JP3378274B2 - 保持部材の洗浄方法、保持装置、及び露光装置 - Google Patents
保持部材の洗浄方法、保持装置、及び露光装置Info
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば感光基板として
のウエハをウエハホルダーを介してウエハステージ上に
保持してそのウエハにレチクルのパターンを露光する露
光装置に関する。
のウエハをウエハホルダーを介してウエハステージ上に
保持してそのウエハにレチクルのパターンを露光する露
光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子又は液晶表示素子等をフォト
リソグラフィー工程で製造する場合に、フォトマスク又
はレチクル（以下「レチクル」と総称する）のパターン
を投影光学系を介してウエハステージ上のウエハに露光
する投影露光装置が使用されている。斯かる従来の投影
露光装置ではウエハを平坦な状態で動かないように保持
するために、ウエハステージ上に取り付けられたウエハ
ホルダーによりウエハを吸着して保持している。
リソグラフィー工程で製造する場合に、フォトマスク又
はレチクル（以下「レチクル」と総称する）のパターン
を投影光学系を介してウエハステージ上のウエハに露光
する投影露光装置が使用されている。斯かる従来の投影
露光装置ではウエハを平坦な状態で動かないように保持
するために、ウエハステージ上に取り付けられたウエハ
ホルダーによりウエハを吸着して保持している。
【０００３】しかしながら、ウエハを保持するウエハホ
ルダーとウエハとの間にゴミ等の異物が存在する状態で
ウエハを吸着すると、その異物によりウエハの露光面の
平面度が悪化する。その露光面の平面度の悪化は、ウエ
ハの各ショット領域の位置ずれ誤差やフォーカス誤差の
要因となり、ＬＳＩ等を製造する際の歩留まりを悪化さ
せる大きな要因になっていた。その為、従来は一般に一
定の間隔で露光工程を停止して、ウエハホルダーを作業
者の手が届く位置に移動させて、砥石や無塵布を用いて
作業者が手を動かしてウエハホルダー全体を拭いてい
た。
ルダーとウエハとの間にゴミ等の異物が存在する状態で
ウエハを吸着すると、その異物によりウエハの露光面の
平面度が悪化する。その露光面の平面度の悪化は、ウエ
ハの各ショット領域の位置ずれ誤差やフォーカス誤差の
要因となり、ＬＳＩ等を製造する際の歩留まりを悪化さ
せる大きな要因になっていた。その為、従来は一般に一
定の間隔で露光工程を停止して、ウエハホルダーを作業
者の手が届く位置に移動させて、砥石や無塵布を用いて
作業者が手を動かしてウエハホルダー全体を拭いてい
た。
【０００４】図５は従来のウエハホルダーの清掃作業の
様子を示し、この図５において、１は投影光学系であ
り、投影光学系１の一方向（これをＸ方向とする）の側
面に固定鏡２Ｘが固定され、投影光学系１のＸ方向に垂
直なＹ方向の側面に固定鏡２Ｙが固定されている。ま
た、投影光学系１の下方にウエハホルダー３が配置さ
れ、ウエハホルダー３はウエハステージ５上に固定され
ている。ウエハホルダー３は薄い円柱状であり、その表
面には同心円状に数本の溝４が形成されている。また、
ウエハホルダー３上にウエハを載置して、ウエハホルダ
ー３の表面の多数の吸着孔（図示省略）から真空ポンプ
で負圧をかけることにより、そのウエハがウエハホルダ
ー３上に吸着して保持される。
様子を示し、この図５において、１は投影光学系であ
り、投影光学系１の一方向（これをＸ方向とする）の側
面に固定鏡２Ｘが固定され、投影光学系１のＸ方向に垂
直なＹ方向の側面に固定鏡２Ｙが固定されている。ま
た、投影光学系１の下方にウエハホルダー３が配置さ
れ、ウエハホルダー３はウエハステージ５上に固定され
ている。ウエハホルダー３は薄い円柱状であり、その表
面には同心円状に数本の溝４が形成されている。また、
ウエハホルダー３上にウエハを載置して、ウエハホルダ
ー３の表面の多数の吸着孔（図示省略）から真空ポンプ
で負圧をかけることにより、そのウエハがウエハホルダ
ー３上に吸着して保持される。
【０００５】ウエハステージ５は、投影光学系１の光軸
に垂直な平面（ＸＹ平面）上の所定の駆動領域内で任意
の位置にウエハを位置決めできるＸＹステージ、投影光
学系１の光軸方向にウエハを位置決めするＺステージ等
から構成されている。ＸＹ平面内での位置決めを行うた
め、ウエハステージ５上にはＸ軸用の移動鏡６Ｘ及びＹ
軸用の移動鏡６Ｙが固定されている。そして、投影光学
系１の固定鏡２Ｘに図示省略したＸ軸用のレーザー干渉
計からレーザービームＬＢ１が照射され、レーザービー
ムＬＢ１と平行に移動鏡６Ｘにもレーザービームが照射
され、Ｘ軸用のレーザー干渉計は投影光学系１を基準と
したウエハステージ５のＸ方向の座標を常時モニターし
ている。同様に、投影光学系１の固定鏡２Ｙに図示省略
したＹ軸用のレーザー干渉計からレーザービームＬＢ３
が照射され、レーザービームＬＢ３と平行に移動鏡６Ｙ
にもレーザービームが照射され、Ｙ軸用のレーザー干渉
計は投影光学系１を基準としたウエハステージ５のＹ方
向の座標を常時モニターしている。
に垂直な平面（ＸＹ平面）上の所定の駆動領域内で任意
の位置にウエハを位置決めできるＸＹステージ、投影光
学系１の光軸方向にウエハを位置決めするＺステージ等
から構成されている。ＸＹ平面内での位置決めを行うた
め、ウエハステージ５上にはＸ軸用の移動鏡６Ｘ及びＹ
軸用の移動鏡６Ｙが固定されている。そして、投影光学
系１の固定鏡２Ｘに図示省略したＸ軸用のレーザー干渉
計からレーザービームＬＢ１が照射され、レーザービー
ムＬＢ１と平行に移動鏡６Ｘにもレーザービームが照射
され、Ｘ軸用のレーザー干渉計は投影光学系１を基準と
したウエハステージ５のＸ方向の座標を常時モニターし
ている。同様に、投影光学系１の固定鏡２Ｙに図示省略
したＹ軸用のレーザー干渉計からレーザービームＬＢ３
が照射され、レーザービームＬＢ３と平行に移動鏡６Ｙ
にもレーザービームが照射され、Ｙ軸用のレーザー干渉
計は投影光学系１を基準としたウエハステージ５のＹ方
向の座標を常時モニターしている。
