JP3391738B2 - ゴム加硫プレス装置 - Google Patents

ゴム加硫プレス装置

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敏 佐藤
功 冨田
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祥直 引地
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【技術分野】本発明は、ゴム材料の加硫成形に用いるプ
レス装置に関する。
【0002】
【従来技術およびその問題点】従来、ゴム材料用の加硫
プレス装置は、成形するゴム材料の材質、形状等に応じ
て、加圧(型締め)圧力を制御するものであった。加圧
圧力は、ゴム材料の材質、形状に応じて、加硫成形中に
ゴム材料内部のガスが可及的に排出されるように定めら
れるが、加圧圧力の制御だけでは、このガス抜きを確実
に行うことが困難であり、ガス排出不良による歩留まり
の低下を余儀なくされているのが実状である。
【0003】
【発明の目的】本発明は、従来のゴム加硫プレス装置に
ついての以上の問題意識に基づき、より確実にゴム材料
中のガス抜きを行うことができる装置を得ることを目的
とする。
【0004】
【発明の概要】本発明は、従来の型締め圧力の制御に加
えて、対をなすゴム加硫成形型の接近位置を制御するこ
とで、ゴム材料の材質、形状に応じ、ゴム材料中のガス
抜きを行うことができるプレス装置を得ることに成功し
たものである。
【0005】本発明に係るゴム加硫プレス装置は、対を
なすゴム加硫成形型の一方を保持する固定盤;この固定
盤に対して接離移動可能で、ゴム加硫成形型の他方を保
持する可動盤;可動盤を固定盤に対して接離移動させる
リニアアクチュエータ;可動盤を固定盤に対して押圧す
る型締めプレス機構;可動盤の固定盤に対する位置を検
出するリニアスケール;型締めプレス機構の加圧力を検
出するロードセル;及びリニアスケールとリニアアクチ
ュエータによる可動盤の位置及び速度制御と、ロードセ
ルと型締めプレス機構による可動盤の加圧力制御とを組
み合わせて可動盤を制御するバンピング制御機構;を備
え、このバンピング制御機構は、リニアスケールとリニ
アアクチュエータにより、上型と下型が接触する前に該
上型と下型の間隔を制御して、その間隔制御により、該
上型と下型の間に予め投入されている加硫ゴム材料を潰
していく状態と、上型と下型が機械的に接触した後は、
上記ロードセルと型締め用プレス機構による加圧力制御
により、加硫ゴム材料を潰して成形する状態とを組み合
わせてバンピング制御を行うことを特徴としている。
【0006】ゴム材料からのガス抜きを確実にするた
め、対をなすゴム加硫成形型の周囲には、真空雰囲気中
で加硫及びプレス成形を進行させるための真空ボックス
を進退可能に設けることが好ましい。可動盤を固定盤に
対して接離移動させるリニアアクチュエータは、例え
ば、油圧シリンダ装置から構成することができる。
【0007】
【発明の実施形態】図1、図2は本発明によるゴム加硫
プレス装置の機械構成の一例を示す概略図である。基礎
上に固定される固定枠11には、その上方の固定盤11
aに、対をなすゴム加硫成形型の上型12が固定され、
この上型12の周囲に位置させて、真空ボックス13が
昇降可能に支持されている。真空ボックス13は、真空
ボックス昇降用シリンダ14により昇降可能である。
【0008】固定枠11の下部には、リニアアクチュエ
ータとしての油圧シリンダ装置15を介して昇降可能に
昇降台16が設けられている。リニアアクチュエータと
しては油圧シリンダ装置15に代えてサーボモータによ
る駆動機構を採用してもよい。昇降台16上には、ロー
ドセル17を介して可動盤18が位置しており、可動盤
18上には、ゴム加硫成形型の下型19が載置されてい
る。下型19は、図1に示すスライド機構20によっ
て、可動盤18上への進退が可能である。
【0009】固定枠11(基礎)と昇降台16との間に
は、型締め用プレス機構(油圧機構)21が位置してい
る。この型締め用プレス機構21は、上型12と下型1
