JP3370576B2 - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
- Publication number
- JP3370576B2 JP3370576B2 JP27753497A JP27753497A JP3370576B2 JP 3370576 B2 JP3370576 B2 JP 3370576B2 JP 27753497 A JP27753497 A JP 27753497A JP 27753497 A JP27753497 A JP 27753497A JP 3370576 B2 JP3370576 B2 JP 3370576B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- activated carbon
- ultrapure water
- treated
- organic matter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims description 204
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims description 204
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 185
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 662
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 544
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 236
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims description 163
- 244000005700 microbiome Species 0.000 claims description 134
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 claims description 90
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 claims description 80
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 42
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims description 34
- 238000005273 aeration Methods 0.000 claims description 25
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 25
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 claims description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 15
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 10
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 7
- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 2
- 150000002897 organic nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 58
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 38
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 33
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 30
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 29
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 24
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 24
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 15
- MMDJDBSEMBIJBB-UHFFFAOYSA-N [O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[NH6+3] Chemical compound [O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[NH6+3] MMDJDBSEMBIJBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 14
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 12
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 12
- 238000011001 backwashing Methods 0.000 description 10
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 9
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 8
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 8
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 6
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 6
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006065 biodegradation reaction Methods 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 4
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 4
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 4
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009296 electrodeionization Methods 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 3
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 3
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 239000003011 anion exchange membrane Substances 0.000 description 2
- 230000000975 bioactive effect Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 1
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010815 organic waste Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000035755 proliferation Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
- C02F3/30—Aerobic and anaerobic processes
- C02F3/302—Nitrification and denitrification treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
- C02F3/30—Aerobic and anaerobic processes
- C02F3/301—Aerobic and anaerobic treatment in the same reactor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/28—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption
- C02F1/283—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption using coal, charred products, or inorganic mixtures containing them
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
- C02F1/441—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
- C02F3/006—Regulation methods for biological treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
- C02F3/30—Aerobic and anaerobic processes
- C02F3/302—Nitrification and denitrification treatment
- C02F3/305—Nitrification and denitrification treatment characterised by the denitrification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/469—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/38—Organic compounds containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
- C02F2103/04—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/20—Total organic carbon [TOC]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/40—Liquid flow rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
- C02F3/02—Aerobic processes
- C02F3/10—Packings; Fillings; Grids
- C02F3/105—Characterized by the chemical composition
- C02F3/106—Carbonaceous materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S210/00—Liquid purification or separation
- Y10S210/90—Ultra pure water, e.g. conductivity water
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Biological Treatment Of Waste Water (AREA)
- Purification Treatments By Anaerobic Or Anaerobic And Aerobic Bacteria Or Animals (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、超純水製造装置
に関し、特に、ＴＯＣ(Total Organic Carbon)および導
電率の低い超純水を製造できる超純水製造装置に関す
る。
に関し、特に、ＴＯＣ(Total Organic Carbon)および導
電率の低い超純水を製造できる超純水製造装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工場における超純水に対する
要求水質は、半導体素子の微細化の進展と共に厳しくな
ってきている。特に６４Ｍビット−ＤＲＡＭ(ダイナミ
ック・ランダム・アクセスメモリ)以上の集積度の半導体
素子を製造する工場においては、超純水におけるＴＯＣ
を１ppb(Parts Par billion)以下まで低減させている。
要求水質は、半導体素子の微細化の進展と共に厳しくな
ってきている。特に６４Ｍビット−ＤＲＡＭ(ダイナミ
ック・ランダム・アクセスメモリ)以上の集積度の半導体
素子を製造する工場においては、超純水におけるＴＯＣ
を１ppb(Parts Par billion)以下まで低減させている。
【０００３】一般に、超純水製造装置は、前処理装置と
１次純水製造装置と２次純水製造装置から構成される。
そして、上記前処理装置は、凝集沈殿や凝集濾過や凝集
加圧浮上等の物理化学処理方法を採用している。このよ
うな前処理装置の具体例を図１６に示す。図１６(a)お
よび図１６(b)に示す前処理装置は、共に化学物理処理
である凝集と濾過による方法を採用しており、被処理水
中の濁質処理を主目的とした前処理装置である。したが
って、図１６に示す前処理装置は、ＴＯＣ上昇の原因と
なる有機窒素化合物を効果的に処理できる処理装置であ
るとは言い難い。
１次純水製造装置と２次純水製造装置から構成される。
そして、上記前処理装置は、凝集沈殿や凝集濾過や凝集
加圧浮上等の物理化学処理方法を採用している。このよ
うな前処理装置の具体例を図１６に示す。図１６(a)お
よび図１６(b)に示す前処理装置は、共に化学物理処理
である凝集と濾過による方法を採用しており、被処理水
中の濁質処理を主目的とした前処理装置である。したが
って、図１６に示す前処理装置は、ＴＯＣ上昇の原因と
なる有機窒素化合物を効果的に処理できる処理装置であ
るとは言い難い。
【０００４】また、上記１次純水製造装置としては、逆
浸透膜装置やイオン交換樹脂装置や赤外線殺菌装置を組
み合わせた装置がある。また、上記２次純水製造装置と
しては、紫外線酸化装置やイオン交換樹脂装置や限外濾
過膜装置等で構成したものがある。
浸透膜装置やイオン交換樹脂装置や赤外線殺菌装置を組
み合わせた装置がある。また、上記２次純水製造装置と
しては、紫外線酸化装置やイオン交換樹脂装置や限外濾
過膜装置等で構成したものがある。
【０００５】最近の研究によれば、超純水中の残存ＴＯ
Ｃは、原水由来の有機窒素化合物が原因していることが
判明している。ここで、上記「原水」とは、工業用水や地
下水等を意味する。また、これに対して飲料水や水道水
は「市水」と言う。
Ｃは、原水由来の有機窒素化合物が原因していることが
判明している。ここで、上記「原水」とは、工業用水や地
下水等を意味する。また、これに対して飲料水や水道水
は「市水」と言う。
【０００６】ところで、一般的に、被処理水中において
ＴＯＣを高める要因となる炭素化合物や有機窒素化合物
等を処理する方法としては、上述のように、逆浸透膜装
置や特殊なイオン交換樹脂装置や紫外線酸化装置等を使
用する。ところが、超純水中のＴＯＣが１ppb以下であ
る水質が要求される最近では、上述の一般的な有機物処
理装置に付け加えて、好気性の微生物を利用した生物処
理方法を適用する前処理装置も開発されている(特開平
６−６３５９２号公報)。
ＴＯＣを高める要因となる炭素化合物や有機窒素化合物
等を処理する方法としては、上述のように、逆浸透膜装
置や特殊なイオン交換樹脂装置や紫外線酸化装置等を使
用する。ところが、超純水中のＴＯＣが１ppb以下であ
る水質が要求される最近では、上述の一般的な有機物処
理装置に付け加えて、好気性の微生物を利用した生物処
理方法を適用する前処理装置も開発されている(特開平
６−６３５９２号公報)。
【０００７】また、水質源に対する意識の高まりから、
原水としての市水,工水,地下水等を無限に使用するので
はなく、排水を回収して再利用する超純水製造装置も多
く提案されている。例えば、有機溶剤としてのＩＰＡ
(イソプロピルアルコール)やアセトンを数ppm含有した
排水を原水に混合し、有機窒素化合物を生物処理する超
純水の製造方法が提案されている(特開平６−２３３９
９７号公報)。この超純水製造方法では、被処理水中の
有機窒素化合物を前処理装置で生物処理によって処理し
た後、１次純水製造装置と２次純水製造装置とによって
順次処理し、最終的にＴＯＣが１ppb以下の超純水を得
ている。尚、上記前処理装置における生物処理には、好
気性微生物を利用すると共に、充填材として活性炭を用
い、尿素を代表とする有機窒素化合物を処理している。
原水としての市水,工水,地下水等を無限に使用するので
はなく、排水を回収して再利用する超純水製造装置も多
く提案されている。例えば、有機溶剤としてのＩＰＡ
(イソプロピルアルコール)やアセトンを数ppm含有した
排水を原水に混合し、有機窒素化合物を生物処理する超
純水の製造方法が提案されている(特開平６−２３３９
９７号公報)。この超純水製造方法では、被処理水中の
有機窒素化合物を前処理装置で生物処理によって処理し
た後、１次純水製造装置と２次純水製造装置とによって
順次処理し、最終的にＴＯＣが１ppb以下の超純水を得
ている。尚、上記前処理装置における生物処理には、好
気性微生物を利用すると共に、充填材として活性炭を用
い、尿素を代表とする有機窒素化合物を処理している。
【０００８】また、微生物を用いて前処理を行う超純水
製造装置として、図１７に示すようなものがある。この
超純水製造装置では、工業用水と回収水とを原水として
受水槽１に導入する。そして、３時間以上の滞留時間を
経て、送水ポンプ２によって上向流式生物分解装置３に
導入する。この上向流式生物分解装置３には、活性炭等
が充填されて好気性微生物が繁殖している。上向流式生
物分解装置３からの被処理水は曝気槽４に導入される。
そして、散気管５から吐き出される曝気空気によって曝
気される。尚、曝気槽４内の一部の被処理水は、曝気槽
ポンプ６によって上向流式生物分解装置３に返送されて
循環する。また、上記曝気槽４内の別の一部の被処理水
は、ポンプピット７に導入されて、送水ポンプ８によっ
て、分離膜装置９および１次純水製造装置１０に順次送
水する。
製造装置として、図１７に示すようなものがある。この
超純水製造装置では、工業用水と回収水とを原水として
受水槽１に導入する。そして、３時間以上の滞留時間を
経て、送水ポンプ２によって上向流式生物分解装置３に
導入する。この上向流式生物分解装置３には、活性炭等
が充填されて好気性微生物が繁殖している。上向流式生
物分解装置３からの被処理水は曝気槽４に導入される。
そして、散気管５から吐き出される曝気空気によって曝
気される。尚、曝気槽４内の一部の被処理水は、曝気槽
ポンプ６によって上向流式生物分解装置３に返送されて
循環する。また、上記曝気槽４内の別の一部の被処理水
は、ポンプピット７に導入されて、送水ポンプ８によっ
て、分離膜装置９および１次純水製造装置１０に順次送
水する。
【０００９】また、前処理装置に嫌気性微生物と好気性
微生物との生物処理を利用した超純水製造装置として、
図１８および図１９に示すようなものがある。この超純
水製造装置においては、嫌気有機物処理部１１,２１の
上部に好気有機物処理部１２,２２を配置している。そ
して、充填材として木炭１３,２３を充填し、嫌気性微
生物および好気性微生物を繁殖させている。尚、１４,
２４はプラスチック製充填物であり、１５,２５は塩化
ビニリデンであり、１６,２８は膜分離槽である。ま
た、２６は過酸化水素酸化槽であり、２７は過酸化水素
分解槽である。
微生物との生物処理を利用した超純水製造装置として、
図１８および図１９に示すようなものがある。この超純
水製造装置においては、嫌気有機物処理部１１,２１の
上部に好気有機物処理部１２,２２を配置している。そ
して、充填材として木炭１３,２３を充填し、嫌気性微
生物および好気性微生物を繁殖させている。尚、１４,
２４はプラスチック製充填物であり、１５,２５は塩化
ビニリデンであり、１６,２８は膜分離槽である。ま
た、２６は過酸化水素酸化槽であり、２７は過酸化水素
分解槽である。
【００１０】上述したように、超純水製造装置は、前処
理装置と１次純水製造装置と２次純水製造装置から構成
される。そして、一般に、上記１次純水製造装置は、逆
浸透(ＲＯ)膜装置やイオン交換樹脂装置や紫外線殺菌装
置等を組み合わせて構成されている。また、上記２次純
水製造装置は、紫外線酸化装置やイオン交換樹脂装置や
限外濾過膜装置等から構成されている。
理装置と１次純水製造装置と２次純水製造装置から構成
される。そして、一般に、上記１次純水製造装置は、逆
浸透(ＲＯ)膜装置やイオン交換樹脂装置や紫外線殺菌装
置等を組み合わせて構成されている。また、上記２次純
水製造装置は、紫外線酸化装置やイオン交換樹脂装置や
限外濾過膜装置等から構成されている。
【００１１】上記１次純水製造装置におけるイオン交換
樹脂装置は、被処理水中のイオンをイオン交換樹脂で交
換するものである。そして、一定時間が経過した後、塩
酸や苛性ソーダによって再生することによって、再びイ
オン交換機能を回復させるのである。その場合の再生時
には、薬品として鉱酸(塩酸や硫酸)あるいは苛性ソーダ
が必要であり、イオンが濃縮された再生排水が発生す
る。この再生排水は、イオン交換樹脂を鉱酸で再生すれ
ば酸排水が発生する一方、苛性ソーダで再生すればアル
カリ排水が発生する。何れの排水も中和処理等の排水処
理を必要とし、そのための排水設備が必要となる。ま
た、鉱酸や苛性ソーダを貯留するためのタンクや移送の
ためのポンプや配管も必要となる。
樹脂装置は、被処理水中のイオンをイオン交換樹脂で交
換するものである。そして、一定時間が経過した後、塩
酸や苛性ソーダによって再生することによって、再びイ
オン交換機能を回復させるのである。その場合の再生時
には、薬品として鉱酸(塩酸や硫酸)あるいは苛性ソーダ
が必要であり、イオンが濃縮された再生排水が発生す
る。この再生排水は、イオン交換樹脂を鉱酸で再生すれ
ば酸排水が発生する一方、苛性ソーダで再生すればアル
カリ排水が発生する。何れの排水も中和処理等の排水処
理を必要とし、そのための排水設備が必要となる。ま
た、鉱酸や苛性ソーダを貯留するためのタンクや移送の
ためのポンプや配管も必要となる。
【００１２】そこで、最近、小スペースとコスト低減の
観点から、イオン交換樹脂の再生薬品や再生設備のよう
に超純水製造には直接関係のない薬品や再生設備の設置
を不要とする電気脱イオン装置が注目され始めている。
観点から、イオン交換樹脂の再生薬品や再生設備のよう
に超純水製造には直接関係のない薬品や再生設備の設置
を不要とする電気脱イオン装置が注目され始めている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の超純水の製造方法や超純水製造装置には、以下のよ
うな問題がある。
来の超純水の製造方法や超純水製造装置には、以下のよ
うな問題がある。
【００１４】先ず、図１７に示す超純水製造装置では、
前処理に好気性微生物を使用しているので炭素化合物や
有機窒素化合物の低下は期待できる。ところが、嫌気性
微生物を使用していないので、有機窒素化合物に由来す
