JP3361270B2 - ガラス製品の製造方法およびフィルター - Google Patents
ガラス製品の製造方法およびフィルターInfo
- Publication number
- JP3361270B2 JP3361270B2 JP08660098A JP8660098A JP3361270B2 JP 3361270 B2 JP3361270 B2 JP 3361270B2 JP 08660098 A JP08660098 A JP 08660098A JP 8660098 A JP8660098 A JP 8660098A JP 3361270 B2 JP3361270 B2 JP 3361270B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- filter
- polishing
- polishing liquid
- solid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガラス製品の製造方
法、フィルターおよびこれを用いた固体撮像装置に関
し、さらに詳しくは、表面が高精度に研磨されたガラス
製品、特にリン酸塩ガラス製品やフツリン酸塩ガラス製
品を効率よく製造する方法、その方法により得られたガ
ラス製品からなるフィルターおよび該フィルターを用い
た固体撮像装置に関するものである。
法、フィルターおよびこれを用いた固体撮像装置に関
し、さらに詳しくは、表面が高精度に研磨されたガラス
製品、特にリン酸塩ガラス製品やフツリン酸塩ガラス製
品を効率よく製造する方法、その方法により得られたガ
ラス製品からなるフィルターおよび該フィルターを用い
た固体撮像装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、リン酸塩をガラスネットワーク
フォーマーとしたガラスは、紫外域での透過性に優れる
ことから、紫外域の透過性が重要視される用途などに用
いられる。また、カラーフィルターガラスにおいては、
ガラスネットワークフォーマーとしてＳｉＯ2やＢ2Ｏ3
などを用いたものより、リン酸塩をガラスネットワーク
フォーマーとした着色ガラス（カラーフィルターガラ
ス）が、Ｆｅ2+、Ｃｕ2+などの遷移金属イオンによって
安定に着色しうるために、各種用途に用いられている。
フォーマーとしたガラスは、紫外域での透過性に優れる
ことから、紫外域の透過性が重要視される用途などに用
いられる。また、カラーフィルターガラスにおいては、
ガラスネットワークフォーマーとしてＳｉＯ2やＢ2Ｏ3
などを用いたものより、リン酸塩をガラスネットワーク
フォーマーとした着色ガラス（カラーフィルターガラ
ス）が、Ｆｅ2+、Ｃｕ2+などの遷移金属イオンによって
安定に着色しうるために、各種用途に用いられている。
【０００３】ところで、ガラスの安定性、光学恒数、透
過特性、化学的耐久性などを向上させるために、Ｌｉ2
Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｃｓ2Ｏなどのアルカリ金属酸化
物、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＢａＯなどのアルカリ土
類金属酸化物、ＺｎＯ、ＰｂＯなどの他の二価金属酸化
物あるいはＦなどを添加することが、しばしば行われて
いる。これらを適宜添加することにより、ガラスは成形
可能な安定性を有することができ、失透することなく大
量生産が可能となる。
過特性、化学的耐久性などを向上させるために、Ｌｉ2
Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｃｓ2Ｏなどのアルカリ金属酸化
物、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＢａＯなどのアルカリ土
類金属酸化物、ＺｎＯ、ＰｂＯなどの他の二価金属酸化
物あるいはＦなどを添加することが、しばしば行われて
いる。これらを適宜添加することにより、ガラスは成形
可能な安定性を有することができ、失透することなく大
量生産が可能となる。
【０００４】これらのガラスの用途として、例えばカラ
ーＶＴＲカメラなどに使用されるＣＣＤ（Ｃharge Ｃou
pled Ｄevice）の視感度補正フィルターである近赤外吸
収フィルター用が知られている。このフィルターに用い
られるガラスは、着色成分としてＣｕＯを添加し、その
Ｃｕ2+イオンによる吸収を利用して、７００ｎｍより長
波長側を吸収する性質が付与されているが、この場合、
ガラスのネットワークフォーマーの主成分としてリン酸
塩を用いないと、Ｃｕ2+による良好な吸収が発揮されな
い。したがって、このフィルターには、リン酸塩ガラス
やフツリン酸塩ガラスにＣｕＯを添加したガラスが用い
られており、そしてガラスの肉厚を１．０〜２．０ｍｍ
程度まで研磨してＣＣＤなどの固体撮像素子用のフィル
ターとして使用されている。この固体撮像素子において
は、現在高密度化が進んでおり、それに伴い、ＣＣＤを
構成しているフォトダイオードの１マスが非常に小さく
なってきている。そのため、今までは問題とならなかっ
たような、数μｍオーダーの傷でも画像に悪影響を及ぼ
すというようなことが起こるようになってきた。例えば
約７μｍを超える傷が存在すると、フォトダイオードの
ほぼ１マスをつぶしてしまう大きさとなるため、固体撮
像装置の画像が乱れてしまう。したがって、ＣＣＤの近
くに近赤外吸収フィルターを設置し、かつ単位面積に対
する画素が多い場合、高精度な研磨面（研磨傷の幅≦７
μｍ）が必要となる。
ーＶＴＲカメラなどに使用されるＣＣＤ（Ｃharge Ｃou
pled Ｄevice）の視感度補正フィルターである近赤外吸
収フィルター用が知られている。このフィルターに用い
られるガラスは、着色成分としてＣｕＯを添加し、その
Ｃｕ2+イオンによる吸収を利用して、７００ｎｍより長
波長側を吸収する性質が付与されているが、この場合、
ガラスのネットワークフォーマーの主成分としてリン酸
塩を用いないと、Ｃｕ2+による良好な吸収が発揮されな
い。したがって、このフィルターには、リン酸塩ガラス
やフツリン酸塩ガラスにＣｕＯを添加したガラスが用い
られており、そしてガラスの肉厚を１．０〜２．０ｍｍ
程度まで研磨してＣＣＤなどの固体撮像素子用のフィル
ターとして使用されている。この固体撮像素子において
は、現在高密度化が進んでおり、それに伴い、ＣＣＤを
構成しているフォトダイオードの１マスが非常に小さく
なってきている。そのため、今までは問題とならなかっ
たような、数μｍオーダーの傷でも画像に悪影響を及ぼ
すというようなことが起こるようになってきた。例えば
約７μｍを超える傷が存在すると、フォトダイオードの
ほぼ１マスをつぶしてしまう大きさとなるため、固体撮
像装置の画像が乱れてしまう。したがって、ＣＣＤの近
くに近赤外吸収フィルターを設置し、かつ単位面積に対
する画素が多い場合、高精度な研磨面（研磨傷の幅≦７
μｍ）が必要となる。
【０００５】上記のようなリン酸塩をガラスネットワー