【０００６】そして、ウエハホルダー３を清掃する場合
には、図５のようにウエハホルダー３からウエハを取り
外した状態で、ウエハステージ５の端部を投影光学系１
の下方に移動してウエハステージ５を固定する。次に、
ウエハホルダー３上に砥石又は無塵布よりなるクリーニ
ング用工具７を置いて、作業者が手８でクリーニング用
工具７を一定の圧力でウエハホルダー３側に付勢した状
態で、軌跡９で示すようにクリーニング用工具７をウエ
ハホルダー３の全面で移動させることにより、ウエハホ
ルダー３上の異物を除去するようにしていた。
には、図５のようにウエハホルダー３からウエハを取り
外した状態で、ウエハステージ５の端部を投影光学系１
の下方に移動してウエハステージ５を固定する。次に、
ウエハホルダー３上に砥石又は無塵布よりなるクリーニ
ング用工具７を置いて、作業者が手８でクリーニング用
工具７を一定の圧力でウエハホルダー３側に付勢した状
態で、軌跡９で示すようにクリーニング用工具７をウエ
ハホルダー３の全面で移動させることにより、ウエハホ
ルダー３上の異物を除去するようにしていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ように作業者がマニュアルでウエハホルダー３の清掃を
行うのでは、ウエハホルダー３の全面を拭くのに例えば
３０分から１時間程度の時間を要し、実際の露光を行え
る時間が短縮されてスループットが低下するという不都
合があった。また、露光を行える時間を長くするため
に、ウエハホルダー３の清掃頻度を一日に１回程度にし
た場合には、ウエハホルダー３上に異物が吸着されたま
まウエハへの露光が行われる確率が高くなり、半導体素
子等の歩留まりが悪化する虞がある。
ように作業者がマニュアルでウエハホルダー３の清掃を
行うのでは、ウエハホルダー３の全面を拭くのに例えば
３０分から１時間程度の時間を要し、実際の露光を行え
る時間が短縮されてスループットが低下するという不都
合があった。また、露光を行える時間を長くするため
に、ウエハホルダー３の清掃頻度を一日に１回程度にし
た場合には、ウエハホルダー３上に異物が吸着されたま
まウエハへの露光が行われる確率が高くなり、半導体素
子等の歩留まりが悪化する虞がある。
【０００８】また、作業者がマニュアルで清掃を行うの
では、ウエハホルダー３上に部分的に拭きムラが残る可
能性があり、作業者からの新たな異物がウエハホルダー
３に付着する虞もあった。本発明は斯かる点に鑑み、自
動的に且つ高速にウエハホルダー等の保持部材の清掃を
行うことができるようにすることを目的とする。
では、ウエハホルダー３上に部分的に拭きムラが残る可
能性があり、作業者からの新たな異物がウエハホルダー
３に付着する虞もあった。本発明は斯かる点に鑑み、自
動的に且つ高速にウエハホルダー等の保持部材の清掃を
行うことができるようにすることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明による保持装置
は、例えば図１に示す如く、複数の凹凸が形成された保
持面上に物体を保持する保持部材（３）を備え、二次元
平面上の所定の駆動領域内を移動するステージ（５）
と、その保持面上に接触した状態でその保持面を洗浄す
る洗浄部材（２６）を持つ洗浄手段（２０〜２６）とを
有し、その洗浄部材のその保持面に接触する面は、その
保持面よりも小さく、かつその凹凸のうちの異なる２つ
の凸部に接触する大きさを備えるとともに、その洗浄手
段は、その洗浄部材をその保持部材の保持面に接触させ
た状態で、その洗浄部材がその保持面上のほぼ全面を走
査する軌跡をその保持面上に描くように、その保持面が
配置された平面内の第１方向とこの第１方向に交わるそ
の保持面内の第２方向とにそのステージとその洗浄部材
とを相対移動させるものである。また、本発明による保
持部材の洗浄方法は、凹凸が形成された保持面上に物体
を保持する保持部材（３）を備えたステージ（５）を、
二次元平面上の所定の駆動領域内で移動自在に配置し、
その保持面に接触する面がその保持面よりも小さく、か
つ、その凹凸のうちの異なる２つの凸部に接触する大き
さを有する洗浄部材（２６）を、そのステージがその所
定の駆動領域内を移動したときにその保持面に接触する
位置に配置し、その洗浄部材がその保持面に接触した状
態で、その洗浄部材がその保持面上の全面を走査する軌
跡をその保持面上に描くように、その保持面が配置され
る平面の第１方向とこの第１方向に交わる保持面内の第
２方向とにそのステージとその洗浄部材とを相対移動さ
せるものである。また、本発明による第１の露光装置
は、本発明の保持装置を備え、その保持部材に保持され
たその物体としての基板上に、所定パターンを露光する
ものである。また、本発明による第２の露光装置は、所
定パターン（１５）を投影光学系（１）を介して基板上
に露光する露光装置において、複数の凹凸が形成された
保持面上に物体を保持する保持部材（３）を備え、二次
元平面上の所定の駆動領域内を移動するステージ（５）
と、その保持面に接触した状態でこの保持面を洗浄する
洗浄部材（２６）を持つ洗浄手段（２０〜２６）とを有
し、その洗浄部材のその保持面に接触する面は、全面が
この保持面内に含まれる大きさを有する。さらに、その
第２の露光装置において、その洗浄手段は、その投影光
学系を避けた位置であり、かつ、そのステージがその所
定の駆動領域内を第１方向及びこれに交差する第２方向
に移動したときにその洗浄部材がその保持面上を全面的
に走査可能な第１位置と、その第１位置よりもその投影
光学系から離れた第２位置との間でその洗浄部材を移動
させる駆動手段（２０〜２２）を備えるものである。ま
た、本発明において、その洗浄手段（洗浄部材）をクリ
ーニング部材ともみなすことができる。
は、例えば図１に示す如く、複数の凹凸が形成された保
持面上に物体を保持する保持部材（３）を備え、二次元
平面上の所定の駆動領域内を移動するステージ（５）
と、その保持面上に接触した状態でその保持面を洗浄す
る洗浄部材（２６）を持つ洗浄手段（２０〜２６）とを
有し、その洗浄部材のその保持面に接触する面は、その
保持面よりも小さく、かつその凹凸のうちの異なる２つ