る硝酸性窒素を還元して窒素ガスに処理する機能はな
い。したがって、処理水の導電率を低減することは全く
できないという問題がある。また、上向流式生物分解装
置３は上向流式であるために、充填材としての活性炭が
流動して、活性炭に繁殖した微生物が剥離するという問
題がある。そのために、流れ出した微生物を遮断する限
外濾過膜等の分離膜装置が必要となり、イニシャルコス
トが掛かる。
前処理に好気性微生物を使用しているので炭素化合物や
有機窒素化合物の低下は期待できる。ところが、嫌気性
微生物を使用していないので、有機窒素化合物に由来す
る硝酸性窒素を還元して窒素ガスに処理する機能はな
い。したがって、処理水の導電率を低減することは全く
できないという問題がある。また、上向流式生物分解装
置３は上向流式であるために、充填材としての活性炭が
流動して、活性炭に繁殖した微生物が剥離するという問
題がある。そのために、流れ出した微生物を遮断する限
外濾過膜等の分離膜装置が必要となり、イニシャルコス
トが掛かる。
【００１５】また、上記特開平６−６３５９２号公報に
開示された超純水製造装置や、特開平６−２３３９９７
号公報に開示された超純水の製造方法においては、上述
のように、充填材として活性炭を用いた生物処理の場合
には、回収水を原水に合流させたときに、被処理水中の
ＴＯＣが１００ppm程度に達して、好気性微生物が急激
に繁殖して活性炭の部分が微生物の異常繁殖によって急
激に閉塞する場合がある。特に、ＩＰＡやアセトンに起
因する微生物の異常繁殖に対しては、活性炭を頻繁な逆
洗によって洗浄しても上記閉塞の抑制効果は少ないとい
う問題がある。また、ＴＯＣが特に高くない条件下であ
っても、活性炭の被充填装置が上向流であるために活性
炭が流動することによって活性炭に繁殖した微生物が剥
がれてしまう。そこで、流れ出した微生物を遮断する限
外濾過膜装置あるいは精密濾過膜分離装置を設けている
が、この限外濾過膜装置あるいは精密濾過膜分離装置が
閉塞してしまうという問題がある。
開示された超純水製造装置や、特開平６−２３３９９７
号公報に開示された超純水の製造方法においては、上述
のように、充填材として活性炭を用いた生物処理の場合
には、回収水を原水に合流させたときに、被処理水中の
ＴＯＣが１００ppm程度に達して、好気性微生物が急激
に繁殖して活性炭の部分が微生物の異常繁殖によって急
激に閉塞する場合がある。特に、ＩＰＡやアセトンに起
因する微生物の異常繁殖に対しては、活性炭を頻繁な逆
洗によって洗浄しても上記閉塞の抑制効果は少ないとい
う問題がある。また、ＴＯＣが特に高くない条件下であ
っても、活性炭の被充填装置が上向流であるために活性
炭が流動することによって活性炭に繁殖した微生物が剥
がれてしまう。そこで、流れ出した微生物を遮断する限
外濾過膜装置あるいは精密濾過膜分離装置を設けている
が、この限外濾過膜装置あるいは精密濾過膜分離装置が
閉塞してしまうという問題がある。
【００１６】さらに、上記前処理装置に使用されている
上向流式微生物分解装置における被処理水の滞留時間は
被処理水のＴＯＣ濃度の桁が大きくなれば、極端に長く
なるために、装置サイズでの対応が困難である。つま
り、水質確保ができないという問題もある。
上向流式微生物分解装置における被処理水の滞留時間は
被処理水のＴＯＣ濃度の桁が大きくなれば、極端に長く
なるために、装置サイズでの対応が困難である。つま
り、水質確保ができないという問題もある。
【００１７】また、生物処理手段と化学的酸化手段とを
有する前処理装置を備えた超純水製造装置が提案されて
いる(特開平７−２８４７９９号公報)。この超純水製造
装置の場合には、前処理装置において化学的酸化手段を
用いているのでＴＯＣをより低減できるのではあるが、
生物処理手段も併用しているために、被処理水としてＴ
ＯＣが１００ppm程度の低濃度有機排水が導入された場
合には、異常繁殖した微生物が後段の限外濾過膜装置や
精密濾過膜分離装置を閉塞してしまうという問題があ
る。
有する前処理装置を備えた超純水製造装置が提案されて
いる(特開平７−２８４７９９号公報)。この超純水製造
装置の場合には、前処理装置において化学的酸化手段を
用いているのでＴＯＣをより低減できるのではあるが、
生物処理手段も併用しているために、被処理水としてＴ
ＯＣが１００ppm程度の低濃度有機排水が導入された場
合には、異常繁殖した微生物が後段の限外濾過膜装置や
精密濾過膜分離装置を閉塞してしまうという問題があ
る。
【００１８】また、図１８および図１９に示す前処理装
置に嫌気性微生物と好気性微生物との生物処理を利用し
た超純水製造装置においては、充填材として活性炭より
大きい木炭１３,２３を用いるために、被処理水として
ＴＯＣが１００ppm程度の低濃度有機排水が導入された
場合の微生物による閉塞や上向流での流動による微生物
の剥がれが少なく、より安定した生物膜が形成される。
ところが、嫌気有機物処理部１１,２１の上部に好気有
機物処理部１２,２２を配置しているので、処理槽の高
さが相当高くなるという問題がある。また、被処理水中
の炭素化合物や有機窒素化合物に関して活性炭よりも吸
着能力の低い木炭１３,２３を使用しているので、超純
水製造装置の前処理装置としてはＴＯＣの除去率が低い
という問題もある。
置に嫌気性微生物と好気性微生物との生物処理を利用し
た超純水製造装置においては、充填材として活性炭より
大きい木炭１３,２３を用いるために、被処理水として
ＴＯＣが１００ppm程度の低濃度有機排水が導入された
場合の微生物による閉塞や上向流での流動による微生物
の剥がれが少なく、より安定した生物膜が形成される。
ところが、嫌気有機物処理部１１,２１の上部に好気有
機物処理部１２,２２を配置しているので、処理槽の高
さが相当高くなるという問題がある。また、被処理水中
の炭素化合物や有機窒素化合物に関して活性炭よりも吸
着能力の低い木炭１３,２３を使用しているので、超純
水製造装置の前処理装置としてはＴＯＣの除去率が低い
という問題もある。
【００１９】さらに、微生物の固定化担体を木炭１３,
２３とすることによって固定化担体の流動とそれに伴う
微生物の剥離をある程度は少なくできる。ところが、上
記被処理水の流れが上向流と下向流であるために、木炭
１３,２３の流動を完全に押さえて微生物の剥離を無く
すことはできないのである。
２３とすることによって固定化担体の流動とそれに伴う
微生物の剥離をある程度は少なくできる。ところが、上
記被処理水の流れが上向流と下向流であるために、木炭
１３,２３の流動を完全に押さえて微生物の剥離を無く
すことはできないのである。
【００２０】また、上記電気脱イオン装置は、上述のよ
うに、イオン交換樹脂装置のようなの超純水製造に直接
関係のない薬品や再生設備の設置を不要とするという利
点を有しているため超純水の製造に際してメリットがあ
り、今後市場が拡大する可能性がある。ところが、上記
電気脱イオン装置を１次純水製造装置として用いるに
は、上記電気脱イオン装置の利点を生かすために、電気
脱イオン装置の脱イオン機能を低下させるイオン以外の
有機物,溶存ガス等を前処理装置で確実に処理する必要
がある。ここで、上記イオンとはＮa,Ｃａ,Ｍｇ,Ｃl，
ＳＯ4等の解離イオンのみならず、ＣＯ2,ＳiＯ2のよう
な弱イオン化した成分をも意味している。
うに、イオン交換樹脂装置のようなの超純水製造に直接
関係のない薬品や再生設備の設置を不要とするという利
点を有しているため超純水の製造に際してメリットがあ
り、今後市場が拡大する可能性がある。ところが、上記
電気脱イオン装置を１次純水製造装置として用いるに
は、上記電気脱イオン装置の利点を生かすために、電気
脱イオン装置の脱イオン機能を低下させるイオン以外の
有機物,溶存ガス等を前処理装置で確実に処理する必要
がある。ここで、上記イオンとはＮa,Ｃａ,Ｍｇ,Ｃl，
ＳＯ4等の解離イオンのみならず、ＣＯ2,ＳiＯ2のよう
な弱イオン化した成分をも意味している。
【００２１】一般に、上記電気脱イオン装置は、逆浸透
膜装置の後に設置され、かつ有機物含有量の尺度となる
ＴＯＣ濃度が２ppm以下で比較的水質のよい市水等が対
象となる。したがって、市水よりも水質の悪い原水を処
理する場合には、電気脱イオン装置を含む超純水製造装
置においては、当然ながら電気脱イオン装置の前段に逆
浸透膜装置を必要とし、さらに逆浸透膜装置の前段に限
外濾過装置が必要となる。したがって、イニシャルコス
トおよびランニングコストが掛かるという問題がある。
膜装置の後に設置され、かつ有機物含有量の尺度となる
ＴＯＣ濃度が２ppm以下で比較的水質のよい市水等が対
象となる。したがって、市水よりも水質の悪い原水を処
理する場合には、電気脱イオン装置を含む超純水製造装
置においては、当然ながら電気脱イオン装置の前段に逆
浸透膜装置を必要とし、さらに逆浸透膜装置の前段に限
外濾過装置が必要となる。したがって、イニシャルコス
トおよびランニングコストが掛かるという問題がある。
【００２２】そこで、この発明の目的は、電気脱イオン
装置を利用でき、ＴＯＣ濃度が０.５ppb以下の超純水を
製造できる超純水製造装置を提供することにある。
装置を利用でき、ＴＯＣ濃度が０.５ppb以下の超純水を
製造できる超純水製造装置を提供することにある。
【００２３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に係る発明は、原水の前処理装置と１次純
水製造装置と２次純水製造装置を有する超純水製造装置
において、上記前処理装置は、水槽を仕切り壁で仕切っ
て形成されると共に,互いの底部が連通された嫌気有機
物処理室と好気有機物処理室とを有し、原水は,上記嫌
気有機物処理室に導入されるようになっており、上記嫌
気有機物処理室には,被処理水の循環流を形成する水中
撹拌手段が設置されると共に,上記循環流の下向流領域
に嫌気性微生物の固定化担体が充填されており、上記好
気有機物処理室には,被処理水の循環流を形成する曝気
手段が設置されると共に,上記循環流の下向流領域に好
気性微生物の固定化担体となる活性炭および木炭が充填
されており,上記活性炭は袋に詰められて上記木炭の上
に積層されていることを特徴としている。
め、請求項１に係る発明は、原水の前処理装置と１次純
水製造装置と２次純水製造装置を有する超純水製造装置
において、上記前処理装置は、水槽を仕切り壁で仕切っ
て形成されると共に,互いの底部が連通された嫌気有機
物処理室と好気有機物処理室とを有し、原水は,上記嫌
気有機物処理室に導入されるようになっており、上記嫌
気有機物処理室には,被処理水の循環流を形成する水中
撹拌手段が設置されると共に,上記循環流の下向流領域
に嫌気性微生物の固定化担体が充填されており、上記好
気有機物処理室には,被処理水の循環流を形成する曝気
手段が設置されると共に,上記循環流の下向流領域に好
気性微生物の固定化担体となる活性炭および木炭が充填
されており,上記活性炭は袋に詰められて上記木炭の上
に積層されていることを特徴としている。
【００２４】上記構成によれば、原水に対して嫌気生物
処理と好気生物処理との両方が行われる。したがって、
上記原水中の炭素化合物や有機窒素化合物が微生物処理
されてＴＯＣ濃度が低下する。また、上記有機窒素化合
物が好気有機物処理室において好気性微生物によって酸
化処理された際に発生する硝酸性窒素が、嫌気有機物処
理室において嫌気性微生物によって脱窒されて導電率が
低下する。こうして、好気性微生物および嫌気性微生物
によって被処理水が処理されて、１次純水製造装置や２
次純水製造装置で微生物が繁殖するための栄養源が消費
される。その結果、上記両純水製造装置において微生物
が異常繁殖することがなく、異常繁殖した微生物で上記
両純水製造装置が閉塞や汚染することがない。
処理と好気生物処理との両方が行われる。したがって、
上記原水中の炭素化合物や有機窒素化合物が微生物処理
されてＴＯＣ濃度が低下する。また、上記有機窒素化合
物が好気有機物処理室において好気性微生物によって酸
化処理された際に発生する硝酸性窒素が、嫌気有機物処
理室において嫌気性微生物によって脱窒されて導電率が
低下する。こうして、好気性微生物および嫌気性微生物
によって被処理水が処理されて、１次純水製造装置や２
次純水製造装置で微生物が繁殖するための栄養源が消費
される。その結果、上記両純水製造装置において微生物
が異常繁殖することがなく、異常繁殖した微生物で上記
両純水製造装置が閉塞や汚染することがない。
【００２５】その場合に、上記嫌気的処理や好気的処理
は、被処理水の下向流領域中において行われる。したが
って、微生物の固定化担体の流動が抑制されて、上記固
定化担体から微生物が剥離して後段に流出することが防
止される。
は、被処理水の下向流領域中において行われる。したが
って、微生物の固定化担体の流動が抑制されて、上記固
定化担体から微生物が剥離して後段に流出することが防
止される。
【００２６】さらに、上記嫌気有機物処理室における嫌
気性微生物が上記固定化担体としての活性炭と木炭とに
固定される。同様に、上記好気有機物処理室における好
気性微生物も、活性炭と木炭とに固定される。その場
合、上記木炭は上記活性炭よりは大きいために、上記水
中撹拌手段による撹拌や上記曝気手段による撹拌によっ
て流動することがなく、上記固定された微生物が剥離す
ることがない。さらに、被処理水中の炭素化合物や有機
窒素化合物に関して物理的吸着能力が高い活性炭を併用
することにより、生物処理と物理処理との併用によって
更にＴＯＣ濃度が低下する。その際に、粒状で流動し易
い上記活性炭は袋に詰められており、被処理水が強く撹
拌されても流動することがない。その結果、固定されて
いる微生物が剥離することがないのである。
気性微生物が上記固定化担体としての活性炭と木炭とに
固定される。同様に、上記好気有機物処理室における好
気性微生物も、活性炭と木炭とに固定される。その場
合、上記木炭は上記活性炭よりは大きいために、上記水
中撹拌手段による撹拌や上記曝気手段による撹拌によっ
て流動することがなく、上記固定された微生物が剥離す
ることがない。さらに、被処理水中の炭素化合物や有機
窒素化合物に関して物理的吸着能力が高い活性炭を併用
することにより、生物処理と物理処理との併用によって
更にＴＯＣ濃度が低下する。その際に、粒状で流動し易
い上記活性炭は袋に詰められており、被処理水が強く撹
拌されても流動することがない。その結果、固定されて
いる微生物が剥離することがないのである。
【００２７】また、請求項２に係る発明は、請求項１に
かかる発明の超純水製造装置において、上記木炭の充填
領域には,垂直方向に管状の網が配設されており、上記
木炭は,上記管状の網と網との間に充填されていること
を特徴としている。
かかる発明の超純水製造装置において、上記木炭の充填
領域には,垂直方向に管状の網が配設されており、上記
木炭は,上記管状の網と網との間に充填されていること
を特徴としている。
【００２８】上記構成によれば、上記備長炭は、垂直方
向に配設された管状の網と網との間に充填されているた
めに、備長炭は被処理水と均等に接触して処理を行うこ
とができ、上記微生物が異常繁殖した場合にも目詰まり
を起こすことがない。
向に配設された管状の網と網との間に充填されているた
めに、備長炭は被処理水と均等に接触して処理を行うこ
とができ、上記微生物が異常繁殖した場合にも目詰まり
を起こすことがない。
【００２９】また、請求項３に係る発明は、請求項１ま
たは請求項２に係る発明の超純水製造装置において、上
記木炭は、備長炭であることを特徴としている。
たは請求項２に係る発明の超純水製造装置において、上
記木炭は、備長炭であることを特徴としている。
【００３０】上記構成によれば、大きく、固く、比重が
１以上である備長炭を使用することによって沈降し、上
記水中撹拌手段や上記曝気手段による強い撹拌によって
も木炭が粉砕されたり流動したりすることがない。こう
して、備長炭に固定された微生物の剥離が防止されると
共に、何らかの理由で異常繁殖した微生物が大きな備長
炭の生物膜によって捕捉濾過されて、１次純水製造装置
や２次純水製造装置が閉塞することがない。したがっ
て、上記前処理装置と１次純水製造装置との間に分離膜
装置を必要とはしない。
１以上である備長炭を使用することによって沈降し、上
記水中撹拌手段や上記曝気手段による強い撹拌によって
も木炭が粉砕されたり流動したりすることがない。こう
して、備長炭に固定された微生物の剥離が防止されると
共に、何らかの理由で異常繁殖した微生物が大きな備長
炭の生物膜によって捕捉濾過されて、１次純水製造装置
や２次純水製造装置が閉塞することがない。したがっ
て、上記前処理装置と１次純水製造装置との間に分離膜
装置を必要とはしない。
【００３１】また、請求項４に係る発明は、請求項１ま
たは請求項２に係る発明の超純水製造装置において、上
記活性炭は,微生物が繁殖している生物活性炭であり、
上記木炭は,微生物が繁殖している生物活性木炭である
ことを特徴としている。
たは請求項２に係る発明の超純水製造装置において、上
記活性炭は,微生物が繁殖している生物活性炭であり、
上記木炭は,微生物が繁殖している生物活性木炭である
ことを特徴としている。
【００３２】上記構成によれば、上記活性炭及び備長炭
には微生物が繁殖しており、生物膜層が形成されてい
る。そのために、この生物膜層によって、被処理水中の
有機窒素化合物や炭素化合物が微生物分解される。さら
に、上記生物膜層が形成された活性炭や備長炭に対して
被処理水を循環させることによって、被処理水が生物濾
過される。こうして、上記活性炭及び備長炭に対する再
生作業を不要にして、低コストで簡単な方法によってＴ
ＯＣ濃度が低下する。
には微生物が繁殖しており、生物膜層が形成されてい
る。そのために、この生物膜層によって、被処理水中の
有機窒素化合物や炭素化合物が微生物分解される。さら
に、上記生物膜層が形成された活性炭や備長炭に対して
被処理水を循環させることによって、被処理水が生物濾
過される。こうして、上記活性炭及び備長炭に対する再
生作業を不要にして、低コストで簡単な方法によってＴ
ＯＣ濃度が低下する。
【００３３】また、請求項５に係る発明は、請求項１乃
至請求項４の何れか一つに係る発明の超純水製造装置に
おいて、上記嫌気有機物処理室には、半導体工場からの
低濃度有機排水を導入するようになっていることを特徴
としている。
至請求項４の何れか一つに係る発明の超純水製造装置に
おいて、上記嫌気有機物処理室には、半導体工場からの
低濃度有機排水を導入するようになっていることを特徴
としている。
【００３４】上記構成によれば、上記有機窒素化合物を
好気性微生物によって酸化処理した際に発生する硝酸性
窒素を、回収された低濃度有機排水に含まれているＩＰ
Ａやアセトンを利用して窒素ガスとして処理(一般的な
脱窒)することができ、効果的に導電率の低下が図られ
る。
好気性微生物によって酸化処理した際に発生する硝酸性
窒素を、回収された低濃度有機排水に含まれているＩＰ
Ａやアセトンを利用して窒素ガスとして処理(一般的な
脱窒)することができ、効果的に導電率の低下が図られ
る。
【００３５】また、請求項６に係る発明は、請求項１乃
至請求項５の何れか一つに係る発明の超純水製造装置に
おいて、上記水槽は、原水の受水槽であることを特徴と
している。
至請求項５の何れか一つに係る発明の超純水製造装置に
おいて、上記水槽は、原水の受水槽であることを特徴と
している。
【００３６】上記構成によれば、原水を使用する工場に
は必ず備えられている受水槽を前処理装置の水槽として
流用するので、上記前処理装置の水槽と受水槽とを兼用
して大幅なコストダウンが図られる。
は必ず備えられている受水槽を前処理装置の水槽として
流用するので、上記前処理装置の水槽と受水槽とを兼用
して大幅なコストダウンが図られる。
【００３７】また、請求項７に係る発明は、請求項１乃
至請求項６の何れか一つに係る発明の超純水製造装置に
おいて、上記前処理装置は、活性炭が充填されると共
に、上記好気有機物処理室からの被処理水を処理する活
性炭塔を有することを特徴としている。
至請求項６の何れか一つに係る発明の超純水製造装置に
おいて、上記前処理装置は、活性炭が充填されると共
に、上記好気有機物処理室からの被処理水を処理する活
性炭塔を有することを特徴としている。
【００３８】上記構成によれば、上記嫌気有機物処理室
および好気有機物処理室において微生物処理されなかっ
た残留炭素化合物や残留有機窒素化合物等が、活性炭塔
内の活性炭によって高度処理される。
および好気有機物処理室において微生物処理されなかっ
た残留炭素化合物や残留有機窒素化合物等が、活性炭塔
内の活性炭によって高度処理される。
【００３９】また、請求項８に係る発明は、請求項７に
かかる発明の超純水製造装置において、上記活性炭塔
は、生物処理を主体とした処理を行う第１活性炭塔と、
物理処理を主体とした処理を行う第２活性炭塔とで構成
されていることを特徴としている。
かかる発明の超純水製造装置において、上記活性炭塔
は、生物処理を主体とした処理を行う第１活性炭塔と、
物理処理を主体とした処理を行う第２活性炭塔とで構成
されていることを特徴としている。
【００４０】上記構成によれば、被処理水に対して、第
１活性炭塔の活性炭に繁殖した微生物による生物処理
と、第２活性炭塔の微生物が繁殖していない活性炭によ
る物理的な吸着処理とが行われる。こうして、被処理水
中の炭素化合物や有機窒素化合物等のあらゆる有機物に
対して、効果的に高度処理が行われる。その結果、後段
の１次純水製造装置や２次純水製造装置の負担が軽減さ
れる。
１活性炭塔の活性炭に繁殖した微生物による生物処理
と、第２活性炭塔の微生物が繁殖していない活性炭によ
る物理的な吸着処理とが行われる。こうして、被処理水
中の炭素化合物や有機窒素化合物等のあらゆる有機物に
対して、効果的に高度処理が行われる。その結果、後段
の１次純水製造装置や２次純水製造装置の負担が軽減さ
れる。
【００４１】また、請求項９に係る発明は、請求項８に
かかる発明の超純水製造装置において、上記第１活性炭
塔は,上記好気有機物処理室からの被処理水を処理して
上記嫌気有機物処理室に返す活性炭塔であり、上記第２
活性炭塔は,上記好気有機物処理室からの被処理水を処
理して上記１次純水製造装置に送水する活性炭塔である
ことを特徴としている。
かかる発明の超純水製造装置において、上記第１活性炭
塔は,上記好気有機物処理室からの被処理水を処理して
上記嫌気有機物処理室に返す活性炭塔であり、上記第２
活性炭塔は,上記好気有機物処理室からの被処理水を処
理して上記１次純水製造装置に送水する活性炭塔である
ことを特徴としている。
【００４２】上記構成によれば、上記好気有機物処理室
からの被処理水を上記１次純水製造装置に送水するとい
う上記前処理装置の最終段階において、微生物の繁殖が
少ない活性炭による物理的な吸着処理が行われる。こう
して、活性炭が持つ本来の物理的吸着作用のみによっ
て、炭素化合物や有機窒素化合物等のあらゆる有機物が
確実に処理された被処理水が１次純水製造装置に送水さ
れるのである。
からの被処理水を上記１次純水製造装置に送水するとい
う上記前処理装置の最終段階において、微生物の繁殖が
少ない活性炭による物理的な吸着処理が行われる。こう
して、活性炭が持つ本来の物理的吸着作用のみによっ
て、炭素化合物や有機窒素化合物等のあらゆる有機物が
確実に処理された被処理水が１次純水製造装置に送水さ
れるのである。
【００４３】また、請求項１０に係る発明は、請求項９
に係る発明の超純水製造装置において、上記１次純水製
造装置は、電気脱イオン装置を含んでいることを特徴と
している。
に係る発明の超純水製造装置において、上記１次純水製
造装置は、電気脱イオン装置を含んでいることを特徴と
している。
【００４４】上記構成によれば、原水の水質を生物処理
と物理的吸着処理によって処理し、ＴＯＣ濃度が低く、
導電率が改善された（水質が良い）、且つ安定した被処
理水が、電気脱イオン装置を含む１次純水製造装置に導
入される。したがって、イオン交換樹脂装置の様な再生
排水が発生することなく、且つ、有機物,溶存ガス等の
存在によって機能低下を起こすことなく電気脱イオン装
置が機能して、ＴＯＣが０.５ppb以下の超純水が得られ