9との間に型締め力(加圧力)を及ぼすものである。型
締め圧力は、可動盤18上の所定位置に下型19を載置
し、下型19の各キャビティに加硫ゴム材料を収納した
上で、油圧シリンダ装置15により昇降台16、可動盤
18を上昇させて上型12と下型19を接触させた後、
与えられる。この加圧力は、ロードセル17の出力を受
けるマイコン22が、加圧力制御手段23を介して制御
する。
【0010】一方、固定枠11と可動盤18の間には、
可動盤18の昇降方向の位置を正確に検出するリニアス
ケール25が設けられている。このリニアスケール25
の出力はマイコン22に入力され、速度制御手段26を
介して油圧シリンダ装置15が制御される。速度制御手
段26は、例えば、可変流量弁によって構成できる。
【0011】上型12と下型19はそれぞれ、上型加熱
装置27と下型加熱装置28によって加熱され、その加
熱温度は、マイコン22によって制御される。また真空
ボックス13は、上型12と下型19が接近したとき、
真空ボックス昇降用シリンダ14を介し上型12と下型
19の周囲に下降して、閉じられた加硫空間(真空空
間)を形成するもので、その加硫空間の真空度(真空雰
囲気を作るか否かを含む)は真空装置29及びマイコン
22を介して制御される。
【0012】以上の機械構成において特徴的な点は、可
動盤18が、ロードセル17と型締め用プレス機構21
による加圧力だけでなく、リニアスケール25とリニア
アクチュエータ(油圧シリンダ装置)15による位置制
御によって制御される点にある。すなわち、リニアスケ
ール25とリニアアクチュエータ15によって、上型1
2と下型19の間隔を任意に設定することができ、この
間隔設定(制御)により、加硫ゴム材料をその性質、形
状に応じて徐々に潰していくことができる。また、上型
12と下型19とが機械的に接触した後は、ロードセル
17と型締め用プレス機構21による加圧力制御によ
り、同様に、加硫ゴム材料を潰して成形することができ
る。すなわち、ゴム材料を潰すには、上型12と下型1
9が機械的に接触する前から、ゴム硬度に応じた力が必
要であり、このために、リニアスケール25とリニアア
クチュエータ15によって、上型12と下型19の間隔
を制御する。そして、接触後は、金型、ベース等の熱膨
張の変形等を解消し、余分なゴムをオーバフローさせて
正しい製品形状を出すためにロードセル17と型締め用
プレス機構21による加圧力制御を行う。このように、
リニアスケール25とリニアアクチュエータ15による
上型12と下型19の位置(間隔)制御と、ロードセル
17と型締め用プレス機構21による加圧力制御とを組
み合わせることにより、加硫プレス成形の自由度が広が
り、ゴム材料の性質、形状等に応じた適当なバンピング
パターンでの成形ができる。
【0013】図6は、バンピングパターンの例である。
これらの図において、横軸は時間、細線Mは、固定され
ている上型12に対する下型19の位置(横線Hより下
方)と、上型12と下型19との間に加えられる加圧力
(横線Hより上方)を示している。横線Hは、上型12
と下型19の機械的な接触点を示す。また、上昇圧力
(加圧力)の単位はトン、時間の単位は秒、位置の単位
はmmである。下降位置、上昇位置は、下型19の上型
12との機械的接触点からの距離を意味する。上型12
と下型19の間に保持されるゴム材料の形状によって、
上型12と下型19が離れていても(上昇位置、下降位
置が0でない場合)でも、バンピングが開始されること
ができる点に注意を要する。このバンピングパターン
は、あくまで例示であり、加硫成形すべきゴム材料の性
質、形状に応じて、任意の適当なパターンを採用するこ
とができる。
【0014】図3は、スライド機構20による下型19
の出し入れ、可動盤18の昇降に連動する真空ボックス
13の昇降動作を含むバンピング動作の一例を示してい
る。まず、区間yにおいて、スライド機構20により下
型19が可動盤18上に載置される。下型19を載置し
た可動盤18は、区間aにおいて高速上昇し、真空待機
位置で停止する(b)。この可動盤18の停止中に