クフォーマーとしたリン酸塩ガラスは、本来ガラスの構
造が弱いために、研磨によって傷が生じやすく、化学的
にも反応しやすい。しかしながら、ガラスの硬度を高め
るには組成として限界があり、ボロシリケートガラスな
どのように研磨しやすい硬度を得ることは容易ではな
い。所望の透過特性や化学的耐久性、大量生産可能なガ
ラスの安定性、その他の光学特性を維持しようとすれ
ば、組成の改良としては限界があるために、リン酸塩ガ
ラスやフツリン酸塩ガラスは、ボロシリケートガラスの
ような硬度をうることができず、この系統の多くのガラ
スは、硬度の低いいわゆる研磨しにくいガラスとなる。
したがって、この系統のガラスにおいて、高精度な研磨
面（研磨傷の幅≦７μｍ）を安定に得るには、ガラスの
組成を改良するにしても、研磨技術を改良するにしても
限界があった。
クフォーマーとしたリン酸塩ガラスは、本来ガラスの構
造が弱いために、研磨によって傷が生じやすく、化学的
にも反応しやすい。しかしながら、ガラスの硬度を高め
るには組成として限界があり、ボロシリケートガラスな
どのように研磨しやすい硬度を得ることは容易ではな
い。所望の透過特性や化学的耐久性、大量生産可能なガ
ラスの安定性、その他の光学特性を維持しようとすれ
ば、組成の改良としては限界があるために、リン酸塩ガ
ラスやフツリン酸塩ガラスは、ボロシリケートガラスの
ような硬度をうることができず、この系統の多くのガラ
スは、硬度の低いいわゆる研磨しにくいガラスとなる。
したがって、この系統のガラスにおいて、高精度な研磨
面（研磨傷の幅≦７μｍ）を安定に得るには、ガラスの
組成を改良するにしても、研磨技術を改良するにしても
限界があった。
【０００６】このようなリン酸塩ガラスやフツリン酸塩
ガラスの研磨方法としては、従来水にＣｅＯ2などの研
磨剤を加えた研磨液を用いて、ガラスを研磨する方法が
用いられてきた。一般に、硬度の低いガラスは、研磨の
際の荷重を低くしたり、回転速度を低速にすればガラス
の研磨面の精度は向上するものの、リン酸塩ガラスやフ
ツリン酸塩ガラスは、硬度がかなり低い上に、化学的に
反応しやすいために、研磨精度に限界があり、潜傷が発
達しやすい上、研磨時間に長時間を要するのを免れない
という欠点があった。
ガラスの研磨方法としては、従来水にＣｅＯ2などの研
磨剤を加えた研磨液を用いて、ガラスを研磨する方法が
用いられてきた。一般に、硬度の低いガラスは、研磨の
際の荷重を低くしたり、回転速度を低速にすればガラス
の研磨面の精度は向上するものの、リン酸塩ガラスやフ
ツリン酸塩ガラスは、硬度がかなり低い上に、化学的に
反応しやすいために、研磨精度に限界があり、潜傷が発
達しやすい上、研磨時間に長時間を要するのを免れない
という欠点があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、表面が高精度に研磨されたガラス製品、
特にリン酸塩ガラス製品またはフツリン酸塩ガラス製品
を容易に製造する方法、この方法で得られたガラス製品
からなるフィルターおよび該フィルターを用いた固体撮
像装置を提供することを目的とするものである。
事情のもとで、表面が高精度に研磨されたガラス製品、
特にリン酸塩ガラス製品またはフツリン酸塩ガラス製品
を容易に製造する方法、この方法で得られたガラス製品
からなるフィルターおよび該フィルターを用いた固体撮
像装置を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために、研磨液によるガラス面の研磨方法に
ついて鋭意研究を重ねた結果、従来の研磨方法におい
て、研磨面に比較的大きな傷（＞幅７μｍ）が残りやす
いのは、おそらく研磨中にガラス面と水との化学反応が
生じるためであること、すなわち、ガラス成分中のアル
カリ金属やアルカリ土類金属酸化物などの可溶性成分
が、水中のヒドロニウムイオン（Ｈ3Ｏ+）とイオン交換
反応して、選択的に溶出し、さらにこの溶出成分がガラ
スの骨格を侵食するためであること、またガラスを形成
する酸化物の加水分解により、ガラス表面全体が溶解す
るためであることに着目し、ガラスを研磨する際の研磨
液のｐＨをガラスのｐＨに近づけることにより、ガラス
と研磨液との反応速度が遅くなり、その結果研磨傷が極
めて小さく（≦幅７μｍ）、超平滑面が得られることを
見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
を達成するために、研磨液によるガラス面の研磨方法に
ついて鋭意研究を重ねた結果、従来の研磨方法におい
て、研磨面に比較的大きな傷（＞幅７μｍ）が残りやす
いのは、おそらく研磨中にガラス面と水との化学反応が
生じるためであること、すなわち、ガラス成分中のアル
カリ金属やアルカリ土類金属酸化物などの可溶性成分
が、水中のヒドロニウムイオン（Ｈ3Ｏ+）とイオン交換
反応して、選択的に溶出し、さらにこの溶出成分がガラ
スの骨格を侵食するためであること、またガラスを形成
する酸化物の加水分解により、ガラス表面全体が溶解す
るためであることに着目し、ガラスを研磨する際の研磨
液のｐＨをガラスのｐＨに近づけることにより、ガラス
と研磨液との反応速度が遅くなり、その結果研磨傷が極
めて小さく（≦幅７μｍ）、超平滑面が得られることを
見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
【０００９】すなわち、本発明は、（１）ガラス表面を
研磨液を用いて研磨するに際し、予め前記研磨液のｐＨ
をガラスのｐＨに近似させる操作を施したのち、この研
磨液を使用してガラス表面を研磨することを特徴とする
ガラス製品の製造方法、（２）上記（１）の方法により
得られたガラス製品を用いることを特徴とするフィルタ
ーの製造方法、（３）表面の線状傷の幅が７μｍ以下で
あることを特徴とするリン酸塩ガラスまたはフツリン酸
塩ガラスからなるフィルター、および（４）上記（３）
のフィルターを用いたことを特徴とする固体撮像装置、
を提供するものである。
研磨液を用いて研磨するに際し、予め前記研磨液のｐＨ
をガラスのｐＨに近似させる操作を施したのち、この研
磨液を使用してガラス表面を研磨することを特徴とする
ガラス製品の製造方法、（２）上記（１）の方法により
得られたガラス製品を用いることを特徴とするフィルタ
ーの製造方法、（３）表面の線状傷の幅が７μｍ以下で
あることを特徴とするリン酸塩ガラスまたはフツリン酸
塩ガラスからなるフィルター、および（４）上記（３）
のフィルターを用いたことを特徴とする固体撮像装置、
を提供するものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明のガラス製品の製造方法に
おいては、ガラス表面を研磨液を用いて研磨するが、こ
の際、研磨液のｐＨを、予め研磨すべきガラスのｐＨに
近似させる操作を施すことが必要である。この研磨液
は、水性媒体中に研磨剤を分散させた液（以下、研磨剤
含有水性分散液と称す）であり、そのｐＨを、予め研磨
すべきガラスのｐＨに対して、±１．０以内に調整する
のが好ましい。これにより、ガラスは、初めからそのガ
ラスにとって安定なｐＨの研磨液で研磨されることにな
るため、ガラスと研磨剤含有水性分散液との化学反応を
抑制することが可能となり、その結果、従来の研磨方法
では発生しやすかった研磨傷が極めて発生しにくくな
り、超平滑面のガラスが安定して得られるようになる。
このような点から、研磨液のｐＨは、ガラスのｐＨに対
して、±０．７以内に調整するのがより好ましく、特に
±０．５以内に調整するのが有利である。
おいては、ガラス表面を研磨液を用いて研磨するが、こ
の際、研磨液のｐＨを、予め研磨すべきガラスのｐＨに
近似させる操作を施すことが必要である。この研磨液
は、水性媒体中に研磨剤を分散させた液（以下、研磨剤
含有水性分散液と称す）であり、そのｐＨを、予め研磨
すべきガラスのｐＨに対して、±１．０以内に調整する
のが好ましい。これにより、ガラスは、初めからそのガ
ラスにとって安定なｐＨの研磨液で研磨されることにな
るため、ガラスと研磨剤含有水性分散液との化学反応を
抑制することが可能となり、その結果、従来の研磨方法
では発生しやすかった研磨傷が極めて発生しにくくな
り、超平滑面のガラスが安定して得られるようになる。
このような点から、研磨液のｐＨは、ガラスのｐＨに対
して、±０．７以内に調整するのがより好ましく、特に
±０．５以内に調整するのが有利である。
【００１１】なお、本発明におけるガラスのｐＨは、下
記の方法により測定した値である。すなわち、粒径１．
４ｍｍ〜８５０μｍの研磨すべきガラスの粉末３０ｇ
を、約５０℃のイオン交換水１００ｍｌに加えたのち、
約５０℃の恒温槽中にて、イオン交換水のｐＨが一定に
なるまでスターラーで撹拌する。この一定になったｐＨ
値を研磨すべきガラスのｐＨとする。
記の方法により測定した値である。すなわち、粒径１．
４ｍｍ〜８５０μｍの研磨すべきガラスの粉末３０ｇ
を、約５０℃のイオン交換水１００ｍｌに加えたのち、
約５０℃の恒温槽中にて、イオン交換水のｐＨが一定に
なるまでスターラーで撹拌する。この一定になったｐＨ
値を研磨すべきガラスのｐＨとする。
【００１２】本発明における研磨液（研磨剤含有水性分
散液）の調製に用いる水性媒体としては、例えば水や、
水と水溶性有機溶剤、具体的には低級アルコール類、ケ
トン類、エーテル類および界面活性剤などとの混合物が
挙げられるが、通常は水が用いられる。また、研磨剤と
しては特に制限はなく、従来ガラスの研磨剤として慣用
されているものの中から、任意のものを選択して用いる
ことができる。この研磨剤としては、例えばべんがら、
酸化セリウム、酸化チタン、コロイダルシリカなどの無
機粉末が好ましく挙げられる。この研磨剤の粒度分布
は、通常０．２〜３０μｍ、好ましくは０．２〜２０μ
ｍ、特に好ましくは０．２〜１２μｍの範囲である。た
だし、ここでの粒度分布は、研磨剤の２次粒子径の粒度
分布を含んでいる。これらの研磨剤は単独で用いてもよ
いし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、水
に対する研磨剤の希釈濃度は１〜２０重量％が好まし
く、３〜１５重量％がさらに好ましい。
散液）の調製に用いる水性媒体としては、例えば水や、
水と水溶性有機溶剤、具体的には低級アルコール類、ケ
トン類、エーテル類および界面活性剤などとの混合物が
挙げられるが、通常は水が用いられる。また、研磨剤と
しては特に制限はなく、従来ガラスの研磨剤として慣用
されているものの中から、任意のものを選択して用いる
ことができる。この研磨剤としては、例えばべんがら、
酸化セリウム、酸化チタン、コロイダルシリカなどの無
機粉末が好ましく挙げられる。この研磨剤の粒度分布
は、通常０．２〜３０μｍ、好ましくは０．２〜２０μ
ｍ、特に好ましくは０．２〜１２μｍの範囲である。た
だし、ここでの粒度分布は、研磨剤の２次粒子径の粒度
分布を含んでいる。これらの研磨剤は単独で用いてもよ
いし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、水
に対する研磨剤の希釈濃度は１〜２０重量％が好まし
く、３〜１５重量％がさらに好ましい。
【００１３】また、前記研磨剤のｐＨ調整剤としては、
アルカリを用いてｐＨを調整する場合には、例えばＮａ
ＯＨ、Ｎａ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3、Ｎａ2ＣＯ3・ＮａＨ
ＣＯ3、Ｎａ3ＰＯ4、Ｎａ2ＨＰＯ4、ＮａＨ2ＰＯ4、Ｎ
ａ4Ｐ2Ｏ7、Ｎａ5Ｐ3Ｏ10、Ｎａ6Ｐ4Ｏ13、（ＮａＰ
Ｏ3）3、（ＮａＰＯ3）4、（ＮａＰＯ3）6、２Ｎａ2Ｏ
・ＳｉＯ2・５Ｈ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ・ＳｉＯ2・５Ｈ2Ｏなど
が使用され、これらは単独で用いてもよいし、２種以上
を組み合わせて用いてもよい。一方、酸を用いてｐＨを
調整する場合には、例えばＨＣｌ、ＨＮＯ3、Ｈ2Ｓ
Ｏ4、Ｈ2ＣＯ3、Ｈ3ＰＯ4などが使用され、これらは単
独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いても
よい。
アルカリを用いてｐＨを調整する場合には、例えばＮａ
ＯＨ、Ｎａ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3、Ｎａ2ＣＯ3・ＮａＨ
ＣＯ3、Ｎａ3ＰＯ4、Ｎａ2ＨＰＯ4、ＮａＨ2ＰＯ4、Ｎ
ａ4Ｐ2Ｏ7、Ｎａ5Ｐ3Ｏ10、Ｎａ6Ｐ4Ｏ13、（ＮａＰ
Ｏ3）3、（ＮａＰＯ3）4、（ＮａＰＯ3）6、２Ｎａ2Ｏ
・ＳｉＯ2・５Ｈ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ・ＳｉＯ2・５Ｈ2Ｏなど
が使用され、これらは単独で用いてもよいし、２種以上
を組み合わせて用いてもよい。一方、酸を用いてｐＨを
調整する場合には、例えばＨＣｌ、ＨＮＯ3、Ｈ2Ｓ
Ｏ4、Ｈ2ＣＯ3、Ｈ3ＰＯ4などが使用され、これらは単
独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いても
よい。
【００１４】また、研磨液の調製方法として、例えば研
磨すべきガラスと同種のガラスを水性媒体中に浸漬し
て、ガラス成分を水に溶出させ、ガラスのｐＨに対し
て、通常±１．０以内、好ましくは±０．７以内、特に
好ましくは±０．５以内のｐＨを有する水性溶液を作製
したのち、これに研磨剤を加えて研磨剤含有水性分散液
を調製し、研磨液として用いてもよい。なお、この場
合、水性媒体中に研磨すべきガラスと同種のガラスを浸
漬してガラス成分を溶出させる際、加温すれば、短時間
でガラス成分を溶出させることができる。
磨すべきガラスと同種のガラスを水性媒体中に浸漬し
て、ガラス成分を水に溶出させ、ガラスのｐＨに対し
て、通常±１．０以内、好ましくは±０．７以内、特に
好ましくは±０．５以内のｐＨを有する水性溶液を作製
したのち、これに研磨剤を加えて研磨剤含有水性分散液
を調製し、研磨液として用いてもよい。なお、この場
合、水性媒体中に研磨すべきガラスと同種のガラスを浸
漬してガラス成分を溶出させる際、加温すれば、短時間
でガラス成分を溶出させることができる。
【００１５】本発明の方法が適用されるガラスとしては
特に制限はないが、例えば硬度が低いために研磨傷がつ
きやすく、さらに化学的に反応しやすいガラスであって
も、本発明によれば、研磨傷の幅を小さくし、高精度に
研磨できる点で、このようなガラスに適用した場合に、
本発明の効果が最もよく発揮される。このような硬度が
低いために研磨傷がつきやすく、さらに化学的に反応し
やすいガラスとしては、リン酸塩ガラス、フツリン酸塩
ガラスがある。
特に制限はないが、例えば硬度が低いために研磨傷がつ
きやすく、さらに化学的に反応しやすいガラスであって
も、本発明によれば、研磨傷の幅を小さくし、高精度に
研磨できる点で、このようなガラスに適用した場合に、
本発明の効果が最もよく発揮される。このような硬度が
低いために研磨傷がつきやすく、さらに化学的に反応し
やすいガラスとしては、リン酸塩ガラス、フツリン酸塩
ガラスがある。
【００１６】本発明が適用されるリン酸塩ガラスとして
は、例えば、特公昭５２−５３３０号公報に記載され
た、重量基準で、Ｐ2Ｏ5 ７５〜８８％、Ｌｉ2Ｏ ６
〜１５％、Ａｌ2Ｏ3 ３〜１４％、Ｎａ2Ｏ ０〜５
％、Ｋ2Ｏ ０〜５％、Ｂ2Ｏ3 ０〜５％、ＺｒＯ2 ０
〜５％、ＴｉＯ2 ０〜５％、Ｌａ2Ｏ3 ０〜５％、Ｍ
ｇＯ０〜５％、ＺｎＯ ０〜５％からなる基礎ガラス１
００重量部当たり、ＣｕＯ０．５〜１０．０重量部を含
有するリン酸塩ガラスが挙げられる。このリン酸塩ガラ
スは、４００〜６００ｎｍの波長の光の吸収がほとんど
なく、かつ６００ｎｍを超える波長の光を鋭く吸収する
ことのできるガラスである。
は、例えば、特公昭５２−５３３０号公報に記載され
た、重量基準で、Ｐ2Ｏ5 ７５〜８８％、Ｌｉ2Ｏ ６
〜１５％、Ａｌ2Ｏ3 ３〜１４％、Ｎａ2Ｏ ０〜５
％、Ｋ2Ｏ ０〜５％、Ｂ2Ｏ3 ０〜５％、ＺｒＯ2 ０
〜５％、ＴｉＯ2 ０〜５％、Ｌａ2Ｏ3 ０〜５％、Ｍ
ｇＯ０〜５％、ＺｎＯ ０〜５％からなる基礎ガラス１
００重量部当たり、ＣｕＯ０．５〜１０．０重量部を含
有するリン酸塩ガラスが挙げられる。このリン酸塩ガラ
スは、４００〜６００ｎｍの波長の光の吸収がほとんど
なく、かつ６００ｎｍを超える波長の光を鋭く吸収する
ことのできるガラスである。
【００１７】また、特開昭６２−１２８９４３号公報に
記載された、重量基準で、Ｐ2Ｏ5７５〜９０％、Ａｌ2
Ｏ3 ７．５〜２０％、Ｂ2Ｏ3とＳｉＯ2との合計０〜１
５％、ＢａＯとＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとの合計１〜２
５％、Ｙ2Ｏ3とＬａ2Ｏ3とＺｒＯ2とＴａ2Ｏ3とＴｉＯ2
との合計０〜１５％、ＰｂＯ ０〜１０％からなる基礎
ガラス１００重量部当たり、ＣｕＯ ０．４〜１５．０
重量部を含有するリン酸塩ガラスが挙げられる。このリ
ン酸塩ガラスは、波長４００〜５５０ｎｍの光の透過率
が高く、波長６００〜７００ｎｍの光の透過をシャープ
にカットする上、化学的耐久性の高いガラスである。
記載された、重量基準で、Ｐ2Ｏ5７５〜９０％、Ａｌ2
Ｏ3 ７．５〜２０％、Ｂ2Ｏ3とＳｉＯ2との合計０〜１
５％、ＢａＯとＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとの合計１〜２
５％、Ｙ2Ｏ3とＬａ2Ｏ3とＺｒＯ2とＴａ2Ｏ3とＴｉＯ2
との合計０〜１５％、ＰｂＯ ０〜１０％からなる基礎
ガラス１００重量部当たり、ＣｕＯ ０．４〜１５．０
重量部を含有するリン酸塩ガラスが挙げられる。このリ
ン酸塩ガラスは、波長４００〜５５０ｎｍの光の透過率
が高く、波長６００〜７００ｎｍの光の透過をシャープ
にカットする上、化学的耐久性の高いガラスである。
【００１８】また、米国特許第５６６８０６６号明細書
（特開平９−１００１３６号公報）に記載された、重量
基準で、Ｐ2Ｏ5が３５〜５０％、Ｌｉ2Ｏが０〜５％、
Ｎａ2Ｏが０〜１２％、Ｋ2Ｏが０〜２０％、Ｃｓ2Ｏが
０〜２０％、Ｒ2Ｏ（Ｒはアルカリ金属）が１．５〜２
０％、ＺｎＯが１７〜４８％、ＭｇＯが０〜７％、Ｃａ
Ｏが０〜７％、ＳｒＯが０〜７％、ＢａＯが０〜１２
％、Ｒ’Ｏ（Ｒ’はアルカリ土類金属）が０〜１５％、
ＣｕＯが０．２〜１２％のガラスが挙げられる。このガ
ラスは、紫外部における透過率特性、大量生産可能な安
定性、加工性および耐候性において優れている。
（特開平９−１００１３６号公報）に記載された、重量
基準で、Ｐ2Ｏ5が３５〜５０％、Ｌｉ2Ｏが０〜５％、
Ｎａ2Ｏが０〜１２％、Ｋ2Ｏが０〜２０％、Ｃｓ2Ｏが
０〜２０％、Ｒ2Ｏ（Ｒはアルカリ金属）が１．５〜２
０％、ＺｎＯが１７〜４８％、ＭｇＯが０〜７％、Ｃａ
Ｏが０〜７％、ＳｒＯが０〜７％、ＢａＯが０〜１２
％、Ｒ’Ｏ（Ｒ’はアルカリ土類金属）が０〜１５％、
ＣｕＯが０．２〜１２％のガラスが挙げられる。このガ
ラスは、紫外部における透過率特性、大量生産可能な安
定性、加工性および耐候性において優れている。
【００１９】一方、本発明の方法が適用されるフツリン
酸塩ガラスとしては、例えばＰ2Ｏ5が４５重量％以下
で、ＡｌＦ3が１重量％以上含有するフツリン酸塩ガラ
ス、特に、基礎ガラスが、特開平１−２１９０３７号公
報に記載された、重量基準で、Ｐ2Ｏ5 ５〜４５％、Ａ
ｌＦ3 １〜３５％、ＲＦ2（原子価が２価の金属Ｂａ、
Ｓｒ、Ｃａ、Ｍｇ、ＺｎおよびＰｂのフッ化物の合計含
量）１０〜７５％、Ｒ1Ｆ（原子価が１価の金属Ｌｉ、
ＮａおよびＫのフッ化物の合計含量）０〜４０％、Ｒ2
Ｆ（原子価が３〜５価の金属Ｌａ、Ｙ、Ｇｄ、Ｓｉ、
Ｂ、ＺｒおよびＴａのフッ化物の合計含量）０〜１５％
を含み、さらにこの基礎ガラス１００重量部当たり、Ｃ
ｕＯ ０．２〜１５．０重量部を含有するフツリン酸塩
ガラスが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。上記組成のフツリン酸塩ガラスは、耐候性、光透過
率特性に優れる点で、例えばＣＣＤを用いた固体撮像装
置における色修正用フィルター材料として好適である。
酸塩ガラスとしては、例えばＰ2Ｏ5が４５重量％以下
で、ＡｌＦ3が１重量％以上含有するフツリン酸塩ガラ
ス、特に、基礎ガラスが、特開平１−２１９０３７号公
報に記載された、重量基準で、Ｐ2Ｏ5 ５〜４５％、Ａ
ｌＦ3 １〜３５％、ＲＦ2（原子価が２価の金属Ｂａ、
Ｓｒ、Ｃａ、Ｍｇ、ＺｎおよびＰｂのフッ化物の合計含
量）１０〜７５％、Ｒ1Ｆ（原子価が１価の金属Ｌｉ、
ＮａおよびＫのフッ化物の合計含量）０〜４０％、Ｒ2
Ｆ（原子価が３〜５価の金属Ｌａ、Ｙ、Ｇｄ、Ｓｉ、
Ｂ、ＺｒおよびＴａのフッ化物の合計含量）０〜１５％
を含み、さらにこの基礎ガラス１００重量部当たり、Ｃ
ｕＯ ０．２〜１５．０重量部を含有するフツリン酸塩
ガラスが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。上記組成のフツリン酸塩ガラスは、耐候性、光透過
率特性に優れる点で、例えばＣＣＤを用いた固体撮像装
置における色修正用フィルター材料として好適である。
【００２０】また、ガラスの研磨方法としては特に制限
はなく、従来ガラスの研磨方法において慣用されている
方法、例えば研磨装置に研磨すべきガラスを装着し、回
転させながら、研磨液を用いて、ガラスの肉厚が所望の
値になるまで研磨処理したのち、ガラス表面に残存して
いる研磨液を、公知の手段により洗浄除去する方法など
を用いることができる。
はなく、従来ガラスの研磨方法において慣用されている
方法、例えば研磨装置に研磨すべきガラスを装着し、回
転させながら、研磨液を用いて、ガラスの肉厚が所望の
値になるまで研磨処理したのち、ガラス表面に残存して
いる研磨液を、公知の手段により洗浄除去する方法など
を用いることができる。
【００２１】このようにして、表面の線状傷の幅が、通
常７μｍ以下の超平滑表面を有するガラス製品を容易に
製造することができる。このような本発明の方法は、研
磨処理以外に、例えば研磨液の洗浄処理などにおいても
応用することができる。研磨処理後の洗浄工程において
は、通常超音波洗浄装置などを用いて、研磨液の除去や
その他の汚れの除去が行われるが、この際の洗浄液およ
びその後のリンス処理で用いられるリンス液のｐＨ調整
にも、本発明を応用することができる。すなわち、超音
波洗浄装置内で、水性洗浄液を用いる場合には、そのｐ
Ｈを洗浄すべきガラスのｐＨの±１．０以内に調整する
ことにより、ガラスに対する侵食が極めて少なく、ｐＨ
未調整の場合に比べて、潜傷などが発生しにくくなる。
常７μｍ以下の超平滑表面を有するガラス製品を容易に
製造することができる。このような本発明の方法は、研
磨処理以外に、例えば研磨液の洗浄処理などにおいても
応用することができる。研磨処理後の洗浄工程において
は、通常超音波洗浄装置などを用いて、研磨液の除去や
その他の汚れの除去が行われるが、この際の洗浄液およ
びその後のリンス処理で用いられるリンス液のｐＨ調整
にも、本発明を応用することができる。すなわち、超音
波洗浄装置内で、水性洗浄液を用いる場合には、そのｐ
Ｈを洗浄すべきガラスのｐＨの±１．０以内に調整する
ことにより、ガラスに対する侵食が極めて少なく、ｐＨ
未調整の場合に比べて、潜傷などが発生しにくくなる。
【００２２】本発明はまた、このようにして得られたガ
ラス製品を用いてフィルターを製造する方法、および表
面の線状傷の幅が７μｍ以下であるリン酸塩ガラスまた
はフツリン酸塩ガラスからなるフィルターをも提供す
る。上記フィルターとしては、ＣＣＤなどの固体撮像素
子用フィルター、具体的には視感度補正フィルターとし
て使用される。
ラス製品を用いてフィルターを製造する方法、および表
面の線状傷の幅が７μｍ以下であるリン酸塩ガラスまた
はフツリン酸塩ガラスからなるフィルターをも提供す
る。上記フィルターとしては、ＣＣＤなどの固体撮像素
子用フィルター、具体的には視感度補正フィルターとし
て使用される。
【００２３】最近、ＣＣＤなどの固体撮像素子において
は、小型高密度化が進み、それに伴って高画質が求めら
れるようになってきている。固体撮像素子の小型化によ
り、素子サイズは、従来の１／２インチ系から１／４イ
ンチ系へと縮小し、その結果１画素当たりの面積は極め
て微小なものとなり、固体撮像素子の前に置かれるフィ
ルターにおいても、微小欠陥が問題視されるようになっ
てきた。フィルター表面の線状傷の幅が７μｍを超える
と１画素以上つぶれてしまうことになり、それにより画
像が乱れるので、傷の幅が７μｍ以下の超平滑表面を有
するフィルターが求められている。したがって、前記し
た本発明の方法で得られたガラス製品は、この固体撮像
素子用フィルターとして好適である。
は、小型高密度化が進み、それに伴って高画質が求めら
れるようになってきている。固体撮像素子の小型化によ
り、素子サイズは、従来の１／２インチ系から１／４イ
ンチ系へと縮小し、その結果１画素当たりの面積は極め
て微小なものとなり、固体撮像素子の前に置かれるフィ
ルターにおいても、微小欠陥が問題視されるようになっ
てきた。フィルター表面の線状傷の幅が７μｍを超える
と１画素以上つぶれてしまうことになり、それにより画
像が乱れるので、傷の幅が７μｍ以下の超平滑表面を有
するフィルターが求められている。したがって、前記し
た本発明の方法で得られたガラス製品は、この固体撮像
素子用フィルターとして好適である。
【００２４】さらに、本発明は、このリン酸塩ガラスま
たはフツリン酸塩ガラスからなるフィルターを用いた固
体撮像装置をも提供する。この固体撮像装置は、例えば
主にＣＣＤ、赤外線吸収フィルター、オプティカルロー
パスフィルター、光学レンズから構成されるが、フィル
ター位置がＣＣＤに近いほど、フィルター表面の研磨傷
が画像を乱す原因となりやすい。したがって、フィルタ
ーがＣＣＤに近いほど、フィルター表面の線状傷の幅が
より小さいことが要求される。
たはフツリン酸塩ガラスからなるフィルターを用いた固
体撮像装置をも提供する。この固体撮像装置は、例えば
主にＣＣＤ、赤外線吸収フィルター、オプティカルロー
パスフィルター、光学レンズから構成されるが、フィル
ター位置がＣＣＤに近いほど、フィルター表面の研磨傷
が画像を乱す原因となりやすい。したがって、フィルタ
ーがＣＣＤに近いほど、フィルター表面の線状傷の幅が
より小さいことが要求される。
【００２５】本発明のフィルターが用いられる固体撮像
装置としては特に制限はないが、例えば以下に示すよう
に、図１の構造の固体撮像装置において、本発明のフィ
ルターの効果がよりよく発揮される。また図１の装置で
は、オプティカルローパスフィルターが２枚使用されて
いるが、１枚又は３枚以上の場合もあり、オプティカル
ローパスフィルターの数に制限はない。
装置としては特に制限はないが、例えば以下に示すよう
に、図１の構造の固体撮像装置において、本発明のフィ
ルターの効果がよりよく発揮される。また図１の装置で
は、オプティカルローパスフィルターが２枚使用されて
いるが、１枚又は３枚以上の場合もあり、オプティカル
ローパスフィルターの数に制限はない。
【００２６】図１は、本発明のフィルターが用いられる
固体撮像装置の１例の概略構成図であって、被写体から
入射した光は、光学レンズ１を通り、オプティカルロー
パスフィルター２、２′と赤外線吸収フィルター３とか
らなるユニットを通過し、ＣＣＤチップ５および窓ガラ
ス６を備えたパッケージ４に入射され、電気信号に変換
されたのち、電気的に処理される。
固体撮像装置の１例の概略構成図であって、被写体から
入射した光は、光学レンズ１を通り、オプティカルロー
パスフィルター２、２′と赤外線吸収フィルター３とか
らなるユニットを通過し、ＣＣＤチップ５および窓ガラ
ス６を備えたパッケージ４に入射され、電気信号に変換
されたのち、電気的に処理される。
【００２７】このような構成の固体撮像装置、すなわ
ち、赤外線吸収フィルター３がオプティカルローパスフ
ィルター２、２′に挟まれる位置にある装置において、
該赤外線吸収フィルター３として本発明のフィルターを
用いた場合には、図示しないが、赤外線吸収フィルター
が、光学レンズ系に組み込まれる位置にあるものより
も、一般に、フィルターはＣＣＤにより近くなるので、
本発明のフィルターの効果が、よりよく発揮される。
ち、赤外線吸収フィルター３がオプティカルローパスフ
ィルター２、２′に挟まれる位置にある装置において、
該赤外線吸収フィルター３として本発明のフィルターを
用いた場合には、図示しないが、赤外線吸収フィルター
が、光学レンズ系に組み込まれる位置にあるものより
も、一般に、フィルターはＣＣＤにより近くなるので、
本発明のフィルターの効果が、よりよく発揮される。
【００２８】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。なお、ガラスとして、表１に示す
組成を有するＡ〜Ｄの４種を用いた。ガラスＡ〜Ｃはリ
ン酸塩ガラス、ガラスＤはフツリン酸塩ガラスである。
ガラスＡ、ＢおよびＤはＣｕＯが添加されており、主に
ＣＣＤの色感度補正用フィルターとして使用される。一
方、ガラスＣは、低屈折率、低分散の光学ガラスとし
て、カメラのレンズなどに使用される。
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。なお、ガラスとして、表１に示す
組成を有するＡ〜Ｄの４種を用いた。ガラスＡ〜Ｃはリ
ン酸塩ガラス、ガラスＤはフツリン酸塩ガラスである。
ガラスＡ、ＢおよびＤはＣｕＯが添加されており、主に
ＣＣＤの色感度補正用フィルターとして使用される。一
方、ガラスＣは、低屈折率、低分散の光学ガラスとし
て、カメラのレンズなどに使用される。
【００２９】製造例 ガラスＡ〜Ｄの製造
表１に示す組成のガラスが得られるように調合後、白金
坩堝を用いて８００〜１２００℃で溶融し、撹拌により
均質化したのち、清澄による泡切れを行い、鋳型に流し
込み、徐冷することによってガラスブロックを作製し
た。次いで、常法にしたがって、ガラス内部の歪みを除
去したのち、このガラスブロックを、２０．０×３０．
０×１．４０ｍｍの平板状にスライスした。また、研磨
中にガラスの破損した小片が混入しないように、ガラス
サイドを面とりした。このようにして試験用のガラス板
Ａ〜Ｄを作製した。
坩堝を用いて８００〜１２００℃で溶融し、撹拌により
均質化したのち、清澄による泡切れを行い、鋳型に流し
込み、徐冷することによってガラスブロックを作製し
た。次いで、常法にしたがって、ガラス内部の歪みを除
去したのち、このガラスブロックを、２０．０×３０．
０×１．４０ｍｍの平板状にスライスした。また、研磨
中にガラスの破損した小片が混入しないように、ガラス
サイドを面とりした。このようにして試験用のガラス板
Ａ〜Ｄを作製した。
【００３０】
【表１】
【００３１】実施例１
純水１０リットルに、研磨剤として酸化セリウム粉末
（三井金属社製、商品名：ミレークＳ−２）１０００ｇ
を加え、さらに水酸化ナトリウムを用いて、表２に示す
ｐＨに調整することにより、研磨液を作製した。次に、
製造例で得られたガラスＡ、Ｂ、ＣおよびＤについて、
次のようにして研磨処理した。ガラス各８０枚を研磨装
置上に固定し、研磨液を用い、荷重：８０ｇ／ｃｍ2、
回転数：約６０ｒｐｍの条件にて、肉厚が１．２０ｍｍ
になるまで研磨処理した。研磨処理は２工程で行なっ
た。第１工程では比較的に大粒径（０．２〜３０μｍ）
の研磨剤を用い、第２工程では比較的に小粒径（０．２
〜１２μｍ）の研磨剤を用いた。なお、上記粒径分布は
研磨剤中の２次粒子の粒径分布も含んでいる。研磨終了
後、ガラス表面から研磨液を完全に除去したのち、研磨
面精度を暗室で測定した。線状傷の幅で、７μｍを超え
るものを×、７μｍ以下のものを○とした。結果をガラ
スのｐＨとともに、表２に示す。なお、ガラスのｐＨ
は、明細書本文に記載した方法に従って測定した。
（三井金属社製、商品名：ミレークＳ−２）１０００ｇ
を加え、さらに水酸化ナトリウムを用いて、表２に示す
ｐＨに調整することにより、研磨液を作製した。次に、
製造例で得られたガラスＡ、Ｂ、ＣおよびＤについて、
次のようにして研磨処理した。ガラス各８０枚を研磨装
置上に固定し、研磨液を用い、荷重：８０ｇ／ｃｍ2、
回転数：約６０ｒｐｍの条件にて、肉厚が１．２０ｍｍ
になるまで研磨処理した。研磨処理は２工程で行なっ
た。第１工程では比較的に大粒径（０．２〜３０μｍ）
の研磨剤を用い、第２工程では比較的に小粒径（０．２
〜１２μｍ）の研磨剤を用いた。なお、上記粒径分布は
研磨剤中の２次粒子の粒径分布も含んでいる。研磨終了
後、ガラス表面から研磨液を完全に除去したのち、研磨
面精度を暗室で測定した。線状傷の幅で、７μｍを超え
るものを×、７μｍ以下のものを○とした。結果をガラ
スのｐＨとともに、表２に示す。なお、ガラスのｐＨ
は、明細書本文に記載した方法に従って測定した。
【００３２】実施例２、比較例１
実施例１において、研磨液のｐＨを表２に示すように変
えた以外は、実施例１と同様にして研磨処理を行い、研
磨面精度を測定した。結果を表２に示す。
えた以外は、実施例１と同様にして研磨処理を行い、研
磨面精度を測定した。結果を表２に示す。
【００３３】実施例３
実施例１における研磨液の調製において、純水の代わり
に、各ガラスを純水中に浸漬して、ガラス成分を純水中
に溶かし込んだ水溶液を用い、かつｐＨを表２に示すよ
うに調整した以外は、実施例１と同様にして研磨液を作
製し、研磨処理を行い、研磨面精度を測定した。結果を
表２に示す。
に、各ガラスを純水中に浸漬して、ガラス成分を純水中
に溶かし込んだ水溶液を用い、かつｐＨを表２に示すよ
うに調整した以外は、実施例１と同様にして研磨液を作
製し、研磨処理を行い、研磨面精度を測定した。結果を
表２に示す。
【００３４】比較例２
実施例１における研磨液の調製において、ｐＨの調整を
行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして研磨液
を作製し、研磨処理を行い、研磨面精度を測定した。結
果を表２に示す。
行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして研磨液
を作製し、研磨処理を行い、研磨面精度を測定した。結
果を表２に示す。
【００３５】
【表２】
【００３６】実施例１、２および３で得られた研磨処理
後のガラス板の研磨面の線状傷の幅は、すべてのガラス
において５μｍより小さく、また、傷の深さは４μｍ以
下であり、良好な結果が得られた。
後のガラス板の研磨面の線状傷の幅は、すべてのガラス
において５μｍより小さく、また、傷の深さは４μｍ以
下であり、良好な結果が得られた。
【００３７】これに対して、比較例１では、研磨液のｐ
ＨがガラスのｐＨに近似しておらず、ガラスのｐＨとの
差が１．０より大きく、研磨処理後のガラス板の研磨面
には、いずれも７μｍより大きな幅の傷が無数に存在し
ていた。また、比較例２は、ｐＨ調整を行わない従来の
研磨方法であり、研磨処理後のガラス板の研磨面には、
いずれも３０μｍより大きな幅の傷が無数に存在してい
た。
ＨがガラスのｐＨに近似しておらず、ガラスのｐＨとの
差が１．０より大きく、研磨処理後のガラス板の研磨面
には、いずれも７μｍより大きな幅の傷が無数に存在し
ていた。また、比較例２は、ｐＨ調整を行わない従来の
研磨方法であり、研磨処理後のガラス板の研磨面には、
いずれも３０μｍより大きな幅の傷が無数に存在してい
た。
【００３８】
【発明の効果】本発明の方法によると、表面が高精度
（表面傷の幅≦７μｍ）に研磨されたガラス製品、特に
リン酸塩ガラス製品またはフツリン酸塩ガラス製品を容
易に製造することができる。この表面が高精度に研磨さ
れたガラス製品は、例えば固体撮像素子用フィルターな
どとして好適に用いられる。
（表面傷の幅≦７μｍ）に研磨されたガラス製品、特に
リン酸塩ガラス製品またはフツリン酸塩ガラス製品を容
易に製造することができる。この表面が高精度に研磨さ
れたガラス製品は、例えば固体撮像素子用フィルターな
どとして好適に用いられる。
【図１】本発明のフィルターが用いられる固体撮像装置
の１例の概略構成図である。
の１例の概略構成図である。
１ 光学レンズ
２ オプティカルローパスフィルター
２′ オプティカルローパスフィルター
３ 赤外線吸収フィルター
４ パッケージ
５ ＣＣＤチップ
６ 窓ガラス
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｇ０２Ｂ 5/22 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ
Ｈ０１Ｌ 27/14 Ｈ０１Ｌ 27/14 Ｄ
Claims (9)
- 【請求項１】 ガラス表面を研磨液を用いて研磨するに
際し、予め前記研磨液のｐＨをガラスのｐＨに近似させ
る操作を施したのち、この研磨液を使用してガラス表面
を研磨することを特徴とするガラス製品の製造方法。 - 【請求項２】 ガラスのｐＨとの差が１．０以内になる
ように、研磨液のｐＨをガラスのｐＨに近似させる操作
を施す請求項１に記載のガラス製品の製造方法。 - 【請求項３】 ガラスがリン酸塩ガラスまたはフツリン
酸塩ガラスである請求項１または２に記載のガラス製品
の製造方法。 - 【請求項４】 ガラス製品がフィルター用として用いら
れる請求項１、２または３に記載のガラス製品の製造方
法。 - 【請求項５】 フィルターが、ＣＣＤ（Ｃharge Ｃoupl
ed Ｄevice）を用いた固体撮像装置用である請求項４に
記載のガラス製品の製造方法。 - 【請求項６】 請求項４または５に記載の方法により得
られたガラス製品を用いることを特徴とするフィルター
の製造方法。 - 【請求項７】 表面の線状傷の幅が７μｍ以下であるこ
とを特徴とするリン酸塩ガラスまたはフツリン酸塩ガラ
スからなるフィルター。 - 【請求項８】 ＣＣＤ（Ｃharge Ｃoupled Ｄevice）を
用いた固体撮像装置用フィルターである請求項７に記載
のフィルター。 - 【請求項９】 請求項７または８に記載のフィルターを
用いたことを特徴とする固体撮像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08660098A JP3361270B2 (ja) | 1997-04-04 | 1998-03-31 | ガラス製品の製造方法およびフィルター |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-86369 | 1997-04-04 | ||
| JP8636997 | 1997-04-04 | ||
| JP08660098A JP3361270B2 (ja) | 1997-04-04 | 1998-03-31 | ガラス製品の製造方法およびフィルター |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10330132A JPH10330132A (ja) | 1998-12-15 |
| JP3361270B2 true JP3361270B2 (ja) | 2003-01-07 |
Family
ID=26427502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08660098A Expired - Fee Related JP3361270B2 (ja) | 1997-04-04 | 1998-03-31 | ガラス製品の製造方法およびフィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3361270B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104250065A (zh) * | 2013-06-27 | 2014-12-31 | 旭硝子株式会社 | 磁记录介质用无碱玻璃及使用该无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板 |
| US9663402B2 (en) | 2013-01-10 | 2017-05-30 | Hoya Corporation | Method for manufacturing optical element |
| US9718723B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-08-01 | Hoya Corporation | Glass article |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4696474B2 (ja) * | 2004-05-27 | 2011-06-08 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法 |
| JP2009167039A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス物品の保管方法及びレンズ硝材の製造方法 |
| JP5407490B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2014-02-05 | 旭硝子株式会社 | 固体撮像素子パッケージ用窓ガラス |
| JP5476692B2 (ja) * | 2008-09-04 | 2014-04-23 | 旭硝子株式会社 | リン酸塩系ガラス体、および該ガラス体を用いた近赤外カットフィルタ |
| WO2010131659A1 (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-18 | 旭硝子株式会社 | 固体撮像素子パッケージ用カバーガラス |
| JP5672680B2 (ja) * | 2009-08-26 | 2015-02-18 | 旭硝子株式会社 | 固体撮像素子パッケージ用窓材並びに撮像装置 |
| JP5703133B2 (ja) * | 2011-05-31 | 2015-04-15 | 京セラクリスタルデバイス株式会社 | ウェハの研磨方法及びナノバブル循環型研磨装置 |
| JP5846877B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2016-01-20 | Hoya株式会社 | ガラスの処理方法および光学素子の製造方法 |
| JP5958929B2 (ja) * | 2012-02-15 | 2016-08-02 | セイコーインスツル株式会社 | 光検出デバイス |
| JP6281858B2 (ja) * | 2012-12-18 | 2018-02-21 | セイコーインスツル株式会社 | 光学デバイス |
| CN106584230A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-04-26 | 惠州市德莱仕科技有限公司 | 玻璃划痕抛光剂及其使用方法和用于该抛光剂的抛光头 |
| JP2022097085A (ja) * | 2020-12-18 | 2022-06-30 | 山口精研工業株式会社 | フツリン酸ガラス用研磨剤組成物、及びフツリン酸ガラス用研磨剤組成物を用いた研磨方法 |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP08660098A patent/JP3361270B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9718723B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-08-01 | Hoya Corporation | Glass article |
| US9663402B2 (en) | 2013-01-10 | 2017-05-30 | Hoya Corporation | Method for manufacturing optical element |
| CN104250065A (zh) * | 2013-06-27 | 2014-12-31 | 旭硝子株式会社 | 磁记录介质用无碱玻璃及使用该无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10330132A (ja) | 1998-12-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3361270B2 (ja) | ガラス製品の製造方法およびフィルター | |
| US6225244B1 (en) | Glass for near absorption filter and near infrared absorption filter to which the glass is applied | |
| JP6431948B2 (ja) | 光学ガラス、光学プリフォーム、及び光学素子 | |
| JP5079273B2 (ja) | リン酸塩ガラス、フツリン酸塩ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子およびそれぞれの製造方法 | |
| JP5717432B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子およびプリフォーム | |
| JP6341836B2 (ja) | 光学ガラス及び光学素子 | |
| CN103466937B (zh) | 光学玻璃及其制造方法和用途、光学元件及其制造方法 | |
| US6093484A (en) | Method for the production of glass product | |
| JP5919594B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子およびプリフォーム | |
| JP7075895B2 (ja) | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | |
| CN108883968A (zh) | 光学玻璃、预成型坯和光学元件 | |
| JP5698442B2 (ja) | 光学ガラス及び光学素子 | |
| JP2010024101A (ja) | 光学ガラス、ガラス成形体及び光学素子 | |
| CN106082644A (zh) | 光学玻璃、光学预制件和光学元件 | |
| CN102234180A (zh) | 光学玻璃、光学元件及精密加压成型用预成型体 | |
| JP2006001808A (ja) | 近赤外線カットガラス | |
| CN108947240A (zh) | 光学玻璃、预成型坯及光学元件 | |
| JP2010260739A (ja) | 光学ガラス及び光学素子 | |
| JP7092135B2 (ja) | ガラス | |
| CN108129018B (zh) | 光学玻璃、预成型坯和光学元件 | |
| JP2005320178A (ja) | 近赤外線カットガラス | |
| JPH08253341A (ja) | 近赤外線カットフィルタガラス | |
| JP2010047425A (ja) | 光学ガラス及びガラス成形体の曇り低減方法 | |
| JP6048403B2 (ja) | 光学ガラス及び光学素子 | |
| JP2006182586A (ja) | 近赤外線カットフィルタガラス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20021002 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081018 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091018 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101018 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101018 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111018 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111018 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121018 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121018 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131018 Year of fee payment: 11 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |