関
係があることが分かる。すなわち、Ｃ／Ａの値が大きい
方が研摩値はより大きくなる傾向がある。また、このＣ
／Ａの値から、研摩の際の研摩値を知ることができる。
【００３３】また、表１から、比表面積が１２ｍ2／ｇ
以下である研摩材１〜９において、研摩材１〜４および
研摩材７〜９では、ＸＲＤ強度Ｂが０であって、Ｂ／Ａ
の値が０であり、研摩による傷の発生はほとんどない
が、研摩材５および研摩材６のように、Ｂ／Ａの値が
０．０４以上になると、傷の発生量が急激に多くなるこ
とが分かる。これは、ＬｎＯＦ相（例えば、ＬａＯＦ
相）をさらに成長させるためにさらにフッ素の含有量を
増やすと、研摩値は大きくなるが、通常の焙焼温度（６
００〜１１００℃程度）ではＬｎＯＦ相（例えば、Ｌａ
ＯＦ相）の成長に限界があるためＬｎＦ3相（例えば、
ＬａＦ3相）が残るので、傷の発生量が増加するためと
考えられる。このとき、研摩材５および研摩材６では、
Ｂ／Ａの値は大きくなる一方、Ｃ／Ａの値は、研摩材
３，４よりも若干小さくなっている。
以下である研摩材１〜９において、研摩材１〜４および
研摩材７〜９では、ＸＲＤ強度Ｂが０であって、Ｂ／Ａ
の値が０であり、研摩による傷の発生はほとんどない
が、研摩材５および研摩材６のように、Ｂ／Ａの値が
０．０４以上になると、傷の発生量が急激に多くなるこ
とが分かる。これは、ＬｎＯＦ相（例えば、ＬａＯＦ
相）をさらに成長させるためにさらにフッ素の含有量を
増やすと、研摩値は大きくなるが、通常の焙焼温度（６
００〜１１００℃程度）ではＬｎＯＦ相（例えば、Ｌａ
ＯＦ相）の成長に限界があるためＬｎＦ3相（例えば、
ＬａＦ3相）が残るので、傷の発生量が増加するためと
考えられる。このとき、研摩材５および研摩材６では、
Ｂ／Ａの値は大きくなる一方、Ｃ／Ａの値は、研摩材
３，４よりも若干小さくなっている。
【００３４】したがって、Ｂ／Ａの値が小さいほど、こ
の研摩材によりガラス面等を研摩した場合の傷の発生が
少ないと判定することができ、この値が０．０４以上の
場合には傷の発生が多いと判定することができる。
の研摩材によりガラス面等を研摩した場合の傷の発生が
少ないと判定することができ、この値が０．０４以上の
場合には傷の発生が多いと判定することができる。
【００３５】また、Ｂ／Ａの値に基づいてフッ素含有量
および焙焼温度を調整するようにすれば、傷の発生が少
ないセリウム系研摩材を製造することができる。また、
このＢ／Ａの値が０．０４以上にならないようにフッ素
含有量および焙焼温度を調整して製造すれば、傷の発生
がほとんどないセリウム系研摩材を製造することができ
る。また、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいて、フ
ッ素含有量および焙焼温度を調整して製造すれば、傷の
発生がほとんどなく、かつ所定値以上の研摩値が得られ
るようなセリウム系研摩材が製造することができる。具
体的には、Ｂ／Ａの値が０．０４以上とならならず、か
つＣ／Ａの値が必要な研摩値が得られるような値になる
ようにフッ素含有量および焙焼温度を調整して製造する
ようにすれば良い。
および焙焼温度を調整するようにすれば、傷の発生が少
ないセリウム系研摩材を製造することができる。また、
このＢ／Ａの値が０．０４以上にならないようにフッ素
含有量および焙焼温度を調整して製造すれば、傷の発生
がほとんどないセリウム系研摩材を製造することができ
る。また、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいて、フ
ッ素含有量および焙焼温度を調整して製造すれば、傷の
発生がほとんどなく、かつ所定値以上の研摩値が得られ
るようなセリウム系研摩材が製造することができる。具
体的には、Ｂ／Ａの値が０．０４以上とならならず、か
つＣ／Ａの値が必要な研摩値が得られるような値になる
ようにフッ素含有量および焙焼温度を調整して製造する
ようにすれば良い。
【００３６】また、Ｂ／Ａの値が０．０４未満であるセ
リウム系研摩材は、研摩による傷の発生がほとんどない
ということを保証することができる。ここで、このＢ／
Ａの値が０．０３以下であれば、研摩による傷がより少
ないので好ましく、さらに０．００８以下であればより
一層好ましい。また、表１および図１から、Ｂ／Ａの値
およびＣ／Ａの値がそれぞれ、０．０４未満、０．０５
〜０．６０のセリウム系研摩材の場合、研摩による傷の
発生がほとんどなく、かつ約２３μｍ〜４０μｍ超程度
の研摩値が得られるので、研摩材として十分に用いるこ
とができる。また、Ｂ／Ａの値が０．０４未満で、かつ
Ｃ／Ａの値が０．１０〜０．６０のセリウム系研摩材の
場合、研摩による傷がほとんどなく、かつ約２５μｍ〜
４０μｍ超程度の研摩値が得られるので、液晶用ガラス
またはハードディスク用の一次研摩用として好適に用い
ることができる。また、Ｂ／Ａの値が０．００８以下
で、かつＣ／Ａの値が０．１０〜０．６０のセリウム系
研摩材の場合、研摩による傷が皆無に近く、かつ約２５
μｍ〜４０μｍ超程度の研摩値が得られるので、液晶用
ガラスの仕上げ研摩用として好適に使用することができ
る。また、Ｂ／Ａの値が０．００８以下で、かつＣ／Ａ
の値が０．０５〜０．１０のセリウム系研摩材の場合、
研摩による傷が皆無に近く、かつ約２３μｍ〜２５μｍ
程度の研摩値が得られるので、ハードディスクの仕上げ
研摩用として好適に使用することができる。
リウム系研摩材は、研摩による傷の発生がほとんどない
ということを保証することができる。ここで、このＢ／
Ａの値が０．０３以下であれば、研摩による傷がより少
ないので好ましく、さらに０．００８以下であればより
一層好ましい。また、表１および図１から、Ｂ／Ａの値
およびＣ／Ａの値がそれぞれ、０．０４未満、０．０５
〜０．６０のセリウム系研摩材の場合、研摩による傷の
発生がほとんどなく、かつ約２３μｍ〜４０μｍ超程度
の研摩値が得られるので、研摩材として十分に用いるこ
とができる。また、Ｂ／Ａの値が０．０４未満で、かつ
Ｃ／Ａの値が０．１０〜０．６０のセリウム系研摩材の
場合、研摩による傷がほとんどなく、かつ約２５μｍ〜
４０μｍ超程度の研摩値が得られるので、液晶用ガラス
またはハードディスク用の一次研摩用として好適に用い
ることができる。また、Ｂ／Ａの値が０．００８以下
で、かつＣ／Ａの値が０．１０〜０．６０のセリウム系
研摩材の場合、研摩による傷が皆無に近く、かつ約２５
μｍ〜４０μｍ超程度の研摩値が得られるので、液晶用
ガラスの仕上げ研摩用として好適に使用することができ
る。また、Ｂ／Ａの値が０．００８以下で、かつＣ／Ａ
の値が０．０５〜０．１０のセリウム系研摩材の場合、
研摩による傷が皆無に近く、かつ約２３μｍ〜２５μｍ
程度の研摩値が得られるので、ハードディスクの仕上げ
研摩用として好適に使用することができる。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
セリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査を簡便に
行うことができるセリウム系研摩材の品質検査方法を提
供することができる。したがって、この品質検査方法を
用いて製品検査を行い、所定の研摩特性を有するセリウ
ム系研摩材を選別することができる。また、本発明によ
れば、所定の研摩特性を有するセリウム系研摩材を得る
ことができるセリウム系研摩材の製造方法を提供するこ
とができる。また、本発明によれば、用途に応じた所定
の研摩特性を有するセリウム系研摩材を提供することが
できる。
セリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査を簡便に
行うことができるセリウム系研摩材の品質検査方法を提
供することができる。したがって、この品質検査方法を
用いて製品検査を行い、所定の研摩特性を有するセリウ
ム系研摩材を選別することができる。また、本発明によ
れば、所定の研摩特性を有するセリウム系研摩材を得る
ことができるセリウム系研摩材の製造方法を提供するこ
とができる。また、本発明によれば、用途に応じた所定
の研摩特性を有するセリウム系研摩材を提供することが
できる。
【図１】研摩値とＣ／Ａとの関係を示す図である。
【図２】研摩材１のＸＲＤ測定データを示す図である。
【図３】研摩材６のＸＲＤ測定データを示す図である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 高橋 和明
埼玉県上尾市原市1333−２ 三井金属鉱
業株式会社 総合研究所内
(56)参考文献 特開 平11−269455（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−183966（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−106993（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−322310（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−330025（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−223166（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−290367（ＪＰ，Ａ)
特開2000−26840（ＪＰ，Ａ)
特開2000−188270（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C09K 3/14
G01N 23/20 - 23/207
B24B 37/00 - 37/04
C01F 17/00
H01L 21/304
Claims (11)
- 【請求項１】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮ
ｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が
１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に
関する品質検査方法であって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢとしたとき、 Ｂ／Ａの値に基づいて品質検査を行うことを特徴とする
セリウム系研摩材の品質検査方法。 - 【請求項２】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮ
ｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が
１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に
関する品質検査方法であって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢとしたとき、 ０．０４≦Ｂ／Ａであるセリウム系研摩材を不合格と判
定することを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方
法。 - 【請求項３】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮ
ｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が
１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に
関する品質検査方法であって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢ、 ２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークを
ｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、 Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいて品質検査を行う
ことを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法。 - 【請求項４】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮ
ｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が
１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法で
あって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢとしたとき、 Ｂ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調
整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法。 - 【請求項５】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮ
ｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が
１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法で
あって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢとしたとき、 ０．０４≦Ｂ／Ａにならないようにフッ素含有量および
焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材
の製造方法。 - 【請求項６】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮ
ｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が
１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法で
あって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢ、 ２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークを
ｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、 Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいてフッ素含有量お
よび焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研
摩材の製造方法。 - 【請求項７】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮ
ｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が
１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢとしたとき、 Ｂ／Ａ＜０．０４であることを特徴とするセリウム系研
摩材。 - 【請求項８】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮ
ｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が
１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢ、 ２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークを
ｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、 Ｂ／Ａ＜０．０４で、かつ０．０５≦Ｃ／Ａ≦０．６０
であることを特徴とするセリウム系研摩材。 - 【請求項９】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮ
ｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が
１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢ、 ２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークを
ｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、 Ｂ／Ａ＜０．０４で、かつ０．１０≦Ｃ／Ａ≦０．６０
であることを特徴とするセリウム系研摩材。 - 【請求項１０】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよび
ＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積
が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢ、 ２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークを
ｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、 Ｂ／Ａ≦０．００８で、かつ０．１０≦Ｃ／Ａ≦０．６
０であることを特徴とするセリウム系研摩材。 - 【請求項１１】 フッ素成分を含有し、かつＬａおよび
ＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積
が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、 銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回
折において、 ２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、
そのピーク強度をＡ、 ２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、その
ピーク強度をＢ、 ２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークを
ｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、 Ｂ／Ａ≦０．００８で、かつ０．０５≦Ｃ／Ａ≦０．１
０であることを特徴とするセリウム系研摩材。
Priority Applications (9)
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|---|---|---|---|
| JP2000284950A JP3392399B2 (ja) | 2000-09-20 | 2000-09-20 | セリウム系研摩材、その品質検査方法および製造方法 |
| MYPI20014345A MY126099A (en) | 2000-09-20 | 2001-09-17 | Cerium-based abrasive, method of examining quality thereof, and method of producing the same |
| EP01965689A EP1335011A4 (en) | 2000-09-20 | 2001-09-18 | ABRASIVE MATERIAL BASED ON CERIUM, PROCESS FOR EXAMINING THE QUALITY OF SAID MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCING SAID MATERIAL |
| AU2001286267A AU2001286267A1 (en) | 2000-09-20 | 2001-09-18 | Cerium based abrasive material, method of quality examination therefor and method for production thereof |
| US10/344,453 US6776811B2 (en) | 2000-09-20 | 2001-09-18 | Cerium based abrasive material, method of quality examination thereof, and method of production thereof |
| KR10-2003-7003488A KR100536853B1 (ko) | 2000-09-20 | 2001-09-18 | 세륨계 연마재, 그 품질검사방법 및 제조방법 |
| PCT/JP2001/008087 WO2002024827A1 (fr) | 2000-09-20 | 2001-09-18 | Matiere abrasive a base de cerium, procede d'examen de la qualite de ladite matiere et procede de production de ladite matiere |
| CNB018157815A CN1300276C (zh) | 2000-09-20 | 2001-09-18 | 铈系研磨材料、其品质检验方法和制造方法 |
| TW090123187A TW593646B (en) | 2000-09-20 | 2001-09-20 | Cerium-based abrasive, method of examining quality thereof, and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000284950A JP3392399B2 (ja) | 2000-09-20 | 2000-09-20 | セリウム系研摩材、その品質検査方法および製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
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