の凸部に接触する大きさを備えるとともに、その洗浄手
段は、その洗浄部材をその保持部材の保持面に接触させ
た状態で、その洗浄部材がその保持面上のほぼ全面を走
査する軌跡をその保持面上に描くように、その保持面が
配置された平面内の第１方向とこの第１方向に交わるそ
の保持面内の第２方向とにそのステージとその洗浄部材
とを相対移動させるものである。また、本発明による保
持部材の洗浄方法は、凹凸が形成された保持面上に物体
を保持する保持部材（３）を備えたステージ（５）を、
二次元平面上の所定の駆動領域内で移動自在に配置し、
その保持面に接触する面がその保持面よりも小さく、か
つ、その凹凸のうちの異なる２つの凸部に接触する大き
さを有する洗浄部材（２６）を、そのステージがその所
定の駆動領域内を移動したときにその保持面に接触する
位置に配置し、その洗浄部材がその保持面に接触した状
態で、その洗浄部材がその保持面上の全面を走査する軌
跡をその保持面上に描くように、その保持面が配置され
る平面の第１方向とこの第１方向に交わる保持面内の第
２方向とにそのステージとその洗浄部材とを相対移動さ
せるものである。また、本発明による第１の露光装置
は、本発明の保持装置を備え、その保持部材に保持され
たその物体としての基板上に、所定パターンを露光する
ものである。また、本発明による第２の露光装置は、所
定パターン（１５）を投影光学系（１）を介して基板上
に露光する露光装置において、複数の凹凸が形成された
保持面上に物体を保持する保持部材（３）を備え、二次
元平面上の所定の駆動領域内を移動するステージ（５）
と、その保持面に接触した状態でこの保持面を洗浄する
洗浄部材（２６）を持つ洗浄手段（２０〜２６）とを有
し、その洗浄部材のその保持面に接触する面は、全面が
この保持面内に含まれる大きさを有する。さらに、その
第２の露光装置において、その洗浄手段は、その投影光
学系を避けた位置であり、かつ、そのステージがその所
定の駆動領域内を第１方向及びこれに交差する第２方向
に移動したときにその洗浄部材がその保持面上を全面的
に走査可能な第１位置と、その第１位置よりもその投影
光学系から離れた第２位置との間でその洗浄部材を移動
させる駆動手段（２０〜２２）を備えるものである。ま
た、本発明において、その洗浄手段（洗浄部材）をクリ
ーニング部材ともみなすことができる。
【００１０】この場合、そのクリーニング部材を、例え
ば図４に示すように、砥石よりなる第１のクリーニング
部材（３１）と無塵布よりなる第２のクリーニング部材
（３３）とより構成し、第１のクリーニング部材（３
１）と第２のクリーニング部材（３３）とを交互に保持
部材（３）に接触させる切り換え手段（２８，２９）を
設けるようにしてもよい。
ば図４に示すように、砥石よりなる第１のクリーニング
部材（３１）と無塵布よりなる第２のクリーニング部材
（３３）とより構成し、第１のクリーニング部材（３
１）と第２のクリーニング部材（３３）とを交互に保持
部材（３）に接触させる切り換え手段（２８，２９）を
設けるようにしてもよい。
【００１１】
【作用】斯かる本発明によれば、保持部材（３）を清掃
するための部材であって保持部材（３）の保持面よりも
小さい洗浄部材（２６）を、保持部材（３）の全面に接
触できる位置に配置して、保持面と洗浄部材（２６）と
を接触させたままステージ（５）を高速に移動させる。
これにより自動的且つ高速に保持部材（３）の全面を清
掃できる。また、作業者が直接介入しないので、作業者
からの新たな異物が保持部材（３）に付着することもな
い。また、洗浄部材の大きさ（保持面との被接触面）
は、保持部材（保持面）よりも小さくなっているので、
洗浄部材と保持面との摩擦接触により保持面からこすり
取った汚れを、ステージの移動に伴い洗浄部材が保持面
外に掃き出すことができる。このため、こすり取られた
汚れが保持面上に残留する恐れがない。
するための部材であって保持部材（３）の保持面よりも
小さい洗浄部材（２６）を、保持部材（３）の全面に接
触できる位置に配置して、保持面と洗浄部材（２６）と
を接触させたままステージ（５）を高速に移動させる。
これにより自動的且つ高速に保持部材（３）の全面を清
掃できる。また、作業者が直接介入しないので、作業者
からの新たな異物が保持部材（３）に付着することもな
い。また、洗浄部材の大きさ（保持面との被接触面）
は、保持部材（保持面）よりも小さくなっているので、
洗浄部材と保持面との摩擦接触により保持面からこすり
取った汚れを、ステージの移動に伴い洗浄部材が保持面
外に掃き出すことができる。このため、こすり取られた
汚れが保持面上に残留する恐れがない。
【００１２】また、例えば図４に示すように、切り換え
手段（２８，２９）により第１のクリーニング部材（３
１）と第２のクリーニング部材（３３）とを交互に保持
部材（３）に接触させるようにした場合には、保持部材
（３）をより良好に清掃することができる。
手段（２８，２９）により第１のクリーニング部材（３
１）と第２のクリーニング部材（３３）とを交互に保持
部材（３）に接触させるようにした場合には、保持部材
（３）をより良好に清掃することができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明による露光装置の一実施例につ
き図１〜図３を参照して説明する。本例はウエハホルダ
ーを介してウエハを保持する投影露光装置に本発明を適
用したものであり、図１及び図３において、図５に対応
する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略す
る。
き図１〜図３を参照して説明する。本例はウエハホルダ
ーを介してウエハを保持する投影露光装置に本発明を適
用したものであり、図１及び図３において、図５に対応
する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略す
る。
【００１４】図１は本例の投影露光装置の概略構成を示
し、この図１において、水銀ランプ等の光源１０から射
出された露光光は、楕円鏡１１で焦光された後にインプ
ットレンズ１２でほぼ平行な光束に変換されてフライア
イレンズ１３に入射する。フライアイレンズ１３の後側
（レチクル側）焦点面には多数の２次光源が形成され、
これら２次光源から射出された露光光はコンデンサーレ
ンズ系１４により集光されてレチクル１５を均一な照度
で照明する。図示省略するも、コンデンサーレンズ系１
４には可変視野絞りが備えられ、この可変視野絞りによ
りレチクル１５上の照明視野を任意に設定することがで
きる。
し、この図１において、水銀ランプ等の光源１０から射
出された露光光は、楕円鏡１１で焦光された後にインプ
ットレンズ１２でほぼ平行な光束に変換されてフライア
イレンズ１３に入射する。フライアイレンズ１３の後側
（レチクル側）焦点面には多数の２次光源が形成され、
これら２次光源から射出された露光光はコンデンサーレ
ンズ系１４により集光されてレチクル１５を均一な照度
で照明する。図示省略するも、コンデンサーレンズ系１
４には可変視野絞りが備えられ、この可変視野絞りによ
りレチクル１５上の照明視野を任意に設定することがで
きる。
【００１５】レチクル１５の下方に順に投影光学系１及
びウエハステージ５が配置され、ウエハステージ５上に
ウエハホルダー３が固定されている。露光時にはウエハ
ホルダー３上にウエハが吸着して保持され、露光光のも
とでレチクル１５のパターンが投影光学系１を介してそ
のウエハ上の各ショット領域に投影露光される。
びウエハステージ５が配置され、ウエハステージ５上に
ウエハホルダー３が固定されている。露光時にはウエハ
ホルダー３上にウエハが吸着して保持され、露光光のも
とでレチクル１５のパターンが投影光学系１を介してそ
のウエハ上の各ショット領域に投影露光される。
【００１６】１６ＸはＸ軸用のレーザー干渉計、１６Ｙ
はＹ軸用のレーザー干渉計を示し、レーザー干渉計１６
Ｘからの２本のレーザービームＬＢ１及びＬＢ２がそれ
ぞれ投影光学系１の固定鏡２Ｘ（図３参照）及びウエハ
ステージ５上の移動鏡６Ｘにより反射される。また、Ｙ
軸用のレーザー干渉計１６Ｙからの２本のレーザービー
ムＬＢ３及びＬＢ４がそれぞれ投影光学系１の固定鏡２
Ｙ（図３参照）及びウエハステージ５上の移動鏡６Ｙに
より反射される。これにより、レーザー干渉計１６Ｘ及
び１６Ｙにおいて、ウエハステージ５のＸ座標及びＹ座
標が計測される。また、Ｘ軸用の駆動装置１７Ｘが駆動
軸１８Ｘを介してウエハステージ５をＸ方向に駆動し、
Ｙ軸用の駆動装置１７Ｙが駆動軸１８Ｙを介してウエハ
ステージ５をＹ方向に駆動することにより、ウエハステ
ージ５の投影光学系１に対する相対座標（Ｘ，Ｙ）を任
意の座標に設定することができる。
はＹ軸用のレーザー干渉計を示し、レーザー干渉計１６
Ｘからの２本のレーザービームＬＢ１及びＬＢ２がそれ
ぞれ投影光学系１の固定鏡２Ｘ（図３参照）及びウエハ
ステージ５上の移動鏡６Ｘにより反射される。また、Ｙ
軸用のレーザー干渉計１６Ｙからの２本のレーザービー
ムＬＢ３及びＬＢ４がそれぞれ投影光学系１の固定鏡２
Ｙ（図３参照）及びウエハステージ５上の移動鏡６Ｙに
より反射される。これにより、レーザー干渉計１６Ｘ及
び１６Ｙにおいて、ウエハステージ５のＸ座標及びＹ座
標が計測される。また、Ｘ軸用の駆動装置１７Ｘが駆動
軸１８Ｘを介してウエハステージ５をＸ方向に駆動し、
Ｙ軸用の駆動装置１７Ｙが駆動軸１８Ｙを介してウエハ
ステージ５をＹ方向に駆動することにより、ウエハステ
ージ５の投影光学系１に対する相対座標（Ｘ，Ｙ）を任
意の座標に設定することができる。
【００１７】本例では投影光学系１の側面近傍にオフア
クシスのアライメント顕微鏡１９が配置されている。こ
のアライメント顕微鏡１９でウエハ上のアライメントマ
ークの座標を検出することにより、ウエハのアライメン
トが行われる。また、２０は投影光学系１に対して離れ
て固定された回転軸であり、回転軸２０に円筒状の回転
駆動部２１を嵌合し、回転駆動部２１にアーム２２を介
して円筒状の上下駆動部２３を接続し、上下駆動部２３
の内部に上下駆動軸２４を装着して上下駆動軸２４の下
端に接続部２５を介して砥石又は無塵布等よりなるクリ
ーニング用工具２６を取り付ける。回転軸２０は投影光
学系１の光軸に平行であり、アーム２２は回転軸２０を
中心として回転駆動部２１によりφ方向に回転される。
また、上下駆動軸２４の中心２４ａは投影光学系１の光
軸に平行であり、上下駆動部２３によりクリーニング用
工具２６は中心２４ａの方向に移動される。
クシスのアライメント顕微鏡１９が配置されている。こ
のアライメント顕微鏡１９でウエハ上のアライメントマ
ークの座標を検出することにより、ウエハのアライメン
トが行われる。また、２０は投影光学系１に対して離れ
て固定された回転軸であり、回転軸２０に円筒状の回転
駆動部２１を嵌合し、回転駆動部２１にアーム２２を介
して円筒状の上下駆動部２３を接続し、上下駆動部２３
の内部に上下駆動軸２４を装着して上下駆動軸２４の下
端に接続部２５を介して砥石又は無塵布等よりなるクリ
ーニング用工具２６を取り付ける。回転軸２０は投影光
学系１の光軸に平行であり、アーム２２は回転軸２０を
中心として回転駆動部２１によりφ方向に回転される。
また、上下駆動軸２４の中心２４ａは投影光学系１の光
軸に平行であり、上下駆動部２３によりクリーニング用
工具２６は中心２４ａの方向に移動される。
【００１８】本実施例でウエハホルダー３の清掃を行う
場合の動作につき図２のフローチャート及び図３を参照
して説明する。図３は図１のウエハホルダー３を投影光
学系１の側から見たときの平面図である。先ず、図２の
ステップ１０１で変数ｎの値を０に初期化し、ステップ
１０２で露光対象とするウエハをウエハホルダー３上に
吸着保持して、ステップ１０３でそのウエハへの露光を
行う。そして、ステップ１０４でそのウエハをウエハホ
ルダー３から取り外して（アンロードして）、ステップ
１０５で変数ｎの値に１を加算する。これは露光したウ
エハの枚数のカウント動作である。
場合の動作につき図２のフローチャート及び図３を参照
して説明する。図３は図１のウエハホルダー３を投影光
学系１の側から見たときの平面図である。先ず、図２の
ステップ１０１で変数ｎの値を０に初期化し、ステップ
１０２で露光対象とするウエハをウエハホルダー３上に
吸着保持して、ステップ１０３でそのウエハへの露光を
行う。そして、ステップ１０４でそのウエハをウエハホ
ルダー３から取り外して（アンロードして）、ステップ
１０５で変数ｎの値に１を加算する。これは露光したウ
エハの枚数のカウント動作である。
【００１９】そして、ステップ１０６で、露光されたウ
エハの枚数が所定の枚数であるＮ枚に達したか、即ち変
数ｎがＮに達したかどうかを調べて、Ｎ枚に達していな
いときにはステップ１０２に戻って次のウエハへの露光
を行う。ステップ１０６でＮ枚のウエハへの露光が終了
した場合には、動作はステップ１０７に移行して、図３
に示すように、ウエハステージ５を駆動してウエハホル
ダー３を清掃開始位置に移動してウエハステージ５を停
止する。そしてステップ１０８で、回転駆動部２１によ
りφ方向にアーム２２を回転して、クリーニング用工具
２６が取り付けられた上下駆動軸２４をアライメント顕
微鏡１９の近傍に搬送して固定する。
エハの枚数が所定の枚数であるＮ枚に達したか、即ち変
数ｎがＮに達したかどうかを調べて、Ｎ枚に達していな
いときにはステップ１０２に戻って次のウエハへの露光
を行う。ステップ１０６でＮ枚のウエハへの露光が終了
した場合には、動作はステップ１０７に移行して、図３
に示すように、ウエハステージ５を駆動してウエハホル
ダー３を清掃開始位置に移動してウエハステージ５を停
止する。そしてステップ１０８で、回転駆動部２１によ
りφ方向にアーム２２を回転して、クリーニング用工具
２６が取り付けられた上下駆動軸２４をアライメント顕
微鏡１９の近傍に搬送して固定する。
【００２０】一般にアライメント顕微鏡１９はウエハホ
ルダー３上のウエハの全面を観察できる位置に配置され
ている。従って、このようにクリーニング用工具２６を
アライメント顕微鏡１９の近傍に配置することにより、
クリーニング用工具２６はウエハホルダー３の全面を確
実に走査できる利点がある。次にステップ１０９で、上
下駆動軸２４をウエハステージ５側に下降させて、クリ
ーニング用工具２６を所定の圧力でウエハホルダー３に
接触させる。
ルダー３上のウエハの全面を観察できる位置に配置され
ている。従って、このようにクリーニング用工具２６を
アライメント顕微鏡１９の近傍に配置することにより、
クリーニング用工具２６はウエハホルダー３の全面を確
実に走査できる利点がある。次にステップ１０９で、上
下駆動軸２４をウエハステージ５側に下降させて、クリ
ーニング用工具２６を所定の圧力でウエハホルダー３に
接触させる。
【００２１】そして、ステップ１１０で変数ｍの値を０
に初期化して、ステップ１１１では、クリーニング用工
具２６を一定の圧力でウエハホルダー３の表面に接触さ
せた状態で、ウエハステージ５を駆動してウエハステー
ジ５上のウエハホルダー３に、矢印で示す軌跡２７に沿
って等速移動を開始させる。これによりクリーニング用
工具２６がウエハホルダー３の表面に摺接して、ウエハ
ホルダー３の清掃が行われ、ウエハホルダー３の表面全
体をクリーニング用工具２６が走査した後に、ステップ
１１２で変数ｍの値に１を加算する。そして、ステップ
１１３でウエハホルダー３の全面をＭ回清掃したかどう
か、即ち変数ｍの値がＭに達したかどうかを調べる。
に初期化して、ステップ１１１では、クリーニング用工
具２６を一定の圧力でウエハホルダー３の表面に接触さ
せた状態で、ウエハステージ５を駆動してウエハステー
ジ５上のウエハホルダー３に、矢印で示す軌跡２７に沿
って等速移動を開始させる。これによりクリーニング用
工具２６がウエハホルダー３の表面に摺接して、ウエハ
ホルダー３の清掃が行われ、ウエハホルダー３の表面全
体をクリーニング用工具２６が走査した後に、ステップ
１１２で変数ｍの値に１を加算する。そして、ステップ
１１３でウエハホルダー３の全面をＭ回清掃したかどう
か、即ち変数ｍの値がＭに達したかどうかを調べる。
【００２２】清掃の回数がＭ回に達していない場合に
は、ステップ１１１に戻ってクリーニング用工具２６で
再びウエハホルダー３の全面の清掃を行う。このように
ウエハホルダー３の表面を繰り返して清掃する場合は、
前回の走査の経路に沿って逆方向にクリーニング用工具
２６を走査していく。これにより清掃時間が短縮され
る。Ｍ回の清掃が終了した場合には、動作はステップ１
１３からステップ１１４に移行して、上下駆動部２３を
上方に移動させてクリーニング用工具２６をウエハホル
ダー３から離す。その後、ステップ１１５において、回
転駆動部２１によりアーム２２をφ方向の逆方向に回転
して、クリーニング用工具２６をウエハの搬送やその他
の露光動作の邪魔にならない位置に退避させる。その
後、動作はステップ１０２に移行して、露光対象とする
ウエハへの露光が行われる。
は、ステップ１１１に戻ってクリーニング用工具２６で
再びウエハホルダー３の全面の清掃を行う。このように
ウエハホルダー３の表面を繰り返して清掃する場合は、
前回の走査の経路に沿って逆方向にクリーニング用工具
２６を走査していく。これにより清掃時間が短縮され
る。Ｍ回の清掃が終了した場合には、動作はステップ１
１３からステップ１１４に移行して、上下駆動部２３を
上方に移動させてクリーニング用工具２６をウエハホル
ダー３から離す。その後、ステップ１１５において、回
転駆動部２１によりアーム２２をφ方向の逆方向に回転
して、クリーニング用工具２６をウエハの搬送やその他
の露光動作の邪魔にならない位置に退避させる。その
後、動作はステップ１０２に移行して、露光対象とする
ウエハへの露光が行われる。
【００２３】次に、図４を参照してクリーニング用工具
の変形例につき説明する。図４はウエハホルダー３の清
掃時の状態を示し、この図１に対応する部分に同一符号
を付して示す図４において、アーム２２の他端の上下駆
動部２３の内部に上下駆動軸２８が装着されている。こ
の上下駆動軸２８の下端部２８ａは「くの字」形に曲が
り、下端部２８ａの先端に回転アーム２９が装着されて
いる。回転アーム２９は下端部２８ａ内の駆動装置によ
り下端部２８ａの軸の回りのθ方向に回転することがで
きる。また、回転アーム２９の一端に接続部３０Ａを介
して薄い直方体状の砥石３１を取り付け、回転アーム２
９の他端に接続部３０Ｂを介して巻き付け部３２を取り
付け、この巻き付け部３２に無塵布３３を巻き付ける。
の変形例につき説明する。図４はウエハホルダー３の清
掃時の状態を示し、この図１に対応する部分に同一符号
を付して示す図４において、アーム２２の他端の上下駆
動部２３の内部に上下駆動軸２８が装着されている。こ
の上下駆動軸２８の下端部２８ａは「くの字」形に曲が
り、下端部２８ａの先端に回転アーム２９が装着されて
いる。回転アーム２９は下端部２８ａ内の駆動装置によ
り下端部２８ａの軸の回りのθ方向に回転することがで
きる。また、回転アーム２９の一端に接続部３０Ａを介
して薄い直方体状の砥石３１を取り付け、回転アーム２
９の他端に接続部３０Ｂを介して巻き付け部３２を取り
付け、この巻き付け部３２に無塵布３３を巻き付ける。
【００２４】次に、ウエハホルダー３の清掃を行う際に
は、回転アーム２２をウエハホルダー３の表面に平行な
Ｒ方向に移動又は回転すると共に、回転アーム２９をθ
方向に回転して砥石３１又は無塵布３３の何れかをウエ
ハホルダー３の上に移動させる。その後、上下駆動軸２
８をＺ軸に平行な軸２４ａに沿ってウエハホルダー３側
に下降させて、砥石３１又は無塵布３３の何れかをウエ
ハホルダー３上に接触させる。この場合、それぞれ一定
の重さの砥石３１及び無塵布３３は回転アーム２９に対
してフリーの状態で取り付けられているので、砥石３１
又は無塵布３３はそれぞれウエハホルダー３の表面に対
して自重による一定の圧力で付勢される。その状態でウ
エハホルダー３を移動させることにより、ウエハホルダ
ー３の清掃が行われる。
は、回転アーム２２をウエハホルダー３の表面に平行な
Ｒ方向に移動又は回転すると共に、回転アーム２９をθ
方向に回転して砥石３１又は無塵布３３の何れかをウエ
ハホルダー３の上に移動させる。その後、上下駆動軸２
８をＺ軸に平行な軸２４ａに沿ってウエハホルダー３側
に下降させて、砥石３１又は無塵布３３の何れかをウエ
ハホルダー３上に接触させる。この場合、それぞれ一定
の重さの砥石３１及び無塵布３３は回転アーム２９に対
してフリーの状態で取り付けられているので、砥石３１
又は無塵布３３はそれぞれウエハホルダー３の表面に対
して自重による一定の圧力で付勢される。その状態でウ
エハホルダー３を移動させることにより、ウエハホルダ
ー３の清掃が行われる。
【００２５】一般に砥石３１による清掃は、ウエハホル
ダー３にこびり着いたゴミ等の異物に対して効果があ
り、砥石３１は数回に一度程度の割合で使用される。一
方、無塵布３３はウエハホルダー３上に落ちているゴミ
等を払う為に適宜使用される。このように砥石３１と無
塵布３３とを交互に使用することにより、ウエハホルダ
ー３を良好に清掃することができる。
ダー３にこびり着いたゴミ等の異物に対して効果があ
り、砥石３１は数回に一度程度の割合で使用される。一
方、無塵布３３はウエハホルダー３上に落ちているゴミ
等を払う為に適宜使用される。このように砥石３１と無
塵布３３とを交互に使用することにより、ウエハホルダ
ー３を良好に清掃することができる。
【００２６】なお、無塵布３３をロール状に巻き付け部
３２に巻回して、自動的に無塵布３３とウエハホルダー
３との接触位置を変えるか、又は上下駆動軸２８に振動
を与えて砥石３１及び無塵布３３に付着した異物を除去
する機構を加えれば、長い期間クリーニング機構のメン
テナンスを行う必要がなくなる。また上述実施例では、
砥石３１と無塵布３３とを別々にウエハホルダー３の表
面に接触させる方式を取っているが、砥石３１と無塵布
３３とを同時にウエハホルダー３の表面に接触させて両
者で同時にウエハホルダー３の表面を清掃するようにす
れば、より簡単な構成で且つ高速にウエハホルダー３の
清掃を行うことができる。
３２に巻回して、自動的に無塵布３３とウエハホルダー
３との接触位置を変えるか、又は上下駆動軸２８に振動
を与えて砥石３１及び無塵布３３に付着した異物を除去
する機構を加えれば、長い期間クリーニング機構のメン
テナンスを行う必要がなくなる。また上述実施例では、
砥石３１と無塵布３３とを別々にウエハホルダー３の表
面に接触させる方式を取っているが、砥石３１と無塵布
３３とを同時にウエハホルダー３の表面に接触させて両
者で同時にウエハホルダー３の表面を清掃するようにす
れば、より簡単な構成で且つ高速にウエハホルダー３の
清掃を行うことができる。
【００２７】また、図４の実施例ではクリーニング用工
具としての砥石３１又は無塵布３３の自重によりウエハ
ホルダー３への付勢力が設定されているが、圧力センサ
ーでウエハホルダー３への実際の付勢力をモニターし
て、一定の圧力をかけた状態でウエハホルダー３の清掃
を行うようにしてもよい。さらにクリーニング部材の接
触面積は、ウエハホルダ−３の凸凹部の凸部の異なる２
ヶ所に接触する大きさにすれば清掃時にエッヂ部にクリ
−ニング部材が引っ掛る様な不都合は生じない。このよ
うに、本発明は上述実施例に限定されず本発明の要旨を
逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。
具としての砥石３１又は無塵布３３の自重によりウエハ
ホルダー３への付勢力が設定されているが、圧力センサ
ーでウエハホルダー３への実際の付勢力をモニターし
て、一定の圧力をかけた状態でウエハホルダー３の清掃
を行うようにしてもよい。さらにクリーニング部材の接
触面積は、ウエハホルダ−３の凸凹部の凸部の異なる２
ヶ所に接触する大きさにすれば清掃時にエッヂ部にクリ
−ニング部材が引っ掛る様な不都合は生じない。このよ
うに、本発明は上述実施例に限定されず本発明の要旨を
逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、洗浄部材（クリーニン
グ部材）をウエハホルダー等の保持部材に接触させた状
態でステージを所定の駆動領域内で移動してその保持部
材のクリーニングを行うことにより、自動的にかつ高速
にその保持部材の清掃を行うことができる利点がある。
また、作業者の介入がなくなり、新たな異物の発生が抑
制されることにより、露光装置で製造される製品の歩留
まりの一層の向上が期待できる。また、洗浄部材の大き
さ（保持面との被接触面）は、保持部材（保持面）より
も小さくなっているので、洗浄部材と保持面との摩擦接
触により保持面上からこすり取った汚れを、ステージの
移動に伴い洗浄部材が保持面外に掃き出すことができ
る。このため、こすり取られた汚れが保持面上に残留す
る恐れがない。さらに、洗浄部材の大きさは、保持面の
凹凸のうちの異なる２つの凸部に接触する大きさを有す
るので、清掃時にエッヂ部に洗浄部材が引っ掛かるよう
な不都合は生じない。
グ部材）をウエハホルダー等の保持部材に接触させた状
態でステージを所定の駆動領域内で移動してその保持部
材のクリーニングを行うことにより、自動的にかつ高速
にその保持部材の清掃を行うことができる利点がある。
また、作業者の介入がなくなり、新たな異物の発生が抑
制されることにより、露光装置で製造される製品の歩留
まりの一層の向上が期待できる。また、洗浄部材の大き
さ（保持面との被接触面）は、保持部材（保持面）より
も小さくなっているので、洗浄部材と保持面との摩擦接
触により保持面上からこすり取った汚れを、ステージの
移動に伴い洗浄部材が保持面外に掃き出すことができ
る。このため、こすり取られた汚れが保持面上に残留す
る恐れがない。さらに、洗浄部材の大きさは、保持面の
凹凸のうちの異なる２つの凸部に接触する大きさを有す
るので、清掃時にエッヂ部に洗浄部材が引っ掛かるよう
な不都合は生じない。
【００２９】また、切り換え手段により第１のクリーニ
ング部材と第２のクリーニング部材とを交互に保持部材
に接触させるようにした場合には、その保持部材をより
良好に清掃することができる。
ング部材と第２のクリーニング部材とを交互に保持部材
に接触させるようにした場合には、その保持部材をより
良好に清掃することができる。
【図１】本発明の一実施例の投影露光装置を示す一部を
切り欠いた斜視図である。
切り欠いた斜視図である。
【図２】その実施例での露光動作及びウエハホルダーの
清掃動作の一例を示すフローチャートである。
清掃動作の一例を示すフローチャートである。
【図３】図１のウエハホルダー３を投影光学系１側から
見た場合の要部の平面図である。
見た場合の要部の平面図である。
【図４】クリーニング用工具の変形例を示す要部の側面
図である。
図である。
【図５】従来のウエハホルダーの清掃方法の説明に供す
る投影露光装置の要部の平面図である。
る投影露光装置の要部の平面図である。
１ 投影光学系
３ ウエハホルダー
５ ウエハステージ
１０ 光源
１３ フライアイレンズ
１４ コンデンサーレンズ系
１５ レチクル
１６Ｘ，１６Ｙ レーザー干渉計
１９ アライメント顕微鏡
２０ 回転軸
２１ 回転駆動部
２２ アーム
２３ 上下駆動部
２４，２８ 上下駆動軸
２６ クリーニング用工具
２９ 回転アーム
３１ 砥石
３２ 巻き付け部
３３ 無塵布
Claims (19)
- 【請求項１】 複数の凹凸が形成された保持面上に物体
を保持する保持部材を備え、二次元平面上の所定の駆動
領域内を移動するステージと、 前記保持面上に接触した状態で該保持面を洗浄する洗浄
部材を持つ洗浄手段とを有し、 前記洗浄部材の前記保持面に接触する面は、該保持面よ
りも小さく、かつ、前記凹凸のうちの異なる二つの凸部
に接触する大きさを備えるとともに、 前記洗浄手段は、前記洗浄部材を前記保持部材の保持面
に接触させた状態で、前記洗浄部材が前記保持面上のほ
ぼ全面を走査する軌跡を前記保持面上に描くように、前
記保持面が配置された平面内の第１方向と該第１方向に
交わる前記保持面内の第２方向とに前記ステージと前記
洗浄部材とを相対移動させることを特徴とする保持装
置。 - 【請求項２】 前記洗浄手段は、前記洗浄部材が前記保
持面上に一定の付勢力で付勢されているときに、該保持
面を洗浄することを特徴とする請求項１に記載の保持装
置。 - 【請求項３】 前記洗浄部材は、自重により前記保持面
上に付勢されることを特徴とする請求項２に記載の保持
装置。 - 【請求項４】 前記保持面に対する前記洗浄部材への付
勢力を検知する検知手段と、 該検知手段の検知結果に基づいて、前記洗浄部材に付勢
力を与える付勢手段とを更に有することを特徴とする請
求項２に記載の保持装置。 - 【請求項５】 前記洗浄部材は、第１洗浄部材と、該第
１洗浄部材とは異なる第２洗浄部材とを含み、 前記洗浄手段は、前記第１洗浄部材と前記第２洗浄部材
とを交互に前記保持面に接触せしめる切換手段を含むこ
とを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の保持
装置。 - 【請求項６】 前記第１洗浄部材は砥石を含み、前記第
２洗浄部材は無塵布を含むことを特徴とする請求項５に
記載の保持装置。 - 【請求項７】 前記洗浄部材が前記保持面上に接触して
いるときに、前記ステージは、前記所定の駆動領域内を
等速移動することを特徴とする請求項１〜６の何れか一
項に記載の保持装置。 - 【請求項８】 前記洗浄手段は、前記保持面上の前記物
体としての基板が所定枚数以上取り替えられると、前記
洗浄動作を行うことを特徴とする請求項１〜７の何れか
一項に記載の保持装置。 - 【請求項９】 請求項１〜８の何れか一項に記載の保持
装置を備え、 前記保持部材に保持された前記物体としての基板上に、
所定パターンを露光することを特徴とする露光装置。 - 【請求項１０】 前記露光装置は、前記保持部材に保持
された前記基板上に形成されたアライメントマークを検
知するマーク検知手段を有し、 前記洗浄手段は、前記マーク検知手段の近傍に配置され
ていることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。 - 【請求項１１】 凹凸が形成された保持面上に物体を保
持する保持部材を備えたステージを、二次元平面上の所
定の駆動領域内で移動自在に配置し、 該保持面に接触する面が該保持面よりも小さく、かつ、
前記凹凸のうちの異なる２つの凸部に接触する大きさを
有する洗浄部材を、前記ステージが前記所定の駆動領域
内を移動したときに前記保持面に接触する位置に配置
し、 前記洗浄部材が前記保持面に接触した状態で、前記洗浄
部材が前記保持面上の全面を走査する軌跡を前記保持面
上に描くように、前記保持面が配置される平面の第１方
向と該第１方向に交わる保持面内の第２方向とに前記ス
テージと前記洗浄部材とを相対移動させることを特徴と
する保持部材の洗浄方法。 - 【請求項１２】 前記洗浄部材を前記保持面上に一定の
付勢力で付勢しながら、該保持面を洗浄することを特徴
とする請求項１１に記載の保持部材の洗浄方法。 - 【請求項１３】 前記洗浄部材は、第１洗浄部材と、該
第１洗浄部材とは異なる第２洗浄部材とを含み、 前記第１洗浄部材と前記第２洗浄部材とを交互に前記保
持面に接触せしめることにより、該保持面を洗浄するこ
とを特徴とする請求項１１又は１２に記載の保持部材の
洗浄方法。 - 【請求項１４】 前記洗浄部材が前記保持面上に接触し
ているときに、前記ステージは、前記所定の駆動領域内
を等速移動することを特徴とする請求項１１〜１３の何
れか一項に記載の保持部材の洗浄方法。 - 【請求項１５】 前記保持面上の前記物体としての基板
が所定枚数以上取り替えられると、前記洗浄部材による
前記保持面の洗浄を行うことを特徴とする請求項１１〜
１４の何れか一項に記載の保持部材の洗浄方法。 - 【請求項１６】 所定パターンを投影光学系を介して基
板上に露光する露光装置において、 複数の凹凸が形成された保持面上に物体を保持する保持
部材を備え、二次元平面上の所定の駆動領域内を移動す
るステージと、 前記保持面に接触した状態で該保持面を洗浄する洗浄部
材を持つ洗浄手段とを有し、 前記洗浄手段は、前記投影光学系を避けた位置であり、
かつ、前記ステージが前記所定の駆動領域内を第１方向
及びこれに交差する第２方向に移動したときに前記洗浄
部材が前記保持面上を全面的に走査可能な第１位置と、
前記第１位置よりも前記投影光学系から離れた第２位置
との間で前記洗浄部材を移動させる駆動手段を備え、 前記洗浄部材の前記保持面に接触する面は、全面が該保
持面内に含まれる大きさを有することを特徴とする露光
装置。 - 【請求項１７】 前記洗浄手段は、前記洗浄部材が前記
保持面上に一定の付勢力で付勢されているときに、該保
持面を洗浄することを特徴とする請求項１６に記載の露
光装置。 - 【請求項１８】 前記洗浄部材が前記保持面上に接触し
ているときに、前記ステージは、前記所定の駆動領域内
を前記第１方向又は第２方向に等速移動することを特徴
とする請求項１６又は１７に記載の露光装置。 - 【請求項１９】 前記洗浄手段は、前記保持面上の前記
物体としての基板が所定枚数以上取り替えられると、前
記洗浄動作を行うことを特徴とする請求項１６〜１８の
何れか一項に記載の露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23006992A JP3378274B2 (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 保持部材の洗浄方法、保持装置、及び露光装置 |
| US08/283,829 US5559582A (en) | 1992-08-28 | 1994-08-01 | Exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23006992A JP3378274B2 (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 保持部材の洗浄方法、保持装置、及び露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0677113A JPH0677113A (ja) | 1994-03-18 |
| JP3378274B2 true JP3378274B2 (ja) | 2003-02-17 |
Family
ID=16902059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23006992A Expired - Fee Related JP3378274B2 (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 保持部材の洗浄方法、保持装置、及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3378274B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5099476B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2012-12-19 | 株式会社ニコン | 清掃装置及び清掃システム、パターン形成装置、清掃方法及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| JP5018249B2 (ja) * | 2007-06-04 | 2012-09-05 | 株式会社ニコン | クリーニング装置、クリーニング方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
| TWI417980B (zh) * | 2009-02-04 | 2013-12-01 | Hoya Corp | 載台清潔器、描繪裝置及基板處理裝置 |
| JP7316100B2 (ja) * | 2019-05-29 | 2023-07-27 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
-
1992
- 1992-08-28 JP JP23006992A patent/JP3378274B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0677113A (ja) | 1994-03-18 |
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