(c)、真空ボックス13が下降して(u)上型12と
下型19の周囲に密閉空間を作り、この密閉空間内の空
気を真空装置29を介して排気する(v)。真空度が所
定値に達すると、1回目のバンピング型締め力まで可動
盤18が上昇し(d)、その型締め力位置で停止してそ
の位置を保持する(e、f)。次いで1回目のバンピン
グ下降(型開き)(g)、型開き保持(h)を経て、同
様に、2回目のバンピング型締め力まで可動盤18が上
昇し(i)、その型締め力位置で停止してその型締め位
置を保持する(j、k)。その後2回目のバンピング下
降(型開き)(l)、型開き保持(m)を経て、型締め
上昇に移り(n)、トータルの加硫時間(o)だけ加圧
力を保持する(q)。この間、真空ボックス13は、可
動盤18の動きに追従し、上型12と下型19の周囲空
間を所定の真空度に保持する。以上で加硫成形が終了す
ると、離型下降(r)、高速下降(s)、及び低速下降
(t)を経て、可動盤18が元の位置に復帰する。そし
てバンピング完了後、ある待機時間を過ぎると真空ボッ
クス13内に徐々に大気が導入され(w)、その後、真
空ボックス13が上昇して上型12と下型19の周囲の
真空雰囲気が解除される。スライド機構20は、その後
可動盤18上の下型19を取り出し(z)、下型19か
ら加硫成形の終了したゴム製品が取り出される。
【0015】以上の動作説明では、上型12と下型19
の加熱動作を省略したが、マイコン22は、上型加熱装
置27と下型加熱装置28を介し、上型12と下型19
をゴム材料の加硫に必要な所定温度に加熱する。
【0016】以上のゴム材料の加硫プレス装置は、マイ
コン22によって制御される。このマイコン22は、デ
ータの入力と各種設定及び動作状態のモニターができる
ように、例えばタッチパネルを使用する。また、データ
収集を可能にするため、各計器類はデータ転送できるも
のを使用する。図4は、マイコン22の構成例であり、
受注No.と作業条件の設定が可能である。作業条件
は、標準品番コードSSCDを基準として、適宜変更す
るもので、変更要素としては、温度条件、型締め離型条
件、バンピングパターン、真空条件、作業標準等があ
る。
【0017】具体的には、温度条件としては、上型12
と下型19の表面温度設定、その上限と下限の設定、加
熱源の温度設定、その上限と下限の設定等がある。型締
め離型条件としては、型締め力(加圧力)、その上限と
下限、可動盤18の上昇速度、加硫時間、離型距離(可
動盤18の下降位置、上昇位置)、離型速度等がある。
バンピングパターンは、例えば図6に例示したバンピン
グパターンの選択である。真空条件としては、真空の有
無、真空ボックス13の真空待機位置の設定、真空待機
時間、真空引き時間、真空到達時間等がある。作業標準
には、品番、ゴム配合名、ゴム重量、離型剤、取数等が
ある。本実施形態において特に重要な点は、マイコン2
2の記憶手段に複数のバンピングパターンが記憶されて
いて、受注No.を入力すると自動的に、あるいは任意
に複数のバンピングパターンから特定の一つを選択でき
る点にある。勿論、バンピングパターンは新たに作成
し、作成したものを記憶して選択リストに加えることが
できる。
【0018】マイコン22はまたデータ検索機構を持っ
ていて、標準品番コードSSCDから、生産管理データ
と日報データを取り出すことができ、同様に、標準品番
コードSSCDの変更履歴も記録される。これらは登録
一覧に登録される。
【0019】図5は、本ゴム加硫プレス装置の動作例を
示すフローチャートである。標準品番コードSSCD、
作業者CD、ゴムロットNo.を入力した後、作業条件
を入力する。作業条件は、前述の温度条件、型締め離型
条件、バンピングパターン、真空条件、作業標準等であ
り、変更がなければ、変更なしを入力し、変更があれば
その変更を入力する。準備が完了すると、例えば図3で
説明した動作によりプレス加工を実行し、必要回数を繰
り返す。以下、必要な標準品番コードSSCDの生産を
実行する。
【0020】
【発明の効果】以上のように本発明のゴム加硫プレス装
置は、複数の成形するゴム材料の材質、形状に応じて、
リニアスケールとリニアアクチュエータによる可動盤の
位置及び速度制御と、ロードセルと型締めプレス機構に
よる可動盤の加圧力制御とを組み合わせて可動盤を制御
するので、確実にゴム材料中のガス抜きを行うことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による真空プレス装置の装置構成の一例
を示す外観斜視図である。
【図2】図1の真空プレス装置の駆動制御系の系統図で
ある。
【図3】図1の真空プレス装置の動作例を示すタイムチ
ャート図である。
【図4】図1の真空プレス装置を制御するコンピュータ
の構成ツリー図である。
【図5】同フローチャート図である。
【図6】本発明による真空プレス装置のバンピングパタ
ーンの一例を示す図である。
【符号の説明】
11 固定枠 11a 固定盤 12 上型 13 真空ボックス 14 真空ボックス昇降用シリンダ 15 油圧シリンダ装置(リニアアクチュエータ) 16 昇降台 17 ロードセル 18 可動盤 19 下型 20 スライド機構 21 型締め用プレス機構 22 マイコン 23 加圧力制御手段 25 リニアスケール 27 上型加熱装置 28 下型加熱装置 29 真空装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI B29K 105:24 B29K 105:24 (72)発明者 引地 祥直 福島県原町市上北高平字植松268 藤倉 ゴム工業株式会社 原町工場内 (56)参考文献 特開 平9−277296(JP,A) 特開 平5−131512(JP,A) 特開 平7−32400(JP,A) 特開2001−1340(JP,A) 特開2001−1358(JP,A) 特開2001−113551(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 35/02 - 35/14 B29C 43/02 - 43/52 B29C 33/02 - 33/24

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対をなすゴム加硫成形型の一方を保持す
    る固定盤; この固定盤に対して接離移動可能で、ゴム加硫成形型の
    他方を保持する可動盤; 可動盤を固定盤に対して接離移動させるリニアアクチュ
    エータ; 上記可動盤を固定盤に対して押圧する型締めプレス機
    構; 上記可動盤の固定盤に対する位置を検出するリニアスケ
    ール; 上記型締めプレス機構の加圧力を検出するロードセル;
    及び上記リニアスケールとリニアアクチュエータによる
    可動盤の位置及び速度制御と、上記ロードセルと型締め
    プレス機構による可動盤の加圧力制御とを組み合わせて
    可動盤を制御するバンピング制御機構;を備え、 このバンピング制御機構は、上記リニアスケールとリニ
    アアクチュエータにより、上型と下型が接触する前に該
    上型と下型の間隔を制御して、その間隔制御により、該
    上型と下型の間に予め投入されている加硫ゴム材料を潰
    していく状態と、上型と下型が機械的に接触した後は、
    上記ロードセルと型締め用プレス機構による加圧力制御
    により、加硫ゴム材料を潰して成形する状態とを組み合
    わせてバンピング制御を行う ことを特徴とするゴム加硫
    プレス装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のプレス装置において、対
    をなすゴム加硫成形型の周囲には、真空雰囲気中で加硫
    及びプレス成形を進行させるための真空ボックスが進退
    するゴム加硫プレス装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載のプレス装置にお
    いて、リニアアクチュエータは、油圧シリンダ装置であ
    るゴム加硫プレス装置。
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