る。
と物理的吸着処理によって処理し、ＴＯＣ濃度が低く、
導電率が改善された（水質が良い）、且つ安定した被処
理水が、電気脱イオン装置を含む１次純水製造装置に導
入される。したがって、イオン交換樹脂装置の様な再生
排水が発生することなく、且つ、有機物,溶存ガス等の
存在によって機能低下を起こすことなく電気脱イオン装
置が機能して、ＴＯＣが０.５ppb以下の超純水が得られ
る。
【００４５】また、請求項１１に係る発明は、請求項１
０にかかる発明の超純水製造装置において、上記嫌気有
機物処理室の上部に一端が接続された第１逆洗排水管
と、上記好気有機物処理室の上部に一端が接続された第
２逆洗排水管と、逆洗用ブロアと、上記嫌気性微生物の
固定化担体および好気性微生物の固定化担体の直下に設
置されて上記逆洗用ブロアからの空気を散気する散気管
を備えたことを特徴としている。
０にかかる発明の超純水製造装置において、上記嫌気有
機物処理室の上部に一端が接続された第１逆洗排水管
と、上記好気有機物処理室の上部に一端が接続された第
２逆洗排水管と、逆洗用ブロアと、上記嫌気性微生物の
固定化担体および好気性微生物の固定化担体の直下に設
置されて上記逆洗用ブロアからの空気を散気する散気管
を備えたことを特徴としている。
【００４６】上記構成によれば、上記嫌気有機物処理室
内において、被処理水中のイオンを体内に取り込んで固
定化担体表面に繁殖した嫌気性微生物が、上記固定化担
体の直下で散気管から散気される逆洗用ブロアからの空
気によって逆洗されて、上記固定化担体から剥離され
る。そして、この剥離された微生物は、両有機物処理室
の上部の夫々に一端が接続された第１,第２逆洗排水管
を介して排水される。こうして、固定化担体表面に繁殖
した嫌気性微生物が水流等によって自然剥離する前に強
制的に逆洗によって除去されることによって、１次純水
製造装置が上記自然剥離した微生物によって機能低下す
ることがない。
内において、被処理水中のイオンを体内に取り込んで固
定化担体表面に繁殖した嫌気性微生物が、上記固定化担
体の直下で散気管から散気される逆洗用ブロアからの空
気によって逆洗されて、上記固定化担体から剥離され
る。そして、この剥離された微生物は、両有機物処理室
の上部の夫々に一端が接続された第１,第２逆洗排水管
を介して排水される。こうして、固定化担体表面に繁殖
した嫌気性微生物が水流等によって自然剥離する前に強
制的に逆洗によって除去されることによって、１次純水
製造装置が上記自然剥離した微生物によって機能低下す
ることがない。
【００４７】また、請求項１２に係る発明は、請求項１
０に係る発明の超純水製造装置において、上記電気脱イ
オン装置からの濃縮されたイオンを含む濃縮水を上記嫌
気有機物処理室に導入するようになっていることを特徴
としている。
０に係る発明の超純水製造装置において、上記電気脱イ
オン装置からの濃縮されたイオンを含む濃縮水を上記嫌
気有機物処理室に導入するようになっていることを特徴
としている。
【００４８】上記構成によれば、上記電気脱イオン装置
からの濃縮水が再利用される。その場合に、上記濃縮水
中のイオンは、嫌気有機物処理室内の微生物の体内に取
り込まれて処理される。
からの濃縮水が再利用される。その場合に、上記濃縮水
中のイオンは、嫌気有機物処理室内の微生物の体内に取
り込まれて処理される。
【００４９】また、請求項１３に係る発明は、請求項１
０に係る発明の超純水製造装置において、上記電気脱イ
オン装置からの濃縮水が導入されると共に,この濃縮水
に対して脱イオン処理を行う補助電気脱イオン装置を備
えて、上記補助電気脱イオン装置からの処理水を上記嫌
気有機物処理室に導入するようになっていることを特徴
としている。
０に係る発明の超純水製造装置において、上記電気脱イ
オン装置からの濃縮水が導入されると共に,この濃縮水
に対して脱イオン処理を行う補助電気脱イオン装置を備
えて、上記補助電気脱イオン装置からの処理水を上記嫌
気有機物処理室に導入するようになっていることを特徴
としている。
【００５０】上記構成によれば、上記電気脱イオン装置
からの濃縮水は、補助電気脱イオン装置によって脱イオ
ンされた後に上記嫌気有機物処理室に導入されて再利用
される。その結果、上記嫌気有機物処理室内のイオン負
荷が低減される。
からの濃縮水は、補助電気脱イオン装置によって脱イオ
ンされた後に上記嫌気有機物処理室に導入されて再利用
される。その結果、上記嫌気有機物処理室内のイオン負
荷が低減される。
【００５１】また、請求項１４に係る発明は、請求項１
０に係る発明の超純水製造装置において、上記電気脱イ
オン装置からの濃縮水が導入されると共に,この濃縮水
に対して脱イオン処理を行う補助電気脱イオン装置と、
上記補助電気脱イオン装置からの処理水を上記第２活性
炭塔からの処理水と共に受ける処理水槽を備えたことを
特徴としている。
０に係る発明の超純水製造装置において、上記電気脱イ
オン装置からの濃縮水が導入されると共に,この濃縮水
に対して脱イオン処理を行う補助電気脱イオン装置と、
上記補助電気脱イオン装置からの処理水を上記第２活性
炭塔からの処理水と共に受ける処理水槽を備えたことを
特徴としている。
【００５２】上記構成によれば、上記電気脱イオン装置
からの濃縮水は、補助電気脱イオン装置によって脱イオ
ンされている。そのために、特に、有機物が含まれてい
ない場合には上記嫌気有機物処理室内に導入する必要は
なく、上記嫌気有機物処理室および好気有機物処理室よ
り後段の処理水槽内に上記第２活性炭塔からの処理水と
共に導入されて再利用される。その結果、上記嫌気有機
物処理室および好気有機物処理室は、上記補助電気脱イ
オン装置からの処理水分だけ小さい容積で機能できる。
からの濃縮水は、補助電気脱イオン装置によって脱イオ
ンされている。そのために、特に、有機物が含まれてい
ない場合には上記嫌気有機物処理室内に導入する必要は
なく、上記嫌気有機物処理室および好気有機物処理室よ
り後段の処理水槽内に上記第２活性炭塔からの処理水と
共に導入されて再利用される。その結果、上記嫌気有機
物処理室および好気有機物処理室は、上記補助電気脱イ
オン装置からの処理水分だけ小さい容積で機能できる。
【００５３】また、請求項１５に係る発明は、請求項９
に係る発明の超純水製造装置において、被処理水を,上
記嫌気有機物処理室と好気有機物処理室と第１活性炭塔
とを循環させる循環手段を備えたことを特徴としてい
る。
に係る発明の超純水製造装置において、被処理水を,上
記嫌気有機物処理室と好気有機物処理室と第１活性炭塔
とを循環させる循環手段を備えたことを特徴としてい
る。
【００５４】上記構成によれば、被処理水が上記嫌気有
機物処理室と好気有機物処理室と第１活性炭塔とを何回
も循環することによって、上記嫌気有機物処理室と好気
有機物処理室と第１活性炭塔との１回通過によって十分
に炭素化合物や有機窒素化合物等の処理が行われない時
に効果がある。更に、上記第１活性炭塔内を被処理水が
早い流速で循環することによって、上記第１活性炭塔内
の溶存酸素をある程度(１ppm以上)維持でき、第１活性
炭塔内の活性炭が生物活性炭となる。さらに、上記好気
有機物処理室において好気性微生物による有機窒素化合
物の酸化処理によってできた硝酸性窒素が、上記嫌気有
機物処理室に戻されることによって脱窒されて、導電率
が低下する。
機物処理室と好気有機物処理室と第１活性炭塔とを何回
も循環することによって、上記嫌気有機物処理室と好気
有機物処理室と第１活性炭塔との１回通過によって十分
に炭素化合物や有機窒素化合物等の処理が行われない時
に効果がある。更に、上記第１活性炭塔内を被処理水が
早い流速で循環することによって、上記第１活性炭塔内
の溶存酸素をある程度(１ppm以上)維持でき、第１活性
炭塔内の活性炭が生物活性炭となる。さらに、上記好気
有機物処理室において好気性微生物による有機窒素化合
物の酸化処理によってできた硝酸性窒素が、上記嫌気有
機物処理室に戻されることによって脱窒されて、導電率
が低下する。
【００５５】また、請求項１６に係る発明は、請求項１
５に係る発明の超純水製造装置において、上記第２活性
炭塔からの被処理水のＴＯＣを計測し,この計測したＴ
ＯＣを表す信号を出力するＴＯＣ計と、上記ＴＯＣ計か
らの信号に基づいて上記水中撹拌手段の回転数,上記曝
気手段の曝気量および上記循環手段による循環量の少な
くとも一つ、または、それぞれを組み合わせて制御する
ＴＯＣ制御手段を備えたことを特徴としている。
５に係る発明の超純水製造装置において、上記第２活性
炭塔からの被処理水のＴＯＣを計測し,この計測したＴ
ＯＣを表す信号を出力するＴＯＣ計と、上記ＴＯＣ計か
らの信号に基づいて上記水中撹拌手段の回転数,上記曝
気手段の曝気量および上記循環手段による循環量の少な
くとも一つ、または、それぞれを組み合わせて制御する
ＴＯＣ制御手段を備えたことを特徴としている。
【００５６】上記構成によれば、仮に炭素化合物や有機
窒素化合物が急に増えて水質が悪化しても、ＴＯＣ計か
らの信号に基づいて、上記水中撹拌手段の回転数増加、
上記曝気手段の曝気量増加、および、上記循環手段によ
る循環量増加の少なくとも１つ、または、それぞれを組
み合わせて実行されて、炭素化合物や有機窒素化合物の
処理能力が高められる。
窒素化合物が急に増えて水質が悪化しても、ＴＯＣ計か
らの信号に基づいて、上記水中撹拌手段の回転数増加、
上記曝気手段の曝気量増加、および、上記循環手段によ
る循環量増加の少なくとも１つ、または、それぞれを組
み合わせて実行されて、炭素化合物や有機窒素化合物の
処理能力が高められる。
【００５７】
【発明の実施の形態】以下、この発明を図示の実施の形
態により詳細に説明する。 ＜第１実施の形態＞ 図１は、本実施の形態の超純水製造装置における構成図
である。この超純水製造装置では、原水として、工業用
水,市水および地下水の何れか、あるいは、それらを組
み合わせて導入する。この工業用水,市水および地下水
は、有機窒素化合物を含む全有機物を含有している。ま
た、上記原水と共に導入される回収水を、半導体工場か
らのＴＯＣが１００ppm以下の低濃度有機排水とする。
態により詳細に説明する。 ＜第１実施の形態＞ 図１は、本実施の形態の超純水製造装置における構成図
である。この超純水製造装置では、原水として、工業用
水,市水および地下水の何れか、あるいは、それらを組
み合わせて導入する。この工業用水,市水および地下水
は、有機窒素化合物を含む全有機物を含有している。ま
た、上記原水と共に導入される回収水を、半導体工場か
らのＴＯＣが１００ppm以下の低濃度有機排水とする。
【００５８】上記原水および回収水が導入される第１水
槽３１と、第１水槽３１中の被処理水を活性炭を通して
循環させる循環用活性炭塔３２と、第１水槽３１中の被
処理水を活性炭を通して第２水槽３４に送水する送水用
活性炭塔３３と上記第２水槽３４で前処理装置を概略構
成する。さらに、この前処理装置と、１次純水製造装置
３５および２次純水製造装置３６とで、超純水製造装置
を構成している。そして、２次純水製造装置３６からの
超純水は半導体工場３７において使用され、排水が回収
水として前処理装置の第１水槽３１に導入される。
槽３１と、第１水槽３１中の被処理水を活性炭を通して
循環させる循環用活性炭塔３２と、第１水槽３１中の被
処理水を活性炭を通して第２水槽３４に送水する送水用
活性炭塔３３と上記第２水槽３４で前処理装置を概略構
成する。さらに、この前処理装置と、１次純水製造装置
３５および２次純水製造装置３６とで、超純水製造装置
を構成している。そして、２次純水製造装置３６からの
超純水は半導体工場３７において使用され、排水が回収
水として前処理装置の第１水槽３１に導入される。
【００５９】上記第１水槽３１は、仕切り壁３８によっ
て、底部を除いて嫌気有機物処理室３９と好気有機物処
理室４０とに仕切られており、嫌気有機物処理室３９と
好気有機物処理室４０とは底部で連通している。そし
て、上記原水と回収水とは嫌気有機物処理室３９に上方
から導入される。
て、底部を除いて嫌気有機物処理室３９と好気有機物処
理室４０とに仕切られており、嫌気有機物処理室３９と
好気有機物処理室４０とは底部で連通している。そし
て、上記原水と回収水とは嫌気有機物処理室３９に上方
から導入される。
【００６０】上記嫌気有機物処理室３９の中央底には水
中撹拌機４１が設けられ、この水中撹拌機４１を囲んで
円筒状の水流ドラフト４２が設けられている。こうし
て、嫌気有機物処理室３９全体を酸素の供給なしに効率
良く撹拌するようにしている。そして、水流ドラフト４
２と嫌気有機物処理室４０の外周壁との間には、上部に
活性炭が充填された活性炭袋４３が２段に配置され、そ
の下には大量の備長炭４４を充填している。但し、備長
炭４４は、嫌気有機物処理室４０内を水が下向きにスム
ーズに流れることができるように一定の間隔をおいて上
下方向に設置された管状ネットと管状ネットとの間に充
填される。ここで、管状ネット４５は、矩形のネットの
両側を張り合わせて筒状にしたものである。
中撹拌機４１が設けられ、この水中撹拌機４１を囲んで
円筒状の水流ドラフト４２が設けられている。こうし
て、嫌気有機物処理室３９全体を酸素の供給なしに効率
良く撹拌するようにしている。そして、水流ドラフト４
２と嫌気有機物処理室４０の外周壁との間には、上部に
活性炭が充填された活性炭袋４３が２段に配置され、そ
の下には大量の備長炭４４を充填している。但し、備長
炭４４は、嫌気有機物処理室４０内を水が下向きにスム
ーズに流れることができるように一定の間隔をおいて上
下方向に設置された管状ネットと管状ネットとの間に充
填される。ここで、管状ネット４５は、矩形のネットの
両側を張り合わせて筒状にしたものである。
【００６１】尚、上記活性炭を袋に充填して活性炭袋４
３としているのは、活性炭粒子そのものは備長炭４４よ
りも小さく、袋に入れないと嫌気有機物処理室４０の下
方に落下してしまうためである。上記袋としては耐久性
があれば特に限定するものではなく、本実施の形態では
ナイロンを使用している。また、本実施の形態において
は、活性炭袋４３を２段積みとしているが、これに限定
するのもではない。但し、余り多く積載すると、ＴＯＣ
の高い被処理水が流入して微生物が異常繁殖した場合に
は、閉塞してしまう可能性があるので数段が好ましい。
活性炭袋４３の容量は２０リットル程度であれば容易に
人手で設置することができる。
３としているのは、活性炭粒子そのものは備長炭４４よ
りも小さく、袋に入れないと嫌気有機物処理室４０の下
方に落下してしまうためである。上記袋としては耐久性
があれば特に限定するものではなく、本実施の形態では
ナイロンを使用している。また、本実施の形態において
は、活性炭袋４３を２段積みとしているが、これに限定
するのもではない。但し、余り多く積載すると、ＴＯＣ
の高い被処理水が流入して微生物が異常繁殖した場合に
は、閉塞してしまう可能性があるので数段が好ましい。
活性炭袋４３の容量は２０リットル程度であれば容易に
人手で設置することができる。
【００６２】上述のように、上記嫌気有機物処理室３９
においては、水中撹拌機４１による機械撹拌によって酸
素の混入を防いで嫌気状態に保っている。これに対し
て、好気有機物処理室４０においては、底部に設置され
た散気管４７によってブロア４６からの空気を被処理水
中に放出し、この空気の上昇流によって被処理水を撹拌
するエアーリフトによって好気状態に保っている。
においては、水中撹拌機４１による機械撹拌によって酸
素の混入を防いで嫌気状態に保っている。これに対し
て、好気有機物処理室４０においては、底部に設置され
た散気管４７によってブロア４６からの空気を被処理水
中に放出し、この空気の上昇流によって被処理水を撹拌
するエアーリフトによって好気状態に保っている。
【００６３】この好気有機物処理室４０は、分離壁４８
によってエアーリフト部分と充填材とに仕切られてお
り、エアーリフト部分の下部に散気管４７が設置され
て、効率よく循環流が発生するようになっている。そし
て、エアーリフト部分の上端部には水流壁４９が設置さ
れて、上昇した水流の方向を変えて効率良く循環させる
ようにしている。
によってエアーリフト部分と充填材とに仕切られてお
り、エアーリフト部分の下部に散気管４７が設置され
て、効率よく循環流が発生するようになっている。そし
て、エアーリフト部分の上端部には水流壁４９が設置さ
れて、上昇した水流の方向を変えて効率良く循環させる
ようにしている。
【００６４】また、上記好気有機物処理室４０における
上記エアーリフト部分と仕切り壁３８との間には、嫌気
有機物処理室３９の場合と同様に、上部に活性炭が充填
された活性炭袋４３を２段に配置し、その下の管状ネッ
トと管状ネットとの間には大量の備長炭４４を充填して
いる。
上記エアーリフト部分と仕切り壁３８との間には、嫌気
有機物処理室３９の場合と同様に、上部に活性炭が充填
された活性炭袋４３を２段に配置し、その下の管状ネッ
トと管状ネットとの間には大量の備長炭４４を充填して
いる。
【００６５】ここで、上記管状ネット４５は設置しなく
とも差し支えないが、設置した場合には次にような利点
がある。 原水のＴＯＣが急激に上昇して微生物が異
常繁殖した場合の目詰まりを防止できる。 管状ネッ
ト４５には水が流れ易いために、管状ネット４５を中心
に周囲の充填物を巻き込んで、全体に均等に循環水流が
生ずる。したがって、被処理水が全体の充填物と均等に
接触して処理される。これに対して、管状ネット４５が
無い場合には、備長炭４４は天然産物で不定形であるた
めに、部分的に充填密度が高くなって循環水流が流れに
くい場所が生ずることもある。
とも差し支えないが、設置した場合には次にような利点
がある。 原水のＴＯＣが急激に上昇して微生物が異
常繁殖した場合の目詰まりを防止できる。 管状ネッ
ト４５には水が流れ易いために、管状ネット４５を中心
に周囲の充填物を巻き込んで、全体に均等に循環水流が
生ずる。したがって、被処理水が全体の充填物と均等に
接触して処理される。これに対して、管状ネット４５が
無い場合には、備長炭４４は天然産物で不定形であるた
めに、部分的に充填密度が高くなって循環水流が流れに
くい場所が生ずることもある。
【００６６】上記嫌気有機物処理室３９および好気有機
物処理室４０中における活性炭袋４３および備長炭４４
の充填領域の水流は、上部より下部に向かっている。し
たがって、活性炭袋４３中の比重が１よりやや大きい活
性炭や備長炭４４は、下方に向かって水流によって押し
付けられて固定され、流動することがない。したがっ
て、上向流の場合のように、活性炭の流動によって微生
物が活性炭から剥離することがない。
物処理室４０中における活性炭袋４３および備長炭４４
の充填領域の水流は、上部より下部に向かっている。し
たがって、活性炭袋４３中の比重が１よりやや大きい活
性炭や備長炭４４は、下方に向かって水流によって押し
付けられて固定され、流動することがない。したがっ
て、上向流の場合のように、活性炭の流動によって微生
物が活性炭から剥離することがない。
【００６７】上記活性炭袋４３中の活性炭や備長炭４４
は、多数の細孔を有する多孔体であり、各孔の径は数ミ
クロンから数百ミクロンまで各種ある。したがって、上
記活性炭や備長炭４４の多種の孔に応じた多種多様の微
生物が繁殖し易く、上記活性炭や備長炭４４の内部には
生物膜層が形成される。そして、この生物膜層によっ
て、被処理水中の炭素化合物や有機窒素化合物等が微生
物分解されるのである。さらに、上記生物膜層が形成さ
れた活性炭や備長炭４４に対して被処理水を循環させる
ことによって、被処理水が生物濾過される。すなわち、
ＴＯＣや浮遊物質(ＳＳ)が低下するのである。
は、多数の細孔を有する多孔体であり、各孔の径は数ミ
クロンから数百ミクロンまで各種ある。したがって、上
記活性炭や備長炭４４の多種の孔に応じた多種多様の微
生物が繁殖し易く、上記活性炭や備長炭４４の内部には
生物膜層が形成される。そして、この生物膜層によっ
て、被処理水中の炭素化合物や有機窒素化合物等が微生
物分解されるのである。さらに、上記生物膜層が形成さ
れた活性炭や備長炭４４に対して被処理水を循環させる
ことによって、被処理水が生物濾過される。すなわち、
ＴＯＣや浮遊物質(ＳＳ)が低下するのである。
【００６８】上記嫌気有機物処理室３９及び好気有機物
処理室４０内の備長炭４４は、強い水流や強い曝気によ
って粉砕されることはない。この備長炭４４は、日本古
来の木炭であり、広葉樹であるウバメガシの白炭であ
る。上記白炭とは、約１０００℃前後で炭化させた木炭
であり、高温炭化木炭として位置付けられている。尚、
本実施の形態において充填する備長炭４４としては、被
処理水との接触を良くして、何らかの理由で微生物が異
常繁殖した際に閉塞しないように、直径が４cm〜６cm
で、長さが５cm以上の備長炭を選定する。また、備長炭
４４の表面には、上述のように生物膜層が形成されてい
る。したがって、通常運転時において浮遊している微生
物を上記生物膜層によって捕捉濾過できる。さらに、Ｔ
ＯＣが１００ppm程度の高い原水が導入されて微生物が
異常繁殖した場合にも、上記生物膜層によって大部分の
微生物を捕捉濾過できる。したがって、次段の循環用活
性炭塔３２あるいは送水用活性炭塔３３の目詰まりを防
止できるのである。
処理室４０内の備長炭４４は、強い水流や強い曝気によ
って粉砕されることはない。この備長炭４４は、日本古
来の木炭であり、広葉樹であるウバメガシの白炭であ
る。上記白炭とは、約１０００℃前後で炭化させた木炭
であり、高温炭化木炭として位置付けられている。尚、
本実施の形態において充填する備長炭４４としては、被
処理水との接触を良くして、何らかの理由で微生物が異
常繁殖した際に閉塞しないように、直径が４cm〜６cm
で、長さが５cm以上の備長炭を選定する。また、備長炭
４４の表面には、上述のように生物膜層が形成されてい
る。したがって、通常運転時において浮遊している微生
物を上記生物膜層によって捕捉濾過できる。さらに、Ｔ
ＯＣが１００ppm程度の高い原水が導入されて微生物が
異常繁殖した場合にも、上記生物膜層によって大部分の
微生物を捕捉濾過できる。したがって、次段の循環用活
性炭塔３２あるいは送水用活性炭塔３３の目詰まりを防
止できるのである。
【００６９】上記好気有機物処理室４０からの被処理水
の一部は、共通のサクションヘッダ管５０から活性炭塔
循環ポンプ５１によって循環配管５２を介して循環用活
性炭塔３２に送水される。それと同時に、サクションヘ
ッダ管５０からの残りの被処理水は、活性炭塔送水ポン
プ５３によって送水配管５４を介して送水用活性炭塔３
３に送水される。そして、循環用活性炭塔３２に送水さ
れた被処理水は、再び第１水槽３１の嫌気有機物処理室
３９に導入される。こうして、第１水槽３１と循環用活
性炭塔３２との間で被処理水が循環処理されるのであ
る。
の一部は、共通のサクションヘッダ管５０から活性炭塔
循環ポンプ５１によって循環配管５２を介して循環用活
性炭塔３２に送水される。それと同時に、サクションヘ
ッダ管５０からの残りの被処理水は、活性炭塔送水ポン
プ５３によって送水配管５４を介して送水用活性炭塔３
３に送水される。そして、循環用活性炭塔３２に送水さ
れた被処理水は、再び第１水槽３１の嫌気有機物処理室
３９に導入される。こうして、第１水槽３１と循環用活
性炭塔３２との間で被処理水が循環処理されるのであ
る。
【００７０】上記送水用活性炭塔３３に送水された被処
理水は第２水槽３４に導入される。この第２水槽３４
は、送水用活性炭塔３３からの被処理水をポンプ５７に
よって１次純水製造装置３５に容易に供給するための水
槽である。この場合、上記送水用活性炭塔３３からの被
処理水を直接１次純水製造装置３５に送水することも考
えるが、実質的には活性炭塔送水ポンプ５３の揚程不足
により不可能である。したがって、一旦第２水槽３４に
よって被処理水を受けて、１次純水製造装置送水用のポ
ンプ５７で１次純水製造装置３５に送水するのである。
理水は第２水槽３４に導入される。この第２水槽３４
は、送水用活性炭塔３３からの被処理水をポンプ５７に
よって１次純水製造装置３５に容易に供給するための水
槽である。この場合、上記送水用活性炭塔３３からの被
処理水を直接１次純水製造装置３５に送水することも考
えるが、実質的には活性炭塔送水ポンプ５３の揚程不足
により不可能である。したがって、一旦第２水槽３４に
よって被処理水を受けて、１次純水製造装置送水用のポ
ンプ５７で１次純水製造装置３５に送水するのである。
【００７１】また、上記第２水槽３４には、被処理水の
ＴＯＣを計測してＴＯＣを表す電気信号を出力するＴＯ
Ｃ計５５が設置されており、ＴＯＣ計５５からの信号は
調節計５６に送出される。そうすると、調節計５６は、
第２水槽３４中の被処理水のＴＯＣに応じた調節信号を
活性炭塔循環ポンプ５１,ブロア４６および水中撹拌機
４１に出力して、活性炭塔循環ポンプ５１の吐出量,ブ
ロア４６の吹き出し量および水中撹拌機４１の回転数を
インバータ制御する。
ＴＯＣを計測してＴＯＣを表す電気信号を出力するＴＯ
Ｃ計５５が設置されており、ＴＯＣ計５５からの信号は
調節計５６に送出される。そうすると、調節計５６は、
第２水槽３４中の被処理水のＴＯＣに応じた調節信号を
活性炭塔循環ポンプ５１,ブロア４６および水中撹拌機
４１に出力して、活性炭塔循環ポンプ５１の吐出量,ブ
ロア４６の吹き出し量および水中撹拌機４１の回転数を
インバータ制御する。
【００７２】ところで、上記循環用活性炭塔３２への送
水は、循環用活性炭塔３２内の活性炭１ｍ3当たり２ｍ3
/時間以上であり、流量が速いので循環用活性炭塔３２
内の溶存酸素が１ppm以上確保されて、活性炭に好気性
微生物が繁殖して生物活性炭になっている。一方、送水
用活性炭塔３３への送水は、送水用活性炭塔３３内の活
性炭１ｍ3当たり１ｍ3/時間以下であり、流速が遅いの
で、送水用活性炭塔３３の上部では好気性微生物は繁殖
するものの、送水用活性炭塔３３全体では活性炭に微生
物は余り繁殖しない。したがって、活性炭が本来持って
いる物理的吸着機能が生物処理機能よりも大部分とな
り、送水用活性炭塔３３内では物理的吸着機能主体の処
理となる。そして、この送水用活性炭塔３３を炭素化合
物処理の仕上げとして使用することによって、上記物理
的吸着機能によって被処理水がゆっくり確実に処理され
て、炭素化合物の除去率が高められるのである。
水は、循環用活性炭塔３２内の活性炭１ｍ3当たり２ｍ3
/時間以上であり、流量が速いので循環用活性炭塔３２
内の溶存酸素が１ppm以上確保されて、活性炭に好気性
微生物が繁殖して生物活性炭になっている。一方、送水
用活性炭塔３３への送水は、送水用活性炭塔３３内の活
性炭１ｍ3当たり１ｍ3/時間以下であり、流速が遅いの
で、送水用活性炭塔３３の上部では好気性微生物は繁殖
するものの、送水用活性炭塔３３全体では活性炭に微生
物は余り繁殖しない。したがって、活性炭が本来持って
いる物理的吸着機能が生物処理機能よりも大部分とな
り、送水用活性炭塔３３内では物理的吸着機能主体の処
理となる。そして、この送水用活性炭塔３３を炭素化合
物処理の仕上げとして使用することによって、上記物理
的吸着機能によって被処理水がゆっくり確実に処理され
て、炭素化合物の除去率が高められるのである。
【００７３】上記第２水槽３４からの被処理水は、ポン
プ５７によって、逆浸透膜装置やイオン交換樹脂装置や
紫外線殺菌器等を組み合わせた１次純水製造装置３５に
送水される。また、１次純水製造装置３５からの被処理
水は、紫外線酸化装置やイオン交換樹脂装置や限外濾過
膜装置等で構成される２次純水製造装置３６に送水さ
れ、この２次純水製造装置３６によって最終的な超純水
が得られるのである。この超純水は半導体工場３７に送
水されて各種の生産装置で使用される。そして、生産装
置からの排水でＩＰＡやアセトンを含む１００ppm以下
の低濃度有機排水は、原水と混合されて第１水槽３１の
嫌気有機処理部３９に導入される。そうすると、原水中
の有機窒素化合物が好気性微生物によって酸化されてで
きる硝酸性窒素を嫌気性微生物によって還元して窒素ガ
スにする脱窒処理が、上記回収水中のＩＰＡやアセトン
等の水素供給体の性質を利用して有効に行われるのであ
る。
プ５７によって、逆浸透膜装置やイオン交換樹脂装置や
紫外線殺菌器等を組み合わせた１次純水製造装置３５に
送水される。また、１次純水製造装置３５からの被処理
水は、紫外線酸化装置やイオン交換樹脂装置や限外濾過
膜装置等で構成される２次純水製造装置３６に送水さ
れ、この２次純水製造装置３６によって最終的な超純水
が得られるのである。この超純水は半導体工場３７に送
水されて各種の生産装置で使用される。そして、生産装
置からの排水でＩＰＡやアセトンを含む１００ppm以下
の低濃度有機排水は、原水と混合されて第１水槽３１の
嫌気有機処理部３９に導入される。そうすると、原水中
の有機窒素化合物が好気性微生物によって酸化されてで
きる硝酸性窒素を嫌気性微生物によって還元して窒素ガ
スにする脱窒処理が、上記回収水中のＩＰＡやアセトン
等の水素供給体の性質を利用して有効に行われるのであ
る。
【００７４】上記構成の超純水製造装置は、以下のよう
に動作する。原水は、上記半導体工場３７からの回収水
(低濃度有機排水)と共に第１水槽３１の嫌気有機物処理
室３９に導入される。そして、活性炭塔循環ポンプ５１
の動作によって、被処理水は嫌気有機物処理室３９→好
気有機物処理室４０→循環用活性炭塔３２→嫌気有機物
処理室３９→…と循環される。そして、この被処理水の
循環中において、以下の処理が行われて被処理水のＴＯ
Ｃと導電率との低下が図られるのである。 (１) 嫌気有機物処理室３９および好気有機物処理室４
０において、被処理水中の炭素化合物が、嫌気性微生物
と好気性微生物とによって生物処理される。また、活性
炭袋４３中の活性炭と備長炭４４とによって物理的に吸
着処理される。 (２) 特に、好気有機物処理室４０において、好気性微
生物によって、有機窒素化合物が酸化処理されて硝酸性
窒素になる。 (３) 循環用活性炭塔３２において、残留炭素化合物お
よび残留有機窒素化合物等が、生物活性炭によって生物
処理(高度処理)される。 (４) 嫌気有機物処理室３９において、嫌気性微生物に
よって、(２)でできた硝酸性窒素が、上記回収水中のＩ
ＰＡやアセトンの存在下で窒素ガスとなって脱窒され、
導電率の低下が図られる。
に動作する。原水は、上記半導体工場３７からの回収水
(低濃度有機排水)と共に第１水槽３１の嫌気有機物処理
室３９に導入される。そして、活性炭塔循環ポンプ５１
の動作によって、被処理水は嫌気有機物処理室３９→好
気有機物処理室４０→循環用活性炭塔３２→嫌気有機物
処理室３９→…と循環される。そして、この被処理水の
循環中において、以下の処理が行われて被処理水のＴＯ
Ｃと導電率との低下が図られるのである。 (１) 嫌気有機物処理室３９および好気有機物処理室４
０において、被処理水中の炭素化合物が、嫌気性微生物
と好気性微生物とによって生物処理される。また、活性
炭袋４３中の活性炭と備長炭４４とによって物理的に吸
着処理される。 (２) 特に、好気有機物処理室４０において、好気性微
生物によって、有機窒素化合物が酸化処理されて硝酸性
窒素になる。 (３) 循環用活性炭塔３２において、残留炭素化合物お
よび残留有機窒素化合物等が、生物活性炭によって生物
処理(高度処理)される。 (４) 嫌気有機物処理室３９において、嫌気性微生物に
よって、(２)でできた硝酸性窒素が、上記回収水中のＩ
ＰＡやアセトンの存在下で窒素ガスとなって脱窒され、
導電率の低下が図られる。
【００７５】そして、上記活性炭塔送水ポンプ５３によ
って、好気有機物処理室４０からの被処理水が送水用活
性炭塔３３に送水され、非生物活性炭による物理的吸着
処理によって、微生物分解できなかった有機窒素化合物
等に対する高度処理が行われる。
って、好気有機物処理室４０からの被処理水が送水用活
性炭塔３３に送水され、非生物活性炭による物理的吸着
処理によって、微生物分解できなかった有機窒素化合物
等に対する高度処理が行われる。
【００７６】こうして、上記ＴＯＣと導電率との低下が
図られ、高度処理が行われた後の被処理水は、ポンプ５
７によって１次純水製造装置３５と２次純水製造装置３
６とに順次送水される。そして、２次純水製造装置３６
から最終的な超純水が得られるのである。
図られ、高度処理が行われた後の被処理水は、ポンプ５
７によって１次純水製造装置３５と２次純水製造装置３
６とに順次送水される。そして、２次純水製造装置３６
から最終的な超純水が得られるのである。
【００７７】このように、本実施の形態においては、超
純水製造装置を構成する前処理装置に、仕切り壁３８に
よって、底部を除いて、原水と回収水とが導入される嫌
気有機物処理室３９と好気有機物処理室４０とに仕切ら
れた第１水槽３１を設けている。そして、嫌気有機物処
理室３９および好気有機物処理室４０の上部には、活性
炭が充填された活性炭袋４３を２段に配置し、その下に
は大量の備長炭４４を充填している。また、嫌気有機物
処理室３９では無曝気撹拌を行う一方、好気有機物処理
室４０では曝気撹拌を行う。したがって、嫌気有機物処
理室３９における活性炭袋４３中の活性炭や備長炭４４
には嫌気性微生物が繁殖する一方、好気有機物処理室４
０における活性炭袋４３中の活性炭や備長炭４４には好
気性微生物が繁殖する。その結果、被処理水中の嫌気性
微生物および好気性微生物の両微生物の栄養源(ＩＰＡ
やアセトンや有機窒素化合物等の有機物)が消費(処理)
されて、以後の工程において上記両微生物が繁殖し難い
処理水を得ることができる。
純水製造装置を構成する前処理装置に、仕切り壁３８に
よって、底部を除いて、原水と回収水とが導入される嫌
気有機物処理室３９と好気有機物処理室４０とに仕切ら
れた第１水槽３１を設けている。そして、嫌気有機物処
理室３９および好気有機物処理室４０の上部には、活性
炭が充填された活性炭袋４３を２段に配置し、その下に
は大量の備長炭４４を充填している。また、嫌気有機物
処理室３９では無曝気撹拌を行う一方、好気有機物処理
室４０では曝気撹拌を行う。したがって、嫌気有機物処
理室３９における活性炭袋４３中の活性炭や備長炭４４
には嫌気性微生物が繁殖する一方、好気有機物処理室４
０における活性炭袋４３中の活性炭や備長炭４４には好
気性微生物が繁殖する。その結果、被処理水中の嫌気性
微生物および好気性微生物の両微生物の栄養源(ＩＰＡ
やアセトンや有機窒素化合物等の有機物)が消費(処理)
されて、以後の工程において上記両微生物が繁殖し難い
処理水を得ることができる。
【００７８】さらに、上記好気有機物処理室４０中の好
気性微生物によって、原水中の有機窒素化合物が酸化処
理されてＴＯＣが低減される。また、嫌気有機物処理室
３９中の嫌気性微生物によって、上記有機窒素化合物が
好気性微生物によって酸化されて生じた硝酸性窒素が窒
素ガスとなって脱窒処理されて、処理水の導電率が低減
されるのである。ここで、嫌気有機物処理室３９と好気
有機物処理室４０とは併設されているので、図１８およ
び図１９に示す前処理装置のように上下に配置した場合
よりも第１水槽３１の高を低くできる。
気性微生物によって、原水中の有機窒素化合物が酸化処
理されてＴＯＣが低減される。また、嫌気有機物処理室
３９中の嫌気性微生物によって、上記有機窒素化合物が
好気性微生物によって酸化されて生じた硝酸性窒素が窒
素ガスとなって脱窒処理されて、処理水の導電率が低減
されるのである。ここで、嫌気有機物処理室３９と好気
有機物処理室４０とは併設されているので、図１８およ
び図１９に示す前処理装置のように上下に配置した場合
よりも第１水槽３１の高を低くできる。
【００７９】また、上記第１水槽３１における好気有機
物処理室４０からの被処理水は、活性炭循環ポンプ５１
によって循環用活性炭塔３２に送水し、この循環用活性
炭塔３２を通過して嫌気性有機物処理室３９に戻すよう
になっている。したがって、循環用活性炭塔３２内の生
物活性炭によって、被処理水中における微生物分解でき
なかった炭素化合物や有機窒素化合物に対する高度処理
を行うことができ、更なるＴＯＣの低減を行うことがで
きる。
物処理室４０からの被処理水は、活性炭循環ポンプ５１
によって循環用活性炭塔３２に送水し、この循環用活性
炭塔３２を通過して嫌気性有機物処理室３９に戻すよう
になっている。したがって、循環用活性炭塔３２内の生
物活性炭によって、被処理水中における微生物分解でき
なかった炭素化合物や有機窒素化合物に対する高度処理
を行うことができ、更なるＴＯＣの低減を行うことがで
きる。
【００８０】また、上記好気有機物処理室４０からの被
処理水は、活性炭塔送水ポンプ５３によって送水用活性
炭塔３３に送水し、この送水用活性炭塔３３を通過して
第２水槽３４に送水するようになっている。したがっ
て、送水用活性炭塔３３内の活性炭による物理的な吸着
によって、被処理水中における微生物分解できなかった
炭素化合物や有機窒素化合物に対する高度処理のみなら
ず、生物分解できなかった各種の成分を確実に処理し
て、次工程への有機物負荷を極力低減することができ
る。その結果、第２水槽３４からの被処理水を１次純水
製造装置３５および２次純水製造装置３６で処理して得
られる処理水のＴＯＣを、０.５ppb以下にすることがで
きるのである。
処理水は、活性炭塔送水ポンプ５３によって送水用活性
炭塔３３に送水し、この送水用活性炭塔３３を通過して
第２水槽３４に送水するようになっている。したがっ
て、送水用活性炭塔３３内の活性炭による物理的な吸着
によって、被処理水中における微生物分解できなかった
炭素化合物や有機窒素化合物に対する高度処理のみなら
ず、生物分解できなかった各種の成分を確実に処理し
て、次工程への有機物負荷を極力低減することができ
る。その結果、第２水槽３４からの被処理水を１次純水
製造装置３５および２次純水製造装置３６で処理して得
られる処理水のＴＯＣを、０.５ppb以下にすることがで
きるのである。
【００８１】また、上記第１水槽３１における嫌気有機
物処理室３９と好気有機物処理室４０とには、その上部
に、活性炭が充填された活性炭袋４３を２段に配置し、
その下には大量の備長炭４４(直径が４cm〜６cm、長さ
が５cm以上)を充填している。そして、嫌気有機物処理
室３９内には水中撹拌機４１を設ける一方、好気有機物
処理室４０にはブロア４６に接続された散気管４７を設
けている。したがって、何らかの理由で第１水槽３１内
で微生物が異常繁殖した場合には、上記活性炭および備
長炭４４に形成された生物膜層によって大部分の微生物
を捕捉濾過して、循環用活性炭塔３２や送水用活性炭塔
３３等の目詰まりを防止できる。また、活性炭４３と備
長炭４４とを併用することによって、図１８および図１
９に示す前処理装置のように木炭のみを使用した場合よ
りもＴＯＣを低くできるのである。さらに、上記備長炭
４４は、水がスムーズに流れることができるように一定
の間隔をおいて上下方向に設置された管状ネット４５と
管状ネットとの間に充填している。したがって、何らか
の理由で微生物が異常繁殖した際の閉塞が防止できるの
である。
物処理室３９と好気有機物処理室４０とには、その上部
に、活性炭が充填された活性炭袋４３を２段に配置し、
その下には大量の備長炭４４(直径が４cm〜６cm、長さ
が５cm以上)を充填している。そして、嫌気有機物処理
室３９内には水中撹拌機４１を設ける一方、好気有機物
処理室４０にはブロア４６に接続された散気管４７を設
けている。したがって、何らかの理由で第１水槽３１内
で微生物が異常繁殖した場合には、上記活性炭および備
長炭４４に形成された生物膜層によって大部分の微生物
を捕捉濾過して、循環用活性炭塔３２や送水用活性炭塔
３３等の目詰まりを防止できる。また、活性炭４３と備
長炭４４とを併用することによって、図１８および図１
９に示す前処理装置のように木炭のみを使用した場合よ
りもＴＯＣを低くできるのである。さらに、上記備長炭
４４は、水がスムーズに流れることができるように一定
の間隔をおいて上下方向に設置された管状ネット４５と
管状ネットとの間に充填している。したがって、何らか
の理由で微生物が異常繁殖した際の閉塞が防止できるの
である。
【００８２】尚、上記活性炭袋４３および備長炭４４
は、上記嫌気有機物処理室３９および好気有機物処理室
４０における下向流の領域に充填されている。そのため
に、活性炭袋４３内の活性炭や備長炭４４は、下方に向
かって水流によって押し付けられて固定され、流動する
ことがない。したがって、活性炭や備長炭４４の流動に
よって微生物が活性炭から剥離することがない。
は、上記嫌気有機物処理室３９および好気有機物処理室
４０における下向流の領域に充填されている。そのため
に、活性炭袋４３内の活性炭や備長炭４４は、下方に向
かって水流によって押し付けられて固定され、流動する
ことがない。したがって、活性炭や備長炭４４の流動に
よって微生物が活性炭から剥離することがない。
【００８３】また、上記実施の形態においては、上記送
水用活性炭塔３３からの被処理水が導入される第２水槽
３４に、被処理水のＴＯＣを計測するＴＯＣ計５５を設
置している。そして、ＴＯＣ計５５からのＴＯＣを表す
信号に基づいて、活性炭塔循環ポンプ５１の吐出量,ブ
ロア４６の吹き出し量および水中撹拌機４１の回転数を
インバータ制御するようにしている。したがって、仮に
流入水の水質が悪化してＴＯＣが上昇した場合には、第
１水槽３１と循環用活性炭塔３２との被処理水の循環量
を多くし、撹拌量を多くして、ＴＯＣの更なる低下処理
が行われる。すなわち、上記実施の形態によれば、処理
水の水質が確保でき、超純水処理装置置全体の信頼性を
高めることができるのである。
水用活性炭塔３３からの被処理水が導入される第２水槽
３４に、被処理水のＴＯＣを計測するＴＯＣ計５５を設
置している。そして、ＴＯＣ計５５からのＴＯＣを表す
信号に基づいて、活性炭塔循環ポンプ５１の吐出量,ブ
ロア４６の吹き出し量および水中撹拌機４１の回転数を
インバータ制御するようにしている。したがって、仮に
流入水の水質が悪化してＴＯＣが上昇した場合には、第
１水槽３１と循環用活性炭塔３２との被処理水の循環量
を多くし、撹拌量を多くして、ＴＯＣの更なる低下処理
が行われる。すなわち、上記実施の形態によれば、処理
水の水質が確保でき、超純水処理装置置全体の信頼性を
高めることができるのである。
【００８４】また、上記実施の形態においては、半導体
工場３７からの低濃度有機排水を回収水として原水に合
流させて上記嫌気有機物処理室３９に導入するようにし
ている。したがって、嫌気有機物処理室３９中の嫌気性
微生物によって、原水の有機窒素化合物が好気性微生物
によって酸化されて生じた硝酸性窒素が脱窒処理される
場合に、上記低濃度有機排水中のＩＰＡやアセトンを有
効に利用することができ、被処理水中に有機窒素化合物
が多い場合でも速やかに処理して導電率の低下を図るこ
とができる。
工場３７からの低濃度有機排水を回収水として原水に合
流させて上記嫌気有機物処理室３９に導入するようにし
ている。したがって、嫌気有機物処理室３９中の嫌気性
微生物によって、原水の有機窒素化合物が好気性微生物
によって酸化されて生じた硝酸性窒素が脱窒処理される
場合に、上記低濃度有機排水中のＩＰＡやアセトンを有
効に利用することができ、被処理水中に有機窒素化合物
が多い場合でも速やかに処理して導電率の低下を図るこ
とができる。
【００８５】すなわち、本実施の形態によれば、何らか
の原因による水質の変動(例えば、ＴＯＣの急激な上昇)
に対応することができ、ＴＯＣが０.５ppb以下であって
導電率が低い超純水を製造することができるのである。
の原因による水質の変動(例えば、ＴＯＣの急激な上昇)
に対応することができ、ＴＯＣが０.５ppb以下であって
導電率が低い超純水を製造することができるのである。
【００８６】尚、上記実施の形態においては、上記第１
水槽３１として、原水を使用する工場には必ず設置され
ている受水槽を利用することによって、コストの低減を
図ることができる。
水槽３１として、原水を使用する工場には必ず設置され
ている受水槽を利用することによって、コストの低減を
図ることができる。
【００８７】また、上述したように、上記備長炭４４内
を水がスムーズに流れることができるように一定の間隔
をおいて上下方向に設置された管状ネット４５,４５,…
は、必ずしも設置しなくとも差し支えない。図２は、図
１に示す超純水製造装置から管状ネット４５,４５,…を
削除した超純水製造装置の構成図である。このように第
１水槽３１内に管状ネット４５がない場合には、管状ネ
ット４５の体積分だけ備長炭４４を多く充填できるの
で、被処理水の処理効率が高められる。特に、原水の水
質や低濃度有機排水の水質がよい場合には微生物の繁殖
による閉塞は起こり難いので、かえって管状ネット４５
が無い方が好ましい。
を水がスムーズに流れることができるように一定の間隔
をおいて上下方向に設置された管状ネット４５,４５,…
は、必ずしも設置しなくとも差し支えない。図２は、図
１に示す超純水製造装置から管状ネット４５,４５,…を
削除した超純水製造装置の構成図である。このように第
１水槽３１内に管状ネット４５がない場合には、管状ネ
ット４５の体積分だけ備長炭４４を多く充填できるの
で、被処理水の処理効率が高められる。特に、原水の水
質や低濃度有機排水の水質がよい場合には微生物の繁殖
による閉塞は起こり難いので、かえって管状ネット４５
が無い方が好ましい。
【００８８】また、上記実施の形態においては、上記第
１水槽３１に備長炭４４を充填しているが、通常の木炭
を充填しても大きさと固さを選ぶことによって、備長炭
４４と略同じ効果を得ることができる。
１水槽３１に備長炭４４を充填しているが、通常の木炭
を充填しても大きさと固さを選ぶことによって、備長炭
４４と略同じ効果を得ることができる。
【００８９】また、上記実施の形態においては、上記Ｔ
ＯＣ計５５からのＴＯＣを表す信号に基づいて、活性炭
塔循環ポンプ５１の吐出量,ブロア４６の吹き出し量お
よび水中撹拌機４１の回転数の総てをインバータ制御す
るようにしている。しかしながら、この発明はこれに限
定されるものではなく、活性炭塔循環ポンプ５１の吐出
量,ブロア４６の吹き出し量および水中撹拌機４１の回
転数の少なくとも一つ、または、それぞれを組み合わせ
て制御すればよい。
ＯＣ計５５からのＴＯＣを表す信号に基づいて、活性炭
塔循環ポンプ５１の吐出量,ブロア４６の吹き出し量お
よび水中撹拌機４１の回転数の総てをインバータ制御す
るようにしている。しかしながら、この発明はこれに限
定されるものではなく、活性炭塔循環ポンプ５１の吐出
量,ブロア４６の吹き出し量および水中撹拌機４１の回
転数の少なくとも一つ、または、それぞれを組み合わせ
て制御すればよい。
【００９０】＜第２実施の形態＞
図３は、本実施の形態の超純水製造装置における構成図
である。この超純水製造装置は、図１に示す第１実施の
形態の超純水製造装置における半導体工場３７からの回
収水の導入を行わない構成を有している。
である。この超純水製造装置は、図１に示す第１実施の
形態の超純水製造装置における半導体工場３７からの回
収水の導入を行わない構成を有している。
【００９１】第１水槽６１,循環用活性炭塔６２,送水用
活性炭塔６３,第２水槽６４,１次純水製造装置６５,２
次純水製造装置６６および半導体工場６７は、図１に示
した第１水槽３１,循環用活性炭塔３２,送水用活性炭塔
３３,第２水槽３４,１次純水製造装置３５,２次純水製
造装置３６および半導体工場３７と同様の構成を有し
て、同様に動作する。また、第１実施の形態の場合と同
様に、上記第２水槽６４に設置されたＴＯＣ計６８から
の信号に基づく調節計６９からの調節信号に基づいて、
活性炭塔循環ポンプ７０の吐出量,ブロア７１の吹き出
し量および水中撹拌機７２の回転数がインバータ制御さ
れる。
活性炭塔６３,第２水槽６４,１次純水製造装置６５,２
次純水製造装置６６および半導体工場６７は、図１に示
した第１水槽３１,循環用活性炭塔３２,送水用活性炭塔
３３,第２水槽３４,１次純水製造装置３５,２次純水製
造装置３６および半導体工場３７と同様の構成を有し
て、同様に動作する。また、第１実施の形態の場合と同
様に、上記第２水槽６４に設置されたＴＯＣ計６８から
の信号に基づく調節計６９からの調節信号に基づいて、
活性炭塔循環ポンプ７０の吐出量,ブロア７１の吹き出
し量および水中撹拌機７２の回転数がインバータ制御さ
れる。
【００９２】本実施の形態においては、上述したよう
に、上記半導体工場６７からの回収水は第１水槽６１の
嫌気有機物処理室に導入されない。したがって、好気性
微生物による有機窒素化合物処理時に生ずる硝酸性窒素
を嫌気性微生物によって脱窒処理する場合に、半導体工
場６７からの低濃度有機排水中のＩＰＡやアセトンを利
用できない。すなわち、被処理水中に有機窒素化合物が
多い場合における脱窒性能は、第１実施の形態に比較し
て悪い。しかしながら、第１水槽６１における被処理水
の滞留時間を長くすること等によって、被処理水中の有
機窒素化合物が少ない場合等にはある程度対処できる。
したがって、原水中の有機窒素化合物が少ない場合に適
用可能であって、ＴＯＣおよび導電率の低い超純水を製
造できる超純水製造装置を低コストで提供できるのであ
る。
に、上記半導体工場６７からの回収水は第１水槽６１の
嫌気有機物処理室に導入されない。したがって、好気性
微生物による有機窒素化合物処理時に生ずる硝酸性窒素
を嫌気性微生物によって脱窒処理する場合に、半導体工
場６７からの低濃度有機排水中のＩＰＡやアセトンを利
用できない。すなわち、被処理水中に有機窒素化合物が
多い場合における脱窒性能は、第１実施の形態に比較し
て悪い。しかしながら、第１水槽６１における被処理水
の滞留時間を長くすること等によって、被処理水中の有
機窒素化合物が少ない場合等にはある程度対処できる。
したがって、原水中の有機窒素化合物が少ない場合に適
用可能であって、ＴＯＣおよび導電率の低い超純水を製
造できる超純水製造装置を低コストで提供できるのであ
る。
【００９３】＜第３実施の形態＞
図４は、本実施の形態の超純水製造装置における構成図
である。この超純水製造装置は、図１に示す第１実施の
形態の超純水製造装置における循環用活性炭塔３２を除
去した構成を有している。
である。この超純水製造装置は、図１に示す第１実施の
形態の超純水製造装置における循環用活性炭塔３２を除
去した構成を有している。
【００９４】第１水槽８１,送水用活性炭塔８３,第２水
槽８４,１次純水製造装置８５,２次純水製造装置８６お
よび半導体工場８７は、図１に示した第１水槽３１,送
水用活性炭塔３３,第２水槽３４,１次純水製造装置３
５,２次純水製造装置３６および半導体工場３７と同様
の構成を有して、同様に動作する。また、第１実施の形
態の場合と同様に、半導体工場８７からの低濃度有機排
水が回収水として原水と混合されて第１水槽８１の嫌気
性有機物処理室に導入される。
槽８４,１次純水製造装置８５,２次純水製造装置８６お
よび半導体工場８７は、図１に示した第１水槽３１,送
水用活性炭塔３３,第２水槽３４,１次純水製造装置３
５,２次純水製造装置３６および半導体工場３７と同様
の構成を有して、同様に動作する。また、第１実施の形
態の場合と同様に、半導体工場８７からの低濃度有機排
水が回収水として原水と混合されて第１水槽８１の嫌気
性有機物処理室に導入される。
【００９５】本実施の形態においては、上述したよう
に、循環用活性炭塔および第１水槽８１からの被処理水
の一部を上記循環用活性炭塔に送水する循環手段を有し
ていない。したがって、被処理水中のＴＯＣが急に上昇
した場合に対応できない場合が生ずる。さらに、被処理
水中のＴＯＣが急に上昇した場合には、送水用活性炭塔
８３に炭素化合物処理の負担が掛かり、場合によっては
送水用活性炭塔８３内の活性炭の取り替えが必要とな
る。
に、循環用活性炭塔および第１水槽８１からの被処理水
の一部を上記循環用活性炭塔に送水する循環手段を有し
ていない。したがって、被処理水中のＴＯＣが急に上昇
した場合に対応できない場合が生ずる。さらに、被処理
水中のＴＯＣが急に上昇した場合には、送水用活性炭塔
８３に炭素化合物処理の負担が掛かり、場合によっては
送水用活性炭塔８３内の活性炭の取り替えが必要とな
る。
【００９６】しかしながら、本実施の形態によれば、原
水のＴＯＣが比較的低く、水質が安定している場合に適
用可能であって、ＴＯＣおよび導電率の低い超純水を製
造できる超純水製造装置を低コストで提供できるのであ
る。
水のＴＯＣが比較的低く、水質が安定している場合に適
用可能であって、ＴＯＣおよび導電率の低い超純水を製
造できる超純水製造装置を低コストで提供できるのであ
る。
【００９７】尚、本実施の形態においても、第１実施の
形態と同様に、上記第２水槽８４に設置されたＴＯＣ計
８８からの信号に基づく調節計８９からの調節信号に基
づいて、ブロア９０の吹き出し量および水中撹拌機９１
の回転数がインバータ制御される。
形態と同様に、上記第２水槽８４に設置されたＴＯＣ計
８８からの信号に基づく調節計８９からの調節信号に基
づいて、ブロア９０の吹き出し量および水中撹拌機９１
の回転数がインバータ制御される。
【００９８】＜第４実施の形態＞
図５は、本実施の形態の超純水製造装置における構成図
である。この超純水製造装置は、図４に示す第３実施の
形態の超純水製造装置における半導体工場８７からの回
収水の導入を行わない構成を有している。
である。この超純水製造装置は、図４に示す第３実施の
形態の超純水製造装置における半導体工場８７からの回
収水の導入を行わない構成を有している。
【００９９】第１水槽１０１,送水用活性炭塔１０３,第
２水槽１０４,１次純水製造装置１０５,２次純水製造装
置１０６および半導体工場１０７は、図４に示した第１
水槽８１,送水用活性炭塔８３,第２水槽８４,１次純水
製造装置８５,２次純水製造装置８６および半導体工場
８７と同様の構成を有して、同様に動作する。また、第
３実施の形態の場合と同様に、上記第２水槽１０４に設
置されたＴＯＣ計１０８からの信号に基づく調節計１０
９からの調節信号に基づいて、ブロア１１０の吹き出し
量および水中撹拌機１１１の回転数がインバータ制御さ
れる。
２水槽１０４,１次純水製造装置１０５,２次純水製造装
置１０６および半導体工場１０７は、図４に示した第１
水槽８１,送水用活性炭塔８３,第２水槽８４,１次純水
製造装置８５,２次純水製造装置８６および半導体工場
８７と同様の構成を有して、同様に動作する。また、第
３実施の形態の場合と同様に、上記第２水槽１０４に設
置されたＴＯＣ計１０８からの信号に基づく調節計１０
９からの調節信号に基づいて、ブロア１１０の吹き出し
量および水中撹拌機１１１の回転数がインバータ制御さ
れる。
【０１００】本実施の形態においては、上述したよう
に、半導体工場１０７からの回収水は第１水槽１０１の
嫌気有機物処理室に導入されない。したがって、好気性
微生物による有機窒素化合物処理時に生ずる硝酸性窒素
を嫌気性微生物によって脱窒処理する場合に、半導体工
場１０７からの低濃度有機排水中のＩＰＡやアセトンを
利用できない。すなわち、被処理水中に有機窒素化合物
が多い場合における脱窒性能は、第３実施の形態に比較
して悪い。しかしながら、第１水槽１０１における被処
理水の滞留時間を長くすること等によって、被処理水中
の有機窒素化合物が少ない場合等にはある程度対処でき
る。したがって、本実施の形態によれば、原水中の有機
窒素化合物が少なく、ＴＯＣが比較的低く、水質が安定
している場合に適用可能であって、ＴＯＣおよび導電率
の低い超純水を製造できる超純水製造装置を低コストで
提供できるのである。
に、半導体工場１０７からの回収水は第１水槽１０１の
嫌気有機物処理室に導入されない。したがって、好気性
微生物による有機窒素化合物処理時に生ずる硝酸性窒素
を嫌気性微生物によって脱窒処理する場合に、半導体工
場１０７からの低濃度有機排水中のＩＰＡやアセトンを
利用できない。すなわち、被処理水中に有機窒素化合物
が多い場合における脱窒性能は、第３実施の形態に比較
して悪い。しかしながら、第１水槽１０１における被処
理水の滞留時間を長くすること等によって、被処理水中
の有機窒素化合物が少ない場合等にはある程度対処でき
る。したがって、本実施の形態によれば、原水中の有機
窒素化合物が少なく、ＴＯＣが比較的低く、水質が安定
している場合に適用可能であって、ＴＯＣおよび導電率
の低い超純水を製造できる超純水製造装置を低コストで
提供できるのである。
【０１０１】＜第５実施の形態＞
図６は、本実施の形態の超純水製造装置における構成図
である。この超純水製造装置は、図４に示す第３実施の
形態の超純水製造装置における送水用活性炭塔８３およ
び第２水槽８４を削除した構成を有している。
である。この超純水製造装置は、図４に示す第３実施の
形態の超純水製造装置における送水用活性炭塔８３およ
び第２水槽８４を削除した構成を有している。
【０１０２】第１水槽１２１,１次純水製造装置１２５,
２次純水製造装置１２６および半導体工場１２７は、図
４に示した第１水槽８１,１次純水製造装置８５,２次純
水製造装置８６および半導体工場８７と同様の構成を有
して、同様に動作する。尚、第２水槽の削除に伴って、
第２水槽に設置すべきＴＯＣ計、および、ＴＯＣ計から
の信号に基づいて調節信号を出力する調節計も削除され
ている。
２次純水製造装置１２６および半導体工場１２７は、図
４に示した第１水槽８１,１次純水製造装置８５,２次純
水製造装置８６および半導体工場８７と同様の構成を有
して、同様に動作する。尚、第２水槽の削除に伴って、
第２水槽に設置すべきＴＯＣ計、および、ＴＯＣ計から
の信号に基づいて調節信号を出力する調節計も削除され
ている。
【０１０３】本実施の形態においては、上述したよう
に、循環用活性炭塔、第１水槽１２１からの被処理水を
上記循環用活性炭塔に送水する循環手段、第１水槽１２
１からの被処理水が送水される送水用活性炭塔、第２水
槽、および、第２水槽のＴＯＣに基づいて第１水槽１２
１の循環水量,撹拌量を制御する制御系を有してはいな
い。したがって、被処理水中のＴＯＣが急に上昇した場
合には早急に対応することができない。
に、循環用活性炭塔、第１水槽１２１からの被処理水を
上記循環用活性炭塔に送水する循環手段、第１水槽１２
１からの被処理水が送水される送水用活性炭塔、第２水
槽、および、第２水槽のＴＯＣに基づいて第１水槽１２
１の循環水量,撹拌量を制御する制御系を有してはいな
い。したがって、被処理水中のＴＯＣが急に上昇した場
合には早急に対応することができない。
【０１０４】しかしながら、本実施の形態は、原水の水
質が良くて安定している場合(具体的には、市水等のよ
うにＴＯＣが１ppm以下の場合)に適用可能であって、Ｔ
ＯＣおよび導電率の低い超純水を製造できる超純水製造
装置を低コストで提供できるのである。
質が良くて安定している場合(具体的には、市水等のよ
うにＴＯＣが１ppm以下の場合)に適用可能であって、Ｔ
ＯＣおよび導電率の低い超純水を製造できる超純水製造
装置を低コストで提供できるのである。
【０１０５】＜第６実施の形態＞
図７は、本実施の形態の超純水製造装置における構成図
である。この超純水製造装置は、図６に示す第５実施の
形態の超純水製造装置における半導体工場１２７からの
回収水の導入を行わない構成を有している。
である。この超純水製造装置は、図６に示す第５実施の
形態の超純水製造装置における半導体工場１２７からの
回収水の導入を行わない構成を有している。
【０１０６】第１水槽１３１,１次純水製造装置１３５,
２次純水製造装置１３６および半導体工場１３７は、図
６に示す上記第１水槽１２１,１次純水製造装置１２５,
２次純水製造装置１２６および半導体工場１２７と同様
の構成を有して、同様に動作する。
２次純水製造装置１３６および半導体工場１３７は、図
６に示す上記第１水槽１２１,１次純水製造装置１２５,
２次純水製造装置１２６および半導体工場１２７と同様
の構成を有して、同様に動作する。
【０１０７】本実施の形態においては、上述したよう
に、上記半導体工場１３７からの回収水は第１水槽１３
１の嫌気有機物処理室に導入されない。したがって、好
気性微生物による有機窒素化合物処理時に生ずる硝酸性
窒素を嫌気性微生物によって脱窒処理する場合に、半導
体工場１３７からの低濃度有機排水中のＩＰＡやアセト
ンを利用できない。すなわち、被処理水中に有機窒素化
合物が多い場合における脱窒性能は、第５実施の形態に
比較して悪い。しかしながら、第１水槽１３１における
被処理水の滞留時間を長くすること等によって、被処理
水中の有機窒素化合物が少ない場合等にはある程度対処
できる。したがって、本実施の形態によれば、原水の水
質が良く(例えば、ＴＯＣが１ppm以下であって有機窒素
化合物も少ない)て安定している場合に適用可能であっ
て、ＴＯＣおよび導電率の低い超純水を製造できる超純
水製造装置を低コストで提供できるのである。
に、上記半導体工場１３７からの回収水は第１水槽１３
１の嫌気有機物処理室に導入されない。したがって、好
気性微生物による有機窒素化合物処理時に生ずる硝酸性
窒素を嫌気性微生物によって脱窒処理する場合に、半導
体工場１３７からの低濃度有機排水中のＩＰＡやアセト
ンを利用できない。すなわち、被処理水中に有機窒素化
合物が多い場合における脱窒性能は、第５実施の形態に
比較して悪い。しかしながら、第１水槽１３１における
被処理水の滞留時間を長くすること等によって、被処理
水中の有機窒素化合物が少ない場合等にはある程度対処
できる。したがって、本実施の形態によれば、原水の水
質が良く(例えば、ＴＯＣが１ppm以下であって有機窒素
化合物も少ない)て安定している場合に適用可能であっ
て、ＴＯＣおよび導電率の低い超純水を製造できる超純
水製造装置を低コストで提供できるのである。
【０１０８】＜第７実施の形態＞
図８は、本実施の形態の超純水製造装置における構成図
である。この超純水製造装置は、特に、図１に示す第１
実施の形態の超純水製造装置における１次純水製造装置
３５が異なる構成を有している。
である。この超純水製造装置は、特に、図１に示す第１
実施の形態の超純水製造装置における１次純水製造装置
３５が異なる構成を有している。
【０１０９】第１水槽１４１,循環用活性炭塔１４２,送
水用活性炭塔１４３,第２水槽１４４,２次純水製造装置
１４６および半導体工場１４７は、図１に示した第１水
槽３１,循環用活性炭塔３２,送水用活性炭塔３３,第２
水槽３４,２次純水製造装置３６および半導体工場３７
と同様の構成を有して、同様に動作する。また、第１実
施の形態の場合と同様に、上記第２水槽１４４に設置さ
れたＴＯＣ計１４８からの信号に基づく調節計１４９か
らの調節信号に基づいて、活性炭塔循環ポンプ１５０の
吐出量,ブロア１５１の吹き出し量および水中撹拌機１
５２の回転数がインバータ制御される。
水用活性炭塔１４３,第２水槽１４４,２次純水製造装置
１４６および半導体工場１４７は、図１に示した第１水
槽３１,循環用活性炭塔３２,送水用活性炭塔３３,第２
水槽３４,２次純水製造装置３６および半導体工場３７
と同様の構成を有して、同様に動作する。また、第１実
施の形態の場合と同様に、上記第２水槽１４４に設置さ
れたＴＯＣ計１４８からの信号に基づく調節計１４９か
らの調節信号に基づいて、活性炭塔循環ポンプ１５０の
吐出量,ブロア１５１の吹き出し量および水中撹拌機１
５２の回転数がインバータ制御される。
【０１１０】本実施の形態においては、嫌気有機物処理
室１５５の最上部には、電磁弁１５９が介設された逆洗
排水配管１５７の一端が接続されている。同様に、好気
有機物処理室１５６の最上部には、電磁弁１６０が介設
された逆洗排水配管１５８の一端が接続されている。ま
た、嫌気有機物処理室１５５および好気有機物処理室１
５６の底部には、管状ネット１６１間の位置に散気管１
６２が設けられ、逆洗用ブロア１６３からの空気を備長
炭が充填されている下部の箇所に放出するようになって
いる。
室１５５の最上部には、電磁弁１５９が介設された逆洗
排水配管１５７の一端が接続されている。同様に、好気
有機物処理室１５６の最上部には、電磁弁１６０が介設
された逆洗排水配管１５８の一端が接続されている。ま
た、嫌気有機物処理室１５５および好気有機物処理室１
５６の底部には、管状ネット１６１間の位置に散気管１
６２が設けられ、逆洗用ブロア１６３からの空気を備長
炭が充填されている下部の箇所に放出するようになって
いる。
【０１１１】また、上記第２水槽１４４からの被処理水
が導入される１次純水製造装置１４５を、ＲＯ膜装置１
６５,電気脱イオン装置１６６および紫外線殺菌装置１
６７で構成している。電気脱イオン装置１６６は、陽イ
オン交換膜と陰イオン交換膜との間に陽イオン交換樹脂
と陰イオン交換樹脂とを充填した構成を有している。そ
して、被処理水中のイオンは両イオン交換樹脂に吸着さ
れ、脱イオンされた処理水は次工程の紫外線殺菌装置１
６７に供給される。一方、上記両イオン交換樹脂に吸着
されたイオンはイオン交換樹脂中を移動して、陽イオン
は陽イオン交換膜側から、陰イオンは陰イオン交換膜側
から、イオン濃度の高い濃縮水として配管１６８を介し
て外部に排出される。
が導入される１次純水製造装置１４５を、ＲＯ膜装置１
６５,電気脱イオン装置１６６および紫外線殺菌装置１
６７で構成している。電気脱イオン装置１６６は、陽イ
オン交換膜と陰イオン交換膜との間に陽イオン交換樹脂
と陰イオン交換樹脂とを充填した構成を有している。そ
して、被処理水中のイオンは両イオン交換樹脂に吸着さ
れ、脱イオンされた処理水は次工程の紫外線殺菌装置１
６７に供給される。一方、上記両イオン交換樹脂に吸着
されたイオンはイオン交換樹脂中を移動して、陽イオン
は陽イオン交換膜側から、陰イオンは陰イオン交換膜側
から、イオン濃度の高い濃縮水として配管１６８を介し
て外部に排出される。
【０１１２】このように、上記電気脱イオン装置１６６
では、両イオン交換樹脂は電気によって連続的に再生さ
れて濃縮水となって排出されるので、薬品等を用いた特
別な再生処理は不必要である。これに対して、図１に示
す第１実施の形態の超純水製造装置の１次純水製造装置
は、通常の逆浸透膜装置,イオン交換装置および紫外線
殺菌装置等で構成している。その場合、上記イオン交換
装置は、酸としての塩酸やアルカリとしての苛性ソーダ
等の薬品による再生処理を必要とし、再生廃液が出るた
めにその処理も必要なのである。
では、両イオン交換樹脂は電気によって連続的に再生さ
れて濃縮水となって排出されるので、薬品等を用いた特
別な再生処理は不必要である。これに対して、図１に示
す第１実施の形態の超純水製造装置の１次純水製造装置
は、通常の逆浸透膜装置,イオン交換装置および紫外線
殺菌装置等で構成している。その場合、上記イオン交換
装置は、酸としての塩酸やアルカリとしての苛性ソーダ
等の薬品による再生処理を必要とし、再生廃液が出るた
めにその処理も必要なのである。
【０１１３】ところで、上記電気脱イオン装置１６６の
利点を生かすには、イオン交換樹脂やイオン交換膜に付
着して脱イオン機能を低下させる有機物および溶存ガス
(炭酸ガス)を、前処理装置によって最大限処理しておく
必要がある。そして、本実施の形態における前処理装置
は、第１実施の形態と同じ構成を有しているので、前処
理水のＴＯＣを１ppm以下にし、導電率を低減し、流入
水の水質変動を調整して安定した水質の被処理水を１次
純水製造装置１４５に供給できる。また、上記被処理水
中の溶存炭酸ガスは、上記第１水槽１４１における好気
有機物処理室１５６の散気管１６９からの曝気によっ
て、空気中に飛散されて除去される。したがって、本実
施の形態によれば、上記前処理装置(第２水槽１４４)と
１次純水製造装置１４５との間に膜分離装置等を設置す
ることなく、かつ、薬品による再生処理を必要とはしな
い(つまり、再生廃液の処理を必要とはしない)電気脱イ
オン装置１６６を有する１次純水製造装置１４５を用い
て、低コストで容易にＴＯＣおよび導電率の低い超純水
を製造できるのである。
利点を生かすには、イオン交換樹脂やイオン交換膜に付
着して脱イオン機能を低下させる有機物および溶存ガス
(炭酸ガス)を、前処理装置によって最大限処理しておく
必要がある。そして、本実施の形態における前処理装置
は、第１実施の形態と同じ構成を有しているので、前処
理水のＴＯＣを１ppm以下にし、導電率を低減し、流入
水の水質変動を調整して安定した水質の被処理水を１次
純水製造装置１４５に供給できる。また、上記被処理水
中の溶存炭酸ガスは、上記第１水槽１４１における好気
有機物処理室１５６の散気管１６９からの曝気によっ
て、空気中に飛散されて除去される。したがって、本実
施の形態によれば、上記前処理装置(第２水槽１４４)と
１次純水製造装置１４５との間に膜分離装置等を設置す
ることなく、かつ、薬品による再生処理を必要とはしな
い(つまり、再生廃液の処理を必要とはしない)電気脱イ
オン装置１６６を有する１次純水製造装置１４５を用い
て、低コストで容易にＴＯＣおよび導電率の低い超純水
を製造できるのである。
【０１１４】また、上記構成において、上記嫌気有機物
処理室１５５および好気有機物処理室１５６の充填物に
形成された生物膜は、微生物が被処理水中の有機物や各
種イオンを栄養源として形成した生物膜である。したが
って、この生物膜が剥離して被処理水中に浮遊すること
は、特に、逆浸透膜装置１６５および電気脱イオン装置
１６６を有する１次純水製造装置１４５を下流に備えて
いる本実施の形態においては好ましくない。そこで、本
実施の形態においては、一定期間毎に以下のような逆洗
を行うことによって生物膜を除去するのである。尚、上
記一定期間とは、嫌気有機物処理室１５５の充填物に形
成された生物膜の厚さ等の状態によって決定する。具体
的には、上記一定期間は例えば７日間であり、その場合
の逆洗時間は２時間である。
処理室１５５および好気有機物処理室１５６の充填物に
形成された生物膜は、微生物が被処理水中の有機物や各
種イオンを栄養源として形成した生物膜である。したが
って、この生物膜が剥離して被処理水中に浮遊すること
は、特に、逆浸透膜装置１６５および電気脱イオン装置
１６６を有する１次純水製造装置１４５を下流に備えて
いる本実施の形態においては好ましくない。そこで、本
実施の形態においては、一定期間毎に以下のような逆洗
を行うことによって生物膜を除去するのである。尚、上
記一定期間とは、嫌気有機物処理室１５５の充填物に形
成された生物膜の厚さ等の状態によって決定する。具体
的には、上記一定期間は例えば７日間であり、その場合
の逆洗時間は２時間である。
【０１１５】先ず、上記第１水槽１４１の水位を逆洗排
水配管１５７,１５８の一端の接続位置よりも１ｍ以上
上昇させて原水を停止する。さらに、活性炭塔循環ポン
プ１５０,活性炭塔送水ポンプ１７０,ブロア１５１およ
び水中撹拌機１５２の動作を停止する。そうした後に、
逆洗用ブロア１６３を動作させて第１水槽１４１内の充
填物に形成されている生物膜や上記充填物に付着してい
る微生物を空気逆洗によって剥離させる。
水配管１５７,１５８の一端の接続位置よりも１ｍ以上
上昇させて原水を停止する。さらに、活性炭塔循環ポン
プ１５０,活性炭塔送水ポンプ１７０,ブロア１５１およ
び水中撹拌機１５２の動作を停止する。そうした後に、
逆洗用ブロア１６３を動作させて第１水槽１４１内の充
填物に形成されている生物膜や上記充填物に付着してい
る微生物を空気逆洗によって剥離させる。
【０１１６】こうして十分に生物膜等を剥離させた後、
上記逆洗用ブロア１６３を動作させた状態で電磁弁１５
９,１６０を開放して、剥離した生物膜等を含む逆洗水
を逆洗排水配管１５７,１５８の他端から排出する。そ
して、第１水槽１４１の水位が逆洗排水配管１５７,１
５８の接続位置よりも下がったら、逆洗用ブロア１６３
を動作させた状態で原水を導入する。そうすることによ
って、残っている生物膜等は、原水と混合されて逆洗排
水配管１５７,１５８より排出される。こうして、第１
水槽１４１の水質が原水の水質と同程度になった一定時
間経過後に、逆洗用ブロア１６３を停止し、電磁弁１５
９,１６０を閉鎖する。
上記逆洗用ブロア１６３を動作させた状態で電磁弁１５
９,１６０を開放して、剥離した生物膜等を含む逆洗水
を逆洗排水配管１５７,１５８の他端から排出する。そ
して、第１水槽１４１の水位が逆洗排水配管１５７,１
５８の接続位置よりも下がったら、逆洗用ブロア１６３
を動作させた状態で原水を導入する。そうすることによ
って、残っている生物膜等は、原水と混合されて逆洗排
水配管１５７,１５８より排出される。こうして、第１
水槽１４１の水質が原水の水質と同程度になった一定時
間経過後に、逆洗用ブロア１６３を停止し、電磁弁１５
９,１６０を閉鎖する。
【０１１７】そして、上記活性炭塔循環ポンプ１５０,
ブロア１５１および水中撹拌機１５２を動作させて、第
１水槽１４１中の被処理水を循環用活性炭塔１４２を介
して循環させる。そして、水質が安定した一定時間経過
後に活性炭塔送水ポンプ１７０を動作させて、被処理水
を送水用活性炭塔１４３に導入して、上記前処理装置の
通常運転に入る。
ブロア１５１および水中撹拌機１５２を動作させて、第
１水槽１４１中の被処理水を循環用活性炭塔１４２を介
して循環させる。そして、水質が安定した一定時間経過
後に活性炭塔送水ポンプ１７０を動作させて、被処理水
を送水用活性炭塔１４３に導入して、上記前処理装置の
通常運転に入る。
【０１１８】こうして、本実施の形態においては、上記
一定期間毎に上記逆洗を行うことによって、第１水槽１
４１内の充填物に形成されている生物膜や上記充填物に
付着している微生物を強制的に剥離させて超純水製造系
の外に排出できる。したがって、放置しておけばやがて
自然に剥離して被処理水中に有機物や各種のイオンとし
て浮遊することになる生物膜を早期に除去して、さらに
ＴＯＣおよび導電率の低い超純水を製造できるのであ
る。尚、逆洗用ブロア１６３は、特に限定されたブロア
ではなく、一般的なブロアで構わない。
一定期間毎に上記逆洗を行うことによって、第１水槽１
４１内の充填物に形成されている生物膜や上記充填物に
付着している微生物を強制的に剥離させて超純水製造系
の外に排出できる。したがって、放置しておけばやがて
自然に剥離して被処理水中に有機物や各種のイオンとし
て浮遊することになる生物膜を早期に除去して、さらに
ＴＯＣおよび導電率の低い超純水を製造できるのであ
る。尚、逆洗用ブロア１６３は、特に限定されたブロア
ではなく、一般的なブロアで構わない。
【０１１９】＜第８実施の形態＞
図９は、本実施の形態の超純水製造装置における構成図
である。この超純水製造装置は、図８に示す第７実施の
形態の超純水製造装置における１次純水製造装置１４５
の電気脱イオン装置１６６からの濃縮水を嫌気有機物処
理室１５５に戻す構成を有している。
である。この超純水製造装置は、図８に示す第７実施の
形態の超純水製造装置における１次純水製造装置１４５
の電気脱イオン装置１６６からの濃縮水を嫌気有機物処
理室１５５に戻す構成を有している。
【０１２０】第１水槽１７１,循環用活性炭塔１７２,送
水用活性炭塔１７３,第２水槽１７４,１次純水製造装置
１７５,２次純水製造装置１７６及び半導体工場１７７
は、図８に示した第１水槽１４１,循環用活性炭塔１４
２,送水用活性炭塔１４３,第２水槽１４４,１次純水製
造装置１４５,２次純水製造装置１４６および半導体工
場１４７と同様の構成を有して、同様に動作する。ま
た、第７実施の形態の場合と同様に、上記第２水槽１７
４に設置されたＴＯＣ計１７８からの信号に基づく調節
計１７９からの調節信号に基づいて、活性炭塔循環ポン
プ１８０の吐出量,ブロア１８１の吹き出し量および水
中撹拌機１８２の回転数がインバータ制御される。さら
に、電磁弁１８３,逆洗排水配管１８４,電磁弁１８５,
逆洗排水配管１８６,散気管１８７および逆洗用ブロア
１８８による逆洗が行われる。
水用活性炭塔１７３,第２水槽１７４,１次純水製造装置
１７５,２次純水製造装置１７６及び半導体工場１７７
は、図８に示した第１水槽１４１,循環用活性炭塔１４
２,送水用活性炭塔１４３,第２水槽１４４,１次純水製
造装置１４５,２次純水製造装置１４６および半導体工
場１４７と同様の構成を有して、同様に動作する。ま
た、第７実施の形態の場合と同様に、上記第２水槽１７
４に設置されたＴＯＣ計１７８からの信号に基づく調節
計１７９からの調節信号に基づいて、活性炭塔循環ポン
プ１８０の吐出量,ブロア１８１の吹き出し量および水
中撹拌機１８２の回転数がインバータ制御される。さら
に、電磁弁１８３,逆洗排水配管１８４,電磁弁１８５,
逆洗排水配管１８６,散気管１８７および逆洗用ブロア
１８８による逆洗が行われる。
【０１２１】本実施の形態においては、１次純水製造装
置１７５の電気脱イオン装置１８９によって濃縮された
イオンを含む濃縮水は、配管１９０によって第１水槽１
７１の嫌気有機物処理室１９１に戻すようになってい
る。こうして、電気脱イオン装置１８９の排水を再利用
することによって、全体的な水の利用率を向上できるの
である。
置１７５の電気脱イオン装置１８９によって濃縮された
イオンを含む濃縮水は、配管１９０によって第１水槽１
７１の嫌気有機物処理室１９１に戻すようになってい
る。こうして、電気脱イオン装置１８９の排水を再利用
することによって、全体的な水の利用率を向上できるの
である。
【０１２２】＜第９実施の形態＞
図１０は、本実施の形態の超純水製造装置における構成
図である。この超純水製造装置は、図９に示す第８実施
の形態の超純水製造装置における１次純水製造装置１７
５の第１電気脱イオン装置１８９からの濃縮水を第２水
槽１７４に戻す構成を有している。
図である。この超純水製造装置は、図９に示す第８実施
の形態の超純水製造装置における１次純水製造装置１７
５の第１電気脱イオン装置１８９からの濃縮水を第２水
槽１７４に戻す構成を有している。
【０１２３】第１水槽２０１,循環用活性炭塔２０２,送
水用活性炭塔２０３,第２水槽２０４,１次純水製造装置
２０５,２次純水製造装置２０６及び半導体工場２０７
は、図９に示した第１水槽１７１,循環用活性炭塔１７
２,送水用活性炭塔１７３,第２水槽１７４,１次純水製
造装置１７５,２次純水製造装置１７６および半導体工
場１７７と同様の構成を有して、同様に動作する。ま
た、第８実施の形態の場合と同様に、上記第２水槽２０
４に設置されたＴＯＣ計２０８からの信号に基づく調節
計２０９からの調節信号に基づいて、活性炭塔循環ポン
プ２１０の吐出量,ブロア２１１の吹き出し量および水
中撹拌機２１２の回転数がインバータ制御される。さら
に、電磁弁２１３,逆洗排水配管２１４,電磁弁２１５,
逆洗排水配管２１６,散気管２１７および逆洗用ブロア
２１８による逆洗が行われる。
水用活性炭塔２０３,第２水槽２０４,１次純水製造装置
２０５,２次純水製造装置２０６及び半導体工場２０７
は、図９に示した第１水槽１７１,循環用活性炭塔１７
２,送水用活性炭塔１７３,第２水槽１７４,１次純水製
造装置１７５,２次純水製造装置１７６および半導体工
場１７７と同様の構成を有して、同様に動作する。ま
た、第８実施の形態の場合と同様に、上記第２水槽２０
４に設置されたＴＯＣ計２０８からの信号に基づく調節
計２０９からの調節信号に基づいて、活性炭塔循環ポン
プ２１０の吐出量,ブロア２１１の吹き出し量および水
中撹拌機２１２の回転数がインバータ制御される。さら
に、電磁弁２１３,逆洗排水配管２１４,電磁弁２１５,
逆洗排水配管２１６,散気管２１７および逆洗用ブロア
２１８による逆洗が行われる。
【０１２４】本実施の形態においては、１次純水製造装
置２０５の電気脱イオン装置２１９からの上記濃縮水
は、配管２２０によって第２水槽２０４に戻すようにな
っている。ところで、上記濃縮水を超純水製造に再利用
する場合に除去する必要がある物質としてはイオンと有
機物とがある。そして、上記濃縮水に両者が含まれてい
る場合には、有機物を除去するために、第８実施の形態
の如く上記濃縮水を第１水槽２０１の嫌気有機物処理室
２２１に戻す必要がある。ところが、上記濃縮水にイオ
ンのみが含まれている場合には、必ずしもその必要はな
く、第２水槽２０４に返送すれば、含まれているイオン
は１次純水製造装置２０５の逆浸透膜装置２２２で処理
される。
置２０５の電気脱イオン装置２１９からの上記濃縮水
は、配管２２０によって第２水槽２０４に戻すようにな
っている。ところで、上記濃縮水を超純水製造に再利用
する場合に除去する必要がある物質としてはイオンと有
機物とがある。そして、上記濃縮水に両者が含まれてい
る場合には、有機物を除去するために、第８実施の形態
の如く上記濃縮水を第１水槽２０１の嫌気有機物処理室
２２１に戻す必要がある。ところが、上記濃縮水にイオ
ンのみが含まれている場合には、必ずしもその必要はな
く、第２水槽２０４に返送すれば、含まれているイオン
は１次純水製造装置２０５の逆浸透膜装置２２２で処理
される。
【０１２５】こうして、上記電気脱イオン装置２１９の
濃縮水を第２水槽２０４に返送することによって、排水
の循環を効率よくできると共に、第１水槽２０１の容量
を第８実施の形態における第１水槽１７１の容量よりも
小さくできるのである。
濃縮水を第２水槽２０４に返送することによって、排水
の循環を効率よくできると共に、第１水槽２０１の容量
を第８実施の形態における第１水槽１７１の容量よりも
小さくできるのである。
【０１２６】＜第１０実施の形態＞
図１１は、本実施の形態の超純水製造装置における構成
図である。この超純水製造装置は、図９に示す第８実施
の形態の超純水製造装置における１次純水製造装置１７
５の電気脱イオン装置１８９からの濃縮水を嫌気有機物
処理室１９１に戻す配管１９０に、第２の電気脱イオン
装置を介設した構成を有している。
図である。この超純水製造装置は、図９に示す第８実施
の形態の超純水製造装置における１次純水製造装置１７
５の電気脱イオン装置１８９からの濃縮水を嫌気有機物
処理室１９１に戻す配管１９０に、第２の電気脱イオン
装置を介設した構成を有している。
【０１２７】第１水槽２３１,循環用活性炭塔２３２,送
水用活性炭塔２３３,第２水槽２３４,１次純水製造装置
２３５,２次純水製造装置２３６及び半導体工場２３７
は、図９に示した第１水槽１７１,循環用活性炭塔１７
２,送水用活性炭塔１７３,第２水槽１７４,１次純水製
造装置１７５,２次純水製造装置１７６および半導体工
場１７７と同様の構成を有して、同様に動作する。ま
た、第８実施の形態の場合と同様に、上記第２水槽２３
４に設置されたＴＯＣ計２３８からの信号に基づく調節
計２３９からの調節信号に基づいて、活性炭塔循環ポン
プ２４０の吐出量,ブロア２４１の吹き出し量および水
中撹拌機２４２の回転数がインバータ制御される。さら
に、電磁弁２４３,逆洗排水配管２４４,電磁弁２４５,
逆洗排水配管２４６,散気管２４７および逆洗用ブロア
２４８による逆洗が行われる。
水用活性炭塔２３３,第２水槽２３４,１次純水製造装置
２３５,２次純水製造装置２３６及び半導体工場２３７
は、図９に示した第１水槽１７１,循環用活性炭塔１７
２,送水用活性炭塔１７３,第２水槽１７４,１次純水製
造装置１７５,２次純水製造装置１７６および半導体工
場１７７と同様の構成を有して、同様に動作する。ま
た、第８実施の形態の場合と同様に、上記第２水槽２３
４に設置されたＴＯＣ計２３８からの信号に基づく調節
計２３９からの調節信号に基づいて、活性炭塔循環ポン
プ２４０の吐出量,ブロア２４１の吹き出し量および水
中撹拌機２４２の回転数がインバータ制御される。さら
に、電磁弁２４３,逆洗排水配管２４４,電磁弁２４５,
逆洗排水配管２４６,散気管２４７および逆洗用ブロア
２４８による逆洗が行われる。
【０１２８】本実施の形態においては、上述したよう
に、１次純水製造装置２３５の第１電気脱イオン装置２
４９からの濃縮水を第１水槽２３１の嫌気有機物処理室
２５２に戻す配管２５０に、第２電気脱イオン装置２５
１を介設している。そして、第２電気脱イオン装置２５
１からの濃縮水は排水として外部に排出され、イオンが
除去された水が嫌気有機物処理室２５２に戻される。
に、１次純水製造装置２３５の第１電気脱イオン装置２
４９からの濃縮水を第１水槽２３１の嫌気有機物処理室
２５２に戻す配管２５０に、第２電気脱イオン装置２５
１を介設している。そして、第２電気脱イオン装置２５
１からの濃縮水は排水として外部に排出され、イオンが
除去された水が嫌気有機物処理室２５２に戻される。
【０１２９】こうして、上記第１電気脱イオン装置２４
９からの濃縮水を第２電気脱イオン装置２５１で脱イオ
ンして嫌気有機物処理室２５２に戻すことによって、嫌
気有機物処理室２５２でのイオン負荷が減少する。した
がって、上記逆洗の頻度を減らすことができ、純水の製
造に寄与する時間を長く取ることができるのである。
９からの濃縮水を第２電気脱イオン装置２５１で脱イオ
ンして嫌気有機物処理室２５２に戻すことによって、嫌
気有機物処理室２５２でのイオン負荷が減少する。した
がって、上記逆洗の頻度を減らすことができ、純水の製
造に寄与する時間を長く取ることができるのである。
【０１３０】＜第１１実施の形態＞
図１２は、本実施の形態の超純水製造装置における構成
図である。この超純水製造装置は、図１１に示す第１０
実施の形態の超純水製造装置における第２電気脱イオン
装置２５１で脱イオンされた水を第２水槽２３４に戻す
構成を有している。
図である。この超純水製造装置は、図１１に示す第１０
実施の形態の超純水製造装置における第２電気脱イオン
装置２５１で脱イオンされた水を第２水槽２３４に戻す
構成を有している。
【０１３１】第１水槽２６１,循環用活性炭塔２６２,送
水用活性炭塔２６３,第２水槽２６４,１次純水製造装置
２６５,２次純水製造装置２６６及び半導体工場２６７
は、図１１に示した第１水槽２３１,循環用活性炭塔２
３２,送水用活性炭塔２３３,第２水槽２３４,１次純水
製造装置２３５,２次純水製造装置２３６および半導体
工場２３７と同様の構成を有して、同様に動作する。ま
た、第１０実施の形態の場合と同様に、上記第２水槽２
６４に設置されたＴＯＣ計２６８からの信号に基づく調
節計２６９からの調節信号に基づいて、活性炭塔循環ポ
ンプ２７０の吐出量,ブロア２７１の吹き出し量および
水中撹拌機２７２の回転数がインバータ制御される。さ
らに、電磁弁２７３,逆洗排水配管２７４,電磁弁２７
５,逆洗排水配管２７６,散気管２７７および逆洗用ブロ
ア２７８による逆洗が行われる。
水用活性炭塔２６３,第２水槽２６４,１次純水製造装置
２６５,２次純水製造装置２６６及び半導体工場２６７
は、図１１に示した第１水槽２３１,循環用活性炭塔２
３２,送水用活性炭塔２３３,第２水槽２３４,１次純水
製造装置２３５,２次純水製造装置２３６および半導体
工場２３７と同様の構成を有して、同様に動作する。ま
た、第１０実施の形態の場合と同様に、上記第２水槽２
６４に設置されたＴＯＣ計２６８からの信号に基づく調
節計２６９からの調節信号に基づいて、活性炭塔循環ポ
ンプ２７０の吐出量,ブロア２７１の吹き出し量および
水中撹拌機２７２の回転数がインバータ制御される。さ
らに、電磁弁２７３,逆洗排水配管２７４,電磁弁２７
５,逆洗排水配管２７６,散気管２７７および逆洗用ブロ
ア２７８による逆洗が行われる。
【０１３２】本実施の形態においては、上述したよう
に、１次純水製造装置２６５の第１電気脱イオン装置２
７９からの濃縮水を、第２電気脱イオン装置２８１で脱
イオンした後に配管２８０で第２水槽２６４に戻すよう
にしている。
に、１次純水製造装置２６５の第１電気脱イオン装置２
７９からの濃縮水を、第２電気脱イオン装置２８１で脱
イオンした後に配管２８０で第２水槽２６４に戻すよう
にしている。
【０１３３】上記第１電気脱イオン装置２７９からの濃
縮水を第２電気脱イオン装置２８１で脱イオンした水
は、第１実施の形態と同じ基本構成を有している前処理
装置によって、ＴＯＣが１ppm以下にされ、導電率が低
減され、流入水の水質変動が調整されて安定した水質の
被処理水を、さらに２回脱イオンした極めて水質のよい
水である。したがって、このように水質のよい水をわざ
わざ第１水槽２６１に戻す必要はなく、第２水槽２６４
に戻すことが可能である。こうして、第２電気脱イオン
装置２８１からの排水を第２水槽２６４に戻すことによ
って、被処理水の滞留時間から見れば第１水槽２６１の
容量を嫌気有機物処理室２５２に戻す第１０実施の形態
における第１水槽２３１の容量よりも小さくできるので
ある。
縮水を第２電気脱イオン装置２８１で脱イオンした水
は、第１実施の形態と同じ基本構成を有している前処理
装置によって、ＴＯＣが１ppm以下にされ、導電率が低
減され、流入水の水質変動が調整されて安定した水質の
被処理水を、さらに２回脱イオンした極めて水質のよい
水である。したがって、このように水質のよい水をわざ
わざ第１水槽２６１に戻す必要はなく、第２水槽２６４
に戻すことが可能である。こうして、第２電気脱イオン
装置２８１からの排水を第２水槽２６４に戻すことによ
って、被処理水の滞留時間から見れば第１水槽２６１の
容量を嫌気有機物処理室２５２に戻す第１０実施の形態
における第１水槽２３１の容量よりも小さくできるので
ある。
【０１３４】第７実施の形態〜第１１実施の形態におけ
る超純水製造装置の場合にも、図２に示す超純水製造装
置のように第１水槽１４１,１７１,２０１,２３１,２６
１内の管状ネットを削除することができる。図１３は、
図９に示す超純水製造装置から管状ネットを削除した超
純水製造装置の構成図である。図１４は、図１１に示す
超純水製造装置から管状ネットを削除した超純水製造装
置の構成図である。このように第１水槽１４１,１７１,
２０１,２３１,２６１内に管状ネットがない場合には、
管状ネットの体積分だけ備長炭を多く充填できるので被
処理水の処理効率を高めることができる。特に、原水の
水質や低濃度有機排水の水質がよい場合には微生物の繁
殖による閉塞は起こり難いので、かえって管状ネットが
無い方が好ましい。
る超純水製造装置の場合にも、図２に示す超純水製造装
置のように第１水槽１４１,１７１,２０１,２３１,２６
１内の管状ネットを削除することができる。図１３は、
図９に示す超純水製造装置から管状ネットを削除した超
純水製造装置の構成図である。図１４は、図１１に示す
超純水製造装置から管状ネットを削除した超純水製造装
置の構成図である。このように第１水槽１４１,１７１,
２０１,２３１,２６１内に管状ネットがない場合には、
管状ネットの体積分だけ備長炭を多く充填できるので被
処理水の処理効率を高めることができる。特に、原水の
水質や低濃度有機排水の水質がよい場合には微生物の繁
殖による閉塞は起こり難いので、かえって管状ネットが
無い方が好ましい。
【０１３５】尚、図１５は、図８に示す超純水製造装置
における逆浸透膜装置１６５,電気脱イオン装置１６６
および紫外線殺菌装置１６７から成る１次純水製造装置
１４５を、逆浸透膜装置２９６,イオン交換樹脂装置２
９７および紫外線殺菌装置２９８から成る１次純水製造
装置２９５に置き換えた超純水製造装置である。この場
合には、上述したように塩酸や苛性ソーダ等の薬品を使
用したイオン交換樹脂の再生が必要であり、必然的に再
生排水が発生する。そこで、再生排水を中和する再生排
水処理装置２９９が必要となる。したがって、再生排水
処理装置２９９のためのイニシャルコストと再生排水中
和のためのランニングコストが係ることになる。
における逆浸透膜装置１６５,電気脱イオン装置１６６
および紫外線殺菌装置１６７から成る１次純水製造装置
１４５を、逆浸透膜装置２９６,イオン交換樹脂装置２
９７および紫外線殺菌装置２９８から成る１次純水製造
装置２９５に置き換えた超純水製造装置である。この場
合には、上述したように塩酸や苛性ソーダ等の薬品を使
用したイオン交換樹脂の再生が必要であり、必然的に再
生排水が発生する。そこで、再生排水を中和する再生排
水処理装置２９９が必要となる。したがって、再生排水
処理装置２９９のためのイニシャルコストと再生排水中
和のためのランニングコストが係ることになる。
【０１３６】ここで、図１５に示す超純水製造装置にお
ける前処理装置は、第１水槽２９１,循環用活性炭塔２
９２,送水用活性炭塔２９３および第２水槽２９４から
構成されており、第１実施の形態における前処理装置と
基本構成は同じである。したがって、図１５に示す超純
水製造装置の全体構成は、第１実施の形態の超純水製造
装置と基本的に同じであると言える。したがって、図１
５に示す超純水製造装置によっても、何らかの原因によ
る水質の変動(例えば、ＴＯＣの急激な上昇)に対応する
ことができ、ＴＯＣが０.５ppb以下であって導電率が低
い超純水を製造することができることは言うまでもな
い。
ける前処理装置は、第１水槽２９１,循環用活性炭塔２
９２,送水用活性炭塔２９３および第２水槽２９４から
構成されており、第１実施の形態における前処理装置と
基本構成は同じである。したがって、図１５に示す超純
水製造装置の全体構成は、第１実施の形態の超純水製造
装置と基本的に同じであると言える。したがって、図１
５に示す超純水製造装置によっても、何らかの原因によ
る水質の変動(例えば、ＴＯＣの急激な上昇)に対応する
ことができ、ＴＯＣが０.５ppb以下であって導電率が低
い超純水を製造することができることは言うまでもな
い。
【０１３７】＜実施例＞
次に、上記超純水製造装置を用いた超純水の製造の具体
的実施例について述べる。ここで、用いた超純水製造装
置は、図１に示す超純水製造装置と同一構造を有する超
純水製造装置であり、第１水槽３１の容積を約１３００
ｍ3とし、第２水槽３４の容積を１００ｍ3とし、循環用
活性炭塔３２の容積を１５ｍ3とし、送水用活性炭塔３
３の容積を１５ｍ3とした。
的実施例について述べる。ここで、用いた超純水製造装
置は、図１に示す超純水製造装置と同一構造を有する超
純水製造装置であり、第１水槽３１の容積を約１３００
ｍ3とし、第２水槽３４の容積を１００ｍ3とし、循環用
活性炭塔３２の容積を１５ｍ3とし、送水用活性炭塔３
３の容積を１５ｍ3とした。
【０１３８】この超純水製造装置を用いて、上記導電率
が１８６μs/cmであり、ＴＯＣが２.２ppmであり、有機
物量の指標となる過マンガン酸カリ消費量が５.９ppmで
ある被処理水に前処理を行った。その結果、第２水槽３
４からの被処理水の導電率を１４８μs/cmにし、ＴＯＣ
を０.３ppmにし、過マンガン酸カリ消費量(有機物)を
１.０ppmにすることができた。そして、この被処理水を
１次純水製造装置３５に導入して超純水を製造したとこ
ろ、２次純水製造装置３６からＴＯＣが０.５ppb以下の
超純水を得ることができた。
が１８６μs/cmであり、ＴＯＣが２.２ppmであり、有機
物量の指標となる過マンガン酸カリ消費量が５.９ppmで
ある被処理水に前処理を行った。その結果、第２水槽３
４からの被処理水の導電率を１４８μs/cmにし、ＴＯＣ
を０.３ppmにし、過マンガン酸カリ消費量(有機物)を
１.０ppmにすることができた。そして、この被処理水を
１次純水製造装置３５に導入して超純水を製造したとこ
ろ、２次純水製造装置３６からＴＯＣが０.５ppb以下の
超純水を得ることができた。
【０１３９】したがって、本実施の形態によれば、上記
ＴＯＣが０.５ppb以下であり、導電率が低く、６４Ｍビ
ット−ＤＲＡＭ以上の集積度の半導体素子を製造可能な
超純水を得ることができる。
ＴＯＣが０.５ppb以下であり、導電率が低く、６４Ｍビ
ット−ＤＲＡＭ以上の集積度の半導体素子を製造可能な
超純水を得ることができる。
【０１４０】次に、上記１次純水製造装置に電気脱イオ
ン装置を用いた超純水製造装置による超純水の製造の具
体的実施例について述べる。ここで、用いた超純水製造
装置は、図９に示す超純水製造装置と同一構造を有する
超純水製造装置であって、第１水槽１７１の容積を約１
３００ｍ3とし、第２水槽１７４の容積を１００ｍ3と
し、循環用活性炭塔１７２の容積を１５ｍ3とし、送水
用活性炭塔１７３の容積を１５ｍ3とした。
ン装置を用いた超純水製造装置による超純水の製造の具
体的実施例について述べる。ここで、用いた超純水製造
装置は、図９に示す超純水製造装置と同一構造を有する
超純水製造装置であって、第１水槽１７１の容積を約１
３００ｍ3とし、第２水槽１７４の容積を１００ｍ3と
し、循環用活性炭塔１７２の容積を１５ｍ3とし、送水
用活性炭塔１７３の容積を１５ｍ3とした。
【０１４１】この超純水製造装置を用いて、上記導電率
が１８６μs/cmであり、ＴＯＣが２.２ppmである被処理
水に前処理を行った。その結果、第２水槽１７４からの
被処理水の導電率を１４８μs/cmにし、ＴＯＣを０.３p
pmにすることができた。そして、この被処理水を電気脱
イオン装置１８９を有する１次純水製造装置１７５およ
び２次純水製造装置１７６に導入して超純水を製造した
ところ、２次純水製造装置１７６からＴＯＣが０.５ppb
以下の超純水を得ることができた。
が１８６μs/cmであり、ＴＯＣが２.２ppmである被処理
水に前処理を行った。その結果、第２水槽１７４からの
被処理水の導電率を１４８μs/cmにし、ＴＯＣを０.３p
pmにすることができた。そして、この被処理水を電気脱
イオン装置１８９を有する１次純水製造装置１７５およ
び２次純水製造装置１７６に導入して超純水を製造した
ところ、２次純水製造装置１７６からＴＯＣが０.５ppb
以下の超純水を得ることができた。
【０１４２】尚、図１９に示す従来の超純水製造装置に
おける嫌気性微生物と好気性微生物との生物処理を利用
した前処理装置の場合には、処理水のＴＯＣを１.２ppm
程度にしかできない。ところが、図９(第８実施の形態)
に示す超純水製造装置の前処理装置ではＴＯＣを０.３p
pmにすることができ、電気脱イオン装置１８９に導入す
るのに適した処理水を得ることができるのである。
おける嫌気性微生物と好気性微生物との生物処理を利用
した前処理装置の場合には、処理水のＴＯＣを１.２ppm
程度にしかできない。ところが、図９(第８実施の形態)
に示す超純水製造装置の前処理装置ではＴＯＣを０.３p
pmにすることができ、電気脱イオン装置１８９に導入す
るのに適した処理水を得ることができるのである。
【０１４３】
【発明の効果】以上より明らかなように、請求項１に係
る発明の超純水製造装置は、前処理装置に、水槽を仕切
り壁で仕切られて互いの底部が連通された嫌気有機物処
理室と好気有機物処理室とを設け、原水が導入される上
記嫌気有機物処理室には、水中撹拌手段によって形成さ
れた循環流の下向流領域に、嫌気性微生物の固定化担体
を充填する一方、上記好気有機物処理室には、曝気手段
によって形成された循環流の下向流領域に、好気性微生
物の固定化担体となる活性炭及び木炭を充填し、上記活
性炭は袋に詰めて上記木炭の上に積層したので、上記固
定化担体の流動を上記下向流によって抑制できる。した
がって、上記固定化担体から微生物が剥離する事がな
く、１次純水製造装置および２次純水製造装置が閉塞や
汚染することを防止できる。また、上記嫌気有機物処理
室と好気有機物処理室とは水槽を仕切って形成されてい
るので、図１１および図１２に示す超純水製造装置の前
処理装置のように槽の高さが高くなることはない。
る発明の超純水製造装置は、前処理装置に、水槽を仕切
り壁で仕切られて互いの底部が連通された嫌気有機物処
理室と好気有機物処理室とを設け、原水が導入される上
記嫌気有機物処理室には、水中撹拌手段によって形成さ
れた循環流の下向流領域に、嫌気性微生物の固定化担体
を充填する一方、上記好気有機物処理室には、曝気手段
によって形成された循環流の下向流領域に、好気性微生
物の固定化担体となる活性炭及び木炭を充填し、上記活
性炭は袋に詰めて上記木炭の上に積層したので、上記固
定化担体の流動を上記下向流によって抑制できる。した
がって、上記固定化担体から微生物が剥離する事がな
く、１次純水製造装置および２次純水製造装置が閉塞や
汚染することを防止できる。また、上記嫌気有機物処理
室と好気有機物処理室とは水槽を仕切って形成されてい
るので、図１１および図１２に示す超純水製造装置の前
処理装置のように槽の高さが高くなることはない。
【０１４４】さらに、被処理水に対して嫌気生物処理と
好気生物処理との両方を行って炭素化合物や有機窒素化
合物を微生物処理するので、ＴＯＣを低下できる。ま
た、上記有機窒素化合物が酸化処理された際に発生する
硝酸性窒素を嫌気性微生物によって脱窒して、導電率を
低下できる。すなわち、この発明によれば、好気性微生
物および嫌気性微生物による処理によって、上記１次,
２次純水製造装置で微生物が繁殖するための栄養源を消
費できる。したがって、上記両純水製造装置において微
生物が異常繁殖することがなく、異常繁殖した微生物に
よる上記両純水製造装置の閉塞や汚染を防止できる。
好気生物処理との両方を行って炭素化合物や有機窒素化
合物を微生物処理するので、ＴＯＣを低下できる。ま
た、上記有機窒素化合物が酸化処理された際に発生する
硝酸性窒素を嫌気性微生物によって脱窒して、導電率を
低下できる。すなわち、この発明によれば、好気性微生
物および嫌気性微生物による処理によって、上記１次,
２次純水製造装置で微生物が繁殖するための栄養源を消
費できる。したがって、上記両純水製造装置において微
生物が異常繁殖することがなく、異常繁殖した微生物に
よる上記両純水製造装置の閉塞や汚染を防止できる。
【０１４５】さらに、上記固定化担体は、活性炭と木炭
とであるので、上記嫌気有機物処理室では嫌気性微生物
が上記活性炭と木炭とに固定される一方、上記好気有機
物処理室では好気性微生物が上記活性炭と木炭とに固定
される。このように、被処理水中の炭素化合物や有機窒
素化合物に関して物理的吸着能力が高い活性炭を併用す
ることによって、生物処理と物理処理とによって更にＴ
ＯＣを低下できる。さらに、上記木炭は上記活性炭より
は大きく、上記水中撹拌手段による撹拌や上記曝気手段
による撹拌によって流動することがない。したがって、
上記木炭に固定された微生物の剥離を防止できる。その
際に、粒状で流動し易い上記活性炭を袋に詰めて上記木
炭の上に積層し、下向流で処理するので、被処理水が強
く撹拌されても活性炭が流動することはない。したがっ
て、上記活性炭に固定された微生物の剥離を防止でき
る。
とであるので、上記嫌気有機物処理室では嫌気性微生物
が上記活性炭と木炭とに固定される一方、上記好気有機
物処理室では好気性微生物が上記活性炭と木炭とに固定
される。このように、被処理水中の炭素化合物や有機窒
素化合物に関して物理的吸着能力が高い活性炭を併用す
ることによって、生物処理と物理処理とによって更にＴ
ＯＣを低下できる。さらに、上記木炭は上記活性炭より
は大きく、上記水中撹拌手段による撹拌や上記曝気手段
による撹拌によって流動することがない。したがって、
上記木炭に固定された微生物の剥離を防止できる。その
際に、粒状で流動し易い上記活性炭を袋に詰めて上記木
炭の上に積層し、下向流で処理するので、被処理水が強
く撹拌されても活性炭が流動することはない。したがっ
て、上記活性炭に固定された微生物の剥離を防止でき
る。
【０１４６】また、請求項２に係る発明の超純水製造装
置は、上記木炭の充填領域には垂直方向に管状の網を配
設し、上記木炭を上記管状の網と網との間に充填したの
で、備長炭は被処理水と均等に接触して処理を行うこと
ができ、上記微生物が異常繁殖した場合の目詰まりを防
止できる。
置は、上記木炭の充填領域には垂直方向に管状の網を配
設し、上記木炭を上記管状の網と網との間に充填したの
で、備長炭は被処理水と均等に接触して処理を行うこと
ができ、上記微生物が異常繁殖した場合の目詰まりを防
止できる。
【０１４７】また、請求項３に係る発明の超純水製造装
置における上記木炭は、大きく、固く、比重が１以上で
ある備長炭であるので、上記水中撹拌手段や上記曝気手
段による強い撹拌によっても粉砕されたり流動したりし
ない。したがって、上記備長炭に固定された微生物の剥
離を防止すると共に、何らかの理由で異常繁殖した微生
物を大きな備長炭に捕捉濾過して、備長炭の生物膜自身
や１次純水製造装置や２次純水製造装置の閉塞や汚染を
防止できる。
置における上記木炭は、大きく、固く、比重が１以上で
ある備長炭であるので、上記水中撹拌手段や上記曝気手
段による強い撹拌によっても粉砕されたり流動したりし
ない。したがって、上記備長炭に固定された微生物の剥
離を防止すると共に、何らかの理由で異常繁殖した微生
物を大きな備長炭に捕捉濾過して、備長炭の生物膜自身
や１次純水製造装置や２次純水製造装置の閉塞や汚染を
防止できる。
【０１４８】また、請求項４に係る発明の超純水製造装
置における上記活性炭は生物活性炭であり、上記木炭は
生物活性木炭であるので、上記活性炭および備長炭に形
成された生物膜層によって、被処理水中の炭素化合物や
有機窒素化合物が微生物分解される。さらに、上記生物
膜層が形成された活性炭や備長炭に対して被処理水を循
環させることによって、被処理水が生物濾過される。し
たがって、上記活性炭および備長炭に対する再生作業を
不要にして、低コストで簡単な方法によってＴＯＣを低
下できる。
置における上記活性炭は生物活性炭であり、上記木炭は
生物活性木炭であるので、上記活性炭および備長炭に形
成された生物膜層によって、被処理水中の炭素化合物や
有機窒素化合物が微生物分解される。さらに、上記生物
膜層が形成された活性炭や備長炭に対して被処理水を循
環させることによって、被処理水が生物濾過される。し
たがって、上記活性炭および備長炭に対する再生作業を
不要にして、低コストで簡単な方法によってＴＯＣを低
下できる。
【０１４９】また、請求項５に係る発明の超純水製造装
置は、上記嫌気有機物処理室に半導体工場からの低濃度
有機排水を導入するので、上記有機窒素化合物を好気性
微生物によって酸化処理した際に発生する硝酸性窒素
を、回収された低濃度有機排水に含まれているＩＰＡや
アセトンを利用して嫌気性微生物によって脱窒処理でき
る。したがって、上記有機窒素化合物を効果的に処理し
て導電率を低下できる。
置は、上記嫌気有機物処理室に半導体工場からの低濃度
有機排水を導入するので、上記有機窒素化合物を好気性
微生物によって酸化処理した際に発生する硝酸性窒素
を、回収された低濃度有機排水に含まれているＩＰＡや
アセトンを利用して嫌気性微生物によって脱窒処理でき
る。したがって、上記有機窒素化合物を効果的に処理し
て導電率を低下できる。
【０１５０】また、請求項６に係る発明の超純水製造装
置における上記水槽は原水の受水槽であるので、原水を
使用する工場には必ず備えられている受水槽を前処理装
置の水槽として流用して、大幅なコストダウンを図るこ
とができる。
置における上記水槽は原水の受水槽であるので、原水を
使用する工場には必ず備えられている受水槽を前処理装
置の水槽として流用して、大幅なコストダウンを図るこ
とができる。
【０１５１】また、請求項７に係る発明の超純水製造装
置における上記前処理装置は、活性炭が充填されて上記
好気有機物処理室からの被処理水を処理する活性炭塔を
有するので、上記嫌気有機物処理室および好気有機物処
理室において微生物処理されなかった残留炭素化合物や
残留有機窒素化合物等を、活性炭塔内の活性炭によって
高度処理できる。
置における上記前処理装置は、活性炭が充填されて上記
好気有機物処理室からの被処理水を処理する活性炭塔を
有するので、上記嫌気有機物処理室および好気有機物処
理室において微生物処理されなかった残留炭素化合物や
残留有機窒素化合物等を、活性炭塔内の活性炭によって
高度処理できる。
【０１５２】また、請求項８に係る発明の超純水製造装
置における上記活性炭塔は、生物処理を主体とした処理
を行う第１活性炭塔と、物理処理を主体とした処理を行
う第２活性炭塔とで構成されているので、被処理水に対
して、第１活性炭塔による生物処理と第２活性炭塔によ
る物理的な吸着処理とを行うことができる。したがっ
て、被処理水中の炭素化合物や有機窒素化合物を含むあ
らゆる有機物に対して効果的に高度処理を行って、１次
純水製造装置や２次純水製造装置の負担を軽減できる。
置における上記活性炭塔は、生物処理を主体とした処理
を行う第１活性炭塔と、物理処理を主体とした処理を行
う第２活性炭塔とで構成されているので、被処理水に対
して、第１活性炭塔による生物処理と第２活性炭塔によ
る物理的な吸着処理とを行うことができる。したがっ
て、被処理水中の炭素化合物や有機窒素化合物を含むあ
らゆる有機物に対して効果的に高度処理を行って、１次
純水製造装置や２次純水製造装置の負担を軽減できる。
【０１５３】また、請求項９に係る発明の超純水製造装
置は、上記第１活性炭塔を、上記好気有機物処理室から
の被処理水を処理して上記嫌気有機物処理室に返す活性
炭塔とし、上記第２活性炭塔を、上記好気有機物処理室
からの被処理水を処理して上記１次純水製造装置に送水
する活性炭塔としたので、上記第２活性炭塔は前処理装
置の最終段階において、微生物の繁殖が少ない活性炭に
よる物理的な吸着処理が行われる。したがって、活性炭
が持つ本来の物理的吸着作用のみによって、炭素化合物
や有機窒素化合物等のあらゆる有機物を確実に処理でき
る。
置は、上記第１活性炭塔を、上記好気有機物処理室から
の被処理水を処理して上記嫌気有機物処理室に返す活性
炭塔とし、上記第２活性炭塔を、上記好気有機物処理室
からの被処理水を処理して上記１次純水製造装置に送水
する活性炭塔としたので、上記第２活性炭塔は前処理装
置の最終段階において、微生物の繁殖が少ない活性炭に
よる物理的な吸着処理が行われる。したがって、活性炭
が持つ本来の物理的吸着作用のみによって、炭素化合物
や有機窒素化合物等のあらゆる有機物を確実に処理でき
る。
【０１５４】また、請求項１０に係る発明の超純水製造
装置における上記１次純水製造装置は、電気脱イオン装
置を含んでいるので、イオン交換樹脂装置を必要とはし
ない。また、イオン交換樹脂装置のように再生排水は発
生しない。
装置における上記１次純水製造装置は、電気脱イオン装
置を含んでいるので、イオン交換樹脂装置を必要とはし
ない。また、イオン交換樹脂装置のように再生排水は発
生しない。
【０１５５】また、請求項１１に係る発明の超純水製造
装置は、上記嫌気有機物処理室および好気有機物処理室
の各上部に異なる逆洗排水管の一端を接続し、上記嫌気
性微生物の固定化担体および好気性微生物の固定化担体
の直下に設置された散気管から逆洗用ブロアからの空気
を散気するので、上記嫌気有機物処理室および好気有機
物処理室内において、被処理水中のイオンを体内に取り
込んで固定化担体表面に繁殖した嫌気性微生物および好
気性微生物を自然剥離する前に強制的に逆洗によって除
去できる。したがって、１次純水製造装置が、上記自然
剥離した微生物の付着によって低下してしまうことを防
止できる。
装置は、上記嫌気有機物処理室および好気有機物処理室
の各上部に異なる逆洗排水管の一端を接続し、上記嫌気
性微生物の固定化担体および好気性微生物の固定化担体
の直下に設置された散気管から逆洗用ブロアからの空気
を散気するので、上記嫌気有機物処理室および好気有機
物処理室内において、被処理水中のイオンを体内に取り
込んで固定化担体表面に繁殖した嫌気性微生物および好
気性微生物を自然剥離する前に強制的に逆洗によって除
去できる。したがって、１次純水製造装置が、上記自然
剥離した微生物の付着によって低下してしまうことを防
止できる。
【０１５６】また、請求項１２に係る発明の超純水製造
装置は、上記電気脱イオン装置からの濃縮水を上記嫌気
有機物処理室に導入するので、上記濃縮水中のイオンは
嫌気有機物処理室内の微生物の体内に取り込まれて処理
される。したがって、上記電気脱イオン装置からの濃縮
水を再利用できる。
装置は、上記電気脱イオン装置からの濃縮水を上記嫌気
有機物処理室に導入するので、上記濃縮水中のイオンは
嫌気有機物処理室内の微生物の体内に取り込まれて処理
される。したがって、上記電気脱イオン装置からの濃縮
水を再利用できる。
【０１５７】また、請求項１３に係る発明の超純水製造
装置は、上記電気脱イオン装置からの濃縮水を補助電気
脱イオン装置によって脱イオン処理し、上記補助電気脱
イオン装置からの処理水を上記嫌気有機物処理室に導入
して再利用するので、上記嫌気有機物処理室内のイオン
負荷を低減できる。したがって、上記嫌気有機物処理室
および好気有機物処理室内の微生物における有機物やイ
オン等の処理能力の急速な低下を押さえることができ
る。
装置は、上記電気脱イオン装置からの濃縮水を補助電気
脱イオン装置によって脱イオン処理し、上記補助電気脱
イオン装置からの処理水を上記嫌気有機物処理室に導入
して再利用するので、上記嫌気有機物処理室内のイオン
負荷を低減できる。したがって、上記嫌気有機物処理室
および好気有機物処理室内の微生物における有機物やイ
オン等の処理能力の急速な低下を押さえることができ
る。
【０１５８】また、請求項１４に係る発明の超純水製造
装置は、上記電気脱イオン装置からの濃縮水を補助電気
脱イオン装置によって脱イオンした処理水を、上記嫌気
有機物処理室および好気有機物処理室より下流に位置し
て上記第２活性炭塔からの処理水を受ける処理水槽に導
入して再利用するので、上記嫌気有機物処理室および好
気有機物処理室の容積を上記補助電気脱イオン装置から
の処理水分だけ小さくできる。こうして、１次純水処理
装置の電気脱イオン装置からの濃縮水を再利用する超純
水製造装置の小型化を図ることができる。
装置は、上記電気脱イオン装置からの濃縮水を補助電気
脱イオン装置によって脱イオンした処理水を、上記嫌気
有機物処理室および好気有機物処理室より下流に位置し
て上記第２活性炭塔からの処理水を受ける処理水槽に導
入して再利用するので、上記嫌気有機物処理室および好
気有機物処理室の容積を上記補助電気脱イオン装置から
の処理水分だけ小さくできる。こうして、１次純水処理
装置の電気脱イオン装置からの濃縮水を再利用する超純
水製造装置の小型化を図ることができる。
【０１５９】また、請求項１５に係る発明の超純水製造
装置は、被処理水を、上記嫌気有機物処理室と好気有機
物処理室と第１活性炭塔とを循環させる循環手段を有す
るので、上記嫌気有機物処理室と好気有機物処理室と第
１活性炭塔とを１回通しただけでは十分に炭素化合物や
有機窒素化合物等が処理されないような水質を、被処理
水が上記嫌気有機物処理室と好気有機物処理室と第１活
性炭塔とを何回も循環させることによって容易に水質を
確保できる。さらに、上記第１活性炭塔内を被処理水が
早い流速で循環することによって、上記第１活性炭塔内
の溶存酸素をある程度維持して内部の活性炭を生物活性
炭にできる。さらに、上記好気有機物処理室において上
記有機窒素化合物を酸化処理してできた硝酸性窒素を上
記嫌気有機物処理室に戻すことによって脱窒でき、導電
率を低下できる。
装置は、被処理水を、上記嫌気有機物処理室と好気有機
物処理室と第１活性炭塔とを循環させる循環手段を有す
るので、上記嫌気有機物処理室と好気有機物処理室と第
１活性炭塔とを１回通しただけでは十分に炭素化合物や
有機窒素化合物等が処理されないような水質を、被処理
水が上記嫌気有機物処理室と好気有機物処理室と第１活
性炭塔とを何回も循環させることによって容易に水質を
確保できる。さらに、上記第１活性炭塔内を被処理水が
早い流速で循環することによって、上記第１活性炭塔内
の溶存酸素をある程度維持して内部の活性炭を生物活性
炭にできる。さらに、上記好気有機物処理室において上
記有機窒素化合物を酸化処理してできた硝酸性窒素を上
記嫌気有機物処理室に戻すことによって脱窒でき、導電
率を低下できる。
【０１６０】また、請求項１６に係る発明の超純水製造
装置は、上記第２活性炭塔からの被処理水のＴＯＣを計
測し、このＴＯＣ計からの信号に基づいて、ＴＯＣ制御
手段によって、上記水中撹拌手段の回転数,上記曝気手
段の曝気量および上記循環手段による循環量の少なくと
も一つ、または、それぞれを組み合わせて制御するの
で、仮に炭素化合物や有機窒素化合物等が急に増えて水
質が悪化しても、上記水中撹拌手段の回転数増加、上記
曝気手段の曝気量増加、および、上記循環手段による循
環量増加の少なくとも１つ、または、それぞれを組み合
わせて実行して、炭素化合物や有機窒素化合物の処理能
力を高めることができる。すなわち、この発明によれ
ば、水質を容易に確保できるのである。
装置は、上記第２活性炭塔からの被処理水のＴＯＣを計
測し、このＴＯＣ計からの信号に基づいて、ＴＯＣ制御
手段によって、上記水中撹拌手段の回転数,上記曝気手
段の曝気量および上記循環手段による循環量の少なくと
も一つ、または、それぞれを組み合わせて制御するの
で、仮に炭素化合物や有機窒素化合物等が急に増えて水
質が悪化しても、上記水中撹拌手段の回転数増加、上記
曝気手段の曝気量増加、および、上記循環手段による循
環量増加の少なくとも１つ、または、それぞれを組み合
わせて実行して、炭素化合物や有機窒素化合物の処理能
力を高めることができる。すなわち、この発明によれ
ば、水質を容易に確保できるのである。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の超純水製造装置における一例を示す
構成図である。
構成図である。
【図２】図１とは異なる超純水製造装置の構成図であ
る。
る。
【図３】図１および図２とは異なる超純水製造装置の構
成図である。
成図である。
【図４】図１〜図３とは異なる超純水製造装置の構成図
である。
である。
【図５】図１〜図４とは異なる超純水製造装置の構成図
である。
である。
【図６】図１〜図５とは異なる超純水製造装置の構成図
である。
である。
【図７】図１〜図６とは異なる超純水製造装置の構成図
である。
である。
【図８】１次純水製造装置に電気脱イオン装置を含む超
純水製造装置の構成図である。
純水製造装置の構成図である。
【図９】図８とは異なる１次純水製造装置に電気脱イオ
ン装置を含む超純水製造装置の構成図である。
ン装置を含む超純水製造装置の構成図である。
【図１０】図８および図９とは異なる１次純水製造装置
に電気脱イオン装置を含む超純水製造装置の構成図であ
る。
に電気脱イオン装置を含む超純水製造装置の構成図であ
る。
【図１１】図８〜図１０とは異なる１次純水製造装置に
電気脱イオン装置を含む超純水製造装置の構成図であ
る。
電気脱イオン装置を含む超純水製造装置の構成図であ
る。
【図１２】図８〜図１１とは異なる１次純水製造装置に
電気脱イオン装置を含む超純水製造装置の構成図であ
る。
電気脱イオン装置を含む超純水製造装置の構成図であ
る。
【図１３】図８〜図１２とは異なる１次純水製造装置に
電気脱イオン装置を含む超純水製造装置の構成図であ
る。
電気脱イオン装置を含む超純水製造装置の構成図であ
る。
【図１４】図８〜図１３とは異なる１次純水製造装置に
電気脱イオン装置を含む超純水製造装置の構成図であ
る。
電気脱イオン装置を含む超純水製造装置の構成図であ
る。
【図１５】１次純水製造装置にイオン交換樹脂装置を有
する超純水製造装置の構成図である。
する超純水製造装置の構成図である。
【図１６】従来の超純水製造装置における前処理装置の
具体例を示す図である。
具体例を示す図である。
【図１７】微生物を用いて前処理を行う従来の超純水製
造装置の構成図である。
造装置の構成図である。
【図１８】前処理装置に嫌気性微生物と好気性微生物と
の生物処理を利用した従来の超純水製造装置の構成図で
ある。
の生物処理を利用した従来の超純水製造装置の構成図で
ある。
【図１９】前処理装置に嫌気性微生物と好気性微生物と
の生物処理を利用した図１８とは異なる従来の超純水製
造装置の構成図である。
の生物処理を利用した図１８とは異なる従来の超純水製
造装置の構成図である。
３１,６１,８１,１０１,１２１,１３１,１４１,１７１,
２０１,２３１,２６１,２９１…第１水槽、３２,６２,
１４２,１７２,２０２,２３２,２６２,２９２…循環用
活性炭塔、３３,６３,８３,１０３,１４３,１７３,２０
３,２３３,２６３,２９３…送水用活性炭塔、３４,６
４,８４,１０４,１４４,１７４,２０４,２３４,２６４,
２９４…第２水槽、３５,６５,８５,１０５,１２５,１
３５,１４５,１７５,２０５,２３５,２６５,２９５…１
次純水製造装置、３６,６６,８６,１０６,１２６,１３
６,１４６,１７６,２０６,２３６,２６６…２次純水製
造装置、３９,１５５,１９１,２２１,２５２…嫌気有機
物処理室、４０,１５６…好気有機物処理室、４１,７
２,９１,１１１,１５２,１８２,２１２,２４２,２７２
…水中撹拌機、４２…水流ドラフト、 ４
３…活性炭袋、４４,１６４…備長炭、 ４
５,１６１…管状ネット、４６,７１,９０,１１０,１５
１,１８１,２１１,２４１,２７１…ブロア、４７,１６
２,１６９,１８７,２１７,２４７,２７７…散気管、５
１,７０,１５０,１８０,２１０,２４０,２７０…活性炭
塔循環ポンプ、５３,１７０…活性炭塔送水ポンプ、５
５,６８,８８,１０８,１４８,１７８,２０８,２３８,２
６８…ＴＯＣ計、１６３,１８８,２１８,２４８,２７８
…逆洗用ブロア、１６６,１８９,２１９,２４９,２５
１,２７９,２８１…電気脱イオン装置、２９７…イオン
交換樹脂装置、 ２９９…再生排水処理装置。
２０１,２３１,２６１,２９１…第１水槽、３２,６２,
１４２,１７２,２０２,２３２,２６２,２９２…循環用
活性炭塔、３３,６３,８３,１０３,１４３,１７３,２０
３,２３３,２６３,２９３…送水用活性炭塔、３４,６
４,８４,１０４,１４４,１７４,２０４,２３４,２６４,
２９４…第２水槽、３５,６５,８５,１０５,１２５,１
３５,１４５,１７５,２０５,２３５,２６５,２９５…１
次純水製造装置、３６,６６,８６,１０６,１２６,１３
６,１４６,１７６,２０６,２３６,２６６…２次純水製
造装置、３９,１５５,１９１,２２１,２５２…嫌気有機
物処理室、４０,１５６…好気有機物処理室、４１,７
２,９１,１１１,１５２,１８２,２１２,２４２,２７２
…水中撹拌機、４２…水流ドラフト、 ４
３…活性炭袋、４４,１６４…備長炭、 ４
５,１６１…管状ネット、４６,７１,９０,１１０,１５
１,１８１,２１１,２４１,２７１…ブロア、４７,１６
２,１６９,１８７,２１７,２４７,２７７…散気管、５
１,７０,１５０,１８０,２１０,２４０,２７０…活性炭
塔循環ポンプ、５３,１７０…活性炭塔送水ポンプ、５
５,６８,８８,１０８,１４８,１７８,２０８,２３８,２
６８…ＴＯＣ計、１６３,１８８,２１８,２４８,２７８
…逆洗用ブロア、１６６,１８９,２１９,２４９,２５
１,２７９,２８１…電気脱イオン装置、２９７…イオン
交換樹脂装置、 ２９９…再生排水処理装置。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｃ０２Ｆ 9/00 ５０４ Ｃ０２Ｆ 9/00 ５０４Ａ
3/10 3/10 Ｚ
3/30 3/30 Ａ
(72)発明者 岡本 誠二
大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号
シャープ株式会社内
(72)発明者 坂田 和之
大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号
シャープ株式会社内
(72)発明者 瀬良 雅実
大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号
シャープ株式会社内
(72)発明者 横谷 明津志
大阪府大阪市平野区加美南４丁目３番41
号 シャープテクノシステム株式会社内
(56)参考文献 特開 平６−63592（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−251998（ＪＰ，Ａ)
実開 昭60−67197（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C02F 9/00 501 - 504
C02F 3/02 - 3/10
C02F 3/30
C02F 3/34 101
Claims (16)
- 【請求項１】 原水の前処理装置と１次純水製造装置と
２次純水製造装置を有する超純水製造装置において、 上記前処理装置は、 水槽を仕切り壁で仕切って形成されると共に、互いの底
部が連通された嫌気有機物処理室と好気有機物処理室と
を有し、 上記原水は、上記嫌気有機物処理室に導入されるように
なっており、 上記嫌気有機物処理室には、被処理水の循環流を形成す
る水中撹拌手段が設置されると共に、上記循環流の下向
流領域に嫌気性微生物の固定化担体が充填されており、 上記好気有機物処理室には、被処理水の循環流を形成す
る曝気手段が設置されると共に、上記循環流の下向流領
域に好気性微生物の固定化担体となる活性炭および木炭
が充填されており、上記活性炭は、袋に詰められて上記
木炭の上に積層されていることを特徴とする超純水製造
装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の超純水製造装置におい
て、 上 記木炭の充填領域には、垂直方向に管状の網が配設さ
れており、 上記木炭は、上記管状の網と網との間に充填されている
ことを特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の超純水
製造装置において、 上記木炭は、備長炭であることを特徴とする超純水製造
装置。 - 【請求項４】 請求項１または請求項２に記載の超純水
製造装置において、 上記活性炭は、微生物が繁殖している生物活性炭であ
り、 上記木炭は、微生物が繁殖している生物活性木炭である
ことを特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項５】 請求項１乃至請求項４の何れか一つに記
載の超純水製造装置において、 上記嫌気有機物処理室には、半導体工場からの低濃度有
機排水を導入するようになっていることを特徴とする超
純水製造装置。 - 【請求項６】 請求項１乃至請求項５の何れか一つに記
載の超純水製造装置において、 上記水槽は、原水の受水槽であることを特徴とする超純
水製造装置。 - 【請求項７】 請求項１乃至請求項６の何れか一つに記
載の超純水製造装置において、 上記前処理装置は、活性炭が充填されると共に、上記好
気有機物処理室からの被処理水を処理する活性炭塔を有
することを特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項８】 請求項７に記載の超純水製造装置におい
て、 上記活性炭塔は、生物処理を主体とした処理を行う第１
活性炭塔と、物理処理を主体とした処理を行う第２活性
炭塔とで構成されていることを特徴とする超純水製造装
置。 - 【請求項９】 請求項８に記載の超純水製造装置におい
て、 上記第１活性炭塔は、上記好気有機物処理室からの被処
理水を処理して上記嫌気有機物処理室に返す活性炭塔で
あり、 上記第２活性炭塔は、上記好気有機物処理室からの被処
理水を処理して上記１次純水製造装置に送水する活性炭
塔であることを特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項１０】 請求項９に記載の超純水製造装置にお
いて、 上記１次純水製造装置は、電気脱イオン装置を含んでい
ることを特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項１１】 請求項１０に記載の超純水製造装置に
おいて、 上記嫌気有機物処理室の上部に一端が接続された第１逆
洗排水管と、 上記好気有機物処理室の上部に一端が接続された第２逆
洗排水管と、 逆洗用ブロアと、 上記嫌気性微生物の固定化担体および好気性微生物の固
定化担体の直下に設置されて上記逆洗用ブロアからの空
気を散気する散気管を備えたことを特徴とする超純水製
造装置。 - 【請求項１２】 請求項１０に記載の超純水製造装置に
おいて。 上記電気脱イオン装置からの濃縮されたイオンを含む濃
縮水を上記嫌気有機物処理室に導入するようになってい
ることを特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項１３】 請求項１０に記載の超純水製造装置に
おいて、 上記電気脱イオン装置からの濃縮水が導入されると共
に、この濃縮水に対して脱イオン処理を行う補助電気脱
イオン装置を備えて、 上記補助電気脱イオン装置からの処理水を上記嫌気有機
物処理室に導入するようになっていることを特徴とする
超純水製造装置。 - 【請求項１４】 請求項１０に記載の超純水製造装置に
おいて、 上記電気脱イオン装置からの濃縮水が導入されると共
に、この濃縮水に対して脱イオン処理を行う補助電気脱
イオン装置と、 上記補助電気脱イオン装置からの処理水を上記第２活性
炭塔からの処理水と共に受ける処理水槽を備えたことを
特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項１５】 請求項９に記載の超純水製造装置にお
いて、 被処理水を、上記嫌気有機物処理室と好気有機物処理室
と第１活性炭塔とを循環させる循環手段を備えたことを
特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項１６】 請求項１５に記載の超純水製造装置に
おいて、 上記第２活性炭塔からの被処理水のＴＯＣを計測し、こ
の計測したＴＯＣを表す信号を出力するＴＯＣ計と、 上記ＴＯＣ計からの信号に基づいて、上記水中撹拌手段
の回転数,上記曝気手段の曝気量および上記循環手段に
よる循環量の少なくとも一つ、または、それぞれを組み
合わせて制御するＴＯＣ制御手段を備えたことを特徴と
する超純水製造装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27753497A JP3370576B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 超純水製造装置 |
| US09/166,519 US6177005B1 (en) | 1997-10-09 | 1998-10-06 | System for producing ultrapure water having a TOC density of no more than 0.5 ppb |
| KR1019980042170A KR100305035B1 (ko) | 1997-10-09 | 1998-10-09 | 초순수제조장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27753497A JP3370576B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 超純水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11114596A JPH11114596A (ja) | 1999-04-27 |
| JP3370576B2 true JP3370576B2 (ja) | 2003-01-27 |
Family
ID=17584908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27753497A Expired - Fee Related JP3370576B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 超純水製造装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6177005B1 (ja) |
| JP (1) | JP3370576B2 (ja) |
| KR (1) | KR100305035B1 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3732025B2 (ja) | 1998-11-10 | 2006-01-05 | シャープ株式会社 | 排水処理方法および排水処理装置 |
| KR100689693B1 (ko) * | 2000-12-19 | 2007-03-08 | 삼성전자주식회사 | 초순수의 제조방법 |
| JP2002282850A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-02 | Mitsubishi Electric Corp | 超純水製造装置 |
| JP5055662B2 (ja) * | 2001-05-11 | 2012-10-24 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP3948337B2 (ja) * | 2001-10-18 | 2007-07-25 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| US6905603B2 (en) | 2002-01-18 | 2005-06-14 | Behzad Mirzayi | Treatment of contaminated activated charcoal |
| JP3969185B2 (ja) * | 2002-05-24 | 2007-09-05 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置 |
| US6953044B2 (en) * | 2003-06-27 | 2005-10-11 | Powerchip Semiconductor Corp. | Drained water recovery system and method for operating the same |
| JP4029100B2 (ja) | 2005-09-14 | 2008-01-09 | シャープ株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
| JP4490904B2 (ja) * | 2005-11-22 | 2010-06-30 | シャープ株式会社 | 水処理装置 |
| JP5101096B2 (ja) * | 2006-07-27 | 2012-12-19 | 住友林業株式会社 | 木材の長期保存方法 |
| KR20090094041A (ko) * | 2006-12-22 | 2009-09-02 | 지멘스 워터 테크놀로지스 코포레이션 | 공정 스트림 처리를 위한 시스템 및 방법 |
| JP4879925B2 (ja) * | 2008-02-25 | 2012-02-22 | シャープ株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
| JP5062572B2 (ja) * | 2008-07-01 | 2012-10-31 | 新日本フエザーコア株式会社 | 接触酸化コンビネーションシステム |
| JP2009301587A (ja) * | 2009-09-28 | 2009-12-24 | Yoshitoshi Maeda | 水の自動販売機 |
| CN105645693A (zh) * | 2016-03-22 | 2016-06-08 | 苏州百诚防腐设备有限公司 | 一种酸液废水的处理工艺 |
| CN108178449A (zh) * | 2018-01-12 | 2018-06-19 | 西安泽源湿地科技股份有限公司 | 池塘智能生物过滤装置 |
Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4056465A (en) * | 1976-04-12 | 1977-11-01 | Air Products And Chemicals, Inc. | Production of non-bulking activated sludge |
| FR2443426A1 (fr) * | 1978-12-07 | 1980-07-04 | Rech Prod Agents Chimi Et | Procede de traitement biologique d'un effluent liquide sur lit de matiere adsorbante |
| US4731185A (en) * | 1981-07-13 | 1988-03-15 | Air Products And Chemicals, Inc. | Biological wastewater treating system |
| JPS60193596A (ja) * | 1984-03-15 | 1985-10-02 | Kubota Ltd | 汚水処理装置 |
| US5062958A (en) * | 1988-05-12 | 1991-11-05 | Biotrol, Inc. | Method for water purification |
| US4933076A (en) * | 1988-09-09 | 1990-06-12 | Eiji Oshima | Multi-unit flush system having carbon adsorber column in calcium carbonate bed |
| US4919815A (en) * | 1989-02-06 | 1990-04-24 | Zimpro/Passavant Inc. | Two-stage anaerobic/aerobic treatment process |
| EP0456607B1 (de) * | 1990-05-08 | 1996-01-03 | Ciba-Geigy Ag | Wasserreinigungsverfahren |
| JP2812640B2 (ja) * | 1992-07-31 | 1998-10-22 | シャープ株式会社 | 排水処理装置および排水処理方法 |
| JP3468784B2 (ja) | 1992-08-25 | 2003-11-17 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置 |
| JP2564080B2 (ja) * | 1992-10-29 | 1996-12-18 | シャープ株式会社 | 排水処理方法および排水処理装置 |
| JP3227863B2 (ja) | 1993-02-10 | 2001-11-12 | 栗田工業株式会社 | 超純水の製造方法 |
| JP3107950B2 (ja) * | 1993-07-07 | 2000-11-13 | オルガノ株式会社 | 生物処理装置、及び同装置を用いた水処理方法 |
| JP3056361B2 (ja) * | 1993-11-08 | 2000-06-26 | シャープ株式会社 | 排水処理装置および排水処理方法 |
| JP3491328B2 (ja) | 1994-04-15 | 2004-01-26 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置 |
| JP3200301B2 (ja) * | 1994-07-22 | 2001-08-20 | オルガノ株式会社 | 純水又は超純水の製造方法及び製造装置 |
| US5462666A (en) * | 1994-09-28 | 1995-10-31 | Rjjb & G, Inc. | Treatment of nutrient-rich water |
| JP3233558B2 (ja) * | 1995-08-01 | 2001-11-26 | シャープ株式会社 | 過酸化水素除去装置 |
| JP3244404B2 (ja) * | 1995-08-16 | 2002-01-07 | シャープ株式会社 | 水処理方法および水処理装置 |
| JP3323040B2 (ja) | 1995-09-06 | 2002-09-09 | シャープ株式会社 | 超純水製造装置 |
| JP3302227B2 (ja) * | 1995-09-06 | 2002-07-15 | シャープ株式会社 | 排水処理装置および排水処理方法 |
| JP3233563B2 (ja) * | 1995-12-28 | 2001-11-26 | シャープ株式会社 | 排水処理装置および排水処理方法 |
| JP3332722B2 (ja) * | 1996-05-28 | 2002-10-07 | シャープ株式会社 | 有機排水処理方法および有機排水処理装置 |
| KR980001843A (ko) * | 1996-06-19 | 1998-03-30 | 유수 | 폐수 처리용 하향 유동형 미생물 반응기 |
| JP3350364B2 (ja) * | 1996-09-06 | 2002-11-25 | シャープ株式会社 | 排水処理方法および排水処理装置 |
-
1997
- 1997-10-09 JP JP27753497A patent/JP3370576B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-10-06 US US09/166,519 patent/US6177005B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-09 KR KR1019980042170A patent/KR100305035B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11114596A (ja) | 1999-04-27 |
| KR100305035B1 (ko) | 2001-11-22 |
| KR19990036968A (ko) | 1999-05-25 |
| US6177005B1 (en) | 2001-01-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3370576B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP3244404B2 (ja) | 水処理方法および水処理装置 | |
| US8071055B2 (en) | Water treatment techniques | |
| US3773659A (en) | System for processing wastes | |
| KR0180853B1 (ko) | 혐기 및 호기의 양방의 유기물 처리를 행하는 전처리 장치를 갖춘 초순수 제조 장치 | |
| KR100992827B1 (ko) | 막분리를 이용한 폐수처리 시스템 | |
| JP2006289153A (ja) | 汚水浄化方法及び装置 | |
| CN1931750B (zh) | 石油化工污水回用处理工艺 | |
| KR100603182B1 (ko) | 폐야쿠르트 용기를 생물막의 담체로 이용한 하수 고도처리공법 | |
| KR100745974B1 (ko) | 선박의 분뇨 및 오수처리장치 | |
| CN104045206A (zh) | Uv/o3+baf组合式高级氧化污水处理设备 | |
| JP3433601B2 (ja) | 排水の回収、浄化装置 | |
| KR100583904B1 (ko) | 오ㆍ폐수 고도처리 시스템 | |
| JP4117361B2 (ja) | オゾンばっ気室を備える嫌気処理槽、及び汚水浄化槽 | |
| JP2002336887A (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
| JP5519898B2 (ja) | リンの回収方法 | |
| JP2000204629A (ja) | 自己完結型水洗式トイレ | |
| CN214218415U (zh) | 一体化污水处理装置 | |
| JP4119998B2 (ja) | 窒素除去槽を備える嫌気処理槽、及び汚水浄化槽 | |
| CN214654321U (zh) | 一种基于mbr-臭氧-baf的高含盐废水的处理系统 | |
| JP2010172843A (ja) | 水処理装置及び水処理方法 | |
| KR101993683B1 (ko) | 실리카 함유 폐수의 처리방법 | |
| JP2005185935A (ja) | 浄化槽及び汚水処理方法 | |
| JPH08281285A (ja) | 浄化装置 | |
| JP2004121964A (ja) | 第二室に濾材層を有する固液分離槽及び汚水浄化槽 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081115 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091115